JP5291911B2 - 計測システム - Google Patents

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    • H01J37/265Controlling the tube; circuit arrangements adapted to a particular application not otherwise provided, e.g. bright-field-dark-field illumination
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    • H01J2237/26Electron or ion microscopes
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    • HELECTRICITY
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    • H01L22/10Measuring as part of the manufacturing process
    • H01L22/12Measuring as part of the manufacturing process for structural parameters, e.g. thickness, line width, refractive index, temperature, warp, bond strength, defects, optical inspection, electrical measurement of structural dimensions, metallurgic measurement of diffusions

Description

本発明は、計測システムに係り、特にレシピに基づいて計測装置を動作させる計測システムに関する。
測長SEM(Scanning Electron Microscope)等の半導体ウェハ検査装置は、レシピにしたがって半導体ウェハを検査する。レシピは、検査手順及び検査条件が記述されており、ウェハの品種,ロット,工程などにより内容(レシピパラメータ)が異なる。
レシピは、検査するウェハに対応した適正なレシピパラメータが設定されていないと正常に動作しないため、常に正しいレシピで検査を行うことができるように管理する必要がある。
このためには、半導体製造ラインにおいて、半導体ウェハ検査装置を操作するオペレータには、プロセスエンジニア,ラインオペレータ,保守要員,装置メーカのサービスエンジニアなどがあるが、レシピの作成および編集をある一定の権限をもったユーザにのみ許可するようにするのが一般的である。
通常、レシピの作成および編集を含む操作権限の付与は以下のように行われている。
装置のオペレータは、装置の操作を開始する前に装置により識別・認証され、以後、装置における全ての操作は、このオペレータによって実施されたと認識される。したがって、装置を使用する権限やパラメータの設定も、このとき認証されたオペレータのものである。
別のオペレータが装置を使用する際には再度識別・認証の手続きを行うことが要求されるが、実際には手続きが面倒(煩雑)であるため行われない。このため、別のオペレータも、以前に認証されたオペレータの識別や権限により装置を操作することができてしまうという問題があった。
これについて、オペレータ自身による識別子の入力を行うことなく、オペレータに対して特定の操作のみを許可することができるようにする方法が特許文献1に開示されている。
特開2006−60157号公報
しかし、上記の特許では、装置がウェハ検査処理中には別のオペレータの権限と設定に切り替えて装置を操作することができないという問題がある。
例えば、あるオペレータAが認証されている状態でレシピによるウェハ検査処理を開始し、装置を離れている間に別のオペレータBが次に使用するレシピの準備を行う場合、以下の問題がある。
オペレータBはレシピの内容を確認し、問題があればその場で編集を行う必要があるが、装置はウェハ検査処理中であり、オペレータAの権限と設定に対応した各種のデータ出力を行ったり、処理状態等を表示したりしているため、ウェハ検査処理を実行したままオペレータをAからBに切り替えることは不可能である。
現状では、一度ユーザ認証を行った後は誰でもレシピ等の装置データを編集できるためレシピを適正に管理することができず、厳密にユーザ認証を行う場合はレシピの実行中(ウェハ検査処理中)にユーザを切り替えられないため、ウェハ検査処理を待たなければならない。
本発明は、上記のようなウェハ検査の現状に鑑み、レシピの実行中(ウェハ検査処理中)であっても現状の操作性を低下させることなく、レシピ等の装置データ編集を特定の操作者に限定して許可することで装置データのセキュリティを強化する方法を提供することを目的とする。
本発明では、上記の目的を達成するために、以前のオペレータの権限や各種設定を保持しつつも、現在のオペレータが実行しようとする操作を、必要なとき、すなわちその操作が行われた時点でそのオペレータを識別し、その権限に対応した操作のみを許可できるようにしたものである。
オペレータ認証の方式は、パスワード,ICタグ,カードキー,生体認証(指紋,指静脈,虹彩,声紋,顔などを含む)のいずれの方式でも構わない。
また、オペレータ識別の記録およびオペレータの操作によって変更された装置内データの変更履歴を記録し、出力する。
本発明によれば、必要なときのみオペレータ認証を行うことで現状の操作性を低下させることなく装置内情報への不正なアクセスを防ぎ、セキュリティを強化することができる。
以下、本発明の実施の形態を、図面を用いて説明する。
図1は、本発明による半導体ウェハ検査装置の構成の一例を示す図である。
図2は、オペレータに許可された操作を示す。図2(a)に示すように、あらかじめ操作の可否の組み合わせを操作権限として定義しておき、図2(b)に示すように、定義された操作権限毎に権限を持つオペレータを登録することにより、各種操作の可否をオペレータ毎に設定することが可能である。
設定した内容は、操作権限データベース(101)に格納される。
図3にオペレータ識別を必要とする操作の一覧を示す。オペレータ識別の要否は操作毎に設定可能である。設定した内容はオペレータ識別データベース(102)に格納される。
図4において、オペレータAAAは、オペレータ認証待ちの状態の装置にて認証の手続きを行う。装置は、オペレータ識別の入力(401)により、オペレータの認証を行い(402)、成功すると装置の操作権限を付与し、各種の設定を行う(403)。これにより、図2(b)に示すオペレータAAAに許可された権限1の操作が行えるようになる(404)。
このように、オペレータ認証待ちの状態の装置にて認証の手続きを行ったオペレータは、以後の操作においてオペレータ識別の要否判定を「有効」にするか「無効」にするか設定することができるものとする。これにより、正規に認証されたオペレータの操作に対しての認証要求を行わないようにすることができる。
オペレータAAAはオペレータ識別の要否判定を「無効」にした状態で(405)に示す操作として装置にてレシピを起動し、装置がレシピによるウェハ検査処理を開始した後、装置を離れる。
この後、オペレータ識別の要否判定が「有効」に切り替わっている状態でオペレータBBBが装置にて、次のレシピの準備を行う(405)。
この場合を、図5のフローに示す。
オペレータBBBは、装置にて検査条件の確認のためにレシピの内容表示を要求する。(501)。この操作は図3(操作4)によりオペレータ識別が不要であるため(502)、装置はオペレータ識別を行わずにオペレータBBBが要求した操作を実行する(506)。このとき行った操作情報は操作履歴データベース(104)に蓄積される(507)。また、変更されたデータの情報はデータ変更履歴データベース(103)に蓄積される(508)。
オペレータBBBがレシピの編集を終えて保存操作を行ったとき(501)、装置は図3(操作6)によりオペレータ識別が必要な操作であると判断し(502)、その操作を行ったオペレータを識別する。(503)オペレータ識別が成功した場合(504)、識別したオペレータBBBには、図2(b)により権限2が割り当てられ、図2(a)により操作6を実行する権限があるため(505)、装置は要求された操作を行う(506)。このとき行った操作情報は操作履歴データベース(103)に蓄積される(507)。また、変更されたデータの情報はデータ変更履歴データベース(104)に蓄積される(508)。
オペレータ識別が失敗した場合(504)は装置にその旨出力を行い、要求された操作を行わずに操作情報を操作履歴データベース(103)に格納する(509)。
また、オペレータCCCが同様の操作を行う場合、オペレータCCCは、装置にて検査条件の確認のためにレシピの内容表示を要求する(501)。この操作は図3(操作4)によりオペレータ識別が不要であるため(502)、装置はオペレータ識別を行わずにオペレータCCCが要求した操作を実行する(506)。このとき行った操作情報は操作履歴データベース(104)に蓄積される(507)。また、変更されたデータの情報はデータ変更履歴データベース(103)に蓄積される(508)。
オペレータCCCがレシピの編集を終えて保存操作を行ったとき(501)、装置は図3(操作6)によりオペレータ識別が必要な操作であると判断し(502)、その操作を行ったオペレータを識別する。(503)オペレータ識別が成功した場合(504)、識別したオペレータCCCには、図2(b)により権限3が割り当てられ、図2(a)により操作6を実行する権限がないため(505)、装置にその旨出力を行い、要求された操作を行わずに操作情報を操作履歴データベース(103)に格納する(509)。
次に、装置は、操作履歴を装置の表示部(106)、外部出力部(108)に出力することができる(図1参照)。操作履歴は、操作毎に操作を要求したオペレータID,操作要求の結果および操作要求を受諾あるいは拒否した日時の情報を蓄積する。装置の表示部(106)への操作履歴の出力例を図6に示す。
装置はデータファイル単位の履歴の他に、データ変更履歴として、レシピ等の各データについて、変更日時,変更者,変更内容(例えば変更前の値)を蓄積し、この情報を装置の表示部(106)、外部出力部(108)に出力することができる(図1参照)。装置の表示部(106)への出力例を図7に示す。また、別の例として、装置のデータ設定画面にて任意のパラメータをマウスまたはキーボードでポイントすると該データの変更履歴を表示することもできる(例:カーソル−右クリック−メニューから「履歴」を選択)(図8参照)。
本発明によれば、装置内のレシピが正常に動作しなくなった場合、図7,図8のようにレシピパラメータ毎の変更履歴を表示することにより原因の特定が容易となり、装置が稼動しない時間(ダウンタイム)を低減できる。
また、図5において装置内情報の不正な更新を拒否した場合も操作履歴を更新する(509)ことで、拒否されたオペレータを特定可能とすることにより、オペレータが装置内のデータを変更しようとした要因の特定が容易となり、問題をより速くプロセスにフィードバックすることで製品の品質を向上させることができる。
本発明は、半導体検査装置に利用することができる。
本発明にかかる概略構成図である。 オペレータ毎に許可された操作を示す図である。 オペレータ識別を必要とする操作を示す図である。 装置における従来のオペレータ識別と操作を示すフロー図である。 本発明にかかるオペレータ識別と操作を示すフロー図である。 本発明にかかる操作履歴を示す図である。 装置情報(レシピパラメータ)毎の変更履歴を示す図である。 装置情報(レシピパラメータ)毎の変更履歴の表示例である。
符号の説明
101 操作権限データベース
102 オペレータ識別データベース
103 データ変更履歴データベース
104 操作履歴データベース
105 レシピ格納部
106 表示部
107 入力部
108 外部出力部

Claims (10)

  1. オペレータの操作ごとに、オペレータの識別の要否を記録する手段と、オペレータによる操作を受け付けた時点で、当該操作が上記記録する手段を参照して、識別を要する操作である場合にオペレータを識別する手段と、そのオペレータに許可された操作であるかどうかを判別する手段と、識別したオペレータに許可されていない操作を拒否する手段と、オペレータによって操作されたことを成否に関わらず記録する手段と、オペレータの操作によって変更された装置内データの変更履歴を記録する手段と、前述の変更履歴を出力する手段とを備え、前記オペレータを識別する手段は、1のオペレータが認証されている状態にて、当該1のオペレータとは異なる他のオペレータを、前記オペレータの識別の要否を記録する手段を参照して識別することを特徴とする計測システム。
  2. 請求項1において、
    前記操作を受け付けた時点でのオペレータ識別の要否を判定するかどうかを切り替えることを特徴とする計測システム。
  3. 請求項2において、
    前記操作毎にオペレータ識別の要否をあらかじめ登録しておくことを特徴とする計測システム。
  4. 請求項において、
    前記各操作の実行可否をオペレータ毎に登録することを特徴とする計測システム。
  5. 請求項において、
    前記実行可能な操作の組み合わせを操作権限パターンとしてあらかじめ登録しておくことを特徴とする計測システム。
  6. 請求項において、
    前記操作権限パターンをオペレータ毎にあらかじめ登録しておくことを特徴とする計測システム。
  7. 請求項において、
    オペレータによる操作の記録を装置画面および装置外部へ出力することを特徴とする計測システム。
  8. 請求項において、
    前記装置内データの変更履歴を装置画面および装置外部へ出力することを特徴とする計測システム。
  9. 請求項において、
    画面上の任意の点をポイントできるポインティング手段を備え、装置データ表示画面において、変更されているデータを表示している箇所が前記ポインティング手段によってポイントされると、該データに関する前述の変更履歴情報を表示することを特徴とする計測システム。
  10. 請求項において、
    前記表示手段により、データ毎に変更したオペレータおよび変更日時を表示することを特徴とする計測システム。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101032090B1 (ko) * 2009-05-13 2011-05-02 엘아이지에이디피 주식회사 기판검사방법
JP2011087785A (ja) * 2009-10-23 2011-05-06 Hitachi Ltd 操作処理装置、操作処理方法、および、操作処理プログラム
US9098500B1 (en) * 2010-04-08 2015-08-04 Xilinx, Inc. Revision history storage and maintenance
CN103823813B (zh) * 2012-11-19 2018-10-02 腾讯科技(深圳)有限公司 电子终端历史操作记录处理方法及装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6000830A (en) * 1997-04-18 1999-12-14 Tokyo Electron Limited System for applying recipe of semiconductor manufacturing apparatus
JP3645085B2 (ja) * 1998-03-12 2005-05-11 富士通株式会社 端末操作システム及び記録媒体
US6446022B1 (en) * 1999-02-18 2002-09-03 Advanced Micro Devices, Inc. Wafer fabrication system providing measurement data screening
SE518491C2 (sv) * 2000-10-12 2002-10-15 Abb Ab Datorbaserat system och metod för behörighetskontroll av objekt
US6984198B2 (en) * 2001-08-14 2006-01-10 Applied Materials, Inc. Experiment management system, method and medium
CN100465975C (zh) * 2002-04-12 2009-03-04 庄臣及庄臣视力保护公司 用于记录在模制镜片制造过程中监控的数据的方法和系统
US7530113B2 (en) * 2004-07-29 2009-05-05 Rockwell Automation Technologies, Inc. Security system and method for an industrial automation system
JP4669681B2 (ja) * 2004-08-24 2011-04-13 株式会社日立国際電気 基板処理装置

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