JP5196308B2 - Adhesive application method and adhesive application device - Google Patents

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Description

本発明は、例えば非接触ICカードを作製する際、イントレットシートに積層される基材の上に予め接着剤を塗布する接着剤塗布方法および接着剤塗布装置に関する。   The present invention relates to an adhesive application method and an adhesive application device for applying an adhesive in advance on a base material laminated on an inlet sheet, for example, when producing a non-contact IC card.

近年、リーダ・ライタ等の外部装置と非接触で通信する非接触ICカードが普及しつつある。非接触ICカードの需要は、今後、急速な勢いで拡大していくものと予想されており、これにともなって、高品質の非接触ICカードを低コストで製造することが強く望まれている。   In recent years, contactless IC cards that communicate with external devices such as readers / writers in a contactless manner are becoming popular. The demand for non-contact IC cards is expected to expand rapidly in the future, and accordingly, it is strongly desired to manufacture high-quality non-contact IC cards at low cost. .

非接触ICカードは、第1基材と、第1基材の一方の面に設けられた第1接着剤層とを含む表面側基板と、第2基材と、第2基材の一方の面に設けられた第2接着剤層とを含む裏面側基板とを備えている。また、表面側基板と裏面側基板間に、インレット用基材と、インレット用基材上に設けられたICチップと、ICチップに対応して設けられたアンテナとを含むインレットシートが設けられている(例えば、特許文献1参照) 。このような構成からなる非接触ICカードにおいて、表面側基板の第1基材および裏面側基板の第2基材は所謂枚葉状に予め各々断裁され、かつ各々印刷されている。このような場合、第1基材および第2基材に施された印刷を合わせるために、表面側基板と裏面側基板とインレットシートとを精確に位置合わせし、ラミネートする必要がある。
特開2003−162697号公報
The non-contact IC card includes a first substrate, a surface-side substrate including a first adhesive layer provided on one surface of the first substrate, a second substrate, and one of the second substrates. And a back side substrate including a second adhesive layer provided on the surface. An inlet sheet including an inlet base material, an IC chip provided on the inlet base material, and an antenna provided corresponding to the IC chip is provided between the front surface side substrate and the rear surface side substrate. (See, for example, Patent Document 1). In the non-contact IC card having such a configuration, the first base material of the front surface side substrate and the second base material of the back surface side substrate are each cut in advance in a so-called sheet shape and each printed. In such a case, in order to match the printing applied to the first base material and the second base material, it is necessary to accurately align and laminate the front surface side substrate, the back surface side substrate, and the inlet sheet.
JP 2003-162697 A

しかしながら、例えば表面側基板とインレットシートとを位置合わせする場合、表面側基板の第1接着剤層がタック性(粘着性) を有しているため、表面側基板とインレットシートと が接触すると容易に接合されることがある。この場合は、表面側基板とインレットシートとを位置合わせしながらラミネートすることが困難となる。同様に、裏面側基板の第2接着剤層もタック性を有しているため、裏面側基板とインレットシートとが接触すると容易に接合されることがあり、この場合も同様に、裏面側基板とインレットシートとを位置合わせしながらラミネートすることが困難となる。   However, for example, when aligning the front side substrate and the inlet sheet, the first adhesive layer of the front side substrate has tackiness (adhesiveness), so it is easy to contact the front side substrate and the inlet sheet. May be joined. In this case, it is difficult to laminate the front side substrate and the inlet sheet while aligning them. Similarly, since the second adhesive layer of the back side substrate also has tackiness, it may be easily joined when the back side substrate and the inlet sheet come into contact with each other. It becomes difficult to laminate while aligning the inlet sheet and the inlet sheet.

そこで、表面側基板の第1接着剤層、および裏面側基板の第2接着剤層のタック性を喪失させることで、表面側基板と裏面側基板とインレットシートとをより精確に位置合わせし、ラミネートすることが考えられている。各基材の接着剤層のタック性を喪失させるためには、基材に接着剤が塗布された直後に接着剤を冷却して、接着剤を固化させ、基材上に接着剤層を形成させることが有効である。しかしながら、ローラーに巻きつけられている基材を順次送り出しながら、基材の上に接着剤を塗布する方法においては、基材に接着剤が塗布された直後に接着剤を冷却することは困難である。   Therefore, by losing the tackiness of the first adhesive layer of the front surface side substrate and the second adhesive layer of the back surface side substrate, the front surface side substrate, the back surface side substrate, and the inlet sheet are more accurately aligned, Lamination is considered. In order to lose the tackiness of the adhesive layer of each substrate, the adhesive is cooled immediately after the adhesive is applied to the substrate to solidify the adhesive and form an adhesive layer on the substrate. It is effective to make it. However, it is difficult to cool the adhesive immediately after the adhesive is applied to the substrate in the method of applying the adhesive on the substrate while sequentially feeding the substrate wound around the roller. is there.

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、基材に接着剤が塗布された直後に接着剤を冷却することができる接着剤塗布方法および接着剤塗布装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above points, and provides an adhesive application method and an adhesive application device capable of cooling an adhesive immediately after the adhesive is applied to a substrate. With the goal.

本発明は、冷却機構が設けられている定盤上に基材を配置する工程と、基材が配置された定盤を、基材の幅方向に延びるよう配置された塗布機構に対して塗布機構の配置方向に直交する方向に相対移動させて、塗布機構により基材上に接着剤を塗布する工程と、基材上に塗布された接着剤が固化されるよう、接着剤を定盤の冷却機構により冷却する工程と、を備えたことを特徴とする接着剤塗布方法である。   The present invention applies a step of disposing a base material on a surface plate provided with a cooling mechanism, and a surface plate on which the base material is disposed on an application mechanism disposed so as to extend in the width direction of the base material. Relative movement in the direction perpendicular to the arrangement direction of the mechanism, the step of applying the adhesive on the substrate by the application mechanism, and the adhesive of the surface plate so that the adhesive applied on the substrate is solidified And a step of cooling by a cooling mechanism.

本発明は、塗布機構により基材上に接着剤を塗布する工程は、塗布機構に対して予め定盤を相対移動させておき、基材の塗布領域始端が塗布機構に達した際、塗布機構により接着剤の塗布を開始する工程を有することを特徴とする接着剤塗布方法である。   In the present invention, the step of applying the adhesive onto the base material by the application mechanism is performed by moving the surface plate relative to the application mechanism in advance, and when the start of the application area of the base material reaches the application mechanism. The method for applying an adhesive comprises the step of starting the application of the adhesive.

本発明は、塗布機構により基材上に接着剤を塗布する工程は、基材の塗布領域終端が塗布機構に達した際、塗布機構による塗布を停止する工程と、その後も、塗布機構に対して定盤の相対移動を続ける工程とを有することを特徴とする接着剤塗布方法である。   In the present invention, the step of applying the adhesive on the base material by the coating mechanism includes the step of stopping the coating by the coating mechanism when the coating region end of the base material reaches the coating mechanism, and thereafter the coating mechanism. And a step of continuing relative movement of the surface plate.

本発明は、基材が配置される定盤と、定盤上方に設けられ、基材の幅方向に延びるよう配置され、基材に接着剤を塗布する塗布機構と、定盤に設けられ、基材上に塗布された接着剤を固化させる冷却機構と、を備え、定盤は、塗布機構に対して塗布機構の配置方向に直交する方向に相対移動可能となることを特徴とする接着剤塗布装置である。   The present invention is provided with a surface plate on which a base material is disposed, an upper portion of the surface plate, disposed so as to extend in the width direction of the base material, an application mechanism for applying an adhesive to the base material, and a surface plate. A cooling mechanism for solidifying the adhesive applied on the substrate, and the surface plate is movable relative to the application mechanism in a direction perpendicular to the direction of arrangement of the application mechanism. It is a coating device.

本発明は、冷却機構は、冷媒による冷却機構であることを特徴とする接着剤塗布装置である。   The present invention is the adhesive applicator characterized in that the cooling mechanism is a cooling mechanism using a refrigerant.

本発明は、冷却機構は、空冷による冷却機構であることを特徴とする接着剤塗布装置である。   The present invention is the adhesive coating device, wherein the cooling mechanism is a cooling mechanism by air cooling.

本発明は、冷却機構は、冷却する際の冷却速度を制御可能であることを特徴とする接着剤塗布装置である。   The present invention is the adhesive application device characterized in that the cooling mechanism can control the cooling rate at the time of cooling.

本発明は、接着剤は、湿気硬化性ウレタン樹脂からなることを特徴とする接着剤塗布装置である。   The present invention is the adhesive application device, wherein the adhesive is made of a moisture curable urethane resin.

本発明によれば、定盤上に基材を配置した後、定盤を、基材の幅方向に延びるよう配置された塗布機構に対して塗布機構の配置方向に直交する方向に相対移動させて、塗布機構により基材上に接着剤を塗布する。このため、定盤が移動する速度、および塗布機構が接着剤を吐出するタイミングが制御されることで、基材上に塗布される接着剤の厚さが制御される。これによって、基材上に、厚みの均一な接着剤層を形成することができる。
また、本発明によれば、基材が配置された定盤に冷却機構が設けられている。このため、塗布機構により基材上に接着剤が塗布された後、接着剤が定盤の冷却機構により冷却される。これによって、基材上に接着剤が塗布された直後に、接着剤を固化させることができる。
According to the present invention, after the base material is disposed on the surface plate, the surface plate is moved relative to the coating mechanism disposed so as to extend in the width direction of the base material in a direction orthogonal to the direction in which the coating mechanism is disposed. Then, an adhesive is applied onto the substrate by an application mechanism. For this reason, the thickness of the adhesive applied onto the substrate is controlled by controlling the speed at which the surface plate moves and the timing at which the application mechanism discharges the adhesive. Thereby, an adhesive layer having a uniform thickness can be formed on the substrate.
Moreover, according to this invention, the cooling mechanism is provided in the surface plate in which the base material is arrange | positioned. For this reason, after an adhesive agent is apply | coated on a base material by an application | coating mechanism, an adhesive agent is cooled by the cooling mechanism of a surface plate. Thus, the adhesive can be solidified immediately after the adhesive is applied on the substrate.

第1の実施の形態
以下、図面を参照して、本発明の第1の実施の形態について説明する。ここで、図1乃至図4は、本発明の第1の実施の形態における接着剤塗布方法および接着剤塗布装置を示す図である。このうち図1は、本発明の第1の実施の形態における接着剤塗布装置を示す図であり、図2は、本発明の第1の実施の形態において、基材上に形成された接着剤層を示す図である。図3は、本発明の第1の実施の形態における接着剤塗布方法を示す図であり、図4は、本発明の第1の実施の形態において、基材上に形成された接着剤層の厚さを示す図である。また、図5は、接着剤層が形成された基材を有する非接触ICカードを示す図である。加えて、図6は、本発明の第1の実施の形態における接着剤塗布方法を用いない場合の接着剤塗布方法を示す図であり、図7は、本発明の第1の実施の形態における接着剤塗布方法を用いない場合に、基材上に形成された接着剤層の厚さを示す図である。
First Embodiment Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Here, FIG. 1 to FIG. 4 are diagrams showing an adhesive application method and an adhesive application device according to the first embodiment of the present invention. Among these, FIG. 1 is a figure which shows the adhesive agent coating apparatus in the 1st Embodiment of this invention, FIG. 2 is the adhesive agent formed on the base material in the 1st Embodiment of this invention. It is a figure which shows a layer. FIG. 3 is a diagram showing an adhesive application method in the first embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a diagram of an adhesive layer formed on a substrate in the first embodiment of the present invention. It is a figure which shows thickness. FIG. 5 is a diagram showing a non-contact IC card having a base material on which an adhesive layer is formed. In addition, FIG. 6 is a diagram showing an adhesive application method when the adhesive application method according to the first embodiment of the present invention is not used, and FIG. 7 is a diagram according to the first embodiment of the present invention. It is a figure which shows the thickness of the adhesive bond layer formed on the base material when not using an adhesive agent coating method.

接着剤、接着剤層
まず図5により、非接触ICカードについて説明する。ここで、非接触ICカードは、リーダ・ライタ等の外部装置と非接触で通信することができるものである。
Adhesive, Adhesive Layer First, a non-contact IC card will be described with reference to FIG. Here, the contactless IC card can communicate with an external device such as a reader / writer in a contactless manner.

図5に示すように、非接触ICカード31は、基材13と、基材13上に形成された接着剤層21とを有する一対の基板22を備え、一対の基板22は、接着剤層21が向かい合うように対向して配置されている。そして、一対の基板22の間にインレットシート35が挟持され、各基板22とイントレットシートとが張り合わされている。このうちインレットシート35は、インレット用基材32と、インレット用基材32上に設けられたアンテナ33と、アンテナ33に対応して設けられたICチップ34とを有している。なお、一対の基板22とイントレットシートとを張り合わせる際、一対の基板22とイントレットシートとの間の位置合わせを精確に行うためには、前述のとおり、各基材13上に形成されている接着剤層21がタック性(粘着性)を有していないことが好ましい。   As shown in FIG. 5, the non-contact IC card 31 includes a pair of substrates 22 having a base material 13 and an adhesive layer 21 formed on the base material 13, and the pair of substrates 22 includes an adhesive layer. 21 are arranged so as to face each other. And the inlet sheet 35 is clamped between a pair of board | substrates 22, and each board | substrate 22 and an inlet sheet are bonded together. Among these, the inlet sheet 35 includes an inlet base 32, an antenna 33 provided on the inlet base 32, and an IC chip 34 provided corresponding to the antenna 33. In addition, when the pair of substrates 22 and the inlet sheet are bonded to each other, in order to accurately perform the alignment between the pair of substrates 22 and the inlet sheet, it is formed on each base material 13 as described above. It is preferable that the adhesive layer 21 is not tacky (adhesive).

次に図2を参照して、接着剤層21について説明する。基材13上の接着剤層21は、後述するように、基材13上に接着剤30が塗布され、塗布された接着剤30が固化されることにより形成される。また、図2に示すように、接着剤層21の始端27は、基材13の前端25よりも内側に位置している。同様に、接着剤層21の終端28は、基材13の後端26よりも内側に位置している。そして、基材13の塗布領域始端27aが接着剤層21の始端27に対応し、基材13の塗布領域終端28aが接着剤層21の終端28に対応する。なお、接着剤層21の始端27は、基材13の前端25よりも内側に位置し、接着剤層21の終端28は、基材13の後端26よりも内側に位置しているが、例えば接着剤層21の始端27は、基材13の前端25と略同一鉛直線上に位置していてもよく、また接着剤層21の終端28は、基材13の後端26と略同一鉛直線上に位置していてもよい。なお、略同一とは、本発明の趣旨を失わない範囲で、同一に近い範囲を含むことを意味する。   Next, the adhesive layer 21 will be described with reference to FIG. As will be described later, the adhesive layer 21 on the base material 13 is formed by applying the adhesive 30 on the base material 13 and solidifying the applied adhesive 30. In addition, as shown in FIG. 2, the start end 27 of the adhesive layer 21 is located inside the front end 25 of the base material 13. Similarly, the terminal end 28 of the adhesive layer 21 is located inside the rear end 26 of the base material 13. The application region start end 27 a of the substrate 13 corresponds to the start end 27 of the adhesive layer 21, and the application region end 28 a of the substrate 13 corresponds to the end 28 of the adhesive layer 21. The starting end 27 of the adhesive layer 21 is located on the inner side of the front end 25 of the base material 13 and the terminal end 28 of the adhesive layer 21 is located on the inner side of the rear end 26 of the base material 13. For example, the start end 27 of the adhesive layer 21 may be located on the substantially same vertical line as the front end 25 of the base material 13, and the end 28 of the adhesive layer 21 is substantially the same vertical as the rear end 26 of the base material 13. It may be located on the line. Note that “substantially the same” means that the scope of the present invention is not lost and includes a range close to the same.

また、接着剤層21を形成する接着剤30は、湿気硬化型ウレタン樹脂からなっている。なお、湿気硬化型ウレタン樹脂からなる接着剤30は、常温における気中環境下に急冷された場合、数秒〜数十秒でそのタック性が喪失されて固化する。
さらに、接着剤層21は、ICチップ34の厚さよりも厚く形成されている。また、接着剤層21は所定の弾性を有しており、このため、非接触ICカード31のうちICチップ34が配置されている部分が他の部分と比べて凸状に突出することはなく、非接触ICカード31の表面を平坦にすることができる。
The adhesive 30 forming the adhesive layer 21 is made of a moisture curable urethane resin. In addition, when the adhesive 30 which consists of a moisture hardening type urethane resin is rapidly cooled in the air environment at normal temperature, the tackiness is lost and solidifies in several seconds-several tens of seconds.
Further, the adhesive layer 21 is formed thicker than the thickness of the IC chip 34. Further, the adhesive layer 21 has a predetermined elasticity, and therefore, a portion of the non-contact IC card 31 where the IC chip 34 is arranged does not protrude in a convex shape as compared with other portions. The surface of the non-contact IC card 31 can be flattened.

接着剤塗布装置
次に、図1により、接着剤塗布装置10について説明する。接着剤塗布装置10は、基材13が配置される定盤11と、基材13に対して接着剤30を塗布する塗布機構15とを備えている。この場合、塗布機構15は、定盤11の上方に設けられ、基材13の幅方向に延びるよう配置されている。また定盤11には、基材13上に塗布された接着剤30を固化させる冷却機構12が設けられている。
図1(a)(b)に示すように、冷却機構12は、定盤11の内部に形成された、冷媒(図示せず)が循環する冷媒流路12aと、ホース12bを介して定盤11内の冷媒流路12aに冷媒を循環させる冷媒循環装置12cとを有する。冷媒としては、例えば水や油が用いられる。また、冷媒循環装置12cから送られてくる冷媒の温度および流速は、制御装置50により制御されており、これにより、基材13上に塗布された接着剤30を冷却する速度を制御することができる。
Adhesive Application Device Next, the adhesive application device 10 will be described with reference to FIG. The adhesive application device 10 includes a surface plate 11 on which a base material 13 is disposed, and an application mechanism 15 that applies an adhesive 30 to the base material 13. In this case, the coating mechanism 15 is provided above the surface plate 11 and is disposed so as to extend in the width direction of the base material 13. The surface plate 11 is provided with a cooling mechanism 12 that solidifies the adhesive 30 applied on the base material 13.
As shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b), the cooling mechanism 12 includes a surface plate that is formed inside the surface plate 11 and through which a refrigerant channel 12a through which a refrigerant (not shown) circulates and a hose 12b. 11 has a refrigerant circulation device 12c that circulates the refrigerant in the refrigerant flow path 12a. For example, water or oil is used as the refrigerant. In addition, the temperature and flow rate of the refrigerant sent from the refrigerant circulation device 12c are controlled by the control device 50, thereby controlling the speed of cooling the adhesive 30 applied on the base material 13. it can.

次に、塗布機構15について説明する。塗布機構15は、基材13の幅方向に対応する幅を有し、接着剤を基材13上に塗布する塗布ダイヘッド17と、塗布ダイヘッド17の上面に設けられ、塗布ダイヘッド17の幅方向に並んだ複数、例えば5つの接着剤供給機構16とを有している。各接着剤供給機構16はホース19を介して接着剤タンク18に接続されており、各接着剤供給機構16の内部に設けられている弁(図示せず)が開かれることにより、接着剤タンク18から塗布ダイヘッド17へ接着剤30が供給される。各接着剤供給機構16の内部に設けられている弁の開閉は、それぞれ独立に制御装置50により制御される。   Next, the coating mechanism 15 will be described. The coating mechanism 15 has a width corresponding to the width direction of the base material 13, is provided on the top surface of the coating die head 17 and the coating die head 17 for coating the adhesive on the base material 13, and extends in the width direction of the coating die head 17. A plurality of, for example, five adhesive supply mechanisms 16 are arranged. Each adhesive supply mechanism 16 is connected to an adhesive tank 18 via a hose 19, and a valve (not shown) provided inside each adhesive supply mechanism 16 is opened, whereby the adhesive tank An adhesive 30 is supplied from 18 to the coating die head 17. Opening and closing of the valves provided in each adhesive supply mechanism 16 is independently controlled by the control device 50.

また、塗布ダイヘッド17の下端には、基材13の幅方向に対応する幅を有し、塗布ダイヘッド17に供給された接着剤30を基材13上に吐出する開口部17aが形成されている。
制御装置50により各接着剤供給機構16の内部に設けられている弁が開かれると、接着剤30が各接着剤供給機構16を介して塗布ダイヘッド17に供給され、供給された接着剤30は、開口部17aから基材13上に吐出される。このとき、基材13が配置された定盤11が、塗布機構15に対して、後述するように塗布機構15の配置方向に直交する方向に移動されることにより、接着剤30が基材13上に均一に塗布される。
In addition, an opening 17 a that has a width corresponding to the width direction of the substrate 13 and discharges the adhesive 30 supplied to the coating die head 17 onto the substrate 13 is formed at the lower end of the coating die head 17. .
When the valve provided inside each adhesive supply mechanism 16 is opened by the control device 50, the adhesive 30 is supplied to the coating die head 17 via each adhesive supply mechanism 16, and the supplied adhesive 30 is The ink is discharged from the opening 17a onto the substrate 13. At this time, the surface plate 11 on which the base material 13 is disposed is moved with respect to the coating mechanism 15 in a direction orthogonal to the direction in which the coating mechanism 15 is disposed, as will be described later. It is evenly applied on top.

次に、基材13が配置される定盤11について説明する。定盤11は、駆動機構14により、塗布機構15の配置方向に直交する方向に移動されることができる。この場合、駆動機構14は、定盤11を下方から支持する搬送台14aと、搬送台14aを下方から支持するとともに、塗布機構15の配置方向に直交する方向に延びている一対のレール14bと、搬送台14aの側面に固定されるとともに、塗布機構15の配置方向に伸縮するピストンロッド14cとを有する。そして、駆動機構14のピストンロッド14cが伸縮することにより、搬送台14aに支持されている定盤11が、塗布機構15に対して塗布機構15の配置方向に直交する方向に移動することが可能となる。駆動機構14のピストンロッド14cの伸縮速度は、制御装置50により制御される。   Next, the surface plate 11 on which the base material 13 is arranged will be described. The surface plate 11 can be moved by the drive mechanism 14 in a direction orthogonal to the arrangement direction of the coating mechanism 15. In this case, the drive mechanism 14 supports the surface plate 11 from below, a pair of rails 14b that supports the transport table 14a from below and extends in a direction orthogonal to the arrangement direction of the coating mechanism 15. And a piston rod 14 c that is fixed to the side surface of the transport table 14 a and that expands and contracts in the arrangement direction of the coating mechanism 15. Then, by expanding and contracting the piston rod 14c of the drive mechanism 14, the surface plate 11 supported by the transport table 14a can move in a direction perpendicular to the arrangement direction of the application mechanism 15 with respect to the application mechanism 15. It becomes. The expansion / contraction speed of the piston rod 14 c of the drive mechanism 14 is controlled by the control device 50.

接着剤塗布方法
次に、図1乃至図4により、接着剤の塗布方法について説明する。
Adhesive Application Method Next, an adhesive application method will be described with reference to FIGS.

まず、図1に示すように、冷却機構12が設けられている定盤11上に基材13が配置される。次に、図3に示す接着剤塗布方法に従って、制御装置50により、塗布機構15が接着剤30を吐出するタイミングと定盤11の移動速度とが制御される。   First, as shown in FIG. 1, the base material 13 is arrange | positioned on the surface plate 11 in which the cooling mechanism 12 is provided. Next, according to the adhesive application method shown in FIG. 3, the control device 50 controls the timing at which the application mechanism 15 discharges the adhesive 30 and the moving speed of the surface plate 11.

この場合、まず定盤11は、基材13のうち接着剤層21の始端27に対応する塗布領域始端27aが塗布機構15よりも後方(図1において左側)に位置するように配置される。次に、定盤11を、塗布機構15の配置方向に直交する方向において、前方(図1において右側)に向って、移動速度がV1になるよう移動させる(時間=T1)。その後、基材13のうち接着剤層21の始端27に対応する塗布領域始端27aが塗布機構15の直下に到達したとき、定盤11を速度V1で移動させた状態で、塗布機構15の各接着剤供給機構16の内部に設けられている弁(図示せず)が開かれ、これによって、塗布ダイヘッド17へ接着剤30が供給される(時間=T2)。供給された接着剤30は塗布ダイヘッド17の開口部17aから吐出され、この結果、定盤11が塗布機構15に対して速度V1で移動する間、基材13上に接着剤30が均一に塗布される。   In this case, the surface plate 11 is first arranged such that the application region start end 27 a corresponding to the start end 27 of the adhesive layer 21 in the base material 13 is located behind the application mechanism 15 (left side in FIG. 1). Next, the surface plate 11 is moved in the direction orthogonal to the arrangement direction of the coating mechanism 15 toward the front (right side in FIG. 1) so that the moving speed becomes V1 (time = T1). Thereafter, when the coating region start end 27a corresponding to the start end 27 of the adhesive layer 21 of the base material 13 reaches just below the coating mechanism 15, each of the coating mechanisms 15 is moved in a state where the surface plate 11 is moved at the speed V1. A valve (not shown) provided inside the adhesive supply mechanism 16 is opened, whereby the adhesive 30 is supplied to the coating die head 17 (time = T2). The supplied adhesive 30 is discharged from the opening 17a of the coating die head 17, and as a result, the adhesive 30 is uniformly coated on the substrate 13 while the surface plate 11 moves at the speed V1 with respect to the coating mechanism 15. Is done.

その後、基材13のうち接着剤層21の終端28に対応する塗布領域終端28aが塗布機構15の直下に到達すると、塗布機構15の各接着剤供給機構16の内部に設けられている弁(図示せず)が閉じられ、塗布ダイヘッド17への接着剤30の供給が遮断される。同時に、制御装置50により定盤11の移動も停止される(時間=T3)。   Thereafter, when the application region end 28a corresponding to the end 28 of the adhesive layer 21 of the base material 13 reaches just below the application mechanism 15, a valve (inside each adhesive supply mechanism 16 of the application mechanism 15) ( (Not shown) is closed, and the supply of the adhesive 30 to the coating die head 17 is shut off. At the same time, the movement of the surface plate 11 is also stopped by the control device 50 (time = T3).

次に、基材13上に塗布された接着剤30が固化されるよう、接着剤30が定盤11に設けられている冷却機構12により冷却される。この際、冷却速度が接着剤30の粘性に応じた最適値となるよう、制御装置50により、定盤11の内部の冷媒流路12aを循環する冷媒の温度および流速が制御される。これによって、基材13上に塗布された接着剤30が固化され、基材13上に接着剤層21が形成される。   Next, the adhesive 30 is cooled by the cooling mechanism 12 provided on the surface plate 11 so that the adhesive 30 applied on the substrate 13 is solidified. At this time, the temperature and flow rate of the refrigerant circulating in the refrigerant flow path 12 a inside the surface plate 11 are controlled by the control device 50 so that the cooling rate becomes an optimum value corresponding to the viscosity of the adhesive 30. As a result, the adhesive 30 applied on the substrate 13 is solidified, and the adhesive layer 21 is formed on the substrate 13.

ところで、基材13上に接着剤30を塗布する際、上述のとおり、塗布機構15に対して予め定盤11を移動速度V1で移動させて、その後、基材13のうち接着剤層21の始端27に対応する塗布領域始端27aが塗布機構15の直下に到達したとき、定盤11を速度V1で移動させた状態で、接着剤30が塗布ダイヘッド17の開口部17aから吐出される。このため、図4に示すように、接着剤層21の始端27において、接着剤層21の厚さが他の部分と比べて厚くなることはない。このことにより、基材13上に、厚みの均一な接着剤層21を形成することができる。   By the way, when applying the adhesive 30 on the base material 13, as described above, the surface plate 11 is moved in advance with respect to the application mechanism 15 at the moving speed V <b> 1, and then the adhesive layer 21 of the base material 13 is moved. When the coating region start end 27a corresponding to the start end 27 reaches just below the coating mechanism 15, the adhesive 30 is discharged from the opening 17a of the coating die head 17 with the surface plate 11 moved at the speed V1. For this reason, as shown in FIG. 4, the thickness of the adhesive layer 21 does not become thicker at the start end 27 of the adhesive layer 21 than the other portions. As a result, the adhesive layer 21 having a uniform thickness can be formed on the substrate 13.

このように本実施の形態によれば、基材13が配置される定盤11に冷却機構12が設けられている。このため、基材13上に接着剤30が塗布された後、直ちに接着剤30が定盤11の冷却機構12により冷却され、接着剤30が固化される。このことにより、基材13上に、タック性を有さない接着剤層21を形成することができる。   Thus, according to this Embodiment, the cooling mechanism 12 is provided in the surface plate 11 in which the base material 13 is arrange | positioned. For this reason, after the adhesive 30 is applied on the base material 13, the adhesive 30 is immediately cooled by the cooling mechanism 12 of the surface plate 11, and the adhesive 30 is solidified. Thereby, the adhesive layer 21 having no tackiness can be formed on the substrate 13.

また本実施の形態によれば、基材13上に接着剤30が塗布される場合、塗布機構15に対して予め定盤11を移動させて、その後、基材13のうち接着剤層21の始端27に対応する塗布領域始端27aが塗布機構15に達した際、定盤11を速度V1で移動させた状態で、塗布機構15により接着剤30の塗布が開始される。このため、接着剤層21の始端27において、接着剤層21の厚さが他の部分と比べて厚くなることはない。このことにより、基材13上に、厚みの均一な接着剤層21を形成することができる。   Further, according to the present embodiment, when the adhesive 30 is applied onto the base material 13, the surface plate 11 is moved in advance with respect to the application mechanism 15, and then the adhesive layer 21 of the base material 13 is moved. When the application region start end 27a corresponding to the start end 27 reaches the application mechanism 15, application of the adhesive 30 is started by the application mechanism 15 while the surface plate 11 is moved at the speed V1. For this reason, the thickness of the adhesive layer 21 does not become thicker at the starting end 27 of the adhesive layer 21 than other portions. As a result, the adhesive layer 21 having a uniform thickness can be formed on the substrate 13.

次に、本願発明の効果を比較例と比較して説明する。比較例として、図6に、本発明の第1の実施の形態における接着剤塗布方法を用いない場合、すなわち、基材13上に接着剤30が塗布される際、塗布機構15に対して予め定盤11を移動させていない場合の接着剤塗布方法を示す。この場合に基材13上に形成される接着剤層21の厚さを図7に示す。   Next, the effect of the present invention will be described in comparison with a comparative example. As a comparative example, in FIG. 6, when the adhesive application method according to the first embodiment of the present invention is not used, that is, when the adhesive 30 is applied on the base material 13, An adhesive application method when the surface plate 11 is not moved will be described. FIG. 7 shows the thickness of the adhesive layer 21 formed on the base material 13 in this case.

比較例において、初めに、定盤11は、基材13のうち接着剤層21の始端27に対応する塗布領域始端27aが塗布機構15の直下に位置するように配置される。次に、定盤11が、塗布機構15の配置方向に直交する方向において、前方に向って、移動速度がV1になるよう移動される(時間=T2)。同時に、塗布機構15の各接着剤供給機構16の内部に設けられている弁が開かれ、この結果、定盤11の移動速度V1のもと、基材13上に接着剤30が塗布される。   In the comparative example, first, the surface plate 11 is arranged so that the application region start end 27 a corresponding to the start end 27 of the adhesive layer 21 in the base material 13 is positioned directly below the application mechanism 15. Next, the surface plate 11 is moved forward in the direction orthogonal to the arrangement direction of the coating mechanism 15 so that the moving speed becomes V1 (time = T2). At the same time, a valve provided in each adhesive supply mechanism 16 of the application mechanism 15 is opened, and as a result, the adhesive 30 is applied onto the base material 13 under the moving speed V1 of the surface plate 11. .

その後、基材13のうち接着剤層21の終端28に対応する塗布領域終端28aが塗布機構15の直下に到達すると、塗布機構15の各接着剤供給機構16の内部に設けられている弁が閉じられ、塗布ダイヘッド17への接着剤30の供給が遮断される。同時に、制御装置50により定盤11の移動も停止される(時間=T3)。   Thereafter, when the application region end 28 a corresponding to the end 28 of the adhesive layer 21 in the base material 13 reaches just below the application mechanism 15, a valve provided inside each adhesive supply mechanism 16 of the application mechanism 15. It is closed and the supply of the adhesive 30 to the coating die head 17 is shut off. At the same time, the movement of the surface plate 11 is also stopped by the control device 50 (time = T3).

この場合、定盤11を、移動速度がV1になるよう移動させる際(時間=T2)、定盤11の移動速度がV1に到達するまでには所要の時間が必要である。一方、定盤11の移動速度がV1に到達する前においても、基材13上には接着剤30が塗布されている。このため、始端27近傍において基材13上に形成される接着剤層21の厚さは、他の部分と比べて厚くなる。
これに対して本実施の形態によれば、上述のように、基材13上に接着剤30が塗布される場合、塗布機構15に対して予め定盤11を移動させて、その後、基材13のうち接着剤層21の始端27に対応する塗布領域始端27aが塗布機構15に達した際、塗布機構15により接着剤30の塗布が開始される。このため、接着剤層21の始端27において、接着剤層21の厚さが他の部分と比べて厚くなることはない。このことにより、基材13上に、厚みの均一な接着剤層21を形成することができる。
In this case, when the surface plate 11 is moved so that the moving speed becomes V1 (time = T2), a required time is required until the moving speed of the surface plate 11 reaches V1. On the other hand, the adhesive 30 is applied on the base material 13 even before the moving speed of the surface plate 11 reaches V1. For this reason, the thickness of the adhesive layer 21 formed on the base material 13 in the vicinity of the start end 27 is thicker than other portions.
On the other hand, according to the present embodiment, as described above, when the adhesive 30 is applied on the substrate 13, the surface plate 11 is moved in advance with respect to the application mechanism 15, and then the substrate 13, when the application region start end 27 a corresponding to the start end 27 of the adhesive layer 21 reaches the application mechanism 15, the application of the adhesive 30 is started by the application mechanism 15. For this reason, the thickness of the adhesive layer 21 does not become thicker at the starting end 27 of the adhesive layer 21 than other portions. As a result, the adhesive layer 21 having a uniform thickness can be formed on the substrate 13.

なお、本実施の形態において、冷却機構12は、定盤11の内部に形成された、冷媒(図示せず)が循環する冷媒流路12aと、ホース12bを介して定盤11内の冷媒流路12aに冷媒を循環させる冷媒循環装置12cとを有する例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、冷却機構12は、空冷による冷却機構であってもよい。この場合、定盤11上には基材13に塗布された接着剤30に空気を吹きかける送風機構(図示せず)が設けられており、塗布機構15により基材13上に接着剤30が塗布された後、塗布された接着剤30に空気を吹きかけることにより、基材13上にタック性を有さない接着剤層21が形成される。   In the present embodiment, the cooling mechanism 12 includes a refrigerant flow path 12a formed inside the surface plate 11 through which a refrigerant (not shown) circulates, and a refrigerant flow in the surface plate 11 via the hose 12b. The example which has the refrigerant | coolant circulation apparatus 12c which circulates a refrigerant | coolant to the path 12a was shown. However, the present invention is not limited to this, and the cooling mechanism 12 may be a cooling mechanism by air cooling. In this case, a blower mechanism (not shown) for blowing air to the adhesive 30 applied to the base material 13 is provided on the surface plate 11, and the adhesive 30 is applied onto the base material 13 by the application mechanism 15. Then, the adhesive layer 21 having no tackiness is formed on the base material 13 by spraying air on the applied adhesive 30.

また、本実施の形態において、定盤11は、駆動機構14により、塗布機構15の配置方向に直交する方向に移動されることができる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、定盤11が固定された状態で、駆動機構15が、塗布機構15の配置方向に直交する方向に移動することにより、基材13上に接着剤30を塗布してもよい。   Moreover, in this Embodiment, the surface plate 11 showed the example which can be moved to the direction orthogonal to the arrangement direction of the application | coating mechanism 15 with the drive mechanism 14. FIG. However, the present invention is not limited to this, and the drive mechanism 15 moves in a direction orthogonal to the arrangement direction of the coating mechanism 15 in a state where the surface plate 11 is fixed. It may be applied.

第2の実施の形態
次に、図8および図9を参照して、本発明の第2の実施の形態について説明する。ここで、図8は、本発明の第2の実施の形態における接着剤塗布方法を示す図であり、図9は、本発明の第2の実施の形態において、基材上に形成された接着剤層の厚さを示す図である。
Second Embodiment Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Here, FIG. 8 is a diagram showing an adhesive application method according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 9 is an adhesion formed on a substrate in the second embodiment of the present invention. It is a figure which shows the thickness of an agent layer.

図8および図9に示す第2の実施の形態は、定盤11の移動速度が異なるのみであり、他の構成は、図1乃至図7に示す第1の実施の形態と略同一である。図8および図9に示す第2の実施の形態において、図1乃至図7に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。   The second embodiment shown in FIGS. 8 and 9 is different only in the moving speed of the surface plate 11, and the other configurations are substantially the same as those of the first embodiment shown in FIGS. . In the second embodiment shown in FIG. 8 and FIG. 9, the same parts as those in the first embodiment shown in FIG. 1 to FIG.

塗布機構15が接着剤30を吐出するタイミングと定盤11の移動速度は、図8に示す接着剤塗布方法に従って制御される。この場合、まず定盤11は、基材13のうち接着剤層21の始端27に対応する塗布領域始端27aが塗布機構15の直下に位置するように配置される。次に、定盤11を、塗布機構15の配置方向に直交する方向において、前方に向って、移動速度がV1になるよう移動させる(時間=T2)。同時に、塗布機構15の各接着剤供給機構16の内部に設けられている弁が開かれ、この結果、定盤11が塗布機構15に対して速度V1で移動する間、基材13上に接着剤30が均一に塗布される。   The timing at which the coating mechanism 15 discharges the adhesive 30 and the moving speed of the surface plate 11 are controlled according to the adhesive coating method shown in FIG. In this case, the surface plate 11 is first arranged such that the application region start end 27 a corresponding to the start end 27 of the adhesive layer 21 of the base material 13 is positioned directly below the application mechanism 15. Next, the surface plate 11 is moved forward in the direction orthogonal to the arrangement direction of the coating mechanism 15 so that the moving speed becomes V1 (time = T2). At the same time, a valve provided in each adhesive supply mechanism 16 of the coating mechanism 15 is opened, and as a result, the surface plate 11 adheres to the substrate 13 while moving to the coating mechanism 15 at a speed V1. The agent 30 is uniformly applied.

その後、基材13のうち接着剤層21の終端28に対応する塗布領域終端28aが塗布機構15の直下に到達すると、塗布機構15の各接着剤供給機構16の内部に設けられている弁が閉じられ、塗布ダイヘッド17への接着剤30の供給が遮断される。同時に、制御装置50により定盤11の移動速度がV1からV2に減速される(時間=T3)。   Thereafter, when the application region end 28 a corresponding to the end 28 of the adhesive layer 21 in the base material 13 reaches just below the application mechanism 15, a valve provided inside each adhesive supply mechanism 16 of the application mechanism 15. It is closed and the supply of the adhesive 30 to the coating die head 17 is shut off. At the same time, the moving speed of the surface plate 11 is reduced from V1 to V2 by the control device 50 (time = T3).

定盤11の移動速度がV1からV2に減速されてから、一定時間の経過後、制御装置50により定盤11の移動が停止される(時間=T4)。次に、基材13上に塗布された接着剤30が固化されるよう、接着剤30が定盤11に設けられている冷却機構12により冷却され、これによって、基材13上に接着剤層21が形成される。   After the moving speed of the surface plate 11 is decelerated from V1 to V2, the movement of the surface plate 11 is stopped by the control device 50 after a certain time has elapsed (time = T4). Next, the adhesive 30 is cooled by the cooling mechanism 12 provided on the surface plate 11 so that the adhesive 30 applied on the base 13 is solidified, whereby the adhesive layer is formed on the base 13. 21 is formed.

ところで、塗布機構15の各接着剤供給機構16の内部に設けられている弁が閉じられ、塗布ダイヘッド17への接着剤30の供給が遮断された後も、一定時間の間、定盤11は塗布機構15に対して移動速度V2で移動される。このため、図9に示すように、接着剤層21の終端28において、接着剤層21の厚さが他の部分と比べて厚くなることはない。また、定盤11が停止されるときには(時間=T4)、接着剤層21の終端28は塗布機構15から十分離れた位置にある。従って、定盤11が停止されるときに、塗布機構15の塗布ダイヘッド17に基材13上に塗布された接着剤が付着して、塗布ダイヘッド17の表面が汚染されることはない。このことにより、基材13上に厚みの均一な接着剤層21を形成するとともに、塗布ダイヘッド17の表面を清潔な状態に保つことができる。   By the way, after the valve provided in each adhesive supply mechanism 16 of the application mechanism 15 is closed and the supply of the adhesive 30 to the application die head 17 is shut off, the surface plate 11 is kept for a certain period of time. The coating mechanism 15 is moved at a moving speed V2. For this reason, as shown in FIG. 9, the thickness of the adhesive layer 21 does not become thicker at the end 28 of the adhesive layer 21 than the other portions. When the surface plate 11 is stopped (time = T4), the terminal end 28 of the adhesive layer 21 is at a position sufficiently away from the coating mechanism 15. Therefore, when the surface plate 11 is stopped, the adhesive applied on the substrate 13 does not adhere to the coating die head 17 of the coating mechanism 15 and the surface of the coating die head 17 is not contaminated. As a result, the adhesive layer 21 having a uniform thickness can be formed on the substrate 13 and the surface of the coating die head 17 can be kept clean.

このように本実施の形態によれば、基材13上に接着剤30が塗布される場合、基材13のうち接着剤層21の終端28に対応する塗布領域終端28aが塗布機構15に達し、塗布機構15による接着剤30の塗布が停止された後も、塗布機構15に対して定盤11の移動を続ける。このため、接着剤層21の終端28において、接着剤層21の厚さが他の部分と比べて厚くなることはなく、また、定盤11が停止されるときには(時間=T4)、接着剤層21の終端28は塗布機構15から十分離れた位置にある。従って、定盤11が停止されるときに、塗布機構15の塗布ダイヘッド17に基材13上に塗布された接着剤が付着して、塗布ダイヘッド17の表面が汚染されることはない。このことにより、基材13上に厚みの均一な接着剤層21を形成するとともに、塗布ダイヘッド17の表面を清潔な状態に保つことができる。   As described above, according to the present embodiment, when the adhesive 30 is applied on the base material 13, the application region end 28 a corresponding to the end 28 of the adhesive layer 21 of the base material 13 reaches the application mechanism 15. Even after the application of the adhesive 30 by the application mechanism 15 is stopped, the movement of the surface plate 11 with respect to the application mechanism 15 is continued. For this reason, at the end 28 of the adhesive layer 21, the thickness of the adhesive layer 21 does not become thicker than other portions, and when the surface plate 11 is stopped (time = T4), the adhesive agent The end 28 of the layer 21 is at a position sufficiently away from the coating mechanism 15. Therefore, when the surface plate 11 is stopped, the adhesive applied on the substrate 13 does not adhere to the coating die head 17 of the coating mechanism 15 and the surface of the coating die head 17 is not contaminated. As a result, the adhesive layer 21 having a uniform thickness can be formed on the substrate 13 and the surface of the coating die head 17 can be kept clean.

第3の実施の形態
次に、図10および図11を参照して、本発明の第3の実施の形態について説明する。ここで、図10は、本発明の第3の実施の形態における接着剤塗布方法を示す図であり、図11は、本発明の第3の実施の形態において、基材上に形成された接着剤層の厚さを示す図である。
Third Embodiment Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Here, FIG. 10 is a diagram showing an adhesive application method according to the third embodiment of the present invention, and FIG. 11 is a diagram showing an adhesion formed on a substrate in the third embodiment of the present invention. It is a figure which shows the thickness of an agent layer.

図10および図11に示す第3の実施の形態は、定盤11の移動速度が異なるのみであり、他の構成は、図1乃至図7に示す第1の実施の形態と略同一である。図10および図11に示す第3の実施の形態において、図1乃至図7に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。   The third embodiment shown in FIGS. 10 and 11 differs only in the moving speed of the surface plate 11, and the other configurations are substantially the same as those of the first embodiment shown in FIGS. . In the third embodiment shown in FIG. 10 and FIG. 11, the same parts as those in the first embodiment shown in FIG. 1 to FIG.

塗布機構15が接着剤30を吐出するタイミングと定盤11の移動速度は、図10に示す接着剤塗布方法に従って制御される。この場合、まず定盤11は、基材13のうち接着剤層21の始端27に対応する塗布領域始端27aが塗布機構15よりも後方に位置するように配置される。次に、定盤11を、塗布機構15の配置方向に直交する方向において、前方に向って、移動速度がV1になるよう移動させる(時間=T1)。その後、基材13のうち接着剤層21の始端27に対応する塗布領域始端27aが塗布機構15の直下に到達したとき、定盤11を速度V1で移動させた状態で、塗布機構15の各接着剤供給機構16の内部に設けられている弁が開かれ、これによって、塗布ダイヘッド17へ接着剤30が供給される(時間=T2)。供給された接着剤30は塗布ダイヘッド17の開口部17aから吐出され、この結果、定盤11が塗布機構15に対して速度V1で移動する間、基材13上に接着剤30が均一に塗布される。   The timing at which the coating mechanism 15 discharges the adhesive 30 and the moving speed of the surface plate 11 are controlled according to the adhesive coating method shown in FIG. In this case, the surface plate 11 is first arranged such that the application region start end 27 a corresponding to the start end 27 of the adhesive layer 21 of the base material 13 is located behind the application mechanism 15. Next, the surface plate 11 is moved forward in the direction orthogonal to the arrangement direction of the coating mechanism 15 so that the moving speed becomes V1 (time = T1). Thereafter, when the coating region start end 27a corresponding to the start end 27 of the adhesive layer 21 of the base material 13 reaches just below the coating mechanism 15, each of the coating mechanisms 15 is moved in a state where the surface plate 11 is moved at the speed V1. The valve provided in the adhesive supply mechanism 16 is opened, and thereby the adhesive 30 is supplied to the coating die head 17 (time = T2). The supplied adhesive 30 is discharged from the opening 17a of the coating die head 17, and as a result, the adhesive 30 is uniformly coated on the substrate 13 while the surface plate 11 moves at the speed V1 with respect to the coating mechanism 15. Is done.

その後、基材13のうち接着剤層21の終端28に対応する塗布領域終端28aが塗布機構15の直下に到達すると、塗布機構15の各接着剤供給機構16の内部に設けられている弁が閉じられ、塗布ダイヘッド17への接着剤30の供給が遮断される。同時に、制御装置50により定盤11の移動速度がV1からV2に減速される(時間=T3)。   Thereafter, when the application region end 28 a corresponding to the end 28 of the adhesive layer 21 in the base material 13 reaches just below the application mechanism 15, a valve provided inside each adhesive supply mechanism 16 of the application mechanism 15. It is closed and the supply of the adhesive 30 to the coating die head 17 is shut off. At the same time, the moving speed of the surface plate 11 is reduced from V1 to V2 by the control device 50 (time = T3).

定盤11の移動速度がV1からV2に減速されてから、一定期間の経過後、制御装置50により定盤11の移動が停止される(時間=T4)。次に、基材13上に塗布された接着剤30が固化されるよう、接着剤30が定盤11に設けられている冷却機構12により冷却され、これによって、基材13上に接着剤層21が形成される。   After the movement speed of the surface plate 11 is decelerated from V1 to V2, the movement of the surface plate 11 is stopped by the control device 50 after a certain period of time (time = T4). Next, the adhesive 30 is cooled by the cooling mechanism 12 provided on the surface plate 11 so that the adhesive 30 applied on the base 13 is solidified, whereby the adhesive layer is formed on the base 13. 21 is formed.

ところで、基材13上に接着剤30を塗布する際、上述のとおり、塗布機構15に対して予め定盤11を移動速度V1で移動させて、その後、基材13のうち接着剤層21の始端27に対応する塗布領域始端27aが塗布機構15の直下に到達したとき、定盤11を速度V1で移動させた状態で、接着剤30が塗布ダイヘッド17の開口部17aから吐出される。このため、図11に示すように、接着剤層21の始端27において、接着剤層21の厚さが他の部分と比べて厚くなることはない。このことにより、基材13上に、厚みの均一な接着剤層21を形成することができる。   By the way, when applying the adhesive 30 on the base material 13, as described above, the surface plate 11 is moved in advance with respect to the application mechanism 15 at the moving speed V <b> 1, and then the adhesive layer 21 of the base material 13 is moved. When the coating region start end 27a corresponding to the start end 27 reaches just below the coating mechanism 15, the adhesive 30 is discharged from the opening 17a of the coating die head 17 with the surface plate 11 moved at the speed V1. For this reason, as shown in FIG. 11, the thickness of the adhesive layer 21 does not become thicker at the start end 27 of the adhesive layer 21 than the other portions. As a result, the adhesive layer 21 having a uniform thickness can be formed on the substrate 13.

また、塗布機構15の各接着剤供給機構16の内部に設けられている弁が閉じられ、塗布ダイヘッド17への接着剤30の供給が遮断された後も、一定期間の間、定盤11は塗布機構15に対して移動速度V2で移動される。このため、図11に示すように、接着剤層21の終端28において、接着剤層21の厚さが他の部分と比べて厚くなることはない。また、定盤11が停止されるときには(時間=T4)、接着剤層21の終端28は塗布機構15から十分離れた位置にある。従って、定盤11が停止されるときに、塗布機構15の塗布ダイヘッド17に基材13上に塗布された接着剤が付着して、塗布ダイヘッド17の表面が汚染されることはない。このことにより、基材13上に厚みの均一な接着剤層21を形成するとともに、塗布ダイヘッド17の表面を清潔な状態に保つことができる。   Further, after the valves provided in the adhesive supply mechanisms 16 of the coating mechanism 15 are closed and the supply of the adhesive 30 to the coating die head 17 is shut off, the surface plate 11 is kept for a certain period. The coating mechanism 15 is moved at a moving speed V2. For this reason, as shown in FIG. 11, the thickness of the adhesive layer 21 does not become thicker at the end 28 of the adhesive layer 21 than the other portions. When the surface plate 11 is stopped (time = T4), the terminal end 28 of the adhesive layer 21 is at a position sufficiently away from the coating mechanism 15. Therefore, when the surface plate 11 is stopped, the adhesive applied on the substrate 13 does not adhere to the coating die head 17 of the coating mechanism 15 and the surface of the coating die head 17 is not contaminated. As a result, the adhesive layer 21 having a uniform thickness can be formed on the substrate 13 and the surface of the coating die head 17 can be kept clean.

このように本実施の形態によれば、基材13上に接着剤30が塗布される場合、塗布機構15に対して予め定盤11を移動させて、その後、基材13のうち接着剤層21の始端27に対応する塗布領域始端27aが塗布機構15に達した際、定盤11を速度V1で移動させた状態で、塗布機構15により接着剤30の塗布が開始される。このため、接着剤層21の始端27において、接着剤層21の厚さが他の部分と比べて厚くなることはない。このことにより、基材13上に、厚みの均一な接着剤層21を形成することができる。   As described above, according to the present embodiment, when the adhesive 30 is applied on the base material 13, the surface plate 11 is moved in advance with respect to the application mechanism 15, and then the adhesive layer of the base material 13. When the application region start end 27a corresponding to the start end 27 of 21 reaches the application mechanism 15, application of the adhesive 30 is started by the application mechanism 15 with the surface plate 11 moved at the speed V1. For this reason, the thickness of the adhesive layer 21 does not become thicker at the starting end 27 of the adhesive layer 21 than other portions. As a result, the adhesive layer 21 having a uniform thickness can be formed on the substrate 13.

また本実施の形態によれば、基材13上に接着剤30が塗布される場合、基材13のうち接着剤層21の終端28に対応する塗布領域終端28aが塗布機構15に達した際、塗布機構15による接着剤30の塗布が停止された後も、塗布機構15に対して定盤11の移動を続ける。このため、接着剤層21の終端28において、接着剤層21の厚さが他の部分と比べて厚くなることはなく、また、定盤11が停止されるときには(時間=T4)、接着剤層21の終端28は塗布機構15から十分離れた位置にある。従って、定盤11が停止されるときに、塗布機構15の塗布ダイヘッド17に基材13上に塗布された接着剤が付着して、塗布ダイヘッド17の表面が汚染されることはない。このことにより、基材13上に厚みの均一な接着剤層21を形成するとともに、塗布ダイヘッド17の表面を清潔な状態に保つことができる。   Further, according to the present embodiment, when the adhesive 30 is applied on the base material 13, when the application region end 28 a corresponding to the end 28 of the adhesive layer 21 of the base material 13 reaches the application mechanism 15. Even after the application of the adhesive 30 by the application mechanism 15 is stopped, the movement of the surface plate 11 with respect to the application mechanism 15 is continued. For this reason, at the end 28 of the adhesive layer 21, the thickness of the adhesive layer 21 does not become thicker than other portions, and when the surface plate 11 is stopped (time = T4), the adhesive agent The end 28 of the layer 21 is at a position sufficiently away from the coating mechanism 15. Therefore, when the surface plate 11 is stopped, the adhesive applied on the substrate 13 does not adhere to the coating die head 17 of the coating mechanism 15 and the surface of the coating die head 17 is not contaminated. As a result, the adhesive layer 21 having a uniform thickness can be formed on the substrate 13 and the surface of the coating die head 17 can be kept clean.

図1は、本発明の第1の実施の形態における接着剤塗布装置を示す図。FIG. 1 is a diagram showing an adhesive application device according to a first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第1の実施の形態において、基材上に形成された接着剤層を示す図。FIG. 2 is a diagram showing an adhesive layer formed on a substrate in the first embodiment of the present invention. 図3は、本発明の第1の実施の形態における接着剤塗布方法を示す図。FIG. 3 is a diagram showing an adhesive application method according to the first embodiment of the present invention. 図4は、本発明の第1の実施の形態において、基材上に形成された接着剤層の厚さを示す図。FIG. 4 is a diagram showing the thickness of an adhesive layer formed on a substrate in the first embodiment of the present invention. 図5は、接着剤層が形成された基材を有する非接触ICカードを示す図。FIG. 5 is a view showing a non-contact IC card having a base material on which an adhesive layer is formed. 本発明の第1の実施の形態における接着剤塗布方法を用いない場合の接着剤塗布方法を示す図。The figure which shows the adhesive agent coating method when not using the adhesive agent coating method in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態における接着剤塗布方法を用いない場合に、基材上に形成された接着剤層の厚さを示す図。The figure which shows the thickness of the adhesive bond layer formed on the base material when not using the adhesive agent coating method in the 1st Embodiment of this invention. 図8は、本発明の第2の実施の形態における接着剤塗布方法を示す図。FIG. 8 is a diagram showing an adhesive application method according to the second embodiment of the present invention. 図9は、本発明の第2の実施の形態において、基材上に形成された接着剤層の厚さを示す図。FIG. 9 is a diagram showing the thickness of an adhesive layer formed on a substrate in the second embodiment of the present invention. 図10は、本発明の第3の実施の形態における接着剤塗布方法を示す図。FIG. 10 is a diagram showing an adhesive application method according to the third embodiment of the present invention. 図11は、本発明の第3の実施の形態において、基材上に形成された接着剤層の厚さを示す図。FIG. 11 is a diagram showing the thickness of an adhesive layer formed on a substrate in the third embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 接着剤塗布装置
11 定盤
12 冷却機構
12a 冷媒循環装置
12b ホース
12c 冷媒流路
13 基材
14a 搬送台
14b レール
14c ピストンロッド
15 塗布機構
16 接着剤供給機構
17 塗布ダイヘッド
17a 塗布ダイヘッドの開口部
18 接着剤タンク
19 ホース
21 接着剤層
22 基板
25 基材の前端
26 基材の後端
27 始端
27a 塗布領域始端
28 終端
28b 塗布領域終端
30 接着剤
31 非接触ICカード
32 インレット用基材
33 アンテナ
34 ICチップ
35 インレットシート
50 制御装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Adhesive coating device 11 Surface plate 12 Cooling mechanism 12a Refrigerant circulation device 12b Hose 12c Refrigerant flow path 13 Base material 14a Carriage 14b Rail 14c Piston rod 15 Application mechanism 16 Adhesive supply mechanism 17 Application die head 17a Application die head opening 18 Adhesive tank 19 Hose 21 Adhesive layer 22 Substrate 25 Front end 26 of base material Rear end 27 of base material 27 Start end 27a Start of application area 28 End 28b Application area end 30 Adhesive 31 Non-contact IC card 32 Inlet base material 33 Antenna 34 IC chip 35 inlet sheet 50 control device

Claims (6)

冷却機構が設けられている定盤上に基材を配置する工程と、
基材が配置された定盤を、基材の幅方向に延びるよう配置された塗布機構に対して塗布機構の配置方向に直交する方向に相対移動させて、塗布機構により基材上に接着剤を塗布する工程と、
基材上に塗布された接着剤が固化されるよう、接着剤を定盤の冷却機構により冷却する工程と、を備え
塗布機構により基材上に接着剤を塗布する工程は、
塗布機構に対して予め定盤を第1の移動速度V1で相対移動させておき、基材の塗布領域始端が塗布機構に達した際、塗布機構により接着剤の塗布を開始する工程と、
塗布機構に対して第1の移動速度V1で相対移動している定盤上に配置された基材の塗布領域終端が塗布機構に達した際、塗布機構による塗布を停止する工程と、
塗布機構による塗布を停止した後、第1の移動速度V1から減速された第2の移動速度V2で塗布機構に対する定盤の相対移動を続ける工程と、を有することを特徴とする接着剤塗布方法。
Arranging the base material on a surface plate provided with a cooling mechanism;
The surface plate on which the base material is arranged is moved relative to the coating mechanism arranged so as to extend in the width direction of the base material in a direction perpendicular to the direction in which the coating mechanism is arranged, and the adhesive is applied onto the base material by the coating mechanism. A step of applying
A step of cooling the adhesive by a cooling mechanism of the surface plate so that the adhesive applied on the substrate is solidified , and
The process of applying the adhesive on the substrate by the application mechanism is as follows:
A step of moving the surface plate relative to the coating mechanism in advance at the first moving speed V1, and starting the application of the adhesive by the coating mechanism when the coating region start end of the substrate reaches the coating mechanism;
A step of stopping coating by the coating mechanism when the coating region end of the substrate disposed on the surface plate that is moving relative to the coating mechanism at the first moving speed V1 reaches the coating mechanism;
And continuing the relative movement of the platen with respect to the coating mechanism at the second movement speed V2 decelerated from the first movement speed V1 after stopping the application by the coating mechanism. .
基材が配置される定盤と、
定盤上方に設けられ、基材の幅方向に延びるよう配置され、基材に接着剤を塗布する塗布機構と、
定盤に設けられ、基材上に塗布された接着剤を固化させる冷却機構と、を備え、
定盤は、塗布機構に対して塗布機構の配置方向に直交する方向に相対移動可能であり、
塗布機構および定盤を制御する制御装置をさらに備え、
制御装置は、
塗布機構に対して予め定盤を第1の移動速度V1で相対移動させておき、基材の塗布領域始端が塗布機構に達した際、塗布機構により接着剤の塗布を開始し、
塗布機構に対して第1の移動速度V1で相対移動している定盤上に配置された基材の塗布領域終端が塗布機構に達した際、塗布機構による塗布を停止し、
塗布機構による塗布を停止した後、第1の移動速度V1から減速された第2の移動速度V2で塗布機構に対する定盤の相対移動を続ける
よう、前記塗布機構および前記定盤を制御することを特徴とする接着剤塗布装置。
A surface plate on which the base material is disposed;
An application mechanism that is provided above the surface plate and arranged to extend in the width direction of the base material, and applies an adhesive to the base material;
A cooling mechanism provided on the surface plate and solidifying the adhesive applied on the substrate,
The surface plate is movable relative to the coating mechanism in a direction perpendicular to the direction of arrangement of the coating mechanism ,
A control device for controlling the coating mechanism and the surface plate;
The control device
The surface plate is moved relative to the coating mechanism in advance at the first moving speed V1, and when the start of the coating area of the substrate reaches the coating mechanism, the coating mechanism starts coating the adhesive.
When the coating region end of the substrate disposed on the surface plate that is moving relative to the coating mechanism at the first moving speed V1 reaches the coating mechanism, the coating mechanism stops coating.
After stopping the application by the application mechanism, the relative movement of the surface plate with respect to the application mechanism is continued at the second movement speed V2 decelerated from the first movement speed V1.
The adhesive coating apparatus characterized by controlling the coating mechanism and the surface plate .
冷却機構は、冷媒による冷却機構であることを特徴とする請求項2に記載の接着剤塗布装置。 The adhesive application device according to claim 2 , wherein the cooling mechanism is a cooling mechanism using a refrigerant. 冷却機構は、空冷による冷却機構であることを特徴とする請求項2に記載の接着剤塗布装置。 The adhesive application device according to claim 2 , wherein the cooling mechanism is a cooling mechanism by air cooling. 冷却機構は、冷却する際の冷却速度を制御可能であることを特徴とする請求項2乃至請求項4のいずれかに記載の接着剤塗布装置。 The adhesive application device according to any one of claims 2 to 4 , wherein the cooling mechanism is capable of controlling a cooling rate at the time of cooling. 接着剤は、湿気硬化性ウレタン樹脂からなることを特徴とする請求項2乃至請求項5のいずれかに記載の接着剤塗布装置。 The adhesive application device according to any one of claims 2 to 5 , wherein the adhesive is made of a moisture curable urethane resin.
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