JP5285999B2 - Mounting plate and exposure drawing apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、電気回路パターン、文字及び記号(以下は「パターン」)を露光する際に載置する載置プレート及び露光描画装置に関する。特に、波打っている基板、または薄く固定しにくい基板においても適切に対応することができる載置プレートおよび露光描画装置に関するものである。 The present invention relates to a mounting plate and an exposure drawing apparatus that are mounted when an electric circuit pattern, characters and symbols (hereinafter referred to as “pattern”) are exposed. In particular, the present invention relates to a mounting plate and an exposure drawing apparatus that can appropriately cope with a wavy substrate or a thin and difficult-to-fix substrate.
パターンを形成する基板は、例えば、携帯電話,各種モバイル機器,パーソナルコンピュータ等の電子機器に搭載される。これらの電子機器の小型化に伴い、基板上に形成される回路の集積度を高める要求があり、配線,接続用ランド,ビア等のパターンについても、基板の薄型化が進んでいる。しかし、基板の薄型化に伴い、表面に塗布する感光材又は回路材料等と熱処理の影響が強く、このために基板が反り返り、搬送および固定に支障が出ることが多くなる傾向がある。特に露光描画工程では基板全体を平面に固定しないと、形成するパターンの解像度が崩れ正確なパターンが形成できないことになる。また基板の位置計測においても正確な位置情報を得ることができない。 The substrate on which the pattern is formed is mounted on an electronic device such as a mobile phone, various mobile devices, and a personal computer. With the miniaturization of these electronic devices, there is a demand for increasing the degree of integration of circuits formed on the substrate, and the thickness of the substrate has also been reduced for patterns such as wiring, connection lands, and vias. However, as the substrate becomes thinner, the influence of heat treatment and the photosensitive material or circuit material applied on the surface is strong, and this tends to cause the substrate to be warped and hinder transportation and fixing. In particular, in the exposure drawing process, unless the entire substrate is fixed to a flat surface, the resolution of the pattern to be formed is lost and an accurate pattern cannot be formed. In addition, accurate position information cannot be obtained even when measuring the position of the substrate.
変形している基板、または薄い基板を均一平面に固定するための方法として、特許文献1は、固定基板に吸着孔を形成し、基板のサイズに合わせてその周縁に小径の吸着孔を形成することで基板を吸着固定していた。また、特許文献2においては、円形の吸着装置を用い、円形の外周をシリコーンゴムで形成した真空漏れ防止リップを用いて基板を吸着していた。
しかしながら、ますます薄い基板の需要から薄い基板を形成すると、その基板は変形しやすくなり、特に縁部の変形が大きくなる。これに対して、特許文献1で開示された技術では、基板の縁部全域に小径の吸着孔を設けていないので、基板の縁部が波状に変形している場合には、真空排気が漏れ、固定に必要な排気量が得られない問題がある。また、特許文献2に開示された技術では、必ずしも変形した基板部分が円環状のリップ部分に当接するわけでない。また、仮に吸着したとしても、載置プレートでは円環状のリップ部分で吸着された基板部分と他の基板部分との平面状態が異なることで凹凸を生じてしまう。
However, when a thin substrate is formed due to the demand for an increasingly thin substrate, the substrate is likely to be deformed, and particularly, the edge is greatly deformed. On the other hand, in the technique disclosed in
本発明は、基板の外周が反り上がっていても適切に吸着保持でき、また、基板の縁部が波打った状態である基板でも、基板全面において平面精度を保って保持できる載置プレートを提供する。さらに、複数サイズの基板に対して対応でき、使用により基板の載置面が磨耗等しても簡単な構成で取替え等の保守作業性に優れる載置プレートを備えることで、基板の品質を向上させる露光描画装置を提供することを目的とする。 The present invention provides a mounting plate that can be adequately attracted and held even when the outer periphery of the substrate is warped, and that can be held with flat accuracy over the entire surface of the substrate even when the edge of the substrate is wavy. To do. In addition, it can handle multiple size substrates, and even if the mounting surface of the substrate is worn by use, it has a simple configuration and has a mounting plate that excels in maintenance workability such as replacement, improving the quality of the substrate An object of the present invention is to provide an exposure drawing apparatus.
第1の観点の載置プレートは、矩形形状の被露光基板を載置し、大きさの異なる被露光基板ごとにベーステーブルに載置される着脱可能な載置プレートである。この載置プレートは、被露光基板を載置する面からベーステーブルに載置される面に貫通し、ベーステーブルに形成されたガス通路と連通し、被露光基板を吸着する複数の吸着孔と、外周部に形成される外枠と、被露光基板を載置する面の外周部に沿うように、外枠に形成される溝と、被露光基板を載置する面の外周部に沿うように、溝内に設置され、被露光基板を載置する表面より上に突き出るリップ部を有するシール部材と、を備えている。そして、シール部材は、複数のシール部材をつなげて形成され、矩形状の角部用のシール部材と、矩形状の直線部用のシール部材とを有する。
この構成により、ベーステーブルの上に着脱可能な大きさの異なる載置プレートが用いられることで、さまざまな、サイズの被露光基板に柔軟に対応することができる。ベーステーブルにはガス通路が最大サイズの載置プレートの載置領域にあわせてX、Y軸方向に形成され、このガス通路に沿って載置プレートの吸着孔がZ軸方向に方向を変え、外気と接する構造となっている。さらに載置プレートの外周には、載置プレートの表面より突き出した位置にリップ部を形成することで吸引をかけた際のシール部材として用いられる。仮にリップ部が載置プレートの表面と同一高さであると、反り上がった被露光基板の周囲がリップ部に接触できず気密な空間を作れないが、突き出した位置にリップ部が形成されることで、被露光基板の吸引を確実にすることができる。
また、シール部材は複数のシール部材をつなげて形成され、角部用のシール部材と直線部用のシール部材とを有しているので、角部のリップ部につなぎ目を無くすことができ、密着性を向上させることができる。また、角部のリップ部につなぎ目が無いとシール部材の耐久性を向上することができる。
更に、載置プレートの外周に外枠と溝部とが形成され、シール部材が溝部に配置されている。このため、軟質のシール部材の取り扱いが容易になる。また、外枠の幅を変えることにより、ベースプレートの大きさが同じであっても複数の形状の載置プレートとの位置合わせが容易になる。
The mounting plate according to the first aspect is a detachable mounting plate on which a rectangular substrate to be exposed is mounted and mounted on a base table for each substrate to be exposed having a different size. The mounting plate penetrates from a surface on which the substrate to be exposed is mounted to a surface to be mounted on the base table, communicates with a gas passage formed in the base table, and has a plurality of suction holes for sucking the substrate to be exposed. The outer frame formed on the outer peripheral portion and the outer peripheral portion of the surface on which the substrate to be exposed are placed so as to follow the outer peripheral portion of the surface on which the substrate to be exposed is placed. And a seal member having a lip portion installed in the groove and protruding above the surface on which the substrate to be exposed is placed . The sealing member is formed by connecting a plurality of sealing members, and includes a rectangular corner sealing member and a rectangular linear sealing member .
With this configuration, mounting plates of different sizes that can be attached to and detached from the base table are used, so that it is possible to flexibly cope with substrates to be exposed of various sizes. In the base table, gas passages are formed in the X and Y axis directions according to the placement area of the maximum size placement plate, and the suction holes of the placement plate change direction in the Z axis direction along this gas passage, The structure is in contact with the outside air. Further, the outer periphery of the mounting plate is used as a seal member when suction is applied by forming a lip portion at a position protruding from the surface of the mounting plate. If the lip portion has the same height as the surface of the mounting plate, the periphery of the substrate to be warped up cannot contact the lip portion to form an airtight space, but the lip portion is formed at the protruding position. Thus, the suction of the substrate to be exposed can be ensured.
Further, the seal member is formed by connecting a plurality of seal members, and has a seal member for a corner portion and a seal member for a straight portion. Can be improved. Further, if there is no joint at the corner lip, the durability of the seal member can be improved.
Further, an outer frame and a groove are formed on the outer periphery of the mounting plate, and a seal member is disposed in the groove. For this reason, handling of a soft sealing member becomes easy. In addition, by changing the width of the outer frame, alignment with a plurality of mounting plates can be facilitated even if the size of the base plate is the same.
第2の観点の載置プレートは、載置プレートの外周のリップ部が軟質材で形成され、リップ部の基部から先端に向い徐々に肉厚が薄く形成されている。
このため、被露光基板とリップ部との密着性が優れている構造となっている。
In the mounting plate of the second aspect, the lip portion on the outer periphery of the mounting plate is formed of a soft material, and the thickness is gradually reduced from the base portion of the lip portion toward the tip.
For this reason, it has the structure where the adhesiveness of a to-be-exposed board | substrate and a lip | rip part is excellent.
第3の観点において、被露光基板が載置された際に、リップ部の先端は被露光基板の外周端と同じ位置又は内側になるように形成されている。
この構成により、リップ部の先端が被露光基板の外周端と同じ位置又は内側に配置されると、被露光基板とリップ部とによって気密な空間を作りだすことができ、被露光基板の吸引を確実にすることができる。
In the third aspect , when the substrate to be exposed is placed, the tip of the lip portion is formed so as to be at the same position or inside as the outer peripheral end of the substrate to be exposed.
With this configuration, when the tip of the lip portion is disposed at the same position or inside the outer peripheral edge of the substrate to be exposed, an airtight space can be created by the substrate to be exposed and the lip portion, and suction of the substrate to be exposed can be ensured. Can be.
第4の観点の載置プレートは、複数のシール部材のうち、直線状のシール部材の長さを変えることにより被露光基板の大きさに合わせる。
この構成により、被露光基板の大きさに合わせて4隅のシール部材と直線状のシール部材の数とを調節することで、所望の大きさの矩形形状を形成することができる。
The mounting plate according to the fourth aspect is adjusted to the size of the substrate to be exposed by changing the length of the linear sealing member among the plurality of sealing members.
With this configuration, a rectangular shape with a desired size can be formed by adjusting the number of seal members at four corners and the number of linear seal members in accordance with the size of the substrate to be exposed.
第5の観点の載置プレートは、シール部材よりも内側で且つ表面に被露光基板のアライメントを行うためのアライメント光源を有する。
シール部材よりも内側の載置プレートの表面に、被露光基板のアライメントを行うためのアライメント光源を備え、載置プレートを透過するアライメントマークを観察することができる。
The mounting plate according to the fifth aspect includes an alignment light source for aligning the substrate to be exposed on the inner side of the seal member and on the surface thereof.
An alignment light source for aligning the substrate to be exposed is provided on the surface of the mounting plate inside the seal member, and an alignment mark that passes through the mounting plate can be observed.
第6の観点の載置プレートは、第5の観点において、アライメント光源が平面状光源である。例えば平面状光源として有機ELなどを使用することができる。 In the mounting plate of the sixth aspect , the alignment light source is a planar light source in the fifth aspect. For example, an organic EL or the like can be used as a planar light source.
第7の観点の露光描画装置は、矩形形状の被露光基板にパターンを露光する。この露光描画装置は、ガス通路が形成されたベーステーブルと、大きさの異なる被路露光基板ごとにベーステーブルに着脱可能に支持され、被露光基板を載置するためにガス通路と連通する複数の吸着孔が形成された載置プレートと、を備える。この載置プレートは、外周部に形成される外枠と、被露光基板を載置する面の外周部に沿うように、外枠に形成される溝と、被露光基板を載置する面の外周部に沿うように、溝内に設置され、被露光基板を載置する表面より上に突き出るリップ部を有するシール部材と、を備え、シール部材は、複数のシール部材をつなげて形成され、矩形状の角部用のシール部材と、矩形状の直線部用のシール部材とを有する。
この構成により露光描画装置は、被露光基板の周辺部が反り上がっていても、被露光基板の周辺部が軟質材のリップ部で接触するため気密に被露光基板と吸着することができ、均一な平面を形成することができる。露光描画装置は、被露光基板を正確に計測することができるため、精密な露光が可能な装置となる。
An exposure drawing apparatus according to a seventh aspect exposes a pattern on a rectangular substrate to be exposed. The exposure drawing apparatus includes a base table in which a gas passage is formed and a plurality of passage exposure substrates having different sizes, which are detachably supported on the base table and communicate with the gas passage in order to place the substrate to be exposed. And a mounting plate on which the suction holes are formed . The mounting plate includes an outer frame formed on the outer peripheral portion, a groove formed on the outer frame along the outer peripheral portion of the surface on which the exposed substrate is mounted, and a surface on which the exposed substrate is mounted. A seal member having a lip portion that is installed in the groove and protrudes above the surface on which the substrate to be exposed is placed, along the outer peripheral portion, and the seal member is formed by connecting a plurality of seal members, A rectangular corner seal member and a rectangular straight seal member are provided.
With this configuration, even if the peripheral part of the substrate to be exposed is warped, the exposure drawing apparatus can be adsorbed airtightly and uniformly because the peripheral part of the substrate to be exposed is in contact with the lip portion of the soft material. Flat surfaces can be formed. Since the exposure drawing apparatus can accurately measure the substrate to be exposed, it becomes an apparatus capable of precise exposure.
第8の観点の露光描画装置は、ベーステーブルにはガイドピンが形成され、載置プレートの外枠にガイドピンが合致するガイド孔が形成され、外枠の幅の広さを変更してガイド孔を形成することにより、大きさの異なる被露光基板に合わせる。
ガイドピンとガイド孔とが合致して位置決めができるため、ガス通路と複数の吸着孔とを確実に連通させることができる。
第9の観点の露光描画装置は、複数のシール部材のうち、直線部用のシール部材の長さを変えることにより被露光基板の大きさに合わせる。この構成により、被露光基板の大きさに合わせて4隅のシール部材と直線状のシール部材の数とを調節することで、所望の大きさの矩形形状を形成することができる。
In an exposure drawing apparatus according to an eighth aspect, a guide pin is formed on the base table, a guide hole that matches the guide pin is formed on the outer frame of the mounting plate, and the width of the outer frame is changed to guide the guide plate. By forming the holes, the holes are adjusted to different exposure substrates.
Since the guide pin and the guide hole can be aligned and positioned, the gas passage and the plurality of adsorption holes can be reliably communicated with each other.
The exposure drawing apparatus according to the ninth aspect is adapted to the size of the substrate to be exposed by changing the length of the seal member for the straight portion among the plurality of seal members. With this configuration, a rectangular shape with a desired size can be formed by adjusting the number of seal members at four corners and the number of linear seal members in accordance with the size of the substrate to be exposed.
本発明の載置プレートは、薄く形成された矩形形状の被露光基板が縁部において変形していても、載置プレートの外周部に軟質材のリップ部を形成し、真空排気することで均一平面に被露光基板を吸着固定することができる。このため、露光描画装置は正確な位置計測を行うことができ、これに伴い正確なパターンを露光できる。 The mounting plate of the present invention is uniform by forming a lip portion of a soft material on the outer peripheral portion of the mounting plate and evacuating it even if a thin rectangular substrate to be exposed is deformed at the edge. The substrate to be exposed can be fixed by suction on a flat surface. For this reason, the exposure drawing apparatus can perform accurate position measurement, and accordingly, an accurate pattern can be exposed.
<露光描画装置100の構成>
以下は、図面を参照して本発明の露光描画装置100の載置プレートについての実施形態を説明する。図1は露光描画装置100の全体構成を示した図である。
<Configuration of
Hereinafter, an embodiment of the mounting plate of the
露光描画装置100は筐体11、ゲート状構造体12及び光源部20で構成されている。筐体11の上にはゲート状構造体12が設置され、固定されている。ゲート状構造体12の上には2箇所に光源部20が設置されている。
The
2箇所の光源部20は、それぞれ同じ内部構成を持ち、例えば、光源部20からは365nmから440nmまでの各種の波長が混在した紫外光を発射する。光源部20から発する紫外光は、ゲート状構造体12の内部に配置した微小の複数のミラーからなる露光描画部(不図示)で所望のパターンを反射する。その反射された光は基板SW(図2を参照)に照射される。なお紫外光は通過経路の途中にシャッタ(不図示)を設けて紫外光の光量の制御を行っている。
The two
ゲート状構造体12の前部にはアライメントカメラACが2箇所に設置されており、載置プレート53に載置される基板SWの位置情報を正確に読み取り、露光描画装置100の制御部(不図示)に伝えることができる。アライメントカメラACは、基板SWの幅方向(Y軸方向)に移動可能な構造であってもよく、リニア駆動又はモータ駆動により所望の位置にアライメントカメラACを動かすことができる。なお、本実施形態では2箇所にアライメントカメラACを設置しているが、基板SWの露光像の描画パターンが精細な場合には3箇所以上に増加させ、アライメントマークAMの間隔を狭くしても構わない。
An alignment camera AC is installed at two locations on the front part of the gate-
筐体11の上面にはXYステージ51が設置され、XYステージ51の上面にベーステーブル52が設置され、さらにその上面に載置プレート53が載置される。XYステージ51にはXY平面の水平方向に移動可能な駆動装置(不図示)が設置され、ベーステーブル52及び載置プレート53と供にゲート状構造体12の下部の空間を移動する。
An
XYステージ51は、ゲート状構造体12の下部の露光位置に移動し、載置プレート53に載置される基板SWを露光描画部の焦点に合わせ、パターンを形成させることができる。なお、XYステージ51の駆動装置は例えばリニアモータであり、リニアモータはXYステージ51を精密な位置に筐体のX軸方向及びY軸方向に移動可能となっている。なお駆動装置は、リニアモータだけでなく、ボールねじとねじ駆動用モータ等とで構成する手段を用いてもよい。いずれの手段においても移動と現在位置とを正確に反映する制御ができる機構であれば構わない。
The
載置プレート53に載置する基板SWは、薄く形成された基板であり回路配線などのパターンが形成される。基板SWの大きさは、例えばX軸方向に600mm、Y軸方向に500mm程度であり、また500mm×410mm角など様々な大きさがある。これらの基板SWには紫外光で露光描画できるようにレジスト層が形成されている。基板SWにレジスト層を積層するために本実施形態では感光性ドライフィルムを用いる。感光性ドライフィルムは片面にレジスト層が形成されているタイプを用いており、もう一方の片面はレジスト層が形成されていない。感光性ドライフィルムはレジスト層側を基板SWの表面に接着させることで、フィルム側が大気と接触する面となる。感光性ドライフィルムは、接着後に後熱処理することで基板SWに固着させる。なお、レジスト層は液体レジストを用いて基板SWに塗布し熱処理することで基板SWに固着させてもよい。
The substrate SW placed on the
以下は露光描画装置100のベーステーブル52に載置する載置プレート53の違いによる様々な実施形態について説明する。
In the following, various embodiments according to the difference of the mounting
≪第一実施形態≫
上述したように、感光性ドライフィルムのレジスト面を接着した基板SWは熱処理されるために、変形して露光描画装置100の載置プレート53に搬送される。この薄く変形した基板SWは、本実施形態の載置プレート53によって吸着固定されることで、均一平面を形成することができる。
≪First embodiment≫
As described above, the substrate SW to which the resist surface of the photosensitive dry film is bonded is subjected to heat treatment, so that it is deformed and conveyed to the mounting
図2はXYステージ51、ベーステーブル52、載置プレート53、及び基板SWの構成を示した断面図である。図2では、XYステージ51の上部にベーステーブル52を形成し、その上に着脱可能な載置プレート53を載置して、さらにその上部に吸着する基板SWを示している。なお、図2は説明しやすいように載置プレート53及び基板SWを分離して図示してある。図3は、ベーステーブル52の上面図である。図4は載置プレート53の上面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing configurations of the
XYステージ51はXY方向に移動可能であり、ベーステーブル52、載置プレート53及び基板SWを一体として、精密に移動させることができる。
The
ベーステーブル52はガス配管61、ガス溝62及びガイドピン63で構成されている。図2及び図3で理解されるように、ガス配管61はベーステーブル52をZ軸方向に伸びて形成され、ガス配管61の上部はガス溝62と接続し、ガス配管61の下部は横に伸びる配管を通過して真空吸着装置(不図示)と接続している。ガス溝62はガスを通過させるための溝であり、ベーステーブル52の表面にX軸方向のガス溝62XとY軸方向のガス溝62Yとが形成されている。このようにガス溝62が網目状に形成されることで、ベーステーブル52の全面で同じ吸着力が生じる。ガイドピン63は円柱状でベーステーブル52から垂直に突き出した形状であり、ベーステーブル52の辺縁に形成されている。なお、ガイドピン63は載置プレート53を固定するために形成されているため、2箇所以上に形成すればよく、また形成する位置においても辺縁の角部など、載置プレート53に合致する任意の位置でもよい。
The base table 52 includes a
ガス配管61は真空吸着装置に複数本または1本にまとめられ真空排気している。また、ガス溝62はベーステーブル52の表面をXY方向に削ることで溝を形成して、X軸とY軸との交点の一部がZ軸方向のガス配管61に接続されている。ガス溝62の上部に載置プレート53が載置されると、ガス溝62の上部が塞がり、密閉されてガスの配管を形成することができる。
A plurality of
図4で示すように載置プレート53は、ガイド孔64、シール部材65、吸着孔66及び外枠67で構成されている。載置プレート53は、基板SWが載置される全面に吸着孔66が形成され、その外周をシール部材65で囲み、さらにその外周を外枠67で囲んでいる。外枠67の辺縁にはベーステーブル52のガイドピン63と合致する位置にガイド孔64が形成されている。
As shown in FIG. 4, the mounting
吸着孔66は1.5mmφ程度の円孔を形成し、載置プレート53をZ軸方向に貫くように形成され、下部のガス溝62(図4ではその位置を破線で表示)に沿って、何十から何百個が形成されている。
The
載置プレート53は、一例として、厚さ2mm程度のアルミニウム等の軽量材料で形成し、基板SWと対面する載置面に硬質、かつ、基板SWとの離脱性が優れるフッ素樹脂を含有する硬質皮膜を施したもので構成される。
As an example, the mounting
載置プレート53を載置することで、ガス溝62がガス通過配管となり、ガス配管61とつながる真空吸着装置で吸引することで、基板SWの対面する位置に配置した吸着孔66により、基板SWは均一な吸引力で吸着される。
By mounting the mounting
外枠67には、例えばガイド孔64がその長辺に1箇所ずつ合計2箇所に形成され、一方のガイド孔64は長孔になっている。長孔のガイド孔64はガイドピン63をはめ込みやすくするように形成されている。また、ガイド孔64はシール部材65の外側に形成され、載置プレート53をZ軸方向に貫通して形成されている。また、ガイド孔64はガイドピン63と合致する大きさで形成され、一方のガイド孔64とガイドピン63とでXY方向の位置が固定され、もう一方のガイド孔64とガイドピン63とで回転方向のずれを防止している。
In the
シール部材65は載置プレート53の四隅であるコーナー部に適合する形状の円弧状のシール部材65Cと、直線状のシール部材65Sとで構成されている。円弧状のシール部材65Cはコーナー部の4箇所に設置し、その他の4辺は直線状のシール部材65Sを使用することで、載置プレート53の外周を取り囲むことができる。シール部材65Cとシール部材65Sとの接合はエポキシ系接着剤などを用いて行われる。
The
図5は図4のA−A断面の拡大図であり、シール部材65及びその周辺の詳細を説明する。なお、図5(a)はXYステージ51にベーステーブル52が設置され、載置プレート53に基板が吸着されていない状態を示し、図5(b)は載置プレート53に基板が吸着されている状態を示している。
FIG. 5 is an enlarged view of the AA cross section of FIG. 4, and the details of the
外枠67に形成したシール部材65の下部には、それを収納する矩形溝68が形成されている。つまり矩形溝68も載置プレート53の外周に沿って形成され、その内部のサイズに適合するシール部材65が設置されている。
A
シール部材65は基部65Bとリップ部65Lとが形成されている。リップ部65Lの先端は載置プレート53の表面より上部に突き出るように形成されている。また、基部65Bからリップ部65Lの先端にかけて徐々に薄くなるように形成されている。例えば、矩形溝68は2mm程度の載置プレート53を用いた場合に、深さ1.6mm程度に形成し、高さ1.6mm程度に形成したシール部材65を収納している。リップ部65Lは基部65Bの半分程度の厚みから徐々に、上方に向け薄く形成されている。また、リップ部65Lの先端は載置プレート53の表面から0.2mm〜0.5mm程度の上部に位置している。なお、リップ部65Lの先端で形成する外周径は基板SWの外周径と同等または数ミリ小さく形成されている。基板SWは矩形で形成されているため、基板SWの四隅は円弧状のシール部材65Cから飛び出している。また、弾性材の劣化の影響を受けやすいコーナー部において、円弧状のシール部材65Cにシール部材65Sとの接合はエポキシ系接着剤などを用いて行われる。この接合のつなぎ目は基板SWの四隅に設けられていない。このためリップ部65Lの亀裂が少なくなる。なお、シール部材65Cは必ずしも円弧形状に限られない。基板SWの四隅と同一形状の直角状の角形状であっても、つなぎ目が基板SWの四隅に設けられていないため、リップ部65Lの亀裂が少なくなる。
The
以上に示した載置プレート53を用いることで、露光描画装置100は基板SWを均一平面に固定することで、正確に位置計測することができ、精密なパターンを露光することができる。例えば図5(a)に示すように、露光描画装置100の制御部は、基板SWを載置プレート53のシール部材65の外周と基板SWの外周とを合わせるように載置する。このとき、基板SWの周囲が熱処理などで上側に反り上がっていても、リップ部65Lが載置プレート53の表面から上部に位置しているため、基板SWの周囲がリップ部65Lに接する。真空吸着装置で吸着孔66を通じて真空排気をかけると、基板SWの周囲がシール部材65のリップ部65Lに接触しているため、気密な空間を作り、真空排気を続けることで基板SWが載置プレート53に吸着される。このとき基板SWは真空排気により、リップ部65Lを下方に向けて引きおろし、さらに基板SWの重力でリップ部65Lが下方に下がる。このためリップ部65Lは、図5(b)に示すように、載置プレート53の表面と同じ水平面に広がり、固定される。ゆえに基板全体は載置プレート53に沿って均一平面に固定することができる。載置プレート53に沿って均一平面に固定された基板は、露光描画装置100の2箇所のアライメントカメラACで正確な位置を計測し、ゲート状構造体12の内部に設置した露光描画部により、精密なパターンを露光することができる。なお、リップ部65Lが載置プレート53と同じ水平面に位置したときに、リップ部65Lの先端が矩形溝68の端部に触れるように形成することで、基板SWの均一平面を確保し易くすることができる。
By using the mounting
載置プレート53は外枠67を形成することで、薄く形成したシール部材65Cのリップ部65Lの保護をすることができる。載置プレート53は外枠67の縁部にガイド孔64を形成するため、基板SWのサイズを変更する場合においても、外枠67の幅を幅広または幅狭に形成することで、ガイド孔64の位置を変える必要が無く、ベーステーブル52に形成するガイドピン63の位置の変更もしなくて良い。このため複数の基板サイズに適合する載置プレート53の交換作業が容易に行うことができる。
The mounting
図6は基板サイズが小さい場合に使用する載置プレート53の上面図である。例えば、図6に示すように外枠67Wは外枠67が幅広に形成されているため、ガイドピン63の位置を変更しなくても、小さな基板サイズにも適合する載置プレート53を用意することができる。また、シール部材65においては4箇所の円弧状のシール部材65Cと、長さを調節した直線状のシール部材65Sとをつなげて外周を取り囲んでいる。なお、直線状のシール部材65Sは1辺につき1本の直線状のシール部材65Sを用いているが、複数に分割して使用しても良い。
FIG. 6 is a top view of the mounting
≪第二実施形態≫
本実施形態の載置プレート153は幅狭に形成した外枠67Tを示している。図7は載置プレート153の上面図を示している。また、図8(a)は図7のB−B断面の拡大図であり、図8(b)は(a)の変形例である載置プレート155の断面図を示している。なお第1実施形態と同じ構成については、説明を省き同じ符号を用いる。以下は図7及び図8を用いて第1実施形態の載置プレート53との相違点について説明する。
<< Second Embodiment >>
The mounting
図8(a)に示す載置プレート153は矩形溝68を形成していない。図8(b)に示す載置プレート155は矩形溝68を形成するが、矩形溝68の外周部が薄く形成されている。載置プレート153及び載置プレート155ではガイド孔164がシール部材65の内側に形成されており、ガイド孔164は第一実施形態で示した基板を貫通するガイド孔64の上部(基板側)に、透明材料で観察窓165を形成している。
The mounting
観察窓165の上面は載置プレート153及び載置プレート155の上面と同一な高さで接着してあり、ポリカーボネートなどの透明材料で形成されている。ベーステーブル52のガイドピン63はこの観察窓165に接しない高さで形成される。観察窓165は真空引き際に空気漏れがないようにゴムパッキンなどで気密にして取り付けられている。
The upper surface of the
観察窓165は操作者がガイド孔164の位置を指標としながら、下部のベーステーブル52のガイドピン63にはめ込むために、透明材料を用いている。しかし、ベーステーブル52と、載置プレート153及び載置プレート155とを他の指標を用いて固定する場合にはこの限りではなく、ガイド孔164及びガイドピン63の位置の変更、または不透明な観察窓165を使用する方法、さらにガイド孔164及びガイドピン63をなくす事も可能である。
The
≪第三実施形態≫
本実施形態の載置プレート253はその内部に光源262を形成することにより、露光描画装置100が基板SWを透過した光を観察することで、基板SWの位置調整を行うことができる。光源262は第1実施形態または第2実施形態の載置プレートのどちらに設置してもよいため、第1実施形態の載置プレート53の内部に光源262を形成した場合について説明する。
≪Third embodiment≫
The mounting
図9は載置プレート253の拡大断面図である。本実施形態においても、第1実施形態と同じ構成については、説明を省き同じ符号を用いる。以下は図9を用いて第1実施形態の載置プレート53との相違点について説明する。なお、図9においてはアライメントマークAMを通過する光をアライメントカメラACで観察する様子を説明するため、基板SWと載置プレート253とを分離して図示してある。図10は、吸着孔66の上部に平面光源262を形成した図である。
FIG. 9 is an enlarged sectional view of the mounting
通常の基板SWは所定の位置に位置情報を計測するためのアライメントマークAMが形成されている。例えばアライメントマークAMは1mmφ程度の貫通孔が基板SWを貫通するように形成することで、基板SWの下部から照射される光源262の光を計測することができる。
An ordinary substrate SW has an alignment mark AM for measuring position information at a predetermined position. For example, the alignment mark AM is formed so that a through hole of about 1 mmφ penetrates the substrate SW, whereby the light of the
載置プレート253はその外周部に形成した矩形溝68の中に、電源261を配置し、載置プレート253の表面に光源262を形成してある。電源261と光源262とは電極263で接続され、アライメントカメラACで計測するタイミングで発光させることができる。
The mounting
アライメントカメラACは基板SWを貫通するアライメントマークAMから通過する光を観察することで、容易に精密な位置を検出することができる。例えば、アライメントカメラACは通過する光の強度分布を計測する事で。アライメントマークAMの中心位置を精密に計測することができる。 The alignment camera AC can easily detect a precise position by observing light passing from the alignment mark AM penetrating the substrate SW. For example, the alignment camera AC measures the intensity distribution of light passing therethrough. The center position of the alignment mark AM can be accurately measured.
光源262はLEDもしくは有機ELなどの薄い面発光光源を用いている。また、光源262から発光する光は基板SWに塗布されるレジストが感光しない波長を照射する。例えば光源262は載置プレート253の四隅に4箇所形成し、基板SWの位置計測時に赤色、黄色等の波長の長い光を照射することで基板SWに形成したアライメントマークを通過させる。なお図9ではシール部材65と吸着孔66との間に光源を設置しているが、図10に示すように吸着孔66が形成されている領域に平面光源を形成しても良い。また溝部に電源261と光源262を設置し、光源262の光を光ファイバなどで屈曲させて基板SWの裏面に照射しても良い。
The
11 … 筐体
12 … ゲート状構造体
20 … 光源部
51 … XYステージ
52 … ベーステーブル
53、153、155、253 … 載置プレート
61 … ガス配管
62 … ガス溝
62 … リップ
63 … ガイドピン
64、164 … ガイド孔
65 … シール部材
65B … 基部
65C … コーナー用シール部材
65L … リップ部
65S … 直線用シール部材
66 … 吸着孔
67 … 外枠
67W … 幅広な外枠
67T … 幅狭な外枠
68 … 矩形溝
100 … 露光描画装置
165観察窓
261 … 電源
262 … 光源
263 … 電極
AC … アライメントカメラ
AM … アライメントマーク
SW … 基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Housing | casing 12 ... Gate-
Claims (9)
前記被露光基板を載置する面から前記ベーステーブルに載置される面に貫通し、前記ベーステーブルに形成されたガス通路と連通し、前記被露光基板を吸着する複数の吸着孔と、
外周部に形成される外枠と、
前記被露光基板を載置する面の外周部に沿うように、前記外枠に形成される溝と、
前記被露光基板を載置する面の外周部に沿うように、前記溝内に設置され、前記被露光基板を載置する表面より上に突き出るリップ部を有するシール部材と、を備え、
前記シール部材は、複数のシール部材をつなげて形成され、前記矩形状の角部用のシール部材と、前記矩形状の直線部用のシール部材とを有する、ことを特徴とする載置プレート。 It is a detachable mounting plate that mounts a rectangular substrate to be exposed and is mounted on a base table for each substrate to be exposed having a different size,
A plurality of suction holes that penetrate from the surface on which the substrate to be exposed is mounted to the surface to be mounted on the base table, communicate with a gas passage formed in the base table, and suck the substrate to be exposed;
An outer frame formed on the outer periphery;
A groove formed in the outer frame so as to be along the outer periphery of the surface on which the substrate to be exposed is placed;
A seal member installed in the groove so as to be along the outer peripheral portion of the surface on which the substrate to be exposed is placed, and having a lip portion protruding above the surface on which the substrate to be exposed is placed ;
The sealing plate is formed by connecting a plurality of sealing members, and includes the rectangular corner sealing member and the rectangular linear sealing member .
ガス通路が形成されたベーステーブルと、
大きさの異なる被路露光基板ごとに前記ベーステーブルに着脱可能に支持され、前記被露光基板を載置するために前記ガス通路と連通する複数の吸着孔が形成された載置プレートと、を備え、
前記載置プレートは、
外周部に形成される外枠と、
前記被露光基板を載置する面の外周部に沿うように、前記外枠に形成される溝と、
前記被露光基板を載置する面の外周部に沿うように、前記溝内に設置され、前記被露光基板を載置する表面より上に突き出るリップ部を有するシール部材と、を備え、
前記シール部材は、複数のシール部材をつなげて形成され、前記矩形状の角部用のシール部材と、前記矩形状の直線部用のシール部材とを有する、ことを特徴とする露光描画装置。 In an exposure drawing apparatus that exposes a pattern on a rectangular substrate to be exposed,
A base table in which a gas passage is formed;
A mounting plate that is detachably supported by the base table for each of the path exposure substrates having different sizes and has a plurality of suction holes that communicate with the gas passage for mounting the substrate to be exposed; Prepared,
The mounting plate mentioned above is
An outer frame formed on the outer periphery;
A groove formed in the outer frame so as to be along the outer periphery of the surface on which the substrate to be exposed is placed;
A seal member installed in the groove so as to be along the outer peripheral portion of the surface on which the substrate to be exposed is placed, and having a lip portion protruding above the surface on which the substrate to be exposed is placed;
The exposure drawing apparatus , wherein the sealing member is formed by connecting a plurality of sealing members, and includes the rectangular corner sealing member and the rectangular linear sealing member .
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