JP5198551B2 - Wiring board non-contact transfer device and wiring board manufacturing method - Google Patents
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Description
本発明は、被搬送物である配線基板を、気流の作用を利用して搬送する配線基板の非接触搬送装置、非接触搬送装置を用いた配線基板の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a non-contact conveyance device for a wiring substrate that conveys a wiring substrate that is an object to be conveyed using the action of an air current, and a method for manufacturing a wiring substrate using the non-contact conveyance device.
従来より、配線基板は、複数の製造工程を経て製造され、導通検査を行う検査工程を受けた後に出荷される。また、配線基板は、製造工程が終了する度に、次の工程を行うためのラインに搬送されるようになっている。なお、従来の搬送方法としては、エア吸着穴が開口された吸着ヘッドの下面に配線基板の表面を負圧で吸着し、この状態で、配線基板を吸着ヘッドとともに搬送する方法などが提案されている。しかし、吸着ヘッドで配線基板を搬送すると、吸着ヘッドの汚れや磨耗によって生じた異物(粉塵)が配線基板に付着するなどの問題がある。 Conventionally, a wiring board is manufactured through a plurality of manufacturing processes, and is shipped after undergoing an inspection process for conducting a continuity test. The wiring board is transported to a line for performing the next process every time the manufacturing process is completed. As a conventional transport method, a method has been proposed in which the surface of the wiring board is sucked with a negative pressure on the lower surface of the suction head having an air suction hole and the wiring board is transported together with the suction head in this state. Yes. However, when the wiring board is transported by the suction head, there is a problem that foreign matter (dust) generated by dirt or wear of the suction head adheres to the wiring board.
そこで、配線基板などの被搬送物を非接触状態で吸引しながら搬送することにより、配線基板への異物の付着を少なくした搬送装置が提案されている(例えば特許文献1参照)。かかる搬送装置は、搬送ヘッド、搬送ヘッドの先端面(吸引面)にて開口する気体供給孔(エア吹出穴)、及び、搬送ヘッドに装着されるとともに円板部を有するノズルなどを備えている。そして、搬送ヘッドの吸引面を配線基板に接近させ、気体供給孔から供給されたエアを吸引面と円板部との間に形成されたスリットを介して外部に導出すると、エアが搬送ヘッドの外側に放射状に放出される。その結果、ノズル付近と配線基板との空間が負圧となり、配線基板が搬送ヘッドに吸引保持される。この状態において、ロボットアームなどを用いて搬送ヘッドを搬送すれば、配線基板を非接触状態で搬送することができる。 In view of this, there has been proposed a transfer device that reduces the adhesion of foreign matter to the wiring board by transferring the object to be transferred such as the wiring board while sucking in a non-contact state (see, for example, Patent Document 1). Such a transport device includes a transport head, a gas supply hole (air blowing hole) that opens at the front end surface (suction surface) of the transport head, and a nozzle that is attached to the transport head and has a disk portion. . Then, when the suction surface of the transport head is brought close to the wiring board and the air supplied from the gas supply hole is led out to the outside through a slit formed between the suction surface and the disk portion, the air is transferred to the transport head. Radiated outwards. As a result, the space between the nozzle and the wiring board becomes negative pressure, and the wiring board is sucked and held by the transport head. In this state, if the transfer head is transferred using a robot arm or the like, the wiring board can be transferred in a non-contact state.
ところで、上記の従来技術では、放出されたエアの一部が配線基板に衝突するため、基板主面上の異物を衝突したエアで吹き飛ばして除去することができる。しかし、除去された異物はエアとともに拡散するため、配線基板の周囲には異物が浮遊するようになる。その結果、周囲に浮遊している異物が別の配線基板の表面に付着しやすくなる。また、配線基板搬送後に実施される上記の検査工程では、配線基板の表面上のはんだバンプに対してプローブなどの検査用治具を当接させることにより、配線基板の導通検査を行っている。従って、はんだバンプの表面に異物が付着した状態で導通検査を行うと、プローブとはんだバンプとの間に導通しない異物が噛み込んでしまうため、本来良品であるにもかかわらず、検査工程において不良品であると判定される可能性がある。 By the way, in said prior art, since some discharge | released air collides with a wiring board, the foreign material on a board | substrate main surface can be blown away with the collided air, and can be removed. However, since the removed foreign matter diffuses together with the air, the foreign matter floats around the wiring board. As a result, foreign matters floating around the surface are likely to adhere to the surface of another wiring board. Further, in the above-described inspection process performed after the wiring board is transported, the wiring board is inspected for continuity by bringing an inspection jig such as a probe into contact with the solder bump on the surface of the wiring board. Therefore, if a continuity test is performed with foreign matter adhering to the surface of the solder bumps, foreign matter that does not conduct will be caught between the probe and the solder bumps. There is a possibility that it is determined to be a good product.
そこで、集塵穴からエアを吸引することで、基板主面上の異物を回収する技術が提案されている。このようにすれば、配線基板の周囲への異物の拡散が抑えられるため、別の配線基板への異物の付着が抑えられる。ゆえに、導通検査において、異物の付着に起因して配線基板が不良品であると判定されにくくなるため、配線基板の歩留まりが向上する。 Therefore, a technique has been proposed in which foreign matter on the main surface of the substrate is collected by sucking air from the dust collection holes. In this way, the diffusion of foreign matter to the periphery of the wiring board can be suppressed, so that the adhesion of foreign matter to another wiring board can be suppressed. Therefore, in the continuity inspection, it is difficult to determine that the wiring board is defective due to the adhesion of foreign matter, so that the yield of the wiring board is improved.
ところが、集塵穴の中心軸線は基板主面に対して垂直に配置されているものの、エア吹出穴から噴出したエアの殆どは、基板主面に対してほぼ平行に流れている。このため、集塵穴からエアを吸引する際には、エアが流れる向きを大きく変更(ほぼ90°変更)して集塵穴内に導かなければならないため、拡散する異物をエアとともに効率良く回収することは困難である。その結果、回収できなかった異物が配線基板の周囲に拡散するため、再度異物が別の配線基板に付着する可能性がある。 However, although the central axis of the dust collection hole is arranged perpendicular to the main surface of the substrate, most of the air ejected from the air blowing holes flows substantially parallel to the main surface of the substrate. For this reason, when sucking air from the dust collection hole, the direction in which the air flows must be greatly changed (almost 90 ° change) and guided into the dust collection hole. It is difficult. As a result, the foreign matter that could not be collected diffuses around the wiring substrate, so that the foreign matter may adhere to another wiring substrate again.
本発明は上記の課題を鑑みてなされたものであり、その第1の目的は、集塵穴から異物を効率良く回収することにより、異物の周囲への拡散をより確実に抑えることができる配線基板の非接触搬送装置を提供することにある。また、第2の目的は、上記の非接触搬送装置を用いた好適な配線基板の製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and a first object of the invention is wiring that can more reliably suppress the diffusion of foreign matter to the surroundings by efficiently collecting the foreign matter from the dust collection hole. An object of the present invention is to provide a non-contact transfer device for a substrate. A second object is to provide a suitable method for manufacturing a wiring board using the non-contact transfer device.
そして、上記課題を解決するための手段(手段1)としては、吸引面に凹部が設けられるとともに、前記凹部の内周面にて開口するエア吹出穴が設けられた吸引部を備え、前記エア吹出穴から前記凹部の内周面に沿って噴出したエアにより発生する負圧によって、被搬送物である配線基板の基板主面を前記吸引面に吸引保持して搬送する非接触搬送装置において、前記吸引面の外周部に、前記吸引面を包囲するように突設された環状の凸部が形成され、前記基板主面上の異物を回収する集塵穴が、前記吸引面における前記凹部の外側領域かつ前記凸部の内側領域にて配設され、前記吸引部に、前記集塵穴に連通する直線状の集塵流路が設けられ、前記集塵流路は、前記吸引面及び前記吸引部の側面にて開口するとともに、中心軸線が前記吸引面に対して15°以上60°以下傾斜した状態に配置されていることを特徴とする配線基板の非接触搬送装置がある。 And as a means (means 1) for solving the above-mentioned subject, it has a suction part provided with an air blowing hole opened in the inner peripheral surface of the above-mentioned concave part provided with a concave part on the suction surface, and said air In a non-contact transport device that transports the substrate main surface of the wiring substrate that is the object to be transported by sucking and holding the suction surface by the negative pressure generated by the air ejected from the blow hole along the inner peripheral surface of the recess, An annular convex portion protruding so as to surround the suction surface is formed on the outer peripheral portion of the suction surface, and a dust collection hole for collecting foreign matter on the main surface of the substrate is formed in the concave portion of the suction surface. An outer region and an inner region of the convex portion are provided, and the suction portion is provided with a linear dust collection passage communicating with the dust collection hole, and the dust collection passage includes the suction surface and the While opening at the side of the suction part, the central axis is the suction There are non-contact transport apparatus of the wiring board, characterized in that it is arranged in a state inclined 15 ° to 60 ° with respect.
従って、上記手段1の非接触搬送装置によると、凹部外に流出して基板主面に対してほぼ平行に流れるエアが凸部の外部に流出しにくくなるため、吸引面において凸部の内側領域にある集塵穴からエアを吸引すれば、拡散する異物をエアとともに効率良く回収することができる。よって、配線基板の周囲への異物の拡散がより確実に抑えられ、別の配線基板への異物の付着がより確実に抑えられる。ゆえに、導通検査において、異物の付着に起因して配線基板が不良品であると判定されにくくなるため、配線基板の歩留まりが向上する。 Therefore, according to the non-contact conveyance device of the means 1, the air that flows out of the concave portion and flows almost parallel to the main surface of the substrate is less likely to flow out of the convex portion. If the air is sucked from the dust collecting hole in the, the diffused foreign matter can be efficiently collected together with the air. Therefore, the diffusion of foreign matter around the wiring substrate can be more reliably suppressed, and the adhesion of foreign matter to another wiring substrate can be more reliably suppressed. Therefore, in the continuity inspection, it is difficult to determine that the wiring board is defective due to the adhesion of foreign matter, so that the yield of the wiring board is improved.
なお、集塵穴から吸引されるエアの総流量は、特に限定されないが、吸引面における凸部の内側領域に噴出されるエアの総流量よりも大きく設定されることが好ましい。このようにすれば、凸部の内側領域に噴出されるエアの殆どを集塵穴から吸引することができるため、凸部の内側領域に噴出されるエアの流速が高くなる。その結果、吸引部の吸引面と配線基板の基板主面との間に生じた空間の圧力を大きく下げることができるため、配線基板を確実に吸引することができる。具体的に言うと、集塵穴から吸引されるエアの総流量は、凸部の内側領域に噴出されるエアの総流量の1.1倍以上2.0倍以下に設定されることが好ましい。仮に、集塵穴から吸引されるエアの総流量が凸部の内側領域に噴出されるエアの総流量の1.2倍未満であると、凸部の内側領域に噴出されるエアの流速をさほど高くすることができない。その結果、吸引面と基板主面との間に生じた空間の圧力があまり下がらなくなるため、配線基板を確実に吸引できなくなる。一方、集塵穴から吸引されるエアの総流量が凸部の内側領域に噴出されるエアの総流量の2.0倍よりも大きいと、凸部の内側領域に噴出されるエアの流速が高くなりすぎるため、吸引面と基板主面との間に生じた空間の圧力が下がりすぎてしまう。その結果、配線基板を吸引する際に、配線基板に大きな力が掛かって破損するおそれがある。 The total flow rate of air sucked from the dust collection holes is not particularly limited, but is preferably set larger than the total flow rate of air ejected to the inner area of the convex portion on the suction surface. In this way, since most of the air ejected to the inner region of the convex portion can be sucked from the dust collection hole, the flow velocity of the air ejected to the inner region of the convex portion increases. As a result, the pressure in the space generated between the suction surface of the suction portion and the substrate main surface of the wiring board can be greatly reduced, so that the wiring board can be reliably sucked. Specifically, it is preferable that the total flow rate of air sucked from the dust collection holes is set to be 1.1 times or more and 2.0 times or less of the total flow rate of air ejected to the inner region of the convex portion. . If the total flow rate of air sucked from the dust collection hole is less than 1.2 times the total flow rate of air jetted to the inner area of the convex portion, the flow velocity of air jetted to the inner area of the convex portion is It cannot be so high. As a result, the pressure in the space generated between the suction surface and the substrate main surface does not drop so much, and the wiring board cannot be reliably sucked. On the other hand, if the total flow rate of air sucked from the dust collection hole is larger than 2.0 times the total flow rate of air jetted into the inner area of the convex portion, the flow velocity of air jetted into the inner area of the convex portion is Since it becomes too high, the pressure of the space generated between the suction surface and the main surface of the substrate is too low. As a result, when the wiring board is sucked, the wiring board may be damaged by applying a large force.
ここで、「配線基板」は、単一製品の配線基板だけでなく、配線基板となるべき基板形成領域が平面方向に沿って複数配置された多数個取り用配線基板も含むものとする。上記配線基板の形成材料としては、セラミック、金属、半導体などの無機材料や、樹脂などの有機材料を挙げることができ、コスト性、加工性、絶縁性、機械的強度などを考慮してそれらの中から適宜選択することができる。セラミック材料の好適例としては、例えばアルミナ、ガラスセラミック、結晶化ガラス等の低温焼成材料、窒化アルミニウム、炭化珪素、窒化珪素などがある。金属材料の好適例としては、銅、銅合金、鉄ニッケル合金などがある。半導体材料の好適例としては、例えばシリコンなどがある。そして、樹脂材料の好適例としては、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ビスマレイミド−トリアジン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂などがある。そのほか、これらの樹脂とガラス繊維(ガラス織布やガラス不織布)やポリアミド繊維等の有機繊維との複合材料を使用してもよい。あるいは、連続多孔質PTFE等の三次元網目状フッ素系樹脂基材にエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂を含浸させた樹脂−樹脂複合材料等を使用してもよい。特に、低コスト化などの観点からすれば、配線基板の形成材料として樹脂材料などの有機材料を選択することが好ましい。このような配線基板であれば、微細な導体層を比較的簡単にかつ正確に形成することができる。 Here, the “wiring board” includes not only a single product wiring board but also a multi-cavity wiring board in which a plurality of substrate forming regions to be wiring boards are arranged along the plane direction. Examples of the material for forming the wiring board include inorganic materials such as ceramics, metals, and semiconductors, and organic materials such as resins. These materials are considered in consideration of cost, workability, insulation, mechanical strength, and the like. It can be suitably selected from the inside. Preferable examples of the ceramic material include low-temperature fired materials such as alumina, glass ceramic, and crystallized glass, aluminum nitride, silicon carbide, and silicon nitride. Suitable examples of the metal material include copper, a copper alloy, and an iron nickel alloy. A preferred example of the semiconductor material is silicon. Preferred examples of the resin material include polyimide resin, epoxy resin, bismaleimide-triazine resin, polyphenylene ether resin, and the like. In addition, composite materials of these resins and glass fibers (glass woven fabric or glass nonwoven fabric) or organic fibers such as polyamide fibers may be used. Alternatively, a resin-resin composite material obtained by impregnating a thermosetting resin such as an epoxy resin with a three-dimensional network fluorine-based resin base material such as continuous porous PTFE may be used. In particular, from the viewpoint of cost reduction, it is preferable to select an organic material such as a resin material as a wiring board forming material. With such a wiring board, a fine conductor layer can be formed relatively easily and accurately.
また、凸部の高さは、配線基板の基板主面を吸引部の吸引面に吸引保持した状態で、凸部と配線基板とが僅かに離間する程度に設定されることが好ましい。仮に、凸部を高くし過ぎることによって、吸引面と基板主面との隙間を凸部で塞いでしまうと、凹部外に流出して集塵穴から吸引されるエアの流れが乱れてしまう。その結果、集塵穴から吸引されるエアの流速が低下するのに伴い、エア吹出穴から噴出したエアの流速が低下するため、エア吹出穴から噴出したエアによって配線基板の吸引に必要な負圧を発生させることが困難になり、配線基板を吸引できなくなるおそれがある。一方、凸部を低くし過ぎると、集塵穴から吸引されるエアが凸部の外部に流出しやすくなるため、エアとともに回収される異物を集塵穴内に導くことが困難になる。 Further, it is preferable that the height of the convex portion is set such that the convex portion and the wiring substrate are slightly separated in a state where the main surface of the wiring substrate is sucked and held by the suction surface of the suction portion. If the gap between the suction surface and the main surface of the substrate is blocked by the convex portion by making the convex portion too high, the flow of air that flows out of the concave portion and is sucked from the dust collecting hole is disturbed. As a result, as the flow rate of air sucked from the dust collection hole decreases, the flow rate of air blown from the air blow hole decreases, so the air blown from the air blow hole has a negative load necessary for suction of the wiring board. It may be difficult to generate pressure and the wiring board may not be sucked. On the other hand, if the convex portion is made too low, the air sucked from the dust collecting hole tends to flow out of the convex portion, so that it is difficult to guide the foreign matter collected together with the air into the dust collecting hole.
なお、集塵穴は、凹部を包囲するように凸部に沿って複数箇所に配設されていることが好ましい。このようにすれば、凹部から放出されたエアを複数の集塵穴から確実に吸引できるため、基板主面上の異物をエアとともに確実に回収することができる。 In addition, it is preferable that the dust collection hole is arrange | positioned in multiple places along a convex part so that a recessed part may be surrounded. In this way, the air discharged from the recess can be reliably sucked from the plurality of dust collecting holes, so that the foreign matter on the main surface of the substrate can be reliably recovered together with the air.
ここで、集塵穴の数は特に限定されない。しかしながら、吸引面に集塵穴が多数配設されている場合、吸引部の加工コストが高くなるという問題がある。一方、吸引面に集塵穴が少数しか配設されていない場合、集塵穴からエアを殆ど吸引できないため、基板主面上の異物を確実に回収できなくなる。 Here, the number of dust collection holes is not particularly limited. However, when many dust collection holes are provided on the suction surface, there is a problem that the processing cost of the suction part increases. On the other hand, when only a small number of dust collection holes are provided on the suction surface, air cannot be sucked from the dust collection holes, so that foreign matter on the main surface of the substrate cannot be reliably collected.
また、集塵穴の開口部を正面から見たときの形状は特に限定されないが、例えば、集塵穴は、凸部に沿って延びる長孔であることが好ましい。このようにすれば、集塵穴が例えば円形状の孔である場合に比べて、集塵穴から吸引されるエアの総流量を大きくしやすくなる。さらに、吸引面は略矩形状をなす面であり、長孔の長さは、吸引面を構成する一辺の長さの60%以上80%以下に設定されていることが好ましい。仮に、長孔の長さが一辺の長さの60%未満になると、長孔からエアを殆ど吸引できないため、基板主面上の異物を確実に回収できなくなる。一方、長孔の長さが一辺の長さの80%よりも大きくなると、長孔が複数箇所に配設されている場合に、吸引面において全ての長孔を開口させることが困難になる。 In addition, the shape of the opening of the dust collecting hole when viewed from the front is not particularly limited, but for example, the dust collecting hole is preferably a long hole extending along the convex portion. In this way, it becomes easier to increase the total flow rate of air sucked from the dust collection hole than when the dust collection hole is a circular hole, for example. Furthermore, the suction surface is a surface having a substantially rectangular shape, and the length of the long hole is preferably set to 60% or more and 80% or less of the length of one side constituting the suction surface. If the length of the long hole is less than 60% of the length of one side, air can hardly be sucked from the long hole, so that foreign matter on the main surface of the substrate cannot be reliably collected. On the other hand, when the length of the long holes is larger than 80% of the length of one side, it is difficult to open all the long holes on the suction surface when the long holes are arranged at a plurality of locations.
なお、吸引部に、集塵穴に連通する集塵流路が設けられ、集塵流路は、吸引面及び吸引部の側面にて開口するとともに、中心軸線が吸引面に対して15°以上60°以下傾斜した状態に配置されていることが好ましい。仮に、中心軸線が吸引面に対して傾斜する角度が15°未満になると、吸引部に集塵流路を設けることが困難になる。一方、中心軸線が吸引面に対して傾斜する角度が60°よりも大きくなると、エアが流れる向きを大きく変更して集塵流路内に導かなければならないため、拡散する異物をエアとともに効率良く回収することが困難になる。 The suction part is provided with a dust collection channel that communicates with the dust collection hole. The dust collection channel opens at the suction surface and the side surface of the suction unit, and the central axis is 15 ° or more with respect to the suction surface. It is preferable to arrange in an inclined state of 60 ° or less. If the angle at which the central axis is inclined with respect to the suction surface is less than 15 °, it is difficult to provide a dust collection channel in the suction part. On the other hand, if the angle at which the central axis is inclined with respect to the suction surface is larger than 60 °, the direction in which air flows must be changed greatly and guided into the dust collecting flow path. It becomes difficult to collect.
また、集塵穴からエアを吸引することにより、基板主面上の異物を回収する真空引き手段を備えることが好ましい。このようにすれば、基板主面上の異物が確実に回収されるため、回収された異物が再び拡散して配線基板に付着することが防止される。 Moreover, it is preferable to provide a vacuuming means for collecting foreign matter on the main surface of the substrate by sucking air from the dust collection holes. In this way, since the foreign matter on the main surface of the substrate is reliably collected, the collected foreign matter is prevented from diffusing again and adhering to the wiring board.
また、上記課題を解決するための手段(手段2)としては、上記手段1に記載の非接触搬送装置を用いて、被搬送物である配線基板の基板主面を前記吸引面に吸引保持して搬送することにより、配線基板を製造する方法において、前記吸引面における前記凹部の外側領域かつ前記凸部の内側領域に配設された集塵穴から前記エアを吸引することにより、前記基板主面上の異物を回収し、前記集塵穴から吸引されるエアの総流量が、前記吸引面における前記凸部の内側領域に噴出されるエアの総流量よりも大きく設定されることを特徴とする配線基板の非接触搬送方法がある。 Further, as means (means 2) for solving the above-described problems, the non-contact transfer device described in the above means 1 is used to suck and hold the main surface of the wiring board, which is a transferred object, on the suction face. In the method of manufacturing a wiring substrate by transporting the substrate, the air is sucked from a dust collection hole disposed in an outer region of the concave portion and an inner region of the convex portion on the suction surface. Collecting foreign matter on the surface, the total flow rate of air sucked from the dust collection hole is set to be larger than the total flow rate of air ejected to the inner area of the convex portion on the suction surface There is a non-contact conveyance method of the wiring board to be performed.
従って、上記手段2の非接触搬送方法によると、上記手段1の非接触搬送装置を用いて、集塵穴から異物を効率的に回収しながら配線基板を製造することができる。ゆえに、例えば搬送後の導通検査において、異物の付着に起因して配線基板が不良品であると判定されにくくなるため、配線基板の歩留まりを向上させることができる。また、集塵穴から吸引されるエアの総流量が、凸部の内側領域に噴出されるエアの総流量よりも大きく設定される。その結果、凸部の内側領域に噴出されるエアの殆どを集塵穴から吸引することができるため、凸部の内側領域に噴出されるエアの流速が高くなる。ゆえに、吸引部の吸引面と配線基板の基板主面との間に生じた空間の圧力を大きく下げることができるため、配線基板をより確実に吸引することができる。
Therefore, according to the non-contact conveyance method of the
なお、配線基板の形成材料は樹脂材料などの有機材料であることが好ましいが、特に、配線基板は、複数の突起電極が配置された電極形成領域を基板主面上に有する樹脂製配線基板であることが好ましい。その理由は、配線基板を接触状態で搬送しようとする場合に、配線基板の基板主面に形成された突起電極が吸引部に押し潰されて変形するという問題が起こり、これを解決するうえで上記手段の非接触搬送装置を採用する意義が発生するからである。また、樹脂製配線基板には静電気が溜まりやすく、異物が付着しやすいという問題があるため、これを解決するうえで上記手段を採用する意義が大きいからである。 The wiring board forming material is preferably an organic material such as a resin material. In particular, the wiring board is a resin wiring board having an electrode forming area on which a plurality of protruding electrodes are arranged on the main surface of the board. Preferably there is. The reason for this is that when the wiring board is to be transported in a contact state, there is a problem that the protruding electrode formed on the main surface of the wiring board is crushed by the suction portion and deformed. This is because the significance of adopting the non-contact conveyance device of the above means occurs. Further, since the resin wiring board has a problem that static electricity is likely to be accumulated and foreign matters are likely to adhere to it, it is significant to adopt the above means for solving this problem.
[第1実施形態]
以下、本発明を具体化した第1実施形態を図面に基づき詳細に説明する。
[First Embodiment]
Hereinafter, a first embodiment embodying the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図1に示されるように、非接触搬送装置が備える搬送ヘッド11は、被搬送物である配線基板110を気流の作用を利用して搬送するものである。
As shown in FIG. 1, the
図2に示されるように、本実施形態の配線基板110は、ICチップ搭載用のオーガニック・パッケージ(樹脂製配線基板)であり、複数の製造工程後であって検査工程前の状態を示している。配線基板110は、縦30mm×横30mmの平面視略矩形板状である。また、配線基板110は、略矩形板状のコア基板111と、コア基板111のコア主面112(図2では上面)上に形成される第1ビルドアップ層114と、コア基板111のコア裏面113(図2では下面)上に形成される第2ビルドアップ層115とからなる。ビルドアップ層114,115は、熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂)からなる樹脂絶縁層と、銅からなる導体層とを交互に積層した構造を有している。また、配線基板110の基板主面120上(第1ビルドアップ層114の上面上)における複数箇所には、端子パッド116(突起電極)がアレイ状に形成され、配線基板110の基板裏面121上(第2ビルドアップ層115の下面上)における複数箇所には、BGA用パッド117がアレイ状に形成されている。さらに、端子パッド116の表面上には、複数のはんだバンプ118(突起電極)が配設されている。各はんだバンプ118には、矩形平板状をなすICチップの端子が接続されるようになっている。なお、各端子パッド116及び各はんだバンプ118からなる領域は、ICチップを搭載可能な電極形成領域119である。
As shown in FIG. 2, the
図1,図3に示される搬送ヘッド11は、搬送用多関節ロボット(図示略)のアームの先端に装着されている。搬送ヘッド11は、スライドテーブル2と、正面視L字状をなす接続板12を介してスライドテーブル2に取り付けられる吸引部20とを備えている。スライドテーブル2は、上下方向に沿って延びるテーブル本体3に取り付けられており、上下動可能になっている。吸引部20は、吸引面21を配線基板110に向けた状態で配線基板110に対して接近及び離間するようになっている。
The
また、搬送ヘッド11は、配線基板110を位置ずれ不能に保持固定するエアチャック181を備えている。エアチャック181は、チャック本体183と、基端部においてチャック本体183に固定されるとともに互いに離間した状態で吸引部20側に延びる一対の腕部182と、腕部182の先端部に接続されるとともに互いに対向する一対の接触部184とを備えている。チャック本体183は、両腕部182を駆動することにより、両接触部184を互いに接近及び離間させるようになっている。また、両接触部184は、配線基板110よりも硬度が高い樹脂(本実施形態ではPEEK樹脂)によって形成され、内側にそれぞれ係合凹部185を有している。両係合凹部185は、スライドテーブル2を下降させた基板保持固定時に、配線基板110を構成する4つの角部のうち互いに反対側に位置する2つの角部を保持するようになっている。
In addition, the
図4,図5に示されるように、吸引部20は、吸引部本体22、突出部材支持体51及び樹脂製パッド40を備えている。吸引部本体22は、金属材料(本実施形態では、プラチナを含有するアルミニウム合金)によって形成され、縦50mm×横50mm×高さ67mmの略直方体状をなしている。吸引部本体22は、吸引部本体22の下部を構成する吸引ヘッド211と、同吸引部本体22の上部を構成しかつ吸引ヘッド211を支持するヘッド支持部201とからなり、吸引ヘッド211及びヘッド支持部201は互いに分割可能な構造となっている。ヘッド支持部201は、縦50mm×横50mm×高さ22mmの略直方体状をなすブロック材によって形成されている。
As shown in FIGS. 4 and 5, the
ヘッド支持部201の中央部には、同ヘッド支持部201の上面202にて開口する第1ポート取付孔30が設けられている。第1ポート取付孔30には第1ポート90が取り付けられている。なお、第1ポート90は、導電性金属によって形成され、第1ポート90には、ポリウレタンにカーボンブラックを混入させた材料からなる帯電防止チューブ(図示略)が接続されている。さらに、ヘッド支持部201における第1ポート取付孔30の外側領域には、上面202にて開口する一対のネジ挿通孔34が設けられている。なお、搬送ヘッド11の接続板12を貫通したネジ(図示略)をネジ挿通孔34に螺着させることにより、吸引部20が搬送ヘッド11に取り付けられる。また、ヘッド支持部201の下面203(即ち、吸引ヘッド211との接続面)における中央部には、突出部材61が突設されている。さらに、ヘッド支持部201には、下面203にて開口する上側ピン収容穴35と、ヘッド支持部201の側面(即ち、吸引部20の外周面25)にて開口するとともに上側ピン収容穴35に連通する係合ピン孔36とが設けられている。そして、ヘッド支持部201の側面には、部材接続コネクタ37が装着されている。部材接続コネクタ37は係合ピン38を備え、係合ピン38の先端部は係合ピン孔36内に挿入されている。係合ピン38は、バネ39によって上側ピン収容穴35側に付勢されるようになっている。
A first
図4,図5に示されるように、吸引ヘッド211は、ヘッド本体212と、吸引ヘッド211の下端部を構成するヘッド先端部213とを一体形成した構造となっている。ヘッド本体212は、縦50mm×横50mm×高さ36mmの略直方体状をなし、ヘッド先端部213は、縦28mm×横28mm×高さ9mmの略直方体状をなしている。ヘッド本体212には、ヘッド本体212の側面(即ち、吸引部20の外周面25)にて開口する第2ポート取付孔31、第3ポート取付孔32及び第4ポート取付孔33が設けられている。第2ポート取付孔31には第2ポート91が取り付けられ、第3ポート取付孔32には第3ポート92が取り付けられている。さらに、第4ポート取付孔33には第4ポート93が取り付けられている。なお、各ポート91〜93は、導電性金属によって形成され、各ポート91〜93には帯電防止チューブが接続されている。
As shown in FIGS. 4 and 5, the
図5に示されるように、吸引ヘッド211の中央部には、同吸引ヘッド211の上面23及び下面24を貫通する支持体挿通孔26が設けられている。なお、支持体挿通孔26の上面23側端部はネジ孔となっており、支持体挿通孔26の下面24側端部は、後述するエア流路221の環状流路223となる凹部となっている。さらに、ヘッド本体212における支持体挿通孔26の外側領域には、上面23にて開口する下側ピン収容穴28と、ヘッド本体212の側面にて開口するとともに下側ピン収容穴28に連通する空気抜き穴29とが設けられている。よって、ヘッド支持部201側の上側ピン収容穴35にピン19の先端部を挿入するとともに、下側ピン収容穴28にピン19の基端部を挿入した状態で、ピン19の先端部に設けられたくびれ部18に係合ピン38の先端部を係合させることにより、ヘッド支持部201と吸引ヘッド211とが互いに固定される。
As shown in FIG. 5, a
図5に示されるように、吸引ヘッド211には、下面24にて開口する16個の集塵流路191が設けられている。各集塵流路191は、吸引ヘッド211における支持体挿通孔26の外側領域に配置されている。そして、各集塵流路191は、第3ポート取付孔32に連通し、集塵ユニット151(図11参照)に接続されている。また、吸引ヘッド211には、下面24にて開口する4個の吸着流路195が設けられている。各吸着流路195は、吸引ヘッド211における支持体挿通孔26及び各集塵流路191の外側領域に配置されている。そして、吸着流路195は、第4ポート取付孔33に連通し、吸着ユニット161(図11参照)に接続されている。
As shown in FIG. 5, the
また、突出部材支持体51は、吸引ヘッド211の支持体挿通孔26に収容され、上端部が支持体挿通孔26の上面23側端部に螺着されている。突出部材支持体51は、金属材料(本実施形態ではアルミニウム)によって形成され、外径11mm×高さ42mmの略円環状をなしている。また、突出部材支持体51には、内径9mmの突出部材挿入孔55が設けられている。突出部材挿入孔55は、突出部材支持体51の上面52及び下面53(図7参照)を貫通している。
The protruding
図4〜図7に示されるように、突出部材61は、突出部材挿入孔55に挿入され、外径7mm×高さ42mmの略円環状をなしている。突出部材61の内部には、イオンエアを供給する内径2.5mmのイオンエア流路71が設けられている。イオンエア流路71は、吸引面21の一部を構成する突出部材61の先端面62(下端面)にて開口している。また、イオンエア流路71は、第1ポート取付孔30に連通し、イオナイザ141(図11参照)に接続されている。さらに、吸引面21には、下方から見て円形状をなす凹部73が設けられている。また、凹部73の中心には、断面略台形状であって下方から見て円形状をなすノズル先端部75が突設されている。なお、イオンエア流路71は、凹部73の中心軸A1に沿って延びる直線状の流路である。
As shown in FIGS. 4 to 7, the protruding
また、凹部73の中心部には、イオンエア流路71に連通するイオンエア吹出穴82が6箇所に設けられている。詳述すると、各イオンエア吹出穴82は、中心軸A1と同心状に設定された仮想円C1上において、ノズル先端部75を取り囲むように設けられている。また、各イオンエア吹出穴82は、中心軸A1を基準として等角度(60°)間隔で配置されている。なお、各イオンエア吹出穴82は、円形状をなし、内径が1.0mmに設定されている。そして、各イオンエア吹出穴82は、中心軸線が配線基板110の基板主面120に対して垂直に配置されており、イオンエア流路71から供給されてきたイオンエアを基板主面120に向けて垂直に吹き付けるようになっている。また、各イオンエア吹出穴82の中心軸線は、イオンエア流路71の中心軸A1に沿って延びるとともに、中心軸A1と平行に配置されている。
Further, ion air blowing holes 82 communicating with the ion
図5,図7に示されるように、吸引ヘッド211には、エアを供給するエア流路221がイオンエア流路71とは別々に設けられている。エア流路221は、導入流路222及び環状流路223からなっている。導入流路222は、吸引部20(ヘッド本体212)の外周面25から突出部材挿入孔55側(イオンエア流路71側)に延びている。また、導入流路222は、第2ポート91に連通し、エアユニット231(図11参照)に接続されている。環状流路223は、支持体挿通孔26と突出部材支持体51との間に形成された流路であり、突出部材挿入孔55(イオンエア流路71)を包囲するとともに、突出部材挿入孔55の中心軸線(イオンエア流路71の中心軸線)に沿って延びる環状をなしている。環状流路223は、上流側の端部において導入流路222に連通している。
As shown in FIGS. 5 and 7, the
図4〜図7に示されるように、吸引部20(ヘッド先端部213)には、環状流路223の下流側の端部に連通するとともに、凹部73の内周面にて開口するエア吹出穴81が6箇所に設けられている。各エア吹出穴81は、エア流路221から供給されてきたエアを凹部73内に噴出するようになっている。そして、それぞれのエア吹出穴81から噴出されるエアは、凹部73の周方向に沿って導かれ、イオンエア吹出穴82から基板主面120に向けて吹き付けられたイオンエアに衝突することにより、イオンエアを基板主面120全体に拡散させるようになっている。なお、本実施形態の吸引部20は、吸引部本体22と配線基板110との間に発生する空気流によって生じるベルヌーイ効果を利用して配線基板110を保持するようにしたベルヌーイチャックである。
As shown in FIGS. 4 to 7, the suction portion 20 (head tip portion 213) communicates with the downstream end portion of the
なお図6に示されるように、各エア吹出穴81は、凹部73の中心軸A1を基準としたときに回転対称となるように配置されており、凹部73の周方向に沿って開口している。詳述すると、各エア吹出穴81は、中心軸A1と同心状に設定された仮想円C2上において、各イオンエア吹出穴82を取り囲むように配置されている。また、各エア吹出穴81は、中心軸A1を基準として等角度(60°)間隔で配置されている。さらに、各エア吹出穴81は、エア吹出穴81の位置にて接する仮想円C2の接線L1に対して、凹部73の中心側に同じ角度θ1(本実施形態では30°)だけ傾斜した状態で開口している。また、各エア吹出穴81は、吸引面21に対して凹部73の外側に傾斜していない状態で開口している。即ち、各エア吹出穴81は、吸引面21に対して平行に開口している。さらに、エア吹出穴81は、隣接するエア吹出穴81に向かって開口している。なお、各エア吹出穴81の内径は1.2mmに設定されている。
As shown in FIG. 6, each
図4に示されるように、樹脂製パッド40は、ヘッド先端部213に取り付けられ、正面(下面)が吸引面21となっている。樹脂製パッド40は、樹脂材料(本実施形態ではエーテル系ウレタン)によって形成され、縦28mm×横28mm×高さ2.0mmの略矩形板状をなしている。また、樹脂製パッド40の中央部には、直径16mmの貫通孔41が設けられている。貫通孔41は、吸引部本体22の凹部73等を露出させるようになっている。さらに、樹脂製パッド40には、略矩形状をなす吸引面21の外周部に、吸引面21より1.0mmだけ突出した平面視略矩形環状の凸部43が形成されている。凸部43は、吸引面21を包囲するように突設された幅が1.0mmの突条である。なお、凸部43を構成する4つの角部44は、縦4.5mm×横4.5mmの平面視略矩形状をなしている。また、樹脂製パッド40には、4個の真空吸着穴45がそれぞれの角部44にて開口するように配設されている。即ち、各真空吸着穴45は、貫通孔41及び凹部73の外側領域にて開口するように配設されている。そして、各真空吸着穴45は、吸引ヘッド211の吸着流路195に連通している(図5参照)。
As shown in FIG. 4, the
さらに、樹脂製パッド40には、配線基板110の基板主面120(図2参照)上の異物を回収する集塵穴42が設けられている。集塵穴42は、凹部73を包囲するように凸部43に沿って16箇所に配設され、凸部43に沿って等間隔に配置されている。詳述すると、各集塵穴42は、凹部73(貫通孔41)の外側領域であって、凸部43の内側領域にて開口するように配設されている。そして、各集塵穴42は、集塵流路191に連通するようになっている。なお、各集塵穴42の内径は、凸部43の幅(1.0mm)よりも大きく設定され、本実施形態では2.5mmに設定されている。また本実施形態では、集塵穴42から吸引されるエアの総流量が、吸引面21における凸部43の内側領域に噴出されるエアの総流量よりも大きく設定されている。
Further, the
なお、本実施形態の吸引ヘッド211は、搬送する配線基板の外形寸法に応じて、4種類の吸引ヘッドの中から選択したものである。具体的に言うと、吸引ヘッド211は、縦及び横の長さが29mm以上37.5mm以下の配線基板である場合に選択されるようになっている。なお、縦及び横の長さが19mm以上22mm以下の配線基板である場合には、吸引ヘッド250(図8参照)が選択される。さらに、縦及び横の長さが23mm以上27mm以下の配線基板である場合には、吸引ヘッド260(図9参照)が選択され、縦及び横の長さが40mm以上50mm以下、または50mmの配線基板である場合には、吸引ヘッド270(図10参照)が選択される。以上のことから、縦及び横の長さが30mmの配線基板110(図2参照)を搬送する場合には、吸引ヘッド211が選択される。なお、配線基板110は、外形寸法が互いに異なる複数種類の配線基板の中から選択したものである。また、吸引ヘッド211は、吸引ヘッド250,260,270に交換可能となっている。なお、ヘッド支持部201は、各吸引ヘッド211,250,260,270に対して共通して用いられるものである。
Note that the
また、吸引ヘッド211,250,260,270は、ヘッド先端部213,251,261,271の縦及び横の長さが互いに異なっている。さらに、吸引ヘッド211,250,260,270は、エア吹出穴81,253,263,273の設置態様が互いに異なっている。具体的に言うと、吸引ヘッド211,250,260,270は、凹部73,252,262,272の中心軸A1,A2,A3,A4からエア吹出穴81,253,263,273までの距離が互いに異なっている。なお、本実施形態の吸引ヘッド211は、ヘッド先端部213の縦及び横の長さが28mmに設定され、中心軸A1からエア吹出穴81までの距離が9mmに設定されている。また、吸引ヘッド250は、ヘッド先端部251の縦及び横の長さが18mmに設定され、凹部252の中心軸A2からエア吹出穴253までの距離が9mmに設定されている。吸引ヘッド260は、ヘッド先端部261の縦及び横の長さが22mmに設定され、凹部262の中心軸A3からエア吹出穴263までの距離が9mmに設定されている。吸引ヘッド270は、ヘッド先端部271の縦及び横の長さが38mmに設定され、凹部272の中心軸A4からエア吹出穴273までの距離が15mmに設定されている。
Further, the suction heads 211, 250, 260, and 270 are different from each other in the vertical and horizontal lengths of the
また、エアチャック181の接触部184には、静電電位センサ105(図11参照)が設置されている。静電電位センサ105は、接触部184内に埋設されており、接触部184の係合凹部185から露出するように配置されている。つまり、静電電位センサ105は、配線基板110の外周縁に接触する位置に設けられている。静電電位センサ105は、配線基板110に帯電した静電気を測定して、静電気測定信号を出力するようになっている。
Further, an electrostatic potential sensor 105 (see FIG. 11) is installed at the
次に、非接触搬送装置のシステム構成について説明する。 Next, the system configuration of the non-contact conveyance device will be described.
図11に示されるように、非接触搬送装置は、加圧エアを送り出すエア供給源131を備えている。また、非接触搬送装置は、エア供給源131と吸引部20との間を連通しうるエア供給流路130を備えている。エア供給流路130は、下流側において、第1エア流路140、第2エア流路150及び第3エア流路160に分岐している。第1エア流路140は、帯電防止チューブ及び第1ポート90(図5,図11のP3参照)を介して吸引部20のイオンエア流路71に連通している。第2エア流路150は、帯電防止チューブ及び第2ポート91(図5,図11のP2参照)を介して吸引部20のエア流路221に連通している。第3エア流路160は、帯電防止チューブ及び第4ポート93(図5,図11のP1参照)を介して吸引部20の吸着流路195に連通している。
As shown in FIG. 11, the non-contact conveyance device includes an
図11に示されるように、エア供給流路130上にはエア供給バルブ132が設置されている。エア供給バルブ132は、エア供給源131の下流側に配置されており、エア供給流路130を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。エア供給バルブ132は、開状態に切り替えられた際に、下流側にエアを供給可能とするようになっている。なお、本実施形態のエア供給バルブ132は、図示しないソレノイドにより作動する電磁弁である。
As shown in FIG. 11, an
また、エア供給流路130上には、エア供給流路130内のエア圧力を一定値に調整する空気圧調整ユニット133が設置されている。即ち、空気圧調整ユニット133は、エア供給流路130を介してエア供給バルブ132及びエア供給源131と流路的に接続されている。空気圧調整ユニット133は、エアフィルタ134、圧力計135及び減圧弁136を備えている。エアフィルタ134は、エア供給バルブ132の下流側に配置されており、エア供給流路130内を通過するエアに含まれる異物を除去するようになっている。また、圧力計135は、エアフィルタ134の下流側に配置されており、エア供給流路130内を通過するエアの圧力を計測するようになっている。さらに、減圧弁136は、圧力計135の下流側に配置されており、エア供給流路130内を通過するエアの減圧を行い、減圧したエアを下流側に供給するようになっている。また、エア供給流路130上にはエアフィルタ137が設置されている。エアフィルタ137は、減圧弁136の下流側に配置されており、エア供給流路130内を通過するエアに含まれる水分を除去するようになっている。
An air
図11に示されるように、第1エア流路140上にはイオンエアユニット147が設置されている。イオンエアユニット147は、減圧弁145、圧力計146、電磁弁143、エアフィルタ144及びイオナイザ141を備えている。減圧弁145は、エアフィルタ137の下流側に配置されており、第1エア流路140内を通過するエアの減圧を行い、減圧したエアを下流側に供給するようになっている。圧力計146は、減圧弁145の下流側に配置されており、第1エア流路140内を通過するエアの圧力を計測するようになっている。
As shown in FIG. 11, an
また、電磁弁143は、圧力計146の下流側に配置されており、第1エア流路140を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。電磁弁143は、開状態に切り替えられた際に、下流側にエアを供給可能とするとともに、エアを適宜排気してエア圧力を減圧調整するようになっている。なお、本実施形態の電磁弁143は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、後述する制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。また、エアフィルタ144は、電磁弁143の下流側に配置されており、第1エア流路140内を通過するイオンエアに含まれる異物を除去するようになっている。
Moreover, the
図11に示されるように、イオナイザ141は、DC方式のイオナイザであり、エアフィルタ144の下流側に配置されている。イオナイザ141は、第1エア流路140と連通するイオナイザ本体142と、イオナイザ本体142内に突出する2本の放電針(正極側及び負極側の放電針)と、各放電針に直流電圧を印加する高圧電源とを備えている。各放電針は、直流電圧が印加された際にコロナ放電を行うことにより、先端部分の周囲にイオンを発生させるようになっている。詳述すると、正極側の放電針は、印加する直流電圧の極性が正(+)である場合に陽イオンを発生させ、負極側の放電針は、印加する直流電圧の極性が負(−)である場合に陰イオンを発生させるようになっている。そして、イオナイザ141は、イオナイザ本体142内に導かれてきたエアに発生させたイオンを混合させることにより、イオンエアを生成するようになっている。さらに、イオナイザ141は、生成したイオンエアを第1エア流路140の下流側に放出するようになっている。なお、イオンエアは、帯電防止チューブ及び第1ポート90を介して吸引部20のイオンエア流路71に導かれる。
As shown in FIG. 11, the
図11に示されるように、第2エア流路150上にはエアユニット231が設置されている。エアユニット231は、電磁弁232、流量調整弁233及びエアフィルタ234を備えている。電磁弁232は、エアフィルタ137の下流側に配置されており、第2エア流路150を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。電磁弁232は、開状態に切り替えられた際に、下流側にエアを供給可能とするとともに、エアを適宜排気してエア圧力を減圧調整するようになっている。なお、本実施形態の電磁弁232は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。また、流量調整弁233は、電磁弁232とエアフィルタ234とをつなぐ流路の途中に配置されており、第2エア流路150を流れるエアを定量的に排気してそのエアの圧力が一定値となるよう減圧調整する絞り弁である。エアフィルタ234は、流量調整弁233の下流側に配置されており、第2エア流路150内を通過するエアに含まれる異物を除去するようになっている。
As shown in FIG. 11, an
図11に示されるように、第3エア流路160上には吸着ユニット161が設置されている。また、吸着ユニット161は、基板吸着流路158と、第3エア流路160に連通する真空破壊流路159とに分岐している。
As shown in FIG. 11, an
基板吸着流路158上には、第1電磁弁162及びエアフィルタ167が設置されている。第1電磁弁162は、エアフィルタ137の下流側に配置されており、基板吸着流路158を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。第1電磁弁162は、開状態に切り替えられた際に、吸引部20の真空吸着穴45近傍にあるエアを、吸着流路195、第4ポート93及びエアフィルタ167等を介して真空引きするとともに、エアを適宜吸入してエア圧力を加圧調整するようになっている。なお、本実施形態の第1電磁弁162は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。
A first
図11に示されるように、真空破壊流路159上には、第2電磁弁168、流量調整弁169及び圧力スイッチ170が設置されている。第2電磁弁168は、エアフィルタ137の下流側に配置されており、真空破壊流路159を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。第2電磁弁168は、開状態に切り替えられた際に、エアフィルタ167と吸引部20とをつなぐ接続流路にエアを供給して、その接続流路の真空度を弱めるようになっている。それとともに、第2電磁弁168は、開状態に切り替えられた際に、真空破壊流路159を流れるエアを適宜排気して減圧調整するようになっている。なお、本実施形態の第2電磁弁168は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。また、流量調整弁169は、第2電磁弁168と圧力スイッチ170とをつなぐ流路の途中に配置されており、真空破壊流路159を流れるエアを定量的に排気してそのエアの圧力が一定値となるよう減圧調整する絞り弁である。圧力スイッチ170は、流量調整弁169及びエアフィルタ167の下流側に配置されている。圧力スイッチ170は、真空破壊流路159内の圧力が所定値を超えたこと(即ち、真空破壊されていること)を契機としてオン状態となり、真空破壊信号を制御装置101のCPU102に対して出力するようになっている。
As shown in FIG. 11, a second
図11に示されるように、非接触搬送装置は真空流路153を備え、真空流路153上には集塵ユニット151が設置されている。真空流路153は、帯電防止チューブ及び第3ポート92(図5,図11のP4参照)を介して吸引部20の集塵流路191に連通している。集塵ユニット151は、電磁弁152及びエアフィルタ157を備えている。電磁弁152は、真空流路153を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。電磁弁152は、開状態に切り替えられた際に、吸引部20の集塵穴42近傍にあるエアを、集塵流路191、第3ポート92及びエアフィルタ157等を介して吸引するとともに、エアを適宜吸入してエア圧力を加圧調整するようになっている。即ち、集塵ユニット151は、集塵穴42からエアを吸引(真空引き)することにより、基板主面120上の異物を回収する真空引き手段としての機能を有している。また、本実施形態の電磁弁152は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。
As shown in FIG. 11, the non-contact conveyance device includes a
次に、非接触搬送装置の電気的構成について説明する。 Next, the electrical configuration of the non-contact conveyance device will be described.
図11に示されるように、非接触搬送装置は、装置全体を制御する制御装置101を備えている。制御装置101は、CPU102、ROM103、RAM104及び入出力回路等により構成されている。CPU102は、エア供給バルブ132、イオナイザ141、電磁弁143,152,232、第1電磁弁162及び第2電磁弁168に電気的に接続されており、各種の駆動信号によってそれらを制御する。
As shown in FIG. 11, the non-contact conveyance device includes a
また、CPU102には、静電電位センサ105から出力された静電気測定信号が入力されるようになっている。そして、CPU102は、静電気測定信号が示す静電気の電荷の極性に基づいて、吸引部20によって吸引される配線基板110が正(+)に帯電しているか負(−)に帯電しているかを判定するようになっている。配線基板110が正に帯電していると判定された場合、CPU102は、イオナイザ141に駆動信号を出力し、直流電圧を印加して負極側の放電針に陰イオンを発生させる制御を行うようになっている。一方、配線基板110が負に帯電していると判定された場合、CPU102は、イオナイザ141に駆動信号を出力し、直流電圧を印加して正極側の放電針に陽イオンを発生させる制御を行うようになっている。このような制御によれば、配線基板110に帯電した静電気を確実に中和させることができる。
The
なお本実施形態では、DC方式のイオナイザ141を用いているが、それに代えてAC方式のイオナイザを用いてもよい。AC方式のイオナイザは、イオナイザ本体と、イオナイザ本体に突出する1本の放電針と、放電針に交流電圧を印加する高圧電源とを備えている。放電針は、交流電圧が印加された際に、印加する交流電圧の極性に応じて陽イオンまたは陰イオンを発生させるようになっている。この場合、CPU102は、静電電位センサ105から出力された静電気測定信号が入力されると、静電気測定信号が示す静電気の電荷量に基づいて配線基板110が帯電しているか否かを判定する。配線基板110が帯電していると判定された場合、CPU102は、イオナイザ141に駆動信号を出力し、イオナイザ141の出力を強くする制御を行う。一方、配線基板110が帯電していないと判定された場合、CPU102は、イオナイザ141に駆動信号を出力し、イオナイザ141の出力を弱くする制御を行う。このような制御によれば、配線基板110の帯電を確実に防止することができる。また、イオナイザ141が必要以上に作動することを防止することができる。
In this embodiment, although the
次に、配線基板110の非接触搬送方法を説明する。
Next, a non-contact conveyance method for the
本実施形態の配線基板110は、複数の製造工程を経て製造され、導通検査を行う検査工程を受けた後に出荷される。なお、配線基板110は、製造工程が終了する度に基板支持台(図示略)上に配置される。この状態において、非接触搬送装置を用いて配線基板110を搬送する。詳述すると、搬送用多関節ロボットのアームを駆動して搬送ヘッド11を下降させる。なお本実施形態では、配線基板の外形寸法に応じて、4種類の吸引ヘッド211,250,260,270の中から1つの吸引ヘッド(ここでは吸引ヘッド211)を選択し、選択した吸引ヘッドをヘッド支持部201に取り付けた状態で、搬送ヘッド11を下降させる。
The
続くエア噴出工程において、CPU102は、エア供給バルブ132及び電磁弁232に駆動信号を出力して、エア供給バルブ132及び電磁弁232を開状態に切り替える。その結果、エア供給源131から送り出された加圧エアが、エア供給流路130を通過して第2エア流路150に導かれる。そして、第2エア流路150に導かれたエアは、第2ポート91(図5,図11のP2参照)を介して吸引部20内に流入し、エア流路221に導かれる。
In the subsequent air ejection process, the
なお本実施形態では、エア流路221に導かれたエアは、エア吹出穴81を通過し、エア吹出穴81から凹部73の内周面に沿って噴出する。その結果、エア吹出穴81から噴出したエアの大部分は、エア吹出穴81が開口する方向に流れて凹部73外に流出した後、吸引面21と基板主面120との隙間を通過し、この際に高速流となって吸引部20の外側に放出される。その結果、吸引面21と基板主面120との間に生じた空間が負圧となり、配線基板110の基板主面120が吸引面21に吸引保持される(図1参照)。また、エア吹出穴81から噴出されたエアの一部は、凹部73の周方向に沿って流れて旋回流を形成する。
In the present embodiment, the air guided to the
続く集塵工程において、CPU102は、電磁弁152に駆動信号を出力して、電磁弁152を開状態に切り替える。その結果、吸引部20の集塵穴42近傍にあるエアが、集塵流路191及び第3ポート92(図5,図11のP4参照)を介して吸引される。その結果、配線基板110の基板主面120上に付着している異物がエアとともに回収される。
In the subsequent dust collection process, the
続くイオンエア噴出工程において、CPU102は、イオナイザ141及び電磁弁143に駆動信号を出力する。その結果、電磁弁143が開状態に切り替わるとともに、イオナイザ141が作動する。そして、エア供給源131から送り出された加圧エアが、エア供給流路130を通過して第1エア流路140上のイオナイザ141に流入する。イオナイザ141は、イオナイザ本体142内に導かれてきたエアにイオンを混合させることにより、イオンエアを生成する。そして、イオナイザ141は、生成したイオンエアをイオナイザ141の下流側に放出する。さらに、イオナイザ141から放出されたイオンエアが、第1エア流路140及び第1ポート90(図5,図11のP3参照)を介して吸引部20内に流入し、イオンエア流路71に導かれる。
In the subsequent ion air ejection process, the
なお本実施形態では、イオンエア流路71に導かれたイオンエアを、イオンエア吹出穴82から配線基板110の基板主面120に向けて垂直に吹き付けることにより、基板主面120上の異物を除去する。また、イオンエア吹出穴82から吹き付けられたイオンエアには、エア吹出穴81から噴出したエアが衝突する。その結果、イオンエアが基板主面120全体に拡散するため、基板主面120上の異物が、吹き飛ばされることによって確実に除去される。
In the present embodiment, the ion air guided to the ion
また本実施形態では、基板主面120を吸引面21に吸引保持すると同時に、イオンエア吹出穴82から吹き付けられたイオンエアを、吸引保持される配線基板110によって吸引面21側に押し戻しつつ基板主面120全体に拡散させる。その結果、イオンエアに含まれるイオンが基板主面120全体に接触して、配線基板110に帯電した静電気が除去される。
Further, in the present embodiment, the substrate
続く位置決め工程では、搬送用多関節ロボットのアームを駆動して搬送ヘッド11とともに配線基板110を上昇させる。さらに、搬送ヘッド11のスライドテーブル2を駆動して吸引部20を下降させ、配線基板110の基板主面120に吸引部20の吸引面21を接近させる。そして、搬送ヘッド11のエアチャック181を駆動して腕部182の接触部184を配線基板110に近付ける。その結果、各接触部184の係合凹部185が配線基板110の2つの角部に係合し、配線基板110が位置ずれ不能に保持固定される。
In the subsequent positioning step, the arm of the transfer articulated robot is driven to raise the
続く吸着工程において、CPU102は、第1電磁弁162に駆動信号を出力する。その結果、第1電磁弁162が開状態に切り替わり、吸引部20の真空吸着穴45近傍にあるイオンエアが、吸着流路195及び第4ポート93(図5,図11のP1参照)を介して真空引きされる。その結果、ベルヌーイ効果による吸引力と真空引きによる吸着力とによって、配線基板110の基板主面120が吸引面21により安定的に吸引保持される。
In the subsequent adsorption process, the
その後、搬送ヘッド11のエアチャック181を駆動して接触部184を配線基板110から離間させる。その結果、配線基板110の角部に対する係合凹部185の係合が解除される。さらに、搬送ヘッド11のスライドテーブル2を駆動して、吸引部20を上昇させる。
Thereafter, the
そして、搬送用多関節ロボットのアームを駆動し、検査工程用のラインに配線基板110を搬送する。配線基板110が検査工程用のラインに到達すると、配線基板110の釈放を行い、検査工程用のラインの支持台上に配線基板110を配置する。具体的に言うと、CPU102は、電磁弁143を閉状態に切り替える制御を行い、第1エア流路140を遮断する。その結果、吸引部20へのイオンエアの供給が停止され、イオンエア吹出穴82からのイオンエアの噴出が終了する。それと同時に、CPU102は、電磁弁152を閉状態に切り替える制御を行って真空流路153を遮断する。その結果、集塵穴42からのエアの吸引が終了する。また、搬送用多関節ロボットのアームを駆動して搬送ヘッド11とともに配線基板110を下降させる。
Then, the arm of the transfer articulated robot is driven to transfer the
次に、CPU102は、電磁弁232を閉状態に切り替える制御を行い、第2エア流路150を遮断する。その結果、吸引部20へのエアの供給が停止され、エア吹出穴81からのエアの噴出が終了する。それと同時に、CPU102は、第1電磁弁162を閉状態に切り替える制御を行って真空流路153を遮断する。
Next, the
また、CPU102は、第2電磁弁168に駆動信号を出力する。その結果、第2電磁弁168が開状態に切り替わり、エア供給源131から送り出された加圧エアが、エア供給流路130及び第3エア流路160を通過して真空破壊流路159に導かれ、エアフィルタ167と吸引部20とをつなぐ接続流路に供給される。そして、接続流路の真空破壊が行われ、接続流路の真空度が弱められ、配線基板110を吸引する力が弱くなる。その結果、真空吸着穴45からのイオンエアの真空引きが終了する。その後、CPU102は、第2電磁弁168を閉状態に切り替える制御を行って第3エア流路160を遮断する。
Further, the
そして、搬送用多関節ロボットのアームを駆動して搬送ヘッド11を上昇させる。その結果、搬送ヘッド11が配線基板110から離間し、配線基板110が検査工程用のラインの支持台上に配置される。
Then, the arm of the transfer articulated robot is driven to raise the
従って、本実施形態によれば以下の効果を得ることができる。 Therefore, according to the present embodiment, the following effects can be obtained.
(1)本実施形態の非接触搬送装置では、吸引部20に設けられた集塵穴42からエアを吸引することで、基板主面120上の異物を回収することができる。その結果、配線基板110の周囲への異物の拡散が抑えられるため、別の配線基板110への異物の付着が抑えられる。しかも、凹部73外に流出して基板主面120に対してほぼ平行に流れるエアが凸部43の外部に流出しにくくなるため、吸引面21において凸部43の内側領域にある集塵穴42からエアを吸引すれば、拡散する異物をエアとともに効率良く回収することができる。その結果、環状の凸部43が存在しない構成に比べて、配線基板110の周囲への異物の拡散がより確実に抑えられ、別の配線基板110への異物の付着がより確実に抑えられる。ゆえに、搬送後の導通検査において、基板主面120上のはんだバンプ118に対してプローブ(図示略)を当接させた際に、プローブとはんだバンプ118との間に導通しない異物が噛み込むことが防止される。その結果、配線基板110が異物の存在に起因して不良品であると判定されにくくなるため、配線基板110の歩留まりが向上する。
(1) In the non-contact conveyance device of the present embodiment, foreign matter on the substrate
(2)本実施形態では、配線基板110の搬送中においても、エア及びイオンエアを噴出し続けることによって異物の除去や配線基板110の除電を行っている。即ち、配線基板110の搬送工程と、異物の除去や除電を行う工程とを同時に行うことができるため、配線基板110の製造効率が向上する。
(2) In the present embodiment, the foreign substance is removed and the
(3)例えば、真空吸着穴45からの真空引きによって、配線基板110の基板主面120を吸引面21に吸引保持すると同時に、真空吸着穴45から吸引されるエアとともに基板主面120上の異物を回収することが考えられる。しかし、真空吸着穴45や、真空吸着穴45に連通する吸着流路195などからなる真空引き経路に異物が侵入することにより、真空引き経路の一部または全部が塞がれるおそれがある。その結果、真空吸着穴45から真空引きする力が弱くなるため、配線基板110を安定的に保持できない可能性がある。
(3) For example, the substrate
そこで本実施形態では、真空引き用の真空吸着穴45とは別に、異物回収用の集塵穴42を設けている。その結果、真空引き経路が異物の侵入によって塞がれにくくなるため、基板主面120上に異物が付着していたり、配線基板110の周囲に異物が浮遊していたりしても、真空引きする力が低下しにくくなる。ゆえに、真空引きする力によって配線基板110を確実に吸引保持することができる。
Therefore, in the present embodiment, a
[第2実施形態]
以下、本発明を具体化した第2実施形態を図面に基づき説明する。ここでは、第1実施形態と相違する部分を中心に説明し、共通する部分については同じ部材番号を付す代わりに説明を省略する。
[Second Embodiment]
Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Here, it demonstrates centering on the part which is different from 1st Embodiment, and abbreviate | omits description instead of attaching | subjecting the same member number about a common part.
本実施形態では、樹脂製パッド及び吸引部の構造などが前記第1実施形態とは異なっている。詳述すると、図12,図13に示される樹脂製パッド300には、略矩形状をなす吸引面301の外周部に、吸引面301より1.0mmだけ突出した平面視略矩形環状の凸部302が形成されている。凸部302は、吸引面301を包囲するように突設された幅が1.0mmの突条である。なお、凸部302を構成する4つの角部303は、縦4.5mm×横4.5mmの平面視略矩形状をなしている。さらに、樹脂製パッド300には、4個の真空吸着穴304がそれぞれの角部303にて開口するように配設されている。各真空吸着穴304は、前記第1実施形態の真空吸着穴45と同じものである。
In the present embodiment, the structure of the resin pad and the suction portion is different from that of the first embodiment. More specifically, the
また、樹脂製パッド300の中央部には、凹部(図示略)を露出させる貫通孔305が設けられている。本実施形態の凹部は、前記第1実施形態の凹部73と同じものであり、貫通孔305は、前記第1実施形態の貫通孔41と同じものである。さらに、樹脂製パッド300には、配線基板110の基板主面120(図2参照)上の異物を回収する長孔306(集塵穴)が設けられている。長孔306は、凹部を包囲するように凸部302に沿って4箇所に配設されている。詳述すると、各長孔306は、凹部(貫通孔305)の外側領域であって、凸部302の内側領域にて開口するように配設され、凸部302に沿って延びている。また、各長孔306は、吸引面301を構成する4つの辺に対してそれぞれ平行に配置されている。さらに、長孔306と凸部302との距離は、長孔306と貫通孔305との距離よりも短くなっている。よって、長孔306は、吸引面301の外周部において凸部302に接近して配置されている。なお、各長孔306の長さは、吸引面301を構成する一辺の長さ(33mm)の約67%(具体的には22mm)に設定されている。また、各長孔306の幅は、凸部302の幅(1.0mm)よりも大きく設定され、本実施形態では2.5mmに設定されている。
In addition, a through
また、図13に示されるように、吸引部を構成する吸引ヘッド310は、ヘッド本体311と、吸引ヘッド310の下端部を構成するヘッド先端部312とを一体形成した構造を有し、前記第1実施形態のヘッド支持部201(図5参照)に取り付けられるようになっている。ヘッド本体311は、縦50mm×横50mm×高さ8mmの略直方体状をなし、ヘッド先端部312は、縦33mm×横33mm×高さ10mmの略直方体状をなしている。ヘッド先端部312には、各長孔306に連通する4つの集塵流路313が設けられている。各集塵流路313は、下面314(吸引面301)及び側面315にて開口するとともに、中心軸線C3が下面314に対して60°傾斜した状態に配置されている。また、各集塵流路313の中心軸線C3は、下面314に垂直な直線(垂線)に対してヘッド先端部312の外周側(側面315側)に傾斜している。換言すると、各集塵流路313は、始端(下面314側開口)から終端(側面315側開口)に行くに従ってヘッド先端部312の外周側に傾斜している。なお、各集塵流路313は、中心軸線C3に沿って延びる直線状の流路である。そして、各集塵流路313の長さは、長孔306の長さと同じ大きさ(本実施形態では22mm)に設定されている。また、各集塵流路313の幅は約3.0mmに設定されている。そして、各集塵流路313は、同集塵流路313の側面315側開口に接続された集塵管(図示略)等を介して集塵機(図示略)に接続されている。集塵機は、長孔306からエアを吸引(真空引き)することにより、基板主面120上の異物を回収する真空引き手段としての機能を有している。なお本実施形態では、長孔306から吸引されるエアの総流量が、吸引面301における凸部302の内側領域に噴出されるエアの総流量よりも大きく設定されている。
As shown in FIG. 13, the
従って、本実施形態によれば以下の効果を得ることができる。 Therefore, according to the present embodiment, the following effects can be obtained.
(4)本実施形態の非接触搬送装置では、凹部外に流出して基板主面120に対してほぼ平行に流れるエアが凸部302の外部に流出しにくくなるため、吸引面301において凸部302の内側領域にある長孔306からエアを吸引すれば、拡散する異物をエアとともに効率良く回収することができる。その結果、環状の凸部302が存在しない構成に比べて、配線基板110の周囲への異物の拡散がより確実に抑えられ、別の配線基板110への異物の付着がより確実に抑えられる。ゆえに、導通検査において、異物の付着に起因して配線基板110が不良品であると判定される確率がさらに小さくなるため、配線基板110の歩留まりがよりいっそう向上する。
(4) In the non-contact conveyance device of the present embodiment, since the air that flows out of the recess and flows substantially parallel to the substrate
(5)本実施形態では、4つの長孔306が、吸引面301の外周部において凸部302に接近して配置されている。即ち、各長孔306は、できるだけ吸引面301の外周部に近付けて配置されている。その結果、各長孔306同士を互いに離間させることができるため、断面積(長さ)の大きい長孔306を容易に形成することができる。しかも、各長孔306が凸部302に接近しているため、凸部302に衝突することによって流れなくなったエアを長孔306から即座に吸引することができる。ゆえに、長孔306による異物の回収効率がよりいっそう高くなる。
(5) In the present embodiment, the four
(6)集塵穴が例えば円形状の孔である場合、一旦異物が入り込むと、集塵穴が塞がってしまう可能性が高い。その結果、集塵穴から吸引されるエアの総流量が急激に少なくなるため、拡散する異物をエアとともに効率良く回収できなくなる。一方、本実施形態の集塵穴は長孔306であるため、例えば長孔306の一端が塞がったとしても、長孔306の他端は塞がらずに機能し続ける可能性が高い。その結果、長孔306から吸引されるエアの総流量は殆ど低下しないため、拡散する異物をエアとともに確実に回収することができる。
(6) When the dust collection hole is, for example, a circular hole, once the foreign matter enters, the dust collection hole is likely to be blocked. As a result, the total flow rate of air sucked from the dust collection hole is drastically reduced, so that the diffusing foreign matter cannot be efficiently collected together with the air. On the other hand, since the dust collection hole of the present embodiment is the
(7)例えば、真空吸着穴304からの真空引きによって、配線基板110の基板主面120を吸引面301に吸引保持すると同時に、真空吸着穴304から吸引されるエアとともに基板主面120上の異物を回収することが考えられる。しかし、真空吸着穴304や、真空吸着穴304に連通する吸着流路(図示略)などからなる真空引き経路に異物が侵入することにより、真空引き経路の一部または全部が塞がれるおそれがある。その結果、真空吸着穴304から真空引きする力が弱くなるため、配線基板110を安定的に保持できない可能性がある。
(7) For example, the substrate
そこで本実施形態では、真空引き用の真空吸着穴304とは別に、異物回収用の長孔306を設けている。その結果、真空引き経路が異物の侵入によって塞がれにくくなるため、基板主面120上に異物が付着していたり、配線基板110の周囲に異物が浮遊していたりしても、真空引きする力が低下しにくくなる。ゆえに、真空引きする力によって配線基板110を確実に吸引保持することができる。
Therefore, in the present embodiment, a
(8)例えば、基板主面120上の異物をエアで吹き飛ばして除去し、吹き飛ばされた異物を板状部材などに衝突させて落下させることにより、異物の拡散を防止することが考えられる。しかし、一旦落下した異物が再び吹き飛ばされて拡散し、拡散した異物が配線基板110に付着する可能性がある。そこで本実施形態では、異物を落下させるのではなく、長孔306からイオンエアを吸引することで異物を回収している。よって、回収された異物が再び拡散して配線基板110に付着することが防止される。
(8) For example, it is conceivable that foreign matter on the substrate
なお、上記実施形態を以下のように変更してもよい。 In addition, you may change the said embodiment as follows.
・上記第2実施形態の集塵流路313は、集塵機に接続されていたが、例えば上記第1実施形態の集塵ユニット151(図11参照)などに接続されていてもよい。この場合、集塵ユニット151が真空引き手段としての機能を有するようになる。
-Although the dust
・上記第2実施形態の集塵流路313は、中心軸線C3に沿って延びる直線状の流路であったが、曲線状の流路であってもよい。しかし、加工の容易さを考慮すると、集塵流路313は直線状の流路であることが好ましい。
-Although the dust
・上記実施形態において、真空吸着穴45,304を省略し、集塵穴42,306からエアを吸引することで基板主面120上の異物を回収すると同時に、集塵穴42,306からの真空引きによって、配線基板110の基板主面120を吸引面21に吸引保持するようにしてもよい。
In the above embodiment, the vacuum suction holes 45 and 304 are omitted, and the foreign matter on the substrate
・上記実施形態では、ヘッド支持部201の下面203における中央部に突出部材61が突設されていた。即ち、突出部材61はヘッド支持部201に一体形成されていた。しかし、突出部材61をヘッド支持部201から分離できる構造としてもよい。例えば、突出部材61をヘッド支持部201に対してネジ止めするようにしてもよい。
In the above embodiment, the protruding
・上記第1実施形態では、エア供給バルブ132、イオナイザ141、電磁弁143、電磁弁152、電磁弁232、第1電磁弁162及び第2電磁弁168の制御を1つのCPU102で制御するようにしたが、各制御を別々のCPUで行うように構成してもよい。
In the first embodiment, the control of the
・上記実施形態の非接触搬送装置は、単一製品の配線基板110を搬送するようになっていたが、例えば、配線基板110となるべき基板形成領域が平面方向に沿って複数配置された多数個取り用配線基板を搬送するようにしてもよい。
-Although the non-contact conveyance apparatus of the said embodiment was designed to convey the
・上記実施形態では、吸引部を装着した搬送用多関節ロボットを用いて配線基板110を搬送していたが、吸引部を装着したコンベアなどの搬送手段を用いて配線基板110を搬送してもよい。
In the above embodiment, the
次に、前述した実施形態によって把握される技術的思想を以下に列挙する。 Next, the technical ideas grasped by the embodiment described above are listed below.
(1)上記手段1において、前記集塵穴は、前記凸部に沿って延びる長孔であり、前記長孔の幅が2mm以上に設定されていることを特徴とする配線基板の非接触搬送装置。 (1) In the said means 1, the said dust collection hole is a long hole extended along the said convex part, The width | variety of the said long hole is set to 2 mm or more, The non-contact conveyance of the wiring board characterized by the above-mentioned apparatus.
(2)上記手段1において、前記吸引面の中央部に、前記凹部を露出させる貫通孔が設けられ、前記集塵穴と前記凸部との距離が、前記集塵穴と前記貫通孔との距離よりも短いことを特徴とする配線基板の非接触搬送装置。 (2) In the above means 1, a through-hole exposing the concave portion is provided in a central portion of the suction surface, and a distance between the dust collection hole and the convex portion is set between the dust collection hole and the through-hole. A non-contact transfer device for a wiring board, which is shorter than a distance.
(3)上記手段1において、前記吸引部に、前記集塵穴に連通する集塵流路が設けられ、前記集塵穴は、前記凸部に沿って延びる長孔であり、前記集塵流路の長さは、前記長孔の長さと同じ大きさに設定されていることを特徴とする配線基板の非接触搬送装置。 (3) In the above means 1, the suction part is provided with a dust collecting flow path communicating with the dust collecting hole, and the dust collecting hole is a long hole extending along the convex part, and the dust collecting flow The length of the path is set to the same size as the length of the long hole, and the wiring board non-contact transfer device.
(4)技術的思想(3)において、前記集塵流路の中心軸線が、前記吸引面に垂直な直線に対して前記吸引部の側面側に傾斜していることを特徴とする配線基板の非接触搬送装置。 (4) In the technical idea (3), the central axis of the dust collecting flow path is inclined toward the side surface of the suction portion with respect to a straight line perpendicular to the suction surface. Non-contact transfer device.
(5)技術的思想(3)または(4)において、前記集塵流路は、中心軸線に沿って延びる直線状の流路であることを特徴とする配線基板の非接触搬送装置。 (5) In the technical idea (3) or (4), the dust collecting flow path is a linear flow path extending along a central axis, and the wiring board non-contact transfer device.
20…吸引部
21,301…吸引面
42…集塵穴
43,302…凸部
73,252,262,272…凹部
81,253,263,273…エア吹出穴
110…被搬送物としての配線基板
116…突起電極としての端子パッド
118…突起電極としてのはんだバンプ
119…電極形成領域
120…基板主面
151…真空引き手段としての集塵ユニット
306…集塵穴としての長孔
313…集塵流路
315…吸引部の側面
C3…中心軸線
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記吸引面の外周部に、前記吸引面を包囲するように突設された環状の凸部が形成され、
前記基板主面上の異物を回収する集塵穴が、前記吸引面における前記凹部の外側領域かつ前記凸部の内側領域にて配設され、
前記吸引部に、前記集塵穴に連通する直線状の集塵流路が設けられ、
前記集塵流路は、前記吸引面及び前記吸引部の側面にて開口するとともに、中心軸線が前記吸引面に対して15°以上60°以下傾斜した状態に配置されている
ことを特徴とする配線基板の非接触搬送装置。 The suction surface is provided with a recess, and is provided with a suction portion provided with an air blowing hole that opens at the inner peripheral surface of the recess, and is generated by the air blown from the air blowing hole along the inner peripheral surface of the recess. In the non-contact transport device that transports the substrate main surface of the wiring substrate that is the object to be transported by sucking and holding the suction surface to the suction surface,
On the outer peripheral portion of the suction surface, an annular convex portion protruding so as to surround the suction surface is formed,
A dust collecting hole for collecting foreign matter on the main surface of the substrate is disposed in an outer region of the concave portion and an inner region of the convex portion on the suction surface ,
The suction part is provided with a linear dust collecting flow path communicating with the dust collecting hole,
The dust collection passage is opened at the suction surface and the side surface of the suction part, and the central axis is disposed in a state inclined at 15 ° or more and 60 ° or less with respect to the suction surface. A non-contact transfer device for a wiring board characterized by the above.
前記吸引面における前記凹部の外側領域かつ前記凸部の内側領域に配設された集塵穴から前記エアを吸引することにより、前記基板主面上の異物を回収し、
前記集塵穴から吸引されるエアの総流量が、前記吸引面における前記凸部の内側領域に噴出されるエアの総流量よりも大きく設定される
ことを特徴とする配線基板の製造方法。 A non-contact transfer device according to any one of claims 1 to 6 is used to manufacture a wiring board by holding the main surface of the wiring board as a transfer object while sucking and holding the main surface of the wiring board on the suction surface. In the way to
By sucking the air from the dust collection holes disposed in the outer region of the concave portion and the inner region of the convex portion on the suction surface, the foreign matter on the substrate main surface is collected,
A method for manufacturing a wiring board, wherein a total flow rate of air sucked from the dust collection holes is set to be larger than a total flow rate of air ejected to an inner region of the convex portion on the suction surface.
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