JP5176224B2 - Zn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜及びその作製方法 - Google Patents
Zn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜及びその作製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5176224B2 JP5176224B2 JP2007180261A JP2007180261A JP5176224B2 JP 5176224 B2 JP5176224 B2 JP 5176224B2 JP 2007180261 A JP2007180261 A JP 2007180261A JP 2007180261 A JP2007180261 A JP 2007180261A JP 5176224 B2 JP5176224 B2 JP 5176224B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- crystal
- standing film
- free
- crystal free
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Description
(1)気相と液相の界面である気液界面を用いて、Zn5(CO3)2(OH)6結晶が析出する反応系で析出させた上記気相に面した気相面と上記液面に面した液相面とを有する、Zn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜であって、ナノシートの集積体から形成されており、気相面側は液相面側と比べて平坦で緻密で平滑な面を形成しており、液相面側はナノシートが立った多孔質面であり、XRDパターンがJCPSD No.19−1458の回折線に帰属することを特徴とするZn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜。
(2)膜厚が5nm−30nmの、Zn 5 (CO 3 ) 2 (OH) 6 結晶シートより構成されている、前記(1)に記載のZn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜。
(3)前記(1)又は(2)に記載のZn 5 (CO 3 ) 2 (OH) 6 結晶自立膜が、基板に転写されて該基板と一体となったことを特徴とするZn5(CO3)2(OH)6結晶膜。
(4)基板が、ガラス、金属、セラミックス、又はポリマー基板である、前記(3)に記載のZn5(CO3)2(OH)6結晶膜。
(5)基板が、平板形状の形態を有する、前記(3)に記載のZn5(CO3)2(OH)6結晶膜。
(6)前記(1)又は(2)に記載のZn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜を加熱処理してZnO結晶自立膜へ相転移させることを特徴とするZnO結晶自立膜の作製方法。
(7)Zn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜と金属化合物を加熱処理することにより金属ドープしたZnO結晶自立膜を作製する、前記(6)に記載のZnO結晶自立膜の作製方法。
(8)前記(1)に記載のZn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜を作製する方法であって、亜鉛含有溶液からなる反応系の気相と液相の界面である気液界面を用いて、Zn5(CO3)2(OH)6結晶が析出する反応系にエチレンジアミンを添加し、該反応系を所定の温度、時間、加熱した状態に保持した後、加熱をとめ、放冷した状態に保持し、所定の温度、時間保持して、Zn5(CO3)2(OH)6結晶を析出させることを特徴とするZn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜の作製方法。
(9)亜鉛含有溶液として、硝酸亜鉛、酢酸亜鉛、又は有機酸亜鉛含有溶液を用いる、前記(8)に記載の方法。
(10)反応系にエチレンジアミンを添加及び温度を変化させてZn5(CO3)2(OH)6を析出させる、前記(8)に記載の方法。
(11)前記(1)又は(2)に記載のZn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜を構成要素として含む電子デバイス。
本発明は、Zn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜であって、ナノシートの集積体から形成されており、気相面側は平坦であり、液相面側はナノシートが立った多孔質面であり、図1のXRDパターンを示すことを特徴とするものである。また、本発明は、上記Zn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜をZnO結晶自立膜へ相転移させることによりZnO結晶自立膜を作製することを特徴とするものである。
(1)Zn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜を提供できる。
(2)上記Zn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜を相転移させたZnO結晶自立膜を提供できる。
(3)上記Zn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜は、例えば、蛍光体、溶液センサー、ガスセンサーや色素増感型太陽電池などの電子デバイスとして利用可能である。
(4)上記Zn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜及びZnO結晶自立膜の作製技術を提供できる。
(5)Zn5(CO3)2(OH)6結晶ナノシートを提供できる。
(6)上記Zn5(CO3)2(OH)6結晶ナノシートを相転移させたZnO結晶ナノシートを提供できる。
(7)Zn5(CO3)2(OH)6結晶あるいはこれを含有した粒子、薄膜、厚膜、シート、繊維、コーティングなどを提供できる。
Claims (11)
- 気相と液相の界面である気液界面を用いて、Zn5(CO3)2(OH)6結晶が析出する反応系で析出させた上記気相に面した気相面と上記液面に面した液相面とを有する、Zn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜であって、ナノシートの集積体から形成されており、気相面側は液相面側と比べて平坦で緻密で平滑な面を形成しており、液相面側はナノシートが立った多孔質面であり、XRDパターンがJCPSD No.19−1458の回折線に帰属することを特徴とするZn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜。
- 膜厚が5nm−30nmの、Zn 5 (CO 3 ) 2 (OH) 6 結晶シートより構成されている、請求項1に記載のZn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜。
- 請求項1又は2に記載のZn 5 (CO 3 ) 2 (OH) 6 結晶自立膜が、基板に転写されて該基板と一体となったことを特徴とするZn5(CO3)2(OH)6結晶膜。
- 基板が、ガラス、金属、セラミックス、又はポリマー基板である、請求項3に記載のZn5(CO3)2(OH)6結晶膜。
- 基板が、平板形状の形態を有する、請求項3に記載のZn5(CO3)2(OH)6結晶膜。
- 請求項1又は2に記載のZn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜を加熱処理してZnO結晶自立膜へ相転移させることを特徴とするZnO結晶自立膜の作製方法。
- Zn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜と金属化合物を加熱処理することにより金属ドープしたZnO結晶自立膜を作製する、請求項6に記載のZnO結晶自立膜の作製方法。
- 請求項1に記載のZn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜を作製する方法であって、亜鉛含有溶液からなる反応系の気相と液相の界面である気液界面を用いて、Zn5(CO3)2(OH)6結晶が析出する反応系にエチレンジアミンを添加し、該反応系を所定の温度、時間、加熱した状態に保持した後、加熱をとめ、放冷した状態に保持し、所定の温度、時間保持して、Zn5(CO3)2(OH)6結晶を析出させることを特徴とするZn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜の作製方法。
- 亜鉛含有溶液として、硝酸亜鉛、酢酸亜鉛、又は有機酸亜鉛含有溶液を用いる、請求項8に記載の方法。
- 反応系にエチレンジアミンを添加及び温度を変化させてZn5(CO3)2(OH)6を析出させる、請求項8に記載の方法。
- 請求項1又は2に記載のZn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜を構成要素として含む電子デバイス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007180261A JP5176224B2 (ja) | 2007-07-09 | 2007-07-09 | Zn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜及びその作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007180261A JP5176224B2 (ja) | 2007-07-09 | 2007-07-09 | Zn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜及びその作製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009013039A JP2009013039A (ja) | 2009-01-22 |
JP5176224B2 true JP5176224B2 (ja) | 2013-04-03 |
Family
ID=40354394
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007180261A Expired - Fee Related JP5176224B2 (ja) | 2007-07-09 | 2007-07-09 | Zn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜及びその作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5176224B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106848281B (zh) * | 2017-01-19 | 2019-06-11 | 江苏理工学院 | 一种锌镍电池的负极材料及其制备方法与用途 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4251685B2 (ja) * | 1998-04-22 | 2009-04-08 | メルク株式会社 | 紫外線吸収剤 |
JP2004315342A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-11-11 | Japan Science & Technology Agency | 高密度柱状ZnO結晶膜体とその製造方法 |
JP4328850B2 (ja) * | 2003-07-29 | 2009-09-09 | 奥野製薬工業株式会社 | 酸化亜鉛膜の皮膜構造の制御方法 |
JP4714844B2 (ja) * | 2005-07-15 | 2011-06-29 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | ポーラス酸化亜鉛膜形成用前駆体の製造方法、ポーラス酸化亜鉛膜の製造方法 |
JP4803443B2 (ja) * | 2006-09-27 | 2011-10-26 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 酸化亜鉛粒子ならびに酸化亜鉛粒子膜及びそれらの作製方法 |
JP4665175B2 (ja) * | 2007-01-09 | 2011-04-06 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 高c軸配向高比表面積ZnO結晶自立膜及びその作製方法 |
-
2007
- 2007-07-09 JP JP2007180261A patent/JP5176224B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009013039A (ja) | 2009-01-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Chandrappa et al. | A hybrid electrochemical–thermal method for the preparation of large ZnO nanoparticles | |
Kenanakis et al. | Growth of c-axis oriented ZnO nanowires from aqueous solution: the decisive role of a seed layer for controlling the wires’ diameter | |
JP4899229B2 (ja) | ZnOウィスカー膜及びそれらの作製方法 | |
US8173205B2 (en) | Method for fabricating ZnO thin films | |
Singh et al. | Effect of heat and time-period on the growth of ZnO nanorods by sol–gel technique | |
JP4803443B2 (ja) | 酸化亜鉛粒子ならびに酸化亜鉛粒子膜及びそれらの作製方法 | |
JP4665175B2 (ja) | 高c軸配向高比表面積ZnO結晶自立膜及びその作製方法 | |
Segawa et al. | Low-temperature crystallization of oriented ZnO film using seed layers prepared by sol–gel method | |
JP5099324B2 (ja) | 多孔質ZnO粒子結合自立膜及びその作製方法 | |
WO2007071130A1 (fr) | Film de type hydrotalcite a orientation verticale presentant une structure composite et son procede de preparation | |
JP2015212213A (ja) | グラフェンシートとの一体化ZnOナノロッド、およびグラフェンシート上へのZnOナノロッドの製造方法 | |
Deki et al. | α-Ni (OH) 2 thin films fabricated by liquid phase deposition method | |
KR101248837B1 (ko) | 표면에 나노 세공을 갖는 산화아연 나노로드의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 표면에 나노 세공을 갖는 산화아연 나노로드 | |
Kerasidou et al. | Growth of ZnO nanowires on seeding layers deposited by ALD: The influence of process parameters | |
Rahman et al. | Comprehensive review of micro/nanostructured ZnSnO 3: characteristics, synthesis, and diverse applications | |
CN102181855A (zh) | 一种形貌可控尖晶石薄膜及其制备方法 | |
JP5176224B2 (ja) | Zn5(CO3)2(OH)6結晶自立膜及びその作製方法 | |
Grobelsek et al. | Electrochemical synthesis of nanocrystalline zinc oxide and phase transformations of zinc hydroxides | |
JP5339372B2 (ja) | Zn(OH)2ナノシートとZnOナノウィスカー膜によるハイブリッドフィルム、ZnOナノシートとZnOナノウィスカー膜によるハイブリッドフィルム、およびそれらの作製方法 | |
CN103880062B (zh) | 一种氧化锌纳米柱薄膜及其制备方法 | |
Gul et al. | The influence of thermal processing on microstructure of sol–gel-derived SrSnO 3 thin films | |
Wang et al. | Facile synthesis of SnO2 nanograss array films by hydrothermal method | |
Orlov et al. | Influence of process temperature on ZnO nanostructures formation | |
You et al. | Thermo-electrochemical selective growth of ZnO nanorods on any noble metal electrodes | |
JP4973050B2 (ja) | 複合酸化物の結晶微粒子膜の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100317 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110929 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132 Effective date: 20111005 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111130 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120710 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120821 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121217 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121221 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5176224 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |