JP5237322B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents
リソグラフィ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5237322B2 JP5237322B2 JP2010099338A JP2010099338A JP5237322B2 JP 5237322 B2 JP5237322 B2 JP 5237322B2 JP 2010099338 A JP2010099338 A JP 2010099338A JP 2010099338 A JP2010099338 A JP 2010099338A JP 5237322 B2 JP5237322 B2 JP 5237322B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- projection system
- immersion
- substrate
- lithographic apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70341—Details of immersion lithography aspects, e.g. exposure media or control of immersion liquid supply
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/52—Details
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
- G03F7/70891—Temperature
Description
[0025] 図1は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示したものである。この装置は、
[0026]− 放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
[0027]− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
[0028]− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
[0029]− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
Claims (13)
- 投影システムと、
液体閉じ込め構造であって、前記投影システム、前記液体閉じ込め構造及び基板及び/又は基板テーブルによって画定された液浸空間に少なくとも部分的に液浸液を閉じ込める液体閉じ込め構造と、
前記投影システムの最終要素の光学的活性部品の周囲を取り囲む部材と、
を備えるリソグラフィ装置であって、
前記部材は、液浸液と前記光学的活性部品との間かつ前記リソグラフィ装置の光路外に配置され、
前記部材の端部は、前記液浸空間内まで延在し、
前記部材は、前記投影システムとの間にギャップが存在するように、少なくとも中央部で前記最終要素から離間している、
リソグラフィ装置。 - 前記部材が、液浸液の蒸発によって引き起こされる熱負荷による前記光学的活性部品の温度変化を低減する、
請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 液浸液の蒸発が、液浸液の液滴の蒸発及び/又は前記液浸空間内の液浸液の蒸発である、
請求項2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記部材が、その上の液浸液によって前記部材の局部に加えられる熱負荷を前記局部より大きい前記光学的活性部品の領域に拡散させるように構成される、
請求項1から3のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記拡散が、熱伝導によって、又は液滴からの液体が前記部材に接触する領域を増大させることで達成される、
請求項4に記載のリソグラフィ装置。 - 前記増大が、毛管現象による、
請求項5に記載のリソグラフィ装置。 - 前記部材が、前記光学的活性部品の材料よりも熱伝導率が大きい材料から構成される、
請求項1から6のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記部材が、金属から構成される、
請求項1から7のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 使用時に、液浸液のメニスカスが、前記液体閉じ込め構造と前記部材との間に延在する、
請求項1から8のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記部材が、前記最終要素の一端に封止される、
請求項1から9のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記部材が、前記最終要素の材料とは異なる材料から構成される、
請求項1から10のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記部材が、前記最終要素に直接物理的に接触している、
請求項1から11のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記部材の前記光学的活性部品の反対側の前記液浸液が、前記液浸空間内の前記液浸液から分離した液浸液の液滴である、
請求項1から12のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US17479309P | 2009-05-01 | 2009-05-01 | |
US61/174,793 | 2009-05-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011018883A JP2011018883A (ja) | 2011-01-27 |
JP5237322B2 true JP5237322B2 (ja) | 2013-07-17 |
Family
ID=43124381
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010099338A Active JP5237322B2 (ja) | 2009-05-01 | 2010-04-23 | リソグラフィ装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US8928857B2 (ja) |
JP (1) | JP5237322B2 (ja) |
NL (1) | NL2004497A (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1035908A1 (nl) | 2007-09-25 | 2009-03-26 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
NL2003392A (en) | 2008-09-17 | 2010-03-18 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and a method of operating the apparatus. |
NL2004497A (en) | 2009-05-01 | 2010-11-02 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and a method of operating the apparatus. |
NL2008979A (en) * | 2011-07-11 | 2013-01-14 | Asml Netherlands Bv | A fluid handling structure, a lithographic apparatus and a device manufacturing method. |
US10001712B2 (en) | 2014-07-25 | 2018-06-19 | Asml Netherlands B.V. | Immersion lithographic apparatus and device manufacturing method |
WO2022218616A1 (en) * | 2021-04-15 | 2022-10-20 | Asml Netherlands B.V. | A fluid handling system, method and lithographic apparatus |
Family Cites Families (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4509852A (en) * | 1980-10-06 | 1985-04-09 | Werner Tabarelli | Apparatus for the photolithographic manufacture of integrated circuit elements |
AU2747999A (en) | 1998-03-26 | 1999-10-18 | Nikon Corporation | Projection exposure method and system |
JP2004095654A (ja) | 2002-08-29 | 2004-03-25 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法 |
SG121822A1 (en) * | 2002-11-12 | 2006-05-26 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1420300B1 (en) | 2002-11-12 | 2015-07-29 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
SG135052A1 (en) * | 2002-11-12 | 2007-09-28 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP4604452B2 (ja) | 2003-02-26 | 2011-01-05 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
KR20050110033A (ko) | 2003-03-25 | 2005-11-22 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
KR101121655B1 (ko) * | 2003-04-10 | 2012-03-09 | 가부시키가이샤 니콘 | 액침 리소그래피 장치용 진공 배출을 포함하는 환경 시스템 |
EP1486827B1 (en) | 2003-06-11 | 2011-11-02 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
SG133589A1 (en) * | 2003-08-26 | 2007-07-30 | Nikon Corp | Optical element and exposure device |
EP2261740B1 (en) * | 2003-08-29 | 2014-07-09 | ASML Netherlands BV | Lithographic apparatus |
US6954256B2 (en) * | 2003-08-29 | 2005-10-11 | Asml Netherlands B.V. | Gradient immersion lithography |
US7352433B2 (en) | 2003-10-28 | 2008-04-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7411653B2 (en) | 2003-10-28 | 2008-08-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
US7394521B2 (en) | 2003-12-23 | 2008-07-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
DE102004018659A1 (de) | 2004-04-13 | 2005-11-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Abschlussmodul für eine optische Anordnung |
US20070216889A1 (en) * | 2004-06-04 | 2007-09-20 | Yasufumi Nishii | Exposure Apparatus, Exposure Method, and Method for Producing Device |
JP4515335B2 (ja) * | 2004-06-10 | 2010-07-28 | 株式会社ニコン | 露光装置、ノズル部材、及びデバイス製造方法 |
JP4491382B2 (ja) * | 2004-06-17 | 2010-06-30 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびペリクルを有するマスク |
US7446849B2 (en) * | 2004-07-22 | 2008-11-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7701550B2 (en) * | 2004-08-19 | 2010-04-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2006128192A (ja) | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Nikon Corp | 保持装置、鏡筒、及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
EP1843384A4 (en) * | 2004-12-02 | 2010-04-28 | Nikon Corp | EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME |
US7397533B2 (en) * | 2004-12-07 | 2008-07-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2006165285A (ja) * | 2004-12-08 | 2006-06-22 | Nikon Corp | 光学素子及び露光装置 |
US7405805B2 (en) * | 2004-12-28 | 2008-07-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
SG124359A1 (en) * | 2005-01-14 | 2006-08-30 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7652746B2 (en) | 2005-06-21 | 2010-01-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2007059556A (ja) * | 2005-08-23 | 2007-03-08 | Nikon Corp | 投影光学系、露光装置、および露光方法 |
JP4984747B2 (ja) | 2005-08-31 | 2012-07-25 | 株式会社ニコン | 光学素子、それを用いた露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
US7411658B2 (en) | 2005-10-06 | 2008-08-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7864292B2 (en) | 2005-11-16 | 2011-01-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
DE102006021797A1 (de) * | 2006-05-09 | 2007-11-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische Abbildungseinrichtung mit thermischer Dämpfung |
JP5645406B2 (ja) | 2006-09-12 | 2014-12-24 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 浸漬リソグラフィーのための疎水性被膜を有する光学的配置、ならびにそれを具える投影露光器機 |
NL1035757A1 (nl) * | 2007-08-02 | 2009-02-03 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
NL2003392A (en) * | 2008-09-17 | 2010-03-18 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and a method of operating the apparatus. |
NL2004497A (en) | 2009-05-01 | 2010-11-02 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and a method of operating the apparatus. |
-
2010
- 2010-04-01 NL NL2004497A patent/NL2004497A/en not_active Application Discontinuation
- 2010-04-23 JP JP2010099338A patent/JP5237322B2/ja active Active
- 2010-04-29 US US12/770,356 patent/US8928857B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2014
- 2014-12-30 US US14/586,390 patent/US9709901B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2017
- 2017-06-14 US US15/623,091 patent/US10146139B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100296067A1 (en) | 2010-11-25 |
US9709901B2 (en) | 2017-07-18 |
US8928857B2 (en) | 2015-01-06 |
US20170285487A1 (en) | 2017-10-05 |
US10146139B2 (en) | 2018-12-04 |
US20150109592A1 (en) | 2015-04-23 |
JP2011018883A (ja) | 2011-01-27 |
NL2004497A (en) | 2010-11-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6259489B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP6038989B2 (ja) | リソグラフィ装置及びリソグラフィ装置を操作する方法 | |
KR101043358B1 (ko) | 기판 테이블, 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
JP5290333B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
US10146139B2 (en) | Lithographic apparatus and a method of operating the apparatus | |
JP5065432B2 (ja) | 流体ハンドリングデバイス、液浸リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP5433045B2 (ja) | リソグラフィ装置及びリソグラフィ装置を操作する方法 | |
JP2010147466A (ja) | 流体ハンドリング構造、テーブル、リソグラフィ装置、液浸リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120123 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120301 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120518 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121129 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130227 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130315 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130328 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5237322 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160405 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |