JP5289035B2 - スパッタリング装置 - Google Patents

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Description

本発明は、成膜処理や表面処理などに適用可能なスパッタリング装置に関する。
図6は、ターゲットをスパッタするための、特許文献1に記載のスパッタリング装置の内部構造を示す断面図である。この図に示したスパッタリング装置は、回転可能なカソード回転体70を有している。なお、図6では、カソード回転体70の回転軸に垂直な断面が示されている。カソード回転体70の側面に設けられたカソード60には、複数のターゲット72が備えられる。
カソード回転体70はその回転方向に4つの側面を有し、カソード回転体70の4つの側面には、それぞれカソード60が設けられる。各カソード60は、カソード回転体70の内部に突出した給電用の接続端子75を備えている。スパッタチャンバ(不図示)内において、スパッタリングを行う領域を形成するスペース61に臨む位置にカソード60がセットされると、そのカソード60に設けられたターゲット72は、基板ホルダー66に支持された基板73に対向する。この基板73は、成膜処理が行われる基体である。
このとき、カソード60の背面(カソード回転体70の内側の面)にはマグネット74が対向し、そのカソード60の接続端子75には給電端子62が対向する。この状態でシリンダ63が動作して可動軸64を前進させると、マグネット74がカソード60の背面の近傍にセットされる。また、別のシリンダ71が動作して別の可動軸65を前進させると、給電端子62が接続端子75に接続される。給電端子62から、給電端子62に接続された接続端子75を経由して、カソード60に電力が供給される。その後、プロセスガスが供給され、スパッタ成膜が行われる。成膜が終了すると、シリンダ71,63が動作して、マグネット74と給電端子62とをカソード60から引き離す。
特許文献1では、カソード回転体70の側面に複数のカソード60を設け、カソード回転体70を回転可能に構成している。これにより、複数のターゲット72を用いてスパッタ可能なスパッタリング装置をコンパクトにすることができるとされている。
特開2000−265264号公報
現在、成膜する基板に対して、ターゲット(またはカソード)を所定の角度に配置し、スパッタリングを行うことがある。このようにして、基板に形成される膜の膜質が改善されることが知られている。
また、例えば1mを越える大型のガラス等の基体に成膜を行うスパッタリング装置では、複数のターゲットを基板に対向させることがある。この場合、膜厚の分布を整えるために、基板に対してそれぞれのターゲットを所定の角度に調整する技術が重要になりつつある。
しかし、特許文献1に記載のスパッタリング装置では、カソード回転体70の回転運動によって、接続端子75や接続端子75から延びた配線に、負荷やよじれが生じることがある。これは、配線が、カソード60からカソード回転体70の内部へ向いた方向、つまり回転の半径方向に突出しているからである。特に、給電端子62と接続端子75とを接触させた状態でカソード回転体70を回転させた場合には、配線にかかる負荷やよじれは、大きくなる。このような負荷やよじれによって、カソード60に、安定して電力を供給することができないという課題がある。
また、特許文献1では、カソード60が所定の位置に配された場合にのみ、給電端子62と接続端子75とが電気的に接続されるように構成されている。そのため、カソードが基板と正対する場合でなく、角度を付けてスパッタすることは困難であった。
上記の点から、特許文献1に記載のスパッタリング装置では、基体に対するカソードまたはターゲットの角度を調整することは困難である。
本発明の目的は、上記背景技術の課題の少なくとも1つを解決するスパッタリング装置を提供することにある。その目的の一例は、基体に対するターゲットの角度を調整することができるスパッタリング装置を提供することである。
上記課題の少なくとも1つを解決するため、本発明に係るスパッタリング装置は、ターゲットが取り付けられる回転自在な回転部材と、前記ターゲットと電気的に接続され、前記回転部材の回転軸に沿った方向の前記回転部材の端部に配置された接続端子と、回転軸方向に往復移動可能に構成され、前記接続端子を介して前記ターゲットに電力を供給する給電端子と、を有し、前記給電端子を前記往復移動させることにより、前記給電端子を前記接続端子と接触または離間させ、前記給電端子と前記接続端子との導通または絶縁を切り替え可能であり、前記給電端子と前記接続端子との少なくとも一方が、前記回転部材の回転方向に沿って延びている
本構成によれば、電力供給の不安定さを少なくし、かつ、基体に対するターゲットの角度を調整することができる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係るスパッタリング装置の断面図である。図2は、図1の点線で示された領域におけるスパッタリング装置の拡大図である。図3は、回転部材20の回転軸10に沿った方向から見た回転部材20の平面図である。
本実施形態では、スパッタリング装置は、チャンバー11と、回転自在な回転部材20と、基体(不図示)を保持する基体ホルダー13と、を有している。回転部材20は略正三角柱形状であり、三角柱の中心軸が回転の回転軸10となっている。この回転部材20の回転軸10に沿った3つの側面は、それぞれ、カソードとなっている。これらの側面に、スパッタされる材料であるターゲット12a,12b,12cが、着脱自在に取り付けられる。
回転部材20の形状は略正三角柱に限定されず、ターゲットを取り付けることができれば、どのような形状であっても良い。従がって、回転部材20に取り付け可能なターゲットの数は、いくつであっても良い。本実施形態では、回転部材20は、ターゲットを複数取り付け可能となっているが、1つのターゲットのみが取り付け可能であっても良い。
チャンバー11の内部は、不図示の排気系機構により、減圧可能となっている。チャンバー11内には、処理を行う基体を保持する基体ホルダー13が設けられている。不図示のプラズマ発生機構とAr等のガス導入機構とにより形成されるプラズマによって、カソードに取り付けられたターゲット12aの、基体ホルダー13と対向する面に、スパッタリング現象が生じる。これにより、基体ホルダー13に取り付けられた基体に、ターゲット12aの組成を主成分とする薄膜が形成される。スパッタリングによる薄膜形成中において、基体が静止していても、移動していても良い。基体を移動させるには、搬送機構(不図示)が用いられる。
また、本実施形態に係るスパッタリング装置では、回転部材20の内部に、マグネトロンスパッタリング用のマグネット14が配されている。回転部材20の側面に取り付けられ、基体ホルダー13と対向しているターゲット12aの裏側(つまり、スパッタされる面とは反対側)に、マグネット14は位置している。マグネット14は、不図示の駆動機構により、回転軸10に略垂直で基体ホルダー13に対向したターゲット12aの表面に沿った方向(図1の紙面と直交する方向)に往復移動可能に構成されていてもよい。この往復移動により、ターゲットの利用効率と基体上に形成される薄膜の膜厚均一性とが高められる。マグネット14は、ターゲットの表面近傍に磁束を発生させ、プラズマをターゲット近傍に集中させるために設けられる。
本実施形態では、回転部材20は、複数のターゲット12a,12b,12cを設置可能に構成されている。これらのターゲット12a,12b,12cは、回転部材20の回転軸10に沿った側面に取り付けられる。回転部材20は、モータ19を動力源にして、複数個のギア18とベアリング15等により、回転する。これにより、ターゲット12a,12b,12cは、回転部材20の回転軸10の周りを回動する。そして、回転部材20に取り付けられている複数のターゲット12a,12b,12cのうちの任意の1つを、基体ホルダー13に取り付けられた基体に対向させた状態で、スパッタリングを行う。
回転部材20の回転軸10に沿った方向の、回転部材20の端面近傍には、シリンダ21と、シリンダ21に固定された給電端子固定板24と、が配置されている。給電端子固定板24には、給電端子22が設けられている。給電端子22は往復移動可能に構成されている。具体的には、シリンダ21が給電端子22を駆動させ、給電端子22を往復移動させることにより、給電端子22は、回転部材20の回転軸10に沿った方向の端部と、接触または離間された状態になる。
給電端子22は、高圧線17を介して電源16と繋がっている。ここでは、電源16はDC電源とするが、DCパルス電源、又は、AC電源でもかまわない。給電端子22が回転部材20に接触しているときに、回転部材20に形成されている配線を介して、カソードに取り付けられたターゲット12へ電力供給を行う。
回転部材20からターゲット12a,12b,12cへ、電源16からの電力を供給するための構造を、図2を参照して説明する。回転部材20の回転軸10に沿った方向の端部には、3組の接続端子25a,25b,25cが露出している(図3参照。)。各組の接続端子25a,25b,25cは、それぞれ、回転部材20に取り付けられるターゲット12a,12b,12cと電気的に接続される。異なる組の接続端子が、給電端子22と同時に接続されることはない。つまり、給電端子22は、1度に1つのターゲットにのみ電力を供給する。そして、給電端子22から、給電端子22と接続されている接続端子を介して、ターゲットに電力が供給される。
本構成によれば、接続端子25a,25b,25cは回転部材20の回転軸10に沿った方向における回転部材20の端部に露出している。この露出した接続端子25a,25b,25cに給電端子22が接触する。接続端子25a,25b,25cは回転部材20の端部に露出しており、接続端子と結線された配線は、回転部材20から突出しない。そのため、回転部材20が、基体(不図示)に対する角度を付けるため、又は、ターゲットの種類等を変更するために回転軸10を中心に回転したとしても、接続端子25a,25b,25cや配線に負荷やよじれが生じることが抑制される。特に、接続端子25a,25b,25cが回転部材20の端部に埋められていれば、接続端子25a,25b,25cにかかる負荷はより低減される。
給電端子22は、回転軸10に沿った方向に往復移動可能に構成されており、回転部材20の端部と接触、離間可能になっている。具体的には、シリンダ直動部23によって、シリンダ21の動力が給電端子固定板24に伝えられる。これにより、給電端子22が回転軸10に沿った方向に移動可能となっている。
シリンダ21に固定された給電端子固定板24には、回転軸10を挟んで相対する位置に、2つの給電端子22が備えられている。この給電端子22は、高圧線17によって電源16と繋がっている。
一方、回転軸10に沿った方向における回転部材20の端部には、電極26a,26b,26cとそれぞれ導通している、3組の接続端子25a,25b,25cが形成されている。各組の接続端子25a,25b,25cは、回転部材20の回転軸10上に中心を置く円周上に、それぞれ2つ配置されている。同じ組の接続端子は、給電端子22と同時に接続可能となっている。
例えば、回転部材20に取り付けられた一のターゲット12aは、配線27aによって電極26aと導通しており、配線27aは他のターゲット12b,12cの電極26a,26bとは電気的に接続されていない。
また、一のターゲット12a以外のターゲット12b,12cは、それぞれに対応する電極26b,26cと導通している。しかし、各電極26a,26b,26c同士は絶縁体29a,29b,29cによって、互いに絶縁されている。それぞれの電極26a,26b,26cと導通する接続端子25a,25b,25cは、回転部材20の回転軸10に沿った方向の端部に露出している(図3参照。)。
このように、各組の接続端子25a,25b,25cは、対応するターゲット(ターゲット12aの場合は接続端子25a)とのみ導通している。本実施形態では、各組の接続端子は2つとした。しかし、各ターゲットには、少なくとも1つの接続端子が対応していれば良い。
本実施形態では、一のターゲット12aに対応する接続端子25aは二つ設けられている。この二つの接続端子25aは、回転軸10を中心に180度の回転した位置に配置されている。これにより、シリンダ直動部23から、給電端子22を介して接続端子25aにかかる力が、均等になる。
図3は、回転軸10に沿った方向から見た回転部材20の平面図である。つまり、回転部材20の回転軸方向の端部が示されている。回転部材20の端部には、電極26a,26b,26cとそれぞれ導通している、3組の接続端子25a,25b,25cが露出している。それぞれの接続端子25a,25b,25cは、回転部材20の回転軸10上を中心とする円周上に配置されている。つまり、接続端子25a,25b,25cは、すべて、回転軸から略等距離の位置に露出している。3組の接続端子が配置される回転部材20の端部は、減圧可能なチャンバー11からベアリング15によって隔てられた大気圧下に配置されている。
上記構成により、給電端子22が回転部材20の端部に接触した状態で、回転部材20が回転することで、給電端子22と接続端子25a,25b,25cとの導通または絶縁が切り替わる。本構成により、回転部材20が回転することで、カソードに取り付けられたターゲットの、基体に対する角度を調整することができる。
また、回転部材20の回転軸方向の端部には、接地された接地配線31と繋がった接地リング33が設けられている。接地リング33は、接続端子25a,25b,25cが露出している円周よりも内側で、同心円の形状をしている。図3では、給電端子22が接続端子25aに接触しているときに、接地リング33上の給電端子22の接地位置32aも示されている。給電端子22が接続端子25a,25b,25cを押さえるときと同様に、接触の安定性を確保するため、接地位置32aは回転軸10を対称に2箇所設けられている。
上記のように、本実施形態では、給電端子22がターゲットに電力供給を行っているときに、給電端子22は、接続端子2箇所、接地リング2箇所の計4箇所と接触しているが、この箇所に限定されるものでない。
回転部材20の端部には露出しないが、参考のため、図3には、ターゲット12a,12b,12cと接続端子25a,25b,25cとを結線する配線27a,27b,27cの位置も点線で示されている。
接続端子25a,25b,25cは、回転部材20の回転軸10を中心とする円上に配置されている。各ターゲットの着脱が可能な各カソードからの配線が突出していないため、回転部材20が回転しても、配線に負荷やよじれが生じることを抑制することができ、ターゲットに安定して電力を供給することができる。
また、接地用の端子である接地リング33が、回転部材20の回転軸10を中心とする円形状に形成されている。本実施形態では、接地リング33は、一例として、接続端子よりも内側に設けられている。
接続端子25a,25b,25cは、回転軸10を中心とした円周上に配置されている。そして、各接続端子25a,25b,25cは、回転軸10を中心とした所定の中心角θを有する円周に沿って延びた形状、つまり回転部材20の回転方向に沿って延びた形状であることが好ましい。これにより、接続端子25a,25b,25cと給電端子22との接触位置に広がり(所定の範囲)を持たせることができる。そのため、接続端子25a,25b,25cと給電端子22とが位置ずれし、電力供給が不安定になることを抑制することができる。したがって、さらに安定して、カソードに電力を供給することができる。
それぞれのターゲット12a,12b,12cと接続された接続端子25a,25b,25cは、回転部材20の回転軸10に沿った方向の端面に、回転方向に沿って並べて配置されている。これによって、回転部材20の回転にともなって、給電端子22と接続される接続端子を切り替えることができる。
本実施形態のスパッタリング装置は、一のターゲットに対して二つの接続端子が対応しており、3つのターゲットと接続する3組の接続端子25a,25b,25cを有している。この場合、回転軸10を中心とする円上の接続端子は、60°(360°÷3(ターゲット数)÷2(ターゲット毎の接続端子数))毎に配置されていればよい。
接続端子25a,25b,25c同士の間には、絶縁するために、隙間を設ける必要がある。その場合でも、各接続端子25a,25b,25cは、回転軸10の回りに最大で60°未満の回転角を持たせることができる。これにより、電力供給の安定化を図れるとともに、カソード(またはターゲット)の基体に対する角度調整の許容範囲を広げることもできる。
図4は、図3に示す接続端子25a,25b,25cについて、給電端子22の押さえ位置の許容範囲を示している。それぞれの接続端子25a,25b,25cは、回転部材20の端部において、回転部材20の回転方向に沿って延びている。図4では、回転方向に沿って延びた接続端子25a,25b,25cの接続が保たれる許容範囲が、中心位置30からのずれ角θと調整上限の押さえ位置とで表わされている。
このように、回転方向に沿って接続端子25a,25b,25cが形成されているため、接続端子25a,25b,25cと給電端子22との接続位置のずれにより、電力供給が不安定になることは少なく、さらに安定した電力供給が実現できる。さらに、カソードに取り付けられるターゲットの、基体に対する角度を許容範囲内で任意に調整することができ、スパッタリングのプロセス条件を拡張することができる。
上記の実施形態では、接続端子25a,25b,25cが、回転部材20の回転方向に沿って延びている。しか給電端子と接続端子との少なくとも一方が、回転部材の回転方向に沿って延びていればよい。この場合にも、接続端子が回転方向に延びている場合と同様の効果を得ることができる。
図5は、本発明の別の本実施形態に係るスパッタリング装置の上面図(回転軸に沿った方向から見た平面図)である。本実施形態のスパッタリング装置は、図1に示す回転部材と同様の構成を持つ回転部材20a,20b,20c,20dが、チャンバー11内に4つ配された構成である。4つの回転部材20a,20b,20c,20dは並んで配置されている。それぞれの回転部材20a,20b,20c,20dに備えられたカソードの1つが、基体ホルダー13と対向可能になっている。本実施形態では、回転部材は4つであるが、回転部材の数はいくつであっても良い。
なお、上記の実施形態では、ターゲットは、カソード回転部材20に着脱自在に取り付けられるが、ターゲットはカソード回転部材20に一体的に取り付けられるものであっても良い。
上記の実施形態では、一例として、マグネトロンスパッタ装置について詳細に説明したが、本発明のスパッタ装置は、2極DCグロー放電スパッタ装置であっても良いし、これらに限定されるものでない。
以上、本発明の望ましい実施形態について提示し、詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、要旨を逸脱しない限り、さまざまな変更及び修正が可能であることを理解されたい。
本発明の一実施形態に係るスパッタリング装置の断面図。 図1の点線で示された領域における回転部材の拡大図。 回転軸に沿った方向から見た回転部材の平面図。 接続端子と給電端子との接続位置の許容範囲を説明する図。 本発明の一実施形態に係るスパッタリング装置の上面図。 従来例のスパッタリング装置の概略構成を示す断面図。
符号の説明
10 回転軸
12a、12b、12c ターゲット
16 電源
20,20a,20b,20c,20d 回転部材
22 給電端子
25a、25b、25c 接続端子
26a、26b、26c 電極
27a、27b、27c 配線
29a、29b、29c 絶縁体

Claims (6)

  1. ターゲットが取り付けられる回転自在な回転部材と、
    前記ターゲットと電気的に接続され、前記回転部材の回転軸に沿った方向の前記回転部材の端部に配置された接続端子と、
    回転軸方向に往復移動可能に構成され、前記接続端子を介して前記ターゲットに電力を供給する給電端子と、を有し、
    前記給電端子を前記往復移動させることにより、前記給電端子を前記接続端子と接触または離間させ、前記給電端子と前記接続端子との導通または絶縁を切り替え可能であり、
    前記給電端子と前記接続端子との少なくとも一方が、前記回転部材の回転方向に沿って延びていることを特徴とするスパッタリング装置。
  2. 前記回転部材は前記ターゲットを複数取り付け可能に構成されており、
    前記回転部材の前記端部には、前記ターゲットのそれぞれと接続される前記接続端子が配置されており、
    それぞれの前記接続端子は、前記回転部材の回転方向に並べられている、請求項1に記載のスパッタリング装置。
  3. 前記回転部材の回転にともなって、前記給電端子と接続される前記接続端子が切り替わる、請求項1又は2に記載のスパッタリング装置。
  4. 前記回転部材に取り付けられている前記ターゲットの表面に磁束を発生させるマグネットが、前記回転部材の内部に配されている、請求項1からのいずれか1項に記載のスパッタリング装置。
  5. 前記回転部材が少なくとも2つ設置されている、請求項1からのいずれか1項に記載のスパッタリング装置。
  6. 前記回転部材の、前記ターゲットが取り付けられる面に対向して配置され、処理を行う基体を保持するホルダーをさらに備える、請求項1からのいずれか1項に記載のスパッタリング装置。
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