JP5185310B2 - Electrical connection body and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、電気的接続体及びその製法に関する。   The present invention relates to an electrical connection body and a manufacturing method thereof.

プローブカードに代表される電気的接続体は、集積回路の製造工程でウエハ上の回路が完成した段階で、ウエハを個々のチップに切り離す前に内部回路が仕様書通りに動作するか否かのウエハテストを行う際に用いる治具である。こうした電気的接続体としては、複数のプローブが絶縁性の支持板を上下方向に貫通した状態で固定され、プローブの一方の脚は弾性変形可能な形状に形成されて支持板の上方に突出し、プローブの他方の脚は弾性変形可能な形状に形成されて支持板の下方に突出したものが知られている。ウエハテストでは、ウエハ上のチップをテストするテスト装置とウエハとの間に電気的接続体を配置し、プローブの一端をチップに形成された端子に当てると共に他端をテスト装置の端子に当てた状態で、チップの端子にテストパターンに従って電圧をかけ、出力を測定して期待値と比較することでチップの良否を判定する。このような電気的接続体としては、支持板を上板部材と中間板部材と下板部材の3層構造とし、中間板部材のプローブ貫通穴を上板部材及び下板部材のプローブ貫通穴に対し水平方向に変位することで、3つの板部材が共同してプローブを把持したものが提案されている(特許文献1参照)。   The electrical connection body represented by the probe card is used to check whether the internal circuit operates according to the specifications before the wafer is separated into individual chips when the circuit on the wafer is completed in the integrated circuit manufacturing process. This jig is used when performing a wafer test. As such an electrical connection body, a plurality of probes are fixed in a state of vertically passing through an insulating support plate, and one leg of the probe is formed in an elastically deformable shape and protrudes above the support plate, It is known that the other leg of the probe is formed in an elastically deformable shape and protrudes below the support plate. In wafer testing, an electrical connection is placed between the wafer and a test apparatus that tests the chip on the wafer, and one end of the probe is applied to a terminal formed on the chip and the other end is applied to a terminal of the test apparatus. In this state, a voltage is applied to the terminals of the chip according to the test pattern, the output is measured, and compared with the expected value, the quality of the chip is determined. As such an electrical connection body, the support plate has a three-layer structure of an upper plate member, an intermediate plate member, and a lower plate member, and the probe through hole of the intermediate plate member is used as the probe through hole of the upper plate member and the lower plate member. On the other hand, it has been proposed that the three plate members jointly hold the probe by being displaced in the horizontal direction (see Patent Document 1).

特開2004−235591JP-A-2004-235591

しかしながら、特許文献1では、支持板が3層構造であるため、コストが高くなるという問題があった。また、中間板部材のプローブ貫通穴を上板部材及び下板部材のプローブ貫通穴に対し水平方向に変位するとプローブが変形するが、多数のプローブが存在するため、すべてのプローブが同じ方向に変形せず、プローブの脚の並び方向が揃わないことがあった。   However, Patent Document 1 has a problem that the cost increases because the support plate has a three-layer structure. Also, if the probe through hole in the intermediate plate member is displaced in the horizontal direction with respect to the probe through hole in the upper plate member and the lower plate member, the probe will be deformed. In some cases, the alignment direction of the legs of the probe was not aligned.

本発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、低コストで製造でき、すべてのプローブの脚の並び方向が揃っている電気的接続体を提供することを主目的とする。   The present invention has been made to solve such problems, and has as its main object to provide an electrical connection body that can be manufactured at low cost and in which the alignment directions of the legs of all probes are aligned.

本発明は、上述の主目的を達成するために以下の手段を採った。   The present invention adopts the following means in order to achieve the main object described above.

すなわち、本発明の電気的接続体は、
複数のワイヤー製のプローブが絶縁性の支持板を上下方向に貫通した状態で固定され、前記プローブの一方の脚は弾性変形可能な形状に形成されて前記支持板の上方に突出し、前記プローブの他方の脚は弾性変形可能な形状に形成されて前記支持板の下方に突出している電気的接続体であって、
前記支持板は、ワイヤ径より大きな径の上板貫通穴を少なくとも前記プローブの数だけ有する上板と、前記上板貫通穴のそれぞれと対をなしワイヤ径より大きな径の下板貫通穴を有する下板とが重ね合わされた状態で固定されたものであり、対をなす前記上板貫通穴と前記下板貫通穴とは前記プローブを挟み込むように軸線がずらされており、前記上板と前記下板との対向面にはずらし方向に沿って延びる溝が設けられ、該溝に前記プローブの一部が入り込んでいるものである。
That is, the electrical connection body of the present invention is
A plurality of wire probes are fixed in a state of vertically passing through an insulating support plate, and one leg of the probe is formed in an elastically deformable shape and protrudes above the support plate. The other leg is an electrical connection body formed in an elastically deformable shape and protruding below the support plate,
The support plate includes an upper plate having at least the number of the upper plate through-holes larger than the wire diameter, and a lower plate through-hole having a diameter larger than the wire diameter. The upper plate through hole and the lower plate through hole that form a pair are offset so that the probe is sandwiched between the upper plate and the lower plate. A groove extending along the shifting direction is provided on the surface facing the lower plate, and a part of the probe enters the groove.

この電気的接続体では、支持板は上板と下板の2層構造であり、対をなす上板貫通穴と下板貫通穴とはプローブを挟み込むように軸線がずれた状態で固定されている。このため、支持板が3層構造の場合に比べて部品点数が少ない分、コストが低減される。また、上板と下板との対向面には、上板貫通穴の軸線と下板貫通穴の軸線のずらし方向に沿って延びる溝が形成され、その溝にプローブの一部が入り込むため、プローブの姿勢は溝によって規制される。例えば、プローブが軸回転してしまうのを溝によって阻止することができる。このため、すべてのプローブの脚の並び方向が揃うことになり、ウエハ上のチップに形成された電極に正確にプローブの先端を当てることが可能となる。   In this electrical connection body, the support plate has a two-layer structure of an upper plate and a lower plate, and the upper plate through hole and the lower plate through hole forming a pair are fixed with their axes shifted so as to sandwich the probe. Yes. For this reason, since the number of parts is small compared with the case where the support plate has a three-layer structure, the cost is reduced. In addition, a groove extending along the shifting direction of the axis of the upper plate through hole and the axis of the lower plate through hole is formed on the opposing surface of the upper plate and the lower plate, and a part of the probe enters the groove, The posture of the probe is regulated by the groove. For example, the groove of the probe can be prevented from rotating about the axis. For this reason, the alignment directions of the legs of all the probes are aligned, and the tips of the probes can be accurately applied to the electrodes formed on the chip on the wafer.

なお、溝は、上板のうち下板に対向する面にのみ設けられていてもよいし、下板のうち上板に対向する面にのみ設けられていてもよいし、両方の面に設けられていてもよい。   The groove may be provided only on the surface of the upper plate that faces the lower plate, or may be provided only on the surface of the lower plate that faces the upper plate, or provided on both surfaces. It may be done.

本発明の電気的接続体において、前記溝の深さは、ワイヤ径の50〜150%とするのが好ましい。50%未満だと、溝に沿わせてプローブを屈曲することが難しくなるし、上板とした板との隙間も大きくなりすぎるため、好ましくない。150%を超えると、プローブが溝内を上下に動きやすくなり、プローブの姿勢が安定しないおそれがあるため、好ましくない。なお、上板と下板の両方に溝が設けられている場合には、両溝の深さの合計がワイヤ径の50〜150%とするのが好ましい。   In the electrical connection body of the present invention, the depth of the groove is preferably 50 to 150% of the wire diameter. If it is less than 50%, it is difficult to bend the probe along the groove, and the gap between the upper plate and the plate becomes too large, which is not preferable. If it exceeds 150%, the probe tends to move up and down in the groove, and the posture of the probe may not be stable. In addition, when the groove | channel is provided in both the upper board and the lower board, it is preferable that the sum total of the depth of both grooves shall be 50 to 150% of a wire diameter.

本発明の電気的接続体において、対をなす前記上板貫通穴と前記下板貫通穴とのずらし量は、穴径からワイヤ径を差し引いた値より大きく、ピッチ(貫通穴同士の間隔)に穴径を加算しワイヤ径の2倍を差し引いた値未満とするのが好ましい。こうすれば、上板貫通穴と下板貫通穴との間でプローブを確実に挟み込むことができるし、隣り合うプローブ同士が接触してしまうのを防止できる。なお、隣り合うプローブ同士の接触をより確実に防止するには、ずらし量をピッチから穴径を差し引いた値以下とするのが好ましい。   In the electrical connection body according to the present invention, the shift amount between the upper plate through hole and the lower plate through hole forming a pair is larger than the value obtained by subtracting the wire diameter from the hole diameter, and the pitch (interval between the through holes) is larger. It is preferable that the value is less than the value obtained by adding the hole diameter and subtracting twice the wire diameter. If it carries out like this, a probe can be pinched | interposed reliably between an upper board through-hole and a lower board through-hole, and it can prevent that adjacent probes contact. In order to prevent contact between adjacent probes more reliably, it is preferable to set the shift amount to be equal to or less than the value obtained by subtracting the hole diameter from the pitch.

本発明の電気的接続体の製法は、
(a)ワイヤ径より大きな径の上板貫通穴が複数形成された上板と、前記上板貫通穴のそれぞれと対をなしワイヤ径より大きな径の下板貫通穴が形成された下板とを用意するが、その際、前記上板として、前記上板と前記下板との対向面に前記上板貫通穴の開口を繋ぐように所定方向に延びる溝を有しているものを用意するか、前記下板として、前記上板と前記下板との対向面に前記下板貫通穴の開口を繋ぐように所定方向に延びる溝を有しているものを用意する工程と、
(b)対をなす前記上板貫通穴と前記下板貫通穴とが連通するように前記上板と前記下板とを重ね合わせたあと、複数のプローブを前記上板貫通穴及び前記下板貫通穴に挿入し、各プローブの一方の脚が前記上板の上方に突出し、他方の脚が前記下板の下方に突出するように保持する工程と、
(c)前記上板と前記下板とを前記溝の延びる方向に相対的にずらすことにより、対をなす前記上板貫通穴と前記下板貫通穴とが前記プローブを挟み込むようにすると共に前記プローブを前記溝に沿って屈曲させる工程と、
(d)前記工程(c)の状態で前記上板と前記下板とが相対的に移動しないように両板を固定する工程と、
を含むものである。
The manufacturing method of the electrical connection body of the present invention is as follows:
(A) an upper plate in which a plurality of upper plate through-holes having a diameter larger than the wire diameter are formed; In this case, as the upper plate, one having a groove extending in a predetermined direction so as to connect the opening of the upper plate through-hole to the opposing surface of the upper plate and the lower plate is prepared. Or preparing the lower plate having a groove extending in a predetermined direction so as to connect the opening of the lower plate through hole on the opposing surface of the upper plate and the lower plate;
(B) After overlapping the upper plate and the lower plate so that the upper plate through hole and the lower plate through hole forming a pair communicate with each other, a plurality of probes are connected to the upper plate through hole and the lower plate. Inserting into the through hole, and holding one of the probes so that one leg protrudes above the upper plate and the other leg protrudes below the lower plate;
(C) By relatively shifting the upper plate and the lower plate in the extending direction of the groove, the upper plate through hole and the lower plate through hole forming a pair sandwich the probe, and Bending the probe along the groove;
(D) fixing both plates so that the upper plate and the lower plate do not move relatively in the state of the step (c);
Is included.

この電気的接続体の製法では、工程(c)において、上板と下板とを溝の延びる方向に相対的にずらすことにより、対をなす上板貫通穴と下板貫通穴とがプローブを挟み込むようにすると共にプローブを溝に沿って屈曲させるため、支持板が2層構造であってもプローブを固定することができるし、プローブの姿勢を溝によって規制することができる。したがって、3層構造の支持板を用いる場合に比べて低コストで、しかも、すべてのプローブの脚の並び方向が揃った電気的接続体を製造することができる。この製法は、上述した本発明の電気的接続体を製造するのに適している。なお、工程(a)では、上板として溝を有するものを用意してもよいし、下板として溝を有するものを用意してもよいし、上板も下板も溝を有するものを用意してもよい。   In this method of manufacturing an electrical connection body, in step (c), the upper plate and the lower plate are displaced relative to each other in the direction in which the groove extends, so that the upper plate through hole and the lower plate through hole form a pair. Since the probe is sandwiched and bent along the groove, the probe can be fixed even if the support plate has a two-layer structure, and the posture of the probe can be regulated by the groove. Therefore, it is possible to manufacture an electrical connection body that is lower in cost than the case of using a support plate having a three-layer structure and in which the alignment directions of all the probe legs are aligned. This manufacturing method is suitable for manufacturing the electrical connection body of the present invention described above. In step (a), the upper plate may have a groove, the lower plate may have a groove, or the upper plate and the lower plate may have a groove. May be.

本発明の電気的接続体の製法において、前記工程(a)では、前記上板又は前記下板に形成された溝の深さをワイヤ径の50〜150%とすることが好ましい。50%未満だと、溝に沿わせてプローブを屈曲することが難しくなるし、上板とした板との隙間も大きくなりすぎるため、好ましくない。150%を超えると、プローブが溝内を上下に動きやすくなり、プローブの姿勢が安定しないおそれがあるため、好ましくない。なお、上板と下板の両方に溝が設けられている場合には、両溝の深さの合計がワイヤ径の50〜150%とするのが好ましい。   In the manufacturing method of the electrical connection body of the present invention, in the step (a), it is preferable that the depth of the groove formed in the upper plate or the lower plate is 50 to 150% of the wire diameter. If it is less than 50%, it is difficult to bend the probe along the groove, and the gap between the upper plate and the plate becomes too large, which is not preferable. If it exceeds 150%, the probe tends to move up and down in the groove, and the posture of the probe may not be stable. In addition, when the groove | channel is provided in both the upper board and the lower board, it is preferable that the sum total of the depth of both grooves shall be 50 to 150% of a wire diameter.

本発明の電気的接続体の製法において、前記工程(c)では、対をなす前記上板貫通穴と前記下板貫通穴とのずらし量は、穴径からワイヤ径を差し引いた値より大きく、ピッチに穴径を加算しワイヤ径の2倍を差し引いた値未満とするのが好ましい。こうすれば、上板貫通穴と下板貫通穴との間でプローブを確実に挟み込むことができるし、隣り合うプローブ同士が接触してしまうのを防止できる。なお、隣り合うプローブ同士の接触をより確実に防止するには、ずらし量をピッチから穴径を差し引いた値以下とするのが好ましい。   In the manufacturing method of the electrical connection body of the present invention, in the step (c), the shift amount between the pair of the upper plate through hole and the lower plate through hole is larger than the value obtained by subtracting the wire diameter from the hole diameter, It is preferable that the pitch is less than the value obtained by adding the hole diameter to the pitch and subtracting twice the wire diameter. If it carries out like this, a probe can be pinched | interposed reliably between an upper board through-hole and a lower board through-hole, and it can prevent that adjacent probes contact. In order to prevent contact between adjacent probes more reliably, it is preferable to set the shift amount to be equal to or less than the value obtained by subtracting the hole diameter from the pitch.

プローブカードの正面図である。It is a front view of a probe card. プローブカードの平面図(部分拡大図付き)である。It is a top view (with a partial enlarged view) of a probe card. 図2の部分拡大図におけるA−A断面図である。It is AA sectional drawing in the elements on larger scale of FIG. 図3のB−B断面図である。It is BB sectional drawing of FIG. ずらし量の下限を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the minimum of the shift amount. ずらし量の上限を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the upper limit of shift amount. ずらし量の好ましい上限を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the preferable upper limit of shift amount. 工程(a)の説明図であり、(a)は部分平面図、(b)はC−C断面図である。It is explanatory drawing of a process (a), (a) is a partial top view, (b) is CC sectional drawing. 工程(b)の説明図であり、(a)は部分平面図、(b)はD−D断面図である。It is explanatory drawing of a process (b), (a) is a fragmentary top view, (b) is DD sectional drawing. 工程(c)の説明図であり、(a)は部分平面図、(b)はE−E断面図である。It is explanatory drawing of a process (c), (a) is a fragmentary top view, (b) is EE sectional drawing. 溝深さがワイヤ径の50%の場合の部分断面図である。It is a fragmentary sectional view in case a groove depth is 50% of a wire diameter. 溝深さがワイヤ径の150%の場合の部分断面図である。It is a fragmentary sectional view in case a groove depth is 150% of a wire diameter.

本発明の好適な一実施形態を図面を参照しながら以下に説明する。図1はプローブカード10の正面図、図2はプローブカード10の平面図(部分拡大図付き)、図3は図2の部分拡大図におけるA−A断面図、図4は図3のB−B断面図である。   A preferred embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 is a front view of the probe card 10, FIG. 2 is a plan view of the probe card 10 (with a partially enlarged view), FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. It is B sectional drawing.

プローブカード10は、本発明の電気的接続体の一例であり、全体の厚さが2〜20mmで電気絶縁性の支持板12と、この支持板12を上下方向に貫通した状態で支持板12に支持されたワイヤ径80〜300μmのワイヤからなる複数のプローブ18とを備えている。   The probe card 10 is an example of the electrical connection body of the present invention. The overall thickness of the probe card 10 is 2 to 20 mm, and the support plate 12 is electrically insulative. The support plate 12 extends vertically through the support plate 12. And a plurality of probes 18 made of wires having a wire diameter of 80 to 300 μm.

支持板12は、上板14と下板16とを重ね合わせ、周囲がボルトナット20で締結されたものである。上板14は、電気絶縁性であり、ワイヤ径より大きな径(直径0.3〜0.5mm)の上板貫通穴14aをプローブ18の数だけ有している。下板16も、電気絶縁性であり、上板貫通穴14aと同径の下板貫通穴16aをプローブ18の数だけ有している。但し、上板貫通穴14aの直径と下板貫通穴16aの直径とは必ずしも同じである必要はない。また、上板貫通穴14aのピッチ(穴同士の間隔)と下板貫通穴16aのピッチも同じである。更に、下板16のうち上板14と対向する面(つまり上面)には、所定方向に沿って溝16bが形成されている。この溝16bは、断面が矩形であり、深さ及び幅がワイヤ径とほぼ同じかわずかに大きい。また、溝16bは、複数の下板貫通穴16aの開口を繋ぐように延びている。上板14及び下板16の材料としては、電気絶縁性の材料であれば特に限定されないが、例えばガラス繊維含有エポキシ樹脂やポリエーテルエーテルケトン(PEEK)などのエンジニアリングプラスチックのほか、各種セラミックスが挙げられる。   The support plate 12 is obtained by superposing the upper plate 14 and the lower plate 16 and fastening the periphery with bolts and nuts 20. The upper plate 14 is electrically insulating and has upper plate through holes 14a having a diameter larger than the wire diameter (diameter 0.3 to 0.5 mm) by the number of the probes 18. The lower plate 16 is also electrically insulating, and has the same number of lower plate through holes 16a as the probes 18 having the same diameter as the upper plate through holes 14a. However, the diameter of the upper plate through hole 14a and the diameter of the lower plate through hole 16a are not necessarily the same. Further, the pitch of the upper plate through holes 14a (the interval between the holes) and the pitch of the lower plate through holes 16a are also the same. Further, a groove 16b is formed along a predetermined direction on a surface (that is, an upper surface) of the lower plate 16 facing the upper plate 14. The groove 16b has a rectangular cross section, and the depth and width are substantially the same as or slightly larger than the wire diameter. The groove 16b extends so as to connect the openings of the plurality of lower plate through holes 16a. The material of the upper plate 14 and the lower plate 16 is not particularly limited as long as it is an electrically insulating material. For example, in addition to engineering plastics such as glass fiber-containing epoxy resin and polyether ether ketone (PEEK), various ceramics are listed. It is done.

上板貫通穴14aと下板貫通穴16aとは、対をなすように設けられている。具体的には、一つのプローブ18が挿通されている上板貫通穴14aと下板貫通穴16aとが対をなしている。そして、対をなす上板貫通穴14aと下板貫通穴16aのうち、上板貫通穴14aは下板貫通穴16aを基準としてプローブ18の中央付近を挟み込むように軸線がずらされている。このときのずらし量は、上板貫通穴14aの穴径からワイヤ径を差し引いた値より大きく、ピッチ(貫通穴同士の間隔)から穴径を差し引いた値以下に設定されているが、詳しくは後述する。また、溝16bは、ずらし方向に沿って延びている。このように両貫通穴14a,16aの軸線がずらされた結果、プローブ18は、図3において、中央付近下側が下板貫通穴16aの内壁右側に押しつけられると共に、中央付近の中程が溝16bを水平方向に這い、中央付近上側が上板貫通穴14aの内壁左側に押しつけられている。   The upper plate through hole 14a and the lower plate through hole 16a are provided to make a pair. Specifically, the upper plate through hole 14a and the lower plate through hole 16a through which one probe 18 is inserted form a pair. Of the upper plate through hole 14a and the lower plate through hole 16a forming a pair, the axis of the upper plate through hole 14a is shifted so as to sandwich the vicinity of the center of the probe 18 with respect to the lower plate through hole 16a. The shift amount at this time is set larger than the value obtained by subtracting the wire diameter from the hole diameter of the upper plate through-hole 14a, and is set to be equal to or less than the value obtained by subtracting the hole diameter from the pitch (interval between the through holes). It will be described later. Further, the groove 16b extends along the shifting direction. As a result of shifting the axes of the through holes 14a and 16a in this way, the probe 18 is pressed near the center near the lower side of the lower plate through hole 16a in FIG. The upper side near the center is pressed against the left side of the inner wall of the upper plate through hole 14a.

ここで、ずらし量について、図5〜図7を用いて詳しく説明する。図5に示すように、ずらし量Gが上板貫通穴14aの穴径hからワイヤ径wを差し引いた値の場合(つまりG=h−w)、プローブ18は上板貫通穴14aの内壁及び下板貫通穴16aの内壁に接触しているだけで押圧力を受けていない。したがって、この状態ではプローブ18を上板貫通穴14a及び下板貫通穴16aで支持することはできない。しかし、ずらし量Gが図5の場合より大きくなる、つまりG>h−wになると、プローブ18は上板貫通穴14a及び下板貫通穴16aに挟み込まれて支持される。一方、図6に示すように、ずらし量Gがピッチpに穴径hを加算しワイヤ径wの2倍を差し引いた値の場合(つまりG=p+h−2w)、隣り合うプローブ18が接触してしまい、ウエハテストに支障が生じる。しかし、ずらし量Gが図6の場合より小さい、つまりG<p+h−2wになると、隣り合うプローブ18が接触しないため、不都合が生じない。隣り合うプローブ18の接触をより確実に防止するには、図7に示すように、ずらし量Gをピッチpから穴径hを差し引いた値以下、つまりG≦p−hとするのが好ましい。この場合、上側貫通穴14aは対をなさない下側貫通穴16aとオーバーラップすることがないため、隣り合うプローブ18の接触をより確実に防止することができる。   Here, the shift amount will be described in detail with reference to FIGS. As shown in FIG. 5, when the shift amount G is a value obtained by subtracting the wire diameter w from the hole diameter h of the upper plate through hole 14a (that is, G = h−w), the probe 18 is connected to the inner wall of the upper plate through hole 14a. It is only in contact with the inner wall of the lower plate through hole 16a and is not subjected to a pressing force. Therefore, in this state, the probe 18 cannot be supported by the upper plate through hole 14a and the lower plate through hole 16a. However, when the shift amount G becomes larger than in the case of FIG. 5, that is, G> h−w, the probe 18 is sandwiched and supported by the upper plate through hole 14a and the lower plate through hole 16a. On the other hand, as shown in FIG. 6, when the shift amount G is a value obtained by adding the hole diameter h to the pitch p and subtracting twice the wire diameter w (that is, G = p + h−2w), the adjacent probes 18 come into contact with each other. As a result, the wafer test is hindered. However, when the shift amount G is smaller than that in the case of FIG. 6, that is, G <p + h−2w, the adjacent probes 18 do not come into contact with each other, so that no inconvenience occurs. In order to prevent the adjacent probes 18 from contacting each other more reliably, it is preferable that the shift amount G is equal to or less than the value obtained by subtracting the hole diameter h from the pitch p, that is, G ≦ p−h, as shown in FIG. In this case, since the upper through hole 14a does not overlap with the unpaired lower through hole 16a, the contact of the adjacent probes 18 can be more reliably prevented.

プローブ18は、ベリリウム銅製のワイヤーを所定長さに切断したものである。このプローブ18の一方の脚18aは、支持板12の上方に突出し、屈曲部18bにて弾性変形可能となっている。また、他方の脚18cは、支持板12の下方に突出し、屈曲部18dにて弾性変形可能となっている。このプローブ18の中央付近は、上述したように上板貫通穴14aと下板貫通穴16aとによって挟み込まれており、クランク形状となっている。なお、プローブ18に用いるワイヤーの材質は、ベリリウム銅に限定されるものではなく、例えば、Cu、Cu合金、Ni、Ni合金、PdやPtなどの貴金属、Fe、Fe合金、ピアノ線などでもよい。   The probe 18 is obtained by cutting a beryllium copper wire into a predetermined length. One leg 18a of the probe 18 protrudes above the support plate 12 and can be elastically deformed by a bent portion 18b. The other leg 18c protrudes below the support plate 12 and can be elastically deformed by a bent portion 18d. As described above, the vicinity of the center of the probe 18 is sandwiched between the upper plate through hole 14a and the lower plate through hole 16a, and has a crank shape. The material of the wire used for the probe 18 is not limited to beryllium copper, and may be, for example, Cu, Cu alloy, Ni, Ni alloy, noble metals such as Pd and Pt, Fe, Fe alloy, piano wire, etc. .

次に、このプローブカード10の製造手順について図8〜図10を用いて説明する。図8〜図10は製造工程を示す説明図であり、(a)は部分平面図、(b)は断面図(図8はC−C断面図、図9はD−D断面図、図10はE−E断面図)である。まず、上板14と下板16とを用意する(工程(a),図8参照)。ここで、下板16は、上面に溝16bを有しているが、上板14は、そのような溝を有していない。続いて、対をなす上板貫通穴14aと下板貫通穴16aとが連通するように上板14の下面と下板16の上面とを重ね合わせたあと、複数のプローブ18を上板貫通穴14a及び下板貫通穴16aに挿入する(工程(b),図9参照)。このとき、各プローブ18の一方の脚18aが上板14の上方に突出し、他方の脚18cが下板16の下方に突出するように、各プローブ18を保持する。なお、プローブ18は、予め一方の脚18aが屈曲部18bにて所定角度折り曲げたものを用いる。続いて、上板14と下板16とを面接触した状態のまま溝16bの延びる方向に相対的にずらすことにより、対をなす上板貫通穴14aと下板貫通穴16aとがプローブ18を挟み込むようにする(工程(c),図10参照)。このとき、プローブ18の中央付近は曲げられて溝16bに嵌り込む。その結果、プローブ18の中央付近下側は下板貫通穴16aの内壁右側に押しつけられ、中央付近の中程が溝16bを水平方向に這い、中央付近上側が上板貫通穴14aの内壁左側に押しつけられる。続いて、その状態で上板14と下板16とが相対的に移動しないように、四隅をボルトナット20で固定する(工程(d))。最後に、他方の脚18cを屈曲部18dで所定角度折り曲げるように加工し、プローブカード10を完成させる。   Next, a manufacturing procedure of the probe card 10 will be described with reference to FIGS. 8 to 10 are explanatory views showing the manufacturing process, wherein (a) is a partial plan view, (b) is a sectional view (FIG. 8 is a sectional view taken along the line CC, FIG. 9 is a sectional view taken along the line DD, FIG. Is an EE cross-sectional view). First, an upper plate 14 and a lower plate 16 are prepared (see step (a) and FIG. 8). Here, the lower plate 16 has a groove 16b on the upper surface, but the upper plate 14 does not have such a groove. Subsequently, after overlapping the lower surface of the upper plate 14 and the upper surface of the lower plate 16 so that the paired upper plate through hole 14a and lower plate through hole 16a communicate with each other, the plurality of probes 18 are attached to the upper plate through hole. 14a and the lower plate through hole 16a (see step (b), FIG. 9). At this time, each probe 18 is held so that one leg 18 a of each probe 18 protrudes above the upper plate 14 and the other leg 18 c protrudes below the lower plate 16. The probe 18 is one in which one leg 18a is bent at a predetermined angle at a bent portion 18b in advance. Subsequently, the upper plate 14 and the lower plate 16 are displaced relative to each other in the direction in which the groove 16b extends while the upper plate 14 and the lower plate 16 are in surface contact with each other. (See step (c), FIG. 10). At this time, the vicinity of the center of the probe 18 is bent and fitted into the groove 16b. As a result, the lower side near the center of the probe 18 is pressed against the right side of the inner wall of the lower plate through hole 16a, the middle near the center crawls the groove 16b horizontally, and the upper side near the center is on the left side of the inner wall of the upper plate through hole 14a. Pressed. Subsequently, the four corners are fixed with bolts and nuts 20 so that the upper plate 14 and the lower plate 16 do not move relatively in this state (step (d)). Finally, the other leg 18c is processed to be bent at a predetermined angle by the bent portion 18d, and the probe card 10 is completed.

以上詳述した本実施形態のプローブカード10によれば、支持板12は上板14と下板16の2層構造であるため、支持板12が3層構造の場合に比べて部品点数が少ない分、コストが低減される。また、プローブ18は下板16に設けられた溝16bに入り込むため、プローブ18の姿勢は溝16bによって規制される。このため、すべてのプローブ18の脚18a,18cの並び方向が揃うことになり、ウエハ上のチップに形成された電極に正確にプローブ18の先端を当てることが可能となる。   According to the probe card 10 of the present embodiment described in detail above, since the support plate 12 has a two-layer structure of the upper plate 14 and the lower plate 16, the number of parts is smaller than in the case where the support plate 12 has a three-layer structure. The cost is reduced. Further, since the probe 18 enters the groove 16b provided in the lower plate 16, the posture of the probe 18 is regulated by the groove 16b. For this reason, the alignment directions of the legs 18a and 18c of all the probes 18 are aligned, and the tip of the probe 18 can be accurately applied to the electrode formed on the chip on the wafer.

なお、本発明は上述した実施形態に何ら限定されることはなく、本発明の技術的範囲に属する限り種々の態様で実施し得ることはいうまでもない。   It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and it goes without saying that the present invention can be implemented in various modes as long as it belongs to the technical scope of the present invention.

例えば、上述した実施形態では、下板16の溝16bの深さは、ワイヤ径よりわずかに大きい程度としたが、ワイヤ径の50〜150%の範囲で適宜設定してもよい。図11は、溝216bの深さがワイヤ径の50%の場合の例である。この場合、上板14と下板16との間に隙間ができるが、両板14,16が平行になるようにボルトナット20(図1参照)で締結すればよい。なお、溝116bの深さが50%未満だと、溝116bに沿わせてプローブ18を変形することが難しくなるし、両板14,16の隙間も大きくなりすぎるため、好ましくない。また、図12は、溝216bの深さがワイヤ径の150%の場合の例である。この場合、上板14と下板16とは面接触しており、溝216bの内部にプローブ18が余裕をもって収納されるが、プローブ18が溝216bの内部で上下に動くのは規制されている。この溝216bの深さがワイヤ径の150%を超えると、プローブ18が溝216bの内部で上下に動きやすくなり、プローブ18の姿勢が安定しないおそれがあるため、好ましくない。   For example, in the above-described embodiment, the depth of the groove 16b of the lower plate 16 is set to be slightly larger than the wire diameter, but may be appropriately set within a range of 50 to 150% of the wire diameter. FIG. 11 shows an example in which the depth of the groove 216b is 50% of the wire diameter. In this case, a gap is formed between the upper plate 14 and the lower plate 16, but the bolts and nuts 20 (see FIG. 1) may be fastened so that the plates 14 and 16 are parallel to each other. If the depth of the groove 116b is less than 50%, it is difficult to deform the probe 18 along the groove 116b, and the gap between the plates 14 and 16 becomes too large. FIG. 12 shows an example in which the depth of the groove 216b is 150% of the wire diameter. In this case, the upper plate 14 and the lower plate 16 are in surface contact, and the probe 18 is accommodated in the groove 216b with a margin, but the probe 18 is restricted from moving up and down inside the groove 216b. . If the depth of the groove 216b exceeds 150% of the wire diameter, the probe 18 tends to move up and down inside the groove 216b, and the posture of the probe 18 may be unstable, which is not preferable.

上述した実施形態では、溝16bは下板16のうち上板14に対向する面に設けたが、上板14のうち下板16に対向する面に設けてもよいし、両方の面に設けてもよい。なお、上板14と下板16の両方に溝が設けられている場合には、両溝の深さの合計がワイヤ径の50〜150%とする。   In the embodiment described above, the groove 16b is provided on the surface of the lower plate 16 that faces the upper plate 14, but may be provided on the surface of the upper plate 14 that faces the lower plate 16, or may be provided on both surfaces. May be. In addition, when the groove | channel is provided in both the upper board 14 and the lower board 16, the sum total of the depth of both grooves shall be 50 to 150% of a wire diameter.

上述した実施形態では、プローブ18の脚18cを脚18aと同じ方向に曲げたが、脚18cを脚18aと反対方向に曲げてもよい。   In the embodiment described above, the leg 18c of the probe 18 is bent in the same direction as the leg 18a, but the leg 18c may be bent in the opposite direction to the leg 18a.

上述した実施形態では、上板貫通穴14a及び下板貫通穴16aの断面形状を円形としたが、特に円形に限定されるものではなく、例えば、楕円形としてもよいし、矩形としてもよい。また、プローブ18の断面形状についても同様である。   In the embodiment described above, the cross-sectional shapes of the upper plate through hole 14a and the lower plate through hole 16a are circular. However, the sectional shape is not particularly limited to a circle, and may be, for example, an ellipse or a rectangle. The same applies to the cross-sectional shape of the probe 18.

上述した実施形態では、プローブ18は切断したワイヤをそのまま使用したため安価であるが、ウエハ上のチップの端子との接触面積が小さいため抵抗はあまり小さいとはいえない。コストよりも抵抗を小さくすることを重要視する場合には、プローブ18の先端を平坦面に加工するなどの工夫を加えることが好ましい。   In the embodiment described above, the probe 18 is inexpensive because the cut wire is used as it is, but the resistance is not so small because the contact area with the terminal of the chip on the wafer is small. When importance is attached to making the resistance smaller than the cost, it is preferable to add a device such as processing the tip of the probe 18 into a flat surface.

上述した実施形態では、支持板12の四隅をボルトナット20で締結したが、対角線上の2点をボルトナットで締結してもよいし、四隅に加えて辺の中央もボルトナットで締結してもよい。また、締結具は、ボルトナットに限らず、リベットでもよい。   In the above-described embodiment, the four corners of the support plate 12 are fastened with the bolt nuts 20. However, two points on the diagonal line may be fastened with the bolt nuts, and the center of the side is fastened with the bolt nuts in addition to the four corners. Also good. The fastener is not limited to a bolt and nut, and may be a rivet.

上述した実施形態では、プローブカード10を製造する際、工程(b)では予め一方の脚18aが屈曲部18bにて所定角度折り曲げたプローブ18を用いたが、真っ直ぐなプローブ18を用いてもよい。その場合、最後に、両方の脚18a,18cをそれぞれ屈曲部18b,18dで所定角度折り曲げるように加工し、プローブカード10を完成させる。   In the embodiment described above, when the probe card 10 is manufactured, in the step (b), the probe 18 in which one leg 18a is bent at a predetermined angle at the bent portion 18b in advance is used. However, a straight probe 18 may be used. . In that case, finally, both the legs 18a and 18c are processed to be bent at a predetermined angle by the bent portions 18b and 18d, respectively, and the probe card 10 is completed.

本発明の電気的接続体は、ウエハテストを行う際に用いる治具(プローブカード)などに利用することができる。   The electrical connection body of the present invention can be used for a jig (probe card) used when performing a wafer test.

10 プローブカード、12 支持板、14 上板、14a 上板貫通穴、16 下板、16a 下板貫通穴、16b 溝、18 プローブ、18a,18c 脚、18b,18d 屈曲部、20 ボルトナット、116b 溝、216b 溝、G ずらし量、h 穴径、p ピッチ、w ワイヤ径 10 probe card, 12 support plate, 14 upper plate, 14a upper plate through hole, 16 lower plate, 16a lower plate through hole, 16b groove, 18 probe, 18a, 18c leg, 18b, 18d bent part, 20 bolt nut, 116b Groove, 216b groove, G shift amount, h hole diameter, p pitch, w wire diameter

Claims (6)

複数のワイヤー製のプローブが絶縁性の支持板を上下方向に貫通した状態で固定され、前記プローブの一方の脚は弾性変形可能な形状に形成されて前記支持板の上方に突出し、前記プローブの他方の脚は弾性変形可能な形状に形成されて前記支持板の下方に突出している電気的接続体であって、
前記支持板は、ワイヤ径より大きな径の上板貫通穴を少なくとも前記プローブの数だけ有する上板と、前記上板貫通穴のそれぞれと対をなしワイヤ径より大きな径の下板貫通穴を有する下板とが重ね合わされた状態で固定されたものであり、対をなす前記上板貫通穴と前記下板貫通穴とは前記プローブを挟み込むように軸線がずらされており、前記上板と前記下板との対向面にはずらし方向に沿って延びる溝が設けられ、該溝に前記プローブの一部が入り込んでいる、
電気的接続体。
A plurality of wire probes are fixed in a state of vertically passing through an insulating support plate, and one leg of the probe is formed in an elastically deformable shape and protrudes above the support plate. The other leg is an electrical connection body formed in an elastically deformable shape and protruding below the support plate,
The support plate includes an upper plate having at least the number of the upper plate through-holes larger than the wire diameter, and a lower plate through-hole having a diameter larger than the wire diameter. The upper plate through hole and the lower plate through hole that form a pair are offset so that the probe is sandwiched between the upper plate and the lower plate. A groove extending along the shifting direction is provided on the surface facing the lower plate, and a part of the probe enters the groove.
Electrical connection.
前記溝の深さは、ワイヤ径の50〜150%である、
請求項1に記載の電気的接続体。
The depth of the groove is 50 to 150% of the wire diameter.
The electrical connection body according to claim 1.
対をなす前記上板貫通穴と前記下板貫通穴とのずらし量は、穴径からワイヤ径を差し引いた値より大きく、ピッチに穴径を加算しワイヤ径の2倍を差し引いた値未満である、
請求項1又は2に記載の電気的接続体。
The shift amount between the pair of upper plate through hole and lower plate through hole is larger than the value obtained by subtracting the wire diameter from the hole diameter, and less than the value obtained by adding the hole diameter to the pitch and subtracting twice the wire diameter. is there,
The electrical connection body according to claim 1 or 2.
(a)ワイヤ径より大きな径の上板貫通穴が複数形成された上板と、前記上板貫通穴のそれぞれと対をなしワイヤ径より大きな径の下板貫通穴が形成された下板とを用意するが、その際、前記上板として、前記上板と前記下板との対向面に前記上板貫通穴の開口を繋ぐように所定方向に延びる溝を有しているものを用意するか、前記下板として、前記上板と前記下板との対向面に前記下板貫通穴の開口を繋ぐように所定方向に延びる溝を有しているものを用意する工程と、
(b)対をなす前記上板貫通穴と前記下板貫通穴とが連通するように前記上板と前記下板とを重ね合わせたあと、複数のプローブを前記上板貫通穴及び前記下板貫通穴に挿入し、各プローブの一方の脚が前記上板の上方に突出し、他方の脚が前記下板の下方に突出するように保持する工程と、
(c)前記上板と前記下板とを前記溝の延びる方向に相対的にずらすことにより、対をなす前記上板貫通穴と前記下板貫通穴とが前記プローブを挟み込むようにすると共に前記プローブを前記溝に沿って屈曲させる工程と、
(d)前記工程(c)の状態で前記上板と前記下板とが相対的に移動しないように両板を固定する工程と、
を含む電気的接続体の製法。
(A) an upper plate in which a plurality of upper plate through-holes having a diameter larger than the wire diameter are formed; In this case, as the upper plate, one having a groove extending in a predetermined direction so as to connect the opening of the upper plate through-hole to the opposing surface of the upper plate and the lower plate is prepared. Or preparing the lower plate having a groove extending in a predetermined direction so as to connect the opening of the lower plate through hole on the opposing surface of the upper plate and the lower plate;
(B) After overlapping the upper plate and the lower plate so that the upper plate through hole and the lower plate through hole forming a pair communicate with each other, a plurality of probes are connected to the upper plate through hole and the lower plate. Inserting into the through hole, and holding one of the probes so that one leg protrudes above the upper plate and the other leg protrudes below the lower plate;
(C) By relatively shifting the upper plate and the lower plate in the extending direction of the groove, the upper plate through hole and the lower plate through hole forming a pair sandwich the probe, and Bending the probe along the groove;
(D) fixing both plates so that the upper plate and the lower plate do not move relatively in the state of the step (c);
Of electrical connections including
前記工程(a)では、前記上板又は前記下板に形成された溝の深さをワイヤ径の50〜150%とする、
請求項4に記載の電気的接続体の製法。
In the step (a), the depth of the groove formed in the upper plate or the lower plate is 50 to 150% of the wire diameter.
The manufacturing method of the electrical connection body of Claim 4.
前記工程(c)では、対をなす前記上板貫通穴と前記下板貫通穴とのずらし量は、穴径からワイヤ径を差し引いた値より大きく、ピッチに穴径を加算しワイヤ径の2倍を差し引いた値未満とする、
請求項4又は5に記載の電気的接続体の製法。
In the step (c), the shift amount between the pair of upper plate through hole and lower plate through hole is larger than a value obtained by subtracting the wire diameter from the hole diameter, and the hole diameter is added to the pitch to be 2 of the wire diameter. Less than doubled value,
The manufacturing method of the electrical connection body of Claim 4 or 5.
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