JP5233925B2 - Non-contact IC tag label with hologram - Google Patents

Non-contact IC tag label with hologram Download PDF

Info

Publication number
JP5233925B2
JP5233925B2 JP2009209026A JP2009209026A JP5233925B2 JP 5233925 B2 JP5233925 B2 JP 5233925B2 JP 2009209026 A JP2009209026 A JP 2009209026A JP 2009209026 A JP2009209026 A JP 2009209026A JP 5233925 B2 JP5233925 B2 JP 5233925B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hologram
tag
layer
contact
label
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009209026A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2011059992A (en
Inventor
哲治 緒方
隆男 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2009209026A priority Critical patent/JP5233925B2/en
Publication of JP2011059992A publication Critical patent/JP2011059992A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5233925B2 publication Critical patent/JP5233925B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、ホログラム付き非接触ICタグラベルに関する。特に、被着体へ貼付した通常の使用状態では外部読取装置との非接触通信機能を有するが、被着体から剥離しようと試みるとICタグのアンテナが破損して通信機能を失うようにしたホログラム付き非接触ICタグラベルに関する。   The present invention relates to a contactless IC tag label with a hologram. In particular, it has a non-contact communication function with the external reader in the normal use state attached to the adherend, but when trying to peel off from the adherend, the antenna of the IC tag is damaged and the communication function is lost. The present invention relates to a non-contact IC tag label with a hologram.

近年、非接触ICタグが、多くの分野で利用されるようになってきている。一例として、ICタグを情報保持と同時に物品の真正性を証明する手段として利用する例が挙げられる。すなわち、ラベル状にしたICタグを物品自体か物品の包装体の開封部に貼付して、ICタグのメモリに記憶した情報を読み取ることで物品の真正性を証明する。そして、包装体を開封したりICタグラベルのみを被着体から剥離しようと試みると、ラベルと共にICタグのチップやアンテナが破損して、ICタグの再利用を不可能にするものである。   In recent years, non-contact IC tags have been used in many fields. As an example, there is an example in which an IC tag is used as a means for proving the authenticity of an article while holding information. That is, the authenticity of the article is proved by attaching the IC tag in a label form to the article itself or the opening of the package of the article and reading the information stored in the memory of the IC tag. If the package is opened or only the IC tag label is peeled off from the adherend, the IC tag chip and antenna are damaged together with the label, and the IC tag cannot be reused.

従来、被着物から剥がそうと試みると破壊されるICタグラベルとしては、図3に示すような、ICタグラベル101の外周部の複数箇所に、端部と垂直方向に伸びる切れ込み21を形成したICタグラベル101が開示されている(例えば、特許文献1,2)。
このICタグラベル101を被着物から剥がそうとすると、切れ込み21の先端からICタグラベル101の中心方向に向かって基材が破れて、アンテナが破断する。
さらに、ICタグラベルの全面に、アンテナを横切るような複数のミシン目を有するICタグラベルも開示されている(例えば、特許文献3)。アンテナは完全に破断するのでなく一部が接続されているので使用可能であるとされており、ICタグラベルを被着物から剥がそうとすると、複数のミシン目を有しているため、アンテナが容易に破断される。
Conventionally, as an IC tag label that is destroyed when attempting to peel off from an adherend, an IC tag label in which cuts 21 extending in the direction perpendicular to the end portions are formed at a plurality of locations on the outer periphery of the IC tag label 101 as shown in FIG. 101 is disclosed (for example, Patent Documents 1 and 2).
If the IC tag label 101 is peeled off from the adherend, the base material is broken from the tip of the cut 21 toward the center of the IC tag label 101, and the antenna is broken.
Furthermore, an IC tag label having a plurality of perforations that cross the antenna is also disclosed on the entire surface of the IC tag label (for example, Patent Document 3). It is said that the antenna can be used because it is partly connected rather than completely broken, and when the IC tag label is peeled off from the adherend, it has a plurality of perforations, so the antenna is easy Is broken.

また、被着物から剥がそうとすると破壊されるホログラムラベルとしては、部分的に脆質層を設けるものやパターン状に表面処理を行った基材にホログラム形成層を積層するものが開示されている(例えば、特許文献4,5)。これらのホログラムラベルを被着物から剥がそうとすると、脆質層の有無或いは表面処理の有無による剥離強度の差から、部分的にしか被着物から剥がせずにホログラムが破壊される。   Further, as hologram labels that are destroyed when they are peeled off from the adherend, those in which a brittle layer is partially provided or those in which a hologram forming layer is laminated on a substrate that has been subjected to a surface treatment in a pattern are disclosed. (For example, Patent Documents 4 and 5). When these hologram labels are peeled off from the adherend, the hologram is destroyed only partly from the adherend due to the difference in peel strength depending on the presence or absence of a brittle layer or the presence or absence of surface treatment.

特開2006−159830号公報JP 2006-159830 A 特開2008−301912号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2008-301912 特開2006−293462号公報JP 2006-293462 A 特開平08−328455号公報JP 08-328455 A 特開平09−073261号公報JP 09-073261 A

しかしながら、上記のような外周に切込みを入れたICタグラベルでは、被着物にICタグラベルを貼着する際に、ラベルを破損してしまう問題があった。また、アンテナ線を横切るようなミシン目を有する場合、アンテナを完全に破断させずにミシン目を形成するには複雑な工程が必要であり、さらにはアンテナ自体に最初から傷があることになるため、物品に貼付され使用される前から破損しやすいという問題があった。   However, the IC tag label with a cut in the outer periphery as described above has a problem that the label is damaged when the IC tag label is attached to the adherend. Also, when the perforation crosses the antenna line, a complicated process is required to form the perforation without completely breaking the antenna, and the antenna itself is scratched from the beginning. Therefore, there has been a problem that it is easily damaged before being attached to an article and used.

そこで、本発明は、使用前や使用時には破損の恐れがなく、不正な剥離によって通信機能が破壊されるようにした、意匠性に優れたホログラム付き非接触ICタグラベルを提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a non-contact IC tag label with a hologram excellent in design, in which the communication function is destroyed by unauthorized peeling without being damaged during or before use. .

本発明のホログラム付き非接触ICタグラベルは、透明なプラスチック基材の一面に、ホログラムパターンを有するホログラム形成層を積層し、当該ホログラムパターン面の少なくとも一部に反射性薄膜層が形成されてホログラム効果部を構成しており、該反射性薄膜層面と反射性薄膜層が形成されていないホログラム形成層面の全面に脆質剥離層が積層され、該脆質剥離層面の一部に非接触ICタグが第1の粘着剤層により接着され、該非接触ICタグと脆質剥離層の全面に第2の粘着剤層を積層したホログラム付き非接触ICタグラベルであって、非接触ICタグのアンテナ及びICチップとは交差または接触しない位置から、前記透明なプラスチック基材の外縁へ向けて、少なくともICタグ基材の外縁に達する複数本の切込みが形成されている、ことを特徴とする。   The non-contact IC tag label with a hologram of the present invention has a hologram effect in which a hologram forming layer having a hologram pattern is laminated on one surface of a transparent plastic substrate, and a reflective thin film layer is formed on at least a part of the hologram pattern surface. A brittle release layer is laminated on the entire surface of the hologram forming layer on which the reflective thin film layer surface and the reflective thin film layer are not formed, and a non-contact IC tag is formed on a part of the brittle release layer surface. A non-contact IC tag label with a hologram, which is bonded by a first pressure-sensitive adhesive layer and has a second pressure-sensitive adhesive layer laminated on the entire surface of the non-contact IC tag and a brittle release layer, the antenna and IC chip of the non-contact IC tag A plurality of cuts that reach at least the outer edge of the IC tag base material are formed from a position that does not intersect or contact with the outer edge of the transparent plastic base material. It is characterized in that.

このホログラム付き非接触ICタグラベルによれば、当該ラベルが貼付された物品(被着体)にホログラムによる装飾性や偽造防止効果を与えられるとともに非接触ICタグにより外部読取装置と非接触通信を行って物品管理ができる。更に、再利用などを目的として当該物品(被着体)からラベルを剥がそうと試みると、脆質剥離層により両側の層が容易に分離し、ホログラム形成層と非接触ICタグが分離される。更に、ICタグを剥そうと試みるとICタグ基材の外縁に形成された切込みがアンテナまで拡がってアンテナが断線し、ICタグの非接触通信機能が損なわれる。そのため、ICタグの再利用を防止できる。また、切込みがアンテナ及びICチップとは交差または接触しないように形成されているため、ラベル使用前や使用中の破損を防止することができる。   According to the non-contact IC tag label with a hologram, the article (adhered body) to which the label is affixed is provided with a decorative property and anti-counterfeit effect by the hologram, and performs non-contact communication with an external reader using the non-contact IC tag. Can manage goods. Furthermore, when an attempt is made to peel off the label from the article (adhered body) for the purpose of reuse, the layers on both sides are easily separated by the brittle release layer, and the hologram forming layer and the non-contact IC tag are separated. . Furthermore, when an attempt is made to peel off the IC tag, the cut formed in the outer edge of the IC tag base material extends to the antenna, the antenna is disconnected, and the non-contact communication function of the IC tag is impaired. Therefore, reuse of the IC tag can be prevented. Further, since the cut is formed so as not to cross or contact the antenna and the IC chip, it is possible to prevent damage before or during use of the label.

上記ホログラム付き非接触ICタグラベルにおいて、前記脆質剥離層と前記ホログラム形成層との接着強度が、前記ホログラム形成層と前記第1の粘着剤層との接着強度より強く、かつ前記第2の粘着剤層と被着体との接着強度より弱く、前記ホログラム付き非接触ICタグラベルが被着体から剥がされたときに、前記非接触ICタグが被着体側に残るように構成する。このホログラム付非接触ICタグラベルによれば、被着体からラベルを剥がそうと試みると、まず、脆質剥離層によりプラスチック基材のみが剥がれる。更に、被着体に残ったICタグを剥がそうと試みると、少なくともICタグ基材の外縁にまで形成された切込みがアンテナまで拡がってアンテナが断線するようにラベルが破断されてICタグの非接触通信機能が損なわれる。そのため、ICタグの再利用を防止できる。   In the non-contact IC tag label with a hologram, an adhesive strength between the brittle release layer and the hologram forming layer is stronger than an adhesive strength between the hologram forming layer and the first pressure-sensitive adhesive layer, and the second adhesive The adhesive strength between the agent layer and the adherend is weaker, and the non-contact IC tag is left on the adherend side when the non-contact IC tag label with hologram is peeled off from the adherend. According to this non-contact IC tag label with a hologram, when attempting to peel off the label from the adherend, only the plastic substrate is peeled off by the brittle release layer. Furthermore, when an attempt is made to peel off the IC tag remaining on the adherend, the label is broken so that the notch formed at least on the outer edge of the IC tag base material extends to the antenna and the antenna is disconnected, and the IC tag is not cut. The contact communication function is impaired. Therefore, reuse of the IC tag can be prevented.

上記ホログラム付き非接触ICタグラベルにおいて、前記ホログラム形成層は、前記プラスチック基材の全面に形成され、前記非接触ICタグは、前記ホログラム形成層の前記反射性薄膜層が形成されていない部分に前記第1の粘着剤層によって接着されているように構成するとよい。このホログラム付き非接触ICタグラベルによれば、非接触ICタグがホログラム形成層の反射性薄膜層が形成されていない部分に形成されるため、反射性薄膜層が非接触通信機能に影響を与えることを防止することができる。   In the non-contact IC tag label with a hologram, the hologram forming layer is formed on the entire surface of the plastic substrate, and the non-contact IC tag is formed on a portion of the hologram forming layer where the reflective thin film layer is not formed. It is good to comprise so that it may adhere | attach by the 1st adhesive layer. According to this non-contact IC tag label with a hologram, since the non-contact IC tag is formed in a portion of the hologram forming layer where the reflective thin film layer is not formed, the reflective thin film layer affects the non-contact communication function. Can be prevented.

上記ホログラム付き非接触ICタグラベルにおいて、前記複数本の切込みは、前記プラスチック基材の外縁には接しないで、前記プラスチック基材の外縁から1〜5mm離れた位置まで達するように形成されているように構成するとよい。このホログラム付き非接触ICタグラベルによれば、切込みがプラスチック基材の外縁には接していないため、ラベル使用前や使用中の破損を防止できる。そして、被着体からラベルを剥がそうと試みると、切込みが拡大してアンテナが断線するようにラベルが破断される。また、ホログラム形成層の反射性薄膜層にまで切込みが形成されているため、ホログラム再現部分が確実に破損される。   In the non-contact IC tag label with a hologram, the plurality of cuts are formed so as to reach a position 1-5 mm away from the outer edge of the plastic substrate without contacting the outer edge of the plastic substrate. It is good to configure. According to this non-contact IC tag label with a hologram, since the cut is not in contact with the outer edge of the plastic substrate, it is possible to prevent damage before and during use of the label. When attempting to peel off the label from the adherend, the label is broken so that the cut is enlarged and the antenna is disconnected. Further, since the cut is formed up to the reflective thin film layer of the hologram forming layer, the hologram reproduction portion is reliably damaged.

本発明のホログラム付き非接触ICタグラベルによれば、ホログラムによる装飾性や偽造防止効果と共に通常使用に当たっては正常な非接触ICタグ機能を有するが、当該ラベルが貼付された物品からラベルを剥離した場合は、ラベルに形成された複数の切込みがアンテナまで達してアンテナを断線して非接触通信が不可能となるため、外観上のみならず、通信機能上でも、ラベルの再使用を防止することができる。   According to the non-contact IC tag label with a hologram of the present invention, it has a normal non-contact IC tag function in normal use as well as a decorative property and anti-counterfeiting effect by the hologram, but when the label is peeled off from an article to which the label is attached The multiple cuts formed on the label reach the antenna and the antenna is disconnected, making non-contact communication impossible. This prevents the label from being reused not only in appearance but also in communication function. it can.

(A)は、ホログラム付き非接触ICタグラベルの平面図、(B)は、そのX−X線での断面図である。(A) is a top view of the non-contact IC tag label with a hologram, (B) is sectional drawing in the XX line. (A)は、ホログラム付き非接触ICタグラベルの変形例の平面図、(B)は、そのX−X線での断面図である。(A) is a top view of the modification of the non-contact IC tag label with a hologram, (B) is sectional drawing in the XX line. 従来の切れ込み入りICタグラベルの例を示す図である。It is a figure which shows the example of the conventional notched IC tag label.

以下、図面を参照して、本発明の好適なホログラム付き非接触ICタグラベルについて詳細に説明する。   Hereinafter, a preferred non-contact IC tag label with a hologram of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

[実施形態]
図1(A)は、ICタグラベル(ホログラム付き非接触ICタグラベル)1Aを示す平面図、図1(B)は、そのX−X線での断面図である。
図1(A)に示すように、本実施形態のICタグラベル1Aは、ラベル形状の透明なプラスチック基材2面の一部に、ホログラム効果を発揮するホログラム形成層3を有し、ホログラム効果を生じない部分の一部に非接触ICタグ9Aを有している。
ICタグラベル1Aには、複数本の切込みkが形成されている。切込みkは、主としてICタグ基材6Aのみを切断するものと、ICタグ基材6Aからさらに伸びてICタグラベル1の端縁近くまでに達するものと各種の態様で形成されている。
ただし、いずれの切込みkも非接触ICタグ9Aのアンテナ7A及びICチップ8Aとは交差または接触しないようにされている特徴がある。
[Embodiment]
FIG. 1A is a plan view showing an IC tag label (non-contact IC tag label with hologram) 1A, and FIG. 1B is a sectional view taken along line XX.
As shown in FIG. 1A, the IC tag label 1A of the present embodiment has a hologram forming layer 3 that exhibits a hologram effect on a part of the surface of the label-shaped transparent plastic substrate 2, and exhibits the hologram effect. The non-contact IC tag 9A is provided in a part of the portion that does not occur.
A plurality of cuts k are formed in the IC tag label 1A. The cuts k are formed in various forms, mainly those that cut only the IC tag base 6A and those that extend further from the IC tag base 6A and reach the edge of the IC tag label 1.
However, each of the cuts k is characterized in that it does not cross or contact the antenna 7A and the IC chip 8A of the non-contact IC tag 9A.

図1(B)に示すように、ホログラム形成層3のプラスチック基材2とは、反対側面のホログラムパターン面には部分的に形成された反射性薄膜層4を有している。反射性薄膜層4と当該層の形成されていないホログラムパターン面には脆質剥離層5が全面に形成されている。そして、脆質剥離層5面の反射性薄膜層4が形成されていない部分に非接触ICタグ9Aが接着されている。
非接触ICタグ9Aは、ICタグ基材6Aの一方の面にアンテナ7A及びICチップ8Aが形成され、他の面は第1の粘着剤層10により脆質剥離層5面に接着している。さらに、ICタグ(非接触ICタグ)9Aと、ICタグラベル1Aを物品に接着するための第2の粘着剤層11がICタグラベル(ホログラム付き非接触ICタグラベル)1Aの全に積層されている。また、物品に貼付するまでの間、第2の粘着剤層11を保護するための、図示しない剥離紙が積層される。
As shown in FIG. 1B, the plastic substrate 2 of the hologram forming layer 3 has a reflective thin film layer 4 partially formed on the opposite hologram pattern surface. A brittle release layer 5 is formed on the entire surface of the reflective thin film layer 4 and the hologram pattern surface where the layer is not formed. Then, the non-contact IC tag 9A is bonded to a portion where the reflective thin film layer 4 is not formed on the surface of the brittle peeling layer 5.
In the non-contact IC tag 9A, the antenna 7A and the IC chip 8A are formed on one surface of the IC tag base 6A, and the other surface is bonded to the surface of the brittle release layer 5 by the first pressure-sensitive adhesive layer 10. . Further, the IC tag (non-contact IC tag) 9A, a second adhesive layer 11 for bonding the IC tag label 1A to an article is laminated on the entire surface of the (non-contact IC label with a hologram) 1A IC tag label . Further, release paper (not shown) for protecting the second pressure-sensitive adhesive layer 11 is laminated until it is attached to the article.

ICタグラベル1Aは、図1のように、微細凹凸からなるホログラムパターンを有するホログラム形成層3のホログラムパターン面の一部に反射性薄膜層4が形成されており、当該部分からの反射光によりホログラムが再生してホログラム効果が得られる。
反射性薄膜層4は、ホログラム形成層3のホログラムパターンを有する面の全面に金属
を蒸着した後、パスター加工等の処理により不要部分を除去したものである。ホログラム形成層3の反射性薄膜層4が形成されない部分にも微細凹凸からなるホログラムパターンが形成されているが、反射性薄膜層4がないため反射光が生じない。また、ホログラム形成層3に積層する第1の粘着剤層10或いは第2の粘着剤層11をホログラム形成層3の樹脂材料と屈折率がほぼ同等となるような材料とすれば、回折光も生じないことになる。
As shown in FIG. 1, the IC tag label 1 </ b> A has a reflective thin film layer 4 formed on a part of a hologram pattern surface of a hologram forming layer 3 having a hologram pattern composed of fine irregularities, and a hologram is formed by reflected light from the part. Can be reproduced to obtain a hologram effect.
The reflective thin film layer 4 is obtained by depositing a metal on the entire surface of the hologram forming layer 3 having the hologram pattern and then removing unnecessary portions by a process such as paster processing. A hologram pattern composed of fine irregularities is also formed on the portion of the hologram forming layer 3 where the reflective thin film layer 4 is not formed. However, since there is no reflective thin film layer 4, no reflected light is generated. Further, if the first pressure-sensitive adhesive layer 10 or the second pressure-sensitive adhesive layer 11 laminated on the hologram forming layer 3 is made of a material having a refractive index substantially equal to that of the resin material of the hologram forming layer 3, diffracted light is also generated. It will not occur.

脆質剥離層5は、プラスチック基材2に有したホログラム形成層3とその他の層との剥離強度を調整するための層である。脆質剥離層5、第1の粘着剤層10、第2の粘着剤層11、がそれぞれ接する層との接着強度の強弱を調整することで、ICタグラベル1Aが被着体から剥離される際にどの層間で剥離するか、どの層構成が破壊されるかを調整することができる。   The brittle release layer 5 is a layer for adjusting the peel strength between the hologram forming layer 3 provided on the plastic substrate 2 and other layers. When the IC tag label 1A is peeled from the adherend by adjusting the strength of the adhesive strength with the layer to which the brittle release layer 5, the first pressure-sensitive adhesive layer 10, and the second pressure-sensitive adhesive layer 11 are in contact. It is possible to adjust which layer is peeled and which layer structure is destroyed.

ICタグ(非接触ICタグ)9Aは、ICタグ基材6Aに形成したアンテナ7AにICチップ8Aを実装したものである。ICタグ基材6Aのアンテナ7A等の形成面とは反対面に第1の粘着剤層10を積層して、第1の粘着剤層10を介して、ICタグ9Aを、ホログラム形成層3の反射性薄膜層4が形成されていない部分に接着する。そのため、アンテナ7A等の形成面が第2の粘着剤層11で覆われる面となるが、天地が逆となるようにしてもよい。その場合は、第1の粘着剤層10は、ICタグ基材6Aのアンテナ7A等の形成面に積層することになる。
ICタグ9Aは、アンテナ7Aを、図1(A)に示すような半波長ダイポールアンテナの形状として、UHF帯用又はGHz帯用のICタグとしてもよく、或いは、HF帯用のICタグとしてもよく、物品の管理用途に合わせて適宜選択可能である。アンテナ7Aは、ICタグ基材6Aに銅やアルミニウム等の金属箔をラミネート後、エッチング処理により形成するとよい。
The IC tag (non-contact IC tag) 9A is obtained by mounting an IC chip 8A on an antenna 7A formed on an IC tag base 6A. The first pressure-sensitive adhesive layer 10 is laminated on the surface opposite to the surface on which the antenna 7A or the like of the IC tag base 6A is formed, and the IC tag 9A is attached to the hologram forming layer 3 via the first pressure-sensitive adhesive layer 10. It adheres to the part where the reflective thin film layer 4 is not formed. Therefore, although the formation surface of the antenna 7A and the like is a surface covered with the second pressure-sensitive adhesive layer 11, the top and bottom may be reversed. In that case, the 1st adhesive layer 10 will be laminated | stacked on formation surfaces, such as the antenna 7A of IC tag base material 6A.
In the IC tag 9A, the antenna 7A may be a half-wave dipole antenna shape as shown in FIG. 1A, and may be an UHF band or GHz band IC tag, or an HF band IC tag. Often, it can be appropriately selected according to the management purpose of the article. The antenna 7A may be formed by etching after laminating a metal foil such as copper or aluminum on the IC tag base 6A.

ICタグラベル1Aには、断面で見た場合に、透明なプラスチック基材2を貫通又は半貫通し、更に、第2の粘着剤層11まで貫通又は半貫通する複数本の切込みkが形成されている。切込みkは、ICタグ基材6Aの端部を貫通又は半貫通し、且つ、平面で見た場合に、アンテナ7AやICチップ8Aには掛からない位置から、少なくともICタグ基材6Aの外縁に達する位置にまで形成される。切込みkを更にプラスチック基材2の外縁近傍まで延ばしてもよく、その場合でもプラスチック基材2の外縁から1〜5mm内側までとする。これにより、通常はICタグの非接触通信機能を損なわず、被着体への貼付前や貼付する際にICタグラベル1Aを誤って破断する事故を防止できる。   The IC tag label 1A has a plurality of cuts k penetrating or semi-penetrating through the transparent plastic substrate 2 and penetrating or semi-penetrating to the second pressure-sensitive adhesive layer 11 when viewed in cross section. Yes. The incision k penetrates or semi-penetrates the end of the IC tag base 6A and, when viewed in a plane, at least the outer edge of the IC tag base 6A from a position that does not hook the antenna 7A or the IC chip 8A. It is formed to reach the position. The cut k may be further extended to the vicinity of the outer edge of the plastic substrate 2, and even in that case, the depth is set to 1 to 5 mm inside from the outer edge of the plastic substrate 2. Thereby, normally, the non-contact communication function of the IC tag is not impaired, and an accident in which the IC tag label 1A is accidentally broken can be prevented before being attached to the adherend or when being attached.

[変形例]
ここで、上記した実施形態のICタグラベル1Aの変形例について説明する。
図2(A)は、本変形例のICタグラベル1Bを示す平面図、図2(B)は、そのX−X線での断面図である。図2(A)、(B)に示すように、本変形例のICタグラベル1Bは、紫外線吸収剤を添加したインキによりレジスト膜を形成して、金属蒸着層をエッチング処理によりドーナツ型に形成して、中央の金属蒸着層を形成していない部分にICタグ9Bを接着した、円形のラベル形状となっている。ハッチングを施した円環状の部分が、ホログラム効果を発揮することになる。紫外線吸収剤が添加されているレジスト膜は、そのままICタグラベル1Bに残し、紫外線吸収層12とする。これにより、ラベルの耐光性を高めることができる。
ICタグ9Bは、ICタグ基材6Bに形成した巻線コイル型のアンテナ7BにICチップ8Bを実装したものであり、第1実施形態のICタグ9Aと同様に、下記する製造方法<3>の工程でホログラム形成層3に接着する。
非接触ICタグ9Bの基材6B及びプラスチック基材2に切込みkが形成されているのは、第1実施形態と同様である。いずれの切込みkも非接触ICタグ9Bのアンテナ7B及びICチップ8Bとは交差または接触しないようにされていること、プラスチック基材2の外縁から1〜5mm内側まで延ばしているのも同様である。
[Modification]
Here, a modified example of the IC tag label 1A of the above-described embodiment will be described.
FIG. 2A is a plan view showing an IC tag label 1B according to this modification, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line XX. As shown in FIGS. 2 (A) and 2 (B), the IC tag label 1B of this modification example is formed by forming a resist film with ink added with an ultraviolet absorber and forming a metal vapor deposition layer into a donut shape by etching. Thus, the IC tag 9B is adhered to a portion where the central metal vapor deposition layer is not formed, thereby forming a circular label shape. The hatched annular portion exhibits the hologram effect. The resist film to which the ultraviolet absorber is added is left as it is on the IC tag label 1B to form the ultraviolet absorbing layer 12. Thereby, the light resistance of a label can be improved.
The IC tag 9B is obtained by mounting an IC chip 8B on a wound-coil antenna 7B formed on an IC tag base 6B. Similar to the IC tag 9A of the first embodiment, the following manufacturing method <3> It adheres to the hologram forming layer 3 in the step.
The cuts k are formed in the base material 6B and the plastic base material 2 of the non-contact IC tag 9B, as in the first embodiment. Any of the cuts k are not allowed to cross or contact the antenna 7B and the IC chip 8B of the non-contact IC tag 9B, and the same extends to the inside of the plastic substrate 2 from 1 to 5 mm. .

[材料]
<1>基材
プラスチック基材2及びICタグ基材6には、透明なプラスチックフィルムを用いる。例えば、以下に挙げる各種の単独フィルム或いは複合フィルムを使用でき、厚みは20μmから200μm程度が好ましい。PET(ポリエチレンテレフタレート)、PET−G(テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体)、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン6等のポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリカーボネート、ポリイミド、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、ポリスチレン系、ABS樹脂、ポリアクリル酸エステル、ポリプロピレン、ポリウレタン、等である。
なお、ICタグ基材6は透明なプラスチックフィルムに限らず、不透明なプラスチックフィルムでもよく、紙、合成紙でもよい。さらに、プラスチック基材2を通して利用者が視認可能に、ICタグ基材6の第1の粘着剤層10を設ける方の面に識別番号や名称などの印刷を施してもよい。
[material]
<1> Substrate A transparent plastic film is used for the plastic substrate 2 and the IC tag substrate 6. For example, various single films or composite films listed below can be used, and the thickness is preferably about 20 μm to 200 μm. PET (polyethylene terephthalate), PET-G (terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer), polyester resins such as polyethylene naphthalate, polyamide resins such as nylon 6, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate Copolymer, polycarbonate, polyimide, cellulose diacetate, cellulose triacetate, polystyrene, ABS resin, polyacrylate, polypropylene, polyurethane, and the like.
The IC tag base 6 is not limited to a transparent plastic film, but may be an opaque plastic film, paper, or synthetic paper. Furthermore, an identification number, a name, or the like may be printed on the surface of the IC tag base 6 on which the first pressure-sensitive adhesive layer 10 is provided so that the user can visually recognize it through the plastic base 2.

<2>脆質剥離層
脆質剥離層5には、物品に貼付されたICタグラベルを剥がそうとした場合に層間で剥離してICタグラベル1Aが破損するように、接着強度を調整した樹脂を用いる。例えば、以下に挙げる各種の樹脂を使用でき、プラスチック基材2に公知のロールコート、グラビアコート、ダイコート、コンマコート等の方法で塗布し乾燥させる。具体的には、アクリル樹脂、塩化ゴム樹脂、ブチルゴム、ポリクロロプレン、スチレン−ブタジエン共重合樹脂等の合成ゴム系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、セルロース樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂、ウレタン樹脂或いはシリコーン樹脂等の樹脂や、これらにシリコンオイル、脂肪酸アミドを混入した樹脂、或いは接着強度を調整するための無機フィラー等を混入した脆弱な樹脂を使用する。無機フィラーを混入すると透明性が低下するため、ホログラムの視認性を保つように添加量を調整する。
脆質剥離層5はその接着強度が、後述する第2の接着剤層11の物品との接着強度よりも弱く、且つ、ホログラム形成層3に形成された反射性薄膜層4の層間剥離強度よりも強くなるように調整する。これにより、物品に貼付されたICタグラベルを剥がそうとすると、脆質剥離層5の層でICタグラベル1Aが分離するときに、反射性薄膜層4が破壊されてホログラム効果が損なわれ、再使用が不可能となる。
<2> Brittle release layer The brittle release layer 5 is made of a resin whose adhesive strength is adjusted so that the IC tag label 1A may be damaged by peeling between the layers when the IC tag label affixed to the article is peeled off. Use. For example, the following various resins can be used, which are applied to the plastic substrate 2 by a known method such as roll coating, gravure coating, die coating, comma coating, and dried. Specifically, synthetic rubber resins such as acrylic resin, chlorinated rubber resin, butyl rubber, polychloroprene, styrene-butadiene copolymer resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, cellulose resin, chlorinated polypropylene resin, urethane resin Alternatively, a resin such as a silicone resin, a resin mixed with silicone oil or fatty acid amide, or a fragile resin mixed with an inorganic filler for adjusting the adhesive strength is used. When an inorganic filler is mixed, the transparency is lowered. Therefore, the addition amount is adjusted so as to maintain the visibility of the hologram.
The brittle release layer 5 has an adhesive strength that is weaker than the adhesive strength of the second adhesive layer 11 to be described later and an interlayer peel strength of the reflective thin film layer 4 formed on the hologram forming layer 3. Adjust to be stronger. As a result, when the IC tag label affixed to the article is peeled off, when the IC tag label 1A is separated by the layer of the brittle release layer 5, the reflective thin film layer 4 is destroyed and the hologram effect is impaired, and reuse is possible. Is impossible.

<3>ホログラム形成層
ホログラム形成層3には、ホログラムの凹凸構造を注型成型や射出成型等により再現できる熱可塑性樹脂、硬化性樹脂、或いは、光回折パターン情報に応じて硬化部と未硬化部とを成形することができる感光性樹脂組成物を用いる。具体的には、例えば、ポリ塩化ビニル、アクリル(ポリメチルメタクリレート)、ポリスチレン、又はポリカーボネート等の熱可塑性樹脂や、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ樹脂、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、又はトリアジン系アクリレート等の熱硬化性樹脂や、それらの単独又は混合物を利用できる。また、ラジカル重合性不飽和基を有し、熱成形性を有するものや、ラジカル重合性不飽和モノマーを添加した電離放射線硬化性樹脂組成物も使用できる。電離放射線硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ変性アクリレート樹脂、ウレタン変性アクリレート樹脂、アクリル変性ポリエステル等を適用でき、好ましくはウレタン変性アクリレート樹脂を用いる。必要に応じて、さらに、上記のような樹脂材料に光重合開始剤、可塑剤、安定剤、界面活性剤等を加え、溶媒へ分散又は溶解して使用する。また、ホログラムの視認性を損なわない程度に着色してもよい。
<3> Hologram formation layer The hologram formation layer 3 has a thermoplastic resin, a curable resin, or a cured portion and an uncured resin that can reproduce the concavo-convex structure of the hologram by casting or injection molding. The photosensitive resin composition which can shape | mold a part is used. Specifically, for example, thermoplastic resins such as polyvinyl chloride, acrylic (polymethyl methacrylate), polystyrene, or polycarbonate, unsaturated polyester, melamine, epoxy resin, polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, A thermosetting resin such as epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, or triazine-based acrylate, or a mixture thereof can be used. Moreover, what has a radically polymerizable unsaturated group and has thermoformability, and the ionizing radiation curable resin composition which added the radically polymerizable unsaturated monomer can also be used. As the ionizing radiation curable resin, for example, an epoxy-modified acrylate resin, a urethane-modified acrylate resin, an acrylic-modified polyester, or the like can be applied, and a urethane-modified acrylate resin is preferably used. If necessary, a photopolymerization initiator, a plasticizer, a stabilizer, a surfactant and the like are further added to the resin material as described above, and the resin material is used after being dispersed or dissolved in a solvent. Moreover, you may color so that the visibility of a hologram may not be impaired.

また、好ましくは、ホログラム形成層3の材料として、(1)分子中にイソシアネート基を3個以上有するイソシアネート類、(2)分子中に水酸基を少なくとも1個と(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有する多官能(めた)アクリレート類、又は(3)分子中に水酸基を少なくとも2 個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂、反応性シリコーン及びポリエチレンワックスを含むようにするとよい。さらに好ましくは、(メタ)アクリレートオリゴマーを含ませる。その組成物を基材に塗布してから乾燥させて、ホログラム機能を発現するための微細なレリーフ構造等を賦活した後に、電離放射線で硬化させる。電離放射線硬化性樹脂は架橋性樹脂とも言われ、他の層でも同様に利用できる。   Preferably, the material of the hologram forming layer 3 is (1) an isocyanate having three or more isocyanate groups in the molecule, and (2) at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. Ionizing radiation curable resin containing urethane (meth) acrylate oligomer, which is a reaction product of polyfunctional (meth) acrylates having polyhydric acid, or (3) polyhydric alcohols having at least two hydroxyl groups in the molecule, reaction It is advisable to include functional silicone and polyethylene wax. More preferably, a (meth) acrylate oligomer is included. The composition is applied to a substrate and dried to activate a fine relief structure or the like for exhibiting a hologram function, and then cured with ionizing radiation. The ionizing radiation curable resin is also called a crosslinkable resin and can be used in other layers as well.

<4>反射性薄膜層
反射性薄膜層4は、ホログラム形成層3に金属材料を蒸着して形成する。金属材料としては、アルミニウムが適用できるが、必要に応じて、金、銀、銅、真鍮、チタン、クロム、ニッケル、ニッケルクロム、ステンレス等も使用できる。反射性薄膜層4の膜厚は、10nm〜1000nmが好ましく、さらに好ましくは30nm〜500nmとする。
<4> Reflective Thin Film Layer The reflective thin film layer 4 is formed by evaporating a metal material on the hologram forming layer 3. Aluminum can be used as the metal material, but gold, silver, copper, brass, titanium, chromium, nickel, nickel chromium, stainless steel, and the like can be used as necessary. The thickness of the reflective thin film layer 4 is preferably 10 nm to 1000 nm, and more preferably 30 nm to 500 nm.

<5>粘着剤層
第1の粘着剤層10及び第2の粘着剤層11には、公知の粘着剤を用いる。具体的には、例えば、天然ゴム系、ブチルゴム、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ポリクロロプレン、スチレン−ブタジエン共重合樹脂等の合成ゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体等との酢酸ビニル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリロニトリル、炭化水素樹脂、アルキルフェノール樹脂、ロジン、ロジントリグリセリド、水素化ロジン等のロジン系樹脂を利用できる。材料樹脂を溶剤に溶解又は分散させ、適宜顔料等の添加剤を添加して、公知のロールコート、グラビアコート、ダイコート、コンマコート等の方法で塗布し乾燥させて、厚さ5μm〜50μmとする。
また、第2の粘着剤層11は、一旦接着しても容易に剥離できる程度の強度で接着する弱粘着性粘着剤とする。ICタグ基材6との接着力(180度剥離接着強度)が2.4〜80CN/cmであれば、弱粘着性であると考えられる。弱粘着性の粘着剤には、通常、ゴム系やウレタン系、アクリル系等の各種材料が使用される。
<5> Adhesive Layer A known adhesive is used for the first adhesive layer 10 and the second adhesive layer 11. Specifically, for example, natural rubber, butyl rubber, polyisoprene, polyisobutylene, polychloroprene, styrene-butadiene copolymer resin and other synthetic rubber resins, silicone resins, acrylic resins, polyvinyl acetate, ethylene-acetic acid A rosin resin such as vinyl acetate resin, urethane resin, acrylonitrile, hydrocarbon resin, alkylphenol resin, rosin, rosin triglyceride, hydrogenated rosin and the like with vinyl copolymer can be used. Dissolve or disperse the material resin in a solvent, add an additive such as a pigment as appropriate, and apply and dry by a method such as a known roll coat, gravure coat, die coat, or comma coat to a thickness of 5 μm to 50 μm. .
The second pressure-sensitive adhesive layer 11 is a weak pressure-sensitive adhesive that adheres with such a strength that it can be easily peeled once it is bonded. If the adhesive strength (180 degree peel adhesive strength) with the IC tag substrate 6 is 2.4 to 80 CN / cm, it is considered to be weakly tacky. Various materials such as rubber-based, urethane-based, and acrylic-based materials are usually used for the weak-adhesive pressure-sensitive adhesive.

<6>剥離紙
剥離紙は公知のものでよく、例えば上質紙、コート紙、含浸紙又はプラスチックフィルム等の基材の片面に離型性材料によって離型層を形成する。離型性材料としては、例えば、シリコーン樹脂、有機樹脂変性シリコーン樹脂、フッ素樹脂、アミノアルキド樹脂、ポリエステル樹脂等がある。これらの樹脂は、エマルジョン型、溶剤型又は無溶剤型のいずれでもよい。剥離紙は、ICタグラベル1Aと同じ大きさ又はICタグラベル1Aより広い面積となるものを、離型層を形成した面と第2の粘着剤層11とが接するように用いる。
<6> Release Paper The release paper may be a known one. For example, a release layer is formed on one surface of a base material such as high-quality paper, coated paper, impregnated paper, or plastic film using a release material. Examples of the releasable material include silicone resin, organic resin-modified silicone resin, fluororesin, aminoalkyd resin, and polyester resin. These resins may be emulsion type, solvent type or solventless type. The release paper having the same size as the IC tag label 1A or an area larger than the IC tag label 1A is used so that the surface on which the release layer is formed and the second pressure-sensitive adhesive layer 11 are in contact with each other.

[製造方法]
次に、ICタグラベルの製造方法について説明する。
[Production method]
Next, the manufacturing method of an IC tag label is demonstrated.

<1>ホログラム効果部(ホログラム再現部)の形成
まず、連続シート状の透明なプラスチック基材2の片面に、ホログラム形成層3の樹脂材料をグラビアコート、ロールコート、リバースロールコート、ダイコート、コンマコート等の塗布方式により塗布して乾燥させた後、ホログラムパターンを形成する。乾燥後のホログラム形成層3の塗膜厚は、1.0〜10μm程度とする。
続いて、ホログラム形成層3の塗膜面の全面に、レリーフ形状の型押しによって、ホログラムパターンを形成する。レリーフ形状は特に限定されるものではなく、微細な凹凸形状を有する光拡散、光散乱、光反射、光回折等の機能を発現するものであればよい。
レリーフ形状の作成方法としては、例えば、ホログラム撮影記録手段を利用して作成されたホログラムや回折格子の他に、干渉や回折という光学計算に基づいて電子線描画装置により作成されたCGH(コンピュータジェネレーティッドホログラム)や回折格子が挙げられる。レリーフ形状の型押しは、回折格子や干渉縞が凹凸で記録された原版をプレス型として用い、ホログラム形成層3面上にプレス型を重ねて加熱ロールにより両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸形状をホログラムパターンとしてホログラム形成層3に賦形(複製とも言う)することができる。
<1> Formation of Hologram Effect Portion (Hologram Reproduction Portion) First, the resin material of the hologram forming layer 3 is applied to one side of a continuous sheet-like transparent plastic substrate 2 by gravure coating, roll coating, reverse roll coating, die coating, comma. After applying and drying by a coating method such as a coat, a hologram pattern is formed. The coating thickness of the hologram forming layer 3 after drying is about 1.0 to 10 μm.
Subsequently, a hologram pattern is formed on the entire surface of the coating film surface of the hologram forming layer 3 by embossing a relief shape. The relief shape is not particularly limited as long as it has functions such as light diffusion, light scattering, light reflection, and light diffraction having a fine uneven shape.
As a method for creating a relief shape, for example, in addition to a hologram and a diffraction grating created by using a hologram photographing / recording means, a CGH (computer generaton) created by an electron beam drawing apparatus based on optical calculations such as interference and diffraction. A rated hologram) and a diffraction grating. Relief-shaped embossing is performed by using an original plate on which diffraction gratings and interference fringes are recorded in a concave-convex shape as a press die, and overlaying the press die on the surface of the hologram forming layer 3 and heat-pressing them with a heating roll. The concavo-convex shape can be shaped (also referred to as replication) on the hologram forming layer 3 as a hologram pattern.

次に、ホログラム形成層3のホログラムパターンが賦形された面に、反射性薄膜層4を形成する。これには、巻き取り式真空蒸着装置にウェブを供給して、アルミニウム等の金属を10〜1000nmの厚みとなるように連続的に蒸着することにより形成できる。
続いて、反射性薄膜層4面にレジスト膜を形成する。レジスト膜は、後の酸又はアルカリ処理に耐性があるものであればよく、通常の印刷インキを用いてスクリーン印刷法やグラビア印刷法により形成できる。レジスト膜は一定間隔の帯状に形成してもよいし、例えば、ICタグ9が円環状又は矩形状の中抜き部の内側に配置されるように、中抜き部を有
する円環状等の形状を一定間隔で形成してもよい。
Next, the reflective thin film layer 4 is formed on the surface of the hologram forming layer 3 on which the hologram pattern is shaped. This can be formed by supplying a web to a take-up vacuum deposition apparatus and continuously depositing a metal such as aluminum to a thickness of 10 to 1000 nm.
Subsequently, a resist film is formed on the surface of the reflective thin film layer 4. The resist film only needs to be resistant to subsequent acid or alkali treatment, and can be formed by a screen printing method or a gravure printing method using a normal printing ink. The resist film may be formed in a band shape with a constant interval. For example, the resist film may have an annular shape or the like having a hollow portion so that the IC tag 9 is disposed inside the circular or rectangular hollow portion. It may be formed at regular intervals.

次に、弱酸又は弱アルカリ液でエッチング処理して、レジスト膜で保護されていない部分の反射性薄膜層4を除去する。反射性薄膜層4の材料がアルミニウムの場合、通常、苛性ソーダの3〜10%水溶液に浸漬する。残ったレジスト膜は除去しなくてもよく、その場合は、ICタグラベル1Aに色彩を付したり装飾的絵柄として利用することもできる。
また、レジスト膜として紫外線吸収剤又はラジカル補足剤を添加したインキを用いてもよい。エッチング後に残ったレジスト膜は、紫外線吸収層12(図2(B)参照)としてICタグラベル1Aをガラス窓等に貼付した場合に、第2の粘着剤層11側からの太陽光等の紫外線照射による劣化を防止できる。エッチング後は、酸又はアルカリが残らないように水洗を十分に行う。
<2>脆質剥離層の形成
次に、ホログラム形成層3の反射性薄膜層4を形成した面に、脆質剥離層5の樹脂材料を上記と同様の塗布方式により塗布して乾燥させ、脆質剥離層5を形成する。乾燥後の脆質剥離層5の塗膜厚は、0.5〜5μm程度とする。
Next, an etching process is performed with a weak acid or a weak alkali solution, and the reflective thin film layer 4 that is not protected by the resist film is removed. When the material of the reflective thin film layer 4 is aluminum, it is usually immersed in a 3 to 10% aqueous solution of caustic soda. The remaining resist film may not be removed, and in that case, the IC tag label 1A can be colored or used as a decorative pattern.
Moreover, you may use the ink which added the ultraviolet absorber or the radical scavenger as a resist film. The resist film remaining after the etching is irradiated with ultraviolet rays such as sunlight from the second pressure-sensitive adhesive layer 11 side when the IC tag label 1A is attached to a glass window or the like as the ultraviolet absorbing layer 12 (see FIG. 2B). It can prevent deterioration due to. After etching, it is sufficiently washed with water so that no acid or alkali remains.
<2> Formation of Brittle Peeling Layer Next, the resin material of the brittle peeling layer 5 is applied to the surface of the hologram forming layer 3 on which the reflective thin film layer 4 is formed by the same coating method as described above, and is dried. A brittle release layer 5 is formed. The coating thickness of the brittle release layer 5 after drying is about 0.5 to 5 μm.

<3>非接触ICタグの接着
次に、反射性薄膜層4が形成されていない部分の脆質剥離層5の面に、第1の粘着剤層10を介してICタグ9Aを一定間隔で接着する。この工程では、予め、第1の粘着剤層10が塗布されたICタグ9Aを連続シート状の剥離紙に一定間隔で仮貼したものを、ラベル貼り機を用いて連続的に貼り付けする。
この後、プラスチック基材2のICタグ9Aを貼付した面に、予め離型層形成面に第2の粘着剤層11を塗布した剥離紙を、第2の粘着剤層11を介して積層する。なお、ICタグ9Aを塗布した面の全面に第2の粘着剤層11を塗布後、剥離紙を積層してもよい。また、図示しないが、ICタグ基材6Aのアンテナ7A及びICチップ8Aを形成した面に保護層を設けてもよい。
<3> Adhesion of non-contact IC tag Next, the IC tag 9A is attached to the surface of the brittle release layer 5 where the reflective thin film layer 4 is not formed via the first adhesive layer 10 at regular intervals. Glue. In this step, the IC tag 9A to which the first pressure-sensitive adhesive layer 10 has been applied is temporarily pasted onto a continuous sheet-like release paper at regular intervals using a labeling machine.
Thereafter, a release paper in which the second pressure-sensitive adhesive layer 11 is previously applied to the release layer forming surface is laminated on the surface of the plastic substrate 2 to which the IC tag 9A is attached via the second pressure-sensitive adhesive layer 11. . Note that release paper may be laminated after applying the second pressure-sensitive adhesive layer 11 over the entire surface to which the IC tag 9A has been applied. Although not shown, a protective layer may be provided on the surface of the IC tag base 6A on which the antenna 7A and the IC chip 8A are formed.

<4>打ち抜き加工
最後に、連続シートからのラベル形状の打ち抜き及び各単位のICタグラベル1Aの切込み加工を行う。これらはどちらかを先に行っても同時に行ってもよい。1種類の抜き型(抜き刃)によって同時に行えるようにしてもよい。切込みkは、プラスチック基材2の表面から見て、剥離紙までは達しないで且つ少なくともICタグ基材6Aを貫通する深さとなるように形成する。ラベル形状の打ち抜きは、剥離紙は打ち抜かない深さとして、連続シート状の剥離紙を、更にICタグラベル1Aの1単位毎或いは所定単位毎に裁断すると、シール上のICタグラベル1Aの個切れシートを得られる。ラベルの形状は、円形、楕円形、矩形、多角形、星型等、任意の形状にできる。また、各切込みの長さを様々としたが、長さが略同一となるように形成してもよい。
<4> Punching process Finally, the label shape is punched from the continuous sheet and the IC tag label 1A for each unit is cut. Either of these may be performed first or simultaneously. You may make it possible to carry out simultaneously by one type of punching die (punching blade). The cut k is formed so as not to reach the release paper and to have a depth that penetrates at least the IC tag substrate 6A when viewed from the surface of the plastic substrate 2. The punching of the label shape is such that the release paper is not deeply punched, and the continuous sheet-like release paper is further cut for each unit of the IC tag label 1A or for each predetermined unit. can get. The shape of the label can be any shape such as a circle, an ellipse, a rectangle, a polygon, and a star. Moreover, although the length of each notch was various, you may form so that length may become substantially the same.

なお、第2の粘着剤層11及び剥離紙の積層前に、プラスチック基材2のホログラム形成層3等を形成した側から、切込みkのみ形成して、その後、第2の粘着剤11及び剥離紙を積層してからラベル形状の打ち抜き加工を行うようにすることもできる。この場合は、プラスチック基材2を半貫通させてラベルの最表面には切り込みが達しないようにして、表側の切込み線を目立たないようにすることができる。   Before the second pressure-sensitive adhesive layer 11 and release paper are laminated, only the cut k is formed from the side of the plastic substrate 2 on which the hologram forming layer 3 and the like are formed, and then the second pressure-sensitive adhesive 11 and the release paper are peeled off. It is also possible to carry out the punching of the label shape after laminating the paper. In this case, the plastic substrate 2 can be half-penetrated so that the cut does not reach the outermost surface of the label so that the cut line on the front side is not noticeable.

透明なプラスチック基材2として、厚み25μm、幅110mmのPETフィルムを使用し、一方の面に、以下の電離放射線硬化性樹脂組成物Aをグラビアリバースコート法により乾燥後の厚みが約2μmとなるように塗工して、セ氏100度(以下単に「度」と記す)で乾燥させた。   A PET film having a thickness of 25 μm and a width of 110 mm is used as the transparent plastic substrate 2, and the thickness after drying the following ionizing radiation curable resin composition A on one surface by the gravure reverse coating method is about 2 μm. And dried at 100 degrees Celsius (hereinafter simply referred to as “degrees”).

[電離放射線硬化性樹脂組成物の作製手順]
まず、「電離放射線硬化性樹脂組成物M」を以下の手順で生成した。攪拌機、還流冷却機、滴下漏斗及び温度計を取り付けた反応器に、酢酸エチル206.1g及びイソホロンジイソシアネートの三量体(HULS社製品、VESTANAT T1890、融点110度)133.5gを仕込み、80度に昇温して溶解させた。溶液中に空気を吹き込んだ後、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.38g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(大阪有機化学工業社製品、ビスコート300)249.3g及びジブチル錫ジウラレート0.38gを仕込んだ。80度で5時間反応させた後、酢酸エチル688.9gを添加して冷却した。
[Production procedure of ionizing radiation curable resin composition]
First, “ionizing radiation curable resin composition M” was produced by the following procedure. A reactor equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer was charged with 206.1 g of ethyl acetate and 133.5 g of a trimer of isophorone diisocyanate (HULS product, VESTANAT T1890, melting point 110 ° C.) at 80 ° C. The solution was heated to dissolve. After air was blown into the solution, 0.38 g of hydroquinone monomethyl ether, 249.3 g of pentaerythritol triacrylate (product of Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., Viscoat 300) and 0.38 g of dibutyltin diurarate were charged. After reacting at 80 degrees for 5 hours, 688.9 g of ethyl acetate was added and cooled.

該「電離放射線硬化性樹脂組成物M」と、造膜性樹脂(アクリル系オリゴマー)、反応性シリコーン、ポリエチレンワックス、光重合開始剤および溶媒を下記の組成で配合して、電離放射線硬化性樹脂組成物Aを調製した。
[電離放射線硬化性樹脂組成物A]
「電離放射線硬化性樹脂組成物M」 25質量部
メタアクリレートオリゴマー(日本合成化学社製、商品名紫光6630B) 5質量部
反応性シリコーン(信越化学社製、商品名X−22−2445) 0.2質量部
ポリエチレンワックス(平均粒径2.0μm) 0.3質量部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア907) 0.9質量部
酢酸エチル 70質量部
The “ionizing radiation curable resin composition M”, a film-forming resin (acrylic oligomer), a reactive silicone, a polyethylene wax, a photopolymerization initiator and a solvent are blended in the following composition to form an ionizing radiation curable resin. Composition A was prepared.
[Ionizing radiation curable resin composition A]
"Ionizing radiation curable resin composition M" 25 parts by mass methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name: Murasaki 6630B) 5 parts by weight of reactive silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: X-22-2445) 2 parts by mass polyethylene wax (average particle size 2.0 μm) 0.3 parts by mass photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 907) 0.9 parts by mass ethyl acetate 70 parts by mass

次に、ホログラム形成層3面へ、2光束干渉法による回折格子から2P法で複製して擬似連続絵柄としたプレス型を、複製装置のエンボスローラーに装着して、相対するローラー間で加熱プレス(エンボス)して、微細な凹凸パターンからなるホログラムパターンを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。   Next, a press die that is duplicated by the 2P method from the diffraction grating by the two-beam interference method to the hologram forming layer 3 surface is attached to the embossing roller of the duplicating apparatus, and heated between the opposing rollers. (Embossed) to form a hologram pattern consisting of a fine uneven pattern. Immediately after shaping, it was cured by irradiating with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp.

次に、ホログラム形成層3のホログラムパターン面に、巻き取り式真空蒸着装置を用いてアルミニウムからなる反射性薄膜層4を厚さ50nmになるよう全面に蒸着した。そして、反射性薄膜層4の一部に、アクリル系樹脂からなるアルカリ耐性のインキ兼レジスト(ザ・インクテック社製)を用いて、乾燥後の厚さが1.5μm程度となるようにグラビア印刷法で34.5mm幅の帯状に印刷して、レジスト膜を形成した。
次に、レジスト膜形成した反射性薄膜層4を、6〜8%質量濃度のNaOH液に20秒程度の短時間通して、レジスト膜の形成されていない部分のアルミニウム蒸着層を溶解させて除去した。その後、アルカリ液が残らないようにプラスチック基材2をよく水洗して、乾燥させた。
Next, the reflective thin film layer 4 made of aluminum was vapor-deposited on the entire surface of the hologram forming layer 3 so as to have a thickness of 50 nm using a take-up vacuum vapor deposition apparatus. Then, a gravure is applied to a part of the reflective thin film layer 4 using an alkali-resistant ink and resist (made by The Inktec Co., Ltd.) made of an acrylic resin so that the thickness after drying becomes about 1.5 μm. A resist film was formed by printing in a strip shape having a width of 34.5 mm by a printing method.
Next, the reflective thin film layer 4 formed with the resist film is passed through a NaOH solution having a concentration of 6 to 8% for a short time of about 20 seconds to dissolve and remove the aluminum vapor deposition layer in a portion where the resist film is not formed. did. Thereafter, the plastic substrate 2 was thoroughly washed with water and dried so that no alkaline solution remained.

次いで、反射性薄膜層面と反射性薄膜層が形成されていないホログラム形成層面の全面に、脆質剥離層5形成用組成物(昭和インク株式会社製、アクリル樹脂系組成物)を、トルエンとメチルエチルケトンを用いて固形分が12質量%として、乾燥後の厚みが1μm程度になるようにグラビア印刷法により塗工した。 Next, on the entire surface of the reflective thin film layer surface and the hologram forming layer surface on which the reflective thin film layer is not formed, a brittle release layer 5 forming composition (acrylic resin-based composition manufactured by Showa Ink Co., Ltd.) is added to toluene and methyl ethyl ketone. Was applied by gravure printing so that the solid content was 12% by mass and the thickness after drying was about 1 μm.

上記工程とは別に準備した、厚み25μmのPETからなる幅18mm、長さ95mmのICタグ基材6に半波長ダイポールアンテナ7を有するICタグ9(連続シート状の剥離紙に弱粘着性の第1の粘着剤層10によりラベル加工されたもの)を、ホログラム形成層3の反射性薄膜層4が除去された34mmの幅部分に、ラベル貼り機によって順次、接着した。次に、粘着剤(日本カーバイド社製、ニッセツPE−118+CK101)を、乾燥後の膜厚が30μmとなるようにコンマコーターで塗布し、100度で乾燥して溶剤を揮散させて、第2の粘着剤層11を形成し、更に、幅110mmの連続シート状の剥離紙を貼合した。   Prepared separately from the above steps, an IC tag 9 having a half-wavelength dipole antenna 7 on an IC tag base 6 having a width of 18 mm and a length of 95 mm made of PET having a thickness of 25 μm (a weakly adhesive first sheet on a continuous sheet of release paper) No. 1 pressure-sensitive adhesive layer 10) was sequentially adhered to a 34 mm width portion of the hologram forming layer 3 from which the reflective thin film layer 4 was removed by a labeling machine. Next, a pressure sensitive adhesive (Nippon Carbide, Nissetsu PE-118 + CK101) was applied with a comma coater so that the film thickness after drying was 30 μm, dried at 100 degrees to volatilize the solvent, and the second The pressure-sensitive adhesive layer 11 was formed, and a continuous sheet-like release paper having a width of 110 mm was further bonded.

次に、抜き刃(抜き型)を用い、透明なプラスチック基材2の表面側から第2の粘着剤層11までを、剥離紙は切断しない深さまで打ち抜きして、幅101.6mm、長さ68.5mmの略矩形状のラベル輪郭と、図1(A)のような33本の切込みkを形成した。各切込みkは、ICタグ9のアンテナ7及びICチップ8とは交わらない位置(1〜2mm 離れた位置)から、少なくともICタグ基材6の外縁には達する位置までの長さとし、長い切込みでもプラスチック基材2の外縁から1〜5mm内側の位置までの長さとした。
その後、ラベル形状の打ち抜き残部分を除去して、連続シート状の剥離紙をICタグラベル1を1単位含む長さ81mmずつの個切れとなるように切断した。
Next, a punching blade (cutting die) is used to punch from the surface side of the transparent plastic substrate 2 to the second pressure-sensitive adhesive layer 11 to a depth at which the release paper is not cut, and a width of 101.6 mm and a length of A substantially rectangular label outline of 68.5 mm and 33 cuts k as shown in FIG. 1A were formed. Each incision k is a length from a position that does not intersect with the antenna 7 and the IC chip 8 of the IC tag 9 (a position that is 1 to 2 mm away) to a position that reaches at least the outer edge of the IC tag base 6. The length from the outer edge of the plastic substrate 2 to a position 1 to 5 mm inside.
Thereafter, the label-shaped punching remaining portion was removed, and the continuous sheet-like release paper was cut into pieces each having a length of 81 mm including 1 unit of the IC tag label 1.

上記のように作製したICタグラベル1は、透明なプラスチック基材2の側からは、反射性薄膜層4が形成された部分にホログラムが再現され、優れた外観を示した。
このICタグラベル1のICタグ9に、UHF帯用のICタグリーダライタでデータ書込みしてから被着体に貼付し、その後、リーダーで読み取りしたところ、確実にデータを読み取れた。一方、被着体から剥がすため、プラスチック基材2の端部分を摘んで引張ると、脆質剥離層5の層間でラベルが破断すると共に、切込みkが拡大することによる引裂き力が波及して反射性薄膜層4が破壊されて、ホログラム効果が損なわれた。このとき、ICタグ9は、第2の粘着剤層11の粘着力が第1の粘着剤層10の粘着力より強いため被着体に残った。更に、被着体からICタグ9を剥がそうと試みると、切込みkが拡大してアンテナ7が切断されて、非接触通信が不可能となった。
From the transparent plastic substrate 2 side, the IC tag label 1 produced as described above reproduced a hologram on the portion where the reflective thin film layer 4 was formed, and showed an excellent appearance.
When data was written to the IC tag 9 of the IC tag label 1 with an IC tag reader / writer for UHF band and then attached to the adherend, and then read with a reader, the data could be read reliably. On the other hand, in order to peel off from the adherend, when the end portion of the plastic substrate 2 is picked and pulled, the label breaks between the layers of the brittle release layer 5 and the tearing force due to the enlargement of the cut k is reflected and reflected. The thin film layer 4 was destroyed and the hologram effect was impaired. At this time, the IC tag 9 remained on the adherend because the adhesive force of the second adhesive layer 11 was stronger than the adhesive force of the first adhesive layer 10. Furthermore, when an attempt was made to peel off the IC tag 9 from the adherend, the cut k was enlarged and the antenna 7 was cut, making non-contact communication impossible.

本発明は、流通分野、配送管理、工場工程管理等において、物品や物品の収納ケースに貼付又は添付する荷札、ラベル又は伝票として、当該物品の流通管理、製品認証等に利用できる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used for distribution management of products, product authentication, and the like as a tag, label, or slip attached to or attached to an article or an article storage case in the distribution field, delivery management, factory process management, or the like.

1,1A,1B…ICタグラベル(ホログラム付きICタグラベル)
2…プラスチック基材
3…ホログラム形成層
4…反射性薄膜層
5…脆質剥離層
6,6A,6B…ICタグ基材
7,7A,7B…アンテナ
8,8A,8B…ICチップ
9,9A,9B…ICタグ(非接触ICタグ)
10…第1の粘着剤層
11…第2の粘着剤層
12…紫外線吸収層
1,1A, 1B ... IC tag label (IC tag label with hologram)
2 ... Plastic substrate 3 ... Hologram forming layer 4 ... Reflective thin film layer 5 ... Brittle release layer 6, 6A, 6B ... IC tag substrate 7, 7A, 7B ... Antenna 8, 8A, 8B ... IC chip 9, 9A , 9B ... IC tag (non-contact IC tag)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... 1st adhesive layer 11 ... 2nd adhesive layer 12 ... Ultraviolet absorption layer

Claims (4)

透明なプラスチック基材の一面に、ホログラムパターンを有するホログラム形成層を積層し、当該ホログラムパターン面の少なくとも一部に反射性薄膜層が形成されてホログラム効果部を構成しており、該反射性薄膜層面と反射性薄膜層が形成されていないホログラム形成層面の全面に脆質剥離層が積層され、該脆質剥離層面の一部に非接触ICタグが第1の粘着剤層により接着され、該非接触ICタグと脆質剥離層の全面に第2の粘着剤層を積層したホログラム付き非接触ICタグラベルであって、
非接触ICタグのアンテナ及びICチップとは交差または接触しない位置から、前記透明なプラスチック基材の外縁へ向けて、少なくともICタグ基材の外縁に達する複数本の切込みが形成されていることを特徴とするホログラム付き非接触ICタグラベル。
A hologram forming layer having a hologram pattern is laminated on one surface of a transparent plastic substrate, and a reflective thin film layer is formed on at least a part of the hologram pattern surface to constitute a hologram effect portion. A brittle release layer is laminated on the entire surface of the hologram forming layer surface on which the layer surface and the reflective thin film layer are not formed, and a non-contact IC tag is adhered to a part of the brittle release layer surface by the first pressure-sensitive adhesive layer. A non-contact IC tag label with a hologram in which a second pressure-sensitive adhesive layer is laminated on the entire surface of a contact IC tag and a brittle release layer,
A plurality of cuts reaching at least the outer edge of the IC tag base material are formed from a position where the antenna and the IC chip of the non-contact IC tag do not intersect or contact the outer edge of the transparent plastic base material. Characteristic non-contact IC tag label with hologram.
前記脆質剥離層と前記ホログラム形成層との接着強度が、前記脆質剥離層と前記第1の粘着剤層との接着強度より強く、かつ前記第2の粘着剤層と被着体との接着強度より弱く、前記ホログラム付き非接触ICタグラベルが被着体から剥がされたときに、前記非接触ICタグが被着体側に残ることを特徴とする請求項1記載のホログラム付き非接触ICタグラベル。 The adhesive strength between the brittle release layer and the hologram forming layer is stronger than the adhesive strength between the brittle release layer and the first pressure-sensitive adhesive layer, and between the second pressure-sensitive adhesive layer and the adherend. 2. The non-contact IC tag label with hologram according to claim 1, wherein the non-contact IC tag label with hologram is left on the adherend side when the non-contact IC tag label with hologram is peeled off from the adherend, which is weaker than the adhesive strength. . 前記ホログラム形成層は、前記プラスチック基材の全面に形成され、前記非接触ICタグは、前記ホログラム形成層の前記反射性薄膜層が形成されていない部分に前記第1の粘着剤層によって接着されていることを特徴とする請求項1または請求項2記載のホログラム付き非接触ICタグラベル。 The hologram forming layer is formed on the entire surface of the plastic substrate, and the non-contact IC tag is adhered to the portion of the hologram forming layer where the reflective thin film layer is not formed by the first pressure-sensitive adhesive layer. The non-contact IC tag label with a hologram according to claim 1, wherein the non-contact IC tag label has a hologram. 前記複数本の切込みは、前記プラスチック基材の外縁には接しないで、前記プラスチック基材の外縁から1〜5mm離れた位置まで達するように形成されていることを特徴とする請求項1ないし請求項3の何れか1の請求項記載のホログラム付き非接触ICタグラベル。 The plurality of cuts are formed so as not to contact the outer edge of the plastic substrate but to reach a position 1-5 mm away from the outer edge of the plastic substrate. The non-contact IC tag label with a hologram according to claim 3.
JP2009209026A 2009-09-10 2009-09-10 Non-contact IC tag label with hologram Active JP5233925B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009209026A JP5233925B2 (en) 2009-09-10 2009-09-10 Non-contact IC tag label with hologram

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009209026A JP5233925B2 (en) 2009-09-10 2009-09-10 Non-contact IC tag label with hologram

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011059992A JP2011059992A (en) 2011-03-24
JP5233925B2 true JP5233925B2 (en) 2013-07-10

Family

ID=43947543

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009209026A Active JP5233925B2 (en) 2009-09-10 2009-09-10 Non-contact IC tag label with hologram

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5233925B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101198212B1 (en) 2011-05-20 2012-11-07 현대그린테크 주식회사 Rfid tag having self-destructing function

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003308510A (en) * 2002-04-17 2003-10-31 Toppan Printing Co Ltd Re-sticking prevention noncontact type tag
JP4013653B2 (en) * 2002-05-27 2007-11-28 凸版印刷株式会社 Fraud prevention contactless tag
JP2009075712A (en) * 2007-09-19 2009-04-09 Toppan Printing Co Ltd Ic label for forgery prevention
JP5157394B2 (en) * 2007-11-29 2013-03-06 凸版印刷株式会社 RFID transfer foil with optical function, RFID tag with optical function, and information recording medium including the tag

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011059992A (en) 2011-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9778618B2 (en) Multilayer film and authentication label
JP2002351290A (en) Hologram layered product and hologram label
JP2001510405A (en) Method of manufacturing security tape and security thread
JP2002351330A (en) Hologram laminate and hologram label
WO2006085597A1 (en) Multi-pattern bright film, multi-pattern bright sled, and bright multi-pattern product using them
JP4013653B2 (en) Fraud prevention contactless tag
JP2000284673A (en) Volume hologram laminated body and label for production of volume hologram laminated body
JP2009134398A (en) Rfid transfer foil with optical function, rfid tag with optical function and information recording medium with the same tag
JP4900150B2 (en) Brittle label and manufacturing method thereof
JP5233925B2 (en) Non-contact IC tag label with hologram
JP3915479B2 (en) Anti-sticking sticker and anti-sticking method
JP5724443B2 (en) Hologram label
JP5741009B2 (en) Hologram label
JP5396007B2 (en) Tamper-proof adhesive label
JP2012173430A (en) Hologram label
JP4765201B2 (en) OVD seal and manufacturing method thereof
JP2008211169A (en) Sheet-like magnetic substance and its manufacturing method
JP2002366038A (en) Ovd seal, producing method thereof and sticking method thereof
JP5532911B2 (en) Hologram label
JP2001219681A (en) Decorative body
JP5471431B2 (en) Hologram label manufacturing method and hologram label
JP2011227276A (en) Forgery preventive label and forgery preventive article
JP5071448B2 (en) Volume hologram laminate and label for producing volume hologram laminate
JP5564940B2 (en) Hologram label
JP2000010458A (en) Brittle seal and its production

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120727

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130220

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130226

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130311

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5233925

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160405

Year of fee payment: 3