JP5209121B2 - 視差画像生成装置 - Google Patents
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Description
本発明は、視差画像生成に関する。
入力された2次元画像からその画像に対する視差画像を生成して、立体表示を可能とする方法が種々提案されている。視差画像は、入力画像と当該入力画像の奥行き情報から画素毎の視差ベクトルを求め、入力画像の各画素の画素値を、対応する視差ベクトルが示す位置に割り当てて生成される。この視差画像の生成の際に、画素値が割り当てられない空白領域(陰面領域)が生じてしまうことがある。特許文献1に記載の立体画像生成装置では、空白領域に隣接する部分画像の端部に対応する画素値に基づいて、空白領域の画素に対応する画素値を生成し、補間している。また、非特許文献1には画像修復等に使用されるImage Inpaintingの技術が開示されている。この技術によれば、画像中の空白領域の画素値を、空白-非空白領域境界の近傍画素を用いて補間する。これらの画素補間では、空白領域が遠景側の領域であるにも関わらず、手前側の被写体等を表す領域の画素値による補間が行なわれてしまうことがある。
Antonio Criminasi、 Patrick Perez, and Kentaro ToyaMa "Region Filling and Object Removal by Exemplar−Based Image Inpainting", IEEE Trans. Image Processing, VoL13, No.9, Sep 2004.
上述の画素補間では、空白領域の画素値を、前景側の領域の画素値によって補間してしまい、不自然な視差画像を生成することがあった。本発明は、陰面領域の画素の画素値を背景側の画素の画素値を用いて補間することで、より自然な視差画像を生成する視差画像生成装置を提供することを目的とする。
本発明の一実施形態に係る視差画像生成装置は、入力画像及び前記入力画像の画素の奥行き情報から、前記入力画像の画素について対応する視差ベクトルを導出する導出手段と、前記入力画像の画素の画素値を、対応する視差ベクトルが指し示す位置の画素に割り当てて中間画像を生成する生成手段と、前記視差画像の画素に対して、前記入力画像において前記奥行き情報が奥側を示していた画素に対応する画素ほど大きい重みをもつよう第1の重みを算出する第1の算出手段と、前記中間画像の画素のうち、前記生成手段によって画素値が割り当てられなかった陰面画素の近傍に、少なくとも1つの候補ブロックを設定し、当該候補ブロックに含まれる各画素に前記第1の重みを乗じた和を算出し、当該和の大きさの順に少なくとも1つの候補ブロックを参照ブロックとして設定する設定手段と、前記参照ブロックに類似する対象ブロックを、前記入力画像または前記中間画像のいずれか1以上の画像内で探索する探索手段と、前記陰面画素の画素値を、当該陰面画素と前記対象ブロックとの相対位置に基づいて補間する補間手段を具備する。
本発明の一実施形態に係る視差画像生成装置は、入力画像において背景領域に属する画素に対応する画素ほど大きい重みをもつよう第1の重みに基づいて陰面画素の画素値を補完するので、より自然な視差画像を生成する視差画像生成装置を提供することができる。
以下、図面を参照して本発明による視差画像生成装置の実施形態を説明する。
以下の説明において、本発明の各実施形態に係る視差画像生成装置は、当該視差画像生成装置に入力する入力画像を左目用画像とし、この入力画像から右目用の視差画像を生成するものとする。ただし、入力画像は左目用画像に限定されない。例えば入力画像を右目用画像とし、左目用画像を生成する際には、視差ベクトル生成時にベクトルの向きを反転させればよい。
まず、以降の説明のために、入力画像(左目用画像)や視差画像(右目用画像)等の画像を構成する各画素の位置をベクトル表示する方法について説明する。
図1は、直交する2つの座標軸と、画像を構成する各画素の位置関係を模式的に表す図である。図1には、直交する水平軸と垂直軸の2つの座標軸が図示され、各画素は○で表されている。各画素の中心位置は、水平及び垂直方向座標の整数位置にとるものとする。以降、特に断らない限り、ベクトルはすべて(0,0)を起点とする。図1に示すように、水平軸座標が2で、垂直軸座標が1である画素は、位置ベクトルr=(2,1)で表される。
図1は、直交する2つの座標軸と、画像を構成する各画素の位置関係を模式的に表す図である。図1には、直交する水平軸と垂直軸の2つの座標軸が図示され、各画素は○で表されている。各画素の中心位置は、水平及び垂直方向座標の整数位置にとるものとする。以降、特に断らない限り、ベクトルはすべて(0,0)を起点とする。図1に示すように、水平軸座標が2で、垂直軸座標が1である画素は、位置ベクトルr=(2,1)で表される。
次に、視差ベクトルを導出する導出式を、図2を参照して説明する。図2では、点Aの位置に置かれた対象物が画面に投射されている。当該画面は、図1の水平軸に平行に設けられている。図2は、視聴環境を真上から見た場合の図を表している。また、同図の画面を表す線から上には、奥行きZaを有する対象物を視聴環境に対して仮想的に配置した場合の位置を示している。点Bは、視聴者の左目を、点Cは、右目をそれぞれ表している。さらに、線分BCは、水平であり、かつ線分DEに対して平行である。またz軸を、図2に示すように、画面に対して直交し、画面との交点が原点となるように設定する。する。
点Dは、左目から見た点Aが画面上に投射される位置を表す。すなわち点Dは、左目用画像の画面上に表示される対象物の位置を示している。点Eは、右目から見た点Aが画面上に投射される位置を表す。すなわち点Eは、右目用画像の画面上に表示される対象物の位置を示している。そして、点Dから点Eに延びる矢印が視差ベクトルdである。この視差ベクトルは水平方向にのみ成分を持つ1次元ベクトルであり、かつその要素は、点Dから点Eの方向に対して正の値を持つ。
以下では、入力画像の画素位置iに投射された対象物の奥行き(Z軸方向の距離)を、z(i)で表す。奥行きz(i)は相対的な距離を表し、0から1に正規化された値をとる。ただし、iは、2次元画像上の位置を表す2次元ベクトルである。すなわち、画面より無限遠の位置にある対象物の奥行きをz=1で表す。また、以下では、画素位置iにおける視差ベクトルをd(i)と表す。
入力画像(左目用画像)の各画素についての奥行きは、当該入力画像が保持するか、当該入力画像から導出することができる。その他、例えば、入力画像が距離計を内蔵したレンジファインダーカメラ等で撮影されている場合、当該距離系によって被写体との距離を測り、奥行きを取得することができる。本発明の各実施形態に係る視差画像生成装置には、入力画像及び対応する奥行き情報が入力する。
(第1の実施形態)
図3は、本発明の第1の実施形態に係る視差画像生成装置の構成を示すブロック図である。この視差画像生成装置は、視差ベクトル導出部101、画素割り当て部102、陰面領域判定部103および画素補間制御部104を備えている。この視差画像生成装置には、入力画像及びその奥行き情報が入力される。この視差画像生成装置は、例えばパーソナルコンピュータ等を用いるコンピュータシステムにおいて実現される。コンピュータシステムは、図示しないが、CPU,プログラムメモリ,ワークメモリを備える。図3及び図4に示す各ブロックは、プログラムメモリに記憶されたプログラムに従ってCPUが動作することで機能する。入力画像とその奥行き情報は、コンピュータシステムに内蔵又は接続される記憶媒体から、CPUによって読み出される。あるいは、入力画像はネットワークを介して入力されてもよい。また、当該コンピュータシステムは、入力画像から奥行き情報を生成するユニットを具備していてもよい。例えば組み込み式のコンピュータシステムが表示装置内に組み困れた場合、入力画像や生成された視差画像を表示装置によって表示することができる。
図3は、本発明の第1の実施形態に係る視差画像生成装置の構成を示すブロック図である。この視差画像生成装置は、視差ベクトル導出部101、画素割り当て部102、陰面領域判定部103および画素補間制御部104を備えている。この視差画像生成装置には、入力画像及びその奥行き情報が入力される。この視差画像生成装置は、例えばパーソナルコンピュータ等を用いるコンピュータシステムにおいて実現される。コンピュータシステムは、図示しないが、CPU,プログラムメモリ,ワークメモリを備える。図3及び図4に示す各ブロックは、プログラムメモリに記憶されたプログラムに従ってCPUが動作することで機能する。入力画像とその奥行き情報は、コンピュータシステムに内蔵又は接続される記憶媒体から、CPUによって読み出される。あるいは、入力画像はネットワークを介して入力されてもよい。また、当該コンピュータシステムは、入力画像から奥行き情報を生成するユニットを具備していてもよい。例えば組み込み式のコンピュータシステムが表示装置内に組み困れた場合、入力画像や生成された視差画像を表示装置によって表示することができる。
視差ベクトル導出部101は、入力された奥行き情報から、上述の視差ベクトル導出式に基づいて視差ベクトルを画素毎に導出する。導出式において、視聴者と画面との間の距離Zs及び視聴者の眼間距離bの値として、予め任意の値が設定されていてもよい。導出された視差ベクトルの値は、画素割り当て部102および陰面画素補間部104に出力される。
画素割り当て部102には、入力画像と、視差ベクトル導出部101からの各画素の視差ベクトルが入力する。画素割り当て部102は、中間視差画像を生成する。中間視差画像は、入力画像の各画素の画素値を、対応する視差ベクトルが示す位置に割り当て生成される。生成された中間視差画像は、画素補間制御部104に出力される。
陰面領域判定部103は、画素割り当て部102から入力される中間視差画像において、画素値の割り当てられている領域と割り当てられていない領域を判別する。1画像(1フレーム)分の判別結果は、陰面マップに格納される。陰面マップocculude(i)は、中間視差画像において位置ベクトルiの画素に画素値が割り当てられていればocclude(i)=DONEに設定され、位置ベクトルiの画素に画素値が割り当てられていなければocclude(i)=NOT−DONEに設定される。判別結果を格納した陰面マップは、画素補間制御部104に出力される。中間視差画像において、画素値が割り当てられていない領域を、陰面領域と称する。この陰面領域は、より遠景側の背景を表す画素に対応する可能性が高いものと考えられる。
画素補間制御部104には、画素割り当て部102から中間視差画像が、陰面領域判定部103から陰面マップが入力される。また、入力画像及びその奥行き情報も、画素補間制御部104に入力される。画素補間制御部104は、陰面マップによって特定される、画素値が割り当てられていない陰面領域の画素に対して、補間画素値を割り当てる。
次に、画素補間制御部104について、図4を用いて詳細に説明する。
図4は、第1の実施形態に係る画素補間制御部104の構成の詳細を示すブロック図である。画素補間制御部104は、第1の重み算出部201、注目画素設定部202、参照ブロック設定部203、対象ブロック探索部204及び画素補間部205を備えている。
第1の重み算出部201は、視差ベクトルと奥行き情報に基づいて第1の重みを算出する。以下、第1重み算出部201の動作について、図5を参照して詳細に説明する。
図5は、第1重み算出部201による重み算出動作を示すフローチャートである。このフローチャートの処理は、中間視差画像において位置ベクトルiで指定される画素に対して行われる。
第1の重み算出部201は、位置ベクトルがiである画素の陰面マップocclude(i)の値を参照し、位置iの画素に画素値が割り当てられているか否かを判定する(ステップS101)。
第1の重み算出部201は、位置ベクトルがiである画素の陰面マップocclude(i)の値を参照し、位置iの画素に画素値が割り当てられているか否かを判定する(ステップS101)。
位置iの画素に画素値が割り当てられていれば(S101でYes)、入力画像においてこの位置iの画素に対応する画素の奥行きz(i−d(i))を第1の重みw1(i)とする(S102)。位置ベクトルiと視差ベクトルd(i)の減算結果は、入力画像において対応する画素の位置ベクトルを与える。従って、中間視差画像において位置iにある画素に画素値が割り当てられている場合、当該画素値は、入力画像(左目用画像)において位置i−d(i)で表される画素の画素値である。このため、中間視差画像の位置iの画素の第1の重みは、入力画像において位置i−d(i)の画素の奥行き情報であるとする。
一方、位置iの画素に画素値が割り当てられていないならば(S101でNo)、位置iにおける第1の重みw1(i)の値をゼロとする(S103)。
第1の重み算出部201は、以上のような処理を中間視差画像の各画素について行い、各画素について第1の重みを算出する。結果として、第1の重みの値は、遠くの対象物を示す画素ほど大きくなる。
注目画素設定部202は、ラスタスキャンの操作順に従って画像を走査していき、occlude(c)=NOT−DONEとなる位置ベクトルcに対応する画素(陰面領域の画素)を注目画素として設定する。なお、画像を走査する順序としてラスタスキャン順を一例として挙げたが、その他にヒルベルト走査など画像のすべての領域を一筆書きで走査する順序で画像を走査してもよい。注目画素の位置ベクトルcは、参照ブロック設定部203に送られる。
参照ブロック設定部203には、第1の重み算出部201から送られる第1の重みと、注目画素設定部202から送られる注目画素の位置ベクトルcが入力する。参照ブロック設定部203は、注目画素の近傍で適切な参照ブロックを設定する。
以下、参照ブロックの設定について説明する。参照ブロックの大きさは、M1×M2画素の矩形ブロックであるとし、M1及びM2の値は予め設定されているものとする。
まず、注目画素を中心とする基準ブロックを生成する。注目画素の位置ベクトルcを起点とし基準ブロックに含まれる画素を表す位置ベクトルeの集合をEとする。集合Eは以下各式によってあわすことができる。
上記の各式中において、Zはすべての整数からなる集合である。またδ1、δ2は、基準ブロックの候補数を制御するオフセットである。δ1及びδ2の値は、入力画像の解像度や許容演算量に応じて、任意に定められてもよい。δ1は0を含めた自然数であり、その上限はM1/2以上で最も小さい整数である。δ2も、δ1と同様に0を含めた自然数であり、その上限はM2/2以上で最も小さい整数である。
図6は、以上のようにして設定された基準ブロックの一例を示す図である。図6に示す例は、注目画素の位置ベクトルがc=(4,3)であり、M1=M2=3かつδ1=δ2=0の場合の基準ブロックを示す。図6には一例として、注目画素cを起点とした位置ベクトルe=(−1,+1)が示されている。
図6の例では、M1、M2は共に奇数であるので、集合Eは、注目画素cから破線内にあるそれぞれの画素へ向かう25個のベクトルの集合に相当する。また、δ1=δ2=1とすると、集合Eは、注目画素cから図6の破線内で最外周の16画素を除く9画素へ向かうベクトルの集合となる。M1とM2の一方又は両方が偶数である場合、上述の各式より、位置ベクトルeの一方又は両方の成分は整数値から0.5ずれる。このため、集合Eに含まれる位置ベクトルは、画素の中心ではなく画素と画素の中点を指す。
次に、基準ブロック内の位置ベクトルeのそれぞれについて、参照ブロックの候補となる候補ブロックを設定する。候補ブロックの中心位置ベクトルは、注目画素cを起点とし集合Eに含まれるいずれかの位置ベクトルeによって示される。すなわち、候補ブロックの中心位置ベクトルは、c+eで表される。この位置ベクトルc+eが指す点を起点として、候補ブロック(M1×M2画素)を構成する画素の位置ベクトルbの集合B(c+e)は、以下の式で表される。
ただし、上式中のα及びβは整数値を取る。M1とM2の一方又は両方が偶数である場合、位置ベクトルbの一方又は両方の成分が整数値から0.5ずれる。しかしながら、起点となる位置ベクトルc+eの成分も整数値から0.5ずれているため、集合Bに含まれるベクトルbは、いずれかの画素の中心を指すことになる。
図7は、以上のようにして設定された候補ブロックの一例を示す図である。図7に示す例は、注目画素の位置ベクトルがc=(4,3)、候補ブロックの中心画素の位置ベクトルがc+e=(4,3)+(−1,1)=(3,4)であり、M1=M2=3かつδ1=δ2=0の場合の候補ブロックを示す。図7には一例として、中心画素c+eを起点とした位置ベクトルb=(1,1)が示されている。
以上のように、ユーザの指定したδ1、およびδ2に応じて、注目画素cを中心とした基準ブロックを設定する。すると、基準ブロック内に含まれる画素それぞれを中心とした複数の候補ブロックが得られる。本実施形態に係る参照ブロック設定部203は、これらの候補ブロックの中から、本発明に適した参照ブロックを選択する。具体的には、参照ブロックに含まれる全画素の第1の重みの和が最大となる位置ベクトルeを選択する。注目画素cを起点とし、参照ブロックを与える位置ベクトルem(c)は、以下の式で表される。
参照ブロック設定部203は、上式に基づいて注目画素の位置cを起点とする位置ベクトルem(c)を算出し、位置ベクトルc+em(c)によって示される画素を中心とするM1×M2画素サイズの参照ブロックを設定する。全画素の第1の重みの和が最大となる候補ブロックが参照ブロックとして設定されるため、当該参照ブロックは、遠景を表す画素をなるべく多く含むブロックになる。
対象ブロック探索部204には、第1の重み算出部201から送られる第1の重み、参照ブロック設定部203から送られる参照ブロックの情報、陰面マップ及び中間視差画像が入力される。対象ブロック探索部204は、参照ブロックとのテンプレートマッチングを行い、対象ブロックを探索する。
以下、対象ブロックの探索について説明する。対象ブロック探索部204は、中間視差画像内に、所定の探索領域Wを設定する。また、対象ブロック探索部204は、探索領域W内で、参照ブロックと同じサイズの候補対象ブロックを設定する。候補対象ブロックの中心位置ベクトルをsとし、候補対象ブロックは、画素値が割り当てられていない画素を含まないものとする。候補対象ブロックは複数設定されてもよい。探索領域W内に、候補対象ブロックとなりうるブロックが存在しなければ、探索領域Wを拡大させる。
対象ブロック探索部204は、探索領域W内に設定された対象候補ブロックから、注目画素cについて設定された参照ブロックと最もよくマッチする対象ブロックを探索して選択する。例えば、対象ブロックの中心ベクトルs(c)は、以下の式に基づき、差分自乗和基準によるテンプレートマッチングによって得られる。
ここで、I(i)は、中間視差画像において位置ベクトルiによって示される画素の画素値である。この式に示すように、テンプレートマッチングの際に、差分自乗値は対応する画素の第1の重みによって重み付けされている。
さらに、探索領域Wは、中間視差画像内だけでなく、表示時間が処理対象の画像と時間的に前後する画像内に設定されてもよい。また、探索領域Wは、入力画像内に設定されてもよい。
画素補間部205には、対象ブロック探索部204から注目画素cについて探索された対象ブロックの中心位置を表すベクトルs(c)と、中間視差画像が入力する。画素補間部205は、中間視差画像において位置ベクトルcが指定する注目画素の画素値に、探索された対象ブロックとの相対位置に基づいて、以下の式に示す画素値を代入する。
すなわち、中間視差画像において対象ブロックの中心画素からem(c)だけずれた点にある画素の画素値が、画素値が割り当てられていない注目画素注目画素cの画素値として設定される。さらに、画素補間部205は、当該画素cについて、陰面マップの値をocclude(c)=DONEに変更する。
また、参照ブロック中に、注目画素c以外にも、画素値が割り当てられていない画素が1つ以上あれば、それぞれの画素に対して同様の式によって画素値を割り当ててもよい。
参照ブロック中で、注目画素c以外の画素値が割り当てられていない画素の位置ベクトルをc´とすると、画素補間部205は、画素ブロックこの位置ベクトルc´で指定される画素の画素値を、以下の式に基づいて設定する。
画素補間部205は、陰面マップの値を、occlude(c+c’)=DONEに変更する。
次に、本実施形態に係る画素補間制御部104における動作手順を説明する。図8は、画素補間制御部104において実行される視差画像生成処理のフローチャートである。この処理は主に、画素補間制御部104の注目画素設定部202、参照ブロック設定部203、対象ブロック探索部204、及び画素補間部205によって実行される。
注目画素設定部202は、中間視差画像において位置ベクトルiによって示される画素を処理対象として選択する。初期状態では、i=(0,0)に設定されている。
注目画素設定部203は、位置iの画素について陰面マップがocclude(i)=NOT−DONEに設定されているか否かを判定する(ステップS201)。すなわち、位置iの画素が、画素値を割り当てられていない陰面領域に属するか否かが判定される。
注目画素設定部203は、位置iの画素について陰面マップがocclude(i)=NOT−DONEに設定されているか否かを判定する(ステップS201)。すなわち、位置iの画素が、画素値を割り当てられていない陰面領域に属するか否かが判定される。
位置iの画素について陰面マップがocclude(i)=DONEに設定されており、当該画素に画素値が割り当てられていれば(S201でNo)、注目画素設定部202はラスタスキャン順に従って処理対象画素の位置ベクトルiを変更し(S202)、ステップS201の処理に戻る。処理対象画素の位置ベクトルiが、画面の終端に達した場合には(ステップS203でYes)、処理を終了する。
位置iの画素について陰面マップがocclude(i)=NOT−DONEに設定されており、当該画素に画素値が割り当てられていなければ(S201でYes)、注目画素設定部202は、位置iの画素を注目画素cとして設定する(S204)。
次に、参照ブロック設定部203が、注目画素cについて、上述したように参照ブロックを設定する(S205)。参照ブロックは、注目画素cの近傍に、当該ブロック内の画素についての第1の重みの和が最大となるように設定される。
対象ブロック探索部204は、探索領域W内の候補対象ブロックに対して参照ブロックとマッチする対象ブロックを探索するためのテンプレートマッチングを行い、対象ブロックの中心位置ベクトルs(c)を導出する(S206)。
その後、画素補間部205は、参照ブロック内をラスタスキャン順に走査する位置ベクトルjを設定する(S207)。画素補間部205は、当該位置ベクトルjの画素について陰面マップがocclude(j)=NOT−DONEに設定されているか否かを判定する(ステップS208)。
位置ベクトルjの画素について陰面マップがocclude(j)=NOT−DONEに設定されていれば(S208でYes)、画素補間部205は、位置ベクトルjに対応する画素の画素値を、対象ブロックとの相対位置に基づいて割り当てる(S209)。さらに画素補間部205は、当該位置ベクトルjの画素について、陰面マップをocclude(j)=DONEに変更する(S210)。
一方、位置ベクトルjの画素について陰面マップがocclude(j)=DONEに設定されていれば(S208でNo)、画素補間部205は、ラスタスキャン順序に従って、位置ベクトルjを変更して(ステップS207)、以降の処理を繰り返す。
位置ベクトルjが参照ブロック内をすべて走査し終えたら、注目画素設定部202が、処理対象画素の位置ベクトルiをラスタスキャン順に従って移動する(S202)。
移動後の位置ベクトルiが画面の終端を指す場合(ステップS203でYes)、処理を終了する。移動後の位置ベクトルiが画面の終端でなければ(ステップS203でNo)、ステップS201に戻り、以降の処理が繰り返される。
以上のように、第1の実施形態に係る視差画像生成装置によれば、奥行きに応じた第1の重みを設定し、第1の重みに応じて参照ブロックが生成される。また、この参照ブロックに対して第1の重みを利用したテンプレートマッチングが行なわれ、陰面領域に対して背景画素と相関の高い画素の画素値を割り当てる。このため、より自然な視差画像を生成することが可能となる。
次に本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態で第1実施形態と対応する部分は対応する参照数字を付して詳細な説明は省略する。他の実施形態に係る視差画像生成装置の構成は図3に示すブロック図で表される。
(第2の実施形態)
第1の実施形態では、対象ブロック探索部204によるテンプレートマッチングにおいて、奥行き情報から得られる第1の重みを用いて、背景側の画素に重きをおいたマッチングを行った。これによって、陰面領域に属する画素に、より背景画素と相関の高い画素値を割り当てることを可能とした。ここで、第1の実施形態では、正確な奥行き情報が入力することを想定している。このため、誤った奥行き情報が入力された場合に、参照ブロックが当該誤った奥行きに基づいて画素値が割り当てられた画素を含むと、テンプレートマッチングの結果にも誤差が伝搬してしまう。従って、必ずしも背景画素と相関の高い画素値が、陰面領域の画素に割り当てられるとは限らない。
第1の実施形態では、対象ブロック探索部204によるテンプレートマッチングにおいて、奥行き情報から得られる第1の重みを用いて、背景側の画素に重きをおいたマッチングを行った。これによって、陰面領域に属する画素に、より背景画素と相関の高い画素値を割り当てることを可能とした。ここで、第1の実施形態では、正確な奥行き情報が入力することを想定している。このため、誤った奥行き情報が入力された場合に、参照ブロックが当該誤った奥行きに基づいて画素値が割り当てられた画素を含むと、テンプレートマッチングの結果にも誤差が伝搬してしまう。従って、必ずしも背景画素と相関の高い画素値が、陰面領域の画素に割り当てられるとは限らない。
図9は、誤った奥行き情報が入力されたときの画素割り当ての様子を示す。図9には、入力画像の一部として水平方向に並んだ4つの画素P1〜P4が示されている。各画素内の数字は、視差ベクトル導出部101が導出した当該画素の視差ベクトルの大きさを示している。図9では、画素P1の視差ベクトルの大きさが1、画素P2の視差ベクトルの大きさが2.75、画素P3及びP4の視差ベクトルの大きさが3となっている。画素P1とP2は前景領域に、画素P3とP4は背景領域に属するが、奥行き情報に誤りがあり、画素P2の視差ベクトルの大きさが実際よりも大きくなっている。このように、前景画素と背景画素の境界付近においては、奥行きの測定精度が低下しかねない。
画素割り当て部102は、視差ベクトルの大きさが整数値である画素を、当該視差ベクトルの大きさ分ずらして中間視差画像を生成する。中間視差画像において、画素P1は、1画素ずれた画素Q1に対応し、画素P3とP4は、3画素ずつずれた画素Q5とQ6にそれぞれ対応する。画素P2のように視差ベクトルの大きさが小数である場合は、バイリニア法などによって小数精度画素を作成し、中間視差画像に割り当てる。図9では、画素P2は、3画素分ずれた画素Q4に対応する。このため、中間視差画像には、画素P1に対応する画素Q1と画素P2に対応する画素Q4の間に、陰面画素Q2とQ3が生じている。
第1の重みを用いた画素補間を行うと、陰面領域の画素には背景画素との相関の強い画素値が割り当てられる。このため、前景に相当する画素Q1とQ4の間で、陰面画素Q2及びQ3に背景との相関の強い画素値が割り当てられかねない。そこで、第2の実施形態では、陰面領域境界の画素に対して重みを小さく与える第2の重みを導入し、第1の重みと掛け合わせた重みを用いて画素補間を行なう。
以下、第2の実施形態に係る画素補間処理について説明する。
図10は、第2の実施形態に係る画素補間制御部104の構成の詳細を示すブロック図である。この画素補間制御部104は、第1の重み算出部201、注目画素設定部202、参照ブロック設定部203、第2の重み算出部301、対象ブロック探索部302、及び画素補間部205を備えている。第1重み算出部201、注目画素設定部202、参照ブロック設定部203及び画素補間部205は、第1の実施形態と同様の動作を行なうので、説明を省略する。
図10は、第2の実施形態に係る画素補間制御部104の構成の詳細を示すブロック図である。この画素補間制御部104は、第1の重み算出部201、注目画素設定部202、参照ブロック設定部203、第2の重み算出部301、対象ブロック探索部302、及び画素補間部205を備えている。第1重み算出部201、注目画素設定部202、参照ブロック設定部203及び画素補間部205は、第1の実施形態と同様の動作を行なうので、説明を省略する。
第2の重み算出部301には、注目画素の位置ベクトルcと、参照ブロックの中心位置ベクトルem(c)が入力する。第2の重み算出部301は、これらに基づいて参照ブロック内の各画素の第2の重みを算出し、対象ブロック探索部302に出力する。
つまり、第2の重みw2の値は、参照ブロック内の画素位置kと注目画素の位置cとの距離が大きいほど大きくなる。言い換えると、参照ブロック内の陰面領域境界の画素であれば第2の重みが小さくなる。
対象ブロック探索部302は、第1の実施形態と同様に、探索領域W内に設定された対象候補ブロックから、注目画素cについて設定された参照ブロックと差分自乗和等の基準を用いて、もっとも評価の高いブロックを対象ブロックとして選択する。第2の実施形態に係る対象ブロック探索部302は、対象ブロックの中心ベクトルs(c)を、以下の式に基づく差分自乗和基準によるテンプレートマッチングによって導出する。
つまり、第1の重みw1にw2を乗じて、第2の重みw2を反映させた重みを用いたテンプレートマッチングを行う。
画素補間部205は、第1の実施形態と同様に、位置ベクトルcによって指定される注目画素の画素値に、上述のように探索された対象ブロックとの相対位置に基づく画素値を代入する。
このように、第2の実施形態に係る視差画像生成装置では、奥行きに応じた第1の重みのみでなく、陰面領域境界の画素の影響を小さくする第2の重みを第1の重みに乗じた重みを用いたテンプレートマッチングが行われる。このため、奥行き情報の誤差を低減した画素補間を行うことが可能となる。
(第3の実施形態)
第1の実施形態及び第2の実施形態では、参照ブロック設定部203は、複数の候補ブロックから1つの参照ブロックを選択した。しかしながら、図11に示すように、1画面中に複数の背景領域が存在する場合がある(例えば被写体人物の背後に建物(第1の背景)と青空(第2の背景)が背景領域として写っている場合)。このような場合、どの背景領域に参照ブロックが設定されるかによって、補間される画素値が大きく変わる。
第1の実施形態及び第2の実施形態では、参照ブロック設定部203は、複数の候補ブロックから1つの参照ブロックを選択した。しかしながら、図11に示すように、1画面中に複数の背景領域が存在する場合がある(例えば被写体人物の背後に建物(第1の背景)と青空(第2の背景)が背景領域として写っている場合)。このような場合、どの背景領域に参照ブロックが設定されるかによって、補間される画素値が大きく変わる。
このため、陰面領域において画素間の相関が低下して、補間された画素が微小なノイズとして認識されることがある。そこで、第3の実施形態では、複数の参照ブロックを設定し、それぞれの参照ブロックに対してテンプレートマッチングを行って複数の対象ブロックを検出し、当該複数の対象ブロックと注目画素の相対位置に応じた複数の画素の画素値を平均化した画素値を注目画素に割り当てる。このようにして、参照ブロックの選択に応じた補間画素値のばらつきの発生を抑制する。
以下では、説明を簡略化するため、参照ブロックの設定数は2とする。ただし、参照ブロックの設定は2個に限定されず、3以上で、設定可能な基準ブロック数よりも小さい整数が設定されてもよい。
以下、第3の実施形態に係る画素補間処理について説明する。
図12は、第3の実施形態に係る画素補間制御部104の構成の詳細を示すブロック図である。この画素補間制御部104は、第1の重み算出部201、注目画素設定部202、参照ブロック設定部403、対象ブロック探索部404、及び画素補間部405を備えている。第1重み算出部201及び注目画素設定部202は、第1の実施形態と同様の動作を行なうので、説明を省略する。
図12は、第3の実施形態に係る画素補間制御部104の構成の詳細を示すブロック図である。この画素補間制御部104は、第1の重み算出部201、注目画素設定部202、参照ブロック設定部403、対象ブロック探索部404、及び画素補間部405を備えている。第1重み算出部201及び注目画素設定部202は、第1の実施形態と同様の動作を行なうので、説明を省略する。
参照ブロック設定部403は、注目画素の位置ベクトルcに対して、当該注目画素を起点として参照ブロックの中心を表す位置ベクトルeの集合Eから、複数の中心ベクトルを選択する。
参照ブロック設定部403は、算出されたTのうち、最大値T1を与える第1の位置ベクトルe1(c)、2番目に大きいTの値T2を与える第2の位置ベクトルe2を検出する。参照ブロック設定部403は、第1の位置ベクトルe1(c)を中心とする第1の参照ブロックと、第2の位置ベクトルe2(c)を中心とする第2の参照ブロックの2つの参照ブロックを設定する。参照ブロック設定部403から対象ブロック探索部404へは、第1及び第2の参照ブロックの情報が出力される。
対象ブロック探索部404は、2つの位置ベクトルe1及びe2について、第1の実施形態における対象ブロック探索部204と同様のテンプレートマッチングを行う。テンプレートマッチングの結果、第1の位置ベクトルに対応する第1の対象ブロックが得られ、この第1の対象ブロックの中心を示す位置ベクトルs1(c)が導出される。同様に、第2の位置ベクトルに対応する第2の対象ブロックが得られ、この第2の対象ブロックの中心を示す位置ベクトルs2(c)が導出される。この2つの位置ベクトルs1(c)とs2(c)は、対象ブロック探索部404から画素補間部405に出力される。
画素補間部405は、複数の対象ブロックとの相対位置に基づいてそれぞれ導出される補間画素値を平均化して、注目画素を補間する画素値を算出する。
すなわち、画素補間部405に、注目画素cについて、第1の位置ベクトルe1と第2の位置ベクトルe2、及び第1の対象ブロックの中心を示す位置ベクトルs1(c)と第2の対象ブロックの中心を示す位置ベクトルs2(c)が入力すると、画素補間部405は、以下の式によって注目画素を補間する画素値を算出する。
すなわち、係数λ1とλ2は、重みの和T1とT2の比に応じて決定される。あるいは、λ1=λ2=0.5と設定してもよい。
また、画素補間部405は、第1の実施形態に係る画素補間部205と同様に、いずれかの参照ブロック中に、注目画素c以外にも画素値が割り当てられていない画素が1つ以上あれば、それぞれの画素に対して同様に画素値を割り当ててもよい。
参照ブロック中で、注目画素c以外の画素値が割り当てられていない画素の位置ベクトルをc´とすると、画素補間部405は、画素ブロックこの位置ベクトルC´で指定される画素の画素値を、以下の式に基づいて設定する。
このように、第3の実施形態に係る視差画像生成装置によれば、参照ブロックが複数設定され、それぞれの参照ブロックに対してテンプレートマッチングによって対象ブロックも複数用意される。陰面領域では、これらの対象ブロックと注目画素の相対位置に応じて複数の画素の画素値平均が注目画素の画素値として割り当てられる。このため、参照ブロックの選択によって補間画素値にばらつきが生じることを抑制することができる。
なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
101…視差ベクトル導出部101、102…画素割り当て部、103…陰面領域判定部、104…画素補間制御部、201…第1の重み算出部、202…注目画素設定部、203…参照ブロック設定部、204…対象ブロック探索部、205…画素補間部。
Claims (5)
- 入力画像及び前記入力画像の画素の奥行き情報から、前記入力画像の画素について対応する視差ベクトルを導出する導出手段と、
前記入力画像の画素の画素値を、対応する視差ベクトルが指し示す位置の画素に割り当てて中間画像を生成する生成手段と、
前記視差画像の画素に対して、前記入力画像において前記奥行き情報が奥側を示していた画素に対応する画素ほど大きい重みをもつよう第1の重みを算出する第1の算出手段と、
前記中間画像の画素のうち、前記生成手段によって画素値が割り当てられなかった陰面画素の近傍に、少なくとも1つの候補ブロックを設定し、当該候補ブロックに含まれる各画素に前記第1の重みを乗じた和を算出し、当該和の大きさの順に少なくとも1つの候補ブロックを参照ブロックとして設定する設定手段と、
前記参照ブロックに類似する対象ブロックを、前記入力画像または前記中間画像のいずれか1以上の画像内で探索する探索手段と、
前記陰面画素の画素値を、当該陰面画素と前記対象ブロックとの相対位置に基づいて補間する補間手段と、
を具備する視差画像生成装置。 - 前記参照ブロック内の各画素について、前記陰面画素より遠い画素ほど大きい重みをもつよう第2の重みを算出する第2の算出手段を更に具備し、
前記探索手段は、探索対象のブロック内の各画素の第1の重みと第2の重みの積を用いて、前記対象ブロックを探索する請求項1に記載の視差画像生成装置。 - 前記設定手段は、前記陰面画素の近傍に複数の参照ブロックを設定し、
前記探索手段は、前記複数の参照ブロックのそれぞれに対して、類似する対象ブロックを探索し、
前記補間手段は、前記複数の対象ブロックのそれぞれについて、前記陰面画素との相対位置に基づいて補間画素値を求め、補間画素値の平均値によって、前記陰面画素の画素値を補間する請求項1に記載の視差画像生成装置。 - 前記補間手段は、前記複数の参照ブロックそれぞれにおける第1の重みの和の比に応じて、前記画素補間値の平均値を算出する請求項3に記載の視差画像生成装置。
- 複数のフレームを有する入力画像及び前記複数のフレームの画素の奥行き情報から、前記入力画像のうち処理対象のフレームの画素に対応する視差ベクトルを導出する手段と、
前記入力画像のうち処理対象の画像の画素の画素値を、対応する視差ベクトルが指し示す位置の画素に割り当てて中間画像を生成する生成手段と、
前記処理対象のフレームの画素の画素値を、対応する視差ベクトルが指し示す位置の画素に割り当てて中間画像を生成する手段と、
前記視差画像の画素に対して、前記処理対象のフレームにおいて前記奥行き情報が奥側を示していた画素に対応する画素ほど大きい重みをもつよう第1の重みを算出する第1の算出手段と、
前記中間画像の画素のうち、前記生成手段によって画素値が割り当てられなかった陰面画素の近傍に、少なくとも1つの候補ブロックを設定し、当該候補ブロックに含まれる各画素に前記第1の重みを乗じた和を算出し、当該和の大きさの順に少なくとも1つの候補ブロックを参照ブロックとして設定する設定手段と、
前記参照ブロックに類似する対象ブロックを、前記入力画像のうち前記処理対象のフレームに対して時間的に前又は後に表示すべき画像、前記処理対象のフレームおよび前記中間画像のいずれか1以上の画像内で探索する探索手段と、
前記陰面画素の画素値を、当該陰面画素と前記対象ブロックとの相対位置に基づいて補間する補間手段と、
を具備する視差画像生成装置。
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