JP5281810B2 - 液晶装置 - Google Patents

Description

本技術は、液晶装置に関する。

従来から、反射表示を行う反射領域と、透過表示を行う透過領域とを有する半透過反射型の液晶装置がある。
このような液晶装置では、従来、入射された光に位相差を与える液晶相と、入射された光に対して等方性を示す等方相とがつながった状態で形成された光学素子（位相差膜）を有しているものが知られている（例えば、特許文献１参照）。

特開２００７−１２１７４０号公報

上記特許文献１に記載された液晶装置は、一対の基板間に液晶と位相差膜（光学素子）とが介在した構成を有している。この液晶装置では、一対の基板間に介在する液晶の配向状態を変化させることにより、表示が制御される。一対の基板間に介在する位相差膜は、液晶材料を硬化させた構成を有している。この位相差膜は、液晶相が反射領域に対応して設けられ、等方相が透過領域に対応して設けられる。この位相差膜の液晶相と等方相とは、同一の液晶材料から形成されている。

この位相差膜の製造方法では、まず、基板に設けられた配向膜上に液晶材料を、反射領域及び透過領域間で一連した状態で塗布する。
配向膜上に塗布された液晶材料にフォトマスクを介して光を照射することにより、反射領域に対応する液晶材料を硬化させて液晶相を形成する。
反射領域に対応する液晶相を硬化させた後、液晶材料を等方相転移温度に加熱することにより、透過領域に対応する液晶材料を等方相に転移させる。
そして、等方相に転移した液晶材料を硬化させることにより、透過領域に対応する等方相を形成する。

ところで、一般的に、一対の基板間に液晶が介在した液晶装置では、液晶は、平面視で液晶を囲むシール材によって封止されていることが多い。
ここで、上記の位相差膜では、液晶材料は、スピンコート法などによって反射領域及び透過領域間で一連した状態で塗布されるので、基板の全域に塗布されている。このため、シール材は、一対の基板の一方と位相差膜を構成する液晶材料とに挟持されることになる。つまり、シール材と液晶材料とが接することになる。硬化した液晶材料にシール材が接すると、シール材の溶剤成分などによって液晶材料の化学的な安定性が低くなることが考えられる。この結果、液晶の封止性能についての信頼性が低くなる。

そこで、フォトリソグラフィ技術やエッチング技術などを活用して位相差膜を部分的に除去することにより、平面視でシール材と位相差膜とが重なることを避けることが考えられる。しかしながら、位相差膜を部分的に除去すると、位相差膜には、除去された部位との境界に段差部が発生する。
ここで、上記特許文献１に記載された液晶装置では、液晶は、一対の配向膜に挟持された状態で一対の基板間に介在している。つまり、この位相差膜は、配向膜によって覆われている。配向膜は、溶液の状態で基板上に塗布された樹脂を硬化させて樹脂膜を形成し、この樹脂膜にラビング処理を施すことによって設けられ得る。

部分的に除去された位相差膜に樹脂の溶液を塗布すると、上記の段差部に溶液がたまりやすい。これに対し、上記の段差部の肩部には、溶液が乗りにくいため、肩部が溶液で覆われにくい。このため、段差部の肩部での配向膜の膜厚が他の部位よりも薄くなりやすい。これにより、段差部の肩部において液晶の配向状態を規制することが困難となる。
つまり、部分的に除去された位相差膜を有する液晶装置では、表示品位を向上させることが困難であるという未解決の課題がある。

本技術は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。

［適用例１］互いに対向する一対の基板と、前記一対の基板間に介在する液晶と、前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜と、前記位相差膜及び前記液晶の間に介在し、前記液晶の配向状態を規制する配向膜と、を有し、前記位相差膜の縁部には、前記一方の基板に対して傾斜した傾斜面が設けられており、前記傾斜面は、前記配向膜によって覆われており、前記配向膜には、ラビング処理が施されており、前記位相差膜は、平面視で前記ラビング処理におけるラビング方向とは交差する少なくとも２つの辺を有しており、前記２つの辺のそれぞれにおける前記傾斜面は、前記一方の基板に対する傾斜角度が互いに異なっていることを特徴とする液晶装置。

適用例１の液晶装置は、一対の基板と、液晶と、位相差膜と、配向膜とを有している。一対の基板は、互いに対向している。液晶は、一対の基板間に介在している。位相差膜は、一対の基板のうちの一方の基板と液晶との間に介在している。配向膜は、位相差膜及び液晶の間に介在している。配向膜には、ラビング処理が施されている。位相差膜の縁部には、一方の基板に対して傾斜した傾斜面が設けられている。傾斜面は、配向膜によって覆われている。位相差膜は、平面視でラビング処理におけるラビング方向とは交差する少なくとも２つの辺を有している。この液晶装置では、位相差膜の２つの辺のそれぞれにおける傾斜面は、一方の基板に対する傾斜角度が互いに異なっている。
この液晶装置では、傾斜面が配向膜によって覆われているので、縁部の肩部において液晶の配向状態を規制しやすくすることができる。この結果、表示品位を向上させやすくすることができる。

この液晶装置では、ラビング処理において、２つの辺に対応する２つの傾斜面のうちの一方は、ラビング布によって一方の基板側から液晶側に向かって擦られる。２つの傾斜面のうちの他方は、ラビング布によって液晶側から一方の基板側に向かって擦られる。つまり、一方の傾斜面は、ラビング布によって撫で上げられ、他方の傾斜面は、ラビング布によって撫で下ろされる。

ここで、ラビング布によって撫で下ろされる他方の傾斜面には、ラビング布によって撫で上げられる一方の傾斜面よりも、ラビングされにくい部位であるラビングの陰が発生しやすい。ラビングの陰は、傾斜面の傾斜角度が大きくなるほど、すなわち傾斜がきつくなるほど発生しやすくなる。これに対し、ラビングの陰は、傾斜面の傾斜角度が小さくなるほど、すなわち傾斜が緩やかになるほど発生しにくくなる。しかしながら、この場合、位相差膜における傾斜面の占める割合が多くなってしまう。

この液晶装置では、２つの辺のそれぞれにおける傾斜面は、一方の基板に対する傾斜角度が互いに異なっている。このため、ラビングの陰が発生しやすい他方の傾斜面の傾斜角度を、一方の傾斜面の傾斜角度よりも小さく設定することで、ラビングの陰の発生を軽減することができるとともに、位相差膜における傾斜面の占める割合が多くなってしまうことを避けやすくすることができる。

［適用例２］上記の液晶装置であって、前記一対の基板間に設けられ、平面視で前記液晶を囲むシール材を有しており、前記位相差膜は、平面視で前記シール材に囲まれていることを特徴とする液晶装置。

適用例２の液晶装置は、一対の基板間に設けられたシール材を有している。シール材は、平面視で液晶を囲んでいる。この液晶装置では、位相差膜は、平面視でシール材に囲まれている。このため、位相差膜が平面視でシール材の外側に及んでいる場合に比較して、位相差膜及びシール材が相互に影響し合うことを避けやすくすることができる。これにより、位相差膜及びシール材のそれぞれにおける化学的な安定性を高めやすくすることができる。この結果、液晶装置の信頼性を向上させやすくすることができる。

［適用例３］上記の液晶装置であって、画像が表示され得る表示領域を有しており、前記傾斜面は、平面視で前記表示領域の外側に設けられていることを特徴とする液晶装置。

適用例３の液晶装置は、画像が表示され得る表示領域を有している。この液晶装置では、傾斜面は、平面視で表示領域の外側に設けられている。
ここで、傾斜面では、位相差膜の厚みが薄くなっているので、傾斜面に入射された光に付与される位相差が不足する。このため、傾斜面では、光の変調が達成されにくい。
この液晶装置では、傾斜面が表示領域の外側に設けられているので、表示領域内で光の変調を達成しやすい。これにより、表示品位を一層向上させやすくすることができる。

［適用例４］上記の液晶装置であって、前記縁部の肩部は、平面視で前記表示領域の内側に位置していることを特徴とする液晶装置。

適用例４では、縁部の肩部は、平面視で表示領域の内側に位置している。このため、同等の大きさを有する表示領域において肩部が表示領域の外側に位置している場合に比較して、液晶装置の小型化を図りやすくすることができる。

［適用例５］上記の液晶装置であって、前記位相差膜は、液晶化合物を含む材料で構成されていることを特徴とする液晶装置。

適用例５では、位相差膜が液晶化合物を含む材料で構成されているので、液晶化合物が光を屈折させる性質を利用することにより、位相差部位で光に位相差を付与することができる。

［適用例６］上記の液晶装置であって、複数の画素を有しており、各前記画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されており、前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有しており、前記位相差部位が前記反射領域に対応して設けられており、前記等方部位が前記透過領域に対応して設けられていることを特徴とする液晶装置。

適用例６の液晶装置は、複数の画素を有している。各画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されている。位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有している。そして、この液晶装置では、位相差部位が反射領域に対応して設けられており、等方部位が透過領域に対応して設けられている。このため、入射される光の変調状態を、反射領域と透過領域とで異ならせることができる。これにより、反射表示と透過表示とを実現することができる。

［適用例７］上記の液晶装置であって、前記２つの辺に対応する２つの前記傾斜面のうちの一方の前記傾斜面は、前記傾斜角度が４５度以下であり、前記２つの傾斜面のうちの他方の前記傾斜面は、前記傾斜角度が４５度を超え、且つ６０度以下であることを特徴とする液晶装置。

適用例７では、２つの傾斜面のうちの一方の傾斜面は、傾斜角度が４５度以下であり、他方の傾斜面は、傾斜角度が４５度を超え、且つ６０度以下である。これにより、ラビングの陰の発生を軽減することができるとともに、位相差膜における傾斜面の占める割合が多くなってしまうことを避けやすくすることができる。

実施形態について、液晶装置の１つである表示装置を例に、図面を参照しながら説明する。
第１実施形態における表示装置１は、図１に示すように、表示パネル３と、照明装置５とを有している。

ここで、表示パネル３には、複数の画素７が設定されている。複数の画素７は、表示領域８内で、図中のＸ方向及びＹ方向に配列しており、Ｘ方向を行方向とし、Ｙ方向を列方向とするマトリクスＭを構成している。表示装置１は、照明装置５から表示パネル３に入射された光を、表示パネル３に設定されている複数の画素７から選択的に表示面９を介して表示パネル３の外に射出することで、表示面９に画像を表示することができる。なお、表示領域８とは、画像が表示され得る領域である。図１では、構成をわかりやすく示すため、画素７が誇張され、且つ画素７の個数が減じられている。

表示パネル３は、図１中のＡ−Ａ線における断面図である図２に示すように、液晶パネル１０と、偏光板１３ａ及び１３ｂとを有している。
液晶パネル１０は、駆動素子基板１５と、対向基板１７と、液晶１９と、シール材２１とを有している。
駆動素子基板１５には、表示面９側すなわち液晶１９側に、複数の画素７のそれぞれに対応して、後述するスイッチング素子などが設けられている。

対向基板１７は、駆動素子基板１５よりも表示面９側で駆動素子基板１５に対向し、且つ駆動素子基板１５との間に隙間を有した状態で設けられている。対向基板１７には、表示パネル３における表示面９の裏面に相当する面である底面２３側すなわち液晶１９側に、後述する位相差膜などが設けられている。

液晶１９は、駆動素子基板１５及び対向基板１７の間に介在しており、表示パネル３の周縁よりも内側で表示領域８を囲むシール材２１によって、駆動素子基板１５及び対向基板１７の間に封止されている。なお、本実施形態では、液晶１９の駆動方式として、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）型の駆動方式が採用されている。

偏光板１３ａは、駆動素子基板１５よりも底面２３側に設けられている。偏光板１３ｂは、対向基板１７よりも表示面９側に設けられている。表示装置１では、偏光板１３ａ及び１３ｂは、偏光板１３ａにおける光の透過軸の方向と、偏光板１３ｂにおける光の透過軸の方向とが、互いに直交する方向に設定されている。偏光板１３ａ及び１３ｂは、それぞれ、透過軸の方向に偏光軸を有する光を透過させることができる。

なお、偏光板１３ａと駆動素子基板１５との間や、偏光板１３ｂと対向基板１７との間に、光学補償フィルムを設けた構成も採用され得る。光学補償フィルムを設けることで、液晶１９を表示面９の法線方向から見たときや、法線方向から傾斜した方向から見たときなどの液晶１９の位相差を補償することができる。これにより、光漏れを低減することができ、コントラストの向上が図られる。

光学補償フィルムとしては、屈折率異方性が負のディスコティック液晶分子等をハイブリッド配向させた負の一軸性媒体（例えば、富士フィルム製のＷＶフィルム）などが採用され得る。また、屈折率異方性が正のネマチック液晶分子等をハイブリッド配向させた正の一軸性媒体（例えば、日本石油製のＮＨフィルム）なども採用され得る。さらに、負の一軸性媒体と正の一軸性媒体とを組み合わせた構成も採用され得る。その他、各方向の屈折率がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚとなる二軸性媒体や、負のＣ−Ｐｌａｔｅ等も採用され得る。

照明装置５は、表示パネル３の底面２３側に設けられており、導光板３１と、光源３３とを有している。導光板３１は、図２で見て表示パネル３の下側に設けられており、表示パネル３の底面２３に対向する光射出面３５ｂを有している。
光源３３は、例えば、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）や冷陰極管などが採用され、図２で見て導光板３１の側面３５ａの右方に設けられている。

光源３３からの光は、導光板３１の側面３５ａに入射される。導光板３１に入射された光は、導光板３１の中で反射を繰り返しながら光射出面３５ｂから射出される。光射出面３５ｂから射出された光は、表示パネル３の底面２３から、偏光板１３ａを介して表示パネル３に入射される。なお、導光板３１には、必要に応じて、光射出面３５ｂに拡散板が設けられ、底面３５ｃに反射板が設けられる。

表示パネル３に設定されている複数の画素７は、それぞれ、表示面９から射出する光の色が、図３に示すように、赤系（Ｒ）、緑系（Ｇ）及び青系（Ｂ）のうちの１つに設定されている。つまり、マトリクスＭを構成する複数の画素７は、Ｒの光を射出する画素７ｒと、Ｇの光を射出する画素７ｇと、Ｂの光を射出する画素７ｂとを含んでいる。
なお、以下においては、画素７という表記と、画素７ｒ、７ｇ及び７ｂという表記とが、適宜、使いわけられる。

ここで、Ｒの色は、純粋な赤の色相に限定されず、橙等を含む。Ｇの色は、純粋な緑の色相に限定されず、青緑や黄緑を含む。Ｂの色は、純粋な青の色相に限定されず、青紫や青緑等を含む。他の観点から、Ｒの色を呈する光は、光の波長のピークが、可視光領域で５７０ｎｍ以上の範囲にある光であると定義され得る。また、Ｇの色を呈する光は、光の波長のピークが５００ｎｍ〜５６５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。Ｂの色を呈する光は、光の波長のピークが４１５ｎｍ〜４９５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。

マトリクスＭでは、Ｙ方向に沿って並ぶ複数の画素７が、１つの画素列４１を構成している。１つの画素列４１内の各画素７は、光の色がＲ、Ｇ及びＢのうちの１つに設定されている。つまり、マトリクスＭは、複数の画素７ｒがＹ方向に配列した画素列４１ｒと、複数の画素７ｇがＹ方向に配列した画素列４１ｇと、複数の画素７ｂがＹ方向に配列した画素列４１ｂとを有している。そして、マトリクスＭでは、画素列４１ｒ、画素列４１ｇ及び画素列４１ｂが、この順でＸ方向に沿って反復して並んでいる。
なお、以下においては、画素列４１という表記と、画素列４１ｒ、画素列４１ｇ及び画素列４１ｂという表記とが、適宜、使いわけられる。

各画素７は、図３中のＣ部の拡大図である図４に示すように、透過領域Ｔと、反射領域Ｈとを有している。なお、図４では、構成をわかりやすく示すため、反射領域Ｈにハッチングが施されている。
透過領域Ｔでは、図２に示す照明装置５から底面２３を介して液晶１９に入射された光を表示面９側に透過させることによって、透過表示が行われる。

反射領域Ｈでは、表示面９を介して液晶１９に入射された外光を、後述する反射膜で表示面９側に反射させて、その反射光を表示面９側に射出することによって、反射表示が行われる。なお、外光とは、表示パネル３の表示面９から入射されるあらゆる光である。外光には、例えば、屋内外の照明光や、太陽光などが含まれる。

ここで、液晶パネル１０の駆動素子基板１５及び対向基板１７のそれぞれの構成について、詳細を説明する。
駆動素子基板１５は、図４中のＤ−Ｄ線における断面図である図５に示すように、第１基板５１を有している。第１基板５１は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面９側に向けられた第１面５３ａと、底面２３側に向けられた第２面５３ｂとを有している。

第１基板５１の第１面５３ａには、ゲート絶縁膜５７が設けられている。ゲート絶縁膜５７の表示面９側には、絶縁膜５９が設けられている。絶縁膜５９の表示面９側には、配向膜６１が設けられている。
また、駆動素子基板１５には、各画素７に対応して、スイッチング素子の１つであるＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子６３と、反射膜６５と、共通電極６７と、画素電極６９とが、第１基板５１の第１面５３ａ側に設けられている。

ＴＦＴ素子６３は、ゲート電極７１と、半導体層７３と、ソース電極７５と、ドレイン電極７７とを有している。ゲート電極７１は、第１基板５１の第１面５３ａに設けられており、ゲート絶縁膜５７によって表示面９側から覆われている。なお、ゲート電極７１の材料としては、例えば、モリブデン、タングステン、クロムなどの金属や、これらを含む合金などが採用され得る。また、ゲート絶縁膜５７の材料としては、例えば、酸化シリコンや窒化シリコンなどの光透過性を有する材料が採用され得る。
半導体層７３は、例えばアモルファスシリコンで構成されており、ゲート絶縁膜５７を挟んでゲート電極７１に対向する位置に設けられている。

ソース電極７５は、ゲート絶縁膜５７の表示面９側に設けられており、一部が半導体層７３に重なっている。ドレイン電極７７は、ゲート絶縁膜５７の表示面９側に設けられており、一部が半導体層７３に重なっている。上記の構成を有するＴＦＴ素子６３は、半導体層７３がゲート電極７１と、ソース電極７５及びドレイン電極７７との間に位置する所謂ボトムゲート型である。
そして、ＴＦＴ素子６３は、絶縁膜５９によって表示面９側から覆われている。なお、絶縁膜５９の材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、アクリル系の樹脂などの光透過性を有する材料が採用され得る。

反射膜６５は、第１基板５１の第１面５３ａに設けられており、平面視で反射領域Ｈに重なっている。反射膜６５の材料としては、例えばアルミニウムなどの光反射性を有する材料が採用され得る。
共通電極６７は、第１基板５１の第１面５３ａ側に設けられており、平面視で透過領域Ｔ及び反射領域Ｈに重なっている。共通電極６７は、反射領域Ｈにおいて、反射膜６５の表示面９側に重なっている。共通電極６７の材料としては、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの光透過性を有する材料が採用され得る。
これらの反射膜６５及び共通電極６７は、ゲート絶縁膜５７によって表示面９側から覆われている。

画素電極６９は、絶縁膜５９の表示面９側に設けられている。画素電極６９は、絶縁膜５９に設けられたコンタクトホール７９を介して、透過領域Ｔ内でドレイン電極７７につながっている。画素電極６９の材料としては、例えばＩＴＯなどの光透過性を有する材料が採用され得る。
配向膜６１は、例えばポリイミドなどの光透過性を有する材料で構成されており、絶縁膜５９及び画素電極６９を表示面９側から覆っている。なお、配向膜６１には、配向処理が施されている。

対向基板１７は、第２基板８１を有している。第２基板８１は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面９側に向けられた外向面８３ａと、底面２３側に向けられた対向面８３ｂとを有している。
第２基板８１の対向面８３ｂには、各画素７を区画する光吸収層８５が領域８６にわたって設けられている。光吸収層８５は、例えば、カーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高い材料を含有する樹脂などで構成されており、平面視で格子状に設けられている。表示装置１では、各画素７は、光吸収層８５によって囲まれた領域であると定義され得る。

また、第２基板８１の対向面８３ｂには、光吸収層８５によって囲まれた各領域、すなわち各画素７の領域を底面２３側から覆うカラーフィルタ８７が設けられている。
ここで、カラーフィルタ８７は、入射された光のうち所定の波長域の光を透過させることができる。カラーフィルタ８７は、画素７ｒ、画素７ｇ及び画素７ｂごとに異なる色に着色された樹脂などで構成されている。画素７ｒに対応するカラーフィルタ８７は、Ｒの光を透過させることができる。画素７ｇに対応するカラーフィルタ８７はＧの光を透過させ、画素７ｂに対応するカラーフィルタ８７はＢの光を透過させることができる。なお、以下において、各カラーフィルタ８７に対してＲ、Ｇ及びＢが識別される場合に、カラーフィルタ８７ｒ、８７ｇ及び８７ｂという表記が用いられる。

光吸収層８５及びカラーフィルタ８７の底面２３側には、オーバーコート層９１が設けられている。オーバーコート層９１は、光透過性を有する樹脂などで構成されており、光吸収層８５及びカラーフィルタ８７を底面２３側から覆っている。
オーバーコート層９１の底面２３側には、第１配向膜９３が設けられている。第１配向膜９３の底面２３側には、位相差膜９５が設けられている。位相差膜９５の底面２３側には、第２配向膜９７が設けられている。また、位相差膜９５と第２配向膜９７との間には、平面視で複数の画素７の各反射領域Ｈに重なる領域にギャップ調整膜９９が設けられている。

第１配向膜９３は、例えばポリイミドなどの光透過性を有する材料で構成されており、オーバーコート層９１を底面２３側から覆っている。第１配向膜９３には、底面２３側から配向処理が施されている。
位相差膜９５は、例えば液晶化合物を含む材料で構成されており、第１配向膜９３の底面２３側に設けられている。
ギャップ調整膜９９は、例えばアクリル系やエポキシ系の樹脂などの光透過性を有する材料で構成されており、位相差膜９５の底面２３側に設けられている。
各画素７において、位相差膜９５及びギャップ調整膜９９は、第２配向膜９７によって底面２３側から覆われている。

駆動素子基板１５及び対向基板１７の間に介在する液晶１９は、配向膜６１と第２配向膜９７との間に介在している。液晶パネル１０では、各画素７において、透過領域Ｔと反射領域Ｈとで液晶１９の厚みが異なる所謂マルチギャップ構造が採用されている。
透過領域Ｔにおいて、液晶１９は、Ｌ１なる厚みを有している。これに対し、反射領域Ｈでは、液晶１９の厚みＬ２が、Ｌ１＞Ｌ２となるように、ギャップ調整膜９９の厚みが設定されている。なお、液晶パネル１０では、Ｌ１は、Ｌ２の約２倍に設定されている。

ここで、位相差膜９５は、図５中のＥ部を示す図である図６に示すように、画素７ごとに位相差部位１０１と等方部位１０３とを有している。
位相差部位１０１は、平面視で反射領域Ｈに重なっている。位相差部位１０１は、この位相差部位１０１に入射された光に、１／２波長の位相差を与える。
等方部位１０３は、平面視で透過領域Ｔに重なっている。等方部位１０３は、光学的に等方性を示す部位である。

位相差部位１０１は、図６中のＦ−Ｆ線における断面図である図７に示すように、Ｘ方向に並ぶ複数の画素７間にわたって一連している。つまり、位相差部位１０１は、Ｘ方向に並ぶ複数の反射領域Ｈに、図３に示すマトリクスＭの画素行４２単位で重なっている。
同様に、等方部位１０３も、Ｘ方向に並ぶ複数の画素７間にわたって一連しており、Ｘ方向に並ぶ複数の透過領域Ｔに画素行４２単位で重なっている。

液晶１９を囲むシール材２１は、図２中のＫ部の拡大図である図８に示すように、表示領域８の外側に設けられており、表示領域８の外側で液晶１９を表示領域８ごと囲んでいる。なお、液晶パネル１０では、シール材２１が設けられている領域は、平面図である図９に示すように、シール領域２１ａと呼ばれる。この図９では、構成をわかりやすく示すため、表示領域８及びシール領域２１ａのそれぞれにハッチングが施されている。

位相差膜９５は、Ｘ方向とは交差する第１辺１０５ａ及び第２辺１０５ｂ、並びにＹ方向とは交差する第３辺１０５ｃ及び第４辺１０５ｄを有している。第１辺１０５ａ及び第２辺１０５ｂ、並びに第３辺１０５ｃ及び第４辺１０５ｄは、それぞれ、表示領域８及びシール領域２１ａの間に位置している。第１辺１０５ａと第２辺１０５ｂとは、Ｘ方向に表示領域８を挟んで互いに対峙している。第３辺１０５ｃと第４辺１０５ｄとは、Ｙ方向に表示領域８を挟んで互いに対峙している。
シール材２１は、図８に示すように、第１配向膜９３と配向膜６１との間に設けられており、これらの第１配向膜９３及び配向膜６１によって挟持されている。

対向基板１７において、位相差膜９５は、図８に示すように、表示領域８の内側から表示領域８の外側に及んでいる。しかしながら、第１〜第４辺１０５ａ、１０５ｂ、１０５ｃ及び１０５ｄ（図９）が表示領域８及びシール領域２１ａの間に位置しているので、位相差膜９５の第１辺１０５ａに対応する縁部９６ａは、平面視でシール材２１に囲まれた領域内にとどめられている。つまり、縁部９６ａは、表示領域８とシール領域２１ａとの間の領域１０６内に位置している。
また、第２配向膜９７は、表示領域８の内側から表示領域８の外側に及んでいるが、領域１０６内にとどめられている。

また、位相差膜９５は、第２辺１０５ｂに対応する縁部９６ｂが、図２中のＬ部の拡大図である図１０に示すように、領域１０６内に位置している。
第２配向膜９７は、位相差膜９５の縁部９６ｂ側においても、表示領域８の内側から表示領域８の外側に及んでいるが、領域１０６内にとどめられている。
なお、図８及び図１０は、それぞれ、図５中のＫ'−Ｋ'線における断面図に相当している。従って、図８及び図１０のそれぞれにおいて、画素７は透過領域Ｔに相当し、位相差膜９５は等方部位１０３に相当している。

縁部９６ａは、図８中のＮ部の拡大図である図１１に示すように、第２基板８１の対向面８３ｂに対して傾斜角度θａで傾斜した傾斜面１０７ａを有している。傾斜面１０７ａは、縁部９６ａの肩部１０８ａから第１配向膜９３にかけて設けられている。傾斜面１０７ａは、シール材２１に近くなるほど位相差膜９５の厚みが減少する傾向を有している。なお、図１１中の領域１０９ａは、平面視で傾斜面１０７ａと対向面８３ｂとが重なる領域であり、傾斜領域１０９ａと呼ばれる。

縁部９６ｂは、図１０中のＰ部の拡大図である図１２に示すように、第２基板８１の対向面８３ｂに対して傾斜角度θｂで傾斜した傾斜面１０７ｂを有している。傾斜面１０７ｂは、縁部９６ｂの肩部１０８ｂから第１配向膜９３にかけて設けられている。傾斜面１０７ｂは、シール材２１に近くなるほど位相差膜９５の厚みが減少する傾向を有している。なお、図１２中の領域１０９ｂは、平面視で傾斜面１０７ｂと対向面８３ｂとが重なる領域であり、傾斜領域１０９ｂと呼ばれる。

また、肩部１０８ａ及び肩部１０８ｂは、それぞれ、位相差膜９５が第１配向膜９３に向かって傾斜しはじめる部位である。
液晶パネル１０では、傾斜角度θｂが傾斜角度θａよりも小さく設定されている。つまり、傾斜面１０７ｂは、傾斜面１０７ａよりも傾斜が緩やかになっている。このため、傾斜領域１０９ｂは、傾斜領域１０９ａよりも広くなっている。
なお、傾斜角度θａは、４５度を超え６０度以下の範囲に設定され、傾斜角度θｂは、４５以下に設定される。本実施形態では、傾斜角度θａの設定値として約６０度の値が採用されており、傾斜角度θｂの設定値として約４５度の値が採用されている。

ここで、各画素７におけるＴＦＴ素子６３、共通電極６７及び画素電極６９の配置について説明する。
画素電極６９は、平面図である図１３に示すように、画素７の領域にわたって設けられており、複数のスリット部１１１を有している。図１３では、構成をわかりやすく示すため、画素電極６９にハッチングが施されている。
複数のスリット部１１１は、各スリット部１１１がＹ方向に交差する方向に沿って延びており、Ｙ方向に沿って所定間隔で並んでいる。なお、各スリット部１１１が延びる方向は、Ｘ方向から傾斜している。

共通電極６７は、画素電極６９を覆う領域に設けられている。Ｘ方向に隣り合う画素７間において、共通電極６７同士は、共通線１１３によって接続されている。
各画素７において、共通電極６７及び画素電極６９は、それぞれの周縁部が領域８６に重なっている。
なお、図５に示す反射膜６５は、図１３に示す境界部１１５よりも反射領域Ｈ側で、共通電極６７に重なっている。従って、反射領域Ｈは、各画素７と反射膜６５とが、平面視で重なる領域であると定義され得る。また、透過領域Ｔは、各画素７から反射領域Ｈを除いた領域と、共通電極６７とが、平面視で重なる領域であると定義され得る。

ＴＦＴ素子６３は、図１３で見て透過領域Ｔの左側の領域８６内に設けられており、ドレイン電極７７が領域８６内から透過領域Ｔ内に及んでいる。Ｘ方向に隣り合う画素７間において、ゲート電極７１同士は、ゲート線１１７によって接続されている。また、Ｙ方向に隣り合う画素７間において、ソース電極７５同士は、データ線１１９によって接続されている。
なお、図５におけるＴＦＴ素子６３、反射膜６５、共通電極６７及び画素電極６９の断面は、図１３中のＪ−Ｊ線における断面に相当している。

共通電極６７と画素電極６９との間に電圧を印加すると、共通電極６７と画素電極６９との間に電界が発生する。液晶パネル１０では、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態からＯＮ状態に変化すると、共通電極６７と画素電極６９との間に電界が発生する。この電界によって液晶１９の配向状態を変化させることができる。
表示装置１では、照明装置５から表示パネル３に光を照射した状態で、液晶１９の配向状態を画素７ごとに変化させることにより、表示が制御される。液晶１９の配向状態は、ＴＦＴ素子６３のＯＦＦ状態及びＯＮ状態を切り替えることによって変化し得る。

配向膜６１及び第２配向膜９７のそれぞれには、配向処理が施されている。配向処理が施された配向膜６１及び第２配向膜９７によって、液晶１９の初期的な配向状態が規制される。
図１４（ａ）は、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態のときの透過領域Ｔにおける偏光状態を示す図であり、図１４（ｂ）は、ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態のときの透過領域Ｔにおける偏光状態を示す図である。
表示装置１では、液晶１９の初期的な配向方向１２１は、図１４（ａ）に示すように、偏光板１３ａの透過軸１２３ａに沿った方向に設定されている。
ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態に切り替わると、液晶１９の配向方向１２１は、図１４（ｂ）に示すように、平面視で偏光板１３ａの透過軸１２３ａに対してこの図で見て反時計方向に４５度の傾きを有する方向に変化する。

図１５（ａ）は、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態のときの反射領域Ｈにおける偏光状態を示す図であり、図１５（ｂ）は、ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態のときの反射領域Ｈにおける偏光状態を示す図である。
反射領域Ｈにおける液晶１９の配向方向１２１は、図１５（ａ）及び図１５（ｂ）のそれぞれに示すように、透過領域Ｔと同様である。

透過領域Ｔでは、底面２３側から偏光板１３ａを経て入射された入射光は、図１４（ａ）及び図１４（ｂ）に示すように、偏光板１３ａの透過軸１２３ａに沿った偏光軸を有する直線偏光１２５として液晶１９に入射される。
液晶１９に入射された直線偏光１２５は、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態のときに、図１４（ａ）に示すように、偏光軸が液晶１９の配向方向１２１に沿っている。このため、液晶１９に入射された直線偏光１２５は、偏光状態が維持されたまま直線偏光１２５として位相差膜９５の等方部位１０３に入射される。

等方部位１０３に入射された直線偏光１２５は、偏光状態が維持されたまま等方部位１０３を透過して、直線偏光１２５として偏光板１３ｂに入射される。
偏光板１３ｂに入射された直線偏光１２５は、偏光軸が偏光板１３ｂの透過軸１２３ｂに対して直交しているため、偏光板１３ｂによって吸収される。

他方で、ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態のときに、直線偏光１２５は、図１４（ｂ）に示すように、偏光軸が液晶１９の配向方向１２１とは交差している。このため、液晶１９に入射された直線偏光１２５は、液晶１９によって１／２波長の位相差が与えられ、直線偏光１２５の偏光軸に直交する偏光軸を有する直線偏光１２７として位相差膜９５の等方部位１０３に入射される。

等方部位１０３に入射された直線偏光１２７は、偏光状態が維持されたまま等方部位１０３を透過して、直線偏光１２７として偏光板１３ｂに入射される。偏光板１３ｂに入射された直線偏光１２７は、偏光軸が偏光板１３ｂの透過軸１２３ｂの方向に沿っているため、偏光板１３ｂを透過する。
このように、透過領域Ｔでは、ＴＦＴ素子６３のＯＮ状態及びＯＦＦ状態の切り替えにより、透過表示が制御される。

反射領域Ｈでは、表示面９側から偏光板１３ｂを経て入射された入射光は、図１５（ａ）及び図１５（ｂ）に示すように、偏光板１３ｂの透過軸１２３ｂに沿った偏光軸を有する直線偏光１２９として位相差膜９５の位相差部位１０１に入射される。
ここで、位相差部位１０１の遅相軸１３１は、平面視でＸ方向に対してこれらの図で見て反時計方向に６７．５度の傾きを有する方向に設定されている。
従って、位相差部位１０１に入射された直線偏光１２９は、１／２波長の位相差が与えられ、直線偏光１３３として液晶１９に入射される。直線偏光１３３の偏光軸は、平面視でＸ方向に対して図１５（ａ）及び図１５（ｂ）で見て反時計方向に４５度の傾きを有する方向に沿っている。

液晶１９に入射された直線偏光１３３は、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態のときに、図１５（ａ）に示すように、偏光軸が液晶１９の配向方向１２１とは交差している。このため、液晶１９に入射された直線偏光１３３は、１／４波長の位相差が与えられ、この図で見て左回りの円偏光１３５として反射膜６５に向けて射出される。
円偏光１３５は、反射膜６５で反射され、この図で見て右回りすなわち円偏光１３５とは逆回転の円偏光１３７として液晶１９に入射される。
液晶１９に入射された円偏光１３７は、１／４波長の位相差が与えられ、平面視でＸ方向に対してこの図で見て反時計方向に１３５度の傾きを有する方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１３９として位相差部位１０１に入射される。

位相差部位１０１に入射された直線偏光１３９は、１／２波長の位相差が与えられ、平面視でＸ方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１４１として偏光板１３ｂに入射される。
偏光板１３ｂに入射された直線偏光１４１は、偏光軸が偏光板１３ｂの透過軸１２３ｂに対して直交しているため、偏光板１３ｂによって吸収される。

他方で、ＴＦＴ素子６３がＯＮ状態のときに、液晶１９に入射された直線偏光１３３は、図１５（ｂ）に示すように、偏光軸が液晶１９の配向方向１２１に沿っているため、偏光状態が維持されたまま直線偏光１３３として反射膜６５に向けて射出される。
反射膜６５に向けて射出された直線偏光１３３は、偏光状態が維持されたまま反射膜６５で反射され、液晶１９に入射される。

反射膜６５から液晶１９に入射された直線偏光１３３は、偏光状態が維持されたまま位相差部位１０１に入射される。位相差部位１０１に入射された直線偏光１３３は、１／２波長の位相差が与えられ、平面視でＹ方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１４３として偏光板１３ｂに入射される。偏光板１３ｂに入射された直線偏光１４３は、偏光軸が偏光板１３ｂの透過軸１２３ｂの方向に沿っているため、偏光板１３ｂを透過する。
このように、反射領域Ｈにおいても、透過領域Ｔと同様にＴＦＴ素子６３のＯＮ状態及びＯＦＦ状態の切り替えにより、反射表示が制御される。

ここで、表示装置１の製造方法について説明する。
表示装置１の製造方法は、基板の製造工程と、液晶パネル１０の製造工程と、表示パネル３の製造工程と、表示装置１の製造工程とに大別される。
まず、基板の製造工程について説明する。
基板の製造工程は、駆動素子基板１５の製造工程と、対向基板１７の製造工程とに大別される。

駆動素子基板１５の製造工程では、図１６（ａ）に示すように、まず、第１基板５１の第１面５３ａに、ゲート電極７１と、反射膜６５とを形成する。ゲート電極７１や反射膜６５は、例えばスパッタリング技術を活用して第１面５３ａに金属膜を形成してから、金属膜を、例えば、フォトリソグラフィ技術やエッチング技術を活用してパターニングすることによって形成され得る。
次いで、第１基板５１の第１面５３ａ側に、スパッタリング技術、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術などを活用して、共通電極６７を形成する。

次いで、ゲート電極７１及び共通電極６７を第１面５３ａ側から覆うゲート絶縁膜５７を形成する。ゲート絶縁膜５７は、例えば、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）技術、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition）技術、蒸着技術などを活用することによって、窒化シリコンや酸化シリコンなどで形成され得る。

次いで、図１６（ｂ）に示すように、ゲート絶縁膜５７上に、半導体層７３を形成してから、半導体層７３の一部に重なるソース電極７５とドレイン電極７７とを形成する。これにより、ＴＦＴ素子６３が形成される。
なお、ソース電極７５及びドレイン電極７７は、例えばスパッタリング技術を活用してゲート絶縁膜５７上に金属膜を形成してから、この金属膜を、例えば、フォトリソグラフィ技術やエッチング技術を活用してパターニングすることによって形成され得る。

次いで、図１６（ｃ）に示すように、ＴＦＴ素子６３及びゲート絶縁膜５７を第１面５３ａ側から覆う絶縁膜５９を形成する。絶縁膜５９は、例えば、ＣＶＤ技術、ＰＶＤ技術、蒸着技術などを活用することによって、窒化シリコンや酸化シリコンなどで形成され得る。また、絶縁膜５９は、例えば、スピンコート技術を活用することによって、アクリル系の樹脂などによっても形成され得る。
次いで、絶縁膜５９に、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術などを活用して、ＴＦＴ素子６３のドレイン電極７７に至るコンタクトホール７９を形成する。

次いで、絶縁膜５９上に、スパッタリング技術などを活用して、ＩＴＯの膜を形成する。
次いで、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術などを活用して、ＩＴＯの膜をパターニングして、図１６（ｄ）に示すように、画素電極６９を形成する。

次いで、画素電極６９及び絶縁膜５９上に、ポリイミドなどの樹脂で画素電極６９を覆う樹脂膜を形成する。樹脂膜は、例えば、スピンコート技術を活用することにより形成され得る。
次いで、この樹脂膜にラビング処理などの配向処理を施すことにより、図５に示す配向膜６１が形成される。この樹脂膜にラビング処理を施すときに、ラビング処理の方向はＸ方向に沿った方向に設定される。そして、ラビング処理の向きは、図８中のＤ１の向きに設定される。
以上により、駆動素子基板１５が製造され得る。

対向基板１７の製造工程では、図１７（ａ）に示すように、まず、第２基板８１の対向面８３ｂに、光吸収層８５を、平面視で格子状に形成する。光吸収層８５は、カーボンブラックやクロムなどを含有する樹脂膜を形成してから、この樹脂膜を、例えば、フォトリソグラフィ技術を活用してパターニングすることによって形成され得る。

次いで、光吸収層８５によって囲まれる各画素７の領域内に、カラーフィルタ８７を形成する。カラーフィルタ８７は、Ｒ、Ｇ及びＢの各光に対応する着色剤が含有された樹脂を、各画素７の領域内に配置することによって形成され得る。なお、各画素７の領域内への樹脂の配置は、例えば、インクジェット技術や蒸着技術を活用することにより行われ得る。
次いで、光吸収層８５及びカラーフィルタ８７上にオーバーコート層９１を形成する。オーバーコート層９１は、例えばスピンコート技術を活用して、光透過性を有する樹脂で形成され得る。

次いで、図１７（ｂ）に示すように、オーバーコート層９１上に第１配向膜９３を形成する。第１配向膜９３の形成では、例えばスピンコート技術を活用して、ポリイミドなどの樹脂でオーバーコート層９１上に樹脂膜を形成してから、この樹脂膜にラビング処理などの配向処理を施す。これにより、第１配向膜９３が形成され得る。

次いで、図１７（ｃ）に示すように、ネガ型の感光性を有する液晶化合物が含有された液状体９５ａで、第１配向膜９３上に液状体膜９５ｂを形成する。液状体膜９５ｂは、例えばスピンコート技術を活用することにより形成され得る。
なお、液状体９５ａとしては、液晶化合物と溶媒とを混合したものに光重合開始剤を添加した構成が採用され得る。
液晶化合物としては、例えばＢＡＳＦ社製のＬＣ２４２などが採用され得る。溶媒としては、例えばシクロペンタノンなどが採用され得る。光重合開始剤としては、例えばチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア９０７などが採用され得る。

ここで、液状体膜９５ｂに含まれる液晶化合物は、配向処理が施された第１配向膜９３によって分子の配向状態が規制される。これにより、液状体膜９５ｂには、屈折率に異方性が発現する。
なお、屈折率に異方性が発現する配向状態は、位相差配向状態と呼ばれる。

液状体膜９５ｂの形成に次いで、図１７（ｄ）に示すように、フォトマスク１５１を介して、液状体膜９５ｂを紫外光１５３で露光する。ここで、フォトマスク１５１には、反射領域Ｈに重なる領域に開口部１５５が設けられている。液状体膜９５ｂには、開口部１５５を介して紫外光１５３が照射される。そして、液状体膜９５ｂのうちで露光された部位が硬化する。
これにより、液状体膜９５ｂに、図１８（ａ）に示す位相差部位１０１が形成される。

次いで、図１８（ａ）に示す液状体膜９５ｂを約１００℃に保つ。液状体膜９５ｂを約１００℃に保つと、液晶化合物の分子は、配向状態の規制が解かれやすい。これにより、液状体膜９５ｂは、光学的に等方性を示すようになる。なお、光学的に等方性を示す配向状態は、等方配向状態と呼ばれる。
位相差配向状態にある液状体膜９５ｂを約１００℃に保つことには、位相差配向状態を等方配向状態に転移させるという意味がある。

次いで、液状体膜９５ｂが等方配向状態のときに、図１８（ｂ）に示すように、液状体膜９５ｂを紫外光１５３で露光する。
このときの露光では、液状体膜９５ｂを、液状体膜９５ｂの平面図である図１９に示すように、第１領域１６１ａ及び第２領域１６１ｂのそれぞれごとに２回にわけて露光する。第１領域１６１ａと第２領域１６１ｂとを区分する境界線１６３は、Ｘ方向とは交差する方向に沿って仮想的に設定される。

第１領域１６１ａに対する露光では、図２０（ａ）に示すように、フォトマスク１６５を介して液状体膜９５ｂに紫外光１５３を照射する。フォトマスク１６５には、開口部１６６が設けられている。開口部１６６は、表示領域８と領域１０６の一部とに平面視で重なっている。領域１０６の他部、すなわち領域１０６とシール領域２１ａとの境界側の周縁は、フォトマスク１６５によって遮光される。
つまり、第１領域１６１ａに対する露光では、第２領域１６１ｂと、シール領域２１ａと、領域１０６の外側の周縁とをフォトマスク１６５で遮光した状態で、液状体膜９５ｂを露光する。

第２領域１６１ｂに対する露光では、図２０（ｂ）に示すように、フォトマスク１６７を介して液状体膜９５ｂに紫外光１５３を照射する。フォトマスク１６７には、開口部１６８が設けられている。開口部１６８は、表示領域８と領域１０６とに平面視で重なっている。領域１０６の外側の周縁、すなわち領域１０６とシール領域２１ａとの境界側の周縁は、フォトマスク１６７によって遮光される。
つまり、第２領域１６１ｂに対する露光では、第１領域１６１ａと、シール領域２１ａと、領域１０６の外側の周縁とをフォトマスク１６７で遮光した状態で、液状体膜９５ｂを露光する。

第１領域１６１ａ及び第２領域１６１ｂのそれぞれに対する露光では、露光の焦点をずらした状態（デフォーカス状態）で露光を行う。これは、フォトマスク１６５と液状体膜９５ｂとの間の間隔Ｆ１、及びフォトマスク１６７と液状体膜９５ｂとの間の間隔Ｆ２を、ぞれぞれ、焦点が合う適正な間隔よりも広げることによって実現され得る。
さらに、本実施形態では、間隔Ｆ２は、間隔Ｆ１よりも広く設定される。

ここで、間隔Ｆ１の設定で第１領域１６１ａを露光すると、開口部１６６内を通る紫外光１５３は、図２０（ａ）中のＱ部の拡大図である図２１に示すように、開口部１６６の縁部１６６ａで回折する。
縁部１６６ａで回折した回折光１５３ａは、液状体膜９５ｂの回折領域１６９ａに及ぶ。この回折領域１６９ａは、平面視でフォトマスク１６５の開口部１６６の外側に及んでいる。つまり、回折光１５３ａは、フォトマスク１６５が遮光している領域内に回り込む。これにより、傾斜面１０７ａ及び傾斜領域１０９ａ（図１１）間に挟まれる領域内の液状体９５ａを露光することができる。

また、間隔Ｆ２の設定で第２領域１６１ｂを露光すると、開口部１６８内を通る紫外光１５３は、図２０（ｂ）中のＳ部の拡大図である図２２に示すように、開口部１６８の縁部１６８ａで回折する。
縁部１６８ａで回折した回折光１５３ａは、液状体膜９５ｂの回折領域１６９ｂに及ぶ。この回折領域１６９ｂは、平面視でフォトマスク１６７の開口部１６８の外側に及んでいる。つまり、回折光１５３ａは、フォトマスク１６７が遮光している領域内に回り込む。これにより、傾斜面１０７ｂ及び傾斜領域１０９ｂ（図１２）間に挟まれる領域内の液状体９５ａを露光することができる。

第１領域１６１ａ及び第２領域１６１ｂに対する露光によって、液状体膜９５ｂが等方配向状態のままで硬化する。これにより、図６に示す等方部位１０３が形成される。
なお、第１領域１６１ａに対する露光と、第２領域１６１ｂに対する露光とは、いずれが先でも後でもかまわない。

液状体膜９５ｂの露光に次いで、液状体膜９５ｂに現像液で現像処理を施す。このとき、平面視で回折領域１６９ａ及び回折領域１６９ｂよりも外側の未露光の領域が現像液によって除去される。なお、現像液としては、例えばシクロペンタノンなどが採用され得る。

ここで、第１領域１６１ａ及び第２領域１６１ｂに対する露光において、回折領域１６９ａと回折領域１６９ｂとでは、間隔Ｆ２が間隔Ｆ１よりも広いので、回折領域１６９ｂの方が回折領域１６９ａよりも広い。このため、回折光１５３ａによって露光される領域は、第２領域１６１ｂの方が第１領域１６１ａよりも広い。これにより、傾斜領域１０９ａ（図１１）を傾斜領域１０９ｂ（図１２）よりも広くすることができる。
これにより、等方部位１０３及び位相差部位１０１（図６）、並びに縁部９６ａ（図８）及び縁部９６ｂ（図１０）を有する位相差膜９５が形成され得る。

位相差膜９５の形成に次いで、図２３（ａ）に示すように、例えばアクリル系やエポキシ系の樹脂などで位相差膜９５上に樹脂膜９９ａを形成する。樹脂膜９９ａは、例えばスピンコート技術を活用することによって形成され得る。
次いで、例えばフォトリソグラフィ技術を活用して、樹脂膜９９ａをパターニングすることにより、図２３（ｂ）に示すギャップ調整膜９９を形成する。

次いで、図２３（ｃ）に示すように、ポリイミドなどの樹脂で位相差膜９５及びギャップ調整膜９９上に樹脂膜９７ａを形成する。このとき、例えば、ディスペンサを用いた塗布技術や、インクジェット技術、印刷技術を活用することによって、樹脂膜９７ａの縁部を、図８及び図１０に示す領域１０６内にとどめる。

次いで、この樹脂膜９７ａにラビング処理などの配向処理を施す。樹脂膜９７ａに対するラビング処理では、ラビング処理の方向はＸ方向に沿った方向に設定される。そして、ラビング処理の向きは、図８中のＤ２の向きに設定される。ラビング処理の向きＤ２は、縁部９６ａ側から縁部９６ｂ側に向かう向きである。つまり、樹脂膜９７ａに対するラビング処理では、ラビング布を縁部９６ａ側から縁部９６ｂ側に向けて擦らせる。従って、樹脂膜９７ａは、ラビング布によって、縁部９６ａの傾斜面１０７ａに沿って撫で上げられ、縁部９６ｂの傾斜面１０７ｂに沿って撫で下ろされる。
以上により、対向基板１７が製造され得る。

液晶パネル１０の製造工程では、まず、駆動素子基板１５と対向基板１７とを、駆動素子基板１５及び対向基板１７のいずれか一方に平面視で環状に設けられたシール材２１（図２）を介して接合する。このとき、シール材２１は、平面視で環状の輪郭の一部を欠いた状態で設けられる。シール材２１の環状の輪郭の一部を欠いた部分は、液晶１９の注入口となる。
次いで、液晶１９をこの注入口から注入してから、注入口を塞いで液晶１９を封入する。これにより、図２に示す液晶パネル１０が製造され得る。

表示パネル３の製造工程では、図２に示す偏光板１３ａ及び１３ｂを液晶パネル１０に設ける。偏光板１３ａは第１基板５１の第２面５３ｂ（図５）に設けられ、偏光板１３ｂは、第２基板８１の外向面８３ａ（図５）に設けられる。これにより、図２に示す表示パネル３が製造され得る。
なお、偏光板１３ａ及び１３ｂは、液晶パネル１０を製造する前に、第１基板５１及び第２基板８１に設けられていてもよい。
表示装置１の製造工程では、表示パネル３と照明装置５とを組み合わせることにより、表示装置１が製造され得る。

第１実施形態において、第１基板５１及び第２基板８１が一対の基板に対応し、第２基板８１が一方の基板に対応し、第１基板５１が他方の基板に対応し、第２配向膜９７が配向膜に対応し、第１辺１０５ａ及び第２辺１０５ｂが２つの辺に対応している。

表示装置１では、対向基板１７において、位相差膜９５の縁部９６ａに傾斜面１０７ａが設けられ、縁部９６ｂに傾斜面１０７ｂが設けられている。このため、傾斜角度θａやθｂが９０度に近い急峻な段差や、傾斜角度θａやθｂが９０度を超えるような段差に比較して、肩部１０８ａ及び肩部１０８ｂのそれぞれを樹脂膜９７ａで覆いやすい。このため、肩部１０８ａや肩部１０８ｂを起点として樹脂膜９７ａが剥離してしまうことを抑えやすくすることができる。従って、肩部１０８ａや肩部１０８ｂは、第２配向膜９７によって覆われやすい。この結果、液晶１９の配向不良を低く抑えやすくすることができ、表示装置１における表示品位を向上させやすくすることができる。

また、対向基板１７では、位相差膜９５が第１辺１０５ａ及び第２辺１０５ｂを有している。第１辺１０５ａ及び第２辺１０５ｂは、Ｘ方向に表示領域８を挟んで互いに対峙しており、それぞれ、ラビング処理の方向とは交差している。第１辺１０５ａに対応する縁部９６ａの傾斜面１０７ａと、第２辺１０５ｂに対応する縁部９６ｂの傾斜面１０７ｂとは、傾斜角度θａ及びθｂが互いに異なっている。
ここで、ラビング処理の向きＤ２は、縁部９６ａ側から縁部９６ｂ側に向かう向きに設定される。つまり、樹脂膜９７ａに対するラビング処理では、ラビング布を縁部９６ａ側から縁部９６ｂ側に向けて擦らせる。従って、樹脂膜９７ａは、ラビング布によって、縁部９６ａの傾斜面１０７ａに沿って撫で上げられ、縁部９６ｂの傾斜面１０７ｂに沿って撫で下ろされる。

ここで、縁部９６ｂに沿ってラビング布によって撫で下ろされる樹脂膜９７ａには、ラビング布が届きにくい部位であるラビングの陰が発生しやすい。ラビングの陰は、縁部９６ａの傾斜面１０７ａに沿ってラビング布によって撫で上げられる樹脂膜９７ａよりも、縁部９６ｂの傾斜面１０７ｂに沿ってラビング布によって撫で下ろされる樹脂膜９７ａの方が発生しやすい。
また、ラビングの陰は、傾斜面１０７ｂの傾斜角度θｂが小さくなるほど、すなわち傾斜が緩やかになるほど発生しにくくなる。しかしながら、この場合、傾斜領域１０９ｂが大きくなってしまうので、表示装置１の小型化を図るには不利となる。対向基板１７では、傾斜角度θａが傾斜角度θｂよりも大きい。このため、対向基板１７では、縁部９６ｂ側に発生しやすいラビングの陰の発生を低く抑えつつ、傾斜領域１０９ａが大きくなってしまうことを避けやすい。これにより、表示品位を向上させやすくすることができるとともに、表示装置１の小型化を図りやすくすることができる。

また、対向基板１７では、位相差膜９５がシール領域２１ａよりも内側に位置している。このため、位相差膜９５及びシール材２１が相互に影響し合うことを避けやすくすることができる。これにより、位相差膜９５及びシール材２１のそれぞれにおける化学的な安定性を高めやすくすることができる。この結果、液晶パネル１０の信頼性を向上させやすくすることができ、ひいては表示装置１の信頼性を向上させやすくすることができる。

また、対向基板１７では、縁部９６ａの傾斜面１０７ａ（図１１）と、縁部９６ｂの傾斜面１０７ｂ（図１２）とは、それぞれ、領域１０６内に位置している。つまり、傾斜面１０７ａ及び傾斜面１０７ｂは、それぞれ、表示領域８の外側に位置している。このため、液晶１９を経て傾斜面１０７ａ及び傾斜面１０７ｂのそれぞれに入射された光は、表示領域８外で第２基板８１に向かって進行し得る。

平面視で傾斜面１０７ａや傾斜面１０７ｂに重なる領域において、液晶１９の厚みは、厚みＬ１からずれている。このため、この領域で液晶１９を経て傾斜面１０７ａ及び傾斜面１０７ｂのそれぞれに入射された光は、変調状態が適正な変調状態からずれている。
また、位相差部位１０１における傾斜領域１０９ａ及び傾斜領域１０９ｂでは、位相差膜９５の厚みが薄くなっている。このため、位相差部位１０１の傾斜領域１０９ａや傾斜領域１０９ｂに入射された光に付与される位相差が不足する。従って、位相差部位１０１の傾斜領域１０９ａや傾斜領域１０９ｂから射出された光は、変調状態が適正な変調状態からずれている。

適正な変調状態が得られない光が表示領域８内を進行すると、その光は、表示面９側から光漏れとして視認され得る。これは、表示におけるコントラストの低下を招来する。
これに対し、対向基板１７では、傾斜面１０７ａ及び傾斜面１０７ｂが領域１０６内に位置しているので、光漏れを極めて低く抑えることができる。このため、表示におけるコントラストの低下を極めて低く抑えることができる。この結果、表示装置１における表示品位を一層向上させやすくすることができる。

また、対向基板１７では、傾斜角度θａが約６０度に設定され、傾斜角度θｂが約４５度に設定されている。
傾斜角度θａが６０度を超えると、樹脂膜９７ａの厚みが、傾斜面１０７ａと肩部１０８ａとで大きく異なってしまう。肩部１０８ａにおける厚みが、傾斜面１０７ａにおける厚みよりも極めて薄くなりやすい。つまり、傾斜角度θａが６０度を超えると、肩部１０８ａに樹脂膜９７ａが形成されにくくなる。
また、傾斜面１０７ａに沿ってラビング布によって撫で上げられる樹脂膜９７ａには、肩部１０８ａにおいて剥離される方向に力が作用する。傾斜角度θａが６０度を超えると、肩部１０８ａにおける樹脂膜９７ａの剥離が発生しやすくなる。
従って、傾斜角度θａは、６０度以下に設定されることが好ましい。

他方で、傾斜角度θｂが４５度を超えると、傾斜面１０７ｂにおける樹脂膜９７ａにラビングの陰が発生しやすくなる。
従って、傾斜角度θｂは、４５度以下に設定されることが好ましい。
ここで、傾斜角度θａにおいても、６０度よりも小さい４５度以下の設定が採用され得る。傾斜角度θａを４５度以下に設定することは、肩部１０８ａに樹脂膜９７ａを形成しやすい点や、樹脂膜９７ａの剥離の発生を極めて低く抑えられる点で好ましい。しかしながら、傾斜角度θａを４５度以下に設定することは、傾斜領域１０９ａの増大を招来する。

対向基板１７では、傾斜角度θａが約６０度に設定されているので、肩部１０８ａに樹脂膜９７ａを形成しやすく、且つ肩部１０８ａで樹脂膜９７ａの剥離が発生することを低く抑えることができる。
また、傾斜角度θｂが約４５度に設定されているので、傾斜面１０７ｂにおける樹脂膜９７ａにラビングの陰が発生することを低く抑えることができる。
さらに、傾斜角度θａが約６０度に設定されているので、傾斜領域１０９ａの増大を避けやすくすることができ、表示装置１の小型化を図りやすくすることができる。

ここで、第２実施形態について説明する。
第２実施形態における表示装置１は、液晶パネル１０を図１中のＡ−Ａ線で切断したときの断面図である図２４に示すように、液晶パネル１０が対向基板２０を有している。第２実施形態における表示装置１は、第１実施形態における対向基板１７が対向基板２０に替えられていることを除いては、第１実施形態における表示装置１と同様の構成を有している。
従って、以下の第２実施形態では、重複した説明を避けるため、第１実施形態と同一の構成については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。

対向基板２０では、縁部９６ａの肩部１０８ａと、縁部９６ｂの肩部１０８ｂとが、平面視で表示領域８の輪郭に重なっている。液晶１９を経て肩部１０８ａ及び肩部１０８ｂのそれぞれに入射された光は、表示領域８内で第２基板８１に向かって進行し得る。このため、肩部１０８ａ及び肩部１０８ｂは、表示領域８内に位置しているとみなされ得る。

第２実施形態における表示装置１においても、第１実施形態における表示装置１と同様の効果が得られる。
さらに、第２実施形態における表示装置１では、肩部１０８ａ及び肩部１０８ｂが表示領域８内に位置しているので、領域１０６を縮小しやすくすることができる。このため、表示装置１の小型化を一層図りやすくすることができる。

なお、第２実施形態では、肩部１０８ａ及び肩部１０８ｂが表示領域８内に位置している構成が採用されているが、肩部１０８ａ及び肩部１０８ｂの位置はこれに限定されない。表示領域８の輪郭を区画する光吸収層８５に平面視で重なる領域８６内に肩部１０８ａ及び肩部１０８ｂが位置する構成も採用され得る。

この構成では、表示領域８の輪郭の精度や、傾斜面１０７ａ（図１１）及び傾斜面１０７ｂ（図１２）のそれぞれの精度にバラツキが発生しても、傾斜面１０７ａ及び傾斜面１０７ｂ、並びに肩部１０８ａ及び肩部１０８ｂを、それぞれ領域８６内に収めやすくすることができる。このため、表示領域８の輪郭の精度や、傾斜面１０７ａ及び傾斜面１０７ｂのそれぞれの精度にバラツキが発生しても、光漏れを極めて低く抑えることができる。このため、表示におけるコントラストの低下を一層低く抑えることができる。

なお、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、位相差部位１０１を形成してから等方部位１０３を形成する順序が採用されているが、位相差部位１０１と等方部位１０３との形成順序はこれに限定されず、等方部位１０３を形成してから位相差部位１０１を形成する順序も採用され得る。

この場合、液状体膜９５ｂの形成に次いで、液状体膜９５ｂを約１００℃に保って、液状体膜９５ｂの配向状態を位相差配向状態から等方配向状態に転移させる。
次いで、液状体膜９５ｂが等方配向状態のときに、図２５（ａ）に示すように、フォトマスク１８１を介して、液状体膜９５ｂを紫外光１５３で露光する。ここで、フォトマスク１８１には、透過領域Ｔに重なる領域に開口部１８３が設けられている。液状体膜９５ｂには、開口部１８３を介して紫外光１５３が照射される。そして、液状体膜９５ｂのうちで露光された部位が硬化する。
これにより、液状体膜９５ｂに、図２５（ｂ）に示す等方部位１０３が形成される。

次いで、図２５（ｂ）に示す液状体膜９５ｂを位相差配向状態に保つ。
次いで、液状体膜９５ｂが位相差配向状態のときに、図２５（ｃ）に示すように、液状体膜９５ｂを紫外光１５３で露光する。このときの露光では、液状体膜９５ｂを、第１領域１６１ａ（図２０（ａ））及び第２領域１６１ｂ（図２０（ｂ））のそれぞれごとに２回にわけて露光する。
第１領域１６１ａ及び第２領域１６１ｂに対する露光によって、液状体膜９５ｂが位相差配向状態のままで硬化する。これにより、図６に示す位相差部位１０１が形成される。

そして、液状体膜９５ｂの露光に次いで、液状体膜９５ｂに現像液で現像処理を施すことによって、等方部位１０３及び位相差部位１０１（図６）、並びに縁部９６ａ（図８）及び縁部９６ｂ（図１０）を有する位相差膜９５が形成され得る。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、等方部位１０３を形成するときに、液状体膜９５ｂを２回にわけて露光する方法が採用されているが、これに限定されず、１回の露光で等方部位１０３を形成する方法も採用され得る。
１回の露光で等方部位１０３を形成する方法では、図２６に示すように、フォトマスク１９１を介して液状体膜９５ｂに紫外光１５３を照射する。ここで、フォトマスク１９１は、所謂多階調露光を実現するグレイトーンマスクである。

フォトマスク１９１は、開口部１９３と、グレイトーン部１９５とを有している。開口部１９３は、表示領域８と領域１０６の一部とに平面視で重なっている。領域１０６の他部、すなわち領域１０６とシール領域２１ａとの境界側の周縁は、フォトマスク１９１によって遮光される。グレイトーン部１９５は、縁部９６ｂ側に設けられている。
また、この場合、フォトマスク１９１と液状体膜９５ｂとの間が間隔Ｆ１に設定され、露光の焦点をずらした状態（デフォーカス状態）で露光を行う。

これにより、縁部９６ａ側には、回折領域１６９ａ（図２１）が形成される。また、縁部９６ｂ側には、回折領域１６９ｂ（図２２）が形成されるとともに、グレイトーン部１９５を通過した中間階調の紫外光１５３が照射される。
そして、フォトマスク１９１を用いた露光の後に、液状体膜９５ｂに現像液で現像処理を施すことによって、等方部位１０３及び位相差部位１０１（図６）、並びに縁部９６ａ（図８）及び縁部９６ｂ（図１０）を有する位相差膜９５が形成され得る。

なお、フォトマスク１９１は、グレイトーンマスクに限定されず、ハーフトーンマスクも採用され得る。
また、フォトマスク１９１を用いた露光の後に現像処理を施すことによって位相差膜９５を形成する場合においても、位相差部位１０１の形成と等方部位１０３の形成とは、いずれが先でも後でもかまわない。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、液状体膜９５ｂに現像処理を施すことによって縁部９６ａ及び縁部９６ｂを形成する方法が採用されているが、縁部９６ａ及び縁部９６ｂの形成方法はこれに限定されない。縁部９６ａ及び縁部９６ｂの形成方法としては、液状体膜９５ｂにエッチング処理を施すことによって縁部９６ａ及び縁部９６ｂを形成する方法も採用され得る。

この場合、図１８（ａ）に示す位相差部位１０１の形成に次いで、液状体膜９５ｂの配向状態を等方配向状態に転移させてから、液状体膜９５ｂを紫外光１５３で露光する。
このときの露光では、フォトマスク１６５、１６７、１８１及び１９１などを用いることなく、液状体膜９５ｂの全域に紫外光１５３を照射する方法が採用され得る。これにより、図６に示す等方部位１０３が形成されるとともに、液状体膜９５ｂの全域が硬化する。

なお、位相差部位１０１を形成してから等方部位１０３を形成するこの例では、液状体膜９５ｂのうちで表示領域８外に位置する部位は、等方配向状態で硬化する。また、以下においては、この露光で液状体膜９５ｂの全域が硬化した膜は、位相差膜２０１と表記され、縁部９６ａ及び９６ｂを有する位相差膜９５とは区別される。

等方部位１０３の形成に次いで、図２７（ａ）に示すように、位相差膜２０１上に、ポジ型のレジストで構成されるレジスト膜２０３を形成する。レジスト膜２０３は、例えばスピンコート技術を活用することによって形成され得る。
次いで、フォトマスク２０５を介して、レジスト膜２０３を紫外光２０７で多階調露光する。ここで、フォトマスク２０５は、グレイトーンマスクである。

フォトマスク２０５は、遮光部２０９と、グレイトーン部２１１とを有している。遮光部２０９は、表示領域８と領域１０６の一部とに平面視で重なっている。領域１０６の他部、すなわち領域１０６とシール領域２１ａとの境界側の周縁は、フォトマスク２０５を通過した紫外光２０７によって露光される。グレイトーン部２１１は、縁部９６ｂ側に設けられている。
また、この場合、フォトマスク２０５とレジスト膜２０３との間が間隔Ｆ１に設定され、露光の焦点をずらした状態（デフォーカス状態）で露光を行う。

フォトマスク２０５を介してレジスト膜２０３に向かう紫外光２０７は、図２７（ａ）中のＷ１部の拡大図である図２８（ａ）に示すように、遮光部２０９の縁部２０９ａで回折する。
縁部２０９ａで回折した回折光２０７ａは、レジスト膜２０３の回折領域２１３ａに及ぶ。この回折領域２１３ａは、平面視で遮光部２０９に重なる領域内に及んでいる。つまり、回折光２０７ａは、フォトマスク２０５が遮光している領域内に回り込む。これにより、回折領域２１３ａ内のレジスト膜２０３を露光することができる。

また、グレイトーン部２１１を介してレジスト膜２０３に向かう中間階調の紫外光２０７は、図２７（ａ）中のＷ２部の拡大図である図２８（ｂ）に示すように、複数の遮光部２１１ａの各縁部２１１ｂで回折する。
遮光部２０９の縁部２０９ｂ及び各縁部２１１ｂのそれぞれで回折した回折光２０７ｂは、レジスト膜２０３の回折領域２１３ｂに及ぶ。この回折領域２１３ｂは、平面視で遮光部２０９に重なる領域内に及んでいる。つまり、回折光２０７ｂは、フォトマスク２０５が遮光している領域内に回り込む。これにより、回折領域２１３ｂ内のレジスト膜２０３を露光することができる。

レジスト膜２０３の露光に次いで、レジスト膜２０３に現像液で現像処理を施すことによって、図２７（ｂ）に示すレジストパターン２１５が形成され得る。このレジストパターン２１５には、回折領域２１３ａに傾斜部２１７ａが形成され、回折領域２１３ｂに傾斜部２１７ｂが形成され得る。なお、レジスト膜２０３に対する現像液としては、例えばＴＭＡＨ（TetraMethyl Ammonium Hydroxide）などの水溶液が採用され得る。

次いで、位相差膜２０１にドライエッチング処理を施すことによって、図２７（ｃ）に示すように、位相差膜２０１に縁部９６ａ及び縁部９６ｂが形成され得る。
次いで、残っているレジストパターン２１５を剥離することにより、等方部位１０３及び位相差部位１０１（図６）、並びに縁部９６ａ（図８）及び縁部９６ｂ（図１０）を有する位相差膜９５が形成され得る。

なお、フォトマスク２０５は、グレイトーンマスクに限定されず、ハーフトーンマスクも採用され得る。
また、位相差膜２０１にエッチング処理を施すことによって縁部９６ａ及び縁部９６ｂを形成する場合においても、等方部位１０３を形成してから位相差部位１０１を形成する順序が採用され得る。等方部位１０３を形成してから位相差部位１０１を形成する場合には、液状体膜９５ｂのうちで表示領域８外に位置する部位は、位相差向状態で硬化する。つまり、この場合、縁部９６ａや縁部９６ｂは、光学的に異方性を示す。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、液晶１９の駆動方式としてＦＦＳ型の駆動方式が採用されているが、駆動方式はこれに限定されず、ＩＰＳ（In Plane Switching）型、ＶＡ（Vertical Alignment）型等の種々の方式が採用され得る。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、位相差膜９５が対向基板１７や対向基板２０側に設けられている場合を例に説明したが、位相差膜９５はこれに限定されず、駆動素子基板１５側に設けられていてもよい。

また、第１実施形態及び第２実施形態では、それぞれ、入射された光に対して１／２波長の位相差を与える位相差部位１０１を例に説明したが、位相差部位１０１が与える位相差はこれに限定されず、１／４波長、１／８波長などの種々の位相差が採用され得る。

上述した表示装置１は、例えば、図２９に示す電子機器５００の表示部５１０に適用され得る。この電子機器５００は、携帯電話機である。この電子機器５００は、操作ボタン５１１を有している。表示部５１０は、操作ボタン５１１で入力した内容や着信情報を始めとする様々な情報について表示を行うことができる。この電子機器５００では、表示部５１０に表示装置１が適用されているので、表示部５１０における表示品位を向上させやすくすることができる。

なお、電子機器５００としては、携帯電話機に限られず、モバイルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、カーナビゲーションシステム用の表示機器などの車載機器、オーディオ機器等の種々の電子機器が挙げられる。また、表示パネル３や液晶パネル１０は、プロジェクタ等の投写型表示装置にライトバルブとして適用され得る。

第１実施形態における表示装置の主要構成を示す分解斜視図。 図１中のＡ−Ａ線における断面図。 第１実施形態における複数の画素の一部を示す平面図。 図３中のＣ部の拡大図。 図４中のＤ−Ｄ線における断面図。 図５中のＥ部を示す図。 図６中のＦ−Ｆ線における断面図。 図２中のＫ部の拡大図。 第１実施形態における液晶パネルを示す平面図。 図２中のＬ部の拡大図。 図８中のＮ部の拡大図。 図１０中のＰ部の拡大図。 第１実施形態におけるＴＦＴ素子、共通電極及び画素電極の配置を説明する平面図。 第１実施形態における表示パネルの透過領域における偏光状態を説明する図。 第１実施形態における表示パネルの反射領域における偏光状態を説明する図。 第１実施形態における駆動素子基板の製造工程を説明する図。 第１実施形態における対向基板の製造工程を説明する図。 第１実施形態における対向基板の製造工程を説明する図。 第１実施形態における液状体膜を示す平面図。 第１実施形態における対向基板の製造工程を説明する図。 図２０（ａ）中のＱ部の拡大図。 図２０（ｂ）中のＳ部の拡大図。 第１実施形態における対向基板の製造工程を説明する図。 第２実施形態における表示装置の液晶パネルを図１中のＡ−Ａ線で切断したときの断面図。 第１実施形態及び第２実施形態のそれぞれにおける対向基板の製造工程の他の例を説明する図。 第１実施形態及び第２実施形態のそれぞれにおける対向基板の製造工程の別の例を説明する図。 第１実施形態及び第２実施形態のそれぞれにおける対向基板の製造工程のさらに別の例を説明する図。 図２７（ａ）中のＷ１部及びＷ２部のそれぞれの拡大図。 本実施形態における表示装置が適用された電子機器の斜視図。

符号の説明

１…表示装置、３…表示パネル、７…画素、８…表示領域、９…表示面、１０…液晶パネル、１５…駆動素子基板、１７…対向基板、１９…液晶、２０…対向基板、２１…シール材、２１ａ…シール領域、５１…第１基板、５３ａ…第１面、５３ｂ…第２面、８１…第２基板、８３ａ…外向面、８３ｂ…対向面、９５…位相差膜、９５ａ…液状体、９５ｂ…液状体膜、９６ａ…縁部、９６ｂ…縁部、９７…第２配向膜、９７ａ…樹脂膜、１０１…位相差部位、１０３…等方部位、１０５ａ…第１辺、１０５ｂ…第２辺、１０５ｃ…第３辺、１０５ｄ…第４辺、１０６…領域、１０７ａ…傾斜面、１０７ｂ…傾斜面、１０８ａ…肩部、１０８ｂ…肩部、１０９ａ…傾斜領域、１０９ｂ…傾斜領域、１５１…フォトマスク、１５３…紫外光、１５３ａ…回折光、１５５…開口部、１６１ａ…第１領域、１６１ｂ…第２領域、１６５…フォトマスク、１６６…開口部、１６６ａ…縁部、１６７…フォトマスク、１６８…開口部、１６８ａ…縁部、１６９ａ…回折領域、１６９ｂ…回折領域、１８１…フォトマスク、１８３…開口部、１９１…フォトマスク、１９３…開口部、１９５…グレイトーン部、２０１…位相差膜、２０３…レジスト膜、２０５…フォトマスク、２０７…紫外光、２０７ａ…回折光、２０９…遮光部、２０９ａ…縁部、２０９ｂ…縁部、２１１…グレイトーン部、２１１ａ…遮光部、２１１ｂ…縁部、２１３ａ…回折領域、２１３ｂ…回折領域、２１５…レジストパターン、２１７ａ…傾斜部、２１７ｂ…傾斜部、５００…電子機器、５１０…表示部、θａ…傾斜角度、θｂ…傾斜角度、Ｆ１…間隔、Ｆ２…間隔、Ｈ…反射領域、Ｔ…透過領域、Ｍ…マトリクス。

Claims (5)

1. 互いに対向する一対の基板と、
   前記一対の基板間に介在する液晶と、
   前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜と、
   前記位相差膜及び前記液晶の間に介在し、ラビング処理が施されて前記液晶の配向状態を規制する配向膜と、
   前記一対の基板間に設けられ、平面視で前記液晶を囲むシール材と、
   を有し、
   前記位相差膜は、
   画像が表示され得る表示領域の外側であって、前記シール材との間に間隙を有する位置にある縁部に、前記一方の基板に対して傾斜した傾斜面が設けられており、
   平面視で前記ラビング処理におけるラビング方向とは交差する少なくとも２つの辺を有しており、
   前記２つの辺のそれぞれにおける前記傾斜面は、前記一方の基板に対する傾斜角度が互いに異なっていて、
   前記配向膜は、前記シール材との間に間隙を有して、前記傾斜面を覆う、
   液晶装置。
2. 前記縁部の肩部は、平面視で前記表示領域の内側に位置している請求項１に記載の液晶装置。
3. 前記位相差膜は、液晶化合物を含む材料で構成されている請求項１または２に記載の液晶装置。
4. 複数の画素を有しており、
   各前記画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されており、
   前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有しており、
   前記位相差部位が前記反射領域に対応して設けられており、前記等方部位が前記透過領域に対応して設けられている請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶装置。
5. 前記２つの辺に対応する２つの前記傾斜面のうちの一方の前記傾斜面は、前記傾斜角度が４５度以下であり、
   前記２つの傾斜面のうちの他方の前記傾斜面は、前記傾斜角度が４５度を超え、且つ６０度以下である請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液晶装置。

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