JP3436071B2 - Application method of bond for bonding electronic parts - Google Patents

Application method of bond for bonding electronic parts

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JP3436071B2
JP3436071B2 JP12532597A JP12532597A JP3436071B2 JP 3436071 B2 JP3436071 B2 JP 3436071B2 JP 12532597 A JP12532597 A JP 12532597A JP 12532597 A JP12532597 A JP 12532597A JP 3436071 B2 JP3436071 B2 JP 3436071B2
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裕治 大武
稔 村上
成孝 阿部
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Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
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Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/303Surface mounted components, e.g. affixing before soldering, aligning means, spacing means

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品を基板に
接着する電子部品接着用ボンドの塗布方法に関するもの
である。 【0002】 【従来の技術】様々な品種の電子部品を基板に接着する
ために、基板の所定位置にボンドを塗布することが行わ
れる。この場合、ボンドの塗布量が過少であれば電子部
品の接着力不足を生じ、また過多であると電子部品がボ
ンドに埋没するなどの問題が生じるため、ボンドの塗布
量は適正になるように調整されなければならない。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】この塗布量の調整は、
従来はシリンジに貯溜されたボンドを加圧する気体圧の
大きさ、加圧時間などの変更により行われていた。しか
しながら、ボンドの塗布装置によってボンドの塗布を行
う場合には、気体圧の大きさや加圧時間などの因子以外
にも、ボンドの塗布量に影響を及ぼす因子が存在する。
例えば、気体圧や加圧時間などを最適に制御しても、基
板に塗布されるボンドの量はばらつくものである。この
ばらつきの要因として、塗布点間の距離のばらつきがあ
る。すなわち、ボンドは一般にシリンジを基板に対して
相対的に水平移動させながら、シリンジ内のボンドを気
体圧で加圧して基板の所定の塗布点にボンドを塗布して
いくが、塗布点間の距離は一定でなく、このため気体圧
で加圧してノズルの下端部に吐出されて付着するボンド
の塗布量はシリンジが目標の塗布点に向かって移動する
間に変化し、その結果、基板に塗布されるボンドの量が
ばらつくことになる。 【0004】そこで本発明は、基板の多数の塗布点に対
して、ボンドの塗布量のばらつきがなく、しかも高速度
で安定したボンドの塗布が行える電子部品接着用ボンド
の塗布方法を提供することを目的とする。 【0005】 【課題を解決するための手段】本発明は、シリンジを基
板に対して相対的に水平移動させながら、シリンジ内の
ボンドに気体圧を付与することにより、ノズルの下端部
にボンドを吐出して付着させ、塗布点間の距離の異なる
基板の複数の塗布点にノズルの下端部に付着するボンド
を着地させて塗布するようにした電子部品接着用ボンド
の塗布方法であって、各塗布点の位置データに基づいて
決定される各塗布タイミングから、すべての塗布点につ
いて予め設定された同一の所定時間遡及したタイミング
で気体圧の付与を開始するようにした。 【0006】 【発明の実施の形態】上記構成の本発明によれば、各塗
布点の位置データに基づいて決定される各塗布タイミン
グから、すべての塗布点について予め設定された同一の
所定時間遡及したタイミングで気体圧の付与を開始する
ことにより、塗布量の安定したボンドの塗布が行える。 【0007】以下、本発明の実施の形態を図面を参照し
て説明する。図1は、本発明の一実施の形態のボンドの
塗布装置の斜視図、図2は同ボンドの塗布装置によるボ
ンドの塗布態様を示す基板の斜視図、図3は同ボンドの
塗布装置の制御系のブロック図、図4(a)、(b)、
(c)は同ボンドの塗布装置のノズルの拡大図、図5
(a)は同ボンドの塗布装置の塗布動作のタイミングチ
ャート、図5(b)は同ボンドの塗布装置のノズルの拡
大図、図5(c)は同ボンドの塗布装置のノズルの下端
部のボンド付着量を示すグラフ、図6(a)は同ボンド
の塗布装置のノズルの塗布動作のタイミングチャート、
図6(b)は同ボンドの塗布装置のノズルの拡大図、図
6(c)は同ボンドの塗布装置のノズルの下端部のボン
ド付着量を示すグラフである。 【0008】まず、図1を参照してボンドの塗布装置の
全体構造を説明する。図1において、本体フレーム11
の上部には透明なカバーボックス12が被蓋されてお
り、このカバーボックス12の内部に以下に述べる部品
が配置されている。13はXテーブル、14はXテーブ
ル13の両側部にこれと直交するように配設されたYテ
ーブルであって、Xテーブル13には、ヘッド15が装
着されている。このヘッド15には、複数本のシリンジ
16とカメラ10が保持されている。 【0009】それぞれのシリンジ16には、ボンドが貯
溜されているが、それぞれのシリンジ16によるボンド
の塗布量は異なっており、対象基板や対象チップなどに
応じて選択的に使用される。移動テーブルであるXテー
ブル13とYテーブル14にはモータMx,Myやこの
モータMx,Myに駆動されて回転するボールねじ18
などが配設されており、モータMx,Myが駆動する
と、ヘッド15はX方向や、Y方向に移動し、シリンジ
16は基板20に対して相対的に水平移動する。なお作
図の都合上モータMx,Myやボールねじ18はその一
部のみを図示している。 【0010】ヘッド15の移動路の下方には、左右一対
の棒状のガイドレール19a,19bが配設されてい
る。このガイドレール19a,19bの内面には、基板
20を搬送するコンベアベルト21が設けられている。
また一方のガイドレール19aの中央部にはクランパ1
9cが設けられており、基板20を他方のガイドレール
19b側へ押しつけて固定する。従って、ガイドレール
19bとクランパ19cは基板20の位置決め部を構成
している。そして、このように位置決めされた基板20
に対してボンドが塗布される。 【0011】22はコンベアベルトの駆動用モータ、2
3は基板20の横幅に応じてガイドレール19aとガイ
ドレール19bの間隔を調整するために、一方のガイド
レール19aを他方のガイドレール19bに対して基板
20の横幅方向(Y方向)に移動させるためのモータ、
24はそのガイドである。 【0012】次にガイドレール19bの側部に設けられ
たボンド1の試し塗布部30について説明する。ガイド
レール19bの側方には、繰り出しリール31と巻き取
りリール32が対設されており、繰り出しリール31に
卷回されたテープ33を巻き取りリール32で巻き取
る。このテープ33は、透明もしくは半透明の光透過性
のテープであり、合成樹脂などからなっている。 【0013】このテープ33の水平走行部の下方には光
源を有する光源部(図示せず)が配設されており、テー
プ33へ向かって光を照射する。34はテープ33の水
平走行部の直下に配設されたテープ33の受け台であっ
て、テープ33を水平に保持させるためのものであり、
透明や白色の光透過板にて形成されている。このテープ
33の水平走行部は、ボンドを試し塗布するためのステ
ージとなる。 【0014】図2は、ボンドの塗布態様を示している。
シリンジ16は基板20上をX方向やY方向へ水平移動
しながら、ノズル16aからボンド1を吐出し、基板2
0の所定の塗布点P(P1、P2、P3、・・・Pn)
に順に塗布する。図中、D(D1、D2、D3、・・・
Dn)は各塗布点間のシリンジの移動距離である。後に
詳述するように、本ボンドの塗布装置は、移動距離Dが
異なる各塗布点間をシリンジ16を高速度で移動させな
がら、ノズル16aからボンド1を吐出するためにシリ
ンジ16内に気体圧を付与するタイミングを調整するこ
とにより、各塗布点P1〜Pnにおいて塗布量が均一な
安定したボンド1の塗布を実現するものである。 【0015】次にボンドの塗布装置の制御系の構成につ
いて説明する。図3において、40は主制御部であり、
以下に説明する各部からのデータを受け、また各部に指
令を出して全体の動作を制御する。塗布データ記憶部4
1は、塗布対象の基板20の各塗布点の座標を記憶す
る。塗布条件記憶部42は、ボンド1を吐出するための
加圧時間を記憶する。塗布条件調整データ記憶部43
は、前述の加圧時間の調整データを記憶する。 【0016】認識部44は、カメラ10によって撮像さ
れた各塗布点の画像データに基づき、各塗布点に塗布さ
れたボンド1の塗布面積を算出する。この塗布面積は、
各塗布点でのボンド1の塗布量を表す指標として用いら
れる。モータ駆動部45は、シリンジ16を水平移動す
るXテーブル13やYテーブル14の各軸のモータM
x,Myや、シリンジ16の上下移動をするZ軸モータ
Mzを制御する。バルブ駆動部46は、シリンジ16に
気体圧を付与する加圧バルブ47の動作を制御する。 【0017】このボンドの塗布装置は上記のような構成
より成り、以下このボンドの塗布装置による電子部品接
着用ボンドの塗布方法について説明する。まず、塗布装
置の具体的な動作を説明する前に、気体圧を用いてボン
ド1を塗布する方法について図4を参照して説明する。
図4(a)に示すようにこのボンド塗布装置では、シリ
ンジ16に気体圧を付与することにより、シリンジ16
に装着されたノズル16aの下端部からボンド1を吐出
させノズル16aの下端部にボンド1を付着させる(こ
のボンド1の量Qを以下、「付着量」という)。そして
図4(b)に示すように、ノズル16aを下降させてノ
ズル16aの下端部に付着したボンド1を基板20に着
地させることによりボンド1の塗布が行われる。このた
め、塗布が行われるタイミング(図4(b)に示すよう
に、ノズル16aが下降してその下端部に吐出されたボ
ンド1が基板20に着地するタイミング)でのノズル1
6aの下端部に付着するボンド1の量(以下、「塗布時
付着量」という)Qeが、実際に基板20に塗布される
ボンド1の量Qt(図4(c)にて示すボンド1の量、
以下、単に「塗布量」という)を決定することになる。
すなわち、この塗布時付着量Qeが多ければ塗布量Qt
は多くなり、逆に少なければ塗布量Qtは少なくなる。
したがって、各塗布点への塗布量Qtが均一な安定した
ボンド1の塗布を実現するためには、各塗布点における
塗布時付着量Qeを一定にする必要がある。 【0018】そこで、次に塗布時付着量Qeと、加圧バ
ルブ47の開閉タイミングの関係について、図5を参照
して説明する。図5において、(a)は加圧バルブ47
の開閉タイミングを示すタイミングチャートである。ま
た(b)は、シリンジ16内に気体圧を付与することに
より吐出されるボンド1の付着量Qの変化を各タイミン
グごとに図示するものである。また、(c)はノズル1
6aの下端部に付着するボンド1の付着量Qの時間的変
化を示している。 【0019】図5において、時間原点t0は一連の動作
が開始するタイミングであり、このタイミングt0で加
圧バルブ47が開になり、ノズル16aの下端部よりボ
ンド1の吐出が開始される。なお図5において、破線矢
印A、Bはノズル16a内におけるボンド1の流れ方向
を示している。この加圧バルブ47は予め設定された時
間(加圧時間Td)だけ開にされ、タイミングt1にて
閉じられる。 【0020】図5(b),(c)に示すように、ノズル
16aの下端部に吐出されたボンド1の付着量Qは、動
作開始タイミング(イ)でのボンド1の付着量、すなわ
ち初期付着量Qiから順次増大し、(ロ)の状態を経て
(ハ)に示すように加圧バルブ47が閉じられるタイミ
ングt1にて最大量Qmとなる。この後、加圧バルブ4
7が閉じられた後には、(ニ)に示すようにボンド1は
ノズル16内を矢印Bで示すようにシリンジ16側へ逆
流し、ボンド1の付着量Qはある時間(図5(c)で示
すt1〜t2の間、以下「戻り時間」Twという)の間
減少を続け、いわゆるボンド1の「戻り」の現象を示
す。(ニ)において、破線で示すボンド1は最大量Qm
を示し、また実線で示すボンド1は「戻り」により減少
しつつあるボンド1を示している。そしてこの時間Tw
を経過した後(タイミングt2以降)はボンド1の付着
量Qは(ホ)(ヘ)に示す一定量Qrとなる。 【0021】以上説明したように、ボンド1の付着量Q
は吐出開始のタイミングt0以後一旦増減した後に一定
量Qrとなる。このような経時的に変動するボンド1の
付着量Qを対象として塗布時付着量Qeが一定量となる
ような塗布を行うには、基本的に2つの方法がある。す
なわち、1つは付着量Qが一定量Qrとなった以後すな
わちタイミングt2以後に塗布を行う方法であり、他の
1つは付着量Qが変動している時間中に塗布時付着量Q
eが一定量となるような方策を講じて塗布を行う方法で
ある。前者は従来用いられていた方法であり、この方法
によれば付着量Qが一定量Qrになった後に塗布を行う
ため、塗布時付着量Qeは常に一定となる。しかしなが
ら、この方法では、吐出開始のタイミングt0以後タイ
ミングt2が経過するまでは塗布を待たなければならな
いため塗布インターバルが長くなり、結果としてタクト
タイムが長くなるという問題点があった。 【0022】したがって、タクトタイムを短縮して高速
度の塗布を実現しようとすれば、後者の方法を採ること
になるが、この場合には付着量Qが変動している戻り時
間Tw中にノズル16aを下降させてボンド1の塗布を
行わなければならない。この戻り時間Tw中にボンド1
の塗布を行うことは従来も行われていたが、従来は、ボ
ンド1の吐出開始のタイミングを設定する方法として、
吐出開始のタイミングをシリンジ16の水平方向への移
動開始のタイミングと同期させることが行われていた。 【0023】したがって各塗布点間の移動距離Dが異な
ればシリンジ16が塗布点の位置まで到達する時間が異
なることから、吐出開始から基板20への塗布までの時
間が異なることとなり、戻り時間Tw中での塗布のタイ
ミングは一定しない。前述のように戻り時間Tw中はボ
ンド1の付着量Qは次第に減少しているため、移動距離
Dによって各塗布点における塗布時付着量Qeはばらつ
き、したがって塗布量Qtがばらつくこととなってい
た。「発明が解決しようとする課題」の項で述べた従来
方法の問題点はこのことに起因するものである。 【0024】本発明は、図2に示すような移動距離Dが
異なる多数の塗布点を有する基板を対象として、高速度
でしかも塗布量Qtが安定したボンド1の塗布を実現す
るため、ボンド1の吐出開始のタイミング、すなわち加
圧バルブ47を開にするタイミングを従来と異なる方法
で設定するものである。 【0025】図5(c)のグラフから明らかなように、
ノズル16aの下端に付着するボンド1の付着量Qは、
ボンド1の吐出開始のタイミングt0からの時間で一意
的に定まる。言い換えれば、ある付着量Qが指定されれ
ばその付着量Qに対応するタイミングt0からの時間が
決定される。すなわち付着量Qが所望の塗布時付着量Q
eになるタイミングは、タイミングt0からの時間によ
って一意的に定められる。この時間を求めるためには、
まず所望の塗布時付着量Qeの値に相当する付着量の点
Pを図5(c)のグラフ上に求め、次いでこの点Pに対
応する時間(タイミングt0からの時間)Taをグラフ
より求める。すなわち、各塗布点への塗布を行うタイミ
ングから時間Ta遡及したタイミングにてボンド1の吐
出を開始することにより、所望の塗布時付着量Qeを得
ることができる。 【0026】したがって、基板20上の各塗布点の位置
データに基づいて定められるそれぞれの塗布点の塗布タ
イミングから、予め設定された同一の所定時間(Ta)
遡及したタイミングで加圧バルブ47を開にしてシリン
ジ16への気体圧の付与を開始するよう塗布動作の制御
シーケンス上のタイミングを設定すれば、塗布時付着量
Qeは各塗布点について一定となる。 【0027】以下、具体的な塗布動作について図6を参
照して説明する。図6において、(a)はシリンジ16
の水平方向(XY方向)の速度パターン、ノズル16a
の上下動(Z方向)の速度パターン、および加圧バルブ
47の開閉タイミングを示すタイミングチャートであ
り、(b)はノズル16aの上下方向の動きとノズル1
6aの下端部に付着するボンド1の状態を各タイミング
ごとに示したものであり、また(c)は、ボンド1の付
着量Qの時間的変化を示すグラフである。 【0028】まずタイミングt0にてXY方向への移動
速度が立ち上がり、タイミングt1にて最高速に到達し
その後t1〜t2の間は等速で移動する。その後減速し
てタイミングt3にて停止する。すなわち、シリンジ1
6はこのタイミングt3に塗布点に到達する。 【0029】次いで、このタイミングt3もしくはこの
タイミングt3に前後してZ軸モータMzが駆動を開始
しノズル16aが下降を開始する。次に、タイミングt
5(塗布タイミング)にてノズル16aは下降動作の下
死点に達し下端部に付着しているボンド1を基板20の
表面に塗布する(図6(b)(ホ)参照)。この塗布タ
イミングt5でのボンド1の量は前述の塗布時付着量Q
eであリ、この塗布時付着量Qeを一定にするには、こ
のタイミングt5から予め設定された同一の所定時間T
a遡及したタイミングt7で加圧バルブ47を開にすれ
ばよいことになる。 【0030】このタイミングt7でノズル16aの下端
部よりボンド1の吐出を開始すると(図6(b)(イ)
にて破線で示す矢印A参照)、加圧の進行とともに付着
量Qは次第に増大し、タイミングt8にて最大量Qmに
達し、その後戻りにより減少する。そして吐出開始から
時間Ta経過したタイミングt5(図6(b)(ホ)に
て示すボンド1の塗布時)での塗布時付着量Qeは、す
べての塗布点について吐出後の経過時間が同一であるた
め、すべての塗布点について一定となる。したがって基
板20には常に均一な塗布量Qtのボンド1が塗布され
る(図6(b)の(ヘ)参照)。図6(c)に示すよう
に、基板20へのボンド1の塗布が行われる結果、付着
量Qはタイミングt5にて塗布量Qtだけ減少し、その
後も戻り時間Tw(t8〜t9)の間は減少する。な
お、タイミングt5以後の鎖線で示すグラフq’は、塗
布を行わなかった場合の付着量Qの時間的変化を示すも
のである。 【0031】上記説明では、時間Taを求める方法を説
明するに際し、図5(c)のグラフを使用しているが、
実際の制御プログラム上で吐出開始のタイミングを決定
するに際して図5(c)のようなグラフを作成すること
は特に必要ではない。要は、基板上の各塗布点について
塗布タイミングから同一の所定時間Ta遡及したタイミ
ングでボンド1の吐出を開始するようにして、各塗布点
についての塗布時付着量Qeを一定にすればよい。塗布
時付着量Qeの絶対量の調整は、実際の塗布結果におけ
る塗布量Qtを観察しながら、他の因子例えば気体圧の
大きさや加圧時間Tdなどを調整して行えばよい。 【0032】上記説明したように、シリンジ16の移動
距離Dが異なる基板上の多数の塗布点について、シリン
ジに気体圧を付与してボンド1の吐出を開始させるタイ
ミングからノズル16を下降させてボンド1を基板に塗
布するタイミングまでの時間Taを各塗布点についてす
べて同一の所定時間に設定することにより、常に均一な
塗布量が得られる。 【0033】 【発明の効果】本発明によれば、シリンジに吐出動作を
行わせるための気体圧の付与を開始するタイミングか
ら、ノズルの下端部に吐出されたボンドを基板に塗布す
るまでの時間を、各塗布点について予め定められた同一
の所定時間に設定することにより、基板へボンドを塗布
するタイミングでのノズル下端部のボンドの付着量を一
定にすることができるので、加圧バルブの駆動タイミン
グの設定という簡単な方法で常に均一な塗布量の安定し
たボンドの塗布が行える。さらに、ノズルからボンドを
吐出させた後のボンドの付着量が安定していないボンド
の戻り時間中にノズルを基板に着地させてボンドの塗布
を行えるため、塗布インターバルを短縮することがで
き、したがってタクトタイムが短縮される。これによ
り、従来では不可能であった高速度でしかも塗布量が安
定したボンドの塗布が実現される。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION [0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method for applying an electronic component bonding bond for bonding an electronic component to a substrate. 2. Description of the Related Art In order to bond various kinds of electronic components to a substrate, a bond is applied to a predetermined position of the substrate. In this case, if the applied amount of the bond is too small, the adhesive strength of the electronic component may be insufficient, and if the amount is too large, the electronic component may be buried in the bond. Must be adjusted. [0003] The adjustment of the amount of coating is performed by:
Conventionally, it has been performed by changing the magnitude of the gas pressure for pressurizing the bond stored in the syringe, the pressurizing time, and the like. However, when the bond is applied by the bond applying device, there are other factors that influence the amount of the bond applied, other than the factors such as the magnitude of the gas pressure and the pressurizing time.
For example, even if the gas pressure and the pressurizing time are controlled optimally, the amount of the bond applied to the substrate varies. As a factor of this variation, there is variation in the distance between application points. That is, generally, the bond is applied to a predetermined application point of the substrate by pressurizing the bond in the syringe with gas pressure while moving the syringe relatively horizontally with respect to the substrate, but the distance between the application points is large. Is not constant, so the amount of bond applied and ejected to the lower end of the nozzle by gas pressure changes while the syringe moves toward the target application point, and as a result, The amount of bonds to be made will vary. Accordingly, the present invention provides a method for applying a bond for bonding electronic parts, which does not have a variation in the amount of the bond applied to a large number of application points on a substrate and can perform a stable bond application at a high speed. With the goal. According to the present invention, a bond is provided at the lower end of a nozzle by applying gas pressure to a bond in a syringe while horizontally moving the syringe relative to a substrate. A method of applying a bond for electronic component bonding, wherein the bonding is performed by discharging and attaching, and applying and bonding a bond attached to a lower end portion of a nozzle to a plurality of application points on a substrate having different distances between application points. The application of the gas pressure is started at a timing retroactive to the same predetermined time preset for all the application points from each application timing determined based on the position data of the application points. According to the present invention having the above structure, the same predetermined time preset for all application points is applied from each application timing determined based on the position data of each application point. By starting the application of the gas pressure at the specified timing, it is possible to apply the bond with a stable application amount. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of a bond application apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view of a substrate showing a bond application mode by the bond application apparatus, and FIG. 3 is control of the bond application apparatus. Block diagram of the system, FIG. 4 (a), (b),
(C) is an enlarged view of a nozzle of the coating apparatus of the bond, and FIG.
5A is a timing chart of a coating operation of the bond applying apparatus, FIG. 5B is an enlarged view of a nozzle of the bond applying apparatus, and FIG. 5C is a bottom view of a nozzle of the bond applying apparatus. FIG. 6A is a graph showing a bond adhesion amount, and FIG.
FIG. 6B is an enlarged view of a nozzle of the bond applying apparatus, and FIG. 6C is a graph showing a bond adhesion amount at a lower end portion of the nozzle of the bond applying apparatus. First, the overall structure of a bond applying apparatus will be described with reference to FIG. In FIG. 1, the main body frame 11
A transparent cover box 12 is covered on the upper part of the box, and components described below are arranged inside the cover box 12. Reference numeral 13 denotes an X table, and 14 denotes a Y table disposed on both sides of the X table 13 so as to be orthogonal thereto. The X table 13 has a head 15 mounted thereon. The head 15 holds a plurality of syringes 16 and the camera 10. Bonds are stored in each of the syringes 16, but the amount of the bond applied by each of the syringes 16 is different and is selectively used according to a target substrate, a target chip, or the like. Motors Mx and My and ball screws 18 driven and rotated by the motors Mx and My are provided on the X table 13 and the Y table 14, which are moving tables.
When the motors Mx and My are driven, the head 15 moves in the X direction or the Y direction, and the syringe 16 moves horizontally relative to the substrate 20. It should be noted that only a part of the motors Mx and My and the ball screw 18 are shown for convenience of drawing. Below the moving path of the head 15, a pair of right and left bar-shaped guide rails 19a and 19b are provided. On the inner surfaces of the guide rails 19a and 19b, a conveyor belt 21 for transporting the substrate 20 is provided.
A clamper 1 is provided at the center of one of the guide rails 19a.
9c is provided, and the substrate 20 is pressed against the other guide rail 19b and fixed. Therefore, the guide rail 19b and the clamper 19c constitute a positioning portion of the substrate 20. Then, the substrate 20 thus positioned
Is applied to the substrate. Reference numeral 22 denotes a conveyor belt driving motor;
3 moves one guide rail 19a relative to the other guide rail 19b in the width direction (Y direction) of the substrate 20 to adjust the distance between the guide rails 19a and 19b according to the width of the substrate 20. Motor for the
24 is the guide. Next, the trial application section 30 of the bond 1 provided on the side of the guide rail 19b will be described. A pay-out reel 31 and a take-up reel 32 are provided on the side of the guide rail 19b, and the tape 33 wound around the pay-out reel 31 is taken up by the take-up reel 32. The tape 33 is a transparent or translucent light transmissive tape, and is made of a synthetic resin or the like. A light source unit (not shown) having a light source is provided below the horizontal running portion of the tape 33, and irradiates light toward the tape 33. Numeral 34 denotes a cradle for the tape 33 disposed immediately below the horizontal running portion of the tape 33 for holding the tape 33 horizontally.
It is formed of a transparent or white light transmitting plate. The horizontal running portion of the tape 33 serves as a stage for trial application of the bond. FIG. 2 shows a manner of applying a bond.
The syringe 16 ejects the bond 1 from the nozzle 16a while moving horizontally on the substrate 20 in the X direction or the Y direction,
0 predetermined application point P (P1, P2, P3,... Pn)
In order. In the figure, D (D1, D2, D3,...)
Dn) is the movement distance of the syringe between each application point. As will be described later in detail, the present bond applying apparatus moves the syringe 16 at a high speed between the application points having different moving distances D, and discharges the bond 1 from the nozzle 16a. By adjusting the timing at which the bond 1 is applied, stable application of the bond 1 with a uniform application amount at each of the application points P1 to Pn is realized. Next, the configuration of a control system of the bond applying apparatus will be described. In FIG. 3, reference numeral 40 denotes a main control unit,
It receives data from each unit described below and issues commands to each unit to control the overall operation. Application data storage unit 4
1 stores the coordinates of each application point of the substrate 20 to be applied. The application condition storage unit 42 stores a pressurizing time for discharging the bond 1. Coating condition adjustment data storage unit 43
Stores the adjustment data of the above-described pressurization time. The recognition unit 44 calculates the application area of the bond 1 applied to each application point based on the image data of each application point captured by the camera 10. This application area is
It is used as an index indicating the amount of the bond 1 applied at each application point. The motor drive unit 45 includes a motor M for each axis of the X table 13 and the Y table 14 for horizontally moving the syringe 16.
It controls x, My, and a Z-axis motor Mz that moves the syringe 16 up and down. The valve driving unit 46 controls the operation of a pressurizing valve 47 that applies gas pressure to the syringe 16. The bond applying apparatus has the above-described configuration, and a method of applying an electronic component bonding bond by the bond applying apparatus will be described below. First, before describing the specific operation of the coating apparatus, a method of coating the bond 1 using gas pressure will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 4A, in this bond application apparatus, the gas pressure is applied to the syringe 16 so that the syringe 16
The bond 1 is ejected from the lower end of the nozzle 16a attached to the nozzle 16a, and the bond 1 is adhered to the lower end of the nozzle 16a (the amount Q of the bond 1 is hereinafter referred to as "adhered amount"). Then, as shown in FIG. 4B, the bond 1 is applied by lowering the nozzle 16a and landing the bond 1 attached to the lower end of the nozzle 16a on the substrate 20. Therefore, as shown in FIG. 4B, the nozzle 1a at the timing at which the application is performed (the timing at which the nozzle 16a descends and the bond 1 discharged to the lower end thereof lands on the substrate 20).
The amount Qe of the bond 1 adhering to the lower end of the substrate 6a (hereinafter referred to as “adhesion amount at the time of application”) Qe is equal to the amount Qt of the bond 1 actually applied to the substrate 20 (the amount of the bond 1 shown in FIG. amount,
Hereinafter, the amount is simply referred to as “application amount”.
In other words, if the adhesion amount Qe during application is large, the application amount Qt
Increases, and conversely, the smaller the amount, the smaller the coating amount Qt.
Therefore, in order to realize stable application of the bond 1 having a uniform application amount Qt to each application point, it is necessary to make the application amount Qe at each application point constant. Next, the relationship between the adhesion amount Qe during coating and the opening / closing timing of the pressure valve 47 will be described with reference to FIG. In FIG. 5, (a) shows a pressure valve 47
6 is a timing chart showing opening / closing timings of FIG. FIG. 3B shows the change in the amount Q of the bond 1 discharged by applying a gas pressure into the syringe 16 at each timing. (C) shows the nozzle 1
6 shows a temporal change in the amount Q of adhesion of the bond 1 adhering to the lower end of 6a. In FIG. 5, the time origin t0 is a timing at which a series of operations is started. At this timing t0, the pressurizing valve 47 is opened, and the discharge of the bond 1 is started from the lower end of the nozzle 16a. In FIG. 5, broken arrows A and B indicate the flow direction of the bond 1 in the nozzle 16a. The pressurizing valve 47 is opened for a preset time (pressurizing time Td) and closed at a timing t1. As shown in FIGS. 5B and 5C, the adhesion amount Q of the bond 1 discharged to the lower end of the nozzle 16a is the adhesion amount of the bond 1 at the operation start timing (a), that is, the initial amount. It gradually increases from the adhesion amount Qi, and reaches the maximum amount Qm at the timing t1 when the pressurizing valve 47 is closed through the state of (b) and (c) as shown in (c). After this, pressurizing valve 4
After the nozzle 7 is closed, the bond 1 flows backward in the nozzle 16 toward the syringe 16 as shown by the arrow B as shown in (d), and the amount of adhesion Q of the bond 1 becomes a certain time (FIG. 5 (c)). During the period from t1 to t2, which is referred to as “return time” Tw), the decrease is continued, and the phenomenon of so-called “return” of bond 1 is shown. In (d), bond 1 indicated by a broken line is the maximum amount Qm.
, And bond 1 indicated by a solid line indicates bond 1 that is decreasing due to “return”. And this time Tw
(After timing t2), the adhesion amount Q of the bond 1 becomes the constant amount Qr shown in (e) and (f). As described above, the adhesion amount Q of the bond 1
Becomes a constant amount Qr after temporarily increasing or decreasing after the ejection start timing t0. There are basically two methods for performing application such that the applied amount Qe at the time of application becomes a constant amount with respect to the applied amount Q of the bond 1 that fluctuates with time. That is, one is a method in which the coating is performed after the adhesion amount Q becomes the fixed amount Qr, that is, after the timing t2, and the other is a method in which the adhesion amount Q during application is changed while the adhesion amount Q is fluctuating.
This is a method in which application is performed while taking measures to keep e at a constant amount. The former is a method that has been used conventionally, and according to this method, application is performed after the amount of adhesion Q has reached a fixed amount Qr, so that the amount of adhesion Qe during application is always constant. However, this method has a problem in that the application must wait until the time t2 elapses after the timing t0 of the start of the discharge, and thus the application interval becomes longer, resulting in a longer tact time. Therefore, in order to reduce the tact time and achieve high-speed coating, the latter method is adopted. In this case, however, the nozzle is not allowed to return during the return time Tw in which the adhesion amount Q fluctuates. Bond 1 must be applied by lowering 16a. Bond 1 during this return time Tw
Has been conventionally performed, but conventionally, as a method of setting the timing of starting the discharge of the bond 1,
The timing of the start of ejection has been synchronized with the timing of the start of movement of the syringe 16 in the horizontal direction. Therefore, if the moving distance D between the application points is different, the time required for the syringe 16 to reach the position of the application point is different, so that the time from the start of ejection to the application to the substrate 20 is different, and the return time Tw The timing of the application inside is not constant. As described above, since the adhesion amount Q of the bond 1 gradually decreases during the return time Tw, the adhesion amount Qe at the time of application at each application point varies depending on the moving distance D, and thus the application amount Qt varies. . The problem of the conventional method described in the section of "Problems to be solved by the invention" is caused by this. The present invention is intended for a substrate having a large number of application points having different moving distances D as shown in FIG. 2 and realizing the application of the bond 1 at a high speed and with a stable application amount Qt. , Ie, the timing of opening the pressurizing valve 47, is set by a method different from the conventional method. As is clear from the graph of FIG.
The adhesion amount Q of the bond 1 adhering to the lower end of the nozzle 16a is:
It is uniquely determined by the time from the timing t0 at which the discharge of the bond 1 is started. In other words, if a certain adhesion amount Q is specified, the time from the timing t0 corresponding to the adhesion amount Q is determined. That is, the adhesion amount Q is the desired application adhesion amount Q
The timing to become e is uniquely determined by the time from the timing t0. To find this time,
First, a point P of the adhesion amount corresponding to a desired value of the adhesion amount Qe at the time of application is obtained on the graph of FIG. 5C, and then a time (time from the timing t0) Ta corresponding to this point P is obtained from the graph. . In other words, by starting the discharge of the bond 1 at a timing retroactive to the time Ta from the timing of performing the application to each application point, it is possible to obtain a desired adhesion amount Qe during the application. Therefore, from the application timing of each application point determined based on the position data of each application point on the substrate 20, the same predetermined time (Ta) is set in advance.
If the timing in the control sequence of the coating operation is set so that the pressurizing valve 47 is opened and the application of the gas pressure to the syringe 16 is started at the retrospective timing, the coating applied amount Qe is constant for each coating point. . Hereinafter, a specific application operation will be described with reference to FIG. In FIG. 6, (a) shows a syringe 16
Speed pattern in the horizontal direction (XY direction) of the nozzle 16a
4B is a timing chart showing the vertical movement (Z direction) speed pattern and the opening / closing timing of the pressurizing valve 47. FIG.
6A shows the state of the bond 1 adhering to the lower end of 6a at each timing, and FIG. 7C is a graph showing a temporal change in the amount Q of the bond 1 adhered. First, at timing t0, the moving speed in the XY directions rises, reaches the highest speed at timing t1, and thereafter moves at a constant speed between t1 and t2. Thereafter, the motor decelerates and stops at timing t3. That is, syringe 1
6 reaches the application point at this timing t3. Next, at or before this timing t3, the Z-axis motor Mz starts driving, and the nozzle 16a starts descending. Next, at timing t
At 5 (application timing), the nozzle 16a applies the bond 1 that has reached the bottom dead center of the lowering operation and adheres to the lower end portion to the surface of the substrate 20 (see FIGS. 6B and 6E). At this application timing t5, the amount of the bond 1 is the above-mentioned adhesion amount Q at the time of application.
In order to keep the applied adhesion amount Qe constant, the same predetermined time T
The pressure valve 47 should be opened at the timing t7, which has been traced back. When the discharge of the bond 1 is started from the lower end of the nozzle 16a at this timing t7 (FIG. 6 (b) (a)).
, An arrow A indicated by a broken line), the adhesion amount Q gradually increases with the progress of pressurization, reaches the maximum amount Qm at a timing t8, and then decreases by returning. At the time t5 when the time Ta has elapsed from the start of the ejection (at the time of applying the bond 1 shown in FIG. 6B and FIG. 6E), the applied amount Qe at the time of application is the same for all application points. Therefore, it is constant for all application points. Therefore, the bond 1 having a uniform application amount Qt is always applied to the substrate 20 (see (f) of FIG. 6B). As shown in FIG. 6C, as a result of the application of the bond 1 to the substrate 20, the amount of adhesion Q decreases by the amount of application Qt at timing t5, and thereafter during the return time Tw (t8 to t9). Decreases. Note that a graph q ′ indicated by a chain line after the timing t5 shows a temporal change of the adhesion amount Q when the coating is not performed. In the above description, the graph of FIG. 5C is used for describing the method of obtaining the time Ta.
It is not particularly necessary to create a graph as shown in FIG. 5C when deciding the timing of starting the discharge on the actual control program. In short, the application amount Qe at the time of application may be constant at each application point on the substrate by starting the discharge of the bond 1 at a timing retroactive to the same predetermined time Ta from the application timing. The absolute amount of the applied amount Qe at the time of application may be adjusted while observing the applied amount Qt in the actual application result while adjusting other factors such as the magnitude of the gas pressure and the pressurizing time Td. As described above, at many application points on the substrate where the moving distance D of the syringe 16 is different, the nozzle 16 is moved down from the timing at which the gas pressure is applied to the syringe and the discharge of the bond 1 is started. By setting the time Ta until the timing of applying 1 to the substrate to the same predetermined time for each application point, a uniform application amount can always be obtained. According to the present invention, the time from when the application of gas pressure for causing the syringe to perform the discharging operation to the time when the bond discharged at the lower end of the nozzle is applied to the substrate is started. Is set to the same predetermined time predetermined for each application point, so that the amount of the bond attached to the lower end of the nozzle at the timing of applying the bond to the substrate can be made constant. By a simple method of setting the drive timing, a stable bond application with a uniform application amount can always be performed. Further, since the bond amount after the bond is discharged from the nozzle is not stable, the nozzle can be landed on the substrate during the return time of the bond and the bond can be applied, so that the application interval can be shortened. Tact time is reduced. As a result, it is possible to apply a bond at a high speed and with a stable application amount, which was impossible in the past.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置の斜
視図 【図2】本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置によ
るボンドの塗布形態を示す基板の斜視図 【図3】本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置の制
御系のブロック図 【図4】(a)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装
置のノズルの拡大図 (b)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置のノズ
ルの拡大図 (c)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置のノズ
ルの拡大図 【図5】(a)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装
置の塗布動作のタイミングチャート (b)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置のノズ
ルの拡大図 (c)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置のノズ
ルの下端部のボンド付着量を示すグラフ 【図6】(a)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装
置のノズルの塗布動作のタイミングチャート (b)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置のノズ
ルの拡大図 (c)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置のノズ
ルの下端部のボンド付着量を示すグラフ 【符号の説明】 1 ボンド 10 カメラ 11 Xテーブル 12 Yテーブル 16 ディスペンサ 16a ノズル 19a ガイドレール 19b ガイドレール 19c クランパ 20 基板 31 繰り出しリール 32 巻き取りリール 33 テープ 40 主制御部 41 塗布データ記憶部 42 塗布条件記憶部 43 塗布条件調整データ記憶部 44 認識部
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a bond applying apparatus according to one embodiment of the present invention. FIG. 2 is a substrate showing a bond applying mode by a bond applying apparatus according to one embodiment of the present invention. FIG. 3 is a block diagram of a control system of a bond applying apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 (a) is an enlarged view of a nozzle of a bond applying apparatus according to an embodiment of the present invention ( b) Enlarged view of the nozzle of the bond applying apparatus according to one embodiment of the present invention. (c) Enlarged view of the nozzle of the bond applying apparatus according to one embodiment of the present invention. (B) Enlarged view of a nozzle of the bond applying apparatus according to an embodiment of the present invention (c) Enlarged view of a nozzle of the bond applying apparatus according to an embodiment of the present invention (c) FIG. 6 is a graph showing the amount of adhered bond at the lower end of the nozzle. Timing chart of the nozzle applying operation of the bond applying apparatus of the embodiment (b) Enlarged view of the nozzle of the bond applying apparatus of the embodiment of the present invention (c) Application of the bond of the embodiment of the present invention Graph showing the amount of bond attached to the lower end of the nozzle of the apparatus [Description of symbols] 1 Bond 10 Camera 11 X table 12 Y table 16 Dispenser 16a Nozzle 19a Guide rail 19b Guide rail 19c Clamper 20 Substrate 31 Feeding reel 32 Take-up reel 33 Tape 40 Main control unit 41 Application data storage unit 42 Application condition storage unit 43 Application condition adjustment data storage unit 44 Recognition unit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−192626(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 3/34 B05C 5/00 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-5-192626 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H05K 3/34 B05C 5/00

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】 【請求項1】シリンジを基板に対して相対的に水平移動
させながら、シリンジ内のボンドに気体圧を付与するこ
とにより、ノズルの下端部にボンドを吐出して付着さ
せ、塗布点間の距離の異なる基板の複数の塗布点にノズ
ルの下端部に付着するボンドを着地させて塗布するよう
にした電子部品接着用ボンドの塗布方法であって、各塗
布点の位置データに基づいて決定される各塗布タイミン
グから、すべての塗布点について予め設定された同一の
所定時間遡及したタイミングで気体圧の付与を開始する
ことを特徴とする電子部品接着用ボンドの塗布方法。
(57) [Claims 1] A bond is discharged to a lower end portion of a nozzle by applying gas pressure to a bond in a syringe while horizontally moving the syringe relative to a substrate. A method of applying a bond for bonding electronic components, wherein a bond attached to a lower end of a nozzle is applied to a plurality of application points on a substrate having different distances between application points by landing. Applying the gas pressure at a timing retroactive to the same predetermined time preset for all application points from each application timing determined based on the position data of the electronic component bonding bond. Method.
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