JP5211154B6 - 複数の拡散溶接枠を具備するガス分配器及びその製造方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 title claims description 9
- 238000003466 welding Methods 0.000 title claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 210000005239 tubule Anatomy 0.000 claims description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 6
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 2
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 104
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 3
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
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Description
本発明は、2又はそれ以上のチャンバを備えたCVD反応装置用のガス分配器に関し、各チャンバに供給ラインが開口し、少なくとも1つのチャンバは、ガス容器を形成し、かつ、別の少なくとも1つのチャンバと交差している多数の小管を介してガス分配器の下面に設けられたガス出口開口に連通している。
さらに本発明は、この種のガス分配器の製造方法に関する。
特許文献1、特許文献2、特許文献3及び特許文献4は、”シャワーヘッド”分配器としても知られるこの種のガス分配器を開示している。それらのガス分配器では、水平向きの複数のプレートを互いに上下に配置している。これらのプレートは、鉛直方向に互いに離間し、それぞれがチャンバの床と天井を形成している。チャンバの外周は、鋼製の環状外周部品により形成されている。ガス分配器における下方向きの面は、複数のガス出口開口を具備する。その上に位置するチャンバは冷却チャンバであり、例えば水である液体冷媒が流されている。この冷却チャンバの上方には、気密性をもって互いに分離した2つのガス容器がある。各ガス容器は15,000本以上の多数の小管によりガス分配器の下面に連通されている。これらの小管は、ガス出口開口に開口しており、それにより少なくとも冷却チャンバと交差している。
この種のガス分配器の製造は、作業困難である。なぜなら、多数の小管を、予め形成された孔に1つ1つはんだ付けしなければならないからである。一方のチャンバ壁及び小管がステンレス鋼であるのに対し、他方がはんだであり、異なる材料が用いられることも不利である。
特許文献5、特許文献6及び特許文献7は、複数のディスクからなるサンドイッチ状に形成されるガス入口分配器を開示している。個々のディスクは、ディスクの面内でガス分配が生じるように構成されている。このために、十字交差チャネルが設けられている。それにより、ブロック状の上昇路を形成し、それらの上昇路は、1つのガスが流れることができる中央開口を具備し、中央開口の周囲では別のガスが流れることができる。
特許文献8は、サンドイッチ状構成をもつガス分配器を開示している。下方ディスクと上方ディスクがそれぞれ広い面に切り欠きを具備し、格子形状で延在する溝により形成されている。それにより、中央開口をもつ長方形の台座が残る。これらの外側ディスクが1つの上に別の1つが位置し、対応する位置に孔を開けた内側ディスクが挿入されると、これは、多数の小管を形成し、各小管は、チャンバを通り抜けている。
特許文献9、特許文献10、特許文献11、特許文献12及び特許文献13は、互いに上下に位置する多数のディスクを有するガス分配器を開示している。ディスクの広い面にチャネルが設けられている。組み立てた状態で、これらのチャネルは閉じられている。
本発明の目的は、製造容易でありかつ技術的に改良されたガス分配器を提供することである。
上記目的は、特許請求の範囲に特定された発明により達成される。特に、請求項2〜14は、請求項1に特定されたガス分配器における基本的に有利な改良点に関係するが、各請求項は、上記目的を達成するための独立した解決手段を表現し、他の任意の請求項と組み合わせることが可能である。
先ず、ガス分配器は、互いに上下に配置された複数の加工されたディスクを有し、それらのディスクは、互いに結合され、特に圧力及び温度により互いに拡散溶接されている。特に、これら複数のディスクにより、複数の小管を設けることができる。これらの小管は、互いに上下に載置された複数の環状ディスクにより設けられ、実質的に互いに合致するように配置されている。小管は、これらの環状ディスクから形成される。複数のディスクは、好適にはステンレス鋼製であり、自由空間すなわち複数のディスクにより形成される開口の領域に、上記の環状ディスクを有する。複数の環状ディスクは、複数のウェブにより互いに連結されている。溶接状態では、互いに上下に位置する環状ディスクは小管を形成し、これらの小管は、対応するチャンバと交差している。チャンバ容器は、ウェブ間の介在空間により形成される。例えばガス又は液体である、チャンバに関係する流体がそのチャンバを通過する流れを確実に改善するために、ウェブの材料厚さは、複数のディスク自体すなわち小管を形成する環状ディスクよりも薄くされている。複数のディスクの材料厚さは、0.2mm〜2mmでよい。この材料厚さは、好適には、0.3mm〜1mmである。また、個々のディスクの延長面を視たときのウェブの材料厚さは、環状ディスクの外径よりも薄い。環状ディスクは、円形の外郭を有する。しかしながら、環状ディスクの外郭は、円形から外れていてもよい。複数のウェブは、ガス透過可能となるように実質的に互いに合致して位置するような措置が採られることが好ましい。互いに連結されたディスクのウェブは、ガス透過可能な壁を形成する。これは、上述したように、断面を薄くすることにより実現される。
しかしながら、異なるウェブ構成のディスクを互いに上下に配置することも可能である。本発明によるガス分配器は、従来技術のように、複数の異なる構成をもつディスクを有することが好適である。しかし、本発明では、ガス分配器の軸区画の各々が、複数の一体的に構成されたディスクにより形成され、製造の際にはそれらのディスクを互いに上下に載置するだけであり、異なる構成をもつディスクを交互にすることが可能である。小管の内径、すなわち流路の直径は、0.4mm〜1mmでよい。小管の表面密度すなわちガス出口開口の表面密度は、10〜20個/cm2でよい。さらに別の請求項に係る方法によれば、少なくとも180mmの直径をもつガス分配器の製造が可能である。この直径は、少なくとも380mm、又は、少なくとも500mmでもよい。700mmを超える直径をもつガス分配器を製造することさえ可能である。このガス分配器は、全部で2つのガス容器を備えていることが好適である。これらのガス容器の一方は、一体部品から作製してもよい。他方のガス容器は、拡散溶接されたプレート構造の一部であってもよい。さらに、拡散溶接されたプレート構造は、上述の冷却チャンバを備え、この冷却チャンバは、互いに分離された2つガス容器をガス分配器の下面におけるガス出口開口に連通させる小管と交差している。本発明のさらに別の構成においては、交差する複数のウェブのウェブ中点に環状ディスクが載置されたプレートと、交差する複数のウェブの交点に環状ディスクが載置されたプレートとが、チャンバの領域において交互に設けられる。
さらに本発明は、この種のガス分配器の製造方法に関する。この製造方法は、金属製の、好適にはステンレス鋼製の、複数の加工されたディスクにより形成されたガス分配器におけるプレート構造に実質的に関連する。これらのプレートの各々は、金属シートにより形成される。その金属シートは、先ず、それらの外郭形状に切断又は打ち抜きされる。次に、これらのディスクが加工される。これらのディスクが個々のチャンバの間に配置されたならば、これらは複数の孔を有するだけである。1つのチャンバを形成する複数のディスクは、1つのウェブ構造を有し、複数のウェブは複数の環状ディスクを互いに接続している。このウェブ構造は、エッチング工程により作製可能である。このために、所定形状に切断された金属シートは、先ずフォトリソグラフィによりマスクされる。このことは、プレートの広い方の面に対して広範囲に亘って感光性レジストを塗布することを含む。露光ステップの後、フォトレジスト層の非露光区画又は露光区画が再び除かれる。その後、フォトレジストの無い区画がエッチングされる。好適には、異方性エッチング工程が用いられる。第2のエッチングにおいては、環状ディスク表面及び周縁部のみがマスクされ、ウェブの材料厚さを削減できる。このようにして加工されたプレートは、複数の環状ディスクが小管を形成しかつ広い方の面のチャンバが孔のみを有するように、互いに上下に載置される。最後に、プレートの積層物は、炉内で一緒に圧縮され、金属の、特にステンレス鋼の溶融温度未満の所定の温度とされる。プレートの積層物は、互いに上下に位置する広い面が互いに密着して結合するまで、この圧力及びこの温度に曝される。個々のプレートの識別を容易とするために、各プレートは、周縁突起の形態の識別タグを具備し、その上に識別手段が設けられる。これらのプレートは、平面視にて実質的に円形であり、さらに、その周縁部から突出し、位置決め孔を設けた位置決めラグを具備してもよい。位置決め器具は、複数の位置決めピンを備えている。位置決めピンが位置決め孔を貫通するように、位置決め器具上に位置決めラグを載置できる。これにより、複数の加工されたディスクを精確に互いに上下に配置できる。
複数のディスクは、取り外し可能な横に突出する位置決めラグを具備し、各位置決めラグは位置決め孔を設けており、複数のディスクが互いに上下に配置されるとき、位置決め孔が組立補助用の位置決めピンの上に載置される。
位置決めラグが、第1及び第2のディスクの各々における周縁部との境界上に孔及び切り欠きを形成して第1及び第2のディスクの各々に対し取り外し可能に連結されている。
複数のディスクに設けられかつ複数のディスクの拡散溶接後に取り外し可能な識別タグを有する。
複数のディスクは、取り外し可能な横に突出する位置決めラグを具備し、各位置決めラグは位置決め孔を設けており、複数のディスクが互いに上下に配置されるとき、位置決め孔が組立補助用の位置決めピンの上に載置される。
位置決めラグが、第1及び第2のディスクの各々における周縁部との境界上に孔及び切り欠きを形成して第1及び第2のディスクの各々に対し取り外し可能に連結されている。
複数のディスクに設けられかつ複数のディスクの拡散溶接後に取り外し可能な識別タグを有する。
本発明の実施例を、添付の図面に基づいて以下に説明する。
実施例は、CVD反応装置用のガス分配器に関連する。この種のガス分配器の利用については、特に、特許文献1に記載されている。ガス分配器は、CVD反応装置の一部であり、コーティングされる基板を受容するサセプタの鉛直上方に配置されている。これらの基板は、サセプタの水平な表面上に載置される。サセプタの上方は、いわゆるプロセスチャンバであり、ガス分配器1、2の下面2’からこのチャンバ内へプロセスガスが導入される。このために、図1及び図2に逆向きに示されたガス分配器1、2は、ガス分配器1、2の下面2’に設けられた下向きの出口開口23を具備し、ここから1つのプロセスガス又は多数の異なるプロセスガスを放出可能である。プロセスガスは、基板上に堆積される層を形成する成分を含む。プロセスガスはエアロゾルを含んでもよく、基板上でのみ濃縮される。この場合、サセプタは冷却される。しかし、プロセスガスは、さらに反応ガスを有してもよく、それらは加熱されたプロセスチャンバ内で分解し、分解生成物が基板上で成長することにより層を形成する。しかし、別の実施例では、ガス分配器の底部もまた、冷却チャンバ14を流れる冷媒により冷却してもよい。この構成の場合、1又は複数の基板を搭載するサセプタが加熱されていれば、出口開口から放出される反応ガスは、実質的に分解されずに表面の領域へと流れ、すなわち拡散し、そこで表面と接触しつつ熱反応により分解する。従って、この場合も、反応ガスの分解生成物から基板上に層が形成される。プロセスチャンバは、周囲に対して気密性及び耐圧性をもって密閉された反応装置ハウジング内に収容されている。反応ガス又はエアロゾルは、反応装置の外部から供給ラインによりガス分配器に供給される。異なるプロセスガス又はエアロゾルが用いられる場合、ガス容器8、9の形態の専用チャンバを、各ガス又は各エアロゾルに対して設けてもよい。
図2は、この種のガス分配器の逆向きの断面構成を示している。ガス分配器は、一体のプレートにより形成されかつ第1ガス容器8である凹部の形態を具備する任意の上部ガス分配器1を有する。第1ガス容器8は、下部ガス分配器2の広い面により閉じられている。下部ガス分配器2の部品におけるこの広い面は、例えば10,000〜20,000本の多数のガス出口チャネル7により、下部ガス分配器の下面2’に連通している。下面2’にて、ガス出口チャネル7は、出口開口23に開口する。
下部ガス分配器2はさらに、別の供給ラインにより供給される第2ガス容器9を有する。この第2ガス容器9は、小管11と交差している。小管11は、上方の第1ガス容器8のガス出口チャネル7を形成している。
下部ガス分配器2の部品はさらに、冷却チャンバ14を有し、これは下面2’に隣接し、かつ、同様に小管12、13と交差している。小管12、13は、一方では第1ガス容器8のガス出口チャネル7を形成し、他方では第2ガス容器9のガス出口チャネル10を形成している。
下部ガス分配器2は、複数の加工されたディスク3、4、5、6により形成されており、それらは約1mmの厚さであり、先ず適宜の手法で加工され、次に互いに上下に載置され、最後に圧力及び温度下で互いに拡散溶接される。
図2及び図2aに示されたディスク構造は、5枚の異なる加工を施されたディスク3、4、4’、5及び6を有する。これらのディスクにより、図2に示された区画A、B、C、D、Eを形成している。区画Aは、複数のディスク3により形成され、図3に示されている。ここで扱う1枚の円形ディスクは、多数の均一に配置された直径0.4mm〜1mmの開口7を具備する。これらのガス出口チャネル7の表面密度は、10〜20個/cm2であるか又は20個/cm 2 を超える。これらの開口は、ドリルにより開けてもよい。しかし、これらの開口は、エッチングされることが好適である。このために、ディスク3の広い面全体がフォトレジストによりコーティングされる。開口の構成に対応したマスクを用いて露光が行われる。続いて、非露光又は露光されたフォトレジストが除去され、開口がエッチングされる。
図4、図4aは、区画Bのディスク4の平面図を示している。このディスク4は、一体の連続的な周縁部を具備し、周縁部の内側には、多数のウェブ15により互いに結合された多数の環状ディスク16を具備する。環状ディスク16は、中央開口を有し、この中央開口は、ガス出口チャネル7を形成する。区画Bに設けられるディスク4の場合、環状ディスク16は、ウェブ中点に位置する。ウェブ15は互いに交差している。図4bに示されるように、ウェブ15は、環状ディスク16と比較してその材料厚さが薄い。
図5、図5bは、ディスク4と交互に配置可能な区画Bのディスク4’の一変形の平面図を示す。この変形の場合、多数の環状ディスク16は、交差するウェブ15の交点に位置する。ディスク4’におけるウェブ15は、ディスク4のウェブに対して対角線方向に延在している。この場合も、ウェブ15は、材料厚さを薄くされている。
ディスク3、又は後述するディスク5及び6と同様の方法により、ディスク4、4’をエッチングにより加工することができ、この場合も、ウェブ/環状ディスクの構造は、フォトリソグラフィにより生成され、ディスクの非マスク領域が異方性をもって実質的にエッチングされる。
図6は、多数のディスクを互いに上下に配置することにより区画C及び区画Eを形成するディスク5を示す。このディスクは、2倍の数の開口を有することのみにおいてディスク3と異なる。この場合、第1ガス容器8と連通するガス出口チャネル7及び第2ガス容器9と連通するガス出口チャネル10が、交互に配置されている。
図7、7aは、区画Dに関係するディスク5を示す。ディスク5は、既に述べたディスク4、4’に類似した構成を有する。しかし、この場合は、2倍の数の環状ディスク17、18を有する。なぜなら、それらはガス出口チャネル7、10の双方の小管を形成するからである。この場合、ガス出口チャネル10の環状ディスク17は、交差するウェブ15’の交点に位置し、ガス出口チャネル7を形成する環状ディスク18は、ウェブ15の中点に位置する。この場合も、ウェブ15は材料厚さを薄くされている。
複数のウェブ15、15’の間のウェブ間領域は、容器を形成する。複数のウェブ15の間にある介在空間は、第2ガス容器9を形成し、複数のウェブ15’の間にある介在空間は、水の冷却チャンバ14を形成する。ウェブ15、15’の材料厚さが薄くされているので、個々のウェブ間の空間は、互いに連通している。
ディスク3、4、4’、5及び6は、それぞれ周縁部から突出する芯出しラグ20を設けており、それらは均等な角度分布で配置されている。これらの芯出しラグ20は、孔開きウェブによりディスク3、4、4’、5及び6の周縁部に連結されている。
4つの位置決めピン24を具備する位置決め器具が用意される。4つのピン24は互いに平行であり、その直径は位置決め孔21の内径に対応している。
図8は、互いに上下に載置されたディスクの積層物を示している。各芯出しラグ20は、位置決めピン24に嵌合している。
区画A、B、C、D及びEに関係する各ディスク3、4、4’、5及び6は、は、その周縁部に識別タグ26を具備する。その上には、プレートを取り違えないための識別手段が存在する。取り違えを避けるために、異なる区画A、B、C、D、Eに関係するディスクの識別タグ22は、異なる角度位置に設けられてもいる。
図8に示した積層物を形成するために、複数のプレートが互いに上下に配置されたとき、隣合うプレートの広い方の面同士が当接している。このプレートの積層物は、その後、炉内で圧力を受ける。ディスク3、4、4’、5、6の広い方の面は、それにより約1.5MPaの圧力で互いに対して圧縮される。同時に、ディスクの積層物は、ディスクを作製した金属の溶融温度よりもある程度低い温度まで加熱される。好適な温度は、1100℃である。これらのプロセスパラメータにより、プレートの積層物は、真空下又は保護ガス雰囲気中において互いに上下に載置された個々のディスク3、4、4’、5及び6の広い面の部分が互いに密接して結合されるまで処理される。それにより、一体的な加工された一枚板を作製でき、これが、下部ガス分配器2の部分を形成する。この処理の所要時間は、約4時間である。
本発明の変形例においては、処理中に処理温度を50℃上昇させる。処理温度は、1000〜1200℃の範囲とすることができる。
下部ガス分配器2の上部ガス分配器1への接続は、汎用的なはんだ付けで行える。
変形例においては、図示しないが、上部ガス分配器1を、反応装置ハウジングの壁の一部により形成してもよい。これは、例えば特許文献1の図2に示されている。さらに、一体的な上部ガス分配器1を設けずに、本発明によるガス分配器を作製することも可能である。
全ての開示された特徴は、(それ自体)本発明に関する。関係する/添付の優先権書類の開示内容(優先特許出願の複写)もまた、本願の特許請求の範囲にこれらの書類の特徴を包含させる目的も含め、その出願の開示全体をここに含める。
1 上部ガス分配器
2 下部ガス分配器
2’ 下面
3、4、4’、5、6 ディスク
7 ガス出口チャネル
8 第1ガス容器
9 第2ガス容器
11、12、13 小管
14 冷却チャンバ
15、15’ ウェブ
16、17、18 環状ディスク
20 位置決め(芯出し)ラグ
21 位置決め孔
23 ガス出口開口
2 下部ガス分配器
2’ 下面
3、4、4’、5、6 ディスク
7 ガス出口チャネル
8 第1ガス容器
9 第2ガス容器
11、12、13 小管
14 冷却チャンバ
15、15’ ウェブ
16、17、18 環状ディスク
20 位置決め(芯出し)ラグ
21 位置決め孔
23 ガス出口開口
Claims (19)
- CVD反応装置用のガス分配器(1,2)であって、2又はそれ以上のチャンバ(8,9,14)を備え、各チャンバ(8,9,14)には供給ラインが開口しており、前記2又はそれ以上のチャンバ(8,9,14)のうち少なくとも1つの、ガス容器であるチャンバ(8,9)は、該ガス容器であるチャンバ(8,9)から下方に延びるガス出口チャネル(7,10)により前記ガス分配器(1,2)の下面(2')に設けたガス出口開口(23)に連通し、前記ガス出口チャネル(7,10)は、少なくとも1つの別のチャンバ(9,14)と交差する領域にて小管(11,12,13)を形成している、前記ガス分配器(1,2)において、
前記小管(11,12,13)の領域にて互いに上下に配置された複数の加工された第1のディスク(4,4',6)と、前記小管(11,12,13)の領域以外の領域にて互いに上下に配置された複数の加工された第2のディスク(3,5)と、を有し、前記複数の第1及び第2のディスク(3,4,4',5,6)は圧力及び温度により互いに拡散溶接されることにより互いに固着して接続されており、
前記小管(11,12,13)は、互いに合致するように上下に載置された複数の環状ディスク(16,17,18)により形成され
前記複数の第1のディスク(4,4',6)の各々の面内では、多数の前記環状ディスク(16,17,18)が、ウェブ(15,15')により、該第1のディスク(4,4',6)の周縁部に連結されているか又は互いに連結されていることを特徴とするガス分配器。 - 前記第1のディスク(4,4',6)がステンレス鋼製であることを特徴とする請求項1に記載のガス分配器。
- 前記ウェブ(15,15')が、前記第1のディスク(4,4',6)よりも材料厚さが薄いことを特徴とする請求項1又は2に記載のガス分配器。
- 前記第1のディスク(4,4',6)における互いに連結された前記ウェブ(15,15')が、ガス透過可能な壁を形成することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一に記載のガス分配器。
- 前記第1のディスク(4,4',6)の材料厚さが、0.3mm〜1mmであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一に記載のガス分配器。
- 前記小管(11,12,13)の内径が、0.4mm〜1mmであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一に記載のガス分配器。
- 前記小管(11,12,13)の表面密度が、10〜20個/cm2又は20個/cm2を超えることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一に記載のガス分配器。
- 前記ガス分配器(1,2)の直径が、少なくとも180mm、少なくとも380mm、少なくとも500mm、又は少なくとも700mmであることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一に記載のガス分配器。
- 少なくとも2つの、前記ガス容器であるチャンバ(8,9)を有し、前記ガス容器であるチャンバ(8,9)の各々から下方に延びる前記ガス出口チャネル(7,10)が交差する前記別のチャンバ(9,14)の少なくとも1つが、冷却チャンバ(14)であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一に記載のガス分配器。
- 前記冷却チャンバ(14)及び前記ガス容器であるチャンバ(8,9)が、互いに上下に配置されていることを特徴とする請求項9に記載のガス分配器。
- 1つの前記ガス容器であるチャンバ(9)を形成する前記複数の第1のディスク(4,4')は、交差するウェブ(15)のウェブ中点に前記環状ディスク(16)が位置するプレートと、交差するウェブ(15)の交点に前記環状ディスク(16)が位置するプレートとが交互になるように、互いに交互になっていることを特徴とする請求項1〜10のいずれか一に記載のガス分配器。
- 前記第1及び第2のディスク(3,4,4',5,6)の各々は、取り外し可能な横に突出する位置決めラグ(20)を具備し、各位置決めラグは位置決め孔(21)を設けており、前記第1及び第2のディスク(3,4,4',5,6)の各々が互いに上下に配置されるとき、前記位置決め孔(21)が組立補助用の位置決めピン(24)の上に載置されることを特徴とする請求項1〜11のいずれか一に記載のガス分配器。
- 前記位置決めラグ(20)が、前記第1及び第2のディスク(3,4,4',5,6)の各々における周縁部との境界上に孔及び切り欠きを形成して前記第1及び第2のディスク(3,4,4',5,6)の各々に対し取り外し可能に連結されていることを特徴とする請求項12に記載のガス分配器。
- 前記複数の第1及び第2のディスク(3,4,4',5,6)の各々に設けられかつ該複数の第1及び第2のディスク(3,4,4',5,6)の拡散溶接後に取り外し可能な識別タグ(22)を有する請求項1〜13のいずれか一に記載のガス分配器。
- 請求項1〜14のいずれか一に記載のCVD反応装置用のガス分配器(1,2)の製造方法であって、
前記ガス分配器(1,2)が、2又はそれ以上のチャンバ(8,9,14)を備え、各チャンバ(8,9,14)には供給ラインが開口しており、前記2又はそれ以上のチャンバ(8,9,14)のうち少なくとも1つの、ガス容器であるチャンバ(8,9)は、該ガス容器であるチャンバ(8,9)から下方に延びるガス出口チャネル(7,10)により前記ガス分配器(1,2)の下面(2')に設けたガス出口開口(23)に連通し、前記ガス出口チャネル(7,10)は、少なくとも1つの別のチャンバ(9,14)と交差する領域にて小管(11,12,13)を形成しており、
前記製造方法は、
(a)第1のディスク(4,4',6)であってその面内にて多数の環状ディスク(16,17,18)がウェブ(15,15')により該第1のディスク(4,4',6)の周縁部に連結されているか又は互いに連結されている前記第1のディスク(4,4',6)と、第2のディスク(3,5)であってその面内にて前記第1のディスク(4,4',6)の環状ディスク(16,17,18)に対応する開口を具備する前記第2のディスク(3,5)とを、それぞれ複数ずつ、ステンレス鋼を含む金属から加工して作製し、
(b)前記複数の第1のディスク(4,4',6)を、前記環状ディスク(16,17,18)が互いに合致するように上下に載置することにより、前記ガス出口チャネル(7,10)における前記小管(11,12,13)を形成するとともに前記別のチャンバ(9,14)の空間を形成し、
(c)前記複数の第2のディスク(3,5)を、前記開口が互いに合致するように上下に載置し、
(d)前記第1のディスク(4,4',6)の前記環状ディスク(16,17,18)と前記第2のディスク(3,5)の前記開口とが互いに合致するように、前記複数の第1のディスク(4,4',6)の下に前記複数の第2のディスク(3,5)を配置することにより前記別のチャンバ(9,14)の床を形成するとともに、前記複数の第1のディスク(4,4',6)の上に前記複数の第2のディスク(3,5)を配置することにより前記別のチャンバ(9,14)の天井を形成し、
(e)圧力及び温度をかけることにより、互いに上下に配置された前記複数の第1及び第2のディスク(3,4,4',5,6)を拡散溶接させることを特徴とする
ガス分配器の製造方法。 - 前記複数の第1及び第2のディスク(3,4,4',5,6)は金属のシートから作製され、
前記複数の第1のディスク(4,4',6)は、前記ウェブ(15,15')及び前記環状ディスク(16,17,18)の配置に対応するマスクを適用された後、ウェブ間の介在空間がエッチングにより除去されることを特徴とする請求項15に記載のガス分配器の製造方法。 - 前記複数の第1のディスク(4,4',6)の厚さが、前記ウェブ(15,15')の領域でエッチングにより薄くされていることを特徴とする請求項16に記載のガス分配器の製造方法。
- 前記マスクの形成において、フォトリソグラフィによるマスキングを行うことを特徴とする請求項16又は17に記載のガス分配器の製造方法。
- 前記複数の第1及び第2のディスク(3,4,4',5,6)の各々が、位置決め孔(21)を設け横に突出する位置決めラグ(20)を具備し、互いに上下に配置された該複数の第1及び第2のディスク(3,4,4',5,6)の予備組立状態において、該位置決め孔に対して位置決め器具の位置決めピン(24)が通されることを特徴とする請求項15〜17のいずれか一に記載のガス分配器の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102007026349.1 | 2007-06-06 | ||
DE102007026349A DE102007026349A1 (de) | 2007-06-06 | 2007-06-06 | Aus einer Vielzahl diffusionsverschweißter Scheiben bestehender Gasverteiler |
PCT/EP2008/056873 WO2008148773A1 (de) | 2007-06-06 | 2008-06-04 | Aus einer vielzahl diffusionsverschweisster scheiben bestehender gasverteiler und ein verfahren zur fertigung eines solchen gasverteilers |
Publications (4)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010529663A JP2010529663A (ja) | 2010-08-26 |
JP2010529663A5 JP2010529663A5 (ja) | 2011-06-30 |
JP5211154B2 JP5211154B2 (ja) | 2013-06-12 |
JP5211154B6 true JP5211154B6 (ja) | 2014-06-11 |
Family
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