JP5205907B2 - Epoxy resin composition for sealing and electronic component device - Google Patents

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Description

本発明は、封止用エポキシ樹脂組成物、及び封止用エポキシ樹脂組成物で封止した素子を備えた電子部品装置に関する。   The present invention relates to an epoxy resin composition for sealing, and an electronic component device including an element sealed with the epoxy resin composition for sealing.

従来、トランジスタ、IC等の電子部品装置の素子封止の分野では生産性、コスト等の面から樹脂封止が主流となり、エポキシ樹脂成形材料が広く用いられている。この理由としては、エポキシ樹脂が電気特性、耐湿性、耐熱性、機械特性、インサート品との接着性などの諸特性にバランスがとれているためである。   Conventionally, in the field of element sealing of electronic component devices such as transistors and ICs, resin sealing has been the mainstream in terms of productivity and cost, and epoxy resin molding materials have been widely used. This is because epoxy resins are balanced in various properties such as electrical properties, moisture resistance, heat resistance, mechanical properties, and adhesiveness with inserts.

近年、電子部品装置のプリント配線板への高密度実装化に伴い、電子部品装置の形態は従来のピン挿入型のパッケージに代え、表面実装型のパッケージが主流になっている。表面実装型のIC、LSIなどは、実装密度を高くし実装高さを低くするために、薄型、小型のパッケージになっており、素子のパッケージに対する占有体積が大きくなり、パッケージの肉厚は非常に薄くなってきた。   In recent years, along with the high density mounting of electronic component devices on printed wiring boards, surface mount type packages have become the mainstream in place of conventional pin insertion type packages. Surface-mount ICs, LSIs, etc. are thin and small packages in order to increase the mounting density and reduce the mounting height, and the volume occupied by the device package increases, resulting in a very thick package. It has become thinner.

また、さらなる小型軽量化に対応すべく、パッケージの形態もQFP(Quad Flat Package)、SOP(Small Outline Package)といったものから、より多ピン化に対応しやすく、かつより高密度実装が可能なCSP(Chip Size Package)を含めたBGA(Ball Grid Array)等のエリア実装パッケージへ移行しつつある。これらのパッケージは近年、高速化、多機能化を実現するために、フェースダウン型、積層(スタックド)型、フリップチップ型、ウェハーレベル型等、新しい構造のものが開発されている。それらの多くが素子搭載面側の片面のみをエポキシ樹脂成形材料等の封止材料で封止した後、裏面にはんだボールを形成して回路基板との接合を行う片面封止型パッケージの形態を有している。また、片面封止型パッケージに用いられる基板としては、ガラス基材エポキシ樹脂基板、ガラス基材ビスマレイミド・トリアジン樹脂基板等の硬質回路基板、あるいはポリイミド樹脂フィルム基板等のフレキシブル回路基板が主に使用される。さらに、片面封止型パッケージを作製する際の樹脂封止工程も従来の1チップ1キャビティの封止方法に変わって、複数のチップを1キャビティで封止する一括モールド型の封止方法が開発され、生産効率の向上、低コスト化が図られている。   In addition, in order to cope with further reduction in size and weight, CSP (Quad Flat Package), SOP (Small Outline Package), and other forms of packages are easy to cope with higher pin count and CSP capable of higher density mounting. It is shifting to an area mounting package such as BGA (Ball Grid Array) including (Chip Size Package). In recent years, these packages have been developed with new structures such as a face-down type, a stacked (stacked) type, a flip chip type, and a wafer level type in order to realize high speed and multiple functions. Many of them have a single-side sealed package form in which only one surface on the element mounting surface side is sealed with a sealing material such as an epoxy resin molding material, and then solder balls are formed on the back surface and bonded to the circuit board. Have. In addition, as substrates used for single-sided sealed packages, glass substrate epoxy resin substrates, hard circuit substrates such as glass substrate bismaleimide / triazine resin substrates, and flexible circuit substrates such as polyimide resin film substrates are mainly used. Is done. Furthermore, instead of the conventional one-chip / one-cavity sealing method, the resin-sealing process for producing a single-side-sealed package has been developed as a batch mold type sealing method that seals multiple chips in one cavity. As a result, production efficiency is improved and costs are reduced.

片面封止型パッケージは、電子部品装置の形状が片面封止であるため、基板と成形材料との物性値の差異等が原因で、成形温度から室温まで冷却した時、又はリフロー工程での熱履歴によって、電子部品装置中心部を起点として反り変形が生じやすいという問題がある。この反り変形に伴って、素子搭載用基板に同一面となるように配置した複数のはんだボールに高低差が生じ、このような状態でパッケージD/C動作検査工程等の試験を行った場合、コネクタ接続に支障をきたして十分な検査を行えない等の不具合が発生することがある。また、電子部品装置を実装基板に表面実装した時、はんだボールの一部が対応する配線層に完全に接続されず、接続部の信頼性を低下させることがある。   The single-side sealed package has a single-side sealed shape as the electronic component device. Therefore, when it is cooled from the molding temperature to room temperature or due to the difference in physical properties between the substrate and the molding material, the heat in the reflow process Due to the history, there is a problem that warp deformation tends to occur starting from the central part of the electronic component device. Along with this warp deformation, a difference in height occurs in the plurality of solder balls arranged on the same surface of the element mounting substrate, and when a test such as a package D / C operation inspection process is performed in such a state, Problems such as failure to perform sufficient inspection due to hindered connector connection may occur. In addition, when the electronic component device is surface-mounted on a mounting substrate, some of the solder balls may not be completely connected to the corresponding wiring layer, which may reduce the reliability of the connection portion.

そこで、この反り変形量を低減する手法として、エポキシ樹脂及びフェノール樹脂に多官能型樹脂を使用して架橋密度を高めることで封止用エポキシ樹脂成形材料硬化物の高Tg化を図る方法が開示されている(例えば、特許文献1参照)。   Therefore, as a technique for reducing the warpage deformation amount, a method of increasing the Tg of the cured epoxy resin molding material by increasing the crosslink density by using a polyfunctional resin for the epoxy resin and the phenol resin is disclosed. (For example, refer to Patent Document 1).

一方、結晶性エポキシ樹脂と多官能型フェノール樹脂を使用して封止用エポキシ樹脂成形材料の粘度を低減し、充填材を高充填することで硬化物の低膨張率化と高Tg化の両立を図ると共に耐リフロークラック性を向上させる方法が開示されている(例えば、特許文献2〜4参照)。   On the other hand, using a crystalline epoxy resin and a polyfunctional phenol resin to reduce the viscosity of the epoxy resin molding material for sealing, and filling the filler with a high filling material achieves both low expansion coefficient and high Tg of the cured product. And a method for improving the reflow crack resistance is disclosed (for example, see Patent Documents 2 to 4).

特開平11−163224号公報JP-A-11-163224 特開平11−35803号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-35803 特開平11−100490号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-100100 特開平11−163224号公報JP-A-11-163224

しかし、特許文献2記載の方法だけでは樹脂の溶融粘度が高いために成形材料に十分な流動性を確保することが困難となる。また、仮に充填材量を下げて流動性を確保した場合には、硬化物の吸水率の増加に伴う耐リフロークラック性の低下を引き起こしてしまうことがある。   However, since the melt viscosity of the resin is high only by the method described in Patent Document 2, it is difficult to ensure sufficient fluidity for the molding material. Further, if the fluidity is ensured by reducing the amount of the filler, it may cause a decrease in reflow crack resistance accompanying an increase in water absorption of the cured product.

また、特許文献3,4記載の手法においても流動性の改善は満足のいくレベルではなく、そのような封止用エポキシ樹脂成形材料を一括モールド型の電子部品装置に使用した場合に、未充填を引き起こすことがある。   In addition, in the methods described in Patent Documents 3 and 4, the improvement in fluidity is not satisfactory, and when such an epoxy resin molding material for sealing is used in a batch mold type electronic component device, it is not filled. May cause.

本発明はかかる状況に鑑みなされたもので、一括モールド型の片面封止型パッケージに用いた場合でも反り変形量の低減を図れ、リフロー工程後の反り変化量の低減を図れ、リフロー工程中の変化量の低減を図れる封止用エポキシ樹脂成形材料(封止用エポキシ樹脂組成物)であって、更に、成形時の流動性や、熱時硬度、耐リフロークラック性に優れた封止用エポキシ樹脂成形材料を提供しようとするものである。また、本発明は、この封止用エポキシ樹脂成形材料により封止した素子を備えた電子部品装置を提供しようとするものである。   The present invention has been made in view of such a situation, and even when used in a single-sided sealed package of a collective mold type, the amount of warpage deformation can be reduced, and the amount of change in warpage after the reflow process can be reduced. Sealing epoxy resin molding material (sealing epoxy resin composition) that can reduce the amount of change, and further sealing epoxy with excellent fluidity during molding, heat hardness, and reflow crack resistance The present invention intends to provide a resin molding material. The present invention is also intended to provide an electronic component device including an element sealed with the sealing epoxy resin molding material.

本発明者らは上記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、エポキシ樹脂と、フェノール性水酸基を有する硬化剤とを特定の比率で含有し、さらに、特定のエポキシ当量を有するシリコーン化合物を含有する封止用エポキシ樹脂組成物により上記の目的を達成し得ることを見い出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention contain an epoxy resin and a curing agent having a phenolic hydroxyl group at a specific ratio, and further a silicone compound having a specific epoxy equivalent. It has been found that the above-described object can be achieved by an epoxy resin composition for sealing containing the present invention, and the present invention has been completed.

本発明は、(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール性水酸基を有する硬化剤、及び(C)エポキシ基を有するシリコーン化合物を含有し、(A)エポキシ樹脂のエポキシ基と(B)硬化剤のフェノール性水酸基との当量比(水酸基/エポキシ基)が1.05〜1.2であり、(C)シリコーン化合物のエポキシ当量が600〜1400である封止用エポキシ樹脂組成物に関する。
本発明においては、(C)エポキシ基を有するシリコーン化合物として、例えば、下記の結合(a)及び(b)を有し、末端にR、水酸基、及びアルコキシ基から選ばれた官能基を有する化合物を用いることが好ましい。

Figure 0005205907
(Rは置換または非置換の炭素数1〜12の1価の炭化水素基を示し、シリコーン化合物中のRは互いに同一でも異なっていてもよい。Xはエポキシ基を含む1価の有機基を示し、シリコーン化合物中のXは互いに同一でも異なっていてもよい。)
(C)エポキシ基を有するシリコーン化合物は、さらに結合(c)を有していてもよい。
Figure 0005205907
(Rは置換または非置換の炭素数1〜12の1価の炭化水素基を示し、シリコーン化合物中のRは互いに同一でも異なっていてもよい。)
また、本発明においては、(A)エポキシ樹脂として、例えば、下記一般式(I)で示されるエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂を用いることが好ましい。
Figure 0005205907
(Rは、置換又は非置換の炭素数1〜12の炭化水素基、及び置換又は非置換の炭素数1〜12のアルコキシ基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。nは0〜4の整数を示す。Rは、置換又は非置換の炭素数1〜12の炭化水素基、及び置換又は非置換の炭素数1〜12のアルコキシ基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。mは0〜6の整数を示す。)
さらに、本発明においては、(B)フェノール性水酸基を有する硬化剤として、例えば、下記一般式(II)で示されるフェノール樹脂を含む硬化剤を用いることが好ましい。
Figure 0005205907
(Rは、水素原子、置換又は非置換の炭素数1〜12の1価の炭化水素基、及び水酸基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。nは0又は1〜10の整数を示す。)
(B)フェノール性水酸基を有する硬化剤は、さらに下記一般式(III)で示されるフェノール・アラルキル樹脂を含んでいてもよい。
Figure 0005205907
(R〜Rは、水素原子、及び置換又は非置換の炭素数1〜12の1価の炭化水素基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。iは0又は1〜3の整数を示し、nは0又は1〜10の整数を示す。)
この場合、一般式(II)で示されるフェノール樹脂(α)の水酸基と一般式(III)で示されるフェノール・アラルキル樹脂(β)の水酸基のモル比が、(α)/(β)=0.1〜9であることが好ましい。
さらに、本発明においては、(D)無機充填材の含有量が、封止用エポキシ樹脂組成物の全重量に対し、85重量%〜95重量%であることが好ましい。
本発明の封止用エポキシ樹脂組成物は、エリア実装型の電子部品装置に好ましく用いられる。
また、本発明は、上記の封止用エポキシ樹脂組成物により封止された素子を備えた電子部品装置に関する。 The present invention comprises (A) an epoxy resin, (B) a curing agent having a phenolic hydroxyl group, and (C) a silicone compound having an epoxy group, and (A) the epoxy group of the epoxy resin and (B) the curing agent. It is related with the epoxy resin composition for sealing whose equivalent ratio (hydroxyl group / epoxy group) with a phenolic hydroxyl group is 1.05-1.2, and (C) the epoxy equivalent of a silicone compound is 600-1400.
In the present invention, (C) the silicone compound having an epoxy group has, for example, the following bonds (a) and (b), and has a functional group selected from R 1 , a hydroxyl group, and an alkoxy group at the terminal. It is preferable to use a compound.
Figure 0005205907
(R 1 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R 1 in the silicone compound may be the same or different from each other. X is a monovalent organic group containing an epoxy group. And X in the silicone compound may be the same as or different from each other.)
(C) The silicone compound having an epoxy group may further have a bond (c).
Figure 0005205907
(R 1 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R 1 in the silicone compound may be the same as or different from each other.)
Moreover, in this invention, it is preferable to use the epoxy resin containing the epoxy resin shown, for example by the following general formula (I) as (A) epoxy resin.
Figure 0005205907
(R 1 is selected from a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and may be the same or different from each other. N is 0. And R 2 is selected from a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and may be the same or different from each other. M is an integer of 0-6.)
Furthermore, in this invention, it is preferable to use the hardening | curing agent containing the phenol resin shown, for example by the following general formula (II) as (B) hardening | curing agent which has a phenolic hydroxyl group.
Figure 0005205907
(R is selected from a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and a hydroxyl group, and may be the same or different. N is an integer of 0 or 1 to 10. Show.)
(B) The curing agent having a phenolic hydroxyl group may further contain a phenol-aralkyl resin represented by the following general formula (III).
Figure 0005205907
(R 1 to R 9 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and may be the same or different from each other. Represents an integer, and n represents 0 or an integer of 1 to 10.)
In this case, the molar ratio of the hydroxyl group of the phenol resin (α) represented by the general formula (II) to the hydroxyl group of the phenol aralkyl resin (β) represented by the general formula (III) is (α) / (β) = 0. 1 to 9 is preferable.
Furthermore, in this invention, it is preferable that content of (D) inorganic filler is 85 weight%-95 weight% with respect to the total weight of the epoxy resin composition for sealing.
The epoxy resin composition for sealing of the present invention is preferably used for an area mounting type electronic component device.
Moreover, this invention relates to the electronic component apparatus provided with the element sealed with said epoxy resin composition for sealing.

本発明によれば、リフロー工程後及びリフロー工程中の反り変化量の低減を図れる封止用エポキシ樹脂組成物を提供でき、これを用いて一括モールド形式の片面封止型パッケージ等の電子部品を封止すれば、実装時の接続信頼性が良好な製品を得ることができ、その工業的価値は大である。また、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物は、電子部品装置の封止用材料として、流動性に優れ、さらに熱時硬度や耐リフロークラック性に優れている。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the epoxy resin composition for sealing which can aim at reduction of the curvature change amount after a reflow process and during a reflow process can be provided, and electronic parts, such as a single-sided sealing type package of a batch mold type, can be provided using this. If sealed, a product with good connection reliability at the time of mounting can be obtained, and its industrial value is great. Moreover, the epoxy resin composition for sealing of the present invention is excellent in fluidity as a material for sealing an electronic component device, and is further excellent in heat hardness and reflow crack resistance.

本発明の封止用エポキシ樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール性水酸基を有する硬化剤、及び(C)エポキシ基を有するシリコーン化合物を含有し、(A)エポキシ樹脂のエポキシ基と(B)硬化剤のフェノール性水酸基との当量比(水酸基/エポキシ基)が1.05〜1.2であり、(C)シリコーン化合物のエポキシ当量が600〜1400であることを特徴とする。   The epoxy resin composition for sealing according to the present invention comprises (A) an epoxy resin, (B) a curing agent having a phenolic hydroxyl group, and (C) a silicone compound having an epoxy group, and (A) an epoxy resin. The equivalent ratio (hydroxyl group / epoxy group) of the group and the phenolic hydroxyl group of the (B) curing agent is 1.05 to 1.2, and the epoxy equivalent of the (C) silicone compound is 600 to 1400. To do.

本発明においては、(A)エポキシ樹脂と(B)フェノール性水酸基を有する硬化剤との当量比、すなわち、エポキシ樹脂中のエポキシ基数に対する硬化剤中の水酸基数の比(硬化剤中の水酸基数/エポキシ樹脂中のエポキシ基数)を、初期と加熱後の反り変化量と初期と加熱時の反り変化量とが小さくなる封止用エポキシ樹脂組成物を得るために、1.05〜1.2の範囲に設定する。より好ましくは、1.05〜1.1である。 In the present invention, the equivalent ratio of (A) the epoxy resin and (B) the curing agent having a phenolic hydroxyl group, that is, the ratio of the number of hydroxyl groups in the curing agent to the number of epoxy groups in the epoxy resin (the number of hydroxyl groups in the curing agent). In order to obtain an epoxy resin composition for sealing in which the amount of warpage change after initial and heating and the amount of warpage change during initial and heating are reduced. Set to the range. More preferably 1.05 to 1.1.

本発明において用いられる(A)エポキシ樹脂は、下記一般式(I)で示される化合物を含有することが好ましい。   The (A) epoxy resin used in the present invention preferably contains a compound represented by the following general formula (I).

Figure 0005205907
(一般式(I)中のRは、置換又は非置換の炭素数1〜12の炭化水素基、及び置換又は非置換の炭素数1〜12のアルコキシ基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。nは0〜4の整数を示す。またRは、置換又は非置換の炭素数1〜12の炭化水素基、及び置換又は非置換の炭素数1〜12のアルコキシ基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。mは0〜6の整数を示す。)
Figure 0005205907
(R 1 in the general formula (I) is selected from a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and is the same or different from each other. N represents an integer of 0 to 4. R 2 is selected from a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. And may be the same or different from each other, and m represents an integer of 0 to 6.)

炭素数1〜12の炭化水素基としては、アルキル基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられる。
また、炭素数1〜12のアルコキシ基としては、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
さらに、炭化水素基又はアルコキシ基が有することのできる置換基として、たとえば、ハロゲン原子が挙げられる。
The hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms is preferably an alkyl group, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, a pentyl group, or a hexyl group. , Heptyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group and the like.
Specific examples of the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group.
Furthermore, examples of the substituent that the hydrocarbon group or the alkoxy group may have include a halogen atom.

上記一般式(I)で示されるエポキシ樹脂としては、たとえば下記一般式(IV)〜(XXII)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin represented by the general formula (I) include epoxy resins represented by the following general formulas (IV) to (XXII).

Figure 0005205907
Figure 0005205907

Figure 0005205907
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Figure 0005205907

なかでも、難燃性、成形性の観点からは上記一般式(IV)で示されるエポキシ樹脂が好ましい。このような化合物としてはYX−8800(ジャパンエポキシレジン社製商品名)等が入手可能である。上記一般式(I)で示されるエポキシ樹脂の配合量は、その性能を発揮するために(A)エポキシ樹脂全量に対して10重量%以上とすることが好ましく、40重量%以上がより好ましく、60重量%以上とすることがさらに好ましい。   Especially, the epoxy resin shown by the said general formula (IV) is preferable from a viewpoint of a flame retardance and a moldability. As such a compound, YX-8800 (trade name of Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and the like are available. The amount of the epoxy resin represented by the general formula (I) is preferably 10% by weight or more, more preferably 40% by weight or more based on the total amount of the epoxy resin (A) in order to exhibit its performance. More preferably, it is 60% by weight or more.

本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、さらに従来公知のエポキシ樹脂を必要に応じて併用することができる。併用可能なエポキシ樹脂としては、たとえば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン骨格を有するエポキシ樹脂をはじめとするフェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノール類及び/又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したエポキシ樹脂、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、アルキル置換又は非置換のビフェノール等のジグリシジルエーテル、スチルベン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、フタル酸、ダイマー酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンとフェノール類の共縮合樹脂のエポキシ化物、ナフタレン環を有するエポキシ樹脂、キシリレン骨格、ビフェニレン骨格を含有するフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂のエポキシ化物、トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、テルペン変性エポキシ樹脂、オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂などが挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて併用して用いてもよい。   In the epoxy resin composition for sealing of the present invention, a conventionally known epoxy resin can be used in combination as required. Examples of the epoxy resins that can be used in combination include phenol novolac type epoxy resins, orthocresol novolac type epoxy resins, and epoxy resins having a triphenylmethane skeleton, such as phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F. And / or naphthols such as α-naphthol, β-naphthol and dihydroxynaphthalene and compounds having an aldehyde group such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, benzaldehyde and salicylaldehyde in an acidic catalyst. Epoxy resin, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, alkyl-substituted or unsubstituted biphenol Diglycidyl ethers such as diols, stilbene type epoxy resins, hydroquinone type epoxy resins, polybasic acids such as phthalic acid and dimer acid, and glycidyl ester type epoxy resins obtained by the reaction of epichlorohydrin, and polyamines such as diaminodiphenylmethane and isocyanuric acid Glycidylamine type epoxy resin obtained by reaction of epichlorohydrin, epoxidized product of co-condensation resin of dicyclopentadiene and phenol, epoxy resin having naphthalene ring, xylylene skeleton, phenol / aralkyl resin containing biphenylene skeleton, naphthol / aralkyl resin It is obtained by oxidizing aralkyl type phenolic resin such as trimethylolpropane type epoxy resin, terpene modified epoxy resin, olefin bond with peracid such as peracetic acid. Linear aliphatic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, such as a sulfur atom-containing epoxy resins. These may be used in combination or in combination of two or more with these alone.

なかでも、流動性及び耐リフロー性の観点からはビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂及び硫黄原子含有エポキシ樹脂が好ましく、硬化性の観点からはノボラック型エポキシ樹脂が好ましく、低吸湿性の観点からはジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂が好ましく、耐熱性及び低反り性の観点からはナフタレン型エポキシ樹脂及びトリフェニルメタン型エポキシ樹脂が好ましく、これらのエポキシ樹脂の少なくとも1種を含有して併用していることが好ましい。   Among them, biphenyl type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, stilbene type epoxy resin and sulfur atom-containing epoxy resin are preferable from the viewpoint of fluidity and reflow resistance, and novolac type epoxy resin is preferable from the viewpoint of curability, From the viewpoint of low hygroscopicity, dicyclopentadiene type epoxy resin is preferable, and from the viewpoint of heat resistance and low warpage, naphthalene type epoxy resin and triphenylmethane type epoxy resin are preferable, and contains at least one of these epoxy resins Therefore, it is preferable to use them together.

ビフェニル型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式(XXIII)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、ビスフェノールF型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式(XXIV)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、スチルベン型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式(XXV)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、硫黄原子含有エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式(XXVI)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。   Examples of the biphenyl type epoxy resin include an epoxy resin represented by the following general formula (XXIII). Examples of the bisphenol F type epoxy resin include an epoxy resin represented by the following general formula (XXIV). Examples of the resin include an epoxy resin represented by the following general formula (XXV), and examples of the sulfur atom-containing epoxy resin include an epoxy resin represented by the following general formula (XXVI).

Figure 0005205907
(ここで、R〜Rは水素原子、及び置換又は非置換の炭素数1〜10の一価の炭化水素基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, R 1 to R 8 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. N is 0 to 3). Indicates an integer.)

上記一般式(XXIII)で示されるビフェニル型エポキシ樹脂は、ビフェノール化合物にエピクロルヒドリンを公知の方法で反応させることによって得られる。一般式(XXIII)中のR〜Rとしては、たとえば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert−ブチル基等の炭素数1〜10のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基等の炭素数1〜10のアルケニル基などが挙げられる。 The biphenyl type epoxy resin represented by the general formula (XXIII) can be obtained by reacting a biphenol compound with epichlorohydrin by a known method. As R < 1 > -R < 8 > in general formula (XXIII), it is C1-C10, such as a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a tert- butyl group, for example. C1-C10 alkenyl groups, such as an alkyl group, a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, etc. are mentioned.

上記一般式(XXIII)で示されるビフェニル型エポキシ樹脂としては、たとえば、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)ビフェニル又は4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニルを主成分とするエポキシ樹脂、エピクロルヒドリンと4,4’−ビフェノール又は4,4’−(3,3’,5,5’−テトラメチル)ビフェノールとを反応させて得られるエポキシ樹脂等が挙げられる。なかでも4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニルを主成分とするエポキシ樹脂が好ましい。このような化合物としてはYX−4000(ジャパンエポキシレジン株式会社製商品名)等が市販品として入手可能である。   Examples of the biphenyl type epoxy resin represented by the general formula (XXIII) include 4,4′-bis (2,3-epoxypropoxy) biphenyl or 4,4′-bis (2,3-epoxypropoxy) -3. , 3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenyl as the main component, epichlorohydrin and 4,4′-biphenol or 4,4 ′-(3,3 ′, 5,5′-tetramethyl) biphenol An epoxy resin obtained by reacting is used. Among these, an epoxy resin mainly composed of 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3 ', 5,5'-tetramethylbiphenyl is preferable. As such a compound, YX-4000 (trade name, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and the like are commercially available.

Figure 0005205907
(ここで、R〜Rは水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシル基、炭素数6〜10のアリール基、及び炭素数6〜10のアラルキル基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, R 1 to R 8 are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and an aralkyl group having 6 to 10 carbon atoms. And may be the same or different from each other, and n represents an integer of 0 to 3.)

上記一般式(XXIV)で示されるビスフェノールF型エポキシ樹脂は、ビスフェノールF化合物にエピクロルヒドリンを公知の方法で反応させることによって得られる。一般式(XXIV)中のR〜Rとしては、たとえば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert−ブチル基等の炭素数1〜10のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜10のアルコキシル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基などが挙げられる。 The bisphenol F-type epoxy resin represented by the general formula (XXIV) can be obtained by reacting a bisphenol F compound with epichlorohydrin by a known method. As R < 1 > -R < 8 > in general formula (XXIV), it is C1-C10, such as a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a tert- butyl group, for example. Examples thereof include an alkoxyl group having 1 to 10 carbon atoms such as an alkyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group and a butoxy group, an aryl group such as a phenyl group and a naphthyl group, and an aralkyl group such as a benzyl group and a phenethyl group.

上記一般式(XXIV)で示されるビスフェノールF型エポキシ樹脂としては、例えば、R、R、R及びRがメチル基であり、R、R、R及びRが水素原子であり、n=0であるエポキシ樹脂を主成分とするYSLV−80XY(東都化成株式会社製商品名)等が市販品として入手可能である。 As the bisphenol F type epoxy resin represented by the general formula (XXIV), for example, R 1 , R 3 , R 6 and R 8 are methyl groups, and R 2 , R 4 , R 5 and R 7 are hydrogen atoms. YSLV-80XY (trade name, manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.) whose main component is an epoxy resin where n = 0 is available as a commercial product.

Figure 0005205907
(ここで、R〜Rは水素原子、及び置換又は非置換の炭素数1〜5の一価の炭化水素基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。nは0〜10の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, R 1 to R 8 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, and may be the same or different from each other. N is 0 to 10). Indicates an integer.)

一般式(XXV)中のR〜Rとしては、たとえば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert−ブチル基等の炭素数1〜5のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基等の炭素数1〜5のアルケニル基などが挙げられる。 As R < 1 > -R < 8 > in general formula (XXV), it is C1-C5, such as a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, for example. C1-C5 alkenyl groups, such as an alkyl group, a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, etc. are mentioned.

上記一般式(XXV)で示されるスチルベン型エポキシ樹脂は、原料であるスチルベン系フェノール類とエピクロルヒドリンとを塩基性物質存在下で反応させて得ることができる。この原料であるスチルベン系フェノール類としては、たとえば3−tert−ブチル−4,4’−ジヒドロキシ−3’,5,5’−トリメチルスチルベン、3−tert−ブチル−4,4’−ジヒドロキシ−3’,5’,6−トリメチルスチルベン、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’,5,5’−テトラメチルスチルベン、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジ−tert−ブチル−5,5’−ジメチルスチルベン、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジ−tert−ブチル−6,6’−ジメチルスチルベン等が挙げられ、なかでも3−tert−ブチル−4,4’−ジヒドロキシ−3’,5,5’−トリメチルスチルベン、及び4,4’−ジヒドロキシ−3,3’,5,5’−テトラメチルスチルベンが好ましい。これらのスチルベン型フェノール類は単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The stilbene type epoxy resin represented by the above general formula (XXV) can be obtained by reacting a stilbene phenol as a raw material with epichlorohydrin in the presence of a basic substance. Examples of the raw material stilbene phenols include 3-tert-butyl-4,4′-dihydroxy-3 ′, 5,5′-trimethylstilbene, 3-tert-butyl-4,4′-dihydroxy-3. ', 5', 6-trimethylstilbene, 4,4'-dihydroxy-3,3 ', 5,5'-tetramethylstilbene, 4,4'-dihydroxy-3,3'-di-tert-butyl-5 , 5′-dimethylstilbene, 4,4′-dihydroxy-3,3′-di-tert-butyl-6,6′-dimethylstilbene and the like, among them 3-tert-butyl-4,4′- Dihydroxy-3 ′, 5,5′-trimethylstilbene and 4,4′-dihydroxy-3,3 ′, 5,5′-tetramethylstilbene are preferred. These stilbene type phenols may be used alone or in combination of two or more.

Figure 0005205907
(ここで、R〜Rは水素原子、置換又は非置換の炭素数1〜10のアルキル基、及び置換又は非置換の炭素数1〜10のアルコキシ基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, R 1 to R 8 are selected from a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different from each other. (N represents an integer of 0 to 3.)

一般式(XXVI)で示されるエポキシ樹脂は、チオジフェノール化合物にエピクロルヒドリンを公知の方法で反応させることによって得られる。一般式(XXVI)中のR〜Rとしては、たとえば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert−ブチル基等の炭素数1〜10のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。 The epoxy resin represented by the general formula (XXVI) can be obtained by reacting a thiodiphenol compound with epichlorohydrin by a known method. As R < 1 > -R < 8 > in general formula (XXVI), it is C1-C10, such as a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, for example. Examples thereof include an alkyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group.

上記一般式(XXVI)で示される硫黄原子含有エポキシ樹脂のなかでも、R、R、R及びRが水素原子で、R、R、R及びRがアルキル基であるエポキシ樹脂が好ましく、R、R、R及びRが水素原子で、R及びRがtert−ブチル基で、R及びRがメチル基であるエポキシ樹脂がより好ましい。このような化合物としては、YSLV−120TE(東都化成株式会社製商品名)等が市販品として入手可能である。 Among the sulfur atom-containing epoxy resins represented by the general formula (XXVI), R 2 , R 3 , R 6 and R 7 are hydrogen atoms, and R 1 , R 4 , R 5 and R 8 are alkyl groups. An epoxy resin is preferred, and an epoxy resin in which R 2 , R 3 , R 6 and R 7 are hydrogen atoms, R 1 and R 8 are tert-butyl groups, and R 4 and R 5 are methyl groups is more preferred. As such a compound, YSLV-120TE (trade name, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) and the like are available as commercial products.

ノボラック型エポキシ樹脂としては、たとえば下記一般式(XXVII)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。   Examples of the novolac type epoxy resin include an epoxy resin represented by the following general formula (XXVII).

Figure 0005205907
(ここで、Rは水素原子、及び置換又は非置換の炭素数1〜10の一価の炭化水素基からそれぞれ独立して選ばれ、nは0〜10の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, R is independently selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 10.)

上記一般式(XXVII)で示されるノボラック型エポキシ樹脂は、ノボラック型フェノール樹脂にエピクロルヒドリンを反応させることによって容易に得られる。なかでも、一般式(XXVII)中のRとしては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数1〜10のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜10のアルコキシル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。nは0〜3の整数が好ましい。上記一般式(XXVII)で示されるノボラック型エポキシ樹脂のなかでも、オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂が好ましい。このような化合物としてはESCN−190(住友化学株式会社製商品名)等が市販品として入手可能である。   The novolak-type epoxy resin represented by the general formula (XXVII) can be easily obtained by reacting novolak-type phenol resin with epichlorohydrin. Especially, as R in general formula (XXVII), it is a C1-C10 alkyl group, such as a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a methoxy group, an ethoxy group C1-C10 alkoxyl groups, such as a propoxy group and a butoxy group, are preferable, and a hydrogen atom or a methyl group is more preferable. n is preferably an integer of 0 to 3. Among the novolak type epoxy resins represented by the general formula (XXVII), orthocresol novolak type epoxy resins are preferable. As such a compound, ESCN-190 (trade name, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) is available as a commercial product.

ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂としては、たとえば下記一般式(XXVIII)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。   Examples of the dicyclopentadiene type epoxy resin include an epoxy resin represented by the following general formula (XXVIII).

Figure 0005205907
(ここで、R及びRは水素原子、及び置換又は非置換の炭素数1〜10の一価の炭化水素基からそれぞれ独立して選ばれ、nは0〜10の整数を示し、mは0〜6の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Wherein R 1 and R 2 are each independently selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, n represents an integer of 0 to 10; Represents an integer of 0 to 6.)

上記式(XXVIII)中のRとしては、たとえば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、ハロゲン化アルキル基、アミノ基置換アルキル基、メルカプト基置換アルキル基などの置換又は非置換の炭素数1〜10の一価の炭化水素基が挙げられ、なかでもメチル基、エチル基等のアルキル基及び水素原子が好ましく、メチル基及び水素原子がより好ましい。Rとしては、たとえば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、ハロゲン化アルキル基、アミノ基置換アルキル基、メルカプト基置換アルキル基などの置換又は非置換の炭素数1〜10の一価の炭化水素基が挙げられ、なかでも水素原子が好ましい。このような化合物としてはHP−7200(大日本インキ化学工業株式会社製商品名)等が市販品として入手可能である。 R 1 in the above formula (XXVIII) is, for example, a hydrogen atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, or a tert-butyl group, a vinyl group, an allyl group, or a butenyl group. And substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms such as alkenyl groups, halogenated alkyl groups, amino group-substituted alkyl groups, mercapto group-substituted alkyl groups, and the like. Among them, methyl groups and ethyl groups Alkyl groups and hydrogen atoms such as methyl groups and hydrogen atoms are more preferable. Examples of R 2 include a hydrogen atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, and a tert-butyl group, an alkenyl group such as a vinyl group, an allyl group, and a butenyl group, and an alkyl halide. Examples thereof include substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms such as a group, an amino group-substituted alkyl group, and a mercapto group-substituted alkyl group, and among them, a hydrogen atom is preferable. As such a compound, HP-7200 (trade name, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) is available as a commercial product.

ナフタレン型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式(XXIXa)や下記一般式(XXIXb)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式(XXX)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。   Examples of the naphthalene type epoxy resin include an epoxy resin represented by the following general formula (XXIXa) and the following general formula (XXIXb). Examples of the triphenylmethane type epoxy resin include an epoxy resin represented by the following general formula (XXX). Etc.

Figure 0005205907
(ここで、R〜Rは水素原子、及び置換又は非置換の炭素数1〜12の一価の炭化水素基から選ばれ、それぞれ同一でも異なっていてもよい。pは1又は0で、l及びmはそれぞれ0〜11の整数であって、(l+m)が1〜11の整数でかつ(l+p)が1〜12の整数となるよう選ばれる。iは0〜3の整数、jは0〜2の整数、kは0〜4の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, R 1 to R 3 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and each may be the same or different. P is 1 or 0. , L and m are each an integer of 0 to 11, wherein (l + m) is an integer of 1 to 11 and (l + p) is an integer of 1 to 12. i is an integer of 0 to 3, j Represents an integer of 0 to 2, and k represents an integer of 0 to 4.)

上記一般式(XXIXa)で示されるナフタレン型エポキシ樹脂としては、l個の構成単位及びm個の構成単位をランダムに含むランダム共重合体、交互に含む交互共重合体、規則的に含む共重合体、ブロック状に含むブロック共重合体が挙げられ、これらのいずれか1種を単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。一般式(XXIXa)中のR〜Rとしては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数1〜12のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜12のアルコキシル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。R、Rが水素原子で、Rがメチル基である上記化合物としては、NC−7000(日本化薬株式会社製商品名)等が市販品として入手可能である。 As the naphthalene type epoxy resin represented by the general formula (XXIXa), there are random copolymers containing 1 constituent unit and m constituent units at random, alternating copolymers containing alternating constituents, copolymer containing regularly Examples thereof include block copolymers which are included in a combined or block form, and any one of these may be used alone, or two or more may be used in combination. R 1 to R 3 in the general formula (XXIXa) are a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group or the like, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a methoxy group, an ethoxy group C1-C12 alkoxyl groups, such as a group, a propoxy group, and a butoxy group, are preferable, and a hydrogen atom or a methyl group is more preferable. As the above compound in which R 1 and R 2 are hydrogen atoms and R 3 is a methyl group, NC-7000 (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) is commercially available.

Figure 0005205907
(ここで、R〜Rは水素原子、及び置換又は非置換の炭素数1〜12の一価の炭化水素基から選ばれ、それぞれ同一でも異なっていてもよい。nは1〜10の整数である。iは0〜4の整数、jは0〜2の整数、kは0〜4の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, R 1 to R 3 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and each may be the same or different. N is 1 to 10). I is an integer from 0 to 4, j is an integer from 0 to 2, and k is an integer from 0 to 4.)

一般式(XXIXb)中のR〜Rとしては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数1〜12のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜12のアルコキシル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。R〜Rが水素原子である上記化合物としては、ESN−175(東都化成株式会社製商品)等が市販品として入手可能である。 R 1 to R 3 in the general formula (XXIXb) include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group and the like, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a methoxy group, and an ethoxy group. C1-C12 alkoxyl groups, such as a group, a propoxy group, and a butoxy group, are preferable, and a hydrogen atom or a methyl group is more preferable. As the above compound in which R 1 to R 3 are hydrogen atoms, ESN-175 (product of Toto Kasei Co., Ltd.) and the like are available as commercial products.

Figure 0005205907
(ここで、Rは水素原子、及び置換又は非置換の炭素数1〜10の一価の炭化水素基から選ばれ、nは1〜10の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, R is selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 10.)

一般式(XXX)中のRとしては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数1〜10のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜10のアルコキシル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。Rが水素原子である上記化合物としてはE−1032(ジャパンエポキシレジン株式会社製商品名)等が市販品として入手可能である。   R in the general formula (XXX) is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group or other alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a methoxy group, an ethoxy group, or a propoxy group. C1-C10 alkoxyl groups, such as a butoxy group, are preferable, and a hydrogen atom or a methyl group is more preferable. As said compound whose R is a hydrogen atom, E-1032 (Japan Epoxy Resin Co., Ltd. brand name) etc. can be obtained as a commercial item.

これらのエポキシ樹脂はいずれか1種を単独で用いても2種以上を組合わせて用いてもよい。   These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

本発明において用いられる(B)フェノール性水酸基を有する硬化剤は、下記一般式(XXXI)で示される構造を有するフェノール樹脂を含有していることが好ましく、それ以外に封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用されているものを併用することもできる。下記一般式(XXXI)で示される構造を有するフェノール樹脂としては、たとえば繰り返し単位として(XXXI)の構造のみからなるフェノール樹脂、(XXXI)の構造と他の繰り返し単位からなるフェノール樹脂等が挙げられ、フェノール樹脂中の(XXXI)の構造と他の繰り返し単位は、それらがランダム、ブロック又は交互に結合されていてもよい。   The curing agent having a phenolic hydroxyl group (B) used in the present invention preferably contains a phenol resin having a structure represented by the following general formula (XXXI), and in addition, an epoxy resin composition for sealing. Those commonly used can also be used in combination. Examples of the phenol resin having a structure represented by the following general formula (XXXXI) include a phenol resin consisting only of the structure of (XXXI) as a repeating unit, a phenol resin consisting of the structure of (XXXI) and another repeating unit, and the like. The structure of (XXXI) and other repeating units in the phenol resin may be combined randomly, in blocks, or alternately.

Figure 0005205907
(ここで、Rは水素原子、置換又は非置換の炭素数1〜12の一価の炭化水素基、及び水酸基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。iは0または1〜3の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, R is selected from a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and a hydroxyl group, and may be the same or different from each other. Indicates an integer.)

上記一般式(XXXI)中のRとしては、たとえば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基等の鎖状アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の環状アルキル基、ベンジル基、フェネチル基等のアリール基置換アルキル基、メトキシ基置換アルキル基、エトキシ基置換アルキル基、ブトキシ基置換アルキル基等のアルコキシ基置換アルキル基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のアミノ基置換アルキル基、水酸基置換アルキル基、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等の無置換アリール基、トリル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、ブチルフェニル基、t−ブチルフェニル基、ジメチルナフチル基等のアルキル基置換アリール基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、t−ブトキシフェニル基、メトキシナフチル基等のアルコキシ基置換アリール基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のアミノ基置換アリール基、水酸基置換アリール基などが挙げられる。   Examples of R in the general formula (XXXI) include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, Chain alkyl groups such as octyl group, decyl group and dodecyl group, cyclic alkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclopentenyl group and cyclohexenyl group, and aryl group-substituted alkyl groups such as benzyl group and phenethyl group , Alkoxy groups substituted alkyl groups such as methoxy group substituted alkyl groups, ethoxy group substituted alkyl groups, butoxy group substituted alkyl groups, amino group substituted alkyl groups such as dimethylamino group, diethylamino group, hydroxyl group substituted alkyl groups, phenyl groups, naphthyl groups , Unsubstituted aryl group such as biphenyl group, tolyl group, dimethylphenol Alkyl group-substituted aryl groups such as ethyl group, ethylphenyl group, butylphenyl group, t-butylphenyl group, dimethylnaphthyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, t-butoxyphenyl group, methoxynaphthyl group, etc. And an alkoxy group-substituted aryl group, an amino group-substituted aryl group such as a dimethylamino group and a diethylamino group, and a hydroxyl group-substituted aryl group.

一般式(XXXI)で示される構造は対応するフェノール化合物と対応するアルデヒド基を有する化合物を酸性触媒下で縮合反応させて得ることができる。一般式(XXXI)で示される構造を有するフェノール樹脂としては、下記一般式(XXXII)〜(XXXIV)で示されるフェノール樹脂が例示できる。   The structure represented by the general formula (XXXI) can be obtained by subjecting a corresponding phenol compound and a compound having a corresponding aldehyde group to a condensation reaction under an acidic catalyst. Examples of the phenol resin having a structure represented by the general formula (XXXI) include phenol resins represented by the following general formulas (XXXII) to (XXXIV).

Figure 0005205907
(ここで、一般式(XXXII)〜(XXXIV)に示されるRは水素原子、置換又は非置換の炭素数1〜12の一価の炭化水素基、及び水酸基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。またXは芳香環を含む基を示す。iは0又は1〜3の整数を示し、n及びmは0又は1〜10の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, R shown in the general formulas (XXXII) to (XXXIV) is selected from a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and a hydroxyl group, and the same or different from each other. X represents a group containing an aromatic ring, i represents an integer of 0 or 1 to 3, and n and m represent 0 or an integer of 1 to 10.)

一般式(XXXII)〜(XXXIV)中のRとしては、たとえば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基等の鎖状アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の環状アルキル基、ベンジル基、フェネチル基等のアリール基置換アルキル基、メトキシ基置換アルキル基、エトキシ基置換アルキル基、ブトキシ基置換アルキル基等のアルコキシ基置換アルキル基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のアミノ基置換アルキル基、水酸基置換アルキル基、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等の無置換アリール基、トリル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、ブチルフェニル基、t−ブチルフェニル基、ジメチルナフチル基等のアルキル基置換アリール基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、t−ブトキシフェニル基、メトキシナフチル基等のアルコキシ基置換アリール基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のアミノ基置換アリール基、水酸基置換アリール基、ビニル基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基などが挙げられ、なかでも水素原子、メチル基又は水酸基が好ましい。また、n及びmは0又は1〜10の整数を示し、平均で6以下がより好ましい。   Examples of R in the general formulas (XXXII) to (XXXIV) include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group, a pentyl group, Chain alkyl groups such as hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, cyclic alkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, and aryl groups such as benzyl group and phenethyl group Substituted alkyl group, methoxy group substituted alkyl group, ethoxy group substituted alkyl group, alkoxy group substituted alkyl group such as butoxy group substituted alkyl group, amino group substituted alkyl group such as dimethylamino group, diethylamino group, hydroxyl group substituted alkyl group, phenyl group , Unsubstituted aryl group such as naphthyl group and biphenyl group, tolyl group Alkyl group-substituted aryl groups such as dimethylphenyl group, ethylphenyl group, butylphenyl group, t-butylphenyl group, dimethylnaphthyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, t-butoxyphenyl group, methoxynaphthyl group Examples include alkoxy group-substituted aryl groups, amino group-substituted aryl groups such as dimethylamino group and diethylamino group, hydroxyl group-substituted aryl groups, alkenyl groups such as vinyl group, allyl group and butenyl group. Among them, hydrogen atom, methyl A group or a hydroxyl group is preferred. Moreover, n and m show 0 or the integer of 1-10, and 6 or less are more preferable on average.

一般式(XXXIV)中のXとしては、たとえばフェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基等のアリーレン基、トリレン基、キシリレン基等のアルキル基置換アリーレン基、アルコキシル基置換アリーレン基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基、アラルキル基置換アリーレン基などが挙げられ、なかでも、置換又は非置換のフェニレン基及びビフェニレン基が好ましい。   X in the general formula (XXXIV) is, for example, an arylene group such as a phenylene group, a biphenylene group or a naphthylene group, an alkyl group-substituted arylene group such as a tolylene group or a xylylene group, an alkoxyl group-substituted arylene group, a benzyl group or a phenethyl group. An aralkyl group, an aralkyl group-substituted arylene group, and the like. Among them, a substituted or unsubstituted phenylene group and a biphenylene group are preferable.

上記一般式(XXXII)〜(XXXIV)で示されるフェノール樹脂のなかで、低反り性の観点から好ましいフェノール樹脂を例示すれば、下記一般式(II)及び(XXXV)で示されるフェノール樹脂が挙げられる。   Of the phenol resins represented by the general formulas (XXXII) to (XXXIV), examples of preferred phenol resins from the viewpoint of low warpage include the phenol resins represented by the following general formulas (II) and (XXXV). It is done.

Figure 0005205907
(ここで、Rは水素原子、置換又は非置換の炭素数1〜12の一価の炭化水素基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。nは0又は1〜10の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, R is selected from a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and may be the same or different from each other. N represents 0 or an integer of 1 to 10). .)

Figure 0005205907
(ここで、Rは水素原子、置換又は非置換の炭素数1〜12の一価の炭化水素基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。n及びmは1〜10の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, R is selected from a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and may be the same or different. N and m represent an integer of 1 to 10. .)

一般式(II)及び(XXXV)中のRとしては、たとえば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基等の鎖状アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の環状アルキル基、ベンジル基、フェネチル基等のアリール基置換アルキル基、メトキシ基置換アルキル基、エトキシ基置換アルキル基、ブトキシ基置換アルキル基等のアルコキシ基置換アルキル基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のアミノ基置換アルキル基、水酸基置換アルキル基、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等の無置換アリール基、トリル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、ブチルフェニル基、t−ブチルフェニル基、ジメチルナフチル基等のアルキル基置換アリール基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、t−ブトキシフェニル基、メトキシナフチル基等のアルコキシ基置換アリール基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のアミノ基置換アリール基、水酸基置換アリール基などが挙げられ、なかでも水素原子又はメチル基が好ましく、たとえば下記一般式(XXXVI)及び(XXXII)で示されるフェノール樹脂等が挙げられる。また、n及びmは0又は1〜10の整数を示し、平均で6以下がより好ましい。   Examples of R in the general formulas (II) and (XXXV) include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group, a pentyl group, Chain alkyl groups such as hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, cyclic alkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, and aryl groups such as benzyl group and phenethyl group Substituted alkyl group, methoxy group substituted alkyl group, ethoxy group substituted alkyl group, alkoxy group substituted alkyl group such as butoxy group substituted alkyl group, amino group substituted alkyl group such as dimethylamino group, diethylamino group, hydroxyl group substituted alkyl group, phenyl group , Naphthyl group, biphenyl group and other unsubstituted aryl group, tolyl group, dimethyl group Alkyl group-substituted aryl groups such as ruphenyl group, ethylphenyl group, butylphenyl group, t-butylphenyl group, dimethylnaphthyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, t-butoxyphenyl group, methoxynaphthyl group, etc. An alkoxy group-substituted aryl group, an amino group-substituted aryl group such as a dimethylamino group and a diethylamino group, and a hydroxyl group-substituted aryl group. Among them, a hydrogen atom or a methyl group is preferable. For example, the following general formulas (XXXVI) and (XXXII) ) And the like. Moreover, n and m show 0 or the integer of 1-10, and 6 or less are more preferable on average.

Figure 0005205907
(ここで、nは0又は1〜10の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, n represents 0 or an integer of 1 to 10.)

Figure 0005205907
(ここで、n及びmは0又は1〜10の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, n and m represent 0 or an integer of 1 to 10.)

上記一般式(XXXVI)で示されるフェノール樹脂としては、市販品として明和化成株式会社製商品名MEH−7500が挙げられ、上記一般式(XXXVII)で示されるフェノール樹脂としては、市販品として住金エア・ウォーター・ケミカル株式会社製商品名HE510が挙げられる。   As the phenol resin represented by the above general formula (XXXVI), MEH-7500 manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd. can be mentioned as a commercially available product. As the phenol resin represented by the above general formula (XXXVII), Sumikin Air -Product name HE510 by Water Chemical Co., Ltd. is mentioned.

また、難燃性の観点からは、下記一般式(III)又は(XXXIX)で示されるフェノール・アラルキル樹脂又はナフトール・アラルキル樹脂が好ましい。   From the viewpoint of flame retardancy, a phenol / aralkyl resin or a naphthol / aralkyl resin represented by the following general formula (III) or (XXXIX) is preferable.

Figure 0005205907
(ここで、R〜Rは水素原子、置換又は非置換の炭素数1〜12の一価の炭化水素基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。iは0又は1〜3の整数を示し、nは0又は1〜10の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, R 1 to R 9 are selected from a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and may be the same or different from each other. I is 0 or 1-3. And n represents an integer of 0 or 1 to 10.)

Figure 0005205907
(ここで、Rは水素原子、置換又は非置換の炭素数1〜12の一価の炭化水素基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。iは0又は1〜3の整数を示し、nは0又は1〜10の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, R is selected from a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and may be the same or different. I represents an integer of 0 or 1-3. , N represents 0 or an integer of 1-10.)

一般式(III)中のR〜R及び一般式(XXXIX)中のRとしては、たとえば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基等の鎖状アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の環状アルキル基、ベンジル基、フェネチル基等のアリール基置換アルキル基、メトキシ基置換アルキル基、エトキシ基置換アルキル基、ブトキシ基置換アルキル基等のアルコキシ基置換アルキル基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のアミノ基置換アルキル基、水酸基置換アルキル基、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等の無置換アリール基、トリル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、ブチルフェニル基、t−ブチルフェニル基、ジメチルナフチル基等のアルキル基置換アリール基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、t−ブトキシフェニル基、メトキシナフチル基等のアルコキシ基置換アリール基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のアミノ基置換アリール基、水酸基置換アリール基などが挙げられ、なかでも水素原子又はメチル基が好ましく、たとえば下記一般式(XL)で示されるフェノール・アラルキル樹脂及び下記一般式(XLI)又は(XLII)で示されるナフトール・アラルキル樹脂等が挙げられる。nは0又は1〜10の整数を示し、平均で6以下がより好ましい。 R 1 to R 9 in the general formula (III) and R in the general formula (XXXIX) include, for example, a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, and a sec-butyl group. Chain alkyl groups such as t-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, cyclic alkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, Aryl group-substituted alkyl groups such as benzyl group and phenethyl group, methoxy group-substituted alkyl groups, ethoxy group-substituted alkyl groups, alkoxy group-substituted alkyl groups such as butoxy group-substituted alkyl groups, and amino group-substituted alkyl groups such as dimethylamino group and diethylamino group Groups, hydroxyl-substituted alkyl groups, phenyl groups, naphthyl groups, biphenyl groups, etc. Reel group, tolyl group, dimethylphenyl group, ethylphenyl group, butylphenyl group, t-butylphenyl group, dimethylnaphthyl group and other alkyl group-substituted aryl groups, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, t-butoxy Examples include an alkoxy group-substituted aryl group such as a phenyl group and a methoxynaphthyl group, an amino group-substituted aryl group such as a dimethylamino group and a diethylamino group, and a hydroxyl group-substituted aryl group. Among them, a hydrogen atom or a methyl group is preferable. Examples thereof include a phenol / aralkyl resin represented by the formula (XL) and a naphthol / aralkyl resin represented by the following general formula (XLI) or (XLII). n shows 0 or the integer of 1-10, and 6 or less is more preferable on average.

Figure 0005205907
(ここで、nは0又は1〜10の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, n represents 0 or an integer of 1 to 10.)

Figure 0005205907
(ここで、nは0又は1〜10の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, n represents 0 or an integer of 1 to 10.)

Figure 0005205907
(ここで、nは0又は1〜10の整数を示す。)
Figure 0005205907
(Here, n represents 0 or an integer of 1 to 10.)

上記一般式(XL)で示されるフェノール・アラルキル樹脂としては、市販品として明和化成株式会社製商品名MEH−7851が挙げられる。また上記一般式(XLI)で示されるナフトール・アラルキル樹脂としては、市販品として新日鐵化学株式会社製商品名SN−475が挙げられ、上記一般式(XLII)で示されるナフトール・アラルキル樹脂としては、市販品として新日鐵化学株式会社製商品名SN−170が挙げられる。   As a phenol aralkyl resin shown by the said general formula (XL), the product name MEH-7851 by Meiwa Kasei Co., Ltd. is mentioned as a commercial item. Moreover, as a naphthol aralkyl resin shown by the said general formula (XLI), Nippon Steel Chemical Co., Ltd. brand name SN-475 is mentioned as a commercial item, As a naphthol aralkyl resin shown by the said general formula (XLII) Is a product name SN-170 manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. as a commercial product.

上記一般式(XL)〜(XLII)で示されるフェノール・アラルキル樹脂及びナフトール・アラルキル樹脂は、難燃性の観点からその一部または全部がアセナフチレンと予備混合されていてもよい。アセナフチレンはアセナフテンを脱水素して得ることができるが、市販品を用いてもよい。また、アセナフチレンの重合物又はアセナフチレンと他の芳香族オレフィンとの重合物として用いることもできる。(B)硬化剤の一部又は全部とアセナフチレンとの予備混合の方法としては、(B)硬化剤及びアセナフチレンをそれぞれ微細に粉砕し固体状態のままミキサー等で混合する方法、両成分を溶解する溶媒に均一に溶解させた後溶媒を除去する方法、(B)硬化剤及び/又はアセナフチレンの軟化点以上の温度で両者を溶融混合する方法等で行うことができるが、均一な混合物が得られて不純物の混入が少ない溶融混合法が好ましい。その際、混合中にアセナフチレンが重合もしくは(B)硬化剤と反応しても構わない。   The phenol / aralkyl resins and naphthol / aralkyl resins represented by the general formulas (XL) to (XLII) may be partially or preliminarily mixed with acenaphthylene from the viewpoint of flame retardancy. Although acenaphthylene can be obtained by dehydrogenating acenaphthene, a commercially available product may be used. Further, it can be used as a polymer of acenaphthylene or a polymer of acenaphthylene and other aromatic olefins. (B) As a method of pre-mixing part or all of the curing agent with acenaphthylene, (B) a method of finely grinding the curing agent and acenaphthylene, respectively, and mixing them with a mixer or the like in a solid state, dissolving both components A method of removing the solvent after being uniformly dissolved in the solvent, (B) a method of melt-mixing both at a temperature equal to or higher than the softening point of the curing agent and / or acenaphthylene, etc. Therefore, a melt mixing method with less contamination of impurities is preferable. In that case, acenaphthylene may superpose | polymerize or react with (B) hardening | curing agent during mixing.

一般式(II)のフェノール樹脂(α)と一般式(III)のフェノール・アラルキル樹脂(β)を併用する事が好ましく、併用割合(水酸基のモル比)がフェノール樹脂(α)の水酸基/フェノール・アラルキル樹脂(β)の水酸基=0.1〜9の範囲であることが、反りと難燃性の観点からより好ましい。更に好ましくは0.5〜5、特に好ましくは0.3〜3の範囲が望ましい。   It is preferable to use the phenol resin (α) of the general formula (II) and the phenol aralkyl resin (β) of the general formula (III) together, and the combined ratio (molar ratio of hydroxyl group) is the hydroxyl group / phenol of the phenol resin (α). -It is more preferable from the viewpoint of curvature and flame retardance that the hydroxyl group of the aralkyl resin (β) is in the range of 0.1 to 9. More preferably, the range of 0.5 to 5, particularly preferably 0.3 to 3 is desirable.

本発明においては、上記の他に、封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用されている硬化剤を用いることが可能であり、たとえば、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール類及び/又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物を酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂、フェノール類及び/又はナフトール類とジメトキシパラキシレンやビス(メトキシメチル)ビフェニルから合成されるフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂、パラキシリレン及び/又はメタキシリレン変性フェノール樹脂、メラミン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂、シクロペンタジエン変性フェノール樹脂、多環芳香環変性フェノール樹脂などが挙げられ、これらの1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて併用してもよい。   In the present invention, in addition to the above, it is possible to use a curing agent generally used in an epoxy resin composition for sealing. For example, phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F , Phenols such as phenylphenol and aminophenol and / or naphthols such as α-naphthol, β-naphthol and dihydroxynaphthalene and compounds having an aldehyde group such as formaldehyde, acetaldehyde and propionaldehyde in an acidic catalyst Novolak-type phenolic resin, phenols and / or naphthols, phenol / aralkyl resins, naphthol / aralkyl resins, etc. synthesized from dimethoxyparaxylene or bis (methoxymethyl) biphenyl Aralkyl type phenol resin, paraxylylene and / or metaxylylene modified phenol resin, melamine modified phenol resin, terpene modified phenol resin, dicyclopentadiene modified phenol resin, cyclopentadiene modified phenol resin, polycyclic aromatic ring modified phenol resin, etc. One of these may be used alone, or two or more may be used in combination.

本発明に用いられる(C)エポキシ基を有するシリコーン化合物(ケイ素含有重合物)は、好ましくは、下記の結合(a)及び(b)を有し、末端がR、水酸基又はアルコキシ基であり、加熱後の反り量と初期反り変化量を低減させる為にエポキシ当量が600〜1400であれば特に制限はないが、例えば分岐状ポリシロキサンなどが挙げられる。より好ましくは900〜1400が望ましい。 The silicone compound (silicon-containing polymer) having (C) an epoxy group used in the present invention preferably has the following bonds (a) and (b), and the terminal is R 1 , a hydroxyl group or an alkoxy group. In order to reduce the warpage amount after heating and the initial warpage change amount, there is no particular limitation as long as the epoxy equivalent is 600 to 1400. Examples thereof include branched polysiloxane. More preferably, 900-1400 is desirable.

Figure 0005205907
(ここで、Rは置換または非置換の炭素数1〜12の1価の炭化水素基から選ばれ、シリコーン化合物中のRは互いに同一でも異なっていてもよい。Xはエポキシ基を含む1価の有機基を示し、シリコーン化合物中のXは互いに同一でも異なっていてもよい。)
Figure 0005205907
(Wherein, R 1 is selected from monovalent hydrocarbon groups of the substituted or unsubstituted 1 to 12 carbon atoms, R 1 in the silicone compound may be the same or different from each other .X comprises epoxy groups A monovalent organic group, and X in the silicone compound may be the same or different from each other.

上記一般式(a)及び(b)中のRとしてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられ、なかでもメチル基またはフェニル基が好ましい。また、上記一般式(b)中のXとしては2,3−エポキシプロピル基、3,4−エポキシブチル基、4,5−エポキシペンチル基、2−グリシドキシエチル基、3−グリシドキシプロピル基、4−グリシドキシブチル基、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基、3−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピル基等が挙げられ、中でも3−グリシドキシプロピル基が好ましい。また、(C)シリコーン化合物の末端は、重合物の保存安定性の点から前述のR、水酸基、又はアルコキシ基のいずれかである必要がある。この場合のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基が挙げられる。さらに、(C)シリコーン化合物のエポキシ当量は、600〜1400である。600より小さいと封止用エポキシ樹脂組成物の流動性が低下する傾向にあり、1400より大きいと加熱後の反り量と初期反り変化量を低減させることが難しく、また、硬化物表面に染み出しやすく、成形不良を起こし易い傾向にある。 R 1 in the general formulas (a) and (b) is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, or an octyl group. , Alkyl groups such as 2-ethylhexyl group, alkenyl groups such as vinyl group, allyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, biphenyl group, benzyl group And an aralkyl group such as a phenethyl group. Among them, a methyl group or a phenyl group is preferable. X in the general formula (b) is 2,3-epoxypropyl group, 3,4-epoxybutyl group, 4,5-epoxypentyl group, 2-glycidoxyethyl group, 3-glycidoxy Propyl group, 4-glycidoxybutyl group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, 3- (3,4-epoxycyclohexyl) propyl group and the like, among which 3-glycidoxypropyl group is mentioned. preferable. Moreover, the terminal of (C) silicone compound needs to be either the above-mentioned R < 1 >, a hydroxyl group, or an alkoxy group from the point of the storage stability of a polymer. Examples of the alkoxy group in this case include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group. Furthermore, the epoxy equivalent of (C) silicone compound is 600-1400. If it is smaller than 600, the fluidity of the epoxy resin composition for sealing tends to decrease. If it is larger than 1400, it is difficult to reduce the amount of warpage and the amount of initial warpage after heating, and the cured product surface oozes out. It tends to cause molding defects.

(C)シリコーン化合物はさらに下記の結合(c)を有することが得られる封止用エポキシ樹脂組成物の流動性と低反り性の両立の観点から好ましい。   (C) The silicone compound is preferable from the viewpoint of coexistence of fluidity and low warpage of the sealing epoxy resin composition obtained by further having the following bond (c).

Figure 0005205907
(ここで、Rは置換又は非置換の炭素数1〜12の1価の炭化水素基から選ばれ、シリコーン化合物中のRは互いに同一でも異なっていてもよい。)
Figure 0005205907
(Wherein, R 1 is selected from monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms substituted or unsubstituted, R 1 in the silicone compound may be the same or different from each other.)

上記一般式(c)中のRとしてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等のアリール基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基等が挙げられ、なかでもメチル基又はフェニル基が好ましい。 R 1 in the general formula (c) is methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, isopropyl group, isobutyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, 2-ethylhexyl. Alkyl groups such as vinyl groups, vinyl groups, allyl groups, butenyl groups, pentenyl groups, hexenyl groups and other alkenyl groups, phenyl groups, tolyl groups, xylyl groups, naphthyl groups, biphenyl groups and other aryl groups, benzyl groups, phenethyl groups, etc. And a methyl group or a phenyl group is preferable.

このような(C)シリコーン化合物の軟化点は40℃〜120℃に設定されることが好ましく、50℃〜100℃に設定されることがより好ましい。40℃より低いと得られる封止用エポキシ樹脂組成物の硬化物の機械強度が低下する傾向にあり、120℃より高いと封止用エポキシ樹脂組成物中への(C)シリコーン化合物の分散性が低下する傾向にある。(C)シリコーン化合物の軟化点を調整する方法としては、(C)シリコーン化合物の分子量、構成結合単位(例えば(a)〜(c)含有比率等)、ケイ素原子に結合している有機基の種類を設定することで可能であるが、特に封止用エポキシ樹脂組成物への(C)シリコーン化合物の分散性及び得られる封止用エポキシ樹脂組成物の流動性の観点から(C)シリコーン化合物中のアリール基の含有量を設定して軟化点を調整することが好ましい。この場合のアリール基とは、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられ、フェニル基がより好ましい。(C)シリコーン化合物中のケイ素原子に結合した一価の有機基中のフェニル基の含有量を、全有機基のモル数に対し、60モル%〜99モル%、好ましくは70モル%〜85モル%に設定することで所望の軟化点を有する(C)シリコーン化合物を得ることができる。   Such a softening point of the silicone compound (C) is preferably set to 40 ° C to 120 ° C, and more preferably set to 50 ° C to 100 ° C. If it is lower than 40 ° C, the mechanical strength of the cured product of the resulting epoxy resin composition for sealing tends to decrease. If it is higher than 120 ° C, the dispersibility of the (C) silicone compound in the epoxy resin composition for sealing Tend to decrease. (C) As a method for adjusting the softening point of the silicone compound, (C) the molecular weight of the silicone compound, the structural bond unit (for example, (a) to (c) content ratio, etc.), the organic group bonded to the silicon atom It is possible by setting the type, but in particular from the viewpoint of the dispersibility of the (C) silicone compound in the epoxy resin composition for sealing and the fluidity of the resulting epoxy resin composition for sealing (C) silicone compound It is preferable to adjust the softening point by setting the content of the aryl group therein. Examples of the aryl group in this case include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, and a biphenyl group, and a phenyl group is more preferable. (C) The content of the phenyl group in the monovalent organic group bonded to the silicon atom in the silicone compound is 60 mol% to 99 mol%, preferably 70 mol% to 85 mol, based on the number of moles of all organic groups. By setting the mol%, a (C) silicone compound having a desired softening point can be obtained.

(C)シリコーン化合物の重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定し標準ポリスチレン検量線を用いて換算した値で、好ましくは1000〜30000、より好ましくは2000〜20000、さらに好ましくは3000〜10000である。また、(C)シリコーン化合物は、ランダム共重合体であることが好ましい。   (C) The weight average molecular weight (Mw) of the silicone compound is a value measured by gel permeation chromatography (GPC) and converted using a standard polystyrene calibration curve, preferably 1000 to 30000, more preferably 2000 to 20000. More preferably, it is 3000-10000. Moreover, it is preferable that (C) silicone compound is a random copolymer.

(C)シリコーン化合物の製造方法は、特に制限なく公知の方法で製造することができる。例えば、加水分解縮合反応により上記(a)〜(c)単位を形成し得るオルガノクロロシラン、オルガノアルコキシシラン、シロキサン、あるいはそれらの部分加水分解縮合物を原料及び反応生成物を溶解可能な有機溶剤と原料のすべての加水分解性基を加水分解可能な量の水との混合溶液中に混合し、加水分解縮合反応させて得ることができる。この際、封止用エポキシ樹脂組成物中に不純物として含有される塩素量を低減させるためにオルガノアルコキシシラン及び/又はシロキサンを原料とすることが好ましい。この場合、反応を促進する触媒として、酸、塩基、有機金属化合物を添加することが好ましい。   (C) The manufacturing method of a silicone compound can be manufactured by a well-known method without a restriction | limiting in particular. For example, organochlorosilane, organoalkoxysilane, siloxane, or an organic solvent that can dissolve the raw materials and reaction products thereof, which can form the above units (a) to (c) by hydrolysis condensation reaction, and It can be obtained by mixing all the hydrolyzable groups of the raw material in a mixed solution with a hydrolyzable amount of water and subjecting it to a hydrolytic condensation reaction. At this time, in order to reduce the amount of chlorine contained as an impurity in the sealing epoxy resin composition, it is preferable to use organoalkoxysilane and / or siloxane as a raw material. In this case, it is preferable to add an acid, a base, or an organometallic compound as a catalyst for promoting the reaction.

(C)シリコーン化合物の原料となるオルガノアルコキシシラン及び/又はシロキサンとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、フェニルビニルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、フェニルビニルジエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピル(メチル)ジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピル(メチル)ジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピル(フェニル)ジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピル(フェニル)ジエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル(メチル)ジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル(メチル)ジエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル(フェニル)ジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル(フェニル)ジエトキシシラン、及びこれらの加水分解縮合物等が挙げられる。   (C) The organoalkoxysilane and / or siloxane used as a raw material for the silicone compound include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, and phenyl. Trimethoxysilane, phenyltoethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, phenylvinyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methylphenyldiethoxysilane, methylvinyldiethoxysilane, phenylvinyldiethoxysilane, Diphenyldiethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, dimethoxydiethoxysilane, -Glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyl (methyl) dimethoxysilane, 3-glycidoxypropyl (methyl) diethoxysilane, 3-glycidoxypropyl (Phenyl) dimethoxysilane, 3-glycidoxypropyl (phenyl) diethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl (methyl) dimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl (methyl) Examples include diethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl (phenyl) dimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl (phenyl) diethoxysilane, and hydrolytic condensates thereof. .

(C)シリコーン化合物の含有量は封止用エポキシ樹脂組成物全体の0.01重量%〜5重量%が好ましく、0.1〜4重量%がより好ましく、0.5重量%〜3重量%がさらに好ましい。   (C) The content of the silicone compound is preferably 0.01 wt% to 5 wt%, more preferably 0.1 to 4 wt%, and more preferably 0.5 wt% to 3 wt% of the entire epoxy resin composition for sealing. Is more preferable.

本発明においては、さらに硬化促進剤を用いることができ、用いられる硬化促進剤としては(E)第三級ホスフィン化合物とキノン化合物の付加反応物が好ましい。(E)第三級ホスフィン化合物とキノン化合物の付加反応物としては、封止用エポキシ樹脂組成物の硬化促進剤として作用するものであれば特に制限されるものではないが、中でも流動性の観点から下記一般式(XLIII)で示されるホスフィン化合物と下記一般式(XLIV)で示されるキノン化合物との付加反応物が好ましい。   In the present invention, a curing accelerator can be further used. As the curing accelerator to be used, an addition reaction product of (E) a tertiary phosphine compound and a quinone compound is preferable. (E) The addition reaction product of the tertiary phosphine compound and the quinone compound is not particularly limited as long as it acts as a curing accelerator for the epoxy resin composition for sealing. To an addition reaction product of a phosphine compound represented by the following general formula (XLIII) and a quinone compound represented by the following general formula (XLIV).

Figure 0005205907
(ここで、式(XLIII)中のR〜Rは、置換又は非置換の炭素数1〜12のアルキル基もしくは置換又は非置換の炭素数6〜12のアリール基を示し、互いに同一でも異なっていてもよい。また、式(XLIV)中のR〜Rは、水素原子または炭素数1〜12の炭化水素基を示し、互いに同一でも異なっていてもよく、RとRが結合して環状構造となっていてもよい。)
Figure 0005205907
(Wherein R 1 to R 3 in formula (XLIII) represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, R 4 to R 6 in formula (XLIV) represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and may be the same as or different from each other, and R 4 and R 5 May be combined to form a ring structure.)

上記一般式(XLIII)中のR〜Rは、置換又は非置換の炭素数1〜12のアルキル基もしくは置換又は非置換の炭素数6〜12のアリール基を示すが、置換又は非置換の炭素数1〜12のアルキル基としては特に制限はなく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基等の鎖状アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の環状アルキル基、ベンジル基、フェネチル基等のアリール基置換アルキル基、メトキシ基置換アルキル基、エトキシ基置換アルキル基、ブトキシ基置換アルキル基等のアルコキシ基置換アルキル基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のアミノ基置換アルキル基、水酸基置換アルキル基などが挙げられる。 R 1 to R 3 in the general formula (XLIII) represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, but are substituted or unsubstituted. There is no restriction | limiting in particular as a C1-C12 alkyl group of, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group Chain alkyl groups such as octyl group, decyl group and dodecyl group, cyclic alkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclopentenyl group and cyclohexenyl group, aryl group-substituted alkyl such as benzyl group and phenethyl group Group, methoxy group-substituted alkyl group, ethoxy group-substituted alkyl group, butoxy group-substituted alkyl group, etc. Chiruamino group, an amino group-substituted alkyl group such as a diethylamino group, a hydroxyl group-substituted alkyl group.

置換又は非置換の炭素数6〜12のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等の無置換アリール基、トリル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、ブチルフェニル基、t−ブチルフェニル基、ジメチルナフチル基等のアルキル基置換アリール基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、t−ブトキシフェニル基、メトキシナフチル基等のアルコキシ基置換アリール基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のアミノ基置換アリール基、水酸基置換アリール基などが挙げられる。   Examples of the substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms include unsubstituted aryl groups such as phenyl group and naphthyl group, tolyl group, dimethylphenyl group, ethylphenyl group, butylphenyl group, and t-butylphenyl group. Alkyl group-substituted aryl groups such as dimethylnaphthyl group, alkoxy group-substituted aryl groups such as methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, t-butoxyphenyl group and methoxynaphthyl group, amino such as dimethylamino group and diethylamino group Examples include a group-substituted aryl group and a hydroxyl group-substituted aryl group.

上記一般式(XLIII)で示されるホスフィン化合物を例示するとトリフェニルホスフィン、ジフェニル−p−トリルホスフィン、トリ−p−トリルホスフィン、ジフェニル−p−メトキシフェニルホスフィン、トリ−p−メトキシフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、ジシクロヘキシル−p−トリルホスフィン、シクロヘキシルジフェニルホスフィン、シクロヘキシルジ−p−トリルホスフィン、トリブチルホスフィン、ジブチルフェニルホスフィン、ジブチル−p−トリルホスフィン、ブチルジフェニルホスフィン、ブチルジ−p−トリルホスフィン、トリオクチルホスフィン、ジオクチルフェニルホスフィン、ジオクチル−p−トリルホスフィン、オクチルジフェニルホスフィン、オクチルジ−p−トリルホスフィン等が挙げられ、中でも流動性と硬化性の観点からはトリフェニルホスフィンまたはトリブチルホスフィンが好ましい。   Examples of the phosphine compound represented by the general formula (XLIII) include triphenylphosphine, diphenyl-p-tolylphosphine, tri-p-tolylphosphine, diphenyl-p-methoxyphenylphosphine, tri-p-methoxyphenylphosphine, and tricyclohexyl. Phosphine, dicyclohexylphenylphosphine, dicyclohexyl-p-tolylphosphine, cyclohexyldiphenylphosphine, cyclohexyldi-p-tolylphosphine, tributylphosphine, dibutylphenylphosphine, dibutyl-p-tolylphosphine, butyldiphenylphosphine, butyldi-p-tolylphosphine, Trioctylphosphine, dioctylphenylphosphine, dioctyl-p-tolylphosphine, octyldiphenylphosphine Emissions, include octyl di -p- tolyl phosphine, triphenylphosphine or tributylphosphine is preferred from the viewpoint of inter alia curing fluidity properties.

上記一般式(XLIV)中のR〜Rは、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を示すが、炭素数1〜12の炭化水素基としては特に制限はなく、例えば、置換又は非置換の炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基、置換又は非置換の炭素数1〜12の脂環式炭化水素基、置換又は非置換の炭素数1〜12の芳香族炭化水素基等が挙げられる。 R 4 to R 6 in the general formula (XLIV) represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, but the hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms is not particularly limited. Or an unsubstituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alicyclic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. Etc.

置換又は非置換の炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基等のアルキル基、アリル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシル基、n−ブトキシ基、t−ブトキシ基等のアルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のアルキルアミノ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基、ドデシルチオ基等のアルキルチオ基、アミノ基置換アルキル基、アルコキシ置換アルキル基、水酸基置換アルキル基、アリール基置換アルキル基等の置換アルキル基、アミノ基置換アルコキシ基、水酸基置換アルコキシ基、アリール基置換アルコキシ基等の置換アルコキシ基などが挙げられる。   Examples of the substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group, and a pentyl group. , Alkyl groups such as hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, allyl group, methoxy group, ethoxy group, propoxyl group, n-butoxy group, alkoxy group such as t-butoxy group, dimethylamino group, diethylamino group Alkylamino groups such as methylthio group, ethylthio group, butylthio group, dodecylthio group and other alkylthio groups, amino group substituted alkyl groups, alkoxy substituted alkyl groups, hydroxyl group substituted alkyl groups, substituted alkyl groups such as aryl group substituted alkyl groups, amino Substituents such as group-substituted alkoxy groups, hydroxyl group-substituted alkoxy groups, aryl group-substituted alkoxy groups, etc. Such as alkoxy groups.

置換又は非置換の炭素数1〜12の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等及びこれらにアルキル基、アルコキシ基、アリール基、水酸基、アミノ基、ハロゲン等が置換したものなどが挙げられる。   Examples of the substituted or unsubstituted alicyclic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include, for example, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclopentenyl group, a cyclohexenyl group, and the like, and an alkyl group, an alkoxy group, and an aryl group. Examples thereof include those substituted with a group, a hydroxyl group, an amino group, halogen and the like.

置換又は非置換の炭素数1〜12の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、トリル基等のアリール基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、ブチルフェニル基、t−ブチルフェニル基等のアルキル基置換アリール基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、t−ブトキシフェニル基等のアルコキシ基置換アリール基、フェノキシ基、クレゾキシ基等のアリーロキシ基、フェニルチオ基、トリルチオ基、ジフェニルアミノ基など、及びこれらにアミノ基、ハロゲン等が置換したもの等が挙げられる。   Examples of the substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include an aryl group such as a phenyl group and a tolyl group, a dimethylphenyl group, an ethylphenyl group, a butylphenyl group, and a t-butylphenyl group. Alkyl group substituted aryl groups, alkoxy groups substituted aryl groups such as methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, t-butoxyphenyl group, aryloxy groups such as phenoxy group, crezoxy group, phenylthio group, tolylthio group, diphenylamino group And those substituted with an amino group, halogen or the like.

また、上記一般式(XLIV)で示されるキノン化合物は、RとRが結合し環状構造となっていてもよい。本発明において用いられる、RとRが結合して環状構造をとる多環式のキノン化合物としては、特に制限はないが、例えば、置換したテトラメチレン基、テトラメチン基等が結合した下記一般式(XLV)〜(XLVII)で示される多環式キノン化合物等が挙げられる。 Further, the quinone compound represented by the general formula (XLIV) may have a cyclic structure in which R 4 and R 5 are bonded. The polycyclic quinone compound having a cyclic structure by bonding R 4 and R 5 used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include the following general groups in which a substituted tetramethylene group, tetramethine group and the like are bonded. And polycyclic quinone compounds represented by the formulas (XLV) to (XLVII).

Figure 0005205907
Figure 0005205907

上記一般式(XLIV)で示されるキノン化合物を例示すると1,4−ベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−1,4ベンゾキノン、2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノン、メトキシ−1,4−ベンゾキノン、2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノン、2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノン、メチル−1,4−ベンゾキノン、2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノン、t−ブチル−1,4−ベンゾキノン、フェニル−1,4−ベンゾキノン等が挙げられ、中でも流動性や硬化性の観点からは1,4−ベンゾキノンが好ましい。   Examples of the quinone compound represented by the general formula (XLIV) include 1,4-benzoquinone, 2,3-dimethoxy-1,4benzoquinone, 2,5-dimethoxy-1,4-benzoquinone, methoxy-1,4-benzoquinone. 2,3-dimethyl-1,4-benzoquinone, 2,5-dimethyl-1,4-benzoquinone, methyl-1,4-benzoquinone, 2,5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone, t -Butyl-1,4-benzoquinone, phenyl-1,4-benzoquinone and the like can be mentioned, among which 1,4-benzoquinone is preferable from the viewpoint of fluidity and curability.

上記一般式(XLIII)で示されるホスフィン化合物と上記一般式(XLIV)で示されるキノン化合物の付加反応物の構造としては、例えば、下記一般式(XLVIII)で示される化合物が挙げられる。   Examples of the structure of the addition reaction product of the phosphine compound represented by the general formula (XLIII) and the quinone compound represented by the general formula (XLIV) include compounds represented by the following general formula (XLVIII).

Figure 0005205907
(ここで、R〜Rは、置換又は非置換の炭素数1〜12のアルキル基もしくは置換又は非置換の炭素数6〜12のアリール基を示し、互いに同一でも異なっていてもよい。R〜Rは水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を示し、互いに同一でも、異なっていてもよく、RとRが結合して環状構造となっていてもよい。)
Figure 0005205907
(Here, R 1 to R 3 represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and may be the same as or different from each other. R 4 to R 6 represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and may be the same as or different from each other, and R 4 and R 5 may be bonded to form a cyclic structure.

(E)第三級ホスフィン化合物とキノン化合物の付加反応物を例示するとトリフェニルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリシクロヘキシルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリシクロヘキシルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリシクロヘキシルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリシクロヘキシルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリシクロヘキシルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリシクロヘキシルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリシクロヘキシルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジフェニルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジフェニルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジフェニルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジフェニルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジフェニルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジフェニルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジ−p−トリルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジ−p−トリルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジ−p−トリルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジ−p−トリルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジ−p−トリルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジ−p−トリルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジ−p−トリルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシルフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシルフェニルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシルフェニルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシルフェニルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシルフェニルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシルフェニルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシルフェニルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシルフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシル−p−トリルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシル−p−トリルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシル−p−トリルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシル−p−トリルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシル−p−トリルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシル−p−トリルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシル−p−トリルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシル−p−トリルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリブチルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリブチルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリブチルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリブチルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリブチルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリブチルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリブチルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジブチルフェニルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジブチルフェニルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジブチルフェニルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジブチルフェニルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジブチルフェニルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジブチルフェニルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジブチル−p−トリルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジブチル−p−トリルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジブチル−p−トリルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジブチル−p−トリルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジブチル−p−トリルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジブチル−p−トリルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジフェニルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジフェニルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジフェニルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジフェニルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジフェニルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジフェニルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジ−p−トリルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジ−p−トリルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジ−p−トリルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジ−p−トリルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジ−p−トリルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジ−p−トリルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジ−p−トリルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリオクチルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリオクチルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリオクチルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリオクチルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリオクチルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリオクチルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリオクチルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチルフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチルフェニルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチルフェニルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチルフェニルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチルフェニルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチルフェニルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチルフェニルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチル−p−トリルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチル−p−トリルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチル−p−トリルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチル−p−トリルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチル−p−トリルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチル−p−トリルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチル−p−トリルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジフェニルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジフェニルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジフェニルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジフェニルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジフェニルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジフェニルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジ−p−トリルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジ−p−トリルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジ−p−トリルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジ−p−トリルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジ−p−トリルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジ−p−トリルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジ−p−トリルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリフェニルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリフェニルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリフェニルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリフェニルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリフェニルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリフェニルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−トリルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−トリルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−トリルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−トリルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−トリルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−トリルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−トリルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−トリルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−トリルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−トリルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−トリルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−トリルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−トリルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−ト
リルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−メトキシフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−メトキシフェニルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−メトキシフェニルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−メトキシフェニルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−メトキシフェニルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−メトキシフェニルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−メトキシフェニルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−メトキシフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−メトキシフェニルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−メトキシフェニルホスフィンと2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−メトキシフェニルホスフィンと2,5−ジメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−メトキシフェニルホスフィンとメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−メトキシフェニルホスフィンと2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−メトキシフェニルホスフィンと2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリフェニルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリシクロヘキシルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリブチルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリオクチルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシルフェニルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジブチルフェニルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチルフェニルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジフェニルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジフェニルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジフェニルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシル−p−トリルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジブチル−p−トリルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチル−p−トリルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジ−p−トリルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジ−p−トリルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジ−p−トリルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリフェニルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−トリルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−メトキシフェニルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−トリルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−メトキシフェニルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリフェニルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリシクロヘキシルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリブチルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリオクチルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシルフェニルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジブチルフェニルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチルフェニルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジフェニルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジフェニルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジフェニルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシル−p−トリルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジブチル−p−トリルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチル−p−トリルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジ−p−トリルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジ−p−トリルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジ−p−トリルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリフェニルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−トリルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−メトキシフェニルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−トリルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−メトキシフェニルホスフィンと2,5−ジ−t−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリフェニルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリシクロヘキシルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリブチルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリオクチルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシルフェニルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジブチルフェニルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチルフェニルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジフェニルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジフェニルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジフェニルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシル−p−トリルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジブチル−p−トリルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジオクチル−p−トリルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジ−p−トリルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ブチルジ−p−トリルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、オクチルジ−p−トリルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリフェニルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−トリルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−メトキシフェニルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−トリルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリ−p−メトキシフェニルホスフィンとフェニル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物等が挙げられる。
(E) An example of an addition reaction product of a tertiary phosphine compound and a quinone compound is an addition reaction product of triphenylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, an addition reaction product of tricyclohexylphosphine and 1,4-benzoquinone, Addition reaction product of tricyclohexylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, Addition reaction product of tricyclohexylphosphine and 2,3-dimethyl-1,4-benzoquinone, Tricyclohexylphosphine and 2,5-dimethyl-1, Addition reaction product of 4-benzoquinone, addition reaction product of tricyclohexylphosphine and methoxy-1,4-benzoquinone, addition reaction product of tricyclohexylphosphine and 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, tricyclohexylphosphine And 2,5-dimethoxy-1,4-ben Addition reaction product of quinone, addition reaction product of cyclohexyldiphenylphosphine and 1,4-benzoquinone, addition reaction product of cyclohexyldiphenylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, cyclohexyldiphenylphosphine and 2,3-dimethyl-1 , 4-benzoquinone addition reaction product, cyclohexyldiphenylphosphine and 2,5-dimethyl-1,4-benzoquinone addition reaction product, cyclohexyldiphenylphosphine and methoxy-1,4-benzoquinone addition reaction product, cyclohexyldiphenyl Addition reaction product of phosphine and 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, addition reaction product of cyclohexyl diphenylphosphine and 2,5-dimethoxy-1,4-benzoquinone, cyclohexyl di-p-tolylphosphine and 1, -Addition reaction product of benzoquinone, addition reaction product of cyclohexyldi-p-tolylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, cyclohexyldi-p-tolylphosphine and 2,3-dimethyl-1,4-benzoquinone Addition reaction product, addition reaction product of cyclohexyldi-p-tolylphosphine and 2,5-dimethyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of cyclohexyldi-p-tolylphosphine and methoxy-1,4-benzoquinone, Addition reaction product of cyclohexyldi-p-tolylphosphine and 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, addition reaction product of cyclohexyldi-p-tolylphosphine and 2,5-dimethoxy-1,4-benzoquinone, Dicyclohexyl phenylphosphine and 1,4-benzoquinone addition reaction product, dicyclohexyl Addition reaction product of ruphenylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, Addition reaction product of dicyclohexylphenylphosphine and 2,3-dimethyl-1,4-benzoquinone, Dicyclohexylphenylphosphine and 2,5-dimethyl-1, Addition reaction product of 4-benzoquinone, addition reaction product of dicyclohexylphenylphosphine and methoxy-1,4-benzoquinone, addition reaction product of dicyclohexylphenylphosphine and 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, dicyclohexylphenylphosphine Reaction product of 2,5-dimethoxy-1,4-benzoquinone, addition reaction product of dicyclohexylphenylphosphine and 1,4-benzoquinone, addition reaction product of dicyclohexyl-p-tolylphosphine and 1,4-benzoquinone , Addition reaction product of hexyl-p-tolylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of dicyclohexyl-p-tolylphosphine and 2,3-dimethyl-1,4-benzoquinone, dicyclohexyl-p-tolylphosphine And 2,5-dimethyl-1,4-benzoquinone addition reaction product, dicyclohexyl-p-tolylphosphine and methoxy-1,4-benzoquinone addition reaction product, dicyclohexyl-p-tolylphosphine and 2,3-dimethoxy -1,4-benzoquinone addition reaction product, dicyclohexyl-p-tolylphosphine and 2,5-dimethoxy-1,4-benzoquinone addition reaction product, dicyclohexyl-p-tolylphosphine and 1,4-benzoquinone Addition product, tributylphosphine and 1,4-benzoquinone Addition reaction product, addition reaction product of tributylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of tributylphosphine and 2,3-dimethyl-1,4-benzoquinone, tributylphosphine and 2,5-dimethyl-1 , 4-benzoquinone addition reaction product, tributylphosphine and methoxy-1,4-benzoquinone addition reaction product, tributylphosphine and 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone addition reaction product, tributylphosphine and 2 , 5-Dimethoxy-1,4-benzoquinone addition reaction product, dibutylphenylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone addition reaction product, dibutylphenylphosphine and 2,3-dimethyl-1,4-benzoquinone Addition products, dibutylphenylphosphine and 2,5-dimethyl-1,4-benzo Addition reaction product of quinone, addition reaction product of dibutylphenylphosphine and methoxy-1,4-benzoquinone, addition reaction product of dibutylphenylphosphine and 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, dibutylphenylphosphine and 2 , 5-Dimethoxy-1,4-benzoquinone addition reaction, dibutyl-p-tolylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone addition reaction, dibutyl-p-tolylphosphine and 2,3-dimethyl-1 , 4-benzoquinone addition reaction product, dibutyl-p-tolylphosphine and 2,5-dimethyl-1,4-benzoquinone addition reaction product, dibutyl-p-tolylphosphine and methoxy-1,4-benzoquinone Addition reactant, dibutyl-p-tolylphosphine and 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone Addition reaction product, addition reaction product of dibutyl-p-tolylphosphine and 2,5-dimethoxy-1,4-benzoquinone, addition reaction product of butyldiphenylphosphine and 1,4-benzoquinone, butyldiphenylphosphine and methyl-1 , 4-benzoquinone addition reaction, butyldiphenylphosphine and 2,3-dimethyl-1,4-benzoquinone addition reaction, butyldiphenylphosphine and 2,5-dimethyl-1,4-benzoquinone addition reaction Product, addition reaction product of butyldiphenylphosphine and methoxy-1,4-benzoquinone, addition reaction product of butyldiphenylphosphine and 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, butyldiphenylphosphine and 2,5-dimethoxy- Addition reaction product with 1,4-benzoquinone, butyl di-p-tolylphos Addition reaction product of benzene and 1,4-benzoquinone, addition reaction product of butyldi-p-tolylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, butyldi-p-tolylphosphine and 2,3-dimethyl-1,4 -Addition reaction product of benzoquinone, addition reaction product of butyldi-p-tolylphosphine and 2,5-dimethyl-1,4-benzoquinone, addition reaction of butyldi-p-tolylphosphine and methoxy-1,4-benzoquinone Product, addition reaction product of butyldi-p-tolylphosphine and 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, addition reaction product of butyldi-p-tolylphosphine and 2,5-dimethoxy-1,4-benzoquinone, Addition reaction product of trioctylphosphine and 1,4-benzoquinone, addition reaction of trioctylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone Reaction product, addition reaction product of trioctylphosphine and 2,3-dimethyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of trioctylphosphine and 2,5-dimethyl-1,4-benzoquinone, trioctylphosphine and methoxy- Addition reaction product of 1,4-benzoquinone, addition reaction product of trioctylphosphine and 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, addition of trioctylphosphine and 2,5-dimethoxy-1,4-benzoquinone Reaction product, addition reaction product of dioctylphenylphosphine and 1,4-benzoquinone, addition reaction product of dioctylphenylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, dioctylphenylphosphine and 2,3-dimethyl-1,4-benzoquinone Addition reaction product with dioctylphenylphosphine and 2,5-dimethyl-1 Addition reaction product of 4-benzoquinone, addition reaction product of dioctylphenylphosphine and methoxy-1,4-benzoquinone, addition reaction product of dioctylphenylphosphine and 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, dioctylphenylphosphine And 2,5-dimethoxy-1,4-benzoquinone addition reaction product, dioctyl-p-tolylphosphine and 1,4-benzoquinone addition reaction product, dioctyl-p-tolylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone Reaction product of dioctyl-p-tolylphosphine with 2,3-dimethyl-1,4-benzoquinone, dioctyl-p-tolylphosphine with 2,5-dimethyl-1,4-benzoquinone Addition reactants, dioctyl-p-tolylphosphine and methoxy-1,4-benzox Reaction product of dioctyl-p-tolylphosphine and 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, dioctyl-p-tolylphosphine and 2,5-dimethoxy-1,4-benzoquinone Addition reaction product of octyldiphenylphosphine and 1,4-benzoquinone, addition reaction product of octyldiphenylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, octyldiphenylphosphine and 2,3-dimethyl-1,4 -Addition reaction product of benzoquinone, addition reaction product of octyldiphenylphosphine and 2,5-dimethyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of octyldiphenylphosphine and methoxy-1,4-benzoquinone, octyldiphenylphosphine and Addition reaction product with 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone Addition reaction product of octyldiphenylphosphine and 2,5-dimethoxy-1,4-benzoquinone, addition reaction product of octyldi-p-tolylphosphine and 1,4-benzoquinone, octyldi-p-tolylphosphine and methyl-1 , 4-benzoquinone addition reaction, octyldi-p-tolylphosphine and 2,3-dimethyl-1,4-benzoquinone addition reaction, octyldi-p-tolylphosphine and 2,5-dimethyl-1,4 -Addition reaction product of benzoquinone, addition reaction product of octyldi-p-tolylphosphine and methoxy-1,4-benzoquinone, addition reaction of octyldi-p-tolylphosphine and 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone Product, addition reaction between octyldi-p-tolylphosphine and 2,5-dimethoxy-1,4-benzoquinone Product, addition reaction product of triphenylphosphine and 1,4-benzoquinone, addition reaction product of triphenylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, triphenylphosphine and 2,3-dimethyl-1,4-benzoquinone Addition reaction product of triphenylphosphine and 2,5-dimethyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of triphenylphosphine and methoxy-1,4-benzoquinone, triphenylphosphine and 2,3 -Addition reaction product of dimethoxy-1,4-benzoquinone, addition reaction product of triphenylphosphine and 2,5-dimethoxy-1,4-benzoquinone, addition of diphenyl-p-tolylphosphine and 1,4-benzoquinone Reaction product, addition reaction product of diphenyl-p-tolylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone Addition reaction product of diphenyl-p-tolylphosphine and 2,3-dimethyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of diphenyl-p-tolylphosphine and 2,5-dimethyl-1,4-benzoquinone, diphenyl- Addition reaction product of p-tolylphosphine and methoxy-1,4-benzoquinone, addition reaction product of diphenyl-p-tolylphosphine and 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, diphenyl-p-tolylphosphine and 2 , 5-dimethoxy-1,4-benzoquinone addition reaction product, tri-p-tolylphosphine and 1,4-benzoquinone addition reaction product, tri-p-tolylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone Addition reaction product, addition reaction product of tri-p-tolylphosphine and 2,3-dimethyl-1,4-benzoquinone, tri-p-to Addition reaction product of rylphosphine and 2,5-dimethyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of tri-p-tolylphosphine and methoxy-1,4-benzoquinone, tri-p-tolylphosphine and 2,3 -Addition reaction product of dimethoxy-1,4-benzoquinone, addition reaction product of tri-p-tolylphosphine and 2,5-dimethoxy-1,4-benzoquinone, tri-p-methoxyphenylphosphine and 1,4- Addition reaction product of benzoquinone, addition reaction product of tri-p-methoxyphenylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, addition of tri-p-methoxyphenylphosphine and 2,3-dimethyl-1,4-benzoquinone Reaction product, addition reaction product of tri-p-methoxyphenylphosphine and 2,5-dimethyl-1,4-benzoquinone, tri-p-meth Addition reaction product of siphenylphosphine and methoxy-1,4-benzoquinone, addition reaction product of tri-p-methoxyphenylphosphine and 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, tri-p-methoxyphenylphosphine Addition reaction product of 2,5-dimethoxy-1,4-benzoquinone, addition reaction product of diphenyl-p-methoxyphenylphosphine and 1,4-benzoquinone, diphenyl-p-methoxyphenylphosphine and methyl-1,4- Addition reaction product of benzoquinone, addition reaction product of diphenyl-p-methoxyphenylphosphine and 2,3-dimethyl-1,4-benzoquinone, diphenyl-p-methoxyphenylphosphine and 2,5-dimethyl-1,4- Addition reaction product with benzoquinone, diphenyl-p-methoxyphenylphosphine and Addition reaction product with toxi-1,4-benzoquinone, addition reaction product of diphenyl-p-methoxyphenylphosphine and 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, diphenyl-p-methoxyphenylphosphine and 2,5- Addition reaction product of dimethoxy-1,4-benzoquinone, addition reaction product of triphenylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of tricyclohexylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone Addition reaction product of tributylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of trioctylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone, dicyclohexylphenylphosphine and t-butyl-1,4- Addition reaction product with benzoquinone, dibutylphenylphosphine and t-butyl-1,4 -Addition reaction product of benzoquinone, addition reaction product of dioctylphenylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of cyclohexyldiphenylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone, butyldiphenylphosphine and Addition reaction product of t-butyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of octyldiphenylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone, dicyclohexyl-p-tolylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone An addition reaction product of dibutyl-p-tolylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone, an addition reaction product of dioctyl-p-tolylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone, Cyclohexyl di-p-tolylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquino An addition reaction product of butyldi-p-tolylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone, an addition reaction product of octyldi-p-tolylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone, Addition reaction product of triphenylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of diphenyl-p-tolylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone, diphenyl-p-methoxyphenylphosphine and t -Addition reaction product of butyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of tri-p-tolylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone, tri-p-methoxyphenylphosphine and t-butyl-1, Addition reaction product of 4-benzoquinone, addition reaction of triphenylphosphine and 2,5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone Product, addition reaction product of tricyclohexylphosphine and 2,5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of tributylphosphine and 2,5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone , Addition reaction product of trioctylphosphine and 2,5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of dicyclohexylphenylphosphine and 2,5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone , Addition reaction product of dibutylphenylphosphine and 2,5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of dioctylphenylphosphine and 2,5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone Addition reaction product of cyclohexyldiphenylphosphine and 2,5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone, butyldiphenylphosphine and 2,5- Addition reaction product of di-t-butyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of octyldiphenylphosphine and 2,5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone, dicyclohexyl-p-tolylphosphine and 2 , 5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone addition reaction product, dibutyl-p-tolylphosphine and 2,5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone addition reaction product, dioctyl- Addition reaction product of p-tolylphosphine and 2,5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone, cyclohexyl di-p-tolylphosphine and 2,5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone Addition reaction product of butyldi-p-tolylphosphine and 2,5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone, octyldi-p-tolylphosphine and 2,5-di- -Addition reaction product of butyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of triphenylphosphine and 2,5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone, diphenyl-p-tolylphosphine and 2,5- Addition reaction product of di-t-butyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of diphenyl-p-methoxyphenylphosphine and 2,5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone, tri-p- Addition reaction product of tolylphosphine and 2,5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone, addition of tri-p-methoxyphenylphosphine and 2,5-di-t-butyl-1,4-benzoquinone Reaction product, addition reaction product of triphenylphosphine and phenyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of tricyclohexylphosphine and phenyl-1,4-benzoquinone, Addition reaction product of tilphosphine and phenyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of trioctylphosphine and phenyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of dicyclohexylphenylphosphine and phenyl-1,4-benzoquinone, Addition reaction product of dibutylphenylphosphine and phenyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of dioctylphenylphosphine and phenyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of cyclohexyldiphenylphosphine and phenyl-1,4-benzoquinone Addition reaction product of butyldiphenylphosphine and phenyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of octyldiphenylphosphine and phenyl-1,4-benzoquinone, dicyclohexyl-p-tolylphosphine and phenyl-1,4-benzoquinone Reaction product of dibutyl-p-tolylphosphine with phenyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of dioctyl-p-tolylphosphine with phenyl-1,4-benzoquinone, cyclohexyldi-p -Addition reaction product of tolylphosphine and phenyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of butyldi-p-tolylphosphine and phenyl-1,4-benzoquinone, octyldi-p-tolylphosphine and phenyl-1,4- Addition reaction product of benzoquinone, addition reaction product of triphenylphosphine and phenyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of diphenyl-p-tolylphosphine and phenyl-1,4-benzoquinone, diphenyl-p-methoxyphenyl Addition reaction product of phosphine and phenyl-1,4-benzoquinone, tri-p Addition reaction product of an tolylphosphine and phenyl-1,4-benzoquinone, an addition reaction products of the avian -p- methoxyphenyl phosphine and phenyl-1,4-benzoquinone and the like.

上記のなかでも、ホスフィン化合物とキノン化合物との反応性の観点からは、トリフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−トリルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−メトキシフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシルフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリシクロヘキシルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリオクチルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリブチルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリオクチルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリフェニルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−トリルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジフェニル−p−メトキシフェニルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、シクロヘキシルジフェニルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、ジシクロヘキシルフェニルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリシクロヘキシルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリオクチルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物、トリブチルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物及びトリオクチルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加反応物が好ましい。また、流動性と硬化性の観点からは、トリフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物及びトリブチルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物がさらに好ましい。   Among these, from the viewpoint of the reactivity between the phosphine compound and the quinone compound, addition reaction product of triphenylphosphine and 1,4-benzoquinone, addition reaction of diphenyl-p-tolylphosphine and 1,4-benzoquinone. , Addition reaction product of diphenyl-p-methoxyphenylphosphine and 1,4-benzoquinone, addition reaction product of cyclohexyldiphenylphosphine and 1,4-benzoquinone, addition reaction product of dicyclohexylphenylphosphine and 1,4-benzoquinone Addition reaction product of tricyclohexylphosphine and 1,4-benzoquinone, addition reaction product of trioctylphosphine and 1,4-benzoquinone, addition reaction product of tributylphosphine and 1,4-benzoquinone, trioctylphosphine and 1 , 4-Benzoquinone addition reaction product Addition reaction product of triphenylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of diphenyl-p-tolylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, diphenyl-p-methoxyphenylphosphine and methyl-1,4 -Addition reaction product of benzoquinone, addition reaction product of cyclohexyldiphenylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of dicyclohexylphenylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, tricyclohexylphosphine and methyl-1, Addition reaction product of 4-benzoquinone, addition reaction product of trioctylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, addition reaction product of tributylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, and trioctylphosphine and methyl-1, Addition with 4-benzoquinone Applied Physics is preferable. Further, from the viewpoint of fluidity and curability, an addition reaction product of triphenylphosphine and 1,4-benzoquinone and an addition reaction product of tributylphosphine and 1,4-benzoquinone are more preferable.

(E)第三級ホスフィン化合物とキノン化合物の付加反応物の製造方法としては特に制限はないが、例えば、原料として用いられるホスフィン化合物とキノン化合物とを両者が溶解する有機溶媒中で付加反応させて単離する方法が挙げられる。具体的には、トリフェニルホスフィン41.6g(1モル)をアセトン120gに溶解したものと、1,4−ベンゾキノン17.6g(1モル)をアセトン80gに溶解したものとを、室温〜80℃で混合し、2〜5時間放置後析出した黄褐色結晶をろ過して採取する方法で製造することができる。この際の溶剤としてはアセトンの代わりにアセトンとトルエンの混合溶剤等を用いてもよい。また、(B)フェノール性水酸基を有する硬化剤として用いるフェノール樹脂中で付加反応させる方法等でも製造可能であり、この場合、付加反応物を単離せずにそのままフェノール樹脂中に溶解した状態で、エポキシ樹脂組成物の配合成分として用いることができる。   (E) Although there is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the addition reaction product of a tertiary phosphine compound and a quinone compound, For example, an phosphine compound used as a raw material and a quinone compound are subjected to addition reaction in an organic solvent in which both are dissolved. And a method of isolation. Specifically, a solution obtained by dissolving 41.6 g (1 mol) of triphenylphosphine in 120 g of acetone and a solution of 17.6 g (1 mol) of 1,4-benzoquinone in 80 g of acetone are used at room temperature to 80 ° C. And the yellow-brown crystals deposited after standing for 2 to 5 hours are collected by filtration. As a solvent at this time, a mixed solvent of acetone and toluene may be used instead of acetone. Further, (B) can be produced by a method of addition reaction in a phenol resin used as a curing agent having a phenolic hydroxyl group, and in this case, in the state dissolved in the phenol resin as it is without isolating the addition reaction product, It can be used as a compounding component of an epoxy resin composition.

(E)第三級ホスフィン化合物とキノン化合物の付加反応物の配合量は、特に制限はないが、その性能を発揮するために全硬化促進剤に対して30重量%以上が好ましく、50重量%以上がより好ましく、60重量%以上がさらに好ましい。   (E) Although there is no restriction | limiting in particular in the compounding quantity of the addition reaction material of a tertiary phosphine compound and a quinone compound, in order to exhibit the performance, 30 weight% or more is preferable with respect to all the hardening accelerators, 50 weight% The above is more preferable, and 60% by weight or more is more preferable.

(E)第三級ホスフィン化合物とキノン化合物の付加反応物のみを硬化促進剤として用いる場合、その配合量は、(A)エポキシ樹脂及び(B)硬化剤の総量に対して0.2〜10重量%が好ましい。0.2重量%未満では硬化性が不十分となる傾向があり、10重量%を超えると流動性が低下する傾向がある。   (E) When only the addition reaction product of a tertiary phosphine compound and a quinone compound is used as a curing accelerator, the blending amount is 0.2 to 10 with respect to the total amount of (A) epoxy resin and (B) curing agent. % By weight is preferred. If it is less than 0.2% by weight, the curability tends to be insufficient, and if it exceeds 10% by weight, the fluidity tends to decrease.

本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には(E)第三級ホスフィン化合物とキノン化合物の付加反応物が含有されていることが好ましいが、それ以外に封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用されている硬化促進剤を併用することができる。併用する硬化促進剤としては、例えば、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5、5,6−ジブチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7等のシクロアミジン化合物、その誘導体、及びこれらに無水マレイン酸、1,4−ベンゾキノン、2,5−トルキノン、1,4−ナフトキノン、2,3−ジメチルベンゾキノン、2,6−ジメチルベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−5−メチル−1,4−ベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノン、フェニル−1,4−ベンゾキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂などのπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の3級アミン類及びこれらの誘導体、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール等のイミダゾール類及びこれらの誘導体、トリブチルホスフィン等のトリアルキルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン等のジアルキルアリールホスフィン、メチルジフェニホスフィン等のアルキルジアリールホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス(4−メチルフェニル)ホスフィン等のトリス(アルキルフェニル)ホスフィン、トリス(アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(アルキル・アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルコキシフェニル)ホスフィン、ジフェニルホスフィン、ジフェニル(p−トリル)ホスフィンなどの有機ホスフィン類、その誘導体、及びこれらに無水マレイン酸、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有するリン化合物、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾールテトラフェニルボレート、N−メチルモリホリンテトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩及びこれらの誘導体、有機ホスフィン類と有機ボロン類との錯体などが挙げられる。これらの硬化促進剤は、単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The epoxy resin composition for sealing of the present invention preferably contains (E) an addition reaction product of a tertiary phosphine compound and a quinone compound, but is generally used for epoxy resin compositions for sealing other than that. The hardening accelerator currently made can be used together. Examples of the curing accelerator used in combination include 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5, 5,6-dibutylamino-1. , 8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 and the like, derivatives thereof, and maleic anhydride, 1,4-benzoquinone, 2,5-toluquinone, 1,4-naphthoquinone, 2, Quinones such as 3-dimethylbenzoquinone, 2,6-dimethylbenzoquinone, 2,3-dimethoxy-5-methyl-1,4-benzoquinone, 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, phenyl-1,4-benzoquinone Benzyldimethylamine, a compound with intramolecular polarization formed by adding a compound having a π bond, such as a compound, diazophenylmethane, or a phenol resin Tertiary amines such as triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol and their derivatives, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole Imidazoles such as tributylphosphine, dialkylarylphosphine such as dimethylphenylphosphine, alkyldiarylphosphine such as methyldipheniphosphine, triphenylphosphine, tris (4-methylphenyl) phosphine, etc. Tris (alkylphenyl) phosphine, Tris (alkoxyphenyl) phosphine, Tris (alkylalkoxyphenyl) phosphine, Tris (dialkylphenyl) Phosphine, tris (trialkylphenyl) phosphine, tris (tetraalkylphenyl) phosphine, tris (dialkoxyphenyl) phosphine, tris (trialkoxyphenyl) phosphine, tris (tetraalkoxyphenyl) phosphine, diphenylphosphine, diphenyl (p-tolyl) ) Organic phosphines such as phosphine, derivatives thereof, phosphorus compounds having intramolecular polarization formed by adding a compound having a π bond such as maleic anhydride, diazophenylmethane, phenol resin, etc., tetraphenylphosphonium tetraphenylborate , Triphenylphosphine tetraphenylborate, 2-ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate, N-methylmorpholine tetraphenylborate, etc. Ron salts and derivatives thereof, and the like complexes of organic phosphines and organic boron compound. These curing accelerators may be used alone or in combination of two or more.

本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、さらに(D)無機充填材を配合することが好ましい。(D)無機充填材は、吸湿性、線膨張係数低減、熱伝導性向上及び強度向上のために組成物に配合されるものであり、たとえば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア等の粉体、又はこれらを球形化したビーズ、ガラス繊維などが挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。なかでも、線膨張係数低減の観点からは溶融シリカが、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましく、充填材形状は成形時の流動性及び金型摩耗性の点から球形が好ましい。   It is preferable to further mix (D) an inorganic filler in the sealing epoxy resin composition of the present invention. (D) The inorganic filler is blended into the composition for hygroscopicity, linear expansion coefficient reduction, thermal conductivity improvement and strength improvement. For example, fused silica, crystalline silica, alumina, zircon, calcium silicate , Calcium carbonate, potassium titanate, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, beryllia, zirconia, zircon, fosterite, steatite, spinel, mullite, titania, etc., or beads spheroidized from these, A glass fiber etc. are mentioned, These may be used independently or may be used in combination of 2 or more type. Among these, fused silica is preferable from the viewpoint of reducing the linear expansion coefficient, and alumina is preferable from the viewpoint of high thermal conductivity, and the filler shape is preferably spherical from the viewpoint of fluidity and mold wear during molding.

(D)無機充填材の配合量は、難燃性、成形性、吸湿性、線膨張係数低減及び強度向上の観点から、封止用エポキシ樹脂組成物に対して70〜96重量%が好ましく、吸湿性、線膨張係数低減の観点から85〜95重量%がより好ましく、90〜94重量%がさらに好ましい。70重量%より少ないと難燃性及び耐リフロー性が低下する傾向があり、96重量%を超えると流動性が不足する傾向がある。   (D) The blending amount of the inorganic filler is preferably 70 to 96% by weight with respect to the epoxy resin composition for sealing, from the viewpoints of flame retardancy, moldability, hygroscopicity, linear expansion coefficient reduction and strength improvement, From the viewpoint of hygroscopicity and reduction in linear expansion coefficient, 85 to 95% by weight is more preferable, and 90 to 94% by weight is more preferable. If the amount is less than 70% by weight, the flame retardancy and the reflow resistance tend to decrease, and if it exceeds 96% by weight, the fluidity tends to be insufficient.

本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、IC等の半導体素子の耐湿性及び高温放置特性を向上させる観点から、必要に応じてイオントラップ剤をさらに配合することができる。イオントラップ剤としては特に制限はなく、従来公知のものを用いることができるが、たとえば、ハイドロタルサイト類や、マグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ビスマスから選ばれる元素の含水酸化物等が挙げられ、これらの1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。なかでも、下記組成式(XLIX)で示されるハイドロタルサイトが好ましい。   In the sealing epoxy resin composition of the present invention, an ion trapping agent can be further blended as necessary from the viewpoint of improving the moisture resistance and high temperature storage characteristics of a semiconductor element such as an IC. The ion trapping agent is not particularly limited, and conventionally known ones can be used. Examples thereof include hydrotalcites and hydrated oxides of elements selected from magnesium, aluminum, titanium, zirconium, and bismuth. These may be used alone or in combination of two or more. Of these, hydrotalcite represented by the following composition formula (XLIX) is preferable.

Mg1−XAl(OH)(COX/2・mHO (XLIX)
(0<X≦0.5、mは正の数)
Mg 1-X Al X (OH) 2 (CO 3 ) X / 2 · mH 2 O (XLIX)
(0 <X ≦ 0.5, m is a positive number)

イオントラップ剤の配合量は、ハロゲンイオンなどの陰イオンを捕捉できる十分量であれば特に制限はないが、流動性及び曲げ強度の観点から(A)エポキシ樹脂に対して0.1〜30重量%が好ましく、0.5〜10重量%がより好ましく、1〜5重量%がさらに好ましい。   The compounding amount of the ion trapping agent is not particularly limited as long as it is a sufficient amount capable of capturing anions such as halogen ions, but from the viewpoint of fluidity and bending strength, (A) 0.1 to 30 wt. % Is preferable, 0.5 to 10% by weight is more preferable, and 1 to 5% by weight is further preferable.

また、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、樹脂成分と無機充填材との接着性を高めるために、必要に応じて、エポキシシラン、メルカプトシラン、アミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン等の各種シラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウムキレート類、アルミニウム/ジルコニウム系化合物等の公知のカップリング剤を添加することができる。これらを例示すると、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−[ビス(β−ヒドロキシエチル)]アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(β−アミノエチル)アミノプロピルジメトキシメチルシラン、N−(トリメトキシシリルプロピル)エチレンジアミン、N−(ジメトキシメチルシリルイソプロピル)エチレンジアミン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等のシラン系カップリング剤、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチル−アミノエチル)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジトリデシル)ホスファイトチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート等のチタネート系カップリング剤などが挙げられ、これらの1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。   In addition, the sealing epoxy resin composition of the present invention includes an epoxy silane, a mercapto silane, an amino silane, an alkyl silane, a ureido silane, and a vinyl silane as necessary in order to enhance the adhesion between the resin component and the inorganic filler. Various known coupling agents such as various silane compounds, titanium compounds, aluminum chelates, and aluminum / zirconium compounds can be added. Examples of these include vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ- Aminopropyltriethoxysilane, γ-anilinopropyltrimethoxysilane, γ-anilinopropylmethyldimethoxysilane, γ- [bis (β-hydroxyethyl)] aminopropyltriethoxysilane, N-β- (Aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ- (β-aminoethyl) aminopropyldimethoxymethylsilane, N- (trimethoxysilylpropyl) ethylenediamine, N- (dimethoxymethylsilylisopropyl) ethylenediamine, methyltrimethoxy Silane, dimethyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilane, vinyltrimethoxysilane, γ Silane coupling agents such as mercaptopropylmethyldimethoxysilane, isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tris (dioctyl pyrophosphate) titanate, isopropyl tri N-aminoethyl-aminoethyl) titanate, tetraoctyl bis (ditridecyl phosphite) titanate, tetra (2,2-diallyloxymethyl-1-butyl) bis (ditridecyl) phosphite titanate, bis (dioctyl pyrophosphate) oxy Acetate titanate, bis (dioctylpyrophosphate) ethylene titanate, isopropyl trioctanoyl titanate, isopropyl dimethacrylisostearoyl titanate, isopropyl tridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropyl isostearoyl diacryl titanate, isopropyl tri (dioctyl phosphate) titanate, isopropyl tricumyl Phenyl titanate, tetraisopropyl bis (dioctyl phosphite) titanate And titanate-based coupling agents, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

上記カップリング剤の配合量は、(D)無機充填材に対して0.05〜5重量%であることが好ましく、0.1〜2.5重量%がより好ましい。0.05重量%未満では各種パッケージ構成部材との接着性が低下する傾向があり、5重量%を超えるとボイド等の成形不良が発生し易い傾向がある。   The blending amount of the coupling agent is preferably 0.05 to 5% by weight, more preferably 0.1 to 2.5% by weight, based on the inorganic filler (D). If it is less than 0.05% by weight, the adhesion to various package components tends to be reduced, and if it exceeds 5% by weight, molding defects such as voids tend to occur.

本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には必要に応じて難燃剤を配合することができる。難燃剤としては、従来公知の臭素化エポキシ樹脂や三酸化アンチモンを用いることができるが、従来公知のノンハロゲン、ノンアンチモンの難燃剤を用いることができる。たとえば、赤リン、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂等で被覆された赤リン、リン酸エステル、酸化トリフェニルホスフィン等のリン化合物、メラミン、メラミン誘導体、メラミン変性フェノール樹脂、トリアジン環を有する化合物、シアヌル酸誘導体、イソシアヌル酸誘導体等の窒素含有化合物、シクロホスファゼン等のリン及び窒素含有化合物、ジシクロペンタジエニル鉄等の金属錯体化合物、酸化亜鉛、錫酸亜鉛、硼酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛等の亜鉛化合物、酸化鉄、酸化モリブデン等の金属酸化物、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物、下記組成式(L)で示される複合金属水酸化物などが挙げられる。   A flame retardant can be blended in the sealing epoxy resin composition of the present invention as necessary. Conventionally known brominated epoxy resins and antimony trioxide can be used as the flame retardant, and conventionally known non-halogen and non-antimony flame retardants can be used. For example, red phosphorus coated with a thermosetting resin such as red phosphorus, phenol resin, phosphorous ester, phosphorus compound such as triphenylphosphine oxide, melamine, melamine derivative, melamine modified phenolic resin, compound having triazine ring, Nitrogen-containing compounds such as cyanuric acid derivatives and isocyanuric acid derivatives, phosphorus and nitrogen-containing compounds such as cyclophosphazene, metal complex compounds such as dicyclopentadienyl iron, zinc oxide, zinc stannate, zinc borate, and zinc molybdate Examples thereof include metal oxides such as zinc compounds, iron oxide and molybdenum oxide, metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, and composite metal hydroxides represented by the following composition formula (L).

p(M )・q(M )・r(M )・mHO (L)
(ここで、M、M及びMは互いに異なる金属元素を示し、a、b、c、d、p、q及びmは正の数、rは0又は正の数を示す。)
p (M 1 a O b) · q (M 2 c O d) · r (M 3 c O d) · mH 2 O (L)
(Here, M 1 , M 2 and M 3 represent different metal elements, a, b, c, d, p, q and m are positive numbers, and r is 0 or a positive number.)

上記組成式(L)中のM、M及びMは互いに異なる金属元素であれば特に制限はないが、難燃性の観点からは、Mが第3周期の金属元素、IIA族のアルカリ土類金属元素、IVB族、IIB族、VIII族、IB族、IIIA族及びIVA族に属する金属元素から選ばれ、MがIIIB〜IIB族の遷移金属元素から選ばれることが好ましく、Mがマグネシウム、カルシウム、アルミニウム、スズ、チタン、鉄、コバルト、ニッケル、銅及び亜鉛から選ばれ、Mが鉄、コバルト、ニッケル、銅及び亜鉛から選ばれることがより好ましい。流動性の観点からは、Mがマグネシウム、Mが亜鉛又はニッケルで、r=0のものが好ましい。p、q及びrのモル比は特に制限はないが、r=0で、p/qが1/99〜1/1であることが好ましい。なお、金属元素の分類は典型元素をA亜族、遷移元素をB亜族とする長周期型の周期率表(出典:共立出版株式会社発行「化学大辞典4」1987年2月15日縮刷版第30刷)に基づいて行った。上記した難燃剤は1種を単独で用いても2種以上を組合わせて用いてもよい。 M 1 , M 2 and M 3 in the composition formula (L) are not particularly limited as long as they are different metal elements, but from the viewpoint of flame retardancy, M 1 is a metal element of the third period, group IIA Preferably selected from metal elements belonging to the alkaline earth metal elements, group IVB, group IIB, group VIII, group IB, group IIIA and group IVA, and M 2 is selected from transition metal elements of groups IIIB to IIB, More preferably, M 1 is selected from magnesium, calcium, aluminum, tin, titanium, iron, cobalt, nickel, copper and zinc, and M 2 is selected from iron, cobalt, nickel, copper and zinc. From the viewpoint of fluidity, it is preferable that M 1 is magnesium, M 2 is zinc or nickel, and r = 0. The molar ratio of p, q and r is not particularly limited, but preferably r = 0 and p / q is 1/99 to 1/1. In addition, the classification of metal elements is a long-period type periodic rate table in which the typical element is the A group and the transition element is the B group (source: Kyoritsu Shuppan Co., Ltd. “Chemical Dictionary 4”, reduced on February 15, 1987) Plate 30th printing). The above flame retardants may be used alone or in combination of two or more.

さらに、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、その他の添加剤として、高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、エステル系ワックス、ポリオレフィン系ワックス、ポリエチレン、酸化ポリエチレン等の離型剤、カーボンブラック等の着色剤、シリコーンオイル、ゴム粉末等の応力緩和剤などを必要に応じて配合することができる。   Furthermore, in the sealing epoxy resin composition of the present invention, as other additives, higher fatty acids, higher fatty acid metal salts, ester waxes, polyolefin waxes, polyethylene, release agents such as polyethylene oxide, carbon black, etc. If necessary, a color relieving agent, a silicone oil, a stress relaxation agent such as rubber powder, and the like can be blended.

本発明の封止用エポキシ樹脂組成物は、各種原材料を均一に分散混合できるのであれば、いかなる手法を用いても調製できるが、一般的な手法として、所定の配合量の原材料をミキサー等によって十分混合した後、ミキシングロール、押出機等によって溶融混練した後、冷却、粉砕する方法を挙げることができる。成形条件に合うような寸法及び重量でタブレット化すると使いやすい。   The epoxy resin composition for sealing of the present invention can be prepared by any method as long as various raw materials can be uniformly dispersed and mixed. As a general method, a raw material having a predetermined blending amount is mixed with a mixer or the like. A method of cooling and pulverizing after mixing sufficiently, melt-kneading with a mixing roll, an extruder or the like can be mentioned. It is easy to use if it is tableted with dimensions and weight that match the molding conditions.

本発明で得られる封止用エポキシ樹脂組成物により封止した素子を備えた電子部品装置としては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材に、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子等の素子を搭載し、必要な部分を本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で封止した、電子部品装置などが挙げられる。このような電子部品装置としては、たとえば、リードフレーム上に半導体素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部をワイヤボンディングやバンプで接続した後、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物を用いてトランスファ成形等により封止してなる、DIP(Dual Inline Package)、PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier)、QFP(Quad Flat Package)、SOP(Small Outline Package)、SOJ(Small Outline J−lead package)、TSOP(Thin Small Outline Package)、TQFP(Thin Quad Flat Package)等の一般的な樹脂封止型IC、テープキャリアにバンプで接続した半導体チップを、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で封止したTCP(Tape Carrier Package)、配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子及び/又はコンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子を、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で封止したCOB(Chip On Board)モジュール、ハイブリッドIC、マルチチップモジュール、マザーボード接続用の端子を形成したインターポーザ基板に半導体チップを搭載し、バンプまたはワイヤボンディングにより半導体チップとインターポーザ基板に形成された配線を接続した後、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物で半導体チップ搭載側を封止したBGA(Ball Grid Array)、CSP(Chip Size Package)、MCP(Multi Chip Package)などの片面封止パッケージが挙げられる。なかでも本発明で得られる封止用エポキシ樹脂組成物で封止した素子を備えた片面封止型パッケージは反り量が小さい特徴を有する。さらに、プリント回路板にも本発明の封止用エポキシ樹脂組成物は有効に使用できる。   As an electronic component device provided with an element sealed with an epoxy resin composition for sealing obtained in the present invention, a lead frame, a wired tape carrier, a wiring board, glass, a silicon wafer, etc. on a support member such as a semiconductor chip An electronic component device in which active elements such as transistors, diodes and thyristors, and passive elements such as capacitors, resistors, and coils are mounted, and necessary portions are sealed with the epoxy resin composition for sealing of the present invention Etc. As such an electronic component device, for example, a semiconductor element is fixed on a lead frame, a terminal portion of a device such as a bonding pad and a lead portion are connected by wire bonding or a bump, and then the sealing epoxy resin of the present invention is used. DIP (Dual Inline Package), PLCC (Plastic Leaded Chip Carrier), QFP (Quad Flat Package), SOP (Small Outline Package), SOJ (Small Out Package), which are sealed by transfer molding using the composition. General resin-sealed ICs such as lead package, TSOP (Thin Small Outline Package), and TQFP (Thin Quad Flat Package) A semiconductor chip connected to a tape carrier by a bump is sealed with a tape carrier package (TCP) sealed with an epoxy resin composition for sealing of the present invention, wiring formed on a wiring board or glass, wire bonding, flip chip bonding, COB (Chip On) in which active elements such as semiconductor chips, transistors, diodes, thyristors and / or passive elements such as capacitors, resistors, coils, etc. connected by solder or the like are sealed with the sealing epoxy resin composition of the present invention. (Board) After mounting a semiconductor chip on an interposer substrate on which a module, a hybrid IC, a multichip module, and a terminal for connecting a motherboard are formed, and connecting the wiring formed on the semiconductor chip and the interposer substrate by bump or wire bonding, the present invention One side sealing packages such as BGA (Ball Grid Array), CSP (Chip Size Package), MCP (Multi Chip Package), etc., in which the semiconductor chip mounting side is sealed with an epoxy resin composition for sealing. Especially, the single-sided sealing type package provided with the element sealed with the epoxy resin composition for sealing obtained in the present invention has a characteristic that the amount of warpage is small. Furthermore, the epoxy resin composition for sealing of the present invention can also be used effectively for printed circuit boards.

本発明の封止用エポキシ樹脂組成物を用いて素子を封止する方法としては、低圧トランスファ成形法が最も一般的であるが、インジェクション成形法、圧縮成形法等を用いてもよい。   As a method for sealing an element using the epoxy resin composition for sealing of the present invention, a low-pressure transfer molding method is the most common, but an injection molding method, a compression molding method, or the like may be used.

次に実施例により本発明を説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention, the scope of the present invention is not limited to these Examples.

実施例1〜4、比較例1〜8
以下の成分をそれぞれ表1及び表2に示す重量部で配合し、混練温度80℃、混練時間10分の条件でロール混練を行い、実施例1〜4及び比較例1〜8の封止用エポキシ樹脂組成物を作製した。
Examples 1-4, Comparative Examples 1-8
The following components are blended in parts by weight shown in Table 1 and Table 2, respectively, and roll kneading is performed under conditions of a kneading temperature of 80 ° C. and a kneading time of 10 minutes. An epoxy resin composition was prepared.

エポキシ樹脂として、エポキシ当量180、融点105℃のジヒドロアントラセン型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂1、ジャパンエポキシレジン株式会社製商品名エピコートYX−8800)、エポキシ当量192、融点109℃のビフェニル型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂2、ジャパンエポキシレジン株式会社製商品名エピコートYX−4000)、エポキシ当量252、融点80℃のナフタレン型樹脂(エポキシ樹脂3、東都化成株式会社製商品名ESN−175)を使用した。硬化剤として水酸基当量103、軟化点86℃のフェノール樹脂(硬化剤1、明和化成株式会社製商品名MEH−7500)、水酸基当量200、軟化点80℃のフェノール・アラルキル樹脂(硬化剤2、明和化成株式会社製商品名MEH−7851)を使用した。   As an epoxy resin, a dihydroanthracene type epoxy resin having an epoxy equivalent of 180 and a melting point of 105 ° C. (epoxy resin 1, trade name Epicoat YX-8800 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), a biphenyl type epoxy resin having an epoxy equivalent of 192 and a melting point of 109 ° C. (epoxy) Resin 2, Japan Epoxy Resin Co., Ltd. product name Epicoat YX-4000), epoxy equivalent 252 and melting point 80 ° C. naphthalene type resin (Epoxy Resin 3, Toto Kasei Co., Ltd. product name ESN-175) were used. A phenolic resin having a hydroxyl group equivalent of 103 and a softening point of 86 ° C. as a curing agent (curing agent 1, trade name MEH-7500 manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.), a phenol aralkyl resin having a hydroxyl group equivalent of 200 and a softening point of 80 ° C. (hardening agent 2, Meiwa) Kasei Co., Ltd. trade name MEH-7851) was used.

硬化促進剤としてトリブチルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加反応物(硬化促進剤)を使用した。   An addition reaction product (curing accelerator) of tributylphosphine and 1,4-benzoquinone was used as a curing accelerator.

シリコーン化合物として軟化点80℃のポリシロキサン(ケイ素含有重合物1、東レ・ダウコーニング株式会社製商品名AY42−119)を使用した。エポキシ当量は1780、1530の商品を使用した。   Polysiloxane (silicon-containing polymer 1, product name AY42-119 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) having a softening point of 80 ° C. was used as the silicone compound. Products having an epoxy equivalent weight of 1780 and 1530 were used.

また、異なるエポキシ当量のシリコーン化合物としてエポキシ当量1270、軟化点65℃のポリシロキサン(ケイ素含有重合物2、東レ・ダウコーニング株式会社製サンプル名HU307C)と、エポキシ当量980、軟化点45℃のポリシロキサン(ケイ素含有重合物3、東レ・ダウコーニング株式会社製サンプル名HU307B)を使用した。   Further, as silicone compounds having different epoxy equivalents, polysiloxane having an epoxy equivalent of 1270 and a softening point of 65 ° C. (silicon-containing polymer 2, sample name HU307C manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), a polysiloxane having an epoxy equivalent of 980 and a softening point of 45 ° C. Siloxane (silicon-containing polymer 3, sample name HU307B manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) was used.

無機充填材として平均粒径17.5μm、比表面積3.8m/gの球状溶融シリカを使用した。 Spherical fused silica having an average particle diameter of 17.5 μm and a specific surface area of 3.8 m 2 / g was used as the inorganic filler.

カップリング剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(日本ユニカー株式会社製商品名A−187)を使用した。   As a coupling agent, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (trade name A-187 manufactured by Nihon Unicar Co., Ltd.) was used.

その他の添加剤としてカルナバワックス(クラリアント社製)及びカーボンブラック(三菱化学株式会社製商品名MA−600)を使用した。   As other additives, carnauba wax (manufactured by Clariant) and carbon black (trade name MA-600, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) were used.

Figure 0005205907
Figure 0005205907

Figure 0005205907
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作製した実施例及び比較例の封止用エポキシ樹脂組成物を、次の各試験により評価した。結果を表3及び表4に示す。   The produced epoxy resin compositions for sealing of Examples and Comparative Examples were evaluated by the following tests. The results are shown in Tables 3 and 4.

なお、封止用エポキシ樹脂組成物の成形は、トランスファ成形機により、金型温度180℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間90秒の条件で行った。また、後硬化は180℃で5時間行った。
(1)スパイラルフロー(流動性の指標)
EMMI−1−66に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、封止用エポキシ樹脂組成物を上記条件で成形し、流動距離(cm)を求めた。
(2)熱時硬度
封止用エポキシ樹脂組成物を上記条件で直径50mm×厚さ3mmの円板に成形し、成形後直ちにショアD型硬度計を用いて測定した。
(3)耐リフロークラック性
10mm×10mm×0.3mmのシリコンチップを搭載した外形寸法40mm×40mm×1.8mmのBGA(基板厚0.5mm)を、封止用エポキシ樹脂組成物を用いて金型温度180℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間90秒の条件で成形し、180℃で5時間の条件で後硬化して評価用半導体パッケージを得た。得られた半導体パッケージについて、85℃、85%RHの条件で加湿して48時間後に240℃、10秒の条件でリフロー処理を行い、クラックの有無を観察し、評価用半導体パッケージ数(8個)に対するクラック発生パッケージ数で評価した。
(4)反り量
基板サイズ60mm×90mm×0.4mmのガラス基材エポキシ樹脂基板(日立化成工業株式会社製商品名MCL−E−679)上に、封止用エポキシ樹脂組成物を用いて40mm×70mm×0.6mmの範囲に片面封止を行い、反り量の変化量を評価した。反り量の測定は封止範囲の長辺方向に、温度可変3次元形状測定機(株式会社ティーテック)を用いて高さ方向の変位を測定し、その最大値と最小値の差を反り量として評価した。室温の初期反り量、260℃加熱処理後の室温の反り量、260℃加熱時の反り量を測定した。
The epoxy resin composition for sealing was molded by a transfer molding machine under conditions of a mold temperature of 180 ° C., a molding pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 90 seconds. Further, post-curing was performed at 180 ° C. for 5 hours.
(1) Spiral flow (fluidity index)
The sealing epoxy resin composition was molded under the above conditions using a spiral flow measurement mold according to EMMI-1-66, and the flow distance (cm) was determined.
(2) Hardness upon heating The sealing epoxy resin composition was molded into a disk having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm under the above-mentioned conditions, and measured immediately using a Shore D hardness meter.
(3) Reflow crack resistance BGA (substrate thickness: 0.5 mm) having an external dimension of 40 mm × 40 mm × 1.8 mm mounted with a 10 mm × 10 mm × 0.3 mm silicon chip is used with an epoxy resin composition for sealing. Molding was performed under conditions of a mold temperature of 180 ° C., a molding pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 90 seconds, and post-curing was performed at 180 ° C. for 5 hours to obtain an evaluation semiconductor package. The obtained semiconductor package was humidified under the conditions of 85 ° C. and 85% RH, and after 48 hours, subjected to reflow treatment under the conditions of 240 ° C. and 10 seconds. The presence or absence of cracks was observed, and the number of semiconductor packages for evaluation (8 pieces) ) For the number of cracking packages.
(4) Warpage amount 40 mm by using an epoxy resin composition for sealing on a glass substrate epoxy resin substrate (trade name MCL-E-679 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) having a substrate size of 60 mm × 90 mm × 0.4 mm. Single-side sealing was performed in a range of × 70 mm × 0.6 mm, and the amount of change in warpage was evaluated. The amount of warpage is measured by measuring the displacement in the height direction using a variable temperature three-dimensional shape measuring machine (Tetec Co., Ltd.) in the long side direction of the sealing range, and calculating the difference between the maximum and minimum values. As evaluated. The initial warpage amount at room temperature, the warpage amount at room temperature after 260 ° C. heat treatment, and the warpage amount at 260 ° C. heating were measured.

Figure 0005205907
Figure 0005205907

Figure 0005205907
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なお、エポキシ当量は次のように測定した。
検量線:エポキシ樹脂全体の重量に対するエポキシ基の重量の割合(エポキシ(%))が既知のサンプル(数種類)をフーリエ変換型近赤外分光分析装置にてそれぞれ測定し、エポキシ基の吸収として6300〜6000−1領域の吸光度をそれぞれ求め、部分最小二乗法により検量線を作成した。
測定:試料を充填しない状態でフーリエ変換型近赤外分光分析装置にてブランク試験を行った。次に試料を充填して6300〜6000−1領域の吸光度を求めた。得られた吸光度から試料のエポキシ(%)を定量した。試料のエポキシ当量を下記式により求めた(エポキシ基の分子量:43)。
エポキシ当量=4300/エポキシ(%)
The epoxy equivalent was measured as follows.
Calibration curve: Samples (several types) with known weight ratio of epoxy groups to the total weight of epoxy resin (epoxy (%)) were measured with a Fourier transform type near-infrared spectroscopic analyzer, and the absorption of epoxy groups was 6300. Absorbances in the ˜6000 −1 region were respectively determined, and a calibration curve was prepared by a partial least square method.
Measurement: A blank test was performed with a Fourier transform type near-infrared spectroscopic analyzer without filling the sample. Next, the sample was filled and the absorbance in the 6300 to 6000 −1 region was determined. The epoxy (%) of the sample was quantified from the obtained absorbance. The epoxy equivalent of the sample was determined by the following formula (epoxy group molecular weight: 43).
Epoxy equivalent = 4300 / epoxy (%)

エポキシ当量が600〜1400であるポリシロキサンを使用し、エポキシ樹脂とフェノール硬化剤の当量比が1.05〜1.20である実施例1〜4は、いずれもスパイラルフローで示される流動性が優れ、さらに初期と加熱後の反り変化量と初期と加熱時の変化量が小さく、熱時硬度が高く、さらに耐リフロークラック性に優れていた。
エポキシ樹脂と硬化剤の当量比がそれぞれ0.9及び1.0である比較例1及び2は、初期反り量が小さいが、加熱により反りが生じるために、加熱後反り変化量及び加熱時反り変化量がともに大きかった。エポキシ樹脂と硬化剤の当量比が1.3である比較例3は、加熱後の反り変化量と加熱時の反り変化量とがともに小さいが、熱時硬度が低かった。ポリシロキサンを含まない比較例4〜6は、流動性が低い、加熱後変化量、加熱時変化量が大きいなどの問題があった。ポリシロキサンの分子量がそれぞれ1780及び1530である比較例7及び8は、流動性が低く、加熱後反り変化量が大きかった。
Examples 1 to 4 using polysiloxane having an epoxy equivalent of 600 to 1400 and an equivalent ratio of epoxy resin to phenol curing agent of 1.05 to 1.20 have fluidity shown by spiral flow. Furthermore, the amount of change in warpage after initial and after heating, the amount of change during initial and during heating was small, the hardness during heating was high, and the reflow crack resistance was excellent.
In Comparative Examples 1 and 2 in which the equivalent ratio of the epoxy resin and the curing agent is 0.9 and 1.0, respectively, the initial warpage amount is small, but the warpage is caused by heating. The amount of change was large. In Comparative Example 3 in which the equivalent ratio of the epoxy resin and the curing agent was 1.3, both the amount of warpage change after heating and the amount of warpage change during heating were small, but the hardness during heating was low. Comparative Examples 4 to 6 containing no polysiloxane had problems such as low fluidity, a large amount of change after heating, and a large amount of change during heating. In Comparative Examples 7 and 8, in which the molecular weights of the polysiloxanes were 1780 and 1530, respectively, the fluidity was low and the amount of warpage change after heating was large.

Claims (10)

(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール性水酸基を有する硬化剤、及び(C)エポキシ基を有するシリコーン化合物を含有し、(A)エポキシ樹脂のエポキシ基と(B)硬化剤のフェノール性水酸基との当量比(水酸基/エポキシ基)が1.05〜1.2であり、(C)シリコーン化合物のエポキシ当量が600〜1400である封止用エポキシ樹脂組成物。   (A) an epoxy resin, (B) a curing agent having a phenolic hydroxyl group, and (C) a silicone compound having an epoxy group, (A) an epoxy group of the epoxy resin, and (B) a phenolic hydroxyl group of the curing agent The epoxy resin composition for sealing wherein the equivalent ratio (hydroxyl group / epoxy group) is 1.05 to 1.2, and (C) the epoxy equivalent of the silicone compound is 600 to 1400. (C)エポキシ基を有するシリコーン化合物が、下記の結合(a)及び(b)を有し、末端にR、水酸基、及びアルコキシ基から選ばれた官能基を有する請求項1記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
Figure 0005205907
(Rは置換または非置換の炭素数1〜12の1価の炭化水素基を示し、シリコーン化合物中のRは互いに同一でも異なっていてもよい。Xはエポキシ基を含む1価の有機基を示し、シリコーン化合物中のXは互いに同一でも異なっていてもよい。)
The sealing according to claim 1 , wherein (C) the silicone compound having an epoxy group has the following bonds (a) and (b), and has a functional group selected from R 1 , a hydroxyl group and an alkoxy group at the terminal. Epoxy resin composition.
Figure 0005205907
(R 1 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R 1 in the silicone compound may be the same or different from each other. X is a monovalent organic group containing an epoxy group. And X in the silicone compound may be the same as or different from each other.)
(C)エポキシ基を有するシリコーン化合物が、さらに結合(c)を有する請求項2記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
Figure 0005205907
(Rは置換または非置換の炭素数1〜12の1価の炭化水素基を示し、シリコーン化合物中のRは互いに同一でも異なっていてもよい。)
(C) The epoxy resin composition for sealing according to claim 2, wherein the silicone compound having an epoxy group further has a bond (c).
Figure 0005205907
(R 1 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R 1 in the silicone compound may be the same as or different from each other.)
(A)エポキシ樹脂が、下記一般式(I)で示されるエポキシ樹脂を含む請求項1〜3のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
Figure 0005205907
(Rは、置換又は非置換の炭素数1〜12の炭化水素基、及び置換又は非置換の炭素数1〜12のアルコキシ基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。nは0〜4の整数を示す。Rは、置換又は非置換の炭素数1〜12の炭化水素基、及び置換又は非置換の炭素数1〜12のアルコキシ基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。mは0〜6の整数を示す。)
(A) The epoxy resin composition for sealing in any one of Claims 1-3 in which an epoxy resin contains the epoxy resin shown by the following general formula (I).
Figure 0005205907
(R 1 is selected from a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and may be the same or different from each other. N is 0. And R 2 is selected from a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and may be the same or different from each other. M is an integer of 0-6.)
(B)フェノール性水酸基を有する硬化剤が、下記一般式(II)で示されるフェノール樹脂を含む請求項1〜4のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
Figure 0005205907
(Rは、水素原子、置換又は非置換の炭素数1〜12の1価の炭化水素基、及び水酸基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。nは0又は1〜10の整数を示す。)
(B) The epoxy resin composition for sealing in any one of Claims 1-4 in which the hardening | curing agent which has a phenolic hydroxyl group contains the phenol resin shown by the following general formula (II).
Figure 0005205907
(R is selected from a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and a hydroxyl group, and may be the same or different. N is an integer of 0 or 1 to 10. Show.)
(B)フェノール性水酸基を有する硬化剤が、さらに下記一般式(III)で示されるフェノール・アラルキル樹脂を含む請求項5記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
Figure 0005205907
(R〜Rは、水素原子、及び置換又は非置換の炭素数1〜12の1価の炭化水素基から選ばれ、互いに同一でも異なっていてもよい。iは0又は1〜3の整数を示し、nは0又は1〜10の整数を示す。)
(B) The epoxy resin composition for sealing according to claim 5, wherein the curing agent having a phenolic hydroxyl group further contains a phenol-aralkyl resin represented by the following general formula (III).
Figure 0005205907
(R 1 to R 9 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and may be the same or different from each other. Represents an integer, and n represents 0 or an integer of 1 to 10.)
一般式(II)で示されるフェノール樹脂(α)の水酸基と一般式(III)で示されるフェノール・アラルキル樹脂(β)の水酸基のモル比が、(α)/(β)=0.1〜9である請求項6に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。   The molar ratio of the hydroxyl group of the phenol resin (α) represented by the general formula (II) and the hydroxyl group of the phenol aralkyl resin (β) represented by the general formula (III) is (α) / (β) = 0.1 The sealing epoxy resin composition according to claim 6, which is 9. さらに、(D)無機充填材を、封止用エポキシ樹脂組成物の全重量に対し、85重量%〜95重量%含有する請求項1〜7のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物。   Furthermore, (D) the epoxy resin composition for sealing in any one of Claims 1-7 which contains an inorganic filler 85weight%-95weight% with respect to the total weight of the epoxy resin composition for sealing. . エリア実装型の電子部品装置に用いられる請求項1〜8のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition for sealing according to any one of claims 1 to 8, which is used for an area mounting type electronic component device. 請求項1〜9のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物により封止された素子を備えた電子部品装置。   The electronic component apparatus provided with the element sealed with the epoxy resin composition for sealing in any one of Claims 1-9.
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