JP5198499B2 - Wiring board non-contact transfer device and wiring board manufacturing method - Google Patents

Wiring board non-contact transfer device and wiring board manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP5198499B2
JP5198499B2 JP2010060227A JP2010060227A JP5198499B2 JP 5198499 B2 JP5198499 B2 JP 5198499B2 JP 2010060227 A JP2010060227 A JP 2010060227A JP 2010060227 A JP2010060227 A JP 2010060227A JP 5198499 B2 JP5198499 B2 JP 5198499B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
air
wiring board
air blowing
flow path
ion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2010060227A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2011189490A (en
Inventor
陽介 森田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NGK Spark Plug Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Spark Plug Co Ltd filed Critical NGK Spark Plug Co Ltd
Priority to JP2010060227A priority Critical patent/JP5198499B2/en
Priority to TW100108633A priority patent/TW201204618A/en
Publication of JP2011189490A publication Critical patent/JP2011189490A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5198499B2 publication Critical patent/JP5198499B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Manipulator (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、被搬送物である配線基板を、気流の作用を利用して搬送する配線基板の非接触搬送装置、非接触搬送装置を用いた配線基板の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a non-contact conveyance device for a wiring substrate that conveys a wiring substrate that is an object to be conveyed using the action of an air current, and a method for manufacturing a wiring substrate using the non-contact conveyance device.

従来より、配線基板は、複数の製造工程を経て製造され、導通検査を行う検査工程を受けた後に出荷される。また、配線基板は、製造工程が終了する度に、次の工程を行うためのラインに搬送されるようになっている。なお、従来の搬送方法としては、エア吸着穴が開口された吸着ヘッドの下面に配線基板の表面を負圧で吸着し、この状態で、配線基板を吸着ヘッドとともに搬送する方法などが提案されている。しかし、吸着ヘッドで配線基板を搬送すると、吸着ヘッドの汚れや磨耗によって生じた異物(粉塵)が配線基板に付着するなどの問題がある。   Conventionally, a wiring board is manufactured through a plurality of manufacturing processes, and is shipped after undergoing an inspection process for conducting a continuity test. The wiring board is transported to a line for performing the next process every time the manufacturing process is completed. As a conventional transport method, a method has been proposed in which the surface of the wiring board is sucked with a negative pressure on the lower surface of the suction head having an air suction hole and the wiring board is transported together with the suction head in this state. Yes. However, when the wiring board is transported by the suction head, there is a problem that foreign matter (dust) generated by dirt or wear of the suction head adheres to the wiring board.

そこで、配線基板などの被搬送物を非接触状態で吸引しながら搬送することにより、配線基板への異物の付着を少なくした搬送装置が提案されている(例えば特許文献1参照)。かかる搬送装置は、搬送ヘッド、搬送ヘッドの先端面(吸引面)にて開口する気体供給孔、及び、搬送ヘッドに装着されるとともに円板部を有するノズルなどを備えている。そして、搬送ヘッドの吸引面を配線基板に接近させ、気体供給孔から供給されたエアを吸引面と円板部との間に形成されたスリットを介して外部に導出すると、エアが搬送ヘッドの外側に放射状に放出される。その結果、ノズル付近と配線基板との空間が負圧となり、配線基板が搬送ヘッドに吸引保持される。この状態において、ロボットアームなどを用いて搬送ヘッドを搬送すれば、配線基板を非接触状態で搬送することができる。   In view of this, there has been proposed a transfer device that reduces the adhesion of foreign matter to the wiring board by transferring the object to be transferred such as the wiring board while sucking in a non-contact state (see, for example, Patent Document 1). Such a transport apparatus includes a transport head, a gas supply hole that opens at the front end surface (suction surface) of the transport head, and a nozzle that is attached to the transport head and has a disk portion. Then, when the suction surface of the transport head is brought close to the wiring board and the air supplied from the gas supply hole is led out to the outside through a slit formed between the suction surface and the disk portion, the air is transferred to the transport head. Radiated outwards. As a result, the space between the nozzle and the wiring board becomes negative pressure, and the wiring board is sucked and held by the transport head. In this state, if the transfer head is transferred using a robot arm or the like, the wiring board can be transferred in a non-contact state.

ところが、エアが搬送ヘッド内を流れる際に、エアと搬送ヘッドとの摩擦によって静電気が発生し、搬送ヘッドが帯電してしまう。さらに、放出されたエアの一部が配線基板に衝突するため、エアと配線基板との摩擦によって静電気が発生し、配線基板も帯電してしまう。このとき、配線基板の表面には周囲に浮遊している異物が付着しやすくなっており、一旦付着すると異物の除去が困難である。また、配線基板搬送後に実施される上記の検査工程では、配線基板の表面上のはんだバンプに対してプローブなどの検査用治具を当接させることにより、配線基板の導通検査を行っている。従って、はんだバンプの表面に異物が付着した状態で導通検査を行うと、プローブとはんだバンプとの間に導通しない異物が噛み込んでしまうため、本来良品であるにもかかわらず、検査工程において不良品であると判定される可能性がある。   However, when air flows through the transport head, static electricity is generated due to friction between the air and the transport head, and the transport head is charged. Further, since a part of the released air collides with the wiring board, static electricity is generated due to friction between the air and the wiring board, and the wiring board is also charged. At this time, foreign matters floating around the surface of the wiring board are likely to adhere to the surface of the wiring board. Once attached, it is difficult to remove the foreign matters. Further, in the above-described inspection process performed after the wiring board is transported, the wiring board is inspected for continuity by bringing an inspection jig such as a probe into contact with the solder bump on the surface of the wiring board. Therefore, if a continuity test is performed with foreign matter adhering to the surface of the solder bumps, foreign matter that does not conduct will be caught between the probe and the solder bumps. There is a possibility that it is determined to be a good product.

そこで、イオンエア吹出穴から配線基板の基板主面に向けてイオンエアを吹き付けることで、基板主面上の異物をイオンエアで吹き飛ばして除去するとともに、配線基板に帯電した静電気の中和(除電)を行う技術が提案されている。また、2個のエア吹出穴をイオンエア吹出穴とは異なる位置に設け、各エア吹出穴から噴出したエアによってイオンエアを基板主面全体に拡散させる技術も提案されている。上記のようにすれば、導通検査において、異物の付着に起因して配線基板が不良品であると判定されにくくなるため、配線基板の歩留まりが向上する。   Therefore, by blowing ion air from the ion air blowing hole toward the main surface of the wiring board, the foreign matter on the main surface of the wiring board is blown away with ion air and the static electricity charged on the wiring board is neutralized (static elimination). Technology has been proposed. There has also been proposed a technique in which two air blowing holes are provided at positions different from the ion air blowing holes, and the ion air is diffused over the entire main surface of the substrate by the air blown from each air blowing hole. According to the above configuration, it becomes difficult to determine that the wiring board is defective due to the adhesion of foreign matter in the continuity test, so that the yield of the wiring board is improved.

特開2005−219922号公報(図1〜図5など)Japanese Patent Laying-Open No. 2005-219922 (FIGS. 1 to 5 etc.)

しかしながら、配線基板の周辺にイオンエアを放出したとしても、帯電した搬送ヘッドが配線基板に近付いた際に、イオンエアに含まれているイオンが搬送ヘッド側に流れてしまう。その結果、イオンが配線基板に届かなくなるため、配線基板に帯電した静電気を中和できないという問題が生じてしまう。また、エア吹出穴は2個しか設けられておらず、各エア吹出穴から噴出したエアは、殆どがエア吹出穴が開口する方向に流れてしまう。その結果、イオンエアは、殆どがエア吹出穴の近傍において拡散し、基板主面の全体に拡散しないため、異物の除去や除電を均一に行うことが困難になる。   However, even if ion air is released to the periphery of the wiring board, when the charged transport head approaches the wiring board, ions contained in the ion air flow to the transport head side. As a result, ions do not reach the wiring board, which causes a problem that static electricity charged on the wiring board cannot be neutralized. Further, only two air blowing holes are provided, and most of the air blown out from each air blowing hole flows in the direction in which the air blowing holes are opened. As a result, most of the ion air diffuses in the vicinity of the air blowing holes and does not diffuse over the entire main surface of the substrate, making it difficult to uniformly remove foreign substances or remove static electricity.

本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その第1の目的は、イオンエアを基板主面全体に拡散させることにより、異物の除去や除電を確実にかつ均一に行うことができる配線基板の非接触搬送装置を提供することにある。また、第2の目的は、上記の非接触搬送装置を用いた好適な配線基板の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and a first object thereof is wiring capable of reliably and uniformly removing foreign substances and removing static electricity by diffusing ion air over the entire main surface of the substrate. An object of the present invention is to provide a non-contact transfer device for a substrate. A second object is to provide a suitable method for manufacturing a wiring board using the non-contact transfer device.

そして上記課題を解決するための手段(手段1)としては、吸引面に凹部が設けられるとともに、前記凹部の内周面にて開口する複数のエア吹出穴が設けられた吸引部を備え、前記複数のエア吹出穴から前記凹部の内周面に沿って噴出したエアにより発生する負圧によって、被搬送物である配線基板の基板主面を前記吸引面に吸引保持して搬送する非接触搬送装置において、前記基板主面にイオンエアを吹き付けるためのイオンエア吹出穴が、前記凹部の中心部に設けられ、前記複数のエア吹出穴が、前記凹部の中心軸と同心状に設定された仮想円上において前記イオンエア吹出穴を取り囲むように3個以上設けられ、前記凹部の中心軸を基準として等角度間隔で配置されるとともに、前記エア吹出穴の位置にて接する前記仮想円の接線に対して同じ角度だけ傾斜した状態で開口していることを特徴とする配線基板の非接触搬送装置がある。   And as a means (means 1) for solving the above-mentioned problem, it comprises a suction part provided with a plurality of air blowing holes which are provided with a recess on the suction surface and open on the inner peripheral surface of the recess, Non-contact transport that transports the substrate main surface of the circuit board that is the object to be transported while being sucked and held by the suction surface by the negative pressure generated by the air ejected from the plurality of air blowing holes along the inner peripheral surface of the recess. In the apparatus, an ion air blowing hole for blowing ion air to the main surface of the substrate is provided in a central portion of the concave portion, and the plurality of air blowing holes are on a virtual circle set concentrically with the central axis of the concave portion. Three or more are provided so as to surround the ion air blowing hole, and are arranged at equiangular intervals with respect to the central axis of the recess, and are opposed to the tangent line of the virtual circle that touches at the position of the air blowing hole. It is open Te in a state inclined by the same angle is non-contact transport apparatus of the wiring board characterized by.

従って、上記手段1の非接触搬送装置によると、複数のエア吹出穴が、イオンエア吹出穴を取り囲むように3個以上設けられ、凹部の中心軸を基準として等角度間隔で配置されるとともに、エア吹出穴の位置にて接する仮想円の接線に対して同じ角度だけ傾斜した状態で開口している。即ち上記手段1では、同じ向きに開口するエア吹出穴が均等に配置されている。このため、各エア吹出穴から噴出したエアがエア吹出穴が開口する方向に流れ、イオンエアがエア吹出穴から噴出したエアによってそれぞれのエア吹出穴の近傍において拡散したとしても、イオンエアは、基板主面の全体に確実に拡散する。よって、イオンエアを用いた基板主面上の異物の除去や、イオンエアを用いた配線基板の除電を、確実にかつ均一に行うことができる。ゆえに、例えば搬送後の導通検査において、異物の付着に起因して配線基板が不良品であると判定されにくくなるため、配線基板の歩留まりを向上させることができる。   Therefore, according to the non-contact conveyance device of the means 1, three or more air blowing holes are provided so as to surround the ion air blowing holes, and are arranged at equiangular intervals with respect to the central axis of the recess. It opens in the state which inclined only the same angle with respect to the tangent of the virtual circle which touches in the position of a blowing hole. That is, in the said means 1, the air blowing hole opened in the same direction is arrange | positioned equally. For this reason, even if the air ejected from each air blowing hole flows in the direction in which the air blowing hole opens and the ion air is diffused in the vicinity of each air blowing hole by the air ejected from the air blowing hole, Spreads reliably over the entire surface. Therefore, it is possible to reliably and uniformly perform the removal of foreign matters on the substrate main surface using ion air and the charge removal of the wiring board using ion air. Therefore, for example, in the continuity inspection after the conveyance, it is difficult to determine that the wiring board is defective due to the adhesion of foreign matter, so that the yield of the wiring board can be improved.

また、エア吹出穴が3個以上設けられることにより、各エア吹出穴から噴出するエアの流量を大きくすることができるため、エア吹出穴が2個しか設けられていない従来の構造よりも、配線基板を吸引する力が大きくなる。しかも、エア吹出穴を3個以上設けた結果、気流が安定するようになるため、吸引時に配線基板が回転することを防止できる。   Moreover, since the flow rate of the air ejected from each air blowing hole can be increased by providing three or more air blowing holes, the wiring is more than the conventional structure in which only two air blowing holes are provided. The force for sucking the substrate is increased. In addition, since the air flow is stabilized as a result of providing three or more air blowing holes, the wiring board can be prevented from rotating during suction.

なお、「配線基板」は、単一製品の配線基板だけでなく、配線基板となるべき基板形成領域が平面方向に沿って複数配置された多数個取り用配線基板も含むものとする。上記配線基板の形成材料としては、セラミック、金属、半導体などの無機材料や、樹脂などの有機材料を挙げることができ、コスト性、加工性、絶縁性、機械的強度などを考慮してそれらの中から適宜選択することができる。セラミック材料の好適例としては、例えばアルミナ、ガラスセラミック、結晶化ガラス等の低温焼成材料、窒化アルミニウム、炭化珪素、窒化珪素などがある。金属材料の好適例としては、銅、銅合金、鉄ニッケル合金などがある。半導体材料の好適例としては、例えばシリコンなどがある。そして、樹脂材料の好適例としては、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ビスマレイミド−トリアジン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂などがある。そのほか、これらの樹脂とガラス繊維(ガラス織布やガラス不織布)やポリアミド繊維等の有機繊維との複合材料を使用してもよい。あるいは、連続多孔質PTFE等の三次元網目状フッ素系樹脂基材にエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂を含浸させた樹脂−樹脂複合材料等を使用してもよい。特に、低コスト化などの観点からすれば、配線基板の形成材料として樹脂材料などの有機材料を選択することが好ましい。このような配線基板であれば、微細な導体層を比較的簡単にかつ正確に形成することができる。   The “wiring board” includes not only a single product wiring board but also a multi-cavity wiring board in which a plurality of substrate forming regions to be wiring boards are arranged along the plane direction. Examples of the material for forming the wiring board include inorganic materials such as ceramics, metals, and semiconductors, and organic materials such as resins. These materials are considered in consideration of cost, workability, insulation, mechanical strength, and the like. It can be suitably selected from the inside. Preferable examples of the ceramic material include low-temperature fired materials such as alumina, glass ceramic, and crystallized glass, aluminum nitride, silicon carbide, and silicon nitride. Suitable examples of the metal material include copper, a copper alloy, and an iron nickel alloy. A preferred example of the semiconductor material is silicon. Preferred examples of the resin material include polyimide resin, epoxy resin, bismaleimide-triazine resin, polyphenylene ether resin, and the like. In addition, composite materials of these resins and glass fibers (glass woven fabric or glass nonwoven fabric) or organic fibers such as polyamide fibers may be used. Alternatively, a resin-resin composite material obtained by impregnating a thermosetting resin such as an epoxy resin with a three-dimensional network fluorine-based resin base material such as continuous porous PTFE may be used. In particular, from the viewpoint of cost reduction, it is preferable to select an organic material such as a resin material as a wiring board forming material. With such a wiring board, a fine conductor layer can be formed relatively easily and accurately.

また、配線基板の形成材料は樹脂材料などの有機材料であることが好ましいが、特に、配線基板は、複数の突起電極が配置された電極形成領域を基板主面上に有する樹脂製配線基板であることが好ましい。その理由は、配線基板を接触状態で搬送しようとする場合に、配線基板の基板主面に形成された突起電極が吸引部に押し潰されて変形するという問題が起こり、これを解決するうえで上記手段の非接触搬送装置を採用する意義が発生するからである。また、樹脂製配線基板には静電気が溜まりやすく、異物が付着しやすいという問題があるため、これを解決するうえで上記手段を採用する意義が大きいからである。   The wiring board forming material is preferably an organic material such as a resin material. In particular, the wiring board is a resin wiring board having an electrode forming area in which a plurality of protruding electrodes are arranged on the main surface of the board. Preferably there is. The reason for this is that when the wiring board is to be transported in a contact state, there is a problem that the protruding electrode formed on the main surface of the wiring board is crushed by the suction portion and deformed. This is because the significance of adopting the non-contact conveyance device of the above means occurs. Further, since the resin wiring board has a problem that static electricity is likely to be accumulated and foreign matters are likely to adhere to it, it is significant to adopt the above means for solving this problem.

なお、エア吹出穴の数は3個以上であるが、特には3個以上10個以下であることが好ましい。仮に、吸引部がエア吹出穴を10個よりも多く有している場合、凹部の内周面にて全てのエア吹出穴を開口させることが困難になる。また、吸引部の加工コストが高くなるという問題もある。また、エア吹出穴の数が偶数個であれば、エア吹出穴を凹部の中心軸を基準として等角度間隔に配置しやすくなるため、吸引部の設計が容易になる。   Although the number of air blowing holes is 3 or more, it is particularly preferably 3 or more and 10 or less. If the suction part has more than 10 air blowing holes, it is difficult to open all the air blowing holes on the inner peripheral surface of the recess. There is also a problem that the processing cost of the suction part becomes high. Further, if the number of air blowing holes is an even number, the air blowing holes can be easily arranged at equal angular intervals with the central axis of the recess as a reference, so that the suction part can be easily designed.

ここで、複数のエア吹出穴は、例えば、接線に対して凹部の中心側に15°以上45°以下だけ傾斜した状態で開口していることが好ましい。仮に、エア吹出穴が接線に対して凹部の中心側に傾斜する角度が15°未満になると、エア吹出穴から噴出したエアをイオンエアに接触させることが困難になるため、エアによってイオンエアを十分に拡散させることができない可能性がある。一方、エア吹出穴が接線に対して凹部の中心側に傾斜する角度が45°よりも大きくなると、イオンエアから噴出したエアがイオンエアに衝突した際にイオンエアの流れが乱れてしまうため、イオンエアによって基板主面上の異物を確実に除去できなくなる。   Here, for example, the plurality of air blowing holes are preferably opened in a state of being inclined by 15 ° or more and 45 ° or less to the center side of the recess with respect to the tangent. If the angle at which the air blowing hole inclines toward the center of the recess with respect to the tangential line is less than 15 °, it becomes difficult to bring the air blown out from the air blowing hole into contact with the ion air. There is a possibility that it cannot be diffused. On the other hand, if the angle at which the air blowing hole inclines toward the center of the recess with respect to the tangential line is greater than 45 °, the flow of ion air is disturbed when the air blown from the ion air collides with the ion air. Foreign matter on the main surface cannot be reliably removed.

また、複数のエア吹出穴は、例えば、吸引面に対して凹部の外側に−20°以上20°以下だけ傾斜した状態で開口していることが好ましい。仮に、エア吹出穴が吸引面に対して凹部の外側に傾斜する角度が−20°よりも小さくになると、配線基板を吸引面に吸引保持した際に吸引面と基板主面との距離が小さくなるため、エア吹出穴から噴出したエアの流速が高くなりすぎてしまう。その結果、エアと配線基板との摩擦によって静電気が発生しやすくなるため、配線基板が帯電しやすくなってしまう。一方、エア吹出穴が吸引面に対して凹部の外側に傾斜する角度が20°よりも大きくなると、配線基板を吸引面に吸引保持した際に吸引面と基板主面との距離が大きくなりすぎてしまう。その結果、エア吹出穴から噴出したエアの流速が低くなりすぎるため、エアによってイオンエアを基板主面全体に拡散させにくくなる。   Moreover, it is preferable that several air blowing holes are opened in the state which inclined only -20 degrees or more and 20 degrees or less to the outer side of the recessed part with respect to the suction surface, for example. If the angle at which the air blowing hole inclines to the outside of the recess with respect to the suction surface is smaller than −20 °, the distance between the suction surface and the main surface of the substrate becomes small when the wiring board is sucked and held on the suction surface. Therefore, the flow velocity of the air ejected from the air blowing hole becomes too high. As a result, static electricity is likely to be generated due to friction between air and the wiring board, and the wiring board is likely to be charged. On the other hand, if the angle at which the air blowing hole is inclined to the outside of the recess with respect to the suction surface is greater than 20 °, the distance between the suction surface and the substrate main surface becomes too large when the wiring board is sucked and held on the suction surface. End up. As a result, since the flow velocity of the air blown out from the air blowing hole becomes too low, it becomes difficult for the air to diffuse ion air over the entire substrate main surface.

さらに、複数のエア吹出穴の内径は特に限定されないが、例えば、内径が0.5mm以上2.0mm以下に設定されていてもよい。なお、内径が0.5mm未満になると、エア吹出穴を通過するエアの量が少なくなるため、エア吹出穴から噴出したエアによってイオンエアを十分に拡散させることができない可能性がある。一方、内径が2.0mmよりも大きくなると、エア吹出穴を通過するエアの流速が低くなりすぎるため、この場合も、エア吹出穴から噴出したエアによってイオンエアを十分に拡散させることができない可能性がある。   Furthermore, the inner diameter of the plurality of air blowing holes is not particularly limited. For example, the inner diameter may be set to 0.5 mm or more and 2.0 mm or less. If the inner diameter is less than 0.5 mm, the amount of air passing through the air blowing hole is reduced, so that there is a possibility that the ion air cannot be sufficiently diffused by the air blown out from the air blowing hole. On the other hand, if the inner diameter is larger than 2.0 mm, the flow velocity of the air passing through the air blowing hole becomes too low. In this case as well, there is a possibility that the ion air cannot be sufficiently diffused by the air blown out from the air blowing hole. There is.

また、イオンエア吹出穴の形状等は特に限定されないが、例えば、イオンエア吹出穴の中心軸線は、配線基板の基板主面に対して垂直に配置されていることが好ましい。このようにすれば、イオンエア吹出穴から基板主面に向けて垂直にエアを吹き付けることができる。その結果、基板主面に向けて斜めにエアを吹き付ける場合よりも、エアが基板主面に衝突する勢いが強くなるため、基板主面上の異物をより確実に除去することができる。   Moreover, the shape of the ion air blowing hole is not particularly limited. For example, the central axis of the ion air blowing hole is preferably arranged perpendicular to the substrate main surface of the wiring board. In this way, air can be blown vertically from the ion air blowing hole toward the main surface of the substrate. As a result, since the momentum of air colliding with the substrate main surface is stronger than when air is blown obliquely toward the substrate main surface, the foreign matter on the substrate main surface can be more reliably removed.

なお、吸引部は、例えば、複数のエア吹出穴にエアを供給するエア流路と、イオンエア吹出穴にイオンエアを供給するイオンエア流路とをそれぞれ別々に有している。イオンエア流路の構造としては特に限定されないが、例えば、イオンエア流路は、イオンエア吹出穴の中心軸線に沿って延びる直線状の流路であることが好ましい。仮に、イオンエア流路が複雑に屈曲していると、イオンエア流路を流れるイオンエアの抵抗が大きくなるため、イオンエア流路の内圧が上昇する。その結果、イオンエア流路内にイオンが飽和し、これに伴ってイオナイザからのイオンの放出も停止してしまう。   Note that the suction unit has, for example, an air flow path for supplying air to the plurality of air blowing holes and an ion air flow path for supplying ion air to the ion air blowing holes, respectively. The structure of the ion air channel is not particularly limited, but for example, the ion air channel is preferably a linear channel extending along the central axis of the ion air outlet hole. If the ion air flow path is bent in a complicated manner, the resistance of the ion air flowing through the ion air flow path increases, and the internal pressure of the ion air flow path increases. As a result, ions are saturated in the ion air flow path, and accordingly, the release of ions from the ionizer is stopped.

また、吸引部がエア流路とイオンエア流路とを別々に有する場合、通常、イオンエア流路の側方にエア流路を配置することが考えられる。しかし、イオンエアの流量を増やすためにイオンエア流路の流路面積を大きくすると、その分だけ吸引部に占めるエア流路の割合が少なくなるため、エア流路の流路面積が小さくなり、エア流路を流れるエアの流量が低下してしまう。この問題を解決するためには、エア流路の流路面積を大きくすることが考えられるが、そうすると、吸引部の大型化につながってしまう。そこで、エア流路は、例えば、吸引部の外周面からイオンエア吹出穴側に延びる導入流路と、イオンエア流路を包囲するとともにイオンエア流路の中心軸線に沿って延びる環状をなし、上流側の端部において導入流路に連通し、下流側の端部において複数のエア吹出穴に連通する環状流路とからなることが好ましい。このようにすれば、エア流路を構成する環状流路がイオンエア流路を包囲するため、イオンエア流路の側方にエア流路を配置する場合に比べて、吸引部を小型化することができる。しかも、エア流路の一部が環状の流路となるため、エア流路の流路面積を確保することができ、エア流路を流れるエアの流量を大きくすることができる。   In addition, when the suction part has an air channel and an ion air channel separately, it is usually considered to arrange the air channel on the side of the ion air channel. However, if the flow area of the ion air flow path is increased in order to increase the flow rate of ion air, the proportion of the air flow path occupying the suction portion decreases accordingly, so the flow area of the air flow path is reduced and the air flow is reduced. The flow rate of air flowing through the road will decrease. In order to solve this problem, it is conceivable to increase the flow area of the air flow path, but this leads to an increase in the size of the suction part. Therefore, the air flow path has, for example, an introduction flow path that extends from the outer peripheral surface of the suction portion to the ion air blowing hole side, an annular shape that surrounds the ion air flow path and extends along the central axis of the ion air flow path, It is preferable that an end portion communicates with the introduction passage and an annular passage communicates with the plurality of air blowing holes at the downstream end portion. In this way, since the annular flow path constituting the air flow path surrounds the ion air flow path, the suction part can be downsized compared to the case where the air flow path is arranged on the side of the ion air flow path. it can. Moreover, since a part of the air flow path becomes an annular flow path, the flow area of the air flow path can be secured, and the flow rate of the air flowing through the air flow path can be increased.

また、上記課題を解決するための別の手段(手段2)としては、上記手段1に記載の非接触搬送装置を用いて、被搬送物である配線基板の基板主面を前記吸引面に吸引保持して搬送することにより、配線基板を製造する方法において、前記イオンエア吹出穴から前記基板主面に向けてイオンエアを吹き付けるとともに、前記複数のエア吹出穴から前記凹部の内周面に沿って噴出したエアにより、前記イオンエア吹出穴から吹き付けられたイオンエアを前記基板主面全体に拡散させることで、前記基板主面上の異物を除去することを特徴とする配線基板の製造方法がある。   Further, as another means (means 2) for solving the above problem, the non-contact transfer device described in the above means 1 is used to suck the substrate main surface of the wiring board that is the transferred object to the suction surface. In the method of manufacturing a wiring board by holding and transporting, ion air is blown from the ion air blowing holes toward the main surface of the board, and blown out from the plurality of air blowing holes along the inner peripheral surface of the recess. There is a method of manufacturing a wiring board, wherein foreign substances on the main surface of the substrate are removed by diffusing the ion air blown from the ion air blowing holes to the entire main surface of the substrate by the air that has been performed.

従って、上記手段2の製造方法によると、上記手段1の非接触搬送装置を用いて異物の除去や配線基板の除電を確実にかつ均一に行うことにより、配線基板を製造することができる。ゆえに、例えば搬送後の導通検査において、異物の付着に起因して配線基板が不良品であると判定されにくくなるため、配線基板の歩留まりを向上させることができる。   Therefore, according to the manufacturing method of the means 2, the wiring board can be manufactured by reliably and uniformly removing the foreign matter and removing the charge of the wiring board using the non-contact transfer device of the means 1. Therefore, for example, in the continuity inspection after the conveyance, it is difficult to determine that the wiring board is defective due to the adhesion of foreign matter, so that the yield of the wiring board can be improved.

本実施形態における非接触搬送装置の概略構成を示す正面図。The front view which shows schematic structure of the non-contact conveying apparatus in this embodiment. 配線基板の概略構成を示す断面図。Sectional drawing which shows schematic structure of a wiring board. 非接触搬送装置の概略構成を示す下面図。The bottom view which shows schematic structure of a non-contact conveying apparatus. 吸引部を示す下面図。The bottom view which shows a suction part. 図4のA−A線断面図。AA line sectional view of Drawing 4. エア吹出穴の位置関係を示す下面図。The bottom view which shows the positional relationship of an air blowing hole. 吸引部を示す要部断面図。The principal part sectional view showing a suction part. 非接触搬送装置を示す回路図。The circuit diagram which shows a non-contact conveying apparatus. 他の実施形態における樹脂製パッドを示す正面図。The front view which shows the resin-made pads in other embodiment. 樹脂製パッド及び下側部材を示す側面図。The side view which shows resin-made pads and a lower side member.

以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に基づき詳細に説明する。   Hereinafter, an embodiment embodying the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1に示されるように、非接触搬送装置が備える搬送ヘッド11は、被搬送物である配線基板110を気流の作用を利用して搬送するものである。   As shown in FIG. 1, the transport head 11 provided in the non-contact transport device transports a wiring board 110 that is a transported object by using the action of an air current.

図2に示されるように、本実施形態の配線基板110は、ICチップ搭載用のオーガニック・パッケージ(樹脂製配線基板)であり、複数の製造工程後であって検査工程前の状態を示している。配線基板110は、略矩形板状のコア基板111と、コア基板111のコア主面112(図2では上面)上に形成される第1ビルドアップ層114と、コア基板111のコア裏面113(図2では下面)上に形成される第2ビルドアップ層115とからなる。ビルドアップ層114,115は、熱硬化性樹脂(エポキシ樹脂)からなる樹脂絶縁層と、銅からなる導体層とを交互に積層した構造を有している。また、配線基板110の基板主面120上(第1ビルドアップ層114の上面上)における複数箇所には、端子パッド116(突起電極)がアレイ状に形成され、配線基板110の基板裏面121上(第2ビルドアップ層115の下面上)における複数箇所には、BGA用パッド117がアレイ状に形成されている。さらに、端子パッド116の表面上には、複数のはんだバンプ118(突起電極)が配設されている。各はんだバンプ118には、矩形平板状をなすICチップの端子が接続されるようになっている。なお、各端子パッド116及び各はんだバンプ118からなる領域は、ICチップを搭載可能な電極形成領域119である。   As shown in FIG. 2, the wiring board 110 of this embodiment is an organic package (resin wiring board) for mounting an IC chip, and shows a state after a plurality of manufacturing steps and before an inspection step. Yes. The wiring substrate 110 includes a substantially rectangular plate-shaped core substrate 111, a first buildup layer 114 formed on a core main surface 112 (upper surface in FIG. 2) of the core substrate 111, and a core back surface 113 ( The second buildup layer 115 is formed on the lower surface in FIG. The build-up layers 114 and 115 have a structure in which a resin insulating layer made of a thermosetting resin (epoxy resin) and a conductor layer made of copper are alternately laminated. In addition, terminal pads 116 (projection electrodes) are formed in an array at a plurality of locations on the substrate main surface 120 (on the upper surface of the first buildup layer 114) of the wiring substrate 110, and on the substrate back surface 121 of the wiring substrate 110. BGA pads 117 are formed in an array at a plurality of locations (on the lower surface of the second buildup layer 115). Further, a plurality of solder bumps 118 (protruding electrodes) are disposed on the surface of the terminal pad 116. Each solder bump 118 is connected to a terminal of an IC chip having a rectangular flat plate shape. Note that an area formed by each terminal pad 116 and each solder bump 118 is an electrode forming area 119 on which an IC chip can be mounted.

図1,図3に示される搬送ヘッド11は、搬送用多関節ロボット(図示略)のアームの先端に装着されている。搬送ヘッド11は、スライドテーブル2と、正面視L字状をなす接続板12を介してスライドテーブル2に取り付けられる吸引部20とを備えている。スライドテーブル2は、上下方向に沿って延びるテーブル本体3に取り付けられており、上下動可能になっている。吸引部20は、吸引面21を配線基板110に向けた状態で配線基板110に対して接近及び離間するようになっている。   The transfer head 11 shown in FIGS. 1 and 3 is attached to the tip of an arm of a transfer articulated robot (not shown). The transport head 11 includes a slide table 2 and a suction unit 20 attached to the slide table 2 via a connection plate 12 having an L shape when viewed from the front. The slide table 2 is attached to a table body 3 extending along the vertical direction, and can move up and down. The suction unit 20 approaches and separates from the wiring board 110 with the suction surface 21 facing the wiring board 110.

また、搬送ヘッド11は、配線基板110を位置ずれ不能に保持固定するエアチャック181を備えている。エアチャック181は、チャック本体183と、基端部においてチャック本体183に固定されるとともに互いに離間した状態で吸引部20側に延びる一対の腕部182と、腕部182の先端部に接続されるとともに互いに対向する一対の接触部184とを備えている。チャック本体183は、両腕部182を駆動することにより、両接触部184を互いに接近及び離間させるようになっている。また、両接触部184は、配線基板110よりも硬度が高い樹脂(本実施形態ではPEEK樹脂)によって形成され、内側にそれぞれ係合凹部185を有している。両係合凹部185は、スライドテーブル2を下降させた基板保持固定時に、配線基板110を構成する4つの角部のうち互いに反対側に位置する2つの角部を保持するようになっている。   In addition, the transport head 11 includes an air chuck 181 that holds and fixes the wiring board 110 so that the circuit board 110 cannot be displaced. The air chuck 181 is connected to the chuck main body 183, a pair of arm portions 182 that are fixed to the chuck main body 183 at the base end portion and extend away from the suction portion 20, and a distal end portion of the arm portion 182. And a pair of contact portions 184 facing each other. The chuck main body 183 drives both the arm portions 182 to bring the both contact portions 184 closer to and away from each other. Further, both contact parts 184 are formed of a resin (PEEK resin in the present embodiment) having a hardness higher than that of the wiring board 110, and have engaging recesses 185 on the inner side. Both engaging recesses 185 are configured to hold two corners located on opposite sides of the four corners constituting the wiring board 110 when the substrate holding and fixing the slide table 2 is lowered.

図4,図5に示されるように、吸引部20は、吸引部本体22、ノズル支持体51及び樹脂製パッド40を備えている。吸引部本体22は、金属材料(本実施形態では、プラチナを含有するアルミニウム合金)によって形成され、縦50mm×横50mm×高さ67mmの略直方体状をなしている。吸引部本体22は、同吸引部本体22の上部を構成する上側部材201と、吸引部本体22の下部を構成する下側部材211とからなり、両部材201,211は互いに分割可能な構造となっている。上側部材201は、縦50mm×横50mm×高さ22mmの略直方体状をなすブロック材によって形成されている。   As shown in FIGS. 4 and 5, the suction unit 20 includes a suction unit body 22, a nozzle support 51, and a resin pad 40. The suction part main body 22 is formed of a metal material (in this embodiment, an aluminum alloy containing platinum), and has a substantially rectangular parallelepiped shape of 50 mm long × 50 mm wide × 67 mm high. The suction part main body 22 includes an upper member 201 that constitutes the upper part of the suction part main body 22 and a lower member 211 that constitutes the lower part of the suction part main body 22, and the members 201 and 211 can be divided from each other. It has become. The upper member 201 is formed of a block material having a substantially rectangular parallelepiped shape of 50 mm long × 50 mm wide × 22 mm high.

上側部材201の中央部には、同上側部材201の上面202にて開口する第1ポート取付孔30が設けられている。第1ポート取付孔30には第1ポート90が取り付けられている。なお、第1ポート90は、導電性金属によって形成され、第1ポート90には、ポリウレタンにカーボンブラックを混入させた材料からなる帯電防止チューブ(図示略)が接続されている。また、上側部材201の下面203における中央部には、ノズル61が突設されている。さらに、上側部材201における第1ポート取付孔30の外側領域には、上面202にて開口する一対のネジ挿通孔34が設けられている。なお、搬送ヘッド11の接続板12を貫通したネジ(図示略)をネジ挿通孔34に螺着させることにより、吸引部20が搬送ヘッド11に取り付けられる。さらに、上側部材201には、同上側部材201の下面203にて開口する上側ピン収容穴35と、上側部材201の側面(吸引部20の外周面25)にて開口するとともに上側ピン収容穴35に連通する係合ピン孔36とが設けられている。そして、上側部材201の側面には、部材接続コネクタ37が装着されている。部材接続コネクタ37は係合ピン38を備え、係合ピン38の先端部は係合ピン孔36内に挿入されている。係合ピン38は、バネ39によって上側ピン収容穴35側に付勢されるようになっている。   A first port mounting hole 30 that opens at the upper surface 202 of the upper member 201 is provided at the center of the upper member 201. A first port 90 is attached to the first port attachment hole 30. The first port 90 is made of a conductive metal, and an antistatic tube (not shown) made of a material obtained by mixing carbon black into polyurethane is connected to the first port 90. A nozzle 61 protrudes from the center of the lower surface 203 of the upper member 201. Further, a pair of screw insertion holes 34 that open on the upper surface 202 is provided in the outer region of the first port mounting hole 30 in the upper member 201. The suction unit 20 is attached to the transport head 11 by screwing a screw (not shown) penetrating the connection plate 12 of the transport head 11 into the screw insertion hole 34. Further, the upper member 201 has an upper pin accommodation hole 35 that opens at the lower surface 203 of the upper member 201, and an upper pin accommodation hole 35 that opens at the side surface (the outer peripheral surface 25 of the suction portion 20) of the upper member 201. And an engaging pin hole 36 communicating with each other. A member connection connector 37 is attached to the side surface of the upper member 201. The member connection connector 37 includes an engagement pin 38, and the distal end portion of the engagement pin 38 is inserted into the engagement pin hole 36. The engagement pin 38 is urged toward the upper pin accommodation hole 35 by a spring 39.

図4,図5に示されるように、下側部材211は、縦50mm×横50mm×高さ45mmの略直方体状をなすブロック材によって形成されている。下側部材211には、下側部材211の側面(吸引部20の外周面25)にて開口する第2ポート取付孔31、第3ポート取付孔32及び第4ポート取付孔33が設けられている。第2ポート取付孔31には第2ポート91が取り付けられ、第3ポート取付孔32には第3ポート92が取り付けられている。さらに、第4ポート取付孔33には第4ポート93が取り付けられている。なお、各ポート91〜93は、導電性金属によって形成され、各ポート91〜93には帯電防止チューブが接続されている。   As shown in FIGS. 4 and 5, the lower member 211 is formed of a block material having a substantially rectangular parallelepiped shape of 50 mm long × 50 mm wide × 45 mm high. The lower member 211 is provided with a second port mounting hole 31, a third port mounting hole 32, and a fourth port mounting hole 33 that open on the side surface (the outer peripheral surface 25 of the suction portion 20) of the lower member 211. Yes. A second port 91 is attached to the second port attachment hole 31, and a third port 92 is attached to the third port attachment hole 32. Further, a fourth port 93 is attached to the fourth port attachment hole 33. Each port 91 to 93 is made of a conductive metal, and an antistatic tube is connected to each port 91 to 93.

また、下側部材211の中央部には、同下側部材211の上面23及び下面24を貫通する第1ノズル挿通孔26が設けられている。なお、第1ノズル挿通孔26の上面23側端部はネジ孔となっており、第1ノズル挿通孔26の下面24側端部は、後述するエア流路221の環状流路223となる凹部となっている。さらに、下側部材211における第1ノズル挿通孔26の外側領域には、下側部材211の上面23にて開口する下側ピン収容穴28と、下側部材211の側面(吸引部20の外周面25)にて開口するとともに下側ピン収容穴28に連通する空気抜き穴29とが設けられている。よって、上側部材201側の上側ピン収容穴35にピン19の先端部を挿入するとともに、下側ピン収容穴28にピン19の基端部を挿入した状態で、ピン19の先端部に設けられたくびれ部18に係合ピン38の先端部を係合させることにより、両部材201,211が互いに固定される。   Further, a first nozzle insertion hole 26 that penetrates the upper surface 23 and the lower surface 24 of the lower member 211 is provided at the center of the lower member 211. The upper end 23 side end portion of the first nozzle insertion hole 26 is a screw hole, and the lower end 24 side end portion of the first nozzle insertion hole 26 is a recess that becomes an annular flow path 223 of an air flow path 221 described later. It has become. Furthermore, in the outer region of the first nozzle insertion hole 26 in the lower member 211, there are a lower pin accommodation hole 28 that opens on the upper surface 23 of the lower member 211, and a side surface of the lower member 211 (the outer periphery of the suction portion 20). An air vent hole 29 that opens at the surface 25) and communicates with the lower pin accommodating hole 28 is provided. Therefore, the distal end portion of the pin 19 is inserted into the upper pin accommodation hole 35 on the upper member 201 side, and the proximal end portion of the pin 19 is inserted into the lower pin accommodation hole 28 and is provided at the distal end portion of the pin 19. The members 201 and 211 are fixed to each other by engaging the tip of the engaging pin 38 with the constricted portion 18.

図5に示されるように、下側部材211には、下面24にて開口する16個の集塵流路191が設けられている。各集塵流路191は、下側部材211における第1ノズル挿通孔26の外側領域に配置されている。そして、各集塵流路191は、第3ポート取付孔32に連通し、集塵ユニット151(図8参照)に接続されている。また、下側部材211には、下面24にて開口する4個の吸着流路195が設けられている。各吸着流路195は、下側部材211における第1ノズル挿通孔26及び各集塵流路191の外側領域に配置されている。そして、吸着流路195は、第4ポート取付孔33に連通し、吸着ユニット161(図8参照)に接続されている。   As shown in FIG. 5, the lower member 211 is provided with 16 dust collection channels 191 that open at the lower surface 24. Each dust collection channel 191 is disposed in an outer region of the first nozzle insertion hole 26 in the lower member 211. Each dust collection channel 191 communicates with the third port mounting hole 32 and is connected to the dust collection unit 151 (see FIG. 8). The lower member 211 is provided with four adsorption channels 195 that open at the lower surface 24. Each adsorption channel 195 is disposed in the outer region of the first nozzle insertion hole 26 and each dust collection channel 191 in the lower member 211. The adsorption channel 195 communicates with the fourth port mounting hole 33 and is connected to the adsorption unit 161 (see FIG. 8).

また、ノズル支持体51は、下側部材211の第1ノズル挿通孔26に収容され、上端部が第1ノズル挿通孔26の上面23側端部に螺着されている。ノズル支持体51は、金属材料(本実施形態ではアルミニウム)によって形成され、外径11mm×高さ42mmの略円環状をなしている。また、ノズル支持体51には、内径3.5mmの第2ノズル挿通孔55が設けられている。第2ノズル挿通孔55は、ノズル支持体51の上面52及び下面53(図7参照)を貫通している。   The nozzle support 51 is housed in the first nozzle insertion hole 26 of the lower member 211, and the upper end portion is screwed to the upper surface 23 side end of the first nozzle insertion hole 26. The nozzle support 51 is formed of a metal material (aluminum in the present embodiment) and has a substantially annular shape with an outer diameter of 11 mm and a height of 42 mm. The nozzle support 51 is provided with a second nozzle insertion hole 55 having an inner diameter of 3.5 mm. The second nozzle insertion hole 55 passes through the upper surface 52 and the lower surface 53 (see FIG. 7) of the nozzle support 51.

図4〜図7に示されるように、ノズル61は、第2ノズル挿通孔55に挿入され、外径7mm×高さ42mmの略円環状をなしている。ノズル61の内部には、イオンエアを供給する内径2.5mmのイオンエア流路71が設けられている。イオンエア流路71は、吸引面21の一部を構成するノズル61の下端面62にて開口している。また、イオンエア流路71は、第1ポート取付孔30に連通し、イオナイザ141(図8参照)に接続されている。さらに、ノズル61の下端面62(吸引部20の吸引面21)には、下方から見て円形状をなす凹部73が設けられている。また、凹部73の中心には、断面略台形状であって下方から見て円形状をなすノズル先端部75が突設されている。   As shown in FIGS. 4 to 7, the nozzle 61 is inserted into the second nozzle insertion hole 55 and has a substantially annular shape with an outer diameter of 7 mm and a height of 42 mm. Inside the nozzle 61, an ion air passage 71 having an inner diameter of 2.5 mm for supplying ion air is provided. The ion air channel 71 is opened at the lower end surface 62 of the nozzle 61 that constitutes a part of the suction surface 21. Further, the ion air flow channel 71 communicates with the first port mounting hole 30 and is connected to the ionizer 141 (see FIG. 8). Furthermore, the lower end surface 62 (suction surface 21 of the suction part 20) of the nozzle 61 is provided with a concave part 73 having a circular shape when viewed from below. Further, at the center of the recess 73, a nozzle tip portion 75 having a substantially trapezoidal cross section and a circular shape when viewed from below is projected.

また、凹部73の中心部には、イオンエア流路71に連通するイオンエア吹出穴82が6箇所に設けられている。具体的に言うと、各イオンエア吹出穴82は、凹部73の中心軸C1を基準として等角度(60°)間隔で配置されており、ノズル先端部75の外周部にて開口している。そして、各イオンエア吹出穴82は、中心軸線が配線基板110の基板主面120に対して垂直に配置されており、イオンエア流路71から供給されてきたイオンエアを基板主面120に向けて垂直に吹き付けるようになっている。即ち、イオンエア流路71は、イオンエア吹出穴82の中心軸線に沿って延びる直線状の流路である。   Further, ion air blowing holes 82 communicating with the ion air flow channel 71 are provided at six locations in the center of the recess 73. Specifically, the ion air blowing holes 82 are arranged at equiangular (60 °) intervals with respect to the central axis C <b> 1 of the recess 73, and open at the outer peripheral portion of the nozzle tip 75. Each ion air blowing hole 82 is arranged such that the central axis is perpendicular to the substrate main surface 120 of the wiring board 110, and the ion air supplied from the ion air flow channel 71 is perpendicular to the substrate main surface 120. It comes to spray. That is, the ion air channel 71 is a linear channel extending along the central axis of the ion air outlet hole 82.

図5,図7に示されるように、下側部材211には、エアを供給するエア流路221がイオンエア流路71とは別々に設けられている。エア流路221は、導入流路222及び環状流路223からなっている。導入流路222は、吸引部20の外周面25からイオンエア吹出穴82側に延びている。また、導入流路222は、第2ポート91に連通し、エアユニット231(図8参照)に接続されている。環状流路223は、第1ノズル挿通孔26とノズル支持体51との間に形成された流路であり、イオンエア流路71を包囲するとともに、イオンエア流路71の中心軸線に沿って延びる環状をなしている。環状流路223は、上流側の端部において導入流路222に連通している。   As shown in FIGS. 5 and 7, the lower member 211 is provided with an air flow path 221 for supplying air separately from the ion air flow path 71. The air flow path 221 includes an introduction flow path 222 and an annular flow path 223. The introduction flow path 222 extends from the outer peripheral surface 25 of the suction part 20 to the ion air blowing hole 82 side. The introduction flow path 222 communicates with the second port 91 and is connected to the air unit 231 (see FIG. 8). The annular channel 223 is a channel formed between the first nozzle insertion hole 26 and the nozzle support 51, and surrounds the ion air channel 71 and extends along the central axis of the ion air channel 71. I am doing. The annular flow path 223 communicates with the introduction flow path 222 at the upstream end.

図4〜図7に示されるように、吸引部20には、環状流路223の下流側の端部に連通するとともに、凹部73の内周面にて開口するエア吹出穴81が6箇所に設けられている。各エア吹出穴81は、エア流路221から供給されてきたエアを凹部73内に噴出するようになっている。そして、それぞれのエア吹出穴81から噴出されるエアは、凹部73の周方向に沿って導かれ、イオンエア吹出穴82から基板主面120に向けて吹き付けられたイオンエアに衝突することにより、イオンエアを基板主面120全体に拡散させるようになっている。なお、本実施形態の吸引部20は、吸引部本体22と配線基板110との間に発生する空気流によって生じるベルヌーイ効果を利用して配線基板110を保持するようにしたベルヌーイチャックである。   As shown in FIGS. 4 to 7, the suction portion 20 communicates with the downstream end of the annular flow path 223 and has six air blowing holes 81 opened on the inner peripheral surface of the recess 73. Is provided. Each air blowing hole 81 is configured to eject the air supplied from the air flow path 221 into the recess 73. Then, the air blown out from each air blowing hole 81 is guided along the circumferential direction of the recess 73 and collides with the ion air blown from the ion air blowing hole 82 toward the substrate main surface 120, thereby causing the ion air to flow. The entire main surface 120 of the substrate is diffused. Note that the suction unit 20 of the present embodiment is a Bernoulli chuck that holds the wiring board 110 by using the Bernoulli effect generated by the air flow generated between the suction part main body 22 and the wiring board 110.

なお図6に示されるように、各エア吹出穴81は、凹部73の中心軸C1を基準としたときに回転対称となるように配置されており、凹部73の周方向に沿って開口している。詳述すると、各エア吹出穴81は、中心軸C1と同心状に設定された仮想円C2上において、各イオンエア吹出穴82を取り囲むように設けられている。また、各エア吹出穴81は、中心軸C1を基準として等角度(60°)間隔で配置されている。さらに、各エア吹出穴81は、エア吹出穴81の位置にて接する仮想円C2の接線L1に対して、凹部73の中心側に同じ角度θ1(本実施形態では30°)だけ傾斜した状態で開口している。また、各エア吹出穴81は、吸引面21に対して凹部73の外側に傾斜していない状態で開口している。即ち、各エア吹出穴81は、吸引面21に対して平行に開口している。さらに、エア吹出穴81は、隣接するエア吹出穴81に向かって開口している。なお、各エア吹出穴81の内径は1.2mmに設定されている。   As shown in FIG. 6, each air blowing hole 81 is arranged so as to be rotationally symmetric with respect to the central axis C <b> 1 of the recess 73, and opens along the circumferential direction of the recess 73. Yes. More specifically, each air blowing hole 81 is provided so as to surround each ion air blowing hole 82 on a virtual circle C2 set concentrically with the central axis C1. Further, the air blowing holes 81 are arranged at equiangular (60 °) intervals with respect to the central axis C1. Furthermore, each air blowing hole 81 is inclined by the same angle θ1 (30 ° in the present embodiment) to the center side of the recess 73 with respect to the tangent L1 of the virtual circle C2 that is in contact with the position of the air blowing hole 81. It is open. In addition, each air blowing hole 81 is opened in a state where it is not inclined to the outside of the recess 73 with respect to the suction surface 21. That is, each air blowing hole 81 opens in parallel to the suction surface 21. Further, the air blowing hole 81 opens toward the adjacent air blowing hole 81. In addition, the internal diameter of each air blowing hole 81 is set to 1.2 mm.

図4に示されるように、樹脂製パッド40は、下側部材211に取り付けられ、正面(下面)が吸引面21となっている。樹脂製パッド40は、樹脂材料(本実施形態ではエーテル系ウレタン)によって形成され、縦37mm×横37mm×高さ2.0mmの略矩形板状をなしている。また、樹脂製パッド40の中央部には、直径16mmの貫通孔41が設けられている。貫通孔41は、吸引部本体22の凹部73等を露出させるようになっている。さらに、樹脂製パッド40には、集塵流路191に連通する16個の集塵穴42が設けられている。各集塵穴42は、貫通孔41及び凹部73の外側領域にて開口するように配設され、凹部73を包囲するように樹脂製パッド40の外周縁(四辺)に沿って等間隔で配置されている。   As shown in FIG. 4, the resin pad 40 is attached to the lower member 211, and the front surface (lower surface) is the suction surface 21. The resin pad 40 is made of a resin material (ether urethane in this embodiment), and has a substantially rectangular plate shape with a length of 37 mm × width of 37 mm × height of 2.0 mm. Further, a through hole 41 having a diameter of 16 mm is provided at the center of the resin pad 40. The through-hole 41 is configured to expose the concave portion 73 and the like of the suction unit main body 22. Further, the resin pad 40 is provided with 16 dust collecting holes 42 communicating with the dust collecting flow path 191. Each dust collection hole 42 is disposed so as to open in the outer region of the through hole 41 and the recess 73, and is arranged at equal intervals along the outer peripheral edge (four sides) of the resin pad 40 so as to surround the recess 73. Has been.

図4に示されるように、吸引面21の最外周部、即ち、樹脂製パッド40の4つの角部には、吸引面21より1.0mmだけ突出した凸部44が形成されている。さらに、樹脂製パッド40には、4個の真空吸着穴45がそれぞれの凸部44にて開口するように配設されている。即ち、各真空吸着穴45は、貫通孔41及び凹部73の外側領域にて開口するように配設されている。そして、各真空吸着穴45は、下側部材211の吸着流路195に連通している(図5参照)。   As shown in FIG. 4, convex portions 44 that protrude 1.0 mm from the suction surface 21 are formed at the outermost peripheral portion of the suction surface 21, that is, at the four corners of the resin pad 40. Further, four vacuum suction holes 45 are arranged in the resin pad 40 so as to open at the respective convex portions 44. That is, each vacuum suction hole 45 is disposed so as to open in the outer region of the through hole 41 and the recess 73. Each vacuum suction hole 45 communicates with the suction flow path 195 of the lower member 211 (see FIG. 5).

なお、エアチャック181の接触部184には、静電電位センサ105(図8参照)が設置されている。静電電位センサ105は、接触部184内に埋設されており、接触部184の係合凹部185から露出するように配置されている。つまり、静電電位センサ105は、配線基板110の外周縁に接触する位置に設けられている。静電電位センサ105は、配線基板110に帯電した静電気を測定して、静電気測定信号を出力するようになっている。   An electrostatic potential sensor 105 (see FIG. 8) is installed at the contact portion 184 of the air chuck 181. The electrostatic potential sensor 105 is embedded in the contact portion 184 and is disposed so as to be exposed from the engagement recess 185 of the contact portion 184. That is, the electrostatic potential sensor 105 is provided at a position in contact with the outer peripheral edge of the wiring board 110. The electrostatic potential sensor 105 measures static electricity charged on the wiring board 110 and outputs a static electricity measurement signal.

次に、非接触搬送装置のシステム構成について説明する。   Next, the system configuration of the non-contact conveyance device will be described.

図8に示されるように、非接触搬送装置は、加圧エアを送り出すエア供給源131を備えている。また、非接触搬送装置は、エア供給源131と吸引部20との間を連通しうるエア供給流路130を備えている。エア供給流路130は、下流側において、第1エア流路140、第2エア流路150及び第3エア流路160に分岐している。第1エア流路140は、帯電防止チューブ及び第1ポート90(図5,図8のP3参照)を介して吸引部20のイオンエア流路71に連通している。第2エア流路150は、帯電防止チューブ及び第2ポート91(図5,図8のP2参照)を介して吸引部20のエア流路221に連通している。第3エア流路160は、帯電防止チューブ及び第4ポート93(図5,図8のP1参照)を介して吸引部20の吸着流路195に連通している。   As shown in FIG. 8, the non-contact conveyance device includes an air supply source 131 that sends out pressurized air. In addition, the non-contact conveyance device includes an air supply channel 130 that can communicate between the air supply source 131 and the suction unit 20. The air supply channel 130 is branched into a first air channel 140, a second air channel 150, and a third air channel 160 on the downstream side. The first air flow path 140 communicates with the ion air flow path 71 of the suction unit 20 via the antistatic tube and the first port 90 (see P3 in FIGS. 5 and 8). The second air flow path 150 communicates with the air flow path 221 of the suction unit 20 via the antistatic tube and the second port 91 (see P2 in FIGS. 5 and 8). The third air flow path 160 communicates with the suction flow path 195 of the suction unit 20 via the antistatic tube and the fourth port 93 (see P1 in FIGS. 5 and 8).

図8に示されるように、エア供給流路130上にはエア供給バルブ132が設置されている。エア供給バルブ132は、エア供給源131の下流側に配置されており、エア供給流路130を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。エア供給バルブ132は、開状態に切り替えられた際に、下流側にエアを供給可能とするようになっている。なお、本実施形態のエア供給バルブ132は、図示しないソレノイドにより作動する電磁弁である。   As shown in FIG. 8, an air supply valve 132 is installed on the air supply channel 130. The air supply valve 132 is disposed on the downstream side of the air supply source 131, and switches the air supply flow path 130 between an open state and a closed state. The air supply valve 132 is configured to be able to supply air to the downstream side when switched to the open state. Note that the air supply valve 132 of the present embodiment is an electromagnetic valve that is operated by a solenoid (not shown).

また、エア供給流路130上には、エア供給流路130内のエア圧力を一定値に調整する空気圧調整ユニット133が設置されている。即ち、空気圧調整ユニット133は、エア供給流路130を介してエア供給バルブ132及びエア供給源131と流路的に接続されている。空気圧調整ユニット133は、エアフィルタ134、圧力計135及び減圧弁136を備えている。エアフィルタ134は、エア供給バルブ132の下流側に配置されており、エア供給流路130内を通過するエアに含まれる異物を除去するようになっている。また、圧力計135は、エアフィルタ134の下流側に配置されており、エア供給流路130内を通過するエアの圧力を計測するようになっている。さらに、減圧弁136は、圧力計135の下流側に配置されており、エア供給流路130内を通過するエアの減圧を行い、減圧したエアを下流側に供給するようになっている。また、エア供給流路130上にはエアフィルタ137が設置されている。エアフィルタ137は、減圧弁136の下流側に配置されており、エア供給流路130内を通過するエアに含まれる水分を除去するようになっている。   An air pressure adjusting unit 133 that adjusts the air pressure in the air supply channel 130 to a constant value is installed on the air supply channel 130. That is, the air pressure adjustment unit 133 is connected to the air supply valve 132 and the air supply source 131 through the air supply flow path 130 in a flow path. The air pressure adjustment unit 133 includes an air filter 134, a pressure gauge 135, and a pressure reducing valve 136. The air filter 134 is disposed on the downstream side of the air supply valve 132, and removes foreign matters contained in the air passing through the air supply flow path 130. The pressure gauge 135 is disposed downstream of the air filter 134 and measures the pressure of air passing through the air supply flow path 130. Further, the pressure reducing valve 136 is disposed on the downstream side of the pressure gauge 135, performs pressure reduction of the air passing through the air supply flow path 130, and supplies the reduced air to the downstream side. An air filter 137 is installed on the air supply channel 130. The air filter 137 is disposed on the downstream side of the pressure reducing valve 136 and removes moisture contained in the air passing through the air supply flow path 130.

図8に示されるように、第1エア流路140上にはイオンエアユニット147が設置されている。イオンエアユニット147は、減圧弁145、圧力計146、電磁弁143、エアフィルタ144及びイオナイザ141を備えている。減圧弁145は、エアフィルタ137の下流側に配置されており、第1エア流路140内を通過するエアの減圧を行い、減圧したエアを下流側に供給するようになっている。圧力計146は、減圧弁145の下流側に配置されており、第1エア流路140内を通過するエアの圧力を計測するようになっている。   As shown in FIG. 8, an ion air unit 147 is installed on the first air flow path 140. The ion air unit 147 includes a pressure reducing valve 145, a pressure gauge 146, an electromagnetic valve 143, an air filter 144, and an ionizer 141. The pressure reducing valve 145 is disposed on the downstream side of the air filter 137, performs pressure reduction of the air passing through the first air flow path 140, and supplies the reduced air to the downstream side. The pressure gauge 146 is disposed on the downstream side of the pressure reducing valve 145 and measures the pressure of air passing through the first air flow path 140.

また、電磁弁143は、圧力計146の下流側に配置されており、第1エア流路140を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。電磁弁143は、開状態に切り替えられた際に、下流側にエアを供給可能とするとともに、エアを適宜排気してエア圧力を減圧調整するようになっている。なお、本実施形態の電磁弁143は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、後述する制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。また、エアフィルタ144は、電磁弁143の下流側に配置されており、第1エア流路140内を通過するイオンエアに含まれる異物を除去するようになっている。   Moreover, the electromagnetic valve 143 is arrange | positioned in the downstream of the pressure gauge 146, and switches the 1st air flow path 140 to an open state or a closed state. When the electromagnetic valve 143 is switched to the open state, the air can be supplied to the downstream side, and the air pressure is appropriately discharged to reduce the air pressure. The electromagnetic valve 143 of the present embodiment is a two-position, direct-acting normally closed electromagnetic valve that is operated by a single-action solenoid, and is switched to an open state based on a control signal output from the control device 101 described later. The air filter 144 is disposed on the downstream side of the electromagnetic valve 143, and removes foreign matters contained in ion air passing through the first air flow path 140.

図8に示されるように、イオナイザ141は、DC方式のイオナイザであり、エアフィルタ144の下流側に配置されている。イオナイザ141は、第1エア流路140と連通するイオナイザ本体142と、イオナイザ本体142内に突出する2本の放電針(正極側及び負極側の放電針)と、各放電針に直流電圧を印加する高圧電源とを備えている。各放電針は、直流電圧が印加された際にコロナ放電を行うことにより、先端部分の周囲にイオンを発生させるようになっている。詳述すると、正極側の放電針は、印加する直流電圧の極性が正(+)である場合に陽イオンを発生させ、負極側の放電針は、印加する直流電圧の極性が負(−)である場合に陰イオンを発生させるようになっている。そして、イオナイザ141は、イオナイザ本体142内に導かれてきたエアに発生させたイオンを混合させることにより、イオンエアを生成するようになっている。さらに、イオナイザ141は、生成したイオンエアを第1エア流路140の下流側に放出するようになっている。なお、イオンエアは、帯電防止チューブ及び第1ポート90を介して吸引部20のイオンエア流路71に導かれる。   As shown in FIG. 8, the ionizer 141 is a DC ionizer, and is arranged on the downstream side of the air filter 144. The ionizer 141 applies an DC voltage to each discharge needle, an ionizer body 142 communicating with the first air flow path 140, two discharge needles (positive and negative discharge needles) protruding into the ionizer body 142. High-voltage power supply. Each discharge needle generates ions around the tip by performing corona discharge when a DC voltage is applied. More specifically, the positive electrode discharge needle generates positive ions when the polarity of the applied DC voltage is positive (+), and the negative electrode discharge needle has a negative (-) polarity of the applied DC voltage. In this case, anions are generated. The ionizer 141 generates ion air by mixing the generated ions with the air guided into the ionizer body 142. Further, the ionizer 141 discharges the generated ion air to the downstream side of the first air flow path 140. The ion air is guided to the ion air channel 71 of the suction unit 20 through the antistatic tube and the first port 90.

図8に示されるように、第2エア流路150上にはエアユニット231が設置されている。エアユニット231は、電磁弁232、流量調整弁233及びエアフィルタ234を備えている。電磁弁232は、エアフィルタ137の下流側に配置されており、第2エア流路150を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。電磁弁232は、開状態に切り替えられた際に、下流側にエアを供給可能とするとともに、エアを適宜排気してエア圧力を減圧調整するようになっている。なお、本実施形態の電磁弁232は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。また、流量調整弁233は、電磁弁232とエアフィルタ234とをつなぐ流路の途中に配置されており、第2エア流路150を流れるエアを定量的に排気してそのエアの圧力が一定値となるよう減圧調整する絞り弁である。エアフィルタ234は、流量調整弁233の下流側に配置されており、第2エア流路150内を通過するエアに含まれる異物を除去するようになっている。   As shown in FIG. 8, an air unit 231 is installed on the second air flow path 150. The air unit 231 includes an electromagnetic valve 232, a flow rate adjustment valve 233, and an air filter 234. The electromagnetic valve 232 is disposed on the downstream side of the air filter 137, and switches the second air flow path 150 to an open state or a closed state. When the electromagnetic valve 232 is switched to the open state, the air can be supplied to the downstream side, and the air pressure is appropriately discharged to adjust the air pressure to a reduced pressure. The electromagnetic valve 232 of the present embodiment is a two-position, direct-acting normally closed electromagnetic valve that is operated by a single-action solenoid, and is switched to an open state based on a control signal output from the control device 101. The flow rate adjusting valve 233 is disposed in the middle of the flow path connecting the electromagnetic valve 232 and the air filter 234, and the air flowing through the second air flow path 150 is quantitatively exhausted so that the pressure of the air is constant. It is a throttle valve that adjusts the pressure to be reduced. The air filter 234 is disposed on the downstream side of the flow rate adjustment valve 233 and removes foreign matters contained in the air passing through the second air flow path 150.

図8に示されるように、第3エア流路160上には吸着ユニット161が設置されている。また、吸着ユニット161は、基板吸着流路158と、第3エア流路160に連通する真空破壊流路159とに分岐している。   As shown in FIG. 8, an adsorption unit 161 is installed on the third air flow path 160. Further, the adsorption unit 161 branches into a substrate adsorption channel 158 and a vacuum break channel 159 communicating with the third air channel 160.

基板吸着流路158上には、第1電磁弁162及びエアフィルタ167が設置されている。第1電磁弁162は、エアフィルタ137の下流側に配置されており、基板吸着流路158を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。第1電磁弁162は、開状態に切り替えられた際に、吸引部20の真空吸着穴45近傍にあるエアを、吸着流路195、第4ポート93及びエアフィルタ167等を介して真空引きするとともに、エアを適宜吸入してエア圧力を加圧調整するようになっている。なお、本実施形態の第1電磁弁162は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。   A first electromagnetic valve 162 and an air filter 167 are installed on the substrate adsorption flow path 158. The first electromagnetic valve 162 is disposed on the downstream side of the air filter 137 and switches the substrate adsorption flow path 158 between an open state and a closed state. When the first solenoid valve 162 is switched to the open state, the air in the vicinity of the vacuum suction hole 45 of the suction unit 20 is evacuated through the suction flow path 195, the fourth port 93, the air filter 167, and the like. At the same time, air is appropriately sucked to adjust the air pressure. The first electromagnetic valve 162 of the present embodiment is a two-position, direct-acting normally closed electromagnetic valve that is operated by a single-action solenoid, and is switched to an open state based on a control signal output from the control device 101.

図8に示されるように、真空破壊流路159上には、第2電磁弁168、流量調整弁169及び圧力スイッチ170が設置されている。第2電磁弁168は、エアフィルタ137の下流側に配置されており、真空破壊流路159を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。第2電磁弁168は、開状態に切り替えられた際に、エアフィルタ167と吸引部20とをつなぐ接続流路にエアを供給して、その接続流路の真空度を弱めるようになっている。それとともに、第2電磁弁168は、開状態に切り替えられた際に、真空破壊流路159を流れるエアを適宜排気して減圧調整するようになっている。なお、本実施形態の第2電磁弁168は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。また、流量調整弁169は、第2電磁弁168と圧力スイッチ170とをつなぐ流路の途中に配置されており、真空破壊流路159を流れるエアを定量的に排気してそのエアの圧力が一定値となるよう減圧調整する絞り弁である。圧力スイッチ170は、流量調整弁169及びエアフィルタ167の下流側に配置されている。圧力スイッチ170は、真空破壊流路159内の圧力が所定値を超えたこと(即ち、真空破壊されていること)を契機としてオン状態となり、真空破壊信号を制御装置101のCPU102に対して出力するようになっている。   As shown in FIG. 8, a second electromagnetic valve 168, a flow rate adjustment valve 169, and a pressure switch 170 are installed on the vacuum breaking channel 159. The second electromagnetic valve 168 is disposed on the downstream side of the air filter 137, and the vacuum break channel 159 is switched to an open state or a closed state. When the second electromagnetic valve 168 is switched to the open state, the second electromagnetic valve 168 supplies air to the connection flow path connecting the air filter 167 and the suction unit 20 to weaken the degree of vacuum of the connection flow path. . At the same time, when the second electromagnetic valve 168 is switched to the open state, the air flowing through the vacuum breaking flow path 159 is appropriately discharged to adjust the pressure reduction. Note that the second electromagnetic valve 168 of the present embodiment is a two-position, direct-acting normally closed electromagnetic valve that is operated by a single-action solenoid, and is switched to an open state based on a control signal output from the control device 101. The flow rate adjusting valve 169 is disposed in the middle of the flow path connecting the second electromagnetic valve 168 and the pressure switch 170, and the air flowing through the vacuum breaking flow path 159 is quantitatively exhausted to reduce the pressure of the air. This is a throttle valve that adjusts the pressure to a constant value. The pressure switch 170 is disposed on the downstream side of the flow rate adjustment valve 169 and the air filter 167. The pressure switch 170 is turned on when the pressure in the vacuum break channel 159 exceeds a predetermined value (that is, vacuum break), and outputs a vacuum break signal to the CPU 102 of the control device 101. It is supposed to be.

図8に示されるように、非接触搬送装置は真空流路153を備え、真空流路153上には集塵ユニット151が設置されている。真空流路153は、帯電防止チューブ及び第3ポート92(図5,図8のP4参照)を介して吸引部20の集塵流路191に連通している。集塵ユニット151は、電磁弁152及びエアフィルタ157を備えている。電磁弁152は、真空流路153を開状態または閉状態に切り替えるようになっている。電磁弁152は、開状態に切り替えられた際に、吸引部20の集塵穴42近傍にあるエアを、集塵流路191、第3ポート92及びエアフィルタ157等を介して吸引するとともに、エアを適宜吸入してエア圧力を加圧調整するようになっている。なお、本実施形態の電磁弁152は、単動ソレノイドによって作動する2位置、直動ノーマルクローズの電磁弁であり、制御装置101から出力される制御信号に基づいて開状態に切り替えられる。   As shown in FIG. 8, the non-contact transfer device includes a vacuum channel 153, and a dust collection unit 151 is installed on the vacuum channel 153. The vacuum channel 153 communicates with the dust collecting channel 191 of the suction unit 20 via the antistatic tube and the third port 92 (see P4 in FIGS. 5 and 8). The dust collection unit 151 includes an electromagnetic valve 152 and an air filter 157. The electromagnetic valve 152 switches the vacuum channel 153 to an open state or a closed state. When the solenoid valve 152 is switched to the open state, the solenoid valve 152 sucks air in the vicinity of the dust collection hole 42 of the suction unit 20 through the dust collection flow path 191, the third port 92, the air filter 157, and the like. The air pressure is adjusted by pressurizing air appropriately. The electromagnetic valve 152 of this embodiment is a two-position, direct-acting normally closed electromagnetic valve that is operated by a single-action solenoid, and is switched to an open state based on a control signal output from the control device 101.

次に、非接触搬送装置の電気的構成について説明する。   Next, the electrical configuration of the non-contact conveyance device will be described.

図8に示されるように、非接触搬送装置は、装置全体を制御する制御装置101を備えている。制御装置101は、CPU102、ROM103、RAM104及び入出力回路等により構成されている。CPU102は、エア供給バルブ132、イオナイザ141、電磁弁143,152,232、第1電磁弁162及び第2電磁弁168に電気的に接続されており、各種の駆動信号によってそれらを制御する。   As shown in FIG. 8, the non-contact conveyance device includes a control device 101 that controls the entire device. The control device 101 includes a CPU 102, a ROM 103, a RAM 104, an input / output circuit, and the like. The CPU 102 is electrically connected to the air supply valve 132, the ionizer 141, the electromagnetic valves 143, 152, 232, the first electromagnetic valve 162, and the second electromagnetic valve 168, and controls them by various driving signals.

また、CPU102には、静電電位センサ105から出力された静電気測定信号が入力されるようになっている。そして、CPU102は、静電気測定信号が示す静電気の電荷の極性に基づいて、吸引部20によって吸引される配線基板110が正(+)に帯電しているか負(−)に帯電しているかを判定するようになっている。配線基板110が正に帯電していると判定された場合、CPU102は、イオナイザ141に駆動信号を出力し、直流電圧を印加して負極側の放電針に陰イオンを発生させる制御を行うようになっている。一方、配線基板110が負に帯電していると判定された場合、CPU102は、イオナイザ141に駆動信号を出力し、直流電圧を印加して正極側の放電針に陽イオンを発生させる制御を行うようになっている。このような制御によれば、配線基板110に帯電した静電気を確実に中和させることができる。   The CPU 102 is configured to receive an electrostatic measurement signal output from the electrostatic potential sensor 105. Then, the CPU 102 determines whether the wiring board 110 attracted by the suction unit 20 is charged positively (+) or negatively (−) based on the polarity of the electrostatic charge indicated by the electrostatic measurement signal. It is supposed to be. When it is determined that the wiring board 110 is positively charged, the CPU 102 outputs a drive signal to the ionizer 141 and applies a DC voltage to perform control to generate negative ions on the discharge needle on the negative electrode side. It has become. On the other hand, when it is determined that the wiring board 110 is negatively charged, the CPU 102 outputs a drive signal to the ionizer 141 and applies a DC voltage to generate positive ions in the positive discharge needle. It is like that. According to such control, static electricity charged on the wiring board 110 can be reliably neutralized.

なお本実施形態では、DC方式のイオナイザ141を用いているが、それに代えてAC方式のイオナイザを用いてもよい。AC方式のイオナイザは、イオナイザ本体と、イオナイザ本体内に突出する1本の放電針と、放電針に交流電圧を印加する高圧電源とを備えている。放電針は、交流電圧が印加された際に、印加する交流電圧の極性に応じて陽イオンまたは陰イオンを発生させるようになっている。この場合、CPU102は、静電電位センサ105から出力された静電気測定信号が入力されると、静電気測定信号が示す静電気の電荷量に基づいて配線基板110が帯電しているか否かを判定する。配線基板110が帯電していると判定された場合、CPU102は、イオナイザ141に駆動信号を出力し、イオナイザ141の出力を強くする制御を行う。一方、配線基板110が帯電していないと判定された場合、CPU102は、イオナイザ141に駆動信号を出力し、イオナイザ141の出力を弱くする制御を行う。このような制御によれば、配線基板110の帯電を確実に防止することができる。また、イオナイザ141が必要以上に作動することを防止することができる。   In this embodiment, although the DC ionizer 141 is used, an AC ionizer may be used instead. The AC type ionizer includes an ionizer body, one discharge needle protruding into the ionizer body, and a high-voltage power source that applies an AC voltage to the discharge needle. When an alternating voltage is applied, the discharge needle generates a cation or an anion according to the polarity of the applied alternating voltage. In this case, when the electrostatic measurement signal output from the electrostatic potential sensor 105 is input, the CPU 102 determines whether or not the wiring board 110 is charged based on the electrostatic charge amount indicated by the electrostatic measurement signal. When it is determined that the wiring board 110 is charged, the CPU 102 outputs a drive signal to the ionizer 141 and performs control to increase the output of the ionizer 141. On the other hand, when it is determined that the wiring board 110 is not charged, the CPU 102 outputs a drive signal to the ionizer 141 and performs control to weaken the output of the ionizer 141. Such control can reliably prevent the wiring board 110 from being charged. Further, it is possible to prevent the ionizer 141 from operating more than necessary.

次に、配線基板110の非接触搬送方法を説明する。   Next, a non-contact conveyance method for the wiring board 110 will be described.

本実施形態の配線基板110は、複数の製造工程を経て製造され、導通検査を行う検査工程を受けた後に出荷される。なお、配線基板110は、製造工程が終了する度に基板支持台(図示略)上に配置される。この状態において、非接触搬送装置を用いて配線基板110を搬送する。詳述すると、搬送用多関節ロボットのアームを駆動して搬送ヘッド11を下降させる。   The wiring board 110 of the present embodiment is manufactured through a plurality of manufacturing processes, and is shipped after undergoing an inspection process for conducting a continuity test. The wiring board 110 is placed on a board support (not shown) every time the manufacturing process is completed. In this state, the wiring board 110 is transferred using a non-contact transfer device. More specifically, the transfer head 11 is lowered by driving the arm of the transfer articulated robot.

続くエア噴出工程において、CPU102は、エア供給バルブ132及び電磁弁232に駆動信号を出力して、エア供給バルブ132及び電磁弁232を開状態に切り替える。その結果、エア供給源131から送り出された加圧エアが、エア供給流路130を通過して第2エア流路150に導かれる。そして、第2エア流路150に導かれたエアは、第2ポート91(図5,図8のP2参照)を介して吸引部20内に流入し、エア流路221に導かれる。   In the subsequent air ejection process, the CPU 102 outputs drive signals to the air supply valve 132 and the electromagnetic valve 232 to switch the air supply valve 132 and the electromagnetic valve 232 to the open state. As a result, the pressurized air sent from the air supply source 131 passes through the air supply channel 130 and is guided to the second air channel 150. Then, the air guided to the second air flow path 150 flows into the suction unit 20 via the second port 91 (see P2 in FIGS. 5 and 8) and is guided to the air flow path 221.

なお本実施形態では、エア流路221に導かれたエアは、エア吹出穴81を通過し、エア吹出穴81から凹部73の内周面に沿って噴出する。その結果、エア吹出穴81から噴出したエアの大部分は、エア吹出穴81が開口する方向に流れて凹部73外に流出した後、吸引面21と基板主面120との隙間を通過し、この際に高速流となって吸引部20の外側に放出される。その結果、吸引面21と基板主面120との間に生じた空間が負圧となり、配線基板110の基板主面120が吸引面21に吸引保持される(図1参照)。また、エア吹出穴81から噴出されたエアの一部は、凹部73の周方向に沿って流れて旋回流を形成する。   In the present embodiment, the air guided to the air flow path 221 passes through the air blowing hole 81 and is jetted from the air blowing hole 81 along the inner peripheral surface of the recess 73. As a result, most of the air ejected from the air blowing hole 81 flows in the direction in which the air blowing hole 81 opens and flows out of the recess 73, and then passes through the gap between the suction surface 21 and the substrate main surface 120. At this time, a high-speed flow is discharged to the outside of the suction unit 20. As a result, the space generated between the suction surface 21 and the substrate main surface 120 becomes negative pressure, and the substrate main surface 120 of the wiring substrate 110 is sucked and held by the suction surface 21 (see FIG. 1). A part of the air ejected from the air blowing hole 81 flows along the circumferential direction of the recess 73 to form a swirling flow.

続く集塵工程において、CPU102は、電磁弁152に駆動信号を出力して、電磁弁152を開状態に切り替える。その結果、吸引部20の集塵穴42近傍にあるエアが、集塵流路191及び第3ポート92(図5,図8のP4参照)を介して吸引される。その結果、配線基板110の基板主面120上に付着している異物がエアとともに回収される。   In the subsequent dust collection process, the CPU 102 outputs a drive signal to the electromagnetic valve 152 to switch the electromagnetic valve 152 to the open state. As a result, air in the vicinity of the dust collection hole 42 of the suction unit 20 is sucked through the dust collection flow path 191 and the third port 92 (see P4 in FIGS. 5 and 8). As a result, the foreign matter adhering on the board main surface 120 of the wiring board 110 is collected together with air.

続くイオンエア噴出工程において、CPU102は、イオナイザ141及び電磁弁143に駆動信号を出力する。その結果、電磁弁143が開状態に切り替わるとともに、イオナイザ141が作動する。そして、エア供給源131から送り出された加圧エアが、エア供給流路130を通過して第1エア流路140上のイオナイザ141に流入する。イオナイザ141は、イオナイザ本体142内に導かれてきたエアにイオンを混合させることにより、イオンエアを生成する。そして、イオナイザ141は、生成したイオンエアをイオナイザ141の下流側に放出する。さらに、イオナイザ141から放出されたイオンエアが、第1エア流路140及び第1ポート90(図5,図8のP3参照)を介して吸引部20内に流入し、イオンエア流路71に導かれる。   In the subsequent ion air ejection process, the CPU 102 outputs drive signals to the ionizer 141 and the electromagnetic valve 143. As a result, the electromagnetic valve 143 is switched to the open state and the ionizer 141 is activated. The pressurized air sent from the air supply source 131 passes through the air supply flow path 130 and flows into the ionizer 141 on the first air flow path 140. The ionizer 141 generates ion air by mixing ions with the air introduced into the ionizer body 142. The ionizer 141 releases the generated ion air to the downstream side of the ionizer 141. Further, the ion air discharged from the ionizer 141 flows into the suction unit 20 through the first air flow path 140 and the first port 90 (see P3 in FIGS. 5 and 8), and is guided to the ion air flow path 71. .

なお本実施形態では、イオンエア流路71に導かれたイオンエアを、イオンエア吹出穴82から配線基板110の基板主面120に向けて垂直に吹き付けることにより、基板主面120上の異物を除去する。また、イオンエア吹出穴82から吹き付けられたイオンエアには、エア吹出穴81から噴出したエアが衝突する。その結果、イオンエアが基板主面120全体に拡散するため、基板主面120上の異物が、吹き飛ばされることによって確実に除去される。   In the present embodiment, the ion air guided to the ion air flow path 71 is blown vertically from the ion air blowing hole 82 toward the substrate main surface 120 of the wiring substrate 110 to remove foreign matters on the substrate main surface 120. Further, the air blown out from the air blowing hole 81 collides with the ion air blown from the ion air blowing hole 82. As a result, ion air diffuses over the entire substrate main surface 120, so that foreign matter on the substrate main surface 120 is reliably removed by being blown away.

続く位置決め工程では、搬送用多関節ロボットのアームを駆動して搬送ヘッド11とともに配線基板110を上昇させる。さらに、搬送ヘッド11のスライドテーブル2を駆動して吸引部20を下降させ、配線基板110の基板主面120に吸引部20の吸引面21を接近させる。そして、搬送ヘッド11のエアチャック181を駆動して腕部182の接触部184を配線基板110に近付ける。その結果、各接触部184の係合凹部185が配線基板110の2つの角部に係合し、配線基板110が位置ずれ不能に保持固定される。   In the subsequent positioning step, the arm of the transfer articulated robot is driven to raise the wiring board 110 together with the transfer head 11. Further, the suction table 20 is lowered by driving the slide table 2 of the transport head 11, and the suction surface 21 of the suction unit 20 is brought close to the board main surface 120 of the wiring board 110. Then, the air chuck 181 of the transport head 11 is driven to bring the contact portion 184 of the arm portion 182 closer to the wiring board 110. As a result, the engagement recess 185 of each contact portion 184 engages with the two corners of the wiring board 110, and the wiring board 110 is held and fixed without being misaligned.

続く吸着工程において、CPU102は、第1電磁弁162に駆動信号を出力する。その結果、第1電磁弁162が開状態に切り替わり、吸引部20の真空吸着穴45近傍にあるイオンエアが、吸着流路195及び第4ポート93(図5,図8のP1参照)を介して真空引きされる。その結果、ベルヌーイ効果による吸引力と真空引きによる吸着力とによって、配線基板110の基板主面120が吸引面21により安定的に吸引保持される。   In the subsequent adsorption process, the CPU 102 outputs a drive signal to the first electromagnetic valve 162. As a result, the first electromagnetic valve 162 is switched to the open state, and the ion air in the vicinity of the vacuum suction hole 45 of the suction unit 20 passes through the suction flow path 195 and the fourth port 93 (see P1 in FIGS. 5 and 8). It is evacuated. As a result, the substrate main surface 120 of the wiring substrate 110 is stably held by the suction surface 21 by the suction force by the Bernoulli effect and the suction force by vacuuming.

その後、搬送ヘッド11のエアチャック181を駆動して接触部184を配線基板110から離間させる。その結果、配線基板110の角部に対する係合凹部185の係合が解除される。さらに、搬送ヘッド11のスライドテーブル2を駆動して、吸引部20を上昇させる。   Thereafter, the air chuck 181 of the transport head 11 is driven to separate the contact portion 184 from the wiring board 110. As a result, the engagement of the engagement recess 185 with respect to the corner of the wiring board 110 is released. Further, the suction table 20 is raised by driving the slide table 2 of the transport head 11.

そして、搬送用多関節ロボットのアームを駆動し、検査工程用のラインに配線基板110を搬送する。配線基板110が検査工程用のラインに到達すると、配線基板110の釈放を行い、検査工程用のラインの支持台上に配線基板110を配置する。具体的に言うと、CPU102は、電磁弁143を閉状態に切り替える制御を行い、第1エア流路140を遮断する。その結果、吸引部20へのイオンエアの供給が停止され、イオンエア吹出穴82からのイオンエアの噴出が終了する。それと同時に、CPU102は、電磁弁152を閉状態に切り替える制御を行って真空流路153を遮断する。その結果、集塵穴42からのエアの吸引が終了する。また、搬送用多関節ロボットのアームを駆動して搬送ヘッド11とともに配線基板110を下降させる。   Then, the arm of the transfer articulated robot is driven to transfer the wiring board 110 to the inspection process line. When the wiring board 110 reaches the inspection process line, the wiring board 110 is released, and the wiring board 110 is placed on a support for the inspection process line. Specifically, the CPU 102 performs control for switching the electromagnetic valve 143 to the closed state, and blocks the first air flow path 140. As a result, the supply of ion air to the suction unit 20 is stopped, and the ejection of ion air from the ion air blowing hole 82 ends. At the same time, the CPU 102 performs control for switching the electromagnetic valve 152 to the closed state, thereby blocking the vacuum flow path 153. As a result, the suction of air from the dust collection hole 42 is completed. In addition, the arm of the transfer articulated robot is driven to lower the wiring board 110 together with the transfer head 11.

次に、CPU102は、電磁弁232を閉状態に切り替える制御を行い、第2エア流路150を遮断する。その結果、吸引部20へのエアの供給が停止され、エア吹出穴81からのエアの噴出が終了する。それと同時に、CPU102は、第1電磁弁162を閉状態に切り替える制御を行って真空流路153を遮断する。   Next, the CPU 102 performs control for switching the electromagnetic valve 232 to the closed state, and blocks the second air flow path 150. As a result, the supply of air to the suction unit 20 is stopped, and the ejection of air from the air blowing hole 81 is completed. At the same time, the CPU 102 performs control for switching the first electromagnetic valve 162 to the closed state, thereby blocking the vacuum flow path 153.

また、CPU102は、第2電磁弁168に駆動信号を出力する。その結果、第2電磁弁168が開状態に切り替わり、エア供給源131から送り出された加圧エアが、エア供給流路130及び第3エア流路160を通過して真空破壊流路159に導かれ、エアフィルタ167と吸引部20とをつなぐ接続流路に供給される。そして、接続流路の真空破壊が行われ、接続流路の真空度が弱められ、配線基板110を吸引する力が弱くなる。その結果、真空吸着穴45からのイオンエアの真空引きが終了する。その後、CPU102は、第2電磁弁168を閉状態に切り替える制御を行って第3エア流路160を遮断する。   Further, the CPU 102 outputs a drive signal to the second electromagnetic valve 168. As a result, the second electromagnetic valve 168 is switched to the open state, and the pressurized air sent from the air supply source 131 passes through the air supply flow path 130 and the third air flow path 160 and is guided to the vacuum break flow path 159. Then, the air is supplied to the connection flow path connecting the air filter 167 and the suction unit 20. And the vacuum breakage of the connection channel is performed, the degree of vacuum of the connection channel is weakened, and the force for sucking the wiring board 110 is weakened. As a result, evacuation of ion air from the vacuum suction hole 45 is completed. Thereafter, the CPU 102 performs control for switching the second electromagnetic valve 168 to the closed state, thereby blocking the third air flow path 160.

そして、搬送用多関節ロボットのアームを駆動して搬送ヘッド11を上昇させる。その結果、搬送ヘッド11が配線基板110から離間し、配線基板110が検査工程用のラインの支持台上に配置される。   Then, the arm of the transfer articulated robot is driven to raise the transfer head 11. As a result, the transport head 11 is separated from the wiring board 110, and the wiring board 110 is placed on a support for a line for an inspection process.

従って、本実施形態によれば以下の効果を得ることができる。   Therefore, according to the present embodiment, the following effects can be obtained.

(1)本実施形態の非接触搬送装置では、6個のエア吹出穴81が、イオンエア吹出穴82を取り囲むように設けられ、凹部73の中心軸C1を基準として等角度間隔で配置されるとともに、仮想円C2の接線L1に対して同じ角度θ1だけ傾斜した状態で開口している。即ち本実施形態では、同じ向きに開口するエア吹出穴81が均等に配置されている。このため、各エア吹出穴81から噴出したエアがエア吹出穴81が開口する方向に流れ、イオンエアがエア吹出穴81から噴出したエアによってそれぞれのエア吹出穴81の近傍において拡散したとしても、イオンエアは、基板主面120の全体に確実に拡散する。よって、イオンエアを用いた基板主面120上の異物の除去や、イオンエアを用いた配線基板110の除電を、確実にかつ均一に行うことができる。ゆえに、搬送後の導通検査において、基板主面120上のはんだバンプ118に対してプローブ(図示略)を当接させた際に、プローブとはんだバンプ118との間に導通しない異物が噛み込むことが防止される。その結果、配線基板110が異物の存在に起因して不良品であると判定されにくくなるため、配線基板110の歩留まりが向上する。   (1) In the non-contact conveyance device of the present embodiment, the six air blowing holes 81 are provided so as to surround the ion air blowing holes 82, and are arranged at equiangular intervals with the central axis C1 of the recess 73 as a reference. The opening is made in a state inclined by the same angle θ1 with respect to the tangent L1 of the virtual circle C2. That is, in this embodiment, the air blowing holes 81 that open in the same direction are evenly arranged. For this reason, even if the air blown out from each air blowing hole 81 flows in the direction in which the air blowing hole 81 opens and the ion air is diffused in the vicinity of each air blowing hole 81 by the air blown out from the air blowing hole 81, Reliably diffuses to the entire main surface 120 of the substrate. Therefore, it is possible to reliably and uniformly perform the removal of foreign matters on the substrate main surface 120 using ion air and the charge removal of the wiring board 110 using ion air. Therefore, in the continuity inspection after conveyance, when a probe (not shown) is brought into contact with the solder bump 118 on the substrate main surface 120, foreign matter that does not conduct is caught between the probe and the solder bump 118. Is prevented. As a result, it is difficult to determine that the wiring board 110 is a defective product due to the presence of foreign matter, so that the yield of the wiring board 110 is improved.

(2)本実施形態では、エア吹出穴81が6個設けられることにより、各エア吹出穴81から噴出するエアの流量を大きくすることができるため、エア吹出穴が2個しか設けられていない従来の構造よりも、配線基板110を吸引する力を大きくすることができる。その結果、基板主面120に吹き付けられたイオンエアが、配線基板110の吸引に伴って吸引面21側に押し戻された後、エア吹出穴81から噴出するエアに混合されるため、イオンエアをより確実に拡散させることができる。しかも、エア吹出穴81を3個以上設けた結果、気流が安定するようになるため、吸引時に配線基板110が回転することを防止できる。   (2) In this embodiment, since the six air blowing holes 81 are provided, the flow rate of the air blown out from each air blowing hole 81 can be increased, so that only two air blowing holes are provided. The force for sucking the wiring board 110 can be increased as compared with the conventional structure. As a result, the ion air blown to the board main surface 120 is mixed with the air blown out from the air blowing hole 81 after being pushed back to the suction face 21 side as the wiring board 110 is sucked. Can diffuse. In addition, as a result of providing three or more air blowing holes 81, the airflow becomes stable, so that the wiring board 110 can be prevented from rotating during suction.

(3)エア吹出穴が2個しか設けられていない従来の構造の場合、異物の存在によってエア吹出穴が1つでも塞がってしまうと、エア吹出穴から噴出するエアの総量が半分になるため、エアによってイオンエアを十分に拡散できなくなる。一方、本実施形態では、6個のエア吹出穴81が設けられているため、一部のエア吹出穴81が塞がったとしても、エア吹出穴81から噴出するエアの総量は殆ど低下しない。このため、エア吹出穴81から噴出するエアを用いてイオンエアを確実に拡散させることができる。   (3) In the case of the conventional structure in which only two air blowing holes are provided, if even one air blowing hole is blocked by the presence of foreign matter, the total amount of air blown from the air blowing hole is halved. The ion air cannot be sufficiently diffused by the air. On the other hand, in this embodiment, since the six air blowing holes 81 are provided, even if some of the air blowing holes 81 are blocked, the total amount of air ejected from the air blowing holes 81 hardly decreases. For this reason, ion air can be reliably diffused using the air ejected from the air blowing hole 81.

(4)本実施形態では、配線基板110の搬送時に、エア噴出工程→集塵工程→イオンエア噴出工程→位置決め工程→吸着工程の順で各工程を実施している。即ち、位置決め工程前にイオンエア吹出穴82からイオンエアを噴出することによって、配線基板110の吸引力を弱めておくことができるため、位置決め工程後において樹脂製パッド40の凸部44と配線基板110との接触抵抗を減らすことができる。ゆえに、凸部44との摩擦によって配線基板110が傷付いたり汚れたりすることを防止できる。   (4) In the present embodiment, when the wiring board 110 is transported, each process is performed in the order of air ejection process → dust collection process → ion air ejection process → positioning process → adsorption process. That is, since the suction force of the wiring board 110 can be weakened by ejecting the ion air from the ion air blowing holes 82 before the positioning process, the convex portions 44 of the resin pad 40 and the wiring board 110 after the positioning process. Can reduce the contact resistance. Therefore, the wiring board 110 can be prevented from being damaged or soiled by friction with the convex portion 44.

(5)本実施形態では、配線基板110の搬送中においても、エア及びイオンエアを噴出し続けることによって異物の除去や配線基板110の除電を行っている。即ち、配線基板110の搬送工程と、異物の除去や除電を行う工程とを同時に行うことができるため、配線基板110の製造効率が向上する。   (5) In the present embodiment, the foreign substance is removed and the wiring board 110 is neutralized by continuing to blow out air and ion air even while the wiring board 110 is being transported. That is, since the process of transporting the wiring board 110 and the process of removing foreign substances and removing charges can be performed simultaneously, the manufacturing efficiency of the wiring board 110 is improved.

(6)本実施形態では、第1ノズル挿通孔26の下面24側端部が、エア流路221の環状流路223となる凹部となっており、第1ノズル挿通孔26に収容したノズル支持体51の上端部を第1ノズル挿通孔26の上面23側端部に螺着させるだけで、環状流路223が形成される。このため、下側部材211を加工して環状流路223を形成する場合に比べて、環状流路223を容易に形成することができる。   (6) In this embodiment, the lower surface 24 side end portion of the first nozzle insertion hole 26 is a concave portion that becomes the annular flow path 223 of the air flow path 221, and the nozzle support accommodated in the first nozzle insertion hole 26. The annular flow path 223 is formed only by screwing the upper end portion of the body 51 to the end portion on the upper surface 23 side of the first nozzle insertion hole 26. For this reason, compared with the case where the lower member 211 is processed and the annular flow path 223 is formed, the annular flow path 223 can be formed easily.

なお、本実施形態を以下のように変更してもよい。   In addition, you may change this embodiment as follows.

・上記実施形態では、エア吹出穴81から噴出されるエアとして、イオンが混合されていない通常のエアが用いられていた。しかし、エア吹出穴81から噴出されえるエアは、イオナイザ141から放出されるイオンエアであってもよい。   In the above embodiment, normal air that is not mixed with ions is used as the air that is ejected from the air blowing hole 81. However, the air that can be ejected from the air blowing hole 81 may be ion air that is discharged from the ionizer 141.

・上記実施形態において、樹脂製パッド40及び吸引部20の構造を変更してもよい。例えば図9,図10に示される樹脂製パッド240には、4個の長孔242が設けられている。各長孔242は、上記実施形態において集塵穴42が設けられていた領域よりも外側領域にて開口するように配設され、樹脂製パッド40の外周縁(四辺)に沿って延びている。なお、各長孔242は、吸引部を構成する下側部材243に設けられた集塵流路244に連通している。集塵流路244は、下面245及び側面246にて開口するとともに、中心軸線C3が下面245に対して60°だけ傾斜した状態に配置されている。そして、各集塵流路244は、集塵ユニット151(図8参照)に接続されるのではなく、下側部材243の外側に連通している。即ち、長孔242及び集塵流路244は、吸引部の長孔242近傍にあるエアやイオンエアを上方に放出させる空気抜きとして機能する。   In the above embodiment, the structures of the resin pad 40 and the suction unit 20 may be changed. For example, the resin pad 240 shown in FIGS. 9 and 10 is provided with four long holes 242. Each long hole 242 is disposed so as to open in an outer region than the region where the dust collection hole 42 is provided in the above-described embodiment, and extends along the outer peripheral edge (four sides) of the resin pad 40. . Each long hole 242 communicates with a dust collection channel 244 provided in the lower member 243 constituting the suction portion. The dust collecting flow path 244 opens at the lower surface 245 and the side surface 246 and is disposed in a state where the central axis C3 is inclined by 60 ° with respect to the lower surface 245. Each dust collection channel 244 is not connected to the dust collection unit 151 (see FIG. 8) but communicates with the outside of the lower member 243. That is, the long hole 242 and the dust collecting flow path 244 function as an air vent that releases air or ion air in the vicinity of the long hole 242 of the suction portion upward.

・上記実施形態では、上側部材201の下面203における中央部にノズル61が突設されていた。即ち、ノズル61は上側部材201に一体形成されていた。しかし、ノズル61を上側部材201から分離できる構造としてもよい。例えば、ノズル61を上側部材201に対してネジ止めするようにしてもよい。   In the above embodiment, the nozzle 61 protrudes from the center of the lower surface 203 of the upper member 201. That is, the nozzle 61 is integrally formed with the upper member 201. However, the nozzle 61 may be separated from the upper member 201. For example, the nozzle 61 may be screwed to the upper member 201.

・上記実施形態において、集塵ユニット151及び吸着ユニット161の少なくとも一方を省略してもよい。また、吸着ユニット161を省略しない場合、吸着ユニット161の真空破壊流路159上に設置された機器(第2電磁弁168、流量調整弁169及び圧力スイッチ170)を省略してもよい。   In the above embodiment, at least one of the dust collection unit 151 and the adsorption unit 161 may be omitted. Further, when the adsorption unit 161 is not omitted, the devices (second electromagnetic valve 168, flow rate adjustment valve 169, and pressure switch 170) installed on the vacuum breaking channel 159 of the adsorption unit 161 may be omitted.

・上記実施形態では、エア供給バルブ132、イオナイザ141、電磁弁143、電磁弁152、電磁弁232、第1電磁弁162及び第2電磁弁168の制御を1つのCPU102で制御するようにしたが、各制御を別々のCPUで行うように構成してもよい。   In the above embodiment, the control of the air supply valve 132, the ionizer 141, the electromagnetic valve 143, the electromagnetic valve 152, the electromagnetic valve 232, the first electromagnetic valve 162, and the second electromagnetic valve 168 is controlled by one CPU 102. Each control may be performed by a separate CPU.

・上記実施形態の非接触搬送装置は、単一製品の配線基板110を搬送するようになっていたが、例えば、配線基板110となるべき基板形成領域が平面方向に沿って複数配置された多数個取り用配線基板を搬送するようにしてもよい。   -Although the non-contact conveyance apparatus of the said embodiment was designed to convey the wiring board 110 of a single product, for example, a plurality of substrate forming regions that should become the wiring board 110 are arranged along the plane direction. You may make it convey the wiring board for individual picking.

・上記実施形態では、吸引部20を装着した搬送用多関節ロボットを用いて配線基板110を搬送していたが、吸引部20を装着したコンベアなどの搬送手段を用いて配線基板110を搬送してもよい。   In the above embodiment, the wiring board 110 is transported using the articulated robot for transportation equipped with the suction unit 20, but the wiring board 110 is transported using transport means such as a conveyor equipped with the suction unit 20. May be.

次に、前述した実施形態によって把握される技術的思想を以下に列挙する。   Next, the technical ideas grasped by the embodiment described above are listed below.

(1)上記手段1において、前記吸引部とは別体にイオナイザを設け、前記イオナイザから放出されるイオンエアを前記イオンエア吹出穴から吹き付けられるイオンエアとして用いることを特徴とする配線基板の非接触搬送装置。   (1) In the above means 1, a non-contact transfer device for a wiring board, wherein an ionizer is provided separately from the suction part, and ion air discharged from the ionizer is used as ion air blown from the ion air blowing hole. .

(2)上記手段1において、前記基板主面上の異物を回収する集塵穴を前記吸引面における前記凹部の外側領域にて開口するように配設したことを特徴とする配線基板の非接触搬送装置。   (2) In the above means 1, non-contact of the wiring board characterized in that a dust collecting hole for collecting foreign matter on the main surface of the substrate is disposed so as to open in an outer region of the concave portion on the suction surface. Conveying device.

(3)上記手段1において、真空引きするための真空吸着穴を、前記凹部の外側領域にて開口するように配設したことを特徴とする配線基板の非接触搬送装置。   (3) A non-contact transfer device for a wiring board according to the above means 1, wherein a vacuum suction hole for evacuating is disposed so as to open in an outer region of the recess.

20…吸引部
21…吸引面
25…吸引部の外周面
71…イオンエア流路
73…凹部
81…エア吹出穴
82…イオンエア吹出穴
110…被搬送物としての配線基板
116…突起電極としての端子パッド
118…突起電極としてのはんだバンプ
119…電極形成領域
120…基板主面
221…エア流路
222…導入流路
223…環状流路
C1…凹部の中心軸
C2…仮想円
L1…仮想円の接線
θ1…角度
DESCRIPTION OF SYMBOLS 20 ... Suction part 21 ... Suction surface 25 ... Outer peripheral surface 71 of a suction part ... Ion air flow path 73 ... Recess 81 ... Air blowing hole 82 ... Ion air blowing hole 110 ... Wiring board 116 as a to-be-conveyed object ... Terminal pad as protruding electrode 118 ... Solder bumps 119 as protruding electrodes ... Electrode forming region 120 ... Substrate main surface 221 ... Air flow path 222 ... Introduction flow path 223 ... Annular flow path C1 ... Center axis C2 of the recess ... Virtual circle L1 ... Tangent line θ1 of virtual circle …angle

Claims (6)

吸引面に凹部が設けられるとともに、前記凹部の内周面にて開口する複数のエア吹出穴が設けられた吸引部を備え、前記複数のエア吹出穴から前記凹部の内周面に沿って噴出したエアにより発生する負圧によって、被搬送物である配線基板の基板主面を前記吸引面に吸引保持して搬送する非接触搬送装置において、
前記基板主面にイオンエアを吹き付けるためのイオンエア吹出穴が、前記凹部の中心部に設けられ、
前記複数のエア吹出穴が、前記凹部の中心軸と同心状に設定された仮想円上において前記イオンエア吹出穴を取り囲むように3個以上設けられ、前記凹部の中心軸を基準として等角度間隔で配置されるとともに、前記エア吹出穴の位置にて接する前記仮想円の接線に対して同じ角度だけ傾斜した状態で開口している
ことを特徴とする配線基板の非接触搬送装置。
The suction surface is provided with a recess, and has a suction portion provided with a plurality of air blowing holes that open on the inner peripheral surface of the recess, and is ejected from the plurality of air blowing holes along the inner peripheral surface of the recess. In the non-contact transport device that transports the substrate main surface of the wiring substrate that is the object to be transported by sucking and holding the suction surface by the negative pressure generated by the air,
An ion air blowing hole for blowing ion air to the substrate main surface is provided at the center of the recess,
The plurality of air blowing holes are provided in three or more so as to surround the ion air blowing holes on a virtual circle concentrically set with the central axis of the recess, and are equiangularly spaced with respect to the central axis of the recess. A non-contact transfer device for a wiring board, which is arranged and opened in a state inclined by the same angle with respect to a tangent of the imaginary circle contacting at the position of the air blowing hole.
前記複数のエア吹出穴は、前記接線に対して前記凹部の中心側に15°以上45°以下だけ傾斜した状態で開口していることを特徴とする請求項1に記載の配線基板の非接触搬送装置。   2. The non-contact of the wiring board according to claim 1, wherein the plurality of air blowing holes are opened in a state inclined by 15 ° or more and 45 ° or less toward the center of the recess with respect to the tangent. Conveying device. 前記複数のエア吹出穴は、内径が0.5mm以上2.0mm以下に設定されていることを特徴とする請求項1または2に記載の配線基板の非接触搬送装置。 The non-contact transfer device for a wiring board according to claim 1 or 2 , wherein the plurality of air blowing holes have an inner diameter of 0.5 mm or more and 2.0 mm or less. 前記吸引部は、前記複数のエア吹出穴にエアを供給するエア流路と、前記イオンエア吹出穴にイオンエアを供給するイオンエア流路とをそれぞれ別々に有し、
前記イオンエア流路は、前記イオンエア吹出穴の中心軸線に沿って延びる直線状の流路であり、
前記エア流路は、前記吸引部の外周面から前記イオンエア吹出穴側に延びる導入流路と、前記イオンエア流路を包囲するとともに前記イオンエア流路の中心軸線に沿って延びる環状をなし、上流側の端部において前記導入流路に連通し、下流側の端部において前記複数のエア吹出穴に連通する環状流路とからなる
ことを特徴とする請求項1乃至のいずれか1項に記載の配線基板の非接触搬送装置。
The suction part has an air flow path for supplying air to the plurality of air blowing holes and an ion air flow path for supplying ion air to the ion air blowing holes, respectively.
The ion air channel is a linear channel extending along the central axis of the ion air outlet hole,
The air flow path has an introduction flow path that extends from the outer peripheral surface of the suction portion toward the ion air blowing hole side, and an annular shape that surrounds the ion air flow path and extends along the central axis of the ion air flow path. communicating at the end in the inlet flow path, according to any one of claims 1 to 3, characterized in that it consists of an annular passage which communicates with said plurality of air blowing ports at the downstream end Non-contact transfer device for wiring boards.
前記配線基板は、複数の突起電極が配置された電極形成領域を前記基板主面上に有する樹脂製配線基板であることを特徴とする請求項1乃至のいずれか1項に記載の配線基板の非接触搬送装置。 The wiring board, the wiring board according to the plurality of projecting electrodes are electrodes formed areas arranged in any one of claims 1 to 4, characterized in that a resin wiring board having on the substrate main surface Non-contact transfer device. 請求項1乃至のいずれか1項に記載の非接触搬送装置を用いて、被搬送物である配線基板の基板主面を前記吸引面に吸引保持して搬送することにより、配線基板を製造する方法において、
前記イオンエア吹出穴から前記基板主面に向けてイオンエアを吹き付けるとともに、
前記複数のエア吹出穴から前記凹部の内周面に沿って噴出したエアにより、前記イオンエア吹出穴から吹き付けられたイオンエアを前記基板主面全体に拡散させることで、前記基板主面上の異物を除去する
ことを特徴とする配線基板の製造方法。
Using the non-contact transfer device according to any one of claims 1 to 5 , a circuit board is manufactured by transporting the substrate main surface of the circuit board, which is an object to be transported, by suction holding the suction surface. In the way to
While blowing ion air from the ion air blowing hole toward the substrate main surface,
By diffusing ion air blown from the ion air blowing holes to the whole substrate main surface by air jetted from the plurality of air blowing holes along the inner peripheral surface of the concave portion, foreign matter on the substrate main surface is removed. A method of manufacturing a wiring board, comprising removing the wiring board.
JP2010060227A 2010-03-17 2010-03-17 Wiring board non-contact transfer device and wiring board manufacturing method Expired - Fee Related JP5198499B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010060227A JP5198499B2 (en) 2010-03-17 2010-03-17 Wiring board non-contact transfer device and wiring board manufacturing method
TW100108633A TW201204618A (en) 2010-03-17 2011-03-15 Non-contact carrying device for wiring substrate and method for fabricating wiring substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010060227A JP5198499B2 (en) 2010-03-17 2010-03-17 Wiring board non-contact transfer device and wiring board manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011189490A JP2011189490A (en) 2011-09-29
JP5198499B2 true JP5198499B2 (en) 2013-05-15

Family

ID=44794944

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010060227A Expired - Fee Related JP5198499B2 (en) 2010-03-17 2010-03-17 Wiring board non-contact transfer device and wiring board manufacturing method

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP5198499B2 (en)
TW (1) TW201204618A (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012195362A (en) * 2011-03-15 2012-10-11 Tokyo Electron Ltd Substrate transfer device
JP5951989B2 (en) * 2011-12-28 2016-07-13 日本特殊陶業株式会社 Non-contact transfer device, method for manufacturing wiring board
CN108811338B (en) * 2018-06-29 2021-04-16 珠海杰赛科技有限公司 Processing method of newly-added positioning hole of circuit board with any thickness

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000294472A (en) * 1999-04-05 2000-10-20 Toshiba Corp Stage with static eliminating function, method for static- eliminating processing body, and processing apparatus and seal agent coater using the same
JP3981241B2 (en) * 2000-06-09 2007-09-26 株式会社ハーモテック Swirl flow forming body and non-contact transfer device
JP2003282673A (en) * 2002-03-25 2003-10-03 Disco Abrasive Syst Ltd Transport device for semiconductor wafer
JP4342331B2 (en) * 2004-02-09 2009-10-14 株式会社コガネイ Non-contact transfer device
JP4629763B2 (en) * 2008-10-17 2011-02-09 日本特殊陶業株式会社 Wiring board non-contact transfer device and method, and resin wiring board manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011189490A (en) 2011-09-29
TW201204618A (en) 2012-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4629763B2 (en) Wiring board non-contact transfer device and method, and resin wiring board manufacturing method
JP4629764B2 (en) Wiring board non-contact transfer device and method, and resin wiring board manufacturing method
CN102693921B (en) Foreign substance removing device and die bonder equipped with the same
US20120079672A1 (en) Unit for removing foreign matter and apparatus and method for semiconductor packaging using the same
JP5198551B2 (en) Wiring board non-contact transfer device and wiring board manufacturing method
TWI575592B (en) Electronic device manufacturing apparatus and manufacturing method thereof
JP7065650B2 (en) Manufacturing method of die bonding equipment and semiconductor equipment
JP5523436B2 (en) Semiconductor cleaning apparatus and semiconductor cleaning method
JP5198499B2 (en) Wiring board non-contact transfer device and wiring board manufacturing method
JP2017105619A (en) Relay apparatus, conveying apparatus and inspecting apparatus
JP4629765B2 (en) Wiring board non-contact transfer device and method, and resin wiring board manufacturing method
JP4629766B2 (en) Wiring board non-contact transfer apparatus and method
JP2010114108A (en) Non-contact carrying device and method for wiring board
TW201808477A (en) Foreign matter removal device
JP5198549B2 (en) Wiring board non-contact transfer device and wiring board manufacturing method
JP5198550B2 (en) Wiring board non-contact transfer device and wiring board manufacturing method
JP5951989B2 (en) Non-contact transfer device, method for manufacturing wiring board
JP2925534B1 (en) Metal ball arrangement method and arrangement device
KR102634455B1 (en) Cleaning unit and substrate processing apparatus including the same
KR102132013B1 (en) Package unloading apparatus
JP2004115273A (en) Chip automatic separation and conveyance device
KR20060133282A (en) Method of forming solder ball bump using gas flow and apparatus using the said method
KR102105943B1 (en) Package unloading apparatus
KR102113118B1 (en) Package unloading apparatus
JP2012152874A (en) Wiring board conveying implement and method for manufacturing wiring board

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120601

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20120702

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20120809

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121002

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121126

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130115

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130206

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160215

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5198499

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees