JP5218243B2

JP5218243B2 - 光モジュール

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Publication number: JP5218243B2
Application number: JP2009100872A
Authority: JP
Inventors: 健二佐藤
Original assignee: NEC Corp
Current assignee: NEC Corp
Priority date: 2009-04-17
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Publication date: 2013-06-26
Anticipated expiration: 2022-12-17
Also published as: JP2009169429A

Description

本発明は入射光に所望の分散特性を与えるための光分散フィルタを備えた光モジュールに関する。

光ファイバを用いて光信号を伝送する光通信システムでは、光信号が光ファイバ内で分散するために信号波形が乱れ、伝送距離が制限されることが知られている。分散は、光ファイバ中における波長毎の屈折率の違いにより信号の到達時間に差が生じる現象である。光信号は、通常、所定のスペクトル幅を有するため、伝送距離が長いと分散により信号波形が時間軸上で広がり、受信側で正しい情報を受け取ることができなくなる。

基幹系ネットワークやアクセス系ネットワーク等においては、一般に光ファイバ内の損失が最小となる１．５５μｍ帯の光源が用いられる。この波長帯の光信号が光ファイバ内で受ける分散値は約１７ｐｓ／ｎｍ／ｋｍである。そこで、１．５５μｍ波長帯の光信号に対して分散値が最小となるように光ファイバの分散特性をシフトさせれば光伝送時における分散の影響を軽減できる。この分散特性を所定の波長帯からシフトさせた光ファイバを分散シフトファイバ（dispersion shift fiber :ＤＳＦ）と呼ぶ。

しかしながら、分散シフトファイバは、通常の光ファイバと比較して断面方向の屈折率分布が複雑になるため、光ファイバ設置時の引き回しによるコアの歪みがそのまま分散特性に影響し、長さ方向で分散値が変動する。また、周囲温度の変化による分散値の変動も大きい。そのため、分散シフトファイバを用いた従来の光通信システムでは、伝送路全体において詳細な分散設計が行われ、その設計結果に基づいて製造される分散シフトファイバのコストアップが伝送路の長距離化や大容量化の障害となっていた。

一般に、光ファイバ内においては光信号の伝送速度の二乗と分散値の積とが一定となる。したがって、光信号がスペクトル幅を有していると伝送距離は速度の二乗に反比例して短くなる。

例えば、光源として直接変調型の半導体レーザを用いる場合、光源の波長変動が大きいために分散の影響が大きくなる。一方、光源として外部変調型の半導体レーザを用いる場合は、マッハツェンダー型から成る外部変調器を調整することで波長変動を抑制できるため、１０〜４０Ｇｂ／ｓの伝送速度を実現できるが、分散の影響を除去できるものではない。

したがって、従来の光通信システムでは、光源側または受光側に、光ファイバ内で光信号が受ける分散と逆の分散を与える分散補償器を設けることで、分散による影響を低減して伝送距離を拡大する手法が一般的に採用されている。

このような分散補償器を設ける例として、送信部（光源側）に分散補償器を備えた構成が特許文献１に開示されている。また、具体的な分散補償器の構成として、特許文献２及び特許文献３にファイバリング共振器型の分散補償器が記載されている。さらに、特許文献４に記載されたファイバグレーティング共振器型の分散補償器や特許文献５に記載された多重反射遅延板型の分散補償器等も知られている。

これらの分散補償器は分散を補償するために大規模な構成を採用しているため、光通信システムのコストが上昇する問題がある。但し、これらの分散補償器は大きな分散量（例えば３０００ｐｓ／ｎｍ）の補償が可能であるため、長距離伝送用の光通信システムに用いて好適である。

一方、分散補償器を小型化する試みとして、例えば特許文献６にエタロン共振器を利用した分散補償器（以下、エタロン型分散補償器と称す）が記載されている。以下、このエタロン型分散補償器について簡単に説明する。

エタロン共振器は、反射型共振器を形成するように、２つの部分透過ミラー（部分反射層）を所定の間隔で配置した構成であり、光の透過特性にＦＳＲ（フリースペクトラルレンジ）と呼ばれる所定の周波数間隔毎にピークが発生する。ＦＳＲは、上記部分透過ミラーの配置間隔で決まる周波数であり、例えばガラスのように屈折率が１．５の光透過層を部分透過ミラーで挟んだ構成では、１ミリメートルの間隔のときに約１００ＧＨｚとなる。

エタロン共振器に入射された光は、部分透過ミラーの両端面で反射を繰り返しながら透過する。このとき、透過成分の多い波長光と少ない波長光が観測されるが、どの波長光に対しても端面で反射する割合が等しいことを考慮すると、透過成分の多い波長光は、より多く往復することで遅れながら透過すると考えられる。したがって、透過特性が波長に依存することは波長によって遅延量に差が生じることを意味する。エタロン共振器は、この遅延量が波長に応じて大きく変化するために大きな分散特性を備えた光分散フィルタとして用いることができる。この分散特性のうち、光ファイバの分散特性と逆の特性部分を利用して光ファイバに入力する光信号あるいは光ファイバから出力された光信号に分散を与えれば、光ファイバから受ける分散の影響を低減できる。

なお、エタロン型分散補償器には、一方の端面で光を全反射する反射型の構成も知られている。一方の端面を全反射にすると、元々その端面を透過すべき光も再度エタロン内を通過して入射側へ戻るため、入射した光が損失なく入射側と同一面から出射される。このとき出射光が受ける分散量は元々反射される光の分散量と元々端面で透過すべき光の分散量の和となる。

エタロン型分散補償器は、所定の周波数間隔（ＦＳＲ）毎に得られる透過特性がほぼ等しいため、光波長多重（Wavelength Division Multiplexing :ＷＤＭ）システムのように多チャンネルの光信号を同時に分散補償する分散補償器として用いることができる。

しかしながら、従来のエタロン型分散補償器では、分散補償量が２０ｐｓ／ｎｍ程度しか実現できず、光分散フィルタの透過率が１００％よりも小さいために光パワーの損失が大きくなる。

一方、複数の共振器型フィルタを用いて分散補償量を増大させ、かつ広帯域化させる試みが特許文献７に記載されている。特許文献７には、所定の分散特性を有する誘電体多層膜から成る共振器フィルタを３層に重ねることで分散特性が改善されることが記載されている。

しかしながら、特許文献７に記載された構成では、分散を補償しつつ光パワーを１００％取り出すために光の入射面と出射面とが同一である反射型の構成を採用しているため、入射光または出射光の光路を変更するための素子（サーキュレータ）が必要となり、分散補償器を有する光源側あるいは受信側の装置構成が大きくなるため、小型化に向いていない。さらに所定の帯域内における分散だけを補償する構成であるため、特許文献６に記載されたエタロン型分散補償器のように多チャンネル用途に向いていない。

そこで、特許文献７に記載された構成を多チャンネル用途にした例が、非特許文献１に記載されている。しかしながら、非特許文献１に記載された構成は、特許文献７と同様に光の入射面と出射面とが同一の反射型であるため、サーキュレータ等が必要となり小型化に向かない。さらに、分散量の可変機構があるために部品点数が多くなり、構成が複雑になってしまう。なお、非特許文献１と同様の構成で、サーキュレータを用いない構成例が特許文献８に記載されているが、非特許文献１と同様の問題を有し、光学系を含めた光通信システムの規模が大きくなる。

特開平１０−２４２９１０号公報特開平５−１８１０２８号公報特開平５−３２３３９１号公報特開２０００−２５２９２０号公報特表２０００−５１１６５５号公報特開平６−１６０６０４号公報特開２０００−１０５３１３号公報米国特許出願公開第２００１００２１０５３号

Moss, Optical Fiber Conference, ２００２年学会予稿集、ＴｕＴ２、１３３頁、図１

第１の問題点は、従来の分散補償器を光源側あるいは受信側に設けた光通信システムではシステム構成が大規模になることである。

その理由は、分散補償とは波長成分に対応した遅延回路を作ることであるため、大きな分散補償量を実現するためには光信号を遅延させるための光パスを十分に長くする必要があるからである。

第２の問題点は、従来の分散補償器では光パワーを無駄に損失することである。

その理由は、光ファイバから光信号を取り出して分散補償を行い、再び光ファイバ内に光信号を戻すため、光結合損が発生するからである。

第３の問題点は、従来のエタロン型の光分散フィルタでは、分散補償量が小さいことである。

その理由は、従来のエタロン型の分散補償器は、光を遅延させるパスが短いために分散補償量を大きくすることができないからである。

第４の問題点は、反射型の分散補償器を備えた光通信システムでは、光学系が複雑になるためシステム規模が大きくなることである。

その理由は、反射型の分散補償器は光の入射面と出射面とが同一のため、光の経路を切り替える部品が必要となるからである。

本発明は上記したような従来の技術が有する問題点を解決するためになされたものであり、小型化、低消費電力化、低コスト化を実現しつつ、伝送路の長距離化を実現する分散補償器となる光分散フィルタを備えた光モジュールを提供することを目的とする。

また、本発明の他の目的は、光通信に限らず、光分散計測器等の関連技術で広範囲に適用できる光分散フィルタを備えた光モジュールを提供することにある。

上記目的を達成するため、本願発明の光モジュールは、光信号の伝送媒体である光ファイバと、
前記光ファイバで受ける分散を補償するために光が透過する複数の光透過層と前記光透過層と交互に配置される部分反射層とからなる反射型の光分散フィルタと、
前記光ファイバと前記光分散フィルタとを結ぶ光軸を避けた位置に配置される光能動素子と、
前記光ファイバと前記光分散フィルタとを結ぶ光軸上に位置し、かつ反射光の光軸上に前記光能動素子が位置するように配置されるハーフミラーと、
を有する。

本発明によれば、光ファイバで受ける分散を補償するために光が透過する複数の光透過層と光透過層と交互に配置される部分反射層とからなる反射型の光分散フィルタと、光ファイバと光分散フィルタとを結ぶ光軸を避けた位置に配置される光能動素子と、光ファイバと光分散フィルタとを結ぶ光軸上に位置し、かつ反射光の光軸上に光能動素子が位置するように配置されるハーフミラーとを有する構成を採用することで、光信号の送信側、または受信側で光信号に光分散フィルタを用いて所望の分散特性を与えることができるため、光モジュールの外部に大規模な分散補償器を設けることなく、光ファイバを用いた光通信システムの伝送距離が拡大できる。したがって、光通信システムの小規模化、コストダウンが可能である。

また、光信号の送信側、または受信側の光モジュールに光分散補償器となる光分散フィルタを内蔵できるため、光結合損が最小限で済み、従来の分散補償器のように光パワーを無駄に損失することがない。

また、本発明の光分散フィルタでは、光透過層の厚さ（共振器長）によって所定の周波数間隔（ＦＳＲ）で同様の透過特性が繰り返されるため、ＦＳＲを通信チャンネル間隔に等しく設定すれば、ＷＤＭ通信システムのように通信チャンネル間隔が等しい複数の光信号に対して同時に分散補償を行うことができる。

特に反射型の光分散フィルタを備えた光モジュールは、光能動素子を光ファイバと光分散フィルタとを結ぶ光軸を避けた位置に配置できるため、サーキュレータ等が不要になり、光学系の構成が簡易になることで、光通信システムの規模の拡大が防止される。

本発明の光分散フィルタの第１実施例の構成を示す断面図である。図１に示した多層膜の構成例を示す図であり、同図（ａ）は単層の薄膜を用いた構成を示す断面図、同図（ｂ）は４層の薄膜を用いた構成を示す断面図、同図（ｃ）は８層の薄膜を用いた構成を示す断面図、同図（ｄ）は１２層の薄膜を用いた構成を示す断面図である。図１に示した光分散フィルタのエタロン共振器層数に対する分散量及び動作帯域を示すグラフである。図１に示した光分散フィルタの群遅延特性を示すグラフである。本発明の光分散フィルタの第２実施例の構成を示す断面図である。本発明の光分散フィルタの第３実施例の構成を示す断面図である。本発明の光分散フィルタの第４実施例の構成を示す断面図である。本発明の光分散フィルタの第５実施例の構成を示す断面図である。本発明の光分散フィルタの第６実施例の構成を示す断面図である。本発明の透過型の光分散フィルタを用いた光モジュールの一構成例を示す断面図である。本発明の反射型の光分散フィルタを用いた光モジュールの一構成例を示す断面図である。本発明の反射型の光分散フィルタを用いた光モジュールの他の構成例を示す断面図である。本発明の光分散フィルタを用いた光モジュールの第１変形例を示す断面図である。本発明の光分散フィルタを用いた光モジュールの第２変形例を示す断面図である。本発明の光分散フィルタを用いた光分散測定器の一構成例を示すブロック図である。本発明の光分散フィルタを用いたチャネル抽出方法の効果を示す波形図である。

次に本発明について図面を用いて説明する。

まず、本発明の分散補償器や光モジュール等で用いる光分散フィルタについて説明する。

上述したエタロン共振器はＦＳＲ間隔毎に等しい透過特性を有する光分散フィルタとなる。エタロン共振器内では、入射した光が部分反射層間を多数回往復した後に透過するため、小型ながらも実効的な光学パスが長くなり、波長による透過時間差（分散）を大きくすることができる。従来の分散補償器のように一つのエタロン共振器を用いても分散を補償できるが、本発明者の計算によれば、ＦＳＲ＝１００ＧＨｚ内における動作帯域２０ＧＨｚで、最大でも分散補償量は２０ｐｓ/ｎｍと非常に小さいものしか得られない。

本発明では、複数のエタロン共振器を貼り合わせて光分散フィルタを構成することで、入射光の実効的な光学パスをさらに長くする。これにより分散補償値をより増大させることができる。しかしながら、単純にエタロン共振器を貼り合わせただけでは広帯域で一定な分散特性を得ることができない。それは波長に対する分散特性と各エタロン共振器間の反射率との間に密接な関係があるからである。

本発明においては、複数のエタロン共振器間の各境界面における反射率を変化させ、透過型の光分散フィルタを構成する場合は、厚さ方向における中央近傍の境界面の反射率を最も高く設定し、両端面に向かって各境界面の反射率が漸次低くなるように設定する。また、反射型の光分散フィルタを構成する場合は、入射面の反射率を最も低く設定し、入射面と反対側の最終端面の反射率を１００％に設定し、該最終端面に向かって各境界面の反射率が漸次高くなるように設定する。このように各境界面の反射率を設定することで、複数のエタロン共振器全体で所望の分散特性が得られるようにする。

ところで、光分散フィルタを設計する際には、光分散フィルタの極値を所望の値に設計するのが一般的である。例えば、Lenz, "Dispersive Properties of Optical Filters for WDM Systems", IEEE Journal of Quantum Electronics , 1998, No. 34, vol. 8, pp.1390-1402に記載されているように、一つのエタロン共振器は一つの極を持つため、本発明のように多層化したエタロン共振器では透過特性が各エタロン共振器の極が重なり合った特性になる。

本発明の光分散フィルタにおいては、各エタロン共振器で決定される極の重ね合わせから得られる群遅延時間に対して波長微分した値が分散量となる。また、動作帯域内（通常はＦＳＲの半周期分の帯域内）で一定な分散特性を得るために、ＦＳＲの半周期分の帯域内で群遅延特性が線形となるように決定する。そのための一般的な設計方法は、例えば、特開２００２−１２２７３２号公報の図５に示されている。同公報によれば、極の数が３以上の構成では、ＦＳＲの半周期分の帯域内で線形な群遅延特性が得られ、層数を増加させるほど群遅延特性の傾き（すなわち分散値）を大きく設定できる。したがって、本発明の光分散フィルタは３層以上のエタロン共振器を用いて形成するのが好ましい。

上記特開２００２−１２２７３２号公報ではエタロン共振器を用いた反射型の分散補償器について詳細に説明されている。したがって、エタロン共振器を利用した分散補償器において、その極の値（透過特性がピークとなる周波数）を所望の値に設定することは公知である。しかしながら、本発明の光分散フィルタはその極の値をどのように設定するか上記公報と異なる。

本発明では、透過型の光分散フィルタを形成する場合、極の値を以下のように設定する。例として、光分散フィルタが３層のエタロン共振器で構成される場合で説明する。

上述したように、各エタロン共振器の透過特性はそれぞれの極値に依存する。ここで、各極値をｐ１，ｐ２，ｐ３と定義し、ｐ１，ｐ２，ｐ３をＦＳＲの半周期分の帯域内で一定な分散特性となるよう決定する。

極からは各エタロン共振器の透過特性の分母が決まるため、エタロン共振器内における入射光の１往復の伝搬定数をｚとすると、その分母は、
（１−ｐ１／ｚ）・（１−ｐ２／ｚ）・（１−ｐ３／ｚ）…（１）
に比例する。

また、３層のエタロン共振器（第１のエタロン共振器〜第３のエタロン共振器）の各境界面における反射率をｒ０、ｒ１、ｒ２、ｒ３と定義する。但し、ｒ０は第１のエタロン共振器と空気の境界面、ｒ１は第１のエタロン共振器と第２のエタロン共振器の境界面、ｒ２は第２のエタロン共振器と第３のエタロン共振器の境界面、ｒ３は第３のエタロン共振器と空気の境界面の反射率である。

このとき、エタロン共振器の透過特性は、Dowling, "Lightwave Lattice Filters for Optically Multiplexed Communication Systems", IEEE Journal of Quantum Electronics , 1994, No. 12, vol. 3, pp.471-486の式３５によると、その分母は、
ｒ０・ｒ３／ｚ³＋（ｒ０・ｒ２＋ｒ１・ｒ３＋ｒ０・ｒ１・ｒ２・ｒ３）／ｚ²＋（ｒ０・ｒ１＋ｒ１・ｒ２＋ｒ２・ｒ３）／ｚ＋１…（２）
に比例する。

式（１）は極から求めた透過特性であり、式（２）は各境界面における反射率から求めた透過特性であり、これらの分母の形は一致しなければならない。したがって、式（１）と式（２）の係数ｚが等しくなるようにｒ０〜ｒ３を決定すれば本発明で用いる光分散フィルタの構成が決定される。

上記係数比較で得られる条件の数はエタロン共振器の層数と一致するが、反射率はエタロン共振器の面の数、すなわち条件の数よりも１つ多くなる。したがって、ｒ０〜ｒ３は任意の一つの値を決定することで他の値が決定され、例えば、ｐ１＝０．１×ｅⁱπ^/6、ｐ２＝０．１×ｅ^-iπ^/6、ｐ３＝０．２５の場合、ｒ０＝０．１％と決めると、ｒ１＝２％、ｒ２＝８０％、ｒ３＝１０％となる。ここで、ｒ０を無反射に近い値に設定すると、ｒ１〜ｒ３は光分散フィルタの厚さ方向における中央の境界面の反射率が最も高くなり、両端面に近い境界面ほど反射率が低くなることが分かる。なお、反射率が最も高くなる境界面は、光分散フィルタの中央とは限らず、ｒ０の値によって多少前後する。エタロン共振器の層数が３より多い場合でも、同様に透過特性の分母の係数を比較することで各反射率を求めることができる。

さらに、反射型の光分散フィルタも、透過型と同様に、極から求めた透過特性と反射率から求めた透過特性の係数比較を行うことで、各境界面における反射率が決定される。反射型の光分散フィルタでは、入射面が最も低い反射率に設定され、入射面と反対側の最終端面の反射率が１００％に設定され、入射面から最終端面に向かって各境界面の反射率が漸次高くなる。

本発明の光分散フィルタでは、各エタロン共振器の部分反射層として公知の誘電体薄膜からなる多層膜を用い、ガラスや半導体等から成る基板（光透過層）を該多層膜で挟んだ構成とする。ここで、光分散フィルタを透過型とする場合は、透過パワーが分散特性と同様に周波数に対して周期的な特性を持つため光信号波形が歪むおそれがある。したがって、多層膜の透過パワー特性はできるだけ周波数に対する依存性（波長依存性）が少ないことが望ましい。上述したように、本発明では複数のエタロン共振器における任意の境界面の反射率を所望の値に設定できるため、光入射面の反射率を高く設定することも可能である。その場合、光分散フィルタの出射面側から戻る光パワーを低減できるため、最終的に光分散フィルタを透過する光の分散特性の周波数依存性を低減できる。ちなみに入射面における光の反射率を５０％以上に設定すると、この効果が顕著である。入射面における光の反射率を比較的高く設定した場合、本発明の光分散フィルタの各境界面における反射率は、入射面から出射面に向かって徐々に減少する構成となる。または、入射面から出射面に向かって減少した後、一旦高くなり、その後出射面に向かって再び減少する構成となる。

本発明の光分散フィルタは、エタロン共振器の層数を増加させると、分散補償値をより増大させることが可能であり、動作帯域を広げることもできる。但し、エタロン共振器の層数を増加させると、反射面の数が増えるために光の透過パワーが減少する。エタロン共振器の層数は最大でも２０程度と考えられるが、透過パワーの減衰量や必要な分散特性を考慮して最適な層数を選択すればよい。

なお、本発明の光分散フィルタは、上記式（１）、（２）を利用してエタロン共振器の各境界面の反射率をそれぞれ求めているが、各境界面の反射率は求めた値に厳密に一致させる必要はない。算出値に対して±１０％程度の誤差は特性上において許容範囲であり、各境界面の反射率の関係が上記条件を満たしているならば透過特性が大きくずれることはない。

また、本発明の光分散フィルタは、上記基板に代わって空気層を用いることも可能である。但し、各エタロン共振器のＦＳＲが等しくなければならないため、各基板の媒質（基板あるいは空気）の屈折率と厚さの積をほぼ等しく設定する。ここで、各媒質の屈折率と厚さとの積は等しいことが望ましいが、厳密に等しくする必要はない。例えば、各基板の厚さを１ｍｍとすると、数〜数十ミクロン程度の誤差は影響が無い。

また、本発明では各エタロン共振器を接合する方法として接着材（例えば、エポキシ系接着剤）を用いる。この接着材は屈折率が基板の屈折率と同一であることが望ましい。そのような接着材を用いると、接着剤と基板の境界における光の反射が無くなり、接着剤の厚さが各基板毎に数ミクロン程度異なっていても、各基板の厚さ（ミリメートルオーダー）に対応するＦＳＲがほぼ等しくなるため、問題となることはない。

また、本発明の光分散フィルタでは、入射面または出射面に備える少なくとも一方の多層膜を省略することも可能である。その場合、入射面または出射面の反射率は基板と空気の屈折率差から２％程度になると考えられる。

さらに、本発明ではエタロン共振器の共振器長を決定する基板として、ガラスのような誘電体や半導体等の物質を用いるが、増幅回路を備えた半導体基板を形成すれば、透過する光信号を増幅することも可能である。

次に本発明の実施例について図面を参照して説明する。
（第１実施例）
図１は本発明の光分散フィルタの第１実施例の構成を示す断面図であり、図２は図１に示した多層膜の構成例を示す図であり、同図（ａ）は単層の薄膜を用いた構成を示す断面図、同図（ｂ）は４層の薄膜を用いた構成を示す断面図、同図（ｃ）は８層の薄膜を用いた構成を示す断面図、同図（ｄ）は１２層の薄膜を用いた構成を示す断面図である。なお、図１では光分散フィルタが６層のエタロン共振器から構成される例を示しているが、エタロン共振器の数は６層に限るものではなく、所望の分散特性及び透過率に応じて６層より少なくてもよく（但し、３層以上）、多くてもよい。

図１に示すように、第１実施例の光分散フィルタは、第１の基板２１〜第６の基板２６と、第１の基板２１〜第６の基板２６を挟んで交互に配置される第１の多層膜２７〜第７の多層膜３３とを有する構成である。

第１の基板２１〜第６の基板２６と第１の多層膜２７〜第７の多層膜３３とはそれぞれ接着材を用いて接合される。接着材には第１の基板２１〜第６の基板２６または第１の多層膜２７〜第７の多層膜３３と屈折率が近い値のものが望ましい。

第１の基板２１〜第６の基板２６は、例えば、屈折率が１．５の一般的なガラスを用いて、ＦＳＲが１００ＧＨｚとなるように１ｍｍの厚さで形成される。

また、第１の多層膜２７〜第７の多層膜３３は、光の反射率がそれぞれ異なる値に設定され、透過型の光分散フィルタを形成する場合、図１に示す光分散フィルタの厚さ方向における中央近傍の境界面に近い多層膜（図１では第４の多層膜３０）ほど高い反射率に設定され、両端面に近い多層膜（図１では第１の多層膜２７及び第７の多層膜３３）ほど低い反射率に設定される。一方、反射型の光分散フィルタを形成する場合は、入射面の多層膜（図１では第１の多層膜２７）が最も反射率が低く、入射面と反対側の最終端面の多層膜（図１では第７の多層膜３３）に向かって漸次反射率が高くなるように設定される。

図２（ａ）に示すように、透過型の光分散フィルタを形成する場合、第１の多層膜２７及び第７の多層膜３３は、例えば、屈折率が１．２の低屈折率ガラス薄膜（第１の薄膜４０）を用いて、透過光の薄膜内における波長λ（＝１．５５μｍ／屈折率１．２）の１/４倍の厚さで形成される。本実施例においては、第１の多層膜２７により空気と第１の基板２１間の反射率が０％に設定され、第７の多層膜３３により空気と第７の基板２６間の反射率が０％に設定される。

本実施例では、第１の多層膜２７及び第７の多層膜３３が単層の薄膜で形成された例を示すが、２層または３層の薄膜から成る低反射膜を用いることも可能である。その場合、低反射膜が形成できるならば各薄膜層の厚さは透過光の波長λの１/４倍に限ることはない。本実施例の透過型の光分散フィルタでは、中央の境界面に近い多層膜ほど光の反射率が高くなるため、第１の多層膜２７及び第７の多層膜３３の反射率が第２の多層膜２８及び第６の多層膜３２の反射率よりも高くならなければ０％に限定する必要はない。例えば、空気と第１の基板２１または第６の基板２６との界面の反射率は２％となるため、上記反射率の条件を満たすならば第１の多層膜２７及び第７の多層膜３３は無くてもよい。

また、反射型の光分散フィルタを形成する場合は、第１の多層膜２７の反射率のみ、例えば０％に設定される。なお、反射型の場合も、透過型と同様に第１の多層膜２７の反射率の値は上記値に限定する必要はなく、多層膜の構成も上記反射率の条件を満たすならば何層であってもよい。

図２（ｂ）に示すように、透過型の光分散フィルタを形成する場合、第２の多層膜２８及び第６の多層膜３２は、例えば、４層の薄膜（第１の薄膜４１〜第４の薄膜４４）から成る積層膜を用いて形成される。ここで、第１の薄膜４１及び第３の薄膜４２には屈折率が１．５のＳｉＯ₂（二酸化シリコン）が用いられ、第２の薄膜４３及び第４の薄膜４４には屈折率が２．８のＴｉＯ（酸化チタン）が用いられる。このような構成により第２の多層膜２８及び第６の多層膜３２の反射率が２０％に設定される。

本実施例では、第２の多層膜２８及び第６の多層膜３２の反射率を２０％に設定したが、光分散フィルタの厚さ方向における中央の境界面に近い多層膜ほど光の反射率を高く設定すればよいため、第２の多層膜２８及び第６の多層膜３２の反射率が第３の多層膜２９及び第５の多層膜３１の反射率よりも高くならなければ２０％に限定する必要はない。また、第２の多層膜２８及び第６の多層膜３２は、上記反射率の条件を満たすならば４層に限ることはない。さらに、各薄膜の厚さも上記反射率の条件を満たすならば自由に設定できる。

一方、反射型の光分散フィルタを形成する場合は、例えば、４層の薄膜を用いて第２の多層膜２８の反射率を２０％に設定する。反射型の場合も、透過型と同様に第２の多層膜２８の反射率は上記値に限定する必要はなく、多層膜の構成も上記反射率の条件を満たすならば何層であってもよい。

図２（ｃ）に示すように、透過型の光分散フィルタを形成する場合、第３の多層膜２９及び第５の多層膜３１は、８層の薄膜（第１の薄膜４５〜第８の薄膜５２）から成る積層膜を用いて形成される。ここで、第１の薄膜４５、第３の薄膜４６、第５の薄膜４７、及び第７の薄膜４８には屈折率が１．５のＳｉＯ₂（二酸化シリコン）が用いられ、第２の薄膜４９、第４の薄膜５０、第６の薄膜５１、及び第８の薄膜５２には屈折率が２．８のＴｉＯ（酸化チタン）が用いられる。このような構成により第３の多層膜２９及び第５の多層膜３１の反射率が４０％に設定される。

第３の多層膜２９及び第５の多層膜３１の反射率も、第４の多層膜３０の反射率よりも高くならなければ４０％に限定する必要はない。また、第３の多層膜２９及び第５の多層膜３１は、上記反射率の条件を満たすならば８層に限ることはない。さらに、各薄膜の厚さも上記反射率の条件を満たすならば自由に設定できる。

一方、反射型の光分散フィルタを形成する場合は、例えば、８層の薄膜を用いて第３の多層膜２９の反射率を４０％に設定する。反射型の場合も、透過型と同様に第３の多層膜２９及び第５の多層膜３１の反射率の値は上記値に限定する必要はなく、多層膜の構成も上記反射率の条件を満たすならば何層であってもよい。

図２（ｄ）に示すように、第４の多層膜３０は、１２層の薄膜（第１の薄膜５３〜第１２の薄膜６４）から成る積層膜を用いて形成される。ここで、第１の薄膜５３、第３の薄膜５４、第５の薄膜５５、第７の薄膜５６、第９の薄膜５７、及び第１１の薄膜５８には屈折率が１．５のＳｉＯ₂（二酸化シリコン）が用いられ、第２の薄膜５９、第４の薄膜６０、第６の薄膜６１、第８の薄膜６２、第１０の薄膜６３、及び第１２の薄膜６４には屈折率が２．８のＴｉＯ（酸化チタン）が用いられる。このような構成により第４の多層膜３０の反射率が８０％に設定される。

本実施例の透過型の光分散フィルタの構成では、第４の多層膜３０が中央の境界面となるため、第４の多層膜３０の反射率が最も高く設定できれば、反射率は８０％に限定する必要はない。また、第４の多層膜３０は上記反射率の条件を満たすならば１２層に限ることはない。さらに、各薄膜の厚さも上記反射率の条件を満たすならば自由に設定できる。

一方、反射型の光分散フィルタを形成する場合は、例えば、１０層の薄膜を用いて第４の多層膜３０の反射率を５０％に設定する。反射型の場合も、透過型と同様に第４の多層膜３０の反射率は上記値に限定する必要はなく、多層膜の構成も上記反射率の条件を満たすならば何層であってもよい。なお、反射型の場合、例えば、第５の多層膜３１は１０層の薄膜を用いて反射率を６０％に設定し、第６の多層膜３２は１２層の薄膜を用いて反射率を８０％に設定し、第７の多層膜３３は１２層以上の薄膜を用いて反射率を１００％に設定する。これらの多層膜も上記反射率の条件を満たすならば層数は限定されるものではなく、各薄膜の厚さも上記反射率の条件を満たすならば自由に設定できる。

なお、本実施例では、透過型の光分散フィルタを形成する場合に光分散フィルタの中央の境界面から両端に向かって多層膜による反射率が対称となるように設定しているが、中央近傍の境界面における反射率が最も高くなる条件であれば対称である必要はない。

また、本実施例においては、第１の基板２１から第６の基板２６を同じ屈折率を有するガラスで構成した例を示したが、ＦＳＲが等しくなるように各エタロン共振器の屈折率と厚さの積が等しくなる構成であれば、第１の基板２１〜第６の基板２６は異なる材質であってもよい。

本実施例では、６層のエタロン共振器から構成される光分散フィルタを示しているが、図３に示すように、エタロン共振器の層数を増加させると、分散補償値をより増大させることが可能であり、動作帯域を広げることもできる。上述したように、エタロン共振器の層数を増加させると、反射面の数が増えるために光の透過パワーが減少する。したがって、透過パワーの減衰量や必要な分散特性を考慮して最適な層数を選択する。

図４に示すように、本実施例の光分散フィルタは、１００ＧＨｚ毎にピークが現れる群遅延特性を備えている。図４の群遅延特性を波長で微分した値が分散であり、図４に示すグラフの右上がりの特性部分を利用することにより３０ＧＨｚの範囲で３００ｐｓｅｃ／ｎｍの分散特性が得られる。同様に、右下がりの特性部分を利用することで３０ＧＨｚの範囲で−３００ｐｓｅｃ／ｎｍの分散特性が得られる。これは、およそ２０Ｋｍの光ファイバ内で受ける分散を補償できることを意味する。
（第２実施例）
図５は本発明の光分散フィルタの第２実施例の構成を示す断面図である。

図５に示すように、第２実施例の光分散フィルタは、複数のエタロン共振器（図５では４個）をそれぞれ離して直列に配置した構成である。

エタロン共振器は、第１実施例と同様に、誘電体や半導体から成る基板（第１の基板７１〜第４の基板７４）と、基板を挟むように接合される多層膜（第１の多層膜７５〜第８の多層膜８２）とを有する構成である。

基板は、例えば、屈折率が１．５の一般的なガラスを用いて、ＦＳＲが１００ＧＨｚとなるように１ｍｍの厚さで形成される。また、多層膜は、第１実施例と同様にＳｉＯ₂（二酸化シリコン）薄膜やＴｉＯ（酸化チタン）薄膜を積層した構成である。本実施例では、各エタロン共振器が空気の屈折率１．０に対応してＦＳＲが１００ＧＨｚとなるように１．５ｍｍの間隔を有して配置される。

本実施例の光分散フィルタにおいても、第１実施例と同様に、透過型の場合は、各エタロン共振器の多層膜による反射率を、中央近傍のエタロン共振器で用いる多層膜が最も高く、両端へ向かって低くなるように設定する。具体的には、第１の多層膜７５及び第８の多層膜８２による光の反射率を０％、第２の多層膜７６及び第７の多層膜８１による光の反射率を２０％、第３の多層膜７７及び第６の多層膜８０による光の反射率を４０％、第４の多層膜７８及び第５の多層膜７９による光の反射率を８０％に設定する。

また、反射型の場合は、入射面（図５では第１の多層膜７５）の反射率を最も低く（例えば、０％）、入射面と反対側の最終端面（図５では第８の多層膜８２）が最も高く（例えば、１００％）なるように設定する。

なお、本実施例においても、第１実施例と同様に、各多層膜による反射率の関係が上記条件を満たすように設定すれば、反射率の値はどのように設定してもよい。

本実施例の透過型の光分散フィルタで実現される分散補償値は４００ｐｓｅｃ／ｎｍであった。これは、およそ２５Ｋｍの光ファイバ内で受ける分散を補償できることを意味する。
（第３実施例）
図６は本発明の光分散フィルタの第３実施例の構成を示す断面図である。

図６に示すように、第３実施例の光分散フィルタは、第２実施例と同様に、複数のエタロン共振器（図６では４個）がそれぞれ離れて直列に配置され、各エタロン共振器間に、空気層の間隔を制御するためのギャップ基板（第１のギャップ基板１３１〜第３のギャップ基板１３３）が挿入された構成である。第１のギャップ基板１３１〜第３のギャップ基板１３３は、それぞれ光が透過しない物質（例えば金属等）を用いて形成される。その他の構成は第２実施例と同様であるため、その説明は省略する。

本実施例の光分散フィルタの構成によれば、空気層を構成する各エタロン共振器間の距離を、ギャップ基板を用いて容易に設定できる。このような構成は、ギャップ基板として熱膨張率が大きい物質を用いれば、周囲温度を変えて透過特性や分散量を変更する場合に、それらを容易に変更することができる。
（第４実施例）
図７は本発明の光分散フィルタの第４実施例の構成を示す断面図である。

第４実施例の光分散フィルタは、第１実施例と同様に複数のエタロン共振器を積層した構成（図７では５層）であり、エタロン共振器長を決定する各基板（図７では第１の基板１５０〜第５の基板１５４）の媒質を変え、それらを接着剤で直接貼り合せた構成である。

本実施例では、例えば、第１の基板１５０及び第５の基板１５４として光の屈折率が１．５のガラスを用い、第２の基板１５１及び第４の基板１５３として光の屈折率が２．０のＺｎＯ（酸化亜鉛）を用い、第３の基板１５２として光の屈折率が２．８のＴｉＯ（酸化チタン）を用いる。なお、第１の基板１５０及び第５の基板１５４と空気との界面には反射率が低いコーティング膜１５５、１５６を形成してもよい。

一般に、物質の屈折率が変化する境界では光の反射が発生する。したがって、本実施例のように屈折率が異なる複数の基板を用意し、それらを接着すれば各基板間の境界面に多層膜を設ける必要がなくなる。このとき、各基板の境界面における反射率は、第１実施例と同様に、例えば、透過型の光分散フィルタを形成する場合は、光分散フィルタの厚さ方向における中央近傍の境界面で反射率が最も高く、両端へ向かって反射率が低くなるように、各基板の屈折率を選択すればよい。また、反射型の光分散フィルタを形成する場合は、光の入射面から反対側の最終端面に向かって反射率が漸次高くなるように各基板の屈折率を選択すればよい。

本実施例の光分散フィルタの構成によれば、各エタロン共振器を構成する多層膜が不要になり、多層膜を形成するための材料、及び製造に必要な時間や設備が不要になるため、光分散フィルタのコストを低減できる。
（第５実施例）
図８は本発明の光分散フィルタの第５実施例の構成を示す断面図である。

第５実施例の光分散フィルタは、第１実施例の光分散フィルタに、該光分散フィルタから出射された光を全反射させるための反射鏡１６０を追加した構成である。

反射鏡１６０は、出射面との距離×出射面との間の媒質（例えば、空気）の屈折率の値が、エタロン共振器の基板の厚さ×屈折率の１／２となる位置に設置される。

このような構成では、光分散フィルタから出射された光信号が光分散フィルタを２度透過する。例えば、図１に示した第１実施例の光分散フィルタでは、光の入射面と反対側の最終端面を全反射にすると、各エタロン共振器内で入射面側へ向かって反射する光と出射面で反射した光とが干渉して分散補償量が低減する。本実施例のように反射鏡を用いて出射面からの光を戻すことで、エタロン共振器の最終端面で全反射させる構成よりも大きな分散補償量を得ることができる。
（第６実施例）
図９は本発明の光分散フィルタの第６実施例の構成を示す断面図である。

第６実施例の光分散フィルタは、エタロン共振器の基板として半導体を用い、該半導体基板１６１に、光導波路１６２と、光信号を増幅するための光増幅回路とを形成した構成である。

光増幅回路は、例えば、周知の誘導放出光を利用するものであり、光導波路上の所定の距離毎に複数の回折格子（図９では第１の回折格子１６３〜第５の回折格子１６７）を形成した構成である。なお、半導体基板１６１と空気との界面には反射率が低いコーティング膜１６８、１６９を形成してもよい。回折格子は格子の周期数が多いほど反射率が高くなるため、光導波路１６２の中央近傍の回折格子（図９では第３の回折格子１６５）の反射率を最も高く設定し、両端面側の回折格子の反射率ほど低くなるように設定すれば透過型の光分散フィルタとなる。また、光入射面側の第１の回折格子１６３の周期数を最も少なく設定し、第５の回折格子１６７の周期数を最も多くなるように設定し、入射面と反対側の最終端面に設ける多層膜の反射率を高反射率（例えば、１００％）に設定すれば、反射型の光分散フィルタとなる。

本実施例の光分散フィルタによれば、エタロン共振器の基板として屈折率が約３．５の半導体を用いるため、屈折率が１．５のガラスを用いる構成よりも素子長を短く形成できる。また、光の増幅機能を有しているため光ファイバとの結合損を補償できる。
（第７実施例）
第７実施例では、第１実施例〜第６実施例で記載した光分散フィルタのうち、透過型の光分散フィルタを用いた光モジュールを提案する。

図１０は本発明の透過型の光分散フィルタを用いた光モジュールの一構成例を示す断面図である。

図１０に示すように、本実施例の光モジュール１は、第１実施例〜第６実施例で記載した透過型の光分散フィルタ３を内蔵した構成であり、該光分散フィルタ３を光ファイバ４による分散を補償するための分散補償器として用いる。

光モジュールが光信号を送信する送信モジュールの場合、光モジュール１は、光源である光能動素子２を備え、光能動素子２から出射された光に対して本発明の光分散フィルタ３を用いて光ファイバ４による分散と逆の分散を与えた後、光ファイバ４内に導入する。

また、光モジュールが光信号を受信する受信モジュールの場合、光モジュール１は、受光素子である光能動素子２を備え、光ファイバ４を通して伝送された光信号に対して本発明の光分散フィルタ３を用いて光ファイバ４で受けた分散と逆の分散を与えた後、光能動素子２へ導入する。

本実施例の光モジュールでは、光分散フィルタ３が透過型のため、光ファイバ４と光能動素子２とを結ぶ光軸上に光分散フィルタ３が配置される。

なお、図１０に示した光モジュール１には、光源または受光素子である光能動素子２と光分散フィルタ３のみ記載しているが、光能動素子２から出射された光を光分散フィルタ３に集光するためのレンズや光分散フィルタ３を透過した光を光ファイバ４のコア内に集光するためのレンズを備えていてもよい。または、光ファイバ４から出射された光を光分散フィルタ３に集光するためのレンズや光分散フィルタ３を透過した光を光能動素子２に集光するためのレンズを備えていてもよい。さらに、光分散フィルタ３からの反射光が光源に戻って発振を擾乱させるのを防止するため、光源と光分散フィルタ３との間に光アイソレータを備えていてもよい。

本発明の光分散フィルタは、従来の分散補償器に比べて小型に形成できるため、例えば、光源である直接変調型の半導体レーザや外部変調型の半導体レーザ等を含む光モジュールに内蔵することが可能になる。したがって、光ファイバで受ける分散を補償する分散特性を光モジュール内で与えることができるため、光モジュールの外部に大規模な分散補償器を設けることなく、光ファイバを用いた光通信システムの伝送距離が拡大できる。
（第８実施例）
第８実施例では、第１実施例〜第６実施例で記載した光分散フィルタのうち、反射型の光分散フィルタを用いた光モジュールを提案する。

図１１は本発明の反射型の光分散フィルタを用いた光モジュールの一構成例を示す断面図である。

図１１に示すように、本実施例の光モジュール１１は、第１実施例〜第６実施例で記載した反射型の光分散フィルタ１３を内蔵した構成であり、該光分散フィルタ１３を光ファイバ１４による分散を補償するための分散補償器として用いる。

光モジュールが光信号を送信する送信モジュールの場合、光モジュール１１は、光源である光能動素子１２を備え、光能動素子１２から出射された光に対して本発明の光分散フィルタ１３を用いて光ファイバ１４による分散と逆の分散を与えた後、光ファイバ１４内に導入する。

また、光モジュールが光信号を受信する受信モジュールの場合、光モジュール１１は、受光素子である光能動素子１２を備え、光ファイバ１４を通して伝送された光信号に対して本発明の光分散フィルタ１３を用いて光ファイバ１４で受けた分散と逆の分散を与えた後、光能動素子１２へ導入する。

本実施例の光モジュールでは、光分散フィルタ１３が反射型のため、光ファイバ１４と光分散フィルタ１３とを結ぶ光軸上からずれた位置に光能動素子１２を配置する。このような位置に光能動素子１２を配置することで、入射光または出射光の光路を変更するための素子（サーキュレータ）が不要になるため、光モジュールの規模が増大するのを防止できる。

なお、本実施例の光モジュールにおいても、光能動素子１２から出射された光を光分散フィルタ１３に集光するためのレンズや光分散フィルタ１３で反射した光を光ファイバ１４のコア内に集光するためのレンズを備えていてもよい。または、光ファイバ１４から出射された光を光分散フィルタ１３に集光するためのレンズや光分散フィルタ１３で反射した光を光能動素子１２に集光するためのレンズを備えていてもよい。さらに、光分散フィルタ１３からの反射光が光源に戻って発振を擾乱させるのを防止するため、光源と光分散フィルタ１３との間に光アイソレータを備えていてもよい。

本実施例の光モジュールは、第７実施例と同様に、例えば光源である直接変調型の半導体レーザや外部変調型の半導体レーザ等を含む光モジュールに内蔵することが可能になる。したがって、光ファイバで受ける分散を補償する分散特性を光モジュール内で与えることができるため、光モジュールの外部に大規模な分散補償器を設けることなく、光ファイバを用いた光通信システムの伝送距離が拡大できる。
（第９実施例）
第９実施例では、第１実施例〜第６実施例で記載した光分散フィルタのうち、反射型の光分散フィルタを用いた光モジュールの他の構成例を提案する。

図１２は本発明の反射型の光分散フィルタを用いた光モジュールの他の構成例を示す断面図である。

図１２に示すように、本実施例の光モジュール１００は、第１実施例〜第６実施例で記載した反射型の光分散フィルタ１０２を内蔵した構成であり、該光分散フィルタ１０２を光ファイバ１０４による分散を補償するための分散補償器として用いる。

光モジュールが光信号を送信する送信モジュールの場合、光モジュール１００は、光源である光能動素子１０１を備え、光能動素子１０１から出射された光に対して本発明の光分散フィルタ１０２を用いて光ファイバ１０４による分散と逆の分散を与えた後、光ファイバ１０４内に導入する。

また、光モジュールが光信号を受信する受信モジュールの場合、光モジュール１００は、受光素子である光能動素子１０１を備え、光ファイバ１０４を通して伝送された光信号に対して本発明の光分散フィルタ１０２を用いて光ファイバ１０４で受けた分散と逆の分散を与えた後、光能動素子１０１へ導入する。

さらに、本実施例の光モジュール１００は、光ファイバ１０４と光分散フィルタ１０２とを結ぶ光軸上に配置されたハーフミラー１０３を備え、光能動素子１０１はハーフミラー１０３の反射光の光軸上に配置される。

このような構成では、ハーフミラー１０３を光信号が２回通過するため、光能動素子１０１から出射された光あるいは光ファイバ１０４を介して受光した光のパワーが１／４に低減する。

しかしながら、ハーフミラー１０３はサーキュレータ等と異なって光モジュール１００内に収納可能な程度に小型であるため、光源である直接変調型の半導体レーザや外部変調型の半導体レーザ等を含む光モジュールに内蔵することが可能になる。したがって、第７、第８実施例と同様に、光ファイバで受ける分散を補償する分散特性を光モジュール内で与えることができるため、光モジュールの外部に大規模な分散補償器を設けることなく、光ファイバを用いた光通信システムの伝送距離が拡大できる。
（第１０実施例）
第１０実施例は、第７実施例〜第９実施例で示した光モジュールの変形例である。

図１３は本発明の光分散フィルタを用いた光モジュールの第１変形例を示す断面図である。

図１３に示すように、第１０実施例は、第７実施例〜第９実施例で示した光モジュール内に光能動素子の温度を制御するための第１の温度制御装置９３と、光分散フィルタの温度を制御するための第２の温度制御装置９４とを有する構成である。第１の温度制御装置９３及び第２の温度制御装置９４は、例えば、不図示のヒータ、該ヒータに電流を供給する電流源、光能動素子及び光分散フィルタの温度を検出する温度センサー、及び温度センサーの検出値にしたがってヒータに供給する電流をＯＮ／ＯＦＦするコントローラを有する構成である。

なお、図１２は、第７実施例で示した透過型の光分散フィルタを有する光モジュールを例にした構成を示しているが、第８、第９実施例のように反射型の光分散フィルタを有する構成も本実施例は適用できる。

一般に、光能動素子が対応する波長の温度変化率は約０．０８ｎｍ／℃であり、光分散フィルタの温度変化率は０．０１ｎｍ／℃である。したがって、第１の温度制御装置９３及び第２の温度制御装置９４を用いて光能動素子及び光分散フィルタの温度を独立に制御することで、それぞれを所望の特性に変更することができる。なお、光分散フィルタは温度が変わると波長と共に分散量も変化する。この分散の変化量は光分散フィルタで用いる媒質や層数等によって異なるため、最適な値になるように設計すればよい。
（第１１実施例）
第１１実施例は、上記第７実施例〜第１０実施例で記載した光モジュールの他の変形例である。

図１４は本発明の光分散フィルタを用いた光モジュールの第２変形例を示す断面図である。

図１４に示すように、第１１実施例は、第７実施例〜第１０実施例で示した本発明の光分散フィルタを内蔵する光モジュール１１０から光ファイバの取り外しを可能にした構成である。光ファイバの取り付け部には、例えば光コネクタ１１３が固定される。なお、図１４は、第７実施例で示した透過型の光分散フィルタを有する光モジュールを例にした構成を示しているが、第８、第９実施例のように反射型の光分散フィルタを有する構成、及び第１０実施例のように第１、第２の温度制御装置を有する構成も本実施例は適用できる。

このような構成では、光モジュール１１０のコストを低減できるため、ローエンド向けに用いて好適な光モジュールを得ることができる。
（第１２実施例）
第１２実施例では、第１実施例〜第６実施例で記載した光分散フィルタを応用した光分散測定器を提案する。

図１５は本発明の光分散フィルタを用いた光分散測定器の一構成例を示すブロック図である。

図１５に示すように、第１２実施例は光分散フィルタを用いて分散量を測定するための光分散測定器である。

光分散測定器は、光信号を分割する光分波器１２４と、光分波器１２４で分波された一方の光信号が通過する光分散フィルタ１２１と、光分散フィルタ１２１を通過した光信号に対応した電気信号を出力する第１の光受信器１２２と、光分波器１２４で分波された他方の光信号に対応した電気信号を出力する第２の光受信器１２３と、第１の光受信器１２２及び第２の光受信器１２３から出力される信号の差を出力する信号差分回路１２５とを有する構成である。

このような構成では、信号差分回路１２５の出力値が光分散フィルタ１２１による分散値に比例するため、光分散フィルタ１２１の分散量を得ることができる。また、予め光分散フィルタ１２１の分散量が分かっている場合は、その分散量との差から光分散測定器に入力した光信号の分散量を測定することができる。
（第１３実施例）
第１３実施例では、第１実施例〜第６実施例で記載した光分散フィルタを応用した通信チャネル抽出装置を提案する。

図１６は本発明の光分散フィルタを用いた通信チャネル抽出装置の効果を示す波形図である。

一般に、ＷＤＭ光通信システムにおける各通信チャネルの周波数間隔は、５０ＧＨｚ、１００ＧＨｚ等で規格化されている。

上述したように、本発明の透過型の光分散フィルタはＦＳＲ周期毎に光が最も透過する波長領域がある。したがって、本発明の光分散フィルタのＦＳＲを、ＷＤＭ光通信システムのチャネル間隔＜光分散フィルタのＦＳＲに設定することで、光分散フィルタを透過したＷＤＭ光通信システムの通信チャネルを選択する通信チャネル抽出装置として用いることができる。

具体的には、光分散フィルタのＦＳＲを、例えば６０ＧＨｚ、１２０ＧＨｚのようにチャネル間隔よりも１〜２割程度広げる。このとき、第１０実施例で示した温度制御装置を用いて光分散フィルタの温度を変化させれば、光分散フィルタのＦＳＲが変化するため、ＷＤＭ光通信システムが有する複数の通信チャネルから、所望の通信チャネルの光信号のみを抽出することが可能になる。

１、１１、１００、１１０光モジュール
２、１２、１０１光能動素子
３、１３、１０２、１２１光分散フィルタ
４、１４、１０４光ファイバ
２１、７１、１５０第１の基板
２２、７２、１５１第２の基板
２３、７３、１５２第３の基板
２４、７４、１５３第４の基板
２５、１５４第５の基板
２６第６の基板
２７、７５第１の多層膜
２８、７６第２の多層膜
２９、７７第３の多層膜
３０、７８第４の多層膜
３１、７９第５の多層膜
３２、８０第６の多層膜
３３、８１第７の多層膜
８２第８の多層膜
４０、４１、４５、５３第１の薄膜
４３、４９、５９第２の薄膜
４２、４６、５４第３の薄膜
４４、５０、６０第４の薄膜
４７、５５第５の薄膜
５１、６１第６の薄膜
４８、５６第７の薄膜
５２、６２第８の薄膜
５７第９の薄膜
６３第１０の薄膜
５８第１１の薄膜
６４第１１の薄膜
９３第１の温度制御装置
９４第２の温度制御装置
１０３ハーフミラー
１１３光コネクタ
１２２第１の光受信器
１２３第２の光受信器
１２４光分波器
１２５信号差分回路
１３１第１のギャップ基板
１３２第２のギャップ基板
１３３第３のギャップ基板
１３４第４のギャップ基板
１５５、１５６、１６８、１６９コーティング膜
１６０反射鏡
１６１半導体基板
１６２光導波路
１６３第１の回折格子
１６４第２の回折格子
１６５第３の回折格子
１６６第４の回折格子
１６７第５の回折格子

Claims

光信号の伝送媒体である光ファイバと、
前記光ファイバで受ける分散を補償するために光が透過する複数の光透過層と前記光透過層と交互に配置される部分反射層とからなる反射型の光分散フィルタと、
前記光ファイバと前記光分散フィルタとを結ぶ光軸を避けた位置に配置される光能動素子と、
前記光ファイバと前記光分散フィルタとを結ぶ光軸上に位置し、かつ反射光の光軸上に前記光能動素子が位置するように配置されるハーフミラーと、
を有する光モジュール。
前記光ファイバを着脱可能に固定する光コネクタを有する請求項１記載の光モジュール。
前記光能動素子の温度を制御するための第１の温度制御装置と、
前記光分散フィルタの温度を制御するための第２の温度制御装置と、
を有する請求項１または２記載の光モジュール。
前記光能動素子は、光信号を出射する光源である請求項１乃至３のいずれか１項記載の光モジュール。
前記光能動素子は、光信号を受光する受光素子である請求項１乃至４のいずれか１項記載の光モジュール。
光信号を分割する光分波器と、
前記光分波器で分波された一方の光信号が入射する請求項１記載の光モジュールと、
前記光モジュールへ入射した光信号に対応した電気信号を出力する、前記光能動素子である第１の光受信器と、
前記光分波器で分波された他方の光信号に対応した電気信号を出力する第２の光受信器と、
前記第１の光受信器及び第２の光受信器から出力される信号の差を出力する信号差分回路と、
を有する光分散測定器。