JP5268333B2 - Euv投影マイクロリソグラフィのための照明光学、照明系及び投影露光装置並びに微細構造素子を製造する方法 - Google Patents

Euv投影マイクロリソグラフィのための照明光学、照明系及び投影露光装置並びに微細構造素子を製造する方法 Download PDF

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Description

本発明はEUV投影マイクロリソグラフィ用の照明光学に関する。さらに、本発明は、そのような照明光学を備えた照明系、そのような照明系を備えた投影露光装置、微細構造素子を製造する方法、この方法によって得られる微細構造素子に関する
上記種類の投影露光装置は、米国特許第6,658,084 B2号から知られている。この文書は照明の設定を変更するために個々の視野ファセットを傾斜させる方法を記載している。しかし、このような調整可能な視野ファセット・ミラーを実現するために必要な技術的努力の量は非常に大きい。
米国特許第6,658,084 B2号 米国特許第6,611,574 B2号 米国特許第6,507,440 B1号 欧州特許EP 1 024 408 A2号
したがって、本発明の目的は、より小さな技術的努力でいくつかの照明設定の間を交換する可能性を提供する上記種類の照明光学を開発することである。
この目的は請求項1の特徴部分の特徴によって本発明に従って達成される。
本発明によれば、いくつかの照明の設定を提供するためには、ファセット・ミラーの個々のサブユニットを異なる照明状態をもたらす他のサブユニットと交換することが可能であることが見出された。実際、照明状態は、照明視野の照明、すなわち、それによって視野地点が照明される照明角度(照明設定)の配分を変えることによって変更される。照明視野、すなわちその照明される表面積の照明は、実際は変えられないままのことが多い。ブロック毎にファセット・ミラーのサブユニットを交換すれば、個々のファセットを傾けるよりも技術的努力が少なくて済む照明設定を変えるための機械的解決策が得られる。多くの場合必要であるファセット・ミラーの冷却も、サブユニットの互換性を維持しながら可能である。照明設定は、交換デバイスのほんの数個のアクチュエータを用いて変えることができる。ファセット群、特により大きな数の個々のファセットを有するファセット群が機械的に連結されたままであり、これによってファセットの効果的な冷却が保証される。例えば投影露光装置のスループットまたは構造的分解能に関する要件に応じて、本発明の照明光学によって、これらの要件の各々について正しい照明設定を実現することが可能となる。
請求項2の照明光学によれば、瞳ファセット・ミラーの照明は、視野ファセット・ミラーの個々のサブユニットを他のサブユニットと交換することによって変更が可能となり、これによって異なる照明設定が得られる。この実施態様では、交換可能サブユニットを備えたファセット・ミラーは視野ファセット・ミラーとして構成される。瞳ファセット・ミラーは生成される二次光源と正確に同じ場所に必ずしも配設される必要はない。あるいは、例えば米国特許第6,611,574 B2号に記載されているように、瞳ファセット・ミラーの瞳ファセットを二次光源の場所に対して特定の距離に配置することも可能である。
前記照明光学は、相互にある距離に位置する平面において矢状方向にかつ接線方向に二次光源を生成するようにデザインすることも可能である。このような構成は米国特許第6,507,440 B1号から知られている。
最後に、前記照明光学は、交換可能サブユニットを備えた単一のファセット・ミラーを備えてもよい。同時に、単一のファセット・ミラーは照明視野の所定の照明を提供する。これに相当するファセット・ミラーが欧州特許EP 1 024 408 A2号に記載されている。
請求項3の視野ファセット構成は、視野ファセット・ミラーのサブユニットを交換することによって、主要な設定間で変更する、例えば従来の設定と環状設定との間で変更する可能性を提供する。瞳ファセット・ミラーの開口全体にわたって配分された瞳ファセットが視野ファセット・ミラーの各サブユニットによって照明される場合、主要設定間で変更することは不可能であるかもしれない。
請求項4の交換デバイスは、単純なドライブ技術を用いて実現可能である。
請求項5の旋回ドライブは、極僅かな量の空間を必要とする交換デバイスを用いて、いくつかの交換可能サブユニットを実装することができる。
請求項6に記載の旋回軸の一構成は、視野ファセット・ミラーの近傍で、特にその下流側で交換デバイスをコンパクトに構成することを可能にする。
ライン区間が旋回軸に沿って延びる請求項7に記載の冷却構成は、交換デバイスが移動されるときの冷却ライン構成に関する問題を回避する。そのような冷却構成を備えたその冷却システムは、特に閉ループ方式で設計することができる。
請求項8の柔軟性のあるライン区間によって、交換可能サブユニットのベース本体が、最小の技術的努力でミラー位置とニュートラル位置との間で移動可能である。
請求項9の位置決めドライブは構造的に単純に実現可能である。
請求項10と11の交換デバイス構成によって、サブユニットを正確な位置かつ正確な角度でミラー位置に位置決めすることが可能になる。
請求項12の非交換可能サブユニットは、所定の照明設定で照明されなければならない瞳ファセット・ミラーの領域を照明することができ、かつ/または常に同じように照明視野を照明することが可能である。これによって照明光学の構造デザインをより単純にすることができる。
請求項13から19の交換可能サブユニットによる局所領域の照明は、異なる照明設定が設けられるときに特に適したものになる。対応する局所領域の照明設定も、相互にある距離に位置する平面において矢状方向にかつ接線方向に二次光源が生成される照明光学または交換可能サブユニットを含んだ単一のファセット・ミラーを備えた照明光学の実施態様において実施可能である。後者の場合、照明視野の対応する領域は、サブユニットが交換されるときに異なる程度にまで照明される。
本発明のさらなる目的は、本発明の照明光学を備えた光学系、本発明のその照明系を備えた投影露光装置、その投影露光装置を用いて微細構造素子を製造する方法、この方法によって得られる微細構造素子を提供することにある。
これらの目的は、請求項20の照明系、請求項21の投影露光装置、請求項22から24の製造方法、請求項25の要素によって本発明に従って実現される。
これらの目的の利点は、請求項1から19の照明光学に関連して上に論じたものに相当する。
以下、本発明の例示的実施形態を添付図面と共に詳細に説明する。
図1はEUV投影マイクロリソグラフィ用の投影露光装置1の略図である。投影露光装置1は、レチクル面内に位置するレチクル2のある構造を、ウエハ平面5内のウエハ4の感光層上に結像するように働く。
照明光学6(全体を参照番号6により示す)は、レチクル面3内の照明視野を照明するように働く。照明光学6はEUV光源7と共に、投影露光装置1の照明系として構成されている。
EUV光源7によって放射されるEUV放射線8はまず、図1に概略的に示した集光器9によって集められる。次に、コリメートされたEUVビームが、概略的に示した複数の視野ファセット11を備えた視野ファセット・ミラー10に入射する。視野ファセット11は二次光源を生成するように働く。視野ファセット11はEUV放射線8の特定の部分ビーム12に割り当てられている。
瞳ファセット・ミラー13が視野ファセット・ミラー10によって生成された二次光源の場所に配設されている。瞳ファセット・ミラー13は、図1に概略的に示されかつそれらの個々の視野ファセット11を介してEUV部分ビーム12が入射する複数の瞳ファセット14を備える。
瞳ファセット・ミラー13は、レチクル面3内に前記視野ファセット・ミラーを結像するように働く光学機器15の一部である。光学機器15は2つの結像ミラー16、17をさらに備えている。
前記照明系の構造が、図1に概略的に示されており、視野ファセット・ミラー10と瞳ファセット・ミラーの13の機能を説明するのに役立っている。集光器9と光学機器15は、異なる構成で構成されてもよく、異なる形状の構成要素や異なる数の構成要素で構成されてもよい。
レチクル2によって反射されるEUV放射線8は、概略的に示した投影光学18を用いてウエハ面5の像視野内に結像される。
図2は視野ファセット・ミラー10の平面図である。個々の視野ファセット11は弧の形状を有する。直線状、すなわち矩形の視野ファセットを用意することもできる。視野ファセット11は各々10個の視野ファセット11の群19で配置されている。また、視野ファセット群19は、図2において左から右に20、21、22、23、24の番号を付した視野ファセットの5個のカラムとして配置されている。カラム20と24は各々10個の視野ファセット11の3個の視野ファセット群とそれぞれ3個の視野ファセット11からなる残りの群25とを含む。カラム21と23は、視野ファセットの5個の群19と5個の視野ファセット11の残りの群26とを含む。中央のカラム22は視野ファセットの6個の群19を含む。視野ファセット20から24のカラムは、カラム20から24が内接された境界の円27を可能な限り最大まで満たすように、対称的に配置されている。視野ファセット・ミラー10の群は異なる様式で配置されてもよい。特に、視野ファセットは異なる数のカラムに分割されてもよい。さらに、1群当たり10個の視野ファセットより少なくまたは多く配置することもできる。
視野ファセット・ミラー10は固定サブユニット28と交換可能サブユニット29とに分割される。サブユニット28と29との境界を図2に点線で示す。交換可能サブユニット29は、カラム21と23の下から2個の群19、26のほか、中央カラム22の下の群19も含む。
図3は瞳ファセット・ミラー13の略平面図を示す。瞳ファセット14は円形であり、境界円30に内接する六方細密構造のユニットを形成する。瞳ファセット・ミラーのその他の最密構成も可能である。選択された構成は光学デザインに左右され、個々の瞳ファセットの形状にも左右される。また、図3は、交換可能サブユニット29の1つの視野ファセット群19の視野ファセット11、例えば、図2の中央カラム22の交換可能サブユニット29の視野ファセットの2つの群19の上側のものを用いて、瞳ファセット14のいくつかの群の照明も概略的に示す。この群19の10個の視野ファセット11は、瞳ファセット・ミラー13の中央領域内に配置され、図3に斜線で示された10個の瞳ファセット14aを照明する。この中央領域は瞳ファセット・ミラー13の開口全体の非常に小さな部分である。このように照明された視野ファセット14aの間に、交換可能サブユニット29の他の視野ファセットによって照明されるこの群19内の照明されていない視野ファセット14が存在する。概して、図4に示すように、交換可能サブユニット29の視野ファセット11は瞳ファセット・ミラー13の中央領域31を完全に照明する。図2の視野ファセット・ミラー10の固定サブユニット28の視野ファセット11は、中央領域31を囲んでいる第1の環状領域32を照明する。
図1には視野ファセット・ミラー10の固定サブユニット28と交換可能サブユニット29との間の境界も点線で示される。ここでは、交換可能サブユニット29は固定サブユニット28と相補的なミラー位置で示されており、これによって完全視野ファセット・ミラー10が形成される。前記ミラー位置では、個々の交換可能サブユニットは正確な位置かつ正確な角度で配設されている。交換可能サブユニット29のベース本体33は、図8により詳細に、しかし依然として概略的に示すが、レバー・アーム34の自由端に取り付けられている。レバー・アーム34は旋回接合部35の周りをモータによって回転可能であり、これによって、前記ミラー位置と下方のニュートラル位置(図8に斜線で示す)との間で交換可能サブユニット29を移動させることが可能となり、したがって交換可能サブユニット29の位置決めの移動が確実に行われる。ギア・モータが位置決めドライブ36として機能する。前記ギア・モータによって駆動されるピニオン・ギア37がラック38と係合する。そのラック38の自由端は旋回接合部35からある距離においてレバー・アーム34の下側を支持する。
図9に概略的に示すように、交換可能サブユニット29のベース本体33は、視野ファセット・ミラー10の固定サブユニット28のベース本体42の案内面41と相補的に形成された斜めになった側方案内面40を備えている。交換可能サブユニット29のミラー位置は、前記ミラー位置に配設されるときに下側からベース本体42の下側を支持する停止部材43によってさらに正確に決定される。また、前記ミラー位置はスナップイン固定ユニット(ここでは説明しない)を用いて固定可能である。
位置決めドライブ36は、視野ファセット・ミラー10の交換可能サブユニット29を少なくとも1つの別の交換可能サブユニットと交換する交換デバイス44の一部である。交換可能サブユニット29の交換部として機能してもよい前記サブユニットを以下29’と呼ぶ。交換デバイス44を視野ファセット・ミラーの別の実施形態と共に詳細に説明する。交換デバイス44は、信号ライン45に沿って送信される信号を用いて投影露光装置1の中央制御デバイス46に接続される。
交換ドライブ44aによって、図1において垂直方向で下に延びる中央旋回軸44bの周囲で交換デバイス44を回転させることが可能である。このようにして交換可能サブユニット29は、一旦交換可能サブユニット29がニュートラル位置まで下げられると、別のレバー・アーム34に取り付けられた第2の交換可能サブユニット29’と交換可能になる。旋回軸44bは視野ファセット・ミラー10に対して偏心的に配置されているので、交換可能サブユニット29、29’は視野ファセット・ミラーの固定部分に対して接線方向に配向される。したがって、交換デバイス44は接線交換デバイスとも呼ばれる。
図2の視野ファセット・ミラー10の交換可能サブユニット29を交換する第2の交換可能サブユニット29’は、図2にはそれ以上は示されていない。図2によれば、第2の交換可能サブユニットは交換可能サブユニット29と同じ構造と同じ形状を有している。この2つの交換可能サブユニットは、異なる程度まで傾斜させられた視野ファセット11で区別される。第2の交換可能サブユニットの視野ファセット11は、瞳ファセット・ミラー13の中央領域を照明するのではなく第1の環状領域32を取り囲んでいる外側環状領域47を照明するように傾斜させられている。図5に、交換可能サブユニット29と交換される第2の交換可能サブユニット29”を用いた瞳ファセット・ミラー13の照明を示す。中央領域31はもはや照明されていない。その代わりに、2つの環状領域32と47が照明される。このようにして従来の照明設定は、交換可能サブユニット29を第2の交換可能サブユニット29’と交換することによって環状照明設定と交換可能になる。
図6は視野ファセット・ミラー48の別の実施形態を示す。図1から5と、図8、9に関して前述した要素に相当する要素を同じ参照番号で示しており、再度説明しない。
固定サブユニット49と一緒に、視野ファセット・ミラー48は2個の交換可能サブユニット50、51を備えている。両交換可能サブユニット50、51は図6のミラー位置に示されている。サブユニット49から51は冷却液を用いて冷却される。その冷却液は入口ライン52を介して視野ファセット・ミラー48のベース本体42に入り、排出ライン53を介してベース本体42から出て行く。
図6の最上部に示した交換可能サブユニット50は、図10に示すように、瞳ファセット・ミラー13の中央領域31を照明する。図6の最下部に示した交換可能サブユニット51は、前記中央領域31を取り囲んでいる第1の環状領域54を照明する。固定サブユニット49は、第1の環状領域54を取り囲んでいる別の環状領域55を照明する。領域31、54、55は、計155個の瞳ファセット14を有する。中央領域31と環状領域66は各々、49個の瞳ファセット14を有する。環状領域54と外部環状領域65は各々、54個の瞳ファセット14を有する。したがって、瞳ファセット・ミラー13は計257個の瞳ファセット14を備えている。
図7に概略的に示されている交換デバイス56は、EUV放射線8から離れて対向する側に、すなわち図平面の下方および図6のベース本体42の下方に配置されており、その交換デバイスを用いて交換可能サブユニット50、51が別の交換可能サブユニット57、58と交換される。交換可能サブユニット50、51、57、58は図7の下げられたニュートラル位置に示す。交換デバイス56内のその構造が図8、図9に示したものに相当する位置決めドライブの詳細は図7では省略している。
図7に概略的に示す交換ドライブ59によって、交換デバイス56は中央旋回軸60周囲を特に無限に90°回転することが可能となる。前記旋回軸は図7の図平面に対して直交している。交換可能サブユニット50、51、57、58は、交換ドライブ59を取り囲んでいる環状サブユニット・キャリア上に配設されている。旋回軸60は視野ファセット・ミラー48の中心軸60aと一致する。したがって、以下に記載する交換デバイスに対応して、交換デバイス56は円形交換デバイスとも呼ばれる。
交換デバイス56は、冷却液を用いてサブユニット50、51、57、58を冷却するために、供給ライン系61を備えている。前記供給ライン系61のライン区間62は、旋回軸60に沿って配置されている。入口ライン63と排出ライン64はライン区間62に連結されており、これによって、冷却液を交換可能サブユニット50、51、57、58の本体33に向かって、またはそこから輸送することが保証される。図8、図9に示すように、ライン63、64は柔軟性があり、これによって、サブユニット29または代替的には50、51、57、58を問題なく移動することが可能となる。
交換可能サブユニット50、51を交換可能サブユニット57、58と交換しようとする場合、まず、交換可能サブユニット50、51はそれらの位置決めデバイス36を用いてミラー位置からニュートラル位置まで下げられる。次いで、交換ドライブ59が旋回軸60の回りを90°時計回りに、すなわち図7に示す位置から離れる方向に回転させられる。
続いて、交換可能サブユニット57、58が、それらの位置決めドライブ36を用いて、案内面40、41が互いに支持し合うまでおよび停止部材43が固定サブユニット49のベース本体42の下側を支持するまでニュートラル位置からミラー位置まで上昇させられる。交換可能サブユニット57、58はさらに、ミラー位置を固定するようにスナップイン固定ユニット(図示せず)を用いて固定される。
交換可能サブユニット58は瞳ファセット・ミラー13の外部環状領域65を照明する。交換可能サブユニット57は、外部環状領域65の内部に隣接する、瞳ファセット・ミラー13の隣接する環状領域66を照明する。交換可能サブユニット57、58が使用中の場合、瞳ファセット・ミラー13の領域31、54は照明されない。
交換可能サブユニット50、51が第2の交換可能サブユニット57、58と交換されるとき、したがって、従来の照明設定は環状照明設定と交換される。
図11は視野ファセット・ミラー67の別の実施形態を示す。図1から10に関して前述した要素に相当する要素を同じ参照番号で示しており、再度説明しない。
視野ファセット・ミラー67は固定サブユニット68と2個の交換可能サブユニット69、70を備えている。弧の形状を有する交換可能サブユニット29または代替的には50、51、57、58の境界とは異なり、交換可能サブユニット69、70の境界は矩形である。図11の最下部に示した交換可能サブユニット70は、瞳ファセット・ミラー13の中央領域31を照明する。図11の最上部に示した交換可能サブユニット69は、前記中央領域31に隣接する対向する2つの領域71、72を照明する。領域71は図13の中央領域31の上方に配設されており、他方、領域72は図13の中央領域31の下方に配設されている。
残りの領域73、74は、すべての領域31、71、72、73,74によって従来の照明が得られるように、固定サブユニット68によって照明される。従来の照明(従来設定とも呼ぶ)は、円形内では可能な限り均一である強度を有する円形照明に相当する。残りの領域73、74は、弧の形状を有すると共に中央領域31に隣接する、隣接境界領域を形成する。
別の場合には構造が交換デバイス56の構造に相当する、前記視野ファセット・ミラー用の交換デバイス75は、交換可能サブユニット69、70に加えて別の交換可能サブユニット76、77を備えている。交換可能サブユニット76は図12の左手に示し、交換可能サブユニット77は図12の右手に示す。交換デバイス56に関する上記説明に対応して、交換デバイス75は交換可能サブユニット69、70を交換可能サブユニット76、77と交換するのに用いられる。この交換を行うためには、交換デバイス75は、旋回軸62周囲に90°時計回りに、すなわち図12に示す位置から離れる方向に回転させられる。交換可能サブユニットが交換されるとき、したがって、交換可能サブユニット76は交換可能サブユニット69に取って代わり、他方、交換可能サブユニット77は交換可能サブユニット70に取って代わる。交換可能サブユニット76は、図14の左手と右手に示すと共にピッチ円の形状を有する、瞳ファセット・ミラー13の2つの対向する外部境界領域78、79を照明する。交換可能サブユニット77は、図14の左手と右手に示す、瞳ファセット・ミラー13の2つの対向する隣接境界領域80、81を照明する。前記隣接境界領域80、81は、ピッチ円の形状を有し、外部境界領域78、79に隣接する。交換可能サブユニット76、77が使用中の場合、瞳ファセット・ミラー13の領域31および71,72は照明されない。
したがって、交換可能サブユニット76、77を瞳ファセット・ミラー67に挿入することによって、対称的な2つの被照射領域を提供する2極照明(2極設定)が実現される。
図15は視野ファセット・ミラー82の別の実施形態を示す。図1から14に関して前述した要素に相当する要素を同じ参照番号で示しており、再度説明しない。
視野ファセット・ミラー82内の視野ファセット11の構成は、視野ファセット・ミラー10内の構成に相当する。視野ファセット・ミラー82は固定サブユニット83と2つの交換可能サブユニット84、85を備えている。交換可能サブユニット84を図15の最上部に示し、他方、交換可能サブユニット85を図15の最下部に示す。交換可能サブユニット84、85は異なる大きさを有しており、したがって、異なる数の視野ファセット11を備えている。図15の最上部に示した交換可能サブユニット84は、視野ファセットのカラム21、22、23内に配設された上方群によって形成された視野ファセットの3群19を有する。
図15の最下部に示した交換可能サブユニット85は、視野ファセットのカラム21、22、23の下方境界として構成される。視野ファセットのカラム21においては、交換可能サブユニット85は視野ファセットの1群19と残りの群26を有する。視野ファセットのカラム22においては、交換可能サブユニット85は視野ファセットの2群19を含む。視野ファセットのカラム23においては、交換可能サブユニット85は視野ファセットの1群19および残りの群26を有する。
それらの異なる大きさに対応して、故に異なる数の視野ファセット11に対応して、したがって、交換可能サブユニット84、85は異なる大きさの瞳ファセット・ミラー13の領域も照明する。このことは、中央領域31が例えば隣接する環状領域54(図10を参照)よりも多くの数の瞳ファセット14を備えている場合に有用であることを証明している。
視野ファセット・ミラー82用の交換デバイス86は、交換可能サブユニット84、85に加えてさらなる交換可能サブユニット87、88を備えている。交換可能サブユニット84、85、87、88の構成を除き、交換デバイス86の構造は交換デバイス56の構造に相当する。
交換可能サブユニット87の外形は交換可能サブユニット84の外形に相当する。さらに、交換可能サブユニット88の外形は交換可能サブユニット85の外形に相当する。交換デバイス56に関して前述したように、交換可能サブユニット84、85も、交換デバイス86を用いて、すなわち交換デバイス86を旋回軸60周囲に90°時計方向に回転させることによって、交換可能サブユニット87、88と交換可能である。交換可能サブユニット87、88は交換可能サブユニット84、85よりも瞳ファセット・ミラー13上の他の領域を照明する。このようにして、交換デバイス86も異なる照明設定間を変更する可能性を提供する。
ある交換デバイスの一実施形態(図示せず)はより多い数の交換可能サブユニットを備えてもよく、これによって、相当する視野ファセット・ミラー内の3つ以上の交換可能サブユニット構成間で変更することが可能となる。こういった交換デバイス(図示せず)は、例えば、従来の設定、環状設定、2極設定の間で変更するのに用いることができる。交換可能サブユニットの構成に応じて、交換可能サブユニットを交換すれば、その他の照明設定、例えば、4極照明設定、異なる最大照明角度(異なるシグマ)を用いる従来の照明設定、または他のより風変わりな照明設定も可能にする。投影露光装置における2極、4極、環状照明設定は、特にEUV照明放射線に関連して、従来の設定を用いて一般的に可能であるよりもさらに微細な構造の結像を実現することができる。前記交換可能サブユニットまたは固定サブユニットによって照明される領域は、個々の照明設定を構成するために要求される形状を有している。上記に既に記載の領域形状に加えて、例えば扇形を有する、または境界が全く異なる外形を備えた領域の照明も可能である。
1つの視野ファセット・ミラー当たり3つ以上の交換可能サブユニットを提供することも可能である。
図1に示した接線交換デバイス44または円形交換デバイス56、75、86の代替例として、個々の交換可能サブユニットが長手方向、例えば図1の図面平面に対して直交する方向に移動可能である台車の上に配置された線形交換デバイスを提供することも可能である。
ここに示した交換可能サブユニットは、視野ファセット群として組み合わされたいくつかの視野ファセット11を各々備えている。ここには示していない一実施形態では、視野ファセット11を1つだけ有する交換可能サブユニットを提供することが可能である。
微細構造素子またはナノ構造素子の製造は、レチクル2の結像されるべき構造、すなわち結像されるべきパターンをレチクルの物体視野すなわち物体平面内に位置決めすることによって行われる。ウエハ4は像平面の像視野すなわちウエハ平面5内に位置決めされる。投影露光装置1が使用されている間、レチクル2上のパターンがウエハ4の照明感光層上に投影される。次いで、この層は、微細構造素子またはナノ構造素子を製造するように現像される。
第1の投影ステップまたは投影ステップの第1の順序においては、交換可能サブユニットを備えると共に上記実施形態では視野ファセット・ミラーとも呼ばれるファセット・ミラーが、第1の構成のサブユニットにおいて実装される。別の照明設定が必要になると、すぐに、ファセット・ミラーのサブユニットが交換可能サブユニットと交換され、これによってファセット・ミラーのサブユニット構成が修正される。次に、前記ファセット・ミラーのサブユニットが第2の構成で配置されている状態で、別の照明サイクルが実行される。
2つの照明設定間で交換する場合、視野ファセット・ミラーの1つのサブユニットを正確に交換することが可能である。しかし、照明設定を変えるために、少なくとも2つのサブユニットを交換することも可能である。
EUV投影マイクロリソグラフィ用の投影露光装置を示す略断面図、特に子午断面図である。 視野ファセット群を備えた固定サブユニットと視野ファセット群を備えた交換可能サブユニットとに分割された視野ファセット・ミラーの例示的実施形態を示す平面図である。 図2の視野ファセット・ミラーの交換可能サブユニットの視野ファセットのある群によって照明された瞳ファセットが斜線で示された瞳ファセット・ミラーを示す略平面図である。 図2の視野ファセット・ミラーの固定サブユニットおよび交換可能サブユニットによって照明された、図4の瞳ファセット・ミラーの瞳ファセットを示す略図である。 交換可能サブユニットを別の交換可能サブユニットと交換後の、図2の視野ファセット・ミラーによって照明された、図4の瞳ファセット・ミラーの瞳ファセットを示す略図である。 1つの固定サブユニットおよび2つの交換可能サブユニットを備えた別の視野ファセット・ミラーを示す略平面図である。 図6の視野ファセット・ミラーの2つの交換可能サブユニットの少なくとも1つを他の交換可能サブユニットと交換するための交換デバイスを示す平面図であり、前記交換デバイスは計4個の交換可能サブユニットを備えている。 交換可能サブユニットの1つのベース本体の移動をミラー位置とニュートラル位置との間に位置決めするための位置決めドライブを備えた図7の交換デバイスを示す略断面図である。 視野ファセット・ミラーのミラー位置内に移動する前の、ある交換可能サブユニットのベース本体を示す略図である。 図6の視野ファセット・ミラーのサブユニットを用いて照明されかつ複数の瞳ファセットを備えた、異なる印を付けた領域を備えた瞳ファセット・ミラーを示す略図である。 図6と同様の表現で、1つの固定サブユニットおよび2つの交換可能サブユニットを備えた視野ファセット・ミラーの別の実施形態を示す略図である。 図7と同様の表現で、図11の視野ファセット・ミラー用の4つの交換可能サブユニットを備えた交換デバイスを示す略図である。 図11の視野ファセット・ミラーを用いた瞳ファセット・ミラーの概略照明を示す図であり、その視野ファセット・ミラーは固定サブユニットおよび2つの交換可能サブユニットを備えた第1の構成で示されている。 図11の視野ファセット・ミラーを用いた瞳ファセット・ミラーの概略照明を示す図であり、その視野ファセット・ミラーは固定サブユニットおよび2つの交換可能サブユニットを備えた別の構成で示されている。 1つの固定サブユニットおよび2つの交換可能サブユニットを備えた視野ファセット・ミラーの別の実施形態を示す図である。 図7と同様の表現で、図15の視野ファセット・ミラーの交換可能サブユニット用の交換デバイスを示す略図であり、前記交換デバイスは4つの交換可能サブユニットを備えている。
符号の説明
1 投影露光装置、2 レチクル、3 レチクル面、4 基板(ウエハ)、5 像平面(ウエハ面)、6 照明光学、7 放射線源(EUV光源)、8 EUV放射線、9 集光器、10;48;67;82 視野ファセット・ミラー、11 視野ファセット、12 部分ビーム、13 瞳ファセット・ミラー、14 瞳ファセット、15 光学機器、16、17 結像ミラー、18 投影光学、19,25,26 ファセット群、20,21,22,23,24 カラム、28,29,29’;49,50,51;49,57,58;68,69,70;68,76,77;83,84,85;83,87,88 サブユニット、31,32,47;31,54,55,65,66;31,71,72,73,74,78,79,80,81 領域、33 ベース本体

Claims (24)

  1. EUV放射線(8)を用いた、レチクル平面(3)内の照明視野の照明のためのEUV投影マイクロリソグラフィ用の照明光学(6)であって、
    各ファセット(11)が前記EUV放射線(8)の部分ビームに各々割り当てられた前記照明視野を照明するための所定の照明設定を生成する複数のファセット(11)を備えた少なくとも1つのファセット・ミラー(10;48;67;82)を有しており、
    前記ファセット・ミラー(10;48;67;82)が、ファセット群(19,25,26)からそれ自身が構成されたサブユニット(28,29;49,50,51;49,57,58;68,69,70;68,76,77;83,84,85;83,87,88)に分割されており、
    交換デバイス(44,56,75,86)が、前記視野ファセット・ミラー(10,48,67,82)の元のサブユニット(29;50,51;69,70;84,85)の少なくとも1つを、前記元のサブユニット(29;50,51;69,70;84,85)と入れ替わり、視野地点において照明角度の分布を変える少なくとも1つの交換可能サブユニット(57,58;69,70;84,85)と交換するように設けられていることとを特徴とする照明光学。
  2. 前記少なくとも1つのファセット・ミラー(10,48,67,82)が、二次光源を生成するための複数の視野ファセット(11)を有する視野ファセット・ミラーとして構成されており、EUV放射線(8)がそれらに対応する視野ファセット(11)を介して入射する複数の瞳ファセット(14)を有する瞳ファセット・ミラー(13)が、前記視野ファセット・ミラー(10,48,67,82)によって生成される二次光源の少なくともいくつかの近傍に設けられ、前記瞳ファセット・ミラー(13)が、前記視野ファセット・ミラー(10,48,67,82)を前記レチクル平面(3)内に結像するために必要な前記光学機器(15)の一部であることを特徴とする請求項1に記載の照明光学。
  3. 前記視野ファセット・ミラー(10,48,67,82)のサブユニット(19,15,16)が、前記瞳ファセット・ミラー(13)の開口全体に比して前記瞳ファセット・ミラーの比較的小さい領域(31,32,47;31,54,55,65,66;31,71,72,73,74,78,79,80,81)内に配置されている瞳ファセット(14)を照明することができるような様式で、前記視野ファセット・ミラー(10,48,67,82)の視野ファセット(11)が配向されていることを特徴とする請求項2に記載の照明光学。
  4. 前記交換デバイス(44;56;75;86)が、
    前記視野ファセット・ミラー(10;48;67;82)の2つのサブユニット(50,51,57,58;69,70,76,77;84,85,87,88)の間で交換するような様式でサブユニット・キャリア(59a)の移動を交換する交換ドライブ(44a;59)と、
    前記サブユニット(29;50,51,57,58,69,70,76,77;88,85,87,88)が前記視野ファセット・ミラー(10;48;67;82)内の固定位置内に配設されたミラー位置と前記サブユニット・キャリア(59a)の移動を交換するニュートラル位置との間に、前記交換デバイス(44;56;75;86)のサブユニット(29;50,51,57,58,69,70,76,77;88,85,87,88)の1つのベース本体(33)の移動を位置決めする位置決めドライブ(36)とを備えることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の照明光学。
  5. 前記交換ドライブ(44a;59)が、前記サブユニット・キャリア(59a)が旋回軸(44b)周囲で回転できるようにする旋回ドライブを備えていることを特徴とする請求項4に記載の照明光学。
  6. 前記旋回軸(60)が、前記視野ファセット・ミラー(48;67;82)の中心軸(60a)と一致することを特徴とする請求項5に記載の照明光学。
  7. 前記交換デバイス(44;56;75;86)が、交換可能サブユニット(29;50,51,57,58,69,70,76,77;88,85,87,88)を冷却するための冷却媒体用の供給ライン系(61)を備え、前記供給ライン系(61)のライン区間(62)が前記旋回軸(60)に沿って延びていることを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の照明光学。
  8. 前記前記供給ライン系(61)の少なくとも1つのライン区間(63,64)が、柔軟性のあるライン区間として構成されていることを特徴とする請求項7に記載の照明光学。
  9. 前記位置決めドライブ(36)が、その自由端がベース本体(33)に取り付けられていると共にモータを用いて旋回接合部(35)の周囲で回転可能であり、これによってその位置が変えられる、レバー・アーム(34)を備えていることを特徴とする請求項4から8のいずれか一項に記載の照明光学。
  10. 前記ミラー位置を決める少なくとも1つの停止部材(43)を有することを特徴とする請求項4から9のいずれか一項に記載の照明光学。
  11. 前記ミラー位置を固定する少なくとも1つのスナップイン固定ユニットを有することを特徴とする請求項4から10のいずれか一項に記載の照明光学。
  12. 前記瞳ファセット・ミラー(13)少なくとも1つの領域(32;55;73,74,)および/または前記照明視野が、固定の、すなわち非交換可能な前記ファセット・ミラーのサブユニット(28;49;68;83)によって照明されることを特徴とする請求項1から11のいずれか一項に記載の照明光学。
  13. 交換可能サブユニット(29;50;70)が前記瞳ファセット・ミラー(13)の中央領域(31)を照明することを特徴とする請求項2から12のいずれか一項に記載の照明光学。
  14. 交換可能サブユニット(51)が前記瞳ファセット・ミラー(13)の中央領域(31)を取り囲んでいる第1環状領域(54)を照明することを特徴とする請求項2から13のいずれか一項に記載の照明光学。
  15. 交換可能サブユニット(29’;58)が前記瞳ファセット・ミラー(13)の外部環状領域(47;65)を照明することを特徴とする請求項2から14のいずれか一項に記載の照明光学。
  16. 交換可能サブユニット(57)が、外部環状領域(65)に隣接する、前記瞳ファセット・ミラー(13)の隣接する環状領域(66)を照明することを特徴とする請求項2から15のいずれか一項に記載の照明光学。
  17. 交換可能サブユニット(76)が、ピッチ円または弧の形状を有する、前記瞳ファセット・ミラーの2つの対向する外部境界領域(78,79)を照明することを特徴とする請求項2から16のいずれか一項に記載の照明光学。
  18. 交換可能サブユニット(77)が、ピッチ円または弧の形状を有すると共に前記瞳ファセット・ミラーの外部境界領域(78,79)に隣接している、前記瞳ファセット・ミラー(13)の2つの対向する隣接する境界領域(80,81)を照明することを特徴とする請求項2から17のいずれか一項に記載の照明光学。
  19. 交換可能サブユニット(69)が前記中央領域(31)に隣接する対向領域(71,72)を照明することを特徴とする請求項2から18のいずれか一項に記載の照明光学。
  20. 請求項1から19のいずれか一項に記載の照明光学と、EUV光源(7)とを有する照明系。
  21. 請求項20に記載の照明系と、像平面(5)の像視野内に前記照明視野を結像する投影光学(18)とを有する投影露光装置(1)。
  22. 請求項21に記載の投影露光装置を用意するステップと、
    感光性材料の層が塗布される少なくとも一部に基板(4)を設置するステップと、
    結像される構造を備えたマスクまたはレチクル(2)を設置するステップと、
    前記投影露光装置(1)を用いて、前記レチクル(2)の少なくとも一部を前記感光性層のある領域に投影するステップとを用いて、微細構造素子を製造する方法。
  23. 投影ステップ中に、前記投影露光装置の照明光学のファセット・ミラーを第1の構成のサブユニットで実行するステップと、
    前記ファセット・ミラーの第2の構成のサブユニットを生成するように、交換可能サブユニットによって前記ファセット・ミラーのサブユニットの1つを交換するステップと、
    前記投影露光装置を用いて、前記レチクルの少なくとも一部を前記感光性層のある領域に投影するステップとを含む請求項22に記載の方法。
  24. 前記ファセット・ミラーの少なくとも2つのサブユニットが、前記第2の構成を生成する交換可能サブユニットと交換される請求項23に記載の方法。
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Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101978324B (zh) 2008-03-20 2013-04-03 卡尔蔡司Smt有限责任公司 用于微光刻的投射物镜
EP2146248B1 (en) * 2008-07-16 2012-08-29 Carl Zeiss SMT GmbH Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
DE102008049586A1 (de) * 2008-09-30 2010-04-08 Carl Zeiss Smt Ag Feldfacettenspiegel zum Einsatz in einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Mikrolithographie
KR101478400B1 (ko) * 2009-03-06 2015-01-06 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 조명 광학 시스템 및 마이크로리소그래피용 광학 시스템
EP2443514A1 (en) * 2009-06-17 2012-04-25 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
JP2011077142A (ja) * 2009-09-29 2011-04-14 Nikon Corp 照明光学装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP5532213B2 (ja) * 2009-12-07 2014-06-25 株式会社ニコン 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
DE102010041623A1 (de) * 2010-09-29 2012-03-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel
DE102011080819A1 (de) * 2011-08-11 2012-09-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Facettenspiegel aus Facettenmodulen mit mehreren Facetten
DE102011083464A1 (de) * 2011-09-27 2012-08-30 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel für euv-mikrolithographie und verfahren zu seiner herstellung
DE102011086345A1 (de) 2011-11-15 2013-05-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel
DE102012213937A1 (de) * 2012-08-07 2013-05-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel-Austauscharray
DE102013202948A1 (de) 2013-02-22 2014-09-11 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungssystem für eine EUV-Lithographievorrichtung und Facettenspiegel dafür
DE102014203187A1 (de) * 2014-02-21 2015-08-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie
DE102014204818A1 (de) 2014-03-14 2015-09-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Bauelement
DE102014206686A1 (de) * 2014-04-07 2015-10-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren sowie Anordnung zur Aktuierung eines Elementes
DE102014216801A1 (de) 2014-08-25 2016-02-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Facettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
DE102015216528A1 (de) 2015-08-28 2017-03-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungssystem für EUV-Projektionsbelichtungsanlage, EUV-Projektionsbelichtungsanlage mit Beleuchtungssystem und Verfahren zum Betreiben einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage
DE102018207103A1 (de) * 2018-05-08 2019-03-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Feldfacettenspiegel
DE102021208674A1 (de) * 2021-08-10 2023-02-16 Carl Zeiss Smt Gmbh EUV-Kollektor zum Einsatz in einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage
DE102021213168A1 (de) * 2021-11-23 2023-05-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren
DE102022209573A1 (de) 2022-09-13 2023-11-23 Carl Zeiss Smt Gmbh EUV-Kollektor zur Verwendung in einer EUV-Projektionsbelichtungsvorrichtung
DE102023206346A1 (de) 2023-07-04 2024-05-02 Carl Zeiss Smt Gmbh EUV-Kollektor zur Verwendung in einer EUV-Projektionsbelichtungsvorrichtung

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2623123B2 (ja) * 1988-08-17 1997-06-25 キヤノン株式会社 微動ステージ装置
DE10053587A1 (de) * 2000-10-27 2002-05-02 Zeiss Carl Beleuchtungssystem mit variabler Einstellung der Ausleuchtung
US20050002090A1 (en) * 1998-05-05 2005-01-06 Carl Zeiss Smt Ag EUV illumination system having a folding geometry
US6800859B1 (en) * 1998-12-28 2004-10-05 Hitachi, Ltd. Method and equipment for detecting pattern defect
US6573978B1 (en) 1999-01-26 2003-06-03 Mcguire, Jr. James P. EUV condenser with non-imaging optics
DE19931848A1 (de) 1999-07-09 2001-01-11 Zeiss Carl Fa Astigmatische Komponenten zur Reduzierung des Wabenaspektverhältnisses bei EUV-Beleuchtungssystemen
JP2003506881A (ja) * 1999-07-30 2003-02-18 カール ツァイス シュティフトゥング トレイディング アズ カール ツァイス Euv照明光学系の射出瞳における照明分布の制御
EP1202100A3 (de) 2000-10-27 2005-04-06 Carl Zeiss SMT AG Beleuchtungssystem mit reduzierter Wärmebelastung
US6580849B2 (en) * 2001-01-05 2003-06-17 Agilent Technologies, Inc. Optical switch incorporating stepped faceted mirrors
US7843632B2 (en) * 2006-08-16 2010-11-30 Cymer, Inc. EUV optics
DE10205425A1 (de) 2001-11-09 2003-05-22 Zeiss Carl Smt Ag Facettenspiegel mit mehreren Spiegelfacetten
US7090362B2 (en) * 2001-11-09 2006-08-15 Carl Zeiss Smt Ag Facet mirror having a number of mirror facets
AU2002356606A1 (en) 2001-12-12 2003-06-23 Carl Zeiss Smt Ag Mirror facet and facetted mirror
US7170587B2 (en) * 2002-03-18 2007-01-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7246909B2 (en) 2003-01-24 2007-07-24 Carl Zeiss Smt Ag Method for the production of a facetted mirror
DE10317667A1 (de) * 2003-04-17 2004-11-18 Carl Zeiss Smt Ag Optisches Element für ein Beleuchtungssystem
EP1642173A1 (en) * 2003-07-09 2006-04-05 Carl Zeiss SMT AG Facet mirrors and a method for producing mirror facets
JP4120502B2 (ja) * 2003-07-14 2008-07-16 株式会社ニコン 集光光学系、光源ユニット、照明光学装置および露光装置
US7136214B2 (en) 2004-11-12 2006-11-14 Asml Holding N.V. Active faceted mirror system for lithography
DE102006014380A1 (de) * 2006-03-27 2007-10-11 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage mit negativer Schnittweite der Eintrittspupille
DE102006039760A1 (de) * 2006-08-24 2008-03-13 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem mit einem Detektor zur Aufnahme einer Lichtintensität

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