JP5186378B2 - 多層体およびその製造方法 - Google Patents
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Description
感光層が、金属層に塗布されるか、感光洗浄マスクが複製層として塗布され、感光層または洗浄マスクは、金属層を通して露光され、その結果、感光層または洗浄マスクは、第1の表面構造によって、第1の領域および第2の領域において、別々に露光される。金属層は、露光された感光層または洗浄マスクを、第2の領域ではなく第1の領域、または、第1の領域ではなく第2の領域におけるマスクとして用いることで除去する。金属層は、感光層のための露光マスクとして、または異なった透過性を有する領域を含む洗浄マスクとして用いられることを特徴とする。
―ストリップ露光装置。この場合、ストリップ状の露光マスクが、多層体と接触して転写され、多層体上のフォトレジストが、マスクを通して露光される。
―集光で制御された露光。つまり、光が、偏向部、および、適宜集光手段を用いる駆動部によって、多層体上を移動する。
―光学的画像手段を用いて多層体上に突出するマスク。方法は、「ステップとリピート」といった手順で行われるか、ある位置関係を持って駆動されるフラッシュランプの手段を用いて行われる。また、マスクは、電気的に制御され、可変的であり、例えば、「空間的光変調器」であってもよい。
―有機発光ダイオード(OLED)
―例えば、湿度、酸素、光、温度、寒さなどに敏感に反応する感知層を有するセンサなどのセンサ手段
―検出器を用いて調べることができる導電性構造を有するセキュリティ要素
―プリント回路基板
―電子部品
例えば、
―多層体の表面上に特定のテスト点を導入することで、電気伝導率を調べることが可能となる、
―金属層の膜厚のばらつき、
―分極した光による露光、
―部分的に金属化した領域のパラメタの周波数に依存する実施、
―導電性多層体への他の電気要素の追加、などである。
F=D−B
ラスター幅Dの幅Bに対する比率の最小許容値は、発生する最大電気フラッシュオーバー電圧によって決まる。なお、空気中の湿度、手の発汗、および、汚染、または、汚れなどの外的影響により、デメタライズ化した領域14dの絶縁効果が低下することに留意されたい。また、フラッシュオーバー電圧は、意図的に塗布された誘電体カバー層によって決定することができる。これらのカバー層は、例えば、複製層や接着剤などの膜1の部分を含む。
ラスター幅Dの最小許容値は、光の波長の大きさの程度の構造により発生しクローズした金属の表面の効果を破壊する回折効果によって制限される。また、回折効果は、不要な色効果を発揮する。
幅B、および/または、ラスター幅Dの最大許容値は、人間の目の解像度によって制限される。ラスター幅D、および/または、幅Bの最大許容値が大き過ぎた場合、ラスターを裸眼で確認することができる。
Claims (22)
- 調節可能、または、確定した電気伝導率を有する多層体の製造方法であって、
第1の回折表面構造が、前記多層体の複製層(12、52a、52b、82)の第1の領域に形成され、金属層(14、24、34、64、84)が、前記第1の領域と、前記第1の表面構造が前記複製層(12、52a、52b、82)に形成されていない第2の領域との前記複製層(12、52a、52b、82)に塗布され、前記第1の領域、または、前記第2の領域の一方は、複数の微視的パターン領域によって形成されており、それらのパターン領域は、線ラスターまたはラスター幅Dを有する面ラスター状に配置され、部分的な領域のそれぞれを完全に囲むまたは区切る第1の領域、または、第2の領域によって、それぞれ互いに間隔Bを持って離れて配置されており、
感光層(88)が、前記金属層(14、24、34、64、84)に塗布されるか、感光洗浄マスクが複製層として塗布され、前記感光層(88)、または、前記洗浄マスクは、前記金属層(14、24、34、64、84)を通して露光され、その結果、前記感光層(88)、または、前記洗浄マスクは、前記第1の表面構造によって前記第1の領域、および、前記第2の領域において別々に露光され、前記金属層(14、24、34、64、84)は、前記露光された感光層(88)、または、前記洗浄マスクを、前記第2の領域ではなく前記第1の領域、または、前記第1の領域ではなく前記第2の領域におけるマスクとして用いることで除去し、前記金属層は、前記感光層(88)のための露光マスクとして、または異なった透過性を有する領域を含む洗浄マスクとして用いられることを特徴とする多層体の製造方法。 - 前記ラスター幅Dが、1μm乃至500μmの間の範囲において選択され、前記ラスター幅Dの前記間隔Bに対する比率が5乃至200の範囲において選択されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記金属層(14、24、34、64、84)は、前記複製膜(12、52a、52b、82)によって画定される平面に、表面積全体に対して一定の濃度で、塗布されることを特徴とする請求項1、または、請求項2に記載の方法。
- 前記金属層(14、24、34、64、84)を、前記表面積全体にわたる前記複製層(12、52a、52b、82)に、前記金属層(14、24、34、64、84)が、前記複製層(12、52a、52b、82)の表面構造を持たない領域において1乃至7の範囲の光学濃度を有する厚さで塗布することを特徴とする、請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の方法。
- 第2の表面構造が、前記第2の領域における前記複製層(12、52a、52b、82)に形成され、前記複製層(12、52a、52b、82)における前記第1の回折表面構造として形成されたものが、前記第1の領域において前記金属層(14、24、34、64、84)の透過性を高め、ひいては、前記第2の領域において前記金属層(14、24、34、64、84)の透過性を高め、その逆も可能である、表面構造であることを特徴とする、請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の方法。
- 前記第1の表面構造は、前記第2の表面構造よりレリーフ深さが大きい、または、その逆も可能であることを特徴とする、請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の方法。
- 前記第1の表面構造の空間周波数とレリーフ深さの積が、前記第2の表面構造の空間周波数とレリーフ深さの積よりも大きい、または、その逆も可能であることを特徴とする、請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の方法。
- 前記第1の表面構造または第2の表面構造は、光学的に活性であり、反射性または透過性のある、光回折性および/または光屈折性および/または光散乱性のミクロあるいはナノ構造であることを特徴とする、請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載の方法。
- 前記第1の領域において、個別の構造要素の深さ幅比が大きい表面構造が、前記第1の回折表面構造として形成され、前記第2の表面構造は深さ幅比のより小さい表面構造であり、その逆も可能であることを特徴とする、請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の方法。
- バイナリ型の特徴を有する感光材料が、前記感光層または前記感光洗浄マスクとして塗布され、前記感光層または前記感光洗浄マスクが、露光の強さおよび露光時間を条件にして、前記金属層(14、24、34、64、84)を通して露光され、また、前記金属層(14、24、34、64、84)の透過性、特に透明性が前記第1の表面構造によって高められている第1の領域で、前記感光層(88)または前記洗浄マスクは活性化され、第2の領域では活性化されない、または、その逆も可能であることを特徴とする、請求項1乃至請求項9のいずれか1項に記載の方法。
- 前記感光層または前記洗浄マスクは、紫外線照射を用いて前記金属層を通して露光されることを特徴とする、請求項10に記載の方法。
- 前記金属層(14、24、34、64、84)は、直流的に強化されていることを特徴とする、請求項1乃至請求項11のいずれか1項に記載の方法。
- 前記ラスター幅Dが、5μm乃至300μmの範囲において選択されることを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の方法。
- 前記第1の表面構造または第2の表面構造は、線形格子または二次元格子の如き格子構造、等方性または異方性を有する無光沢構造、バイナリ型または連続するフレネルレンズ、マイクロプリズム、ブレーズ格子、組み合わせ構造、または微細構造、であることを特徴とする、請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の方法。
- 前記第1の領域において、深さ幅比が0.3より大きい表面構造が、前記第1の回折表面構造として形成されることを特徴とする、請求項1乃至請求項9のいずれか1項に記載の方法。
- 複製層(12、52a、52b、82)と、前記複製層(12、52a、52b、82)上に配置された金属層(14、24、34、64、84)を備える請求項1乃至請求項15のいずれか1項により得られる多層体であって、
前記多層体は、複数の微視的パターン領域、および、前記パターン領域のそれぞれを完全に囲むまたは区切るバックグランド領域を有し、前記パターン領域は、線ラスター、または、ラスター幅Dを有する面ラスター状に配置され、前記パターン領域は、前記バックグランド領域によって、互いに間隔Bを持って離れて配置されており、前記ラスター幅Dは、5μm乃至300μmの範囲であり、前記ラスター幅Dの前記間隔Bに対する比率は、5乃至200の範囲であり、前記金属層は、前記バックグランド領域、または、前記パターン領域に存在することを特徴とする、多層体。 - 第1の回折表面構造が、前記複製層(12、52a、52b、82)の第1の領域に形成され、前記第1の表面構造は前記複製層(12、52a、52b、82)の第2の領域に形成されず、前記パターン領域は、前記第1の領域または前記第2の領域の一方に形成されることを特徴とする、請求項16に記載の多層体。
- 前記複製層(12、52a、52b、82)は、前記パターン領域に第1の表面構造を有し、前記バックグランド領域に第2の表面構造を有し、前記第1の表面構造、および、前記第2の表面構造は、異なる表面構造によって形成されており、前記表面構造のうちの少なくとも1層が、回折表面構造であることを特徴とする、請求項16、または、請求項17に記載の多層体。
- 前記第1の表面構造および前記第2の表面構造は、異なる深さ幅比を有することを特徴とする、請求項16乃至請求項18のいずれか1項に記載の多層体。
- 前記多層体は、第1の金属層(54a)とある位置関係を持って配置された第2の金属層(54b)を有することを特徴とする、請求項16乃至請求項19のいずれか1項に記載の多層体。
- 前記金属層(54a、54b)のうち少なくとも1層は、可視光の範囲において部分的に透明である厚さで塗布されることを特徴とする、請求項20に記載の多層体。
- 前記金属層(54a、54b)は、(2n+1)・λ/2の間隔、または、(4n+1)・λ/4の間隔で配置されており、ここで、nは、0を含む整数であり、λは、前記多層体を利用するために提供される光の波長、または、平均波長であることを特徴とする、請求項20乃至請求項21のいずれか1項に記載の多層体。
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