JP5264154B2 - 含フッ素化合物の製造方法 - Google Patents
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[II]CmF2m+1COOCH2C nH2n+1 → CmF2m+1COOCF2CnF2n+1
[III]CmF2m+1COOCF2CnF2n+1 → CnF2n+1COF+CmF2m+1COF
〔1〕溶媒中に原料化合物とフッ素ガスとを導入して原料化合物の水素をフッ素に置換する液相フッ素化において、カプリル酸クロリドを原料化合物とし、これをFO 2 S(CF 2 ) 3 SO 2 Fに溶解して原料溶液とし、一方、液体のペルフルオロ炭化水素化合物または極性基を複数有するペルフルオロ化合物を溶媒として用い、予め該溶媒にフッ素を溶解させて上記原料溶液を該溶媒に供給し、この原料溶液を含む溶媒にフッ素ガスを導入してカプリル酸クロリドの水素をフッ素に置換することを特徴とする含フッ素化合物の製造方法。
〔2〕ペルフルオロヘキサンまたはFO 2 S(CF 2 ) 3 SO 2 Fを溶媒として用いる上記[1]に記載する含フッ素化合物の製造方法。
〔3〕原料溶液を含む溶媒にフッ素ガスを導入する工程において、原料化合物の水素量に対して0.5〜10倍モル量のフッ素を導入する上記[1]または上記[2]に記載する含フッ素化合物の製造方法。
〔4〕原料溶液または原料溶液と溶媒の混合溶液にベンゼンを添加して用いる上記[1]〜上記[3]の何れかに記載する含フッ素化合物の製造方法。
本発明の製造方法は、原料化合物を、分子内に極性基を複数有するペルフルオロ化合物(以下、原料溶解液と云う)に溶解して用いる。該原料溶解液に溶解し得る原料化合物の例としては、アルカン、シクロアルカン、芳香族炭化水素、アルコール、エーテル、有機酸、エステル、酸ハロゲン化物等が含まれる。アルコール、エーテル、有機酸、エステル、酸ハロゲン化物は、官能基を一分子中に複数(同一でも異なっていてもよい。)含んでもよい。カルボン酸、ジカルボン酸等のポリカルボン酸やそのハロゲン化物は、原料溶解液への溶解性が高く、本発明が特に好適に適用できる。また、フッ素との反応が許容される場合は、二重結合等の不飽和結合や窒素や硫黄等のヘテロ原子をさらに含んでもよい。原料化合物の炭素数は特に限定されないが、通常は炭素数2〜14であり、特に炭素数2〜10で常温において液体または固体の場合に好適に適用できる。
原料溶解液の例としては、分子内に複数のカルボニル基またはスルホニル基を有する化合物が挙げられる。より具体的には以下の式に示す構造を有する化合物が含まれる(式中、Xはハロゲンを表し、Yは直鎖または分岐鎖のペルフルオロアルキレン基を表す)。
・XOCYCOX
・XO2SYCOX
・XO2SYSO2X
溶解は原料溶解液の沸点以下の温度に維持しつつ、原料化合物を全量混合するか、一方を他方に少量ずつ添加して行う。溶解および濃縮は一般的には原料溶解液に対して抵抗性のある材質の反応容器内で行う。
原料化合物の上記溶解液を液相フッ素化溶媒に添加する。液相フッ素化溶媒は、実質的にフッ素と反応しないがフッ素ガスの溶解度の比較的の高い、かつ、反応条件下で液体の有機溶媒であればよい。こうした溶媒の例としては、ペルフルオロアルカン、ペルフルオロシクロアルカン等のペルフルオロ炭化水素化合物が挙げられる。また、極性基を複数有するペルフルオロ化合物を液相フッ素化溶媒として用いることもできる。
液相フッ素化反応は、予めフッ素を溶媒に溶解させ、供給する原料溶液中の原料化合物の水素量に対応する量のフッ素ガスを吹き込む。フッ素ガスは希釈せずに用いてもよいが、安全性の点から不活性ガスと混合して用いることが好ましい。不活性ガスの例としては、窒素ガスやアルゴン、ヘリウムガス等が挙げられるが、コストの点から窒素ガスが好ましい。混合ガス中のフッ素ガスの濃度は特に限定されないが、50体積%以下が好ましく、より好ましくは10〜40体積%、さらに好ましくは20〜30体積%である。フッ素ガス濃度が高すぎると反応が急激に進行する場合があり、フッ素ガス濃度が低すぎると反応が十分に進行しない。
CnH2n+1COCl -→ CnF2n+1COF 〔1〕
<液相フッ素化>C7H15COCl →C7F15COF
カプリル酸クロリド、1.63g(10mmol)をガラス容器に取り、これにFO2S(CF2)3SO2Fを加えて溶解し全量を6mlとした(原料溶液)。ガス出入口と原料導入口、間にNaFペレット充填管および反応液返送配管を設置した0℃と−78℃の2段のコンデンサー、フッ素樹脂被覆撹拌子、外部温度調節器を備えた180ml容量のPFA樹脂製の反応器に、ペルフルオロヘキサン100mlを仕込み、窒素ガスを3L/時の流量で0.5時間液中に吹き込んだ。次いで、窒素ガスを20%フッ素と80%窒素の混合ガスに代え、3.9L/時の流量で0.5時間液中に吹き込んで、ペルフルオロヘキサン中にフッ素ガスを飽和させた。20%フッ素と80%窒素の混合ガスの吹き込みを保った反応容器に、原料溶液をシリンジポンプを用いて6時間かけて供給した。反応液の温度は24〜26℃に調節した。次いで、ヘキサフルオロベンゼン0.93g(5mmol)をペルフルオロヘキサンで全量10mlに溶解し、20vol%フッ素と80vol%窒素の混合ガスを1.89L/時の流量で吹き込みながら1時間かけて供給した。反応液の温度は23〜24℃に調節し、この操作を2回行った。その後、上記混合ガスを窒素ガスに代え2.23L/時の流量で1時間液中に吹き込み反応液をパージした。
反応液を20℃にし、脱水イソプロピルアルコール1.8g(30mmol)を投入して1時間撹拌し、エステル化を行った。反応液を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、さらに残液を減圧蒸留し約90℃/15mmHgの留分を分画し、C7F15COOCH(CH3)23.67gを得た。ガスクロマトグラフによる純度は88.29%、収率は71%であった。同定の結果は以下のとおりであった。
1H−NMR(溶媒CDCl3、ppm) 5.25(m、1H)、1.36(d、6H)、
19F−NMR(溶媒CDCl3、ppm) −81.4(t、3F)、−119.2(m、2F)、−122.0(d、2F)、−122.5(s、2F)、−123.1(q、4F)、−126.6(m、2F)
カプリル酸クロリド0.82g(5mmol)をFO2S(CF2)3SO2Fに溶解して全量で20mlとし、ペルフルオロヘキサンをFO2S(CF2)3SO2F80mlに替え、30%フッ素と70%窒素の混合ガスの流量を3L/時にし、ヘキサフルオロベンゼン0.47g(2.5mmol)はFO2S(CF2)3SO2Fに溶解して全量を5mlとし、フッ素化時の30%フッ素と70%窒素の混合ガスを流量2.23L/時で2時間供給し、アルコールとして脱水イソプロピルアルコール0.6g(10mmol)とした他は実施例1と同様の反応および操作を行った。反応液を濃縮後、減圧蒸留し、留分中に目的物〔C7F15COOCH(CH3)2〕が55%の収率で含まれていることを確認した。
Claims (4)
- 溶媒中に原料化合物とフッ素ガスとを導入して原料化合物の水素をフッ素に置換する液相フッ素化において、カプリル酸クロリドを原料化合物とし、これをFO 2 S(CF 2 ) 3 SO 2 Fに溶解して原料溶液とし、一方、液体のペルフルオロ炭化水素化合物または極性基を複数有するペルフルオロ化合物を溶媒として用い、予め該溶媒にフッ素を溶解させて上記原料溶液を該溶媒に供給し、この原料溶液を含む溶媒にフッ素ガスを導入してカプリル酸クロリドの水素をフッ素に置換することを特徴とする含フッ素化合物の製造方法。
- ペルフルオロヘキサンまたはFO 2 S(CF 2 ) 3 SO 2 Fを溶媒として用いる請求項1に記載する含フッ素化合物の製造方法。
- 原料溶液を含む溶媒にフッ素ガスを導入する工程において、原料化合物の水素量に対して0.5〜10倍モル量のフッ素を導入する請求項1または請求項2に記載する含フッ素化合物の製造方法。
- 原料溶液または原料溶液と溶媒の混合溶液にベンゼンを添加して用いる請求項1〜請求項3の何れかに記載する含フッ素化合物の製造方法。
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