JP5226532B2 - 結像光学系の結像動作を検査する方法および装置 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 74
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 87
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 56
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 18
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 238000001444 catalytic combustion detection Methods 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
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- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70566—Polarisation control
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70591—Testing optical components
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- G—PHYSICS
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Description
C・|ψ−θ|
を使用して重み付けられ、ここで、Cは定数であり、ψは対応する部分的な範囲の中心における偏光の角度である。画素に割り当てられている偏光の角度が部分的な範囲外である場合、例えばゼロのような所定の輝度値が画素に割り当てられる。重み付けは、傾きが定数の適切な選択により影響を受けることがある三角関数を使用して、実質的に同次の偏光が画像ごとに仮定できるように行われる。この場合、選択される部分的な範囲の数が多いほど、精度が高くなる。しかしながら、エミュレーションステップは画像数が増えるにつれてさらに長い時間を要するため、部分的な範囲の数はエミュレーションの持続時間に適応されなければならない。例えば、6個、8個または12個の部分的な範囲を選択することが、良好な妥協点であることが判明している。原則的には、部分的な範囲の数は自由に選択できる。評価方法またはエミュレーションステップにおいて説明した三角関数のさらに良好な処理を可能にするために、それは、少なくとも一度は継続的に微分可能になるように、例えば平滑化関数を用いて折り畳まれてもよい。
C・cos2(ψ−θ)
を有する輝度値に重み付けすることであり、ここで、Cは定数であり、ψは対応する部分的な範囲の中心における偏光の角度である。この関数は、実質的には適応された定数の選択のために四捨五入された三角関数に対応している。
2 第2の結像光学系
3 検出器
4 メモリモジュール
5 偏光子
6 被写体
7 エミュレーションモジュール
8 画面
Claims (29)
- 第1の結像光学系の結像動作を検査する方法であって、被写体(6)が第2の結像光学系(2)によって像平面で結像され、該像平面の光が空間分解的に画素において検出され、該第1の結像光学系および第2の結像光学系(2)は少なくとも1つの撮像特性において異なり、
画素ごとに、該光の第1の特性としての輝度の値、および該光の少なくとも1つの追加の第2の特性の値が決定されて、該画素に格納され、
該格納された値がエミュレーションステップにおいて処理され、該撮像特性および該結像動作における該第2の特性の影響を考慮して、該第1の結像光学系によって生成される該被写体(6)の画像をエミュレートするエミュレーション画像が生成される、方法において、
一連の画像が、
a.該第2の特性の値の範囲を部分的な範囲に分割すること、
b.各部分的な範囲に画像を割り当てること、
c.該画素に割り当てられた該第2の特性の値が該個々の画像に割り当てられた該部分的な範囲に収まる場合、対応する格納された輝度値を各画像の該画素に割り当て、そうでなければ、前記画素に所定の輝度を割り当てることによって生成され、
該一連の画像が該エミュレーションステップにおいて一連の中間画像に変換され、該エミュレーションが該中間画像の各々の該第2の特性の一定値を含み、前記値は、該個々の部分的な範囲から生じ、該個々の他の中間画像の該第2の特性の値とは異なり、
次に、該中間画像が結合され、該エミュレーション画像が形成されることを特徴とする方法。 - 該部分的な範囲間に部分的な重複があることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 該所定の輝度値がゼロであることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
- 該画像と該中間画像の両方がそれぞれ同じサイズを有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の方法。
- 該中間画像の該輝度値が画素ごとに加算されて、該エミュレーション画像が生成されることを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 該中間画像の輝度値の平均が画素ごとに採取されて、該エミュレーション画像が生成されることを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 該輝度値を該一連の画像に割り当てるときに、該輝度値が重み付けられることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の方法。
- 該第2の特性が該偏光状態であり、画素ごとに該偏光度および/または該偏光の方向が格納されることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の方法。
- 該一連の画像が、検出前に光を偏光子(5)に通過させることにより生成され、該部分的な範囲が該偏光子(5)の異なる位置により画定されることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 該一連の画像が、該格納されている値に基づいてコンピュータで生成されることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 画素に割り当てられる偏光の角度θが該部分的な範囲に収まる場合に、該輝度値が、関数
C・|ψ−θ|
を使用して重み付けられ、ここで、Cが定数であり、ψが該対応する部分的な範囲の中心における偏光の角度であることを特徴とする請求項10に記載の方法。 - 画素に割り当てられる偏光の該角度θが該部分的な範囲に収まる場合に、該輝度値が、関数
C・cos2(ψ−θ)
を使用して重み付けられ、ここで、Cが定数であり、ψが該対応する部分的な範囲の中心における偏光の角度であることを特徴とする請求項10に記載の方法。 - 該部分的な範囲の1つが、該1つの範囲に割り当てられたゼロの偏光度を排他的に有し、該部分的な範囲に割り当てられる該画像が、該画像に割り当てられた検出済みの非偏光の輝度値を有することを特徴とする請求項8から12のいずれか1つに記載の方法。
- ゼロの偏光度を有する該画像に指定された該輝度値が他の画像に割り当てられ、該対応する輝度値に加算され、前記割り当てが好ましくは均一に行われることを特徴とする請求項13に記載の方法。
- 該第2の特性が色であり、波長および/または彩度が画素ごとに格納されることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の方法。
- フォトリソグラフィックスキャナが該第1の結像光学系として使用され、該フォトリソグラフィックスキャナのエミュレーションのためのエミュレーション結像光学系が該第2の結像光学系(2)として使用されることを特徴とする請求項1乃至15のいずれか1項に記載の方法。
- 第1の結像光学系の結像動作を検査する装置であって、
被写体(6)を像平面の中に結像し、少なくとも1つの撮像特性において該第1の結像光学系と異なる第2の結像光学系(2)と、
画素を有する空間分解式検出器(3)であって、検出器(3)によって該像平面の光が該画素で検出される、空間分解式検出器と、
該光の第1の特性としての輝度の値および該光の少なくとも1つの追加の該光の第2の特性の値が画素に空間分解的に格納されるメモリモジュール(4)と、
該格納されている値を処理し、該撮像特性、および該結像動作に対する該第2の特性の影響を考慮して、該第1の結像光学系によって生成される該被写体(6)の画像をエミュレートするエミュレーション画像を生成するエミュレーションモジュール(7)とを備えた装置において、
該装置が、
a.該第2の特性の値の範囲を部分的な範囲に分割すること、
b.各部分的な範囲に画像を割り当てること、
c.該画素に割り当てられる該第2の特性の値が該個々の画像に割り当てられた該部分的な範囲に収まる場合に、対応する格納された輝度値を各画像の該画素に割り当て、そうでなければ、前記画素に所定の輝度値を割り当てることによって一連の画像を生成し、
該エミュレーションモジュール(7)が該一連の画像を一連の中間画像に変換し、該エミュレーションが該中間画像の各々の該第2の特性の一定値を含み、該第2の特性の値が該個々の部分的な範囲から生じ、該個々の他の中間画像のための該第2の特性の該値とは異なり、
該エミュレーションモジュールが該中間画像を結合して、該エミュレーション画像を形成することを特徴とする装置。 - 該部分的な範囲間に部分的な重複があることを特徴とする請求項17に記載の装置。
- 該所定の輝度値がゼロであることを特徴とする請求項17または18に記載の装置。
- 装置がそれぞれ同じサイズを有する一連の画像および一連の中間画像を生成することを特徴とする請求項17乃至19のいずれか1項に記載の装置。
- エミュレーションモジュールが画素ごとに該中間画像の該輝度値を加算して、該エミュレーション画像を生成することを特徴とする請求項17乃至20のいずれか1項に記載の装置。
- エミュレーションモジュールが画素ごとに該中間画像の輝度値の平均を取って、該エミュレーション画像を生成することを特徴とする請求項17乃至20のいずれか1項に記載の装置。
- 輝度値を該一連の内の1つの画像に割り当てるときに該輝度値に重み付けることを特徴とする請求項17から22のいずれか1項に記載の装置。
- 該第2の特性が該偏光度であり、画素ごとに該偏光度および/または該偏光の方向が該メモリモジュールに格納されることを特徴とする請求項17乃至23のいずれか1項に記載の装置。
- 該光が検出前に通過する偏光子(5)が提供され、該部分的な範囲が該偏光子(5)の異なる位置によって画定されることを特徴とする請求項24に記載の装置。
- 該格納されている値に基づいて一連の画像を計算量的に生成することを特徴とする請求項24に記載の方法。
- 該部分的な範囲の1つにゼロの偏光度を排他的に割り当て、この部分的な範囲に割り当てられている画像に、検出済みの非偏光の該輝度値を割り当てることを特徴とする請求項24乃至26のいずれか1項に記載の装置。
- 該第2の特性が色であり、画素ごとに該波長および/または該彩度が該メモリモジュール(4)に格納されることを特徴とする請求項17乃至23のいずれか1項に記載の装置。
- フォトリソグラフィックスキャナが該第1の結像光学系として使用され、該フォトリソグラフィックスキャナのエミュレーションのためのエミュレーション結像光学系が該第2の結像光学系(2)として使用されることを特徴とする請求項17乃至28のいずれか1項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102005062237A DE102005062237A1 (de) | 2005-12-22 | 2005-12-22 | Verfahren und Vorrichtung zur Untersuchung des Abbildungsverhaltens einer Abbildungsoptik |
DE102005062237.2 | 2005-12-22 | ||
PCT/EP2006/012103 WO2007079904A1 (de) | 2005-12-22 | 2006-12-15 | Verfahren und vorrichtung zur untersuchung des abbildungsverhaltens einer abbildungsoptik |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009521107A JP2009521107A (ja) | 2009-05-28 |
JP5226532B2 true JP5226532B2 (ja) | 2013-07-03 |
Family
ID=37714671
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008546211A Active JP5226532B2 (ja) | 2005-12-22 | 2006-12-15 | 結像光学系の結像動作を検査する方法および装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7626689B2 (ja) |
EP (1) | EP1963812B1 (ja) |
JP (1) | JP5226532B2 (ja) |
KR (1) | KR101286788B1 (ja) |
AT (1) | ATE535793T1 (ja) |
DE (1) | DE102005062237A1 (ja) |
WO (1) | WO2007079904A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI583194B (zh) * | 2016-06-02 | 2017-05-11 | 宏碁股份有限公司 | 偏光鏡輔助控制方法及裝置 |
DE102016218977B4 (de) | 2016-09-30 | 2020-11-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Ermittlung eines OPC-Modells |
DE102017115262B9 (de) | 2017-07-07 | 2021-05-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Charakterisierung einer Maske für die Mikrolithographie |
DE102018221647B3 (de) | 2018-12-13 | 2020-06-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Detektionseinrichtung zur Erfassung einer Struktur auf einem Flächenabschnitt einer Lithografiemaske sowie Vorrichtung und Verfahren mit einer derartigen Detektionseinrichtung |
DE102019123741B4 (de) | 2019-09-04 | 2024-10-17 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Charakterisierung einer Maske für die Mikrolithographie |
DE102020123615B9 (de) | 2020-09-10 | 2022-04-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Charakterisierung einer Maske für die Mikrolithographie |
CN117008428B (zh) * | 2023-09-26 | 2024-01-26 | 全芯智造技术有限公司 | 光刻仿真方法、设备和介质 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8701521D0 (en) * | 1987-01-23 | 1993-12-01 | British Aerospace | Multi-parameter imaging polarimeter |
US5298972A (en) * | 1990-01-22 | 1994-03-29 | Hewlett-Packard Company | Method and apparatus for measuring polarization sensitivity of optical devices |
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US5828500A (en) * | 1995-10-11 | 1998-10-27 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Optical element inspecting apparatus |
CN1272622C (zh) * | 1998-04-22 | 2006-08-30 | 株式会社理光 | 双折射测定方法及其装置 |
JP2001228034A (ja) * | 2000-02-14 | 2001-08-24 | Fuji Electric Co Ltd | ディスク基板の内部応力状態の測定法 |
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DE10130212A1 (de) * | 2001-06-22 | 2003-01-02 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Objektiv |
DE10154125A1 (de) * | 2001-10-25 | 2003-05-22 | Zeiss Carl Semiconductor Mfg | Messverfahren und Messsystem zur Vermessung der Abbildungsqualität eines optischen Abbildunsgssystems |
JP2005519299A (ja) | 2002-03-08 | 2005-06-30 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 光学画像形成システムのゆがみを測定するモアレ方法及び測定システム |
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AU2002363884A1 (en) * | 2002-12-19 | 2004-07-14 | Carl Zeiss Smt Ag | Method and system for measuring the reproduction quality of an optical reproduction system |
AU2003304304A1 (en) * | 2003-07-05 | 2005-01-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Device for the polarization-specific examination of an optical system |
SG112969A1 (en) * | 2003-12-22 | 2005-07-28 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and methods for use thereof |
US20050240895A1 (en) * | 2004-04-20 | 2005-10-27 | Smith Adlai H | Method of emulation of lithographic projection tools |
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-
2005
- 2005-12-22 DE DE102005062237A patent/DE102005062237A1/de not_active Withdrawn
-
2006
- 2006-12-15 US US12/158,403 patent/US7626689B2/en active Active
- 2006-12-15 WO PCT/EP2006/012103 patent/WO2007079904A1/de active Application Filing
- 2006-12-15 AT AT06829651T patent/ATE535793T1/de active
- 2006-12-15 KR KR1020087014933A patent/KR101286788B1/ko active IP Right Grant
- 2006-12-15 JP JP2008546211A patent/JP5226532B2/ja active Active
- 2006-12-15 EP EP06829651A patent/EP1963812B1/de not_active Not-in-force
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7626689B2 (en) | 2009-12-01 |
US20080297775A1 (en) | 2008-12-04 |
ATE535793T1 (de) | 2011-12-15 |
DE102005062237A1 (de) | 2007-07-05 |
JP2009521107A (ja) | 2009-05-28 |
EP1963812B1 (de) | 2011-11-30 |
KR20080080564A (ko) | 2008-09-04 |
KR101286788B1 (ko) | 2013-07-17 |
EP1963812A1 (de) | 2008-09-03 |
WO2007079904A1 (de) | 2007-07-19 |
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A977 | Report on retrieval |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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