JP5231704B2 - 流動媒体の少なくとも１つのパラメータを測定する装置 - Google Patents

Description

従来の技術
本発明は、導管内を流れる媒体の少なくとも１つのパラメータを測定する装置であって、センサエレメントを受容するためのセンサ保持体が設けられている、請求項１の上位概念部に記載された形式の装置に関する。

ドイツ連邦共和国特許第４４２６１０２号明細書もしくは米国特許第５６９３８７９号明細書に基づいて公知の、空気質量測定装置におけるセンサエレメントのためのセンサ保持体では、センサ保持体のセンサエレメントが、内部を媒体が流れる測定通路内に突入している。センサエレメントは測定信号を発信し、この測定信号は流動媒体の質量を計算するために役立つ。センサ保持体は切欠きを有しており、この切欠き内にはセンサエレメントが同一平面を成すように装入されていて、切欠きの底面に塗布された接着剤層を用いて保持される。この場合センサ保持体は次のことによって生ぜしめられる。すなわちこの場合１つの金属条片からまず初めに、センサエレメントの外径にほぼ相当する開口が形成され、その後で金属条片が切欠きの外側における曲げ軸線を中心にして曲げられ、次いで押し潰され、その結果金属条片の曲げられた部分が保持エレメントを形成し、かつ金属条片の曲げられていない部分は開口と共に、センサ保持体のフレームエレメントを形成する。保持エレメントはこの場合フレームエレメントの開口を覆い、フレームエレメントと共に切欠きを形成する。その後で保持エレメントをさらに変形させることによって、台地状の隆起部が形成され、これらの隆起部はスペーサホルダ又は載置面として働く。次いでセンサエレメントは切欠き内に接着固定される。

センサエレメントをその表面が可能な限りセンサ保持体の表面と一平面を成すように切欠き内に挿入して接着することが、極めて重要である。それというのは、例えば不均一に塗布された接着剤層に基づく極めて小さなずれもしくは段差が存在するだけで、渦流や剥離領域が発生してしまい、これは特にセンサエレメントの表面において、測定抵抗の熱排出に不都合な影響を与え、測定結果を劣化させてしまうからである。従って切欠きの寸法誤差は極めて小さくする必要があり、センサ保持体の切欠きへのセンサエレメントの挿入接着時には極めて注意することが必要であり、その結果特に装置の大量生産時には、製造技術的にかなりの手間が必要になり、ひいてはこれが製造コストの高騰の原因となる。

また、フレームエレメント及び保持エレメントを製造するための様々な作業ステップは不都合である。フレームエレメントと保持エレメントとの間における折り目間隙によって、付加的に流動媒体も影響を受ける。このことはしかしながら不都合ではない。それというのは、この効果もしくは影響は、０ポイント測定及びキャリブレーションもしくは調整によって抑制することができるからである。しかしながら、折り目間隙に汚れ粒子及び／又は液体粒子が付着し、キャリブレーションが変わってしまうと、センサエレメントの耐用寿命中における測定結果は劣化してしてしまう。

また、スペーサホルダをさらなる形状付与プロセスによって初めて形成することは不都合である。切欠きの深さ寸法の製造誤差は、金属条片の厚さの製造誤差と折り目間隙厚さの製造誤差とによって生ぜしめられる。

さらにまた、腐食性の流動媒体に基づいて例えばNiNip のような耐腐食層をセンサ保持体に、付加的な高価な電気メッキプロセス又は被覆法によって被着させねばならないという不都合があり、これに基づいて寸法誤差や製造時間及び製造コストがさらに高くなってしまう。

センサエレメントのこのような片持ち式（freitragend）の固定形式では、製造時における誤差に基づいて、センサエレメントとセンサ保持体の切欠きとの間に間隙が発生する。この間隙はかなり大きく、センサエレメントのところで、切欠き内においてダイヤフラムの下の中空室における不都合な流れを生ぜしめることがあり、このような流れは装置の測定結果に不都合な作用を与えてしまう。

従って文献には、この下を流れる流れの影響を減じることのできる装置が記載されている。例えばドイツ連邦共和国特許公開第１９５２４６３４号明細書もしくは米国特許第５７２３７８４号明細書に記載のように、センサエレメントの特殊に成形された縁部において流れを迂回させることによって、間隙を介して流入する媒体がセンサエレメントのダイヤフラムの下における中空室に達することが阻止される。

またドイツ連邦共和国特許公開第１９７４３４０９号明細書に記載のように、接着剤継ぎ目を塗布することによって、センサエレメントの周りにおける間隙に媒体が侵入することを阻止し、下を流れる不都合な流れを回避することができる。しかしながら上記２つの方法には、製造誤差の影響を補償するために、接着剤継ぎ目の特殊な配置形式又は付加的な処置によって初めて流れが中空室を迂回させられるという欠点がある。

ドイツ連邦共和国特許公開第１９７４４９９７号明細書に基づいて公知の装置は、評価回路の構成部材及び、センサエレメントの接触接続領域への接続ラインを、湿気に対してゲルを用いて保護することができ、かつセンサ領域つまり、ダイヤフラムが位置しているセンサエレメント部分の汚染をゲルを用いて阻止している。この場合センサエレメントと切欠きの壁との間に延在する間隙は拡大されており、これにより拡大によって、間隙内において少なくとも部分的に評価回路に設けられた保護層がさらに流れることを確実に阻止することができ、その結果保護層の流れ経路は常に一義的に規定される。このような構成には、次のような製造技術的な欠点が生ぜしめられる。すなわちこの公知の装置では、付加的に間隙を設ける必要があり、しかもゲルの流れは停止されるのではなく、単に規定されて変向されるだけである。

ドイツ連邦共和国特許公開第１９８２８６２９号明細書に基づいて公知の熱形（thermisch）の空気量測定装置では、保持ケーシングと測定ケーシングとが互いに分けられて形成されていて、測定ケーシング及び保持ケーシングは１つのベースプレートエレメントに接着されている。

発明の利点
請求項１の特徴部に記載のように構成された本発明による装置には、公知のものに比べて次のような利点がある。すなわち本発明による装置では、簡単な形式で測定結果が長い運転時間の間においても劣化するすることがない。なぜならば本発明による装置では、開放した又は付加的な折り目間隙を介して流入する空気流による、測定エレメントの下を流れる流れに起因する、測定結果に対する影響は生ぜしめられず、しかも切欠きの深さ寸法の誤差は本発明によれば、センサ凹部の誤差によってしか規定されず、付加的に折り目間隙の誤差によってはもはや規定されないからである。

請求項１に記載の装置の別の有利な構成は、請求項２以下に記載されている。

センサエレメントをバイパス通路内に又は保持部分内に固定すると、組立てが簡単になるので有利である。

センサ保持体がベース体に固定されている場合には、装置への組込み前にセンサエレメントを電子装置と結合すると有利である。

流れの当接特性（Anstroemverhalten）のためには、エアロダイナミック式（aerodynamisch）に成形された流れ当接縁が有利である。

センサエレメントの周囲を流れる流れの最適化された流れ特性のためには、センサエレメントがセンサ保持体の表面と同一平面を成すように組み込まれていてかつ／又は、センサエレメントとセンサ凹部との間に小さな間隙が存在していると、有利である。

また、液晶ポリマ又は部分晶質の芳香族の熱可塑性樹脂のようなプラスチッククラスから成るプラスチックが使用されると、特に有利である。

組立て時に有利な構成では、センサ凹部の長手方向縁部の切欠き内に、接着剤ビードがセンサ凹部底を横切るように塗布され、該接着剤ビードがセンサ凹部におけるセンサエレメントのセンサ領域を完全にシールし、センサ凹部底の縁部領域に凹設部が設けられており、このようになっていると、センサエレメントをより正確に挿入することができる。また、評価回路を湿気に対して保護するゲルを確実にストップすることによる、センサエレメントの汚染は、前記接着剤ビードによって回避される。

センサ保持体のためにプラスチックを使用すると有利である。それというのは、プラスチックのもつ任意の形状付与可能性によって、例えば流れ当接縁においてより精巧（filigran）な形状及びエアロダイナミックに関する要求を考慮することができるからである。

別の有利な構成では、プラスチック又はセラミックが使用されている。それというのは、プラスチックは金属に比べて腐食しにくく、ゆえに付加的なさらなる防食処理を必要としないからである。

また、プラスチックの使用に基づく誤差の減少によって、センサ凹部へのセンサエレメントの正確な挿入が可能になるので、媒体がセンサエレメントの下を流れることはもはや無くなる。

図面
次に図面を参照しながら本発明の実施例を説明する。

図１は、媒体のパラメータを測定する装置を取り付けられた状態で示す断面図である。

図２は、センサエレメントを取り付けられた本発明のように形成されたセンサ保持体を示す斜視図である。

図３ａは、本発明のように形成されたセンサ保持体をセンサエレメントなしに示す斜視図である。

図３ｂは、図３ａのＡ−Ａ線に沿った断面図である。

図４ａは、センサ保持体が挿入されたバイパス通路を備えた装置を示す図である。

図４ｂは、図４ａのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。

図５は、図３のＶ−Ｖ線に沿った断面図である。

図６ａは、センサ保持体とセンサエレメントとの配置形式を示す図である。

図６ｂは、センサ保持体とセンサエレメントとの別の配置形式を示す図である。

実施例の記載
図１には、測定される媒体が内部を流れる導管３内に装置１が組み込まれている様子が、概略的に示されている。

装置１は、流動媒体の少なくとも１つパラメータを測定するために働き、一点鎖線で示された下側の四角によって略示された測定ケーシング６と、一点鎖線で示された上側の四角によって略示された保持部分７とから成っており、この保持部分７内には、例えば評価電子装置１８が、例えばベース保持体２６（図２）において電子装置室１９内に設けられている。

流動媒体のパラメータは例えば、空気質量を検出するための空気容積流、温度、圧力、媒体成分の濃度又は流速度であり、これらは適宜なセンサを用いて測定される。その他のパラメータを測定するための装置１を使用することも可能である。パラメータの測定は次のことによって行うことができる。すなわちこの場合、単数又は複数のセンサを使用し、そして１つのセンサは２つ又は３つ以上のパラメータを検出することができる。測定ケーシング６及び保持部分７は１つの共通の長手方向軸線９を有しており、この長手方向軸線９は例えば中心軸線であってもよい。装置１は導管３の壁１２に例えば差込み可能に導入されている。壁１２は流れ横断面を制限しており、この流れ横断面の中心には、流動媒体の流れ方向で、壁１２に対して平行に中心軸線１４が延びている。

流動媒体の流れ方向（以下においては主流方向と呼ぶ）は、矢印１６で示されていて、図１では左から右に向かって延びている。

図２には、センサエレメント３３が組み込まれたセンサ保持体２０が示されている。センサエレメント３３は図２において概略的に、かつ部分的に透明に示されており、かつ外方に向けられた表面にダイヤフラム３５を有しており、このダイヤフラム３５はセンサ領域を形成している。センサエレメント３３の他方の端部における同じ表面には、電子式の評価回路１８への電気的な接続部を形成する接点３８が設けられている。センサエレメント３３の構成及びセンサ領域については、ドイツ連邦共和国特許公開第１９７４３４０９号明細書又は同国特許公開第４３３８８９１号明細書もしくは米国特許第５４５２６１０号明細書に詳しく記載されている。

センサエレメント３３はセンサ凹部２９内において、接点３８がベース保持体２６に最も近く位置するように、配置されている。センサエレメント３３は個々ではプレート状に形成されており、センサ凹部２９と同一平面に位置している。センサ凹部２９及びセンサエレメント３３は、間隙４４を形成している。センサエレメント３３とセンサ保持体２０の表面２２とはここでは同一平面を成している。

図３ａには、例えばプラスチック製のセンサ保持体２０が示されている。

媒体は矢印１６の方向でセンサ保持体２０のそばを流れる。この場合媒体はセンサ保持体２０の流れ当接縁４７に衝突し、この流れ当接縁４７はプラスチックの使用に基づいて特に、精巧にかつエアロダイナミック式に例えば丸く面取りされて成形されている。

表面２２にはセンサ凹部底３０を備えたセンサ凹部２９が位置している。センサ凹部底３０は保持エレメントを形成しており、この場合センサ凹部２９の縁部はフレームエレメントを形成している。センサ凹部底３０は例えば接着剤押し退け室４９によって、センサベース面５２と載置面５４とに分割されている。センサベース面５２はベース保持体２６から最も離れていて、センサエレメント３３のセンサ領域の下に位置している。載置面５４はベース保持体２６の最も近くに位置している。

接着剤押し退け室４９はここでは例えば、センサ凹部２９の長手方向縁部５７から対向して位置する長手方向縁部５７´に通じる連続した通路である。長手方向縁部５７，５７´は長手方向軸線９に対して平行に延びている。接着剤押し退け室４９はしかしながらまた連続しておらず、つまり短く形成されていてもよい。センサベース面５２と載置面５４との間における接着剤押し退け室４９は、また例えばセンサ凹部底３０における少なくとも２つの凹設部によって形成されることもできる。載置面５４には例えば、センサエレメント３３を載置する４つのスペーサホルダ６０が設けられている。これらのスペーサホルダ６０は例えばいわば台地状（plateaufoermig）に形成されている。長手方向縁部５７，５７´には例えば各１つの切欠き６３，６３´が形成されている。切欠き６３から横方向で載置面５４を越えて他方の切欠き６３´に到るまで、接着プロセスのために、破線で示された接着剤ビード（Kleberaupe）６５が塗布される。センサエレメント３３をセンサ凹部２９に装入した後で、センサベース面５２は接着剤ビード６５によって完全にセンサゲルに対して、つまり電子式の評価回路に塗布されかつ不都合にもダイヤフラム３５に向かってクリープするセンサゲルに対して、保護される。センサエレメント３３は取付け後例えば部分的にセンサ凹部２９内に位置し、かつ例えばスペーサホルダ６０の上に載置されている。この場合センサエレメント３３は例えば載置面５４と接着剤ビード６５を用いて接着されていて、その周囲に沿って表面２２の高さでセンサ凹部２９と同一平面を成すので、媒体がセンサエレメント３３の下に、そしてセンサ凹部２９内に流入することはほとんど又は全くない。センサエレメント３３とセンサ凹部２９の長手方向縁部５７との間の間隙４４は、例えば数マイクロメータの値を有している。センサ凹部２９の深さ及びセンサ凹部２９の縁部は例えば次のように、すなわち例えば小さなプレート状のセンサエレメント３３が表面２２に対して同一平面を成して装入され得るように、成形されている。表面２２を起点とした、センサエレメント３３の載置面５４の領域における深さ寸法は、通常、＋／−１０マイクロメータをもって許容される。

センサ保持体２０はここでは次のように、すなわち表面２２と該表面２２の反対側に位置している面とが互いにかつ主流方向１６に対して平面平行に方向付けられていて、主流方向１６のベクトルがセンサエレメント３３のセンサ領域の平面に位置するように、成形されている。主流方向１６のベクトルはセンサ領域の平面と、小さな正又は負の角度を成して交差していてもよい。センサ保持体２０の横断面が表面２２に対して垂直にくさび形に形成されていてもよく、この場合くさびの薄い端部は流れ当接縁４７の領域に位置していて、主流方向１６のベクトルは表面２２には位置していない。

図３ｂは図３ａのＡ−Ａ線に沿った断面図であり、この場合センサ保持体２０はこの実施例では接着剤押し退け室４９及びスペーサホルダ６０を有していない。センサ保持体２０の通路端面６７はバイパス通路７０の壁の形状にぴったりと接触させられ（図４）、その結果流動媒体が通路端面６７とバイパス通路７０の壁との間に達することはなくなる。この接触面に沿ってさらに接着又はシーリングによって付加的にシールを施すことも可能である。

通路端面６７とは反対側に位置する端部６８は、挿入部６９を有しており、この挿入部６９は電子装置室１９の領域における受容部７３（図４ｂ）内に挿入され、そこで例えばプレス嵌め又は接着によって結合されている。

図４ａには、測定ケーシング６がバイパス通路７０及び保持部分７と共に、パイパス通路７０を閉鎖するカバーなしに示されている。バイパス通路７０は底部分７２とカバーとによって形成される。媒体の主流方向１６は矢印で示されている。バイパス通路７０は例えば流入通路７４又は測定通路７４と、第１部分７７及び第２部分７８に分割されている変向通路７６と、流出通路８０とから成っている。流入通路７４及び流出通路８０における流れ方向８２，８３は同様に矢印で示されている。流入通路中心線８６はここでは例えば曲げられている。それというのは、流入通路７４の縁面８８は流線形に形成されているからである。流出通路中心線９１はここでは直線である。

媒体が流入する流入開口９７の前におけるバイパス通路７０の前方領域３９には、例えば流れ阻止体９４が設けられており、この流れ阻止体９４は、測定通路に有効な規定された流れ剥離作用を生ぜしめる。これについては、ドイツ連邦共和国特許公開第４４４１８７４号明細書に詳しく記載されている。

測定ケーシング６のノーズ９９は例えば次のように、すなわちこのノーズ９９に衝突する固体粒子又は液体粒子が流入開口９７から離れる方向に反射されるように、成形されている。そのためにノーズ９９は保持部分７から離れる方向に向かって傾けられている。

主流方向１６に対して平行に延びている破線で示された面１０２は、流入通路７４の、保持部分７に向けられた縁面と共に、陰影を付けられた領域を形成しており、この領域には汚染粒子又は液体が僅かしか又はまったく達しない。

変向通路７６の第１部分７７においては例えば縁面１０４が、主流方向１６に対して角度δだけ傾けられている。この角度δは、約３０〜６０°の範囲にあり、理想的には約４５°である。このような構成による影響はドイツ連邦共和国特許公開第１９６２３３３４号明細書に詳しく記載されている。縁面１０４は深さｔｒ（図示せず）とそれに対して垂直に延びる幅ｂｒとを有しており、この幅ｂｒは少なくとも、流入通路７４の流入開口９７の幅ｂの２／３に相当している。深さｔｒは有利には、流入開口９７の幅ｂに対して垂直な、測定通路７０の深さｔ（図示せず）にほぼ相当している。しかしながらまた、流入通路７４の流入開口９７の深さｔよりも幾分小さな深さｔｒを有する縁面１０４を形成することも可能である。縁面１０４に接続して、第１部分７７の壁はほぼ長手方向軸線９の方向に延びている。

流出通路８０の端部には流出開口１０７が設けられていて、この流出開口１０７の面は主流方向１６との間に角度χを形成しており、そしてこの流出開口１０７を通って媒体は測定通路から再び流出する。流出開口１０７は例えば流出通路８０よりも大きな横断面を有しており、これによって脈動特性が改善される。

センサ保持体２０はバイパス通路７０内に、例えば測定通路を形成する流入通路７４内に突入している。

センサエレメント３３はセンサ保持体２０内に設けられており、有利には流入通路７４の陰影を付けられた領域に位置している。このような測定エレメント１０の構成もしくは構造は、例えばドイツ連邦共和国特許公開第１９５２４６３４号明細書に基づいて当業者に公知である。

センサエレメントの評価及び制御のために働く電子装置１８は、保持部分７の一部である電子装置室１９内に配置されている。

図４ｂは、図４ａのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。センサ保持体２０は受容部７３内に挿入されていて、そこでプレス嵌め又は接着によって固定されている。接着剤が使用される場合、接着剤は同時にバイパス通路７０と電子装置室１９との間における移行領域７１をもシールする。

受容部７３はバイパス通路７０、保持部分７又はその間に配置されていることができる。バイパス通路７０の側壁７５は保持部分７とは反対側に位置していて、長手方向軸線９は、明らかに０とは異なった交差角度を側壁７５との間に成している。通路端面６７は、バイパス通路７０の側壁７５に形状正確に合わせられているので、そこで底流（Unterstroem）が生じることはない。これは、そこで、接着剤又はシール剤の塗布によって付加的に防止することができる。

電子装置１８は例えばベース保持体２６に配置されていて、保護ゲルによって被覆されている。センサ保持体２０もまたベース保持体２６に接着されていることができる。

図５は、図３のＶ−Ｖ線に沿った断面図であって、センサ保持体２０を、その中に挿入されたセンサエレメント３３及び接着剤ビード６５（一点鎖線）と共に示す図である。接着剤ビード６５は例えば長手方向縁部５７における切欠き６３から、載置面５４を越えて長手方向縁部５７´における切欠き６３´まで設けられている。センサ凹部２９内にセンサエレメント３３を挿入した後で、例えば接着剤が接着剤押し退け室４９内に、かつ間隙４４，４４´を通って外部に向かって押し退けられ、表面２２まで達する。接着剤は、センサエレメント３３と一方の長手方向縁部５７におけるセンサ凹部２９との間の間隙４４を通って、センサエレメント３３の下を通って他方の長手方向縁部５７´まで達し、間隙４４´を完全に閉鎖する。その結果評価回路１８のクリーピングする保護ゲルの確実なストッパによって、センサエレメント３３のダイヤフラム３５が汚染されることは、確実に回避される。

図６には、一点鎖線で示されている測定ケーシング６内におけるセンサ保持体２０とセンサエレメント３３との異なった配置形式が示されている。

図４ａでは、センサ保持体２０は次のように配置されている：すなわちセンサ保持体２０の長手方向軸線９は、主流方向１６に対して垂直に位置し、センサエレメント３３の長手方向軸線は長手方向軸線９に対して平行に延びている。

図６ａでは、センサエレメント３３の長手方向軸線１１０はセンサ保持体２０内において、長手方向軸線９に対して角度φだけ傾けられて配置されている。

図６ｂでは、センサ保持体２０の長手方向軸線１１２は長手方向軸線９に対して角度εだけ傾けられて配置されている。センサエレメント３３の長手方向軸線１１０は長手方向軸線９に対して平行に延びている。このような配置形式によってセンサエレメント３３及びセンサ保持体２０を擦過して流れるもしくはその周囲を流れる流れの特性は、さらに改善される。さらにこれによって、主流方向１６に対するセンサエレメント３３の有利な方向付けを調節することができる。

媒体のパラメータを測定する装置を取り付けられた状態で示す図である。 センサエレメントを取り付けられた本発明のように形成されたセンサ保持体を示す斜視図である。 本発明のように形成されたセンサ保持体をセンサエレメントなしに示す斜視図である。 図３ａのＡ−Ａ線に沿った断面図である。 センサ保持体が挿入されたバイパス通路を備えた装置を示す図である。 図４ａのＢ−Ｂ線に沿った断面図である。 図３のＶ−Ｖ線に沿った断面図である。 センサ保持体とセンサエレメントとの配置形式を示す図である。 センサ保持体とセンサエレメントとの別の配置形式を示す図である。

Claims (17)

1. 導管内を流れる媒体の少なくとも１つのパラメータを測定する装置であって、センサ保持体が設けられていて、該センサ保持体に、流動媒体内に進入していてパラメータを測定する少なくとも１つのセンサエレメントが配置されている形式のものにおいて、
   センサ保持体（２０）が、装置（１）において固定される別体の部材であり、
   装置が測定ケーシング（６）と保持部分（７）とを有しており、測定ケーシング（６）が導管（３）内に設けられていて、保持部分（７）と結合されており、測定ケーシング（６）がバイパス通路（７０）を有しており、センサエレメント（３３）がバイパス通路（７０）内に配置されており、保持部分（７）内に、電子装置室（１９）内に収容された評価電子装置（１８）のためのベース保持体（２６）が配置されており、かつセンサ保持体（２０）がベース保持体（２６）に固定されており、
   センサ保持体（２０）がプラスチック又はセラミックから製造されていて、ベース保持体（２６）に設けられた受容部（７３）内に挿入されていて、そこでプレス嵌め又は接着によって固定されていることを特徴とする、流動媒体の少なくとも１つのパラメータを測定する装置。
   
2. センサ保持体（２０）が１つの端部に挿入部（６９）を有していて、該挿入部（６９）が電子装置室（１９）の領域においてベース保持体（２６）の受容部（７３）内に挿入されている、請求項１記載の装置。
   
3. センサ保持体（２０）が、流動媒体の流れに対向して方向付けられていてエアロダイナミック式に成形された流れ当接縁（４７）を有している、請求項１記載の装置。
   
4. センサ保持体（２０）内にセンサ凹部（２９）が設けられていて、該センサ凹部（２９）内にセンサエレメント（３３）が配置されており、センサ凹部（２９）がセンサエレメント（３３）のためのフレーム兼保持エレメントを形成していて、センサ凹部底（３０）を有している、請求項３記載の装置。
   
5. 媒体が主流方向（１６）で流れ、
   センサ保持体（２０）が次のように成形されているか又は、流動媒体の主流方向（１６）に対して次のように方向付けられており、すなわちこの場合、主流方向（１６）のベクトルがセンサエレメント（３３）のセンサ領域の平面に位置しているか又は、小さな正又は負の角度を成してセンサ領域の平面と交差している、請求項１記載の装置。
   
6. センサ保持体（２０）が、センサ凹部（２９）の位置する表面（２２）を有しており、センサ凹部（２９）の、センサ保持体（２０）の表面（２２）における寸法が、センサエレメント（３３）の寸法にほぼ相当しており、その結果センサエレメント（３３）がセンサ凹部（２９）内にほぼ同一平面を成すように挿入可能であり、かつ媒体がほとんど又はまったくセンサエレメント（３３）の下もしくはセンサ凹部（２９）に流入しない、請求項４記載の装置。
   
7. センサ凹部（２９）が、互いに向かい合って位置する２つの長手方向縁部（５７，５７′）を有していて、センサエレメント（３３）の周囲と長手方向縁部（５７，５７′）との間に間隙（４４，４４′）が形成され、該間隙（４４，４４′）が数マイクロメータの寸法を有している、請求項４記載の装置。
   
8. センサ保持体（２０）が、センサ凹部（２９）の位置する表面（２２）を有しており、センサ凹部（２９）の寸法が、センサエレメント（３３）の寸法にほぼ相当しており、その結果センサエレメント（３３）がセンサ保持体（２０）の表面（２２）とほぼ同一平面を成して位置している、請求項４記載の装置。
   
9. 測定ケーシング（６）が導管（３）内に設けられていて、保持部分（７）と結合されており、測定ケーシング（６）及び保持部分（７）の共通の長手方向軸線（９）が主流方向（１６）に対して垂直に延びており、
   装置（１）が測定ケーシング（６）内にバイパス通路（７０）を有していて、該バイパス通路（７０）が、流入開口（９７）及び流入通路（７４）から延びていて、該流入通路（７４）に変向通路（７６）が接続していて、該変向通路（７６）に媒体が流入通路（７４）から流入し、バイパス通路（７０）が該変向通路（７６）からさらに流出通路（８０）を介して、測定ケーシング（６）の外面において導管（３）へと媒体を流出させる流出開口（１０７）にまで延びている、請求項１記載の装置。
   
10. センサエレメント（３３）がセンサ凹部底（３０）に接着固定されている、請求項４記載の装置。
    
11. センサ凹部底（３０）内に、通路の形をした少なくとも１つの接着剤押し退け室（４９）が形成されており、該接着剤押し退け室（４９）が、センサ保持体（２０）の流れ当接縁（４７）に対して平行に延びる、センサ凹部底（３０）の１つの長手方向縁部（５７）から、該長手方向縁部（５７）に向かい合って位置している他方の長手方向縁部（５７′）に向かって延びており、そして接着剤押し退け室（４９）内に、センサ保持体（２０）のセンサ凹部（２９）内へのセンサエレメント（３３）の挿入時に、センサ凹部（２９）内にもたらされた接着剤が逃げることができ、該接着剤がセンサ凹部底（３０）を、接着剤の塗布される載置面（５４）と、センサエレメント（３３）のダイヤフラム（３５）の下に位置するセンサベース面（５２）とに分割する、請求項１０記載の装置。
    
12. センサ保持体（２０）の流れ当接縁（４７）に対して平行に又は幾分傾けられて延びていて互いに向かい合って位置している、センサ凹部（２９）の２つの長手方向縁部（５７，５７′）において、載置面（５４）の領域に各１つの切欠き（６３，６３′）が形成されており、該切欠き（６３，６３′）を通して、その中に塗布される接着剤ビード（６５）がセンサ凹部（２９）内へのセンサエレメント（３３）の挿入時に押し出され、その結果一方の長手方向縁部（５７）においてセンサ凹部（２９）とセンサエレメント（３３）との間に位置する間隙（４４）、該間隙（４４）に接続していてセンサエレメント（３３）と載置面（５４）との間に位置する間隙及び、該間隙に接続していて他方の長手方向縁部（５７′）に位置する間隙（４４′）が、接着剤ビード（６５）の接着剤によって完全に閉鎖される、請求項１１記載の装置。
    
13. センサ凹部（２９）のセンサ凹部底（３０）内に、隆起部の形をした単数又は複数のスペーサホルダ（６０）が設けられている、請求項４記載の装置。
    
14. センサ保持体（２０）のために、液晶ポリマ又は部分晶質の芳香族の熱可塑性樹脂のようなプラスチッククラスから成るプラスチックが使用される、請求項１記載の装置。
    
15. センサ保持体（２０）を固定するための接着剤が、バイパス通路（７０）及び電子装置室（１９）をシールする、請求項１０記載の装置。
    
16. センサ保持体（２０）の通路端面（６７）がバイパス通路（７０）に形状結合式に接続されている、請求項１記載の装置。
    
17. センサ保持体（２０）の長手方向軸線（１１２）が角度（ε）だけ及び／又はセンサエレメント（３３）の長手方向縁部（１１０）が角度（φ）だけ、保持部分（７）の長手方向軸線（９）に対して傾けられて延びている、請求項１記載の装置。

Images