JP5170382B2

JP5170382B2 - 不斉触媒アルドール反応生成物の製造方法

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Publication number: JP5170382B2
Application number: JP2007290056A
Authority: JP
Inventors: 雄二郎林
Original assignee: Tokyo University of Science
Current assignee: Tokyo University of Science
Priority date: 2007-11-07
Filing date: 2007-11-07
Publication date: 2013-03-27
Anticipated expiration: 2027-11-07
Also published as: JP2009114135A

Description

本発明は、不斉触媒アルドール反応生成物の製造方法に関し、より詳細には、アルデヒド−アルデヒド間の不斉触媒アルドール反応において、求核剤としてアセトアルデヒドを用いる不斉触媒アルドール反応生成物の製造方法に関する。

アルドール反応は有機合成において重要な炭素−炭素結合生成反応である。特に、少量の不斉源から大量の光学活性体を得る不斉触媒アルドール反応については、現在世界中で活発に研究が行われている。

ここで、アルデヒド−アルデヒド間のアルドール反応により得られるβ−ヒドロキシアルデヒド化合物は、医薬品、農薬等の合成中間体となり得る。特に、アセトアルデヒドを求核剤として用いた場合、反応生成物としてβ−ヒドロキシ−α−無置換アルデヒド化合物が得られるため、合成化学的に重要である。

しかしながら、アセトアルデヒドは、求核的なアルデヒドとしても求電子的なアルデヒドとしても反応性が非常に高いため、その反応の制御は困難である。例えば、下記式（Ｉ）に示される反応を考えた場合、得られるアルドール体は求電子剤として優れているため、反応式（ＩＩ）に示されるように、さらにアセトアルデヒドとアルドール反応を起こしてしまう。また、下記式（Ｉ）に示される反応で得られるアルドール体は、α位に置換基がないため、反応式（ＩＩＩ）に示されるように、触媒と反応してエナミンを生成し、さらにアセトアルデヒドと反応してしまう。実際、非特許文献１においても、アセトアルデヒドに触媒を作用させると、アセトアルデヒドの三量体である５−ヒドロキシ−２−ヘキセナールが得られると報告されている。

このように、アセトアルデヒドを求核剤とするアルドール反応は困難であったため、これまで間接的な方法が開発されてきた。例えば、非特許文献２〜４には、アセトアルデヒドを対応するシリルエノールエーテルに誘導し、酸又は塩基により活性化した後、アルドール反応を行う方法が開示されている。しかしながら、この方法では、アセトアルデヒドを対応するシリルエノールエーテルに誘導する必要があるため、より直接的な反応方法が望まれていた。
Ｃｏｒｄｏｖａ，Ａ．；Ｎｏｔｚ，Ｗ．；Ｂａｒｂａｓ，Ｃ．Ｆ．ＩＩＩ；Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２００２，６７，ｐ．３０１Ｂｏｘｅｒ，Ｍ．Ｂ．；Ｙａｍａｍｏｔｏ，Ｈ．；Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．；２００６，１２８，ｐ．４８Ｂｏｘｅｒ，Ｍ．Ｂ．；Ｙａｍａｍｏｔｏ，Ｈ．；Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．；２００７，１２９，ｐ．２７６２Ｄｅｎｍａｒｋ，Ｓ．Ｅ．；Ｂｕｉ，Ｔ．；Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２００５，７０，ｐ．１０１９０

したがって、本発明は、アルデヒド−アルデヒド間の不斉触媒アルドール反応において、求核剤としてアセトアルデヒドを用い、アルドール体を高い不斉収率で得ることが可能な不斉触媒アルドール反応生成物の製造方法を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた。その結果、特定の触媒を用いることにより上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。より具体的には、本発明は以下の通りである。

（１）下記一般式（１）で表されるアルデヒドとアセトアルデヒドとを、下記一般式（２）で表される不斉触媒又はそのエナンチオマーの存在下で反応させ、下記一般式（３）で表される化合物又はそのエナンチオマーを得ることを特徴とする不斉触媒アルドール反応生成物の製造方法。

［式中、Ｒ^１は、置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシアルキル基、アルコキシアルケニル基、アルコキシアルキニル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルコキシカルボニルアルケニル基、アルコキシカルボニルアルキニル基、アシル基、アシルアルキル基、アシルアルケニル基、アシルアルキニル基、アミド基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルキルアルケニル基、シクロアルキルアルキニル基、ヘテロシクロアルキルアルキル基、ヘテロシクロアルキルアルケニル基、ヘテロシクロアルキルアルキニル基、シクロアルケニルアルキル基、シクロアルケニルアルケニル基、シクロアルケニルアルキニル基、ヘテロシクロアルケニルアルキル基、ヘテロシクロアルケニルアルケニル基、ヘテロシクロアルケニルアルキニル基、アリールアルキル基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、ヘテロアリールアルキル基、ヘテロアリールアルケニル基、又はヘテロアリールアルキニル基を示し、Ｒ^２，Ｒ^３は、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基を示し、Ｒ^４は、水素原子、シリル基、又はアルキル基を示し、Ｒ^５は、水酸基の保護基を示し、ｎは０又は１を示す。］

（２）上記一般式（２）において、Ｒ^２，Ｒ^３が置換基を有していてもよいアリール基であり、Ｒ^４が水素原子であることを特徴とする（１）記載の不斉触媒アルドール反応生成物の製造方法。

本発明に係る不斉触媒アルドール反応生成物の製造方法によれば、アルデヒド−アルデヒド間の不斉触媒アルドール反応において、求核剤としてアセトアルデヒドを用い、アルドール体を高い不斉収率で得ることが可能である。

本発明に係る不斉触媒アルドール反応生成物の製造方法は、下記一般式（１）で表されるアルデヒドとアセトアルデヒドとを、下記一般式（２）で表される不斉触媒又はそのエナンチオマーの存在下で反応させ、下記一般式（３）で表される化合物又はそのエナンチオマーを得ることを特徴とするものである。

＜一般式（１）で表されるアルデヒド＞
上記一般式（１）中、Ｒ^１は、置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシアルキル基、アルコキシアルケニル基、アルコキシアルキニル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルコキシカルボニルアルケニル基、アルコキシカルボニルアルキニル基、アシル基、アシルアルキル基、アシルアルケニル基、アシルアルキニル基、アミド基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルキルアルケニル基、シクロアルキルアルキニル基、ヘテロシクロアルキルアルキル基、ヘテロシクロアルキルアルケニル基、ヘテロシクロアルキルアルキニル基、シクロアルケニルアルキル基、シクロアルケニルアルケニル基、シクロアルケニルアルキニル基、ヘテロシクロアルケニルアルキル基、ヘテロシクロアルケニルアルケニル基、ヘテロシクロアルケニルアルキニル基、アリールアルキル基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、ヘテロアリールアルキル基、ヘテロアリールアルケニル基、又はヘテロアリールアルキニル基を示す。

本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「アルキル基」は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。アルキル基の炭素数に特に制限はないが、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜６である。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｎ−へキシル基、ｎ−ヘプチル基等が挙げられる。
このアルキル基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、アルコキシ基、アシル基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、水酸基等が挙げられる。

本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「アルケニル基」は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。アルケニル基の炭素数に特に制限はないが、好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜６である。アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基、イソプロペニル、１−ブテニル基、イソブテニル基等が挙げられる。
このアルケニル基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、アルキル基の置換基として上述した基が挙げられる。

本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「アルキニル基」は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。アルキニル基の炭素数に特に制限はないが、好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜６である。アルキニル基の例としては、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、イソプロピニル基、１−ブチニル基、イソブチニル基等が挙げられる。
このアルキニル基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、アルキル基の置換基として上述した基が挙げられる。

本明細書において、「アルコキシ基」は、上記アルキル基に酸素原子が結合した一価の基を示し、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、イソペントキシ基、ｎ−ヘキトキシ基、ｎ−ヘプトキシ基等が挙げられる。

本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「アシル基」は、カルボン酸から水酸基を除いた基を示す。アシル基の炭素数に特に制限はないが、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０である。アシル基の例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、フロイル基等が挙げられる。
このアシル基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオ基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、水酸基等が挙げられる。

本明細書において、「アミド基」は、アミノ基の１つの水素原子が上記アシル基によって置換された基を示し、ホルミルアミド基、アセトアミド基、プロピオンアミド基、ブチルアミド基、イソブチルアミド基、バレルアミド基、イソバレルアミド基、ピバロイルアミド基、ベンズアミド基、ナフトアミド基、フルアミド基等が挙げられる。

本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「シクロアルキル基」は、非芳香族の飽和環式炭化水素基を示す。シクロアルキル基の炭素数に特に制限はないが、好ましくは炭素数３〜１０、より好ましくは炭素数３〜６である。シクロアルキル基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基等が挙げられる。
このシクロアルキル基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アシル基、アシルアルキル基、アルキルチオ基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、水酸基等が挙げられる。

本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「ヘテロシクロアルキル基」は、上記シクロアルキル基の環上の１以上の炭素原子がヘテロ原子によって置換されている基を示す。ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子が挙げられる。ヘテロシクロアルキル基の例としては、テトラヒドロフリル基、モルホリニル基、ピペラジニル基、ピペリジル基、ピロリジニル基等が挙げられる。
このヘテロシクロアルキル基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、シクロアルキル基の置換基として上述した基が挙げられる。

本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「シクロアルケニル基」は、非芳香族の不飽和環式炭化水素基を示す。環上の不飽和結合は１つであってもよく、２以上であってもよい。シクロアルケニル基の炭素数に特に制限はないが、好ましくは炭素数３〜１０、より好ましくは炭素数３〜６である。シクロアルケニル基の例としては、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロへキセニル基、シクロヘプテニル基等が挙げられる。
このシクロアルケニル基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、シクロアルキル基の置換基として上述した基が挙げられる。

本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「ヘテロシクロアルケニル基」は、上記シクロアルケニル基の環上の１以上の炭素原子がヘテロ原子によって置換されている基を示す。ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子が挙げられる。ヘテロシクロアルケニル基の例としては、ジヒドロフリル基、イミダゾリル基、ピロリニル基、ピラゾリニル基等が挙げられる。
このヘテロシクロアルケニル基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、シクロアルキル基の置換基として上述した基が挙げられる。

本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「アリール基」は、芳香族炭化水素基を示し、２以上の環が縮合していてもよい。アリール基の炭素数に特に制限はないが、好ましくは炭素数５〜１４、より好ましくは炭素数６〜１０である。アリール基の例としては、フェニル基、インデニル基、ナフチル基、フェナントリル基、アントリル基等が挙げられる。
このアリール基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アシル基、アシルアルキル基、アルキルチオ基、アルキレンジオキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、水酸基等が挙げられる。

本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「ヘテロアリール基」は、上記アリール基の環上の１以上の炭素原子がヘテロ原子によって置換されている基を示す。ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子が挙げられる。ヘテロアリール基の例としては、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、トリアジニル基、テトラゾリル基、オキサゾリル基、インドリジニル基、インドリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、プリニル基、キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、ベンズイミダゾリル基、フリル基、チエニル基等が挙げられる。
このヘテロアリール基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、アリール基の置換基として上述した基が挙げられる。

＜一般式（２）で表される不斉触媒＞
上記一般式（２）中、Ｒ^２，Ｒ^３は、それぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基を示す。これらの基は、上記の定義通りである。
これらの基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよく、電子吸引性基によって置換されているものが好ましい。電子吸引基としては、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基等が挙げられる。

また、上記一般式（２）中、Ｒ^４は、水素原子、シリル基、又はアルキル基を示す。
本明細書において、「シリル基」は、Ｈ_３Ｓｉ−で表される基、又はこの基の１以上の水素原子がアルキル基、アリール基等によって置換された基を示す。シリル基の例としては、トリメチルシリル（ＴＭＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、ｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔ−ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基等が挙げられる。

また、上記一般式（２）中、Ｒ^５は、水酸基の保護基を示し、ｎは０又は１を示す。
水酸基の保護基としては、アルキル基、アシル基、シリル基等の通常用いられている保護基を用いることができる。
ｎ＝１である場合、ＯＲ^５基の置換位置は、３位又は４位のいずれであってもよい。

この不斉触媒としては、Ｒ^２，Ｒ^３が置換基を有していてもよいアリール基であり、Ｒ^４が水素原子であるものが、その不斉収率の高さから好ましい。

この一般式（２）で表される不斉触媒は、プロリン又はその誘導体（３−ヒドロキシプロリン、４−ヒドロキシプロリン等）を出発原料として製造することができる（（ａ）Ｇｏｔｏｈ，Ｈ．；Ｍａｓｕｉ，Ｒ．；Ｏｇｉｎｏ，Ｈ．；Ｓｈｏｊｉ，Ｍ．；Ｈａｙａｓｈｉ，Ｙ．；Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．，Ｉｎｔ．Ｅｄ．；２００６，４５，ｐ．６８５３、（ｂ）Ｈａｙａｓｈｉ，Ｙ．；Ｏｋａｎｏ，Ｔ．；Ａｒａｔａｋｅ，Ｓ．；Ｈａｚｅｌａｒｄ，Ｄ．；Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．，Ｉｎｔ．Ｅｄ．；２００７，４６，ｐ．４９２２、（ｃ）Ｇｏｔｏｈ，Ｈ．；Ｈａｙａｓｈｉ，Ｙ．；Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．；２００７，９，ｐ．２８５９、等を参照）。

＜反応条件等＞
上述したように、本発明に係る不斉触媒アルドール反応生成物の製造方法は、上記一般式（１）で表されるアルデヒドとアセトアルデヒドとを、上記一般式（２）で表される不斉触媒又はそのエナンチオマーの存在下で反応させ、上記一般式（３）で表される化合物又はそのエナンチオマーを得るものである。
なお、上記一般式（２）で表される化合物を不斉触媒として用いた場合には、上記一般式（３）で表される化合物が得られ、上記一般式（２）で表される化合物のエナンチオマーを不斉触媒として用いた場合には、上記一般式（３）で表される化合物のエナンチオマーが得られる。

アセトアルデヒドの使用量は、上記一般式（１）で表されるアルデヒドに対して１〜５０当量であることが好ましく、１〜１０当量であることがより好ましい。また、不斉触媒の使用量は、上記一般式（１）で表されるアルデヒドに対して０．０１〜１当量であることが好ましく、０．０５〜０．３当量であることがより好ましい。

この反応は、溶媒中で行ってもよく、無溶媒で行ってもよい。溶媒としては、水、メタノール、ジクロロメタン、クロロホルム、ジエチルエーテル、酢酸エチル、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、アセトン、アセトニトリル、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）等が挙げられる。この中でも、ＤＭＦが特に好ましい。

反応温度は、−１０〜４０℃であることが好ましく、０〜３０℃であることがより好ましい。反応温度が高過ぎると副反応が生じやすく、収率低下を招くことがある。一方、反応温度が低過ぎると反応速度が低下する。
反応時間は、用いるアルデヒド、不斉触媒等の条件に依存するが、通常は１２〜１２０時間である。
反応雰囲気は、特に限定されないが、不活性ガス雰囲気が好ましい。不活性ガスとしては、窒素、ヘリウム、アルゴン等を用いることができる。

本発明に係る不斉触媒アルドール反応生成物の製造方法によれば、上記一般式（２）で表される不斉触媒又はそのエナンチオマーを用いることにより、求核剤としてアセトアルデヒドを用いたアルデヒド−アルデヒド間の不斉触媒アルドール反応において、アルドール体を高い不斉収率で得ることができる。なお、上記一般式（１）で表されるアルデヒドにおいてＲ^１がメチル基である場合、アセトアルデヒドの自己アルドール反応となるが、本発明では、このような自己アルドール反応であっても、アルドール体を高い不斉収率で得ることができる。このようにして得られたアルドール体は、医薬品、農薬等の合成中間体となり得る。

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。

本実施例では、上記一般式（２）で表される不斉触媒として、以下の４種類の触媒を用いた。

このうち、触媒３は、Ａｌｄｒｉｃｈ社から購入した（製品番号３６８１９９）。また、触媒１，２，４は、文献（Ｌｉ，Ｋ．；Ｚｈｏｕ，Ｚ．；Ｗａｎｇ，Ｌ．；Ｃｈｅｎ，Ｑ．；Ｚｈａｏ，Ｇ．；Ｚｈｏｕ，Ｑ．；Ｔａｎｇ，Ｃ．；Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ；２００３，１４，ｐ．９５）を参照して製造した。

＜試験例１＞
下記反応式に示すように、ｏ−クロロベンズアルデヒドとアセトアルデヒドとを、上記触媒１〜４、又はプロリンの存在下で反応させ、アルドール体を得た。但し、アルドール体は不安定なため、対応するジオールに還元した後に単離した。

上記反応は、特に明記しない限り、ｏ−クロロベンズアルデヒド（０．４ｍｍｏｌ）とアセトアルデヒド（２．０ｍｍｏｌ）とを、４℃にて、触媒（０．０４ｍｍｏｌ、１０ｍｏｌ％）を含む溶媒（０．４ｍｌ）中で７２時間反応させることにより行った。反応雰囲気はアルゴンとした。結果を表１に示す。

^ａ単離収率。
^ｂキラルＨＰＬＣの結果から求めた。
^ｃ触媒の添加量をｏ−クロロベンズアルデヒドに対して３０ｍｏｌ％とした。
^ｄ無溶媒で行った。
^ｅ５当量の水を用いた。

表１から分かるように、不斉触媒としてプロリンを用いた場合には、得られるアルドール体の収率が低く、不斉収率も低かった（エントリー１）。なお、この反応では、自己アルドール反応及び脱水素反応によって得られるクロトンアルデヒドも生成していた。一方、不斉触媒として触媒１〜４を用いた場合には、高い不斉収率でアルドール体を得ることができ、特に触媒１を用いたときの収率が高かった（エントリー２〜１０）。また、触媒１について種々の溶媒を比較したところ、溶媒としてはＤＭＦが最も好ましかった（エントリー２）。

＜試験例２＞
下記反応式に示すように、種々のアルデヒドとアセトアルデヒドとを、上記触媒１の存在下で反応させ、アルドール体を得た。但し、アルドール体は不安定なため、対応するジオールに還元した後に単離した（エントリー１〜１５）。エントリー１６については、対応するジオールに還元し、さらにジベンゾイルエステルに変換した後に単離した。

エントリー１，１６以外の上記反応は、特に明記しない限り、アルデヒド（０．４ｍｍｏｌ）とアセトアルデヒド（２．０ｍｍｏｌ）とを、所定の温度にて、触媒１（０．０４ｍｍｏｌ、１０ｍｏｌ％）を含むＤＭＦ（０．４ｍｌ）中で反応させることにより行った。反応雰囲気はアルゴンとした。結果を表２に示す。

^ａ単離収率。
^ｂキラルＨＰＬＣの結果から求めた。
^ｃアセトアルデヒド（５当量）を２４時間毎に３回加えた。
^ｄ触媒の添加量をアルデヒドに対して３０ｍｏｌ％とした。
^ｅ溶媒としてＤＭＦ以外に５当量の水を添加した。
^ｆ市販の水溶液（６０質量％）を用いた。
^ｇ溶媒としてＮＭＰを用い、ジベンゾイルエステルとして単離した。

表２から分かるように、電子不足な芳香族アルデヒド及びオレフィンアルデヒドの双方で、良好な結果が得られた。ベンズアルデヒドや２−ナフトアルデヒドを用いた場合、アセトアルデヒド（５当量）を２４時間毎に３回加える必要があったものの、アルドール体が高い不斉収率かつ中程度の収率で得られた（エントリー１，６）。４−ピリジンカルボアルデヒドのようなヘテロ芳香族アルデヒドも、求電子的なアルデヒドとして使用することができた（エントリー１３）。また、アセトアルデヒドを用いた場合にも、自己アルドール反応の結果、アルドール体が高い不斉収率かつ中程度の収率で得られた（エントリー１６）。

以下、表２のエントリー１〜１６におけるアルドール体の製造方法及び同定結果（ＮＭＲ、ＩＲ、ＨＲＭＳ）を示す。

＜（Ｒ）−１−フェニルプロパン−１，３−ジオール（エントリー１）の製造＞
触媒１（９５ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）及びベンズアルデヒド（６１ｍｌ、０．６０ｍｍｏｌ）を含むＤＭＦ（０．６０ｍｌ）中に、アセトアルデヒド（１６８ｍｌ、３．０ｍｍｏｌ）を２３℃にて加え、反応液を撹拌した。２４時間後及び４８時間後に、反応液中にアセトアルデヒド（１６８ｍｌ、３．０ｍｍｏｌ）を加えた。さらに２４時間（合計では７２時間）撹拌した後、反応液を０℃に冷却し、メタノール（１ｍｌ）及びＮａＢＨ_４（１１１ｍｇ、３．０ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１時間撹拌した。その後、ｐＨ７．０のリン酸緩衝液を加えて反応を停止させた。そして、有機物を酢酸エチルで３回抽出した後、有機層（酢酸エチル層）を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。その後、有機層を濾過し、溶媒を減圧留去した。残渣を薄層クロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）で精製し、（Ｒ）−１−フェニルプロパン−１，３−ジオール（４９ｍｇ、０．３２ｍｍｏｌ）を収率５３％、９９％ｅｅで得た。

同定は、文献（Ｃｈｅｎｇｆｕ，Ｘ．；Ｃｈｅｎｇｙｅ，Ｙ．；Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ；２００５，６１，ｐ．２１６９）に基づいて行った。

不斉収率は、得られた化合物の１級アルコール性水酸基をモノベンゾイルエステルに変換した後、ＣｈｉｒａｌｐａｃＡＤ−Ｈカラムを用いたＨＰＬＣ（λ＝２３１ｎｍ、ヘキサン：２−プロパノール＝３０：１、流速１．０ｍｌ／分）の結果から求めた。Ｔ_Ｒ１＝２８．２分（ｍａｊｏｒ），Ｔ_Ｒ２＝３６．８分（ｍｉｎｏｒ）。

＜（Ｒ）−１−（４−ニトロフェニル）プロパン−１，３−ジオール（エントリー２）の製造＞
触媒１（２１ｍｇ、０．０４ｍｍｏｌ）及び４−ニトロベンズアルデヒド（６０ｍｇ、０．４０ｍｍｏｌ）を含むＤＭＦ（０．４０ｍｌ）中に、アセトアルデヒド（１１２μｌ、２．０ｍｍｏｌ）を４℃にて加えた。反応液を２４時間撹拌した後、反応液を０℃に冷却し、メタノール（１ｍｌ）及びＮａＢＨ_４（７４ｍｇ、２．０ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１時間撹拌した。その後、ｐＨ７．０のリン酸緩衝液を加えて反応を停止させた。そして、有機物を酢酸エチルで３回抽出した後、有機層（酢酸エチル層）を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。その後、有機層を濾過し、溶媒を減圧留去した。残渣を薄層クロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）で精製し、（Ｒ）−１−（４−ニトロフェニル）プロパン−１，３−ジオール（７５ｍｇ、０．３４ｍｍｏｌ）を収率８５％、９６％ｅｅで得た。

^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．９２−１．９９（２Ｈ，ｍ），３．７２（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），３．９０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），５．０５−５．１２（１Ｈ，ｍ），７．５４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．１６−８．２２（２Ｈ，ｍ）；
^１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ４０．２，６１．２，７３．３，１２３．７（２Ｃ），１２６．４（２Ｃ），１４７．２，１５１．７；
ＩＲ（ＫＢｒ）：ν３３７３，１６８０，１６０４，１５１８，１３４８，１０５１，８５４，７５０，７０１，４１４ｃｍ^−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］^＋計算値Ｃ_９Ｈ_１１ＮＯ_４Ｎａ：２２０．０５８０，実測値：２２０．０５６５；
［α］_Ｄ ^２４＝＋２１．７（ｃ＝０．８７，ＭｅＯＨ）．

不斉収率は、得られた化合物の１級アルコール性水酸基をモノベンゾイルエステルに変換した後、ＣｈｉｒａｌｐａｃＡＤ−Ｈカラムを用いたＨＰＬＣ（λ＝２３４ｎｍ、ヘキサン：２−プロパノール＝２０：１、流速１．０ｍｌ／分）の結果から求めた。Ｔ_Ｒ１＝１４．３分（ｍａｊｏｒ），Ｔ_Ｒ２＝１５．９分（ｍｉｎｏｒ）。

＜（Ｒ）−１−（４−トリフルオロメチルフェニル）プロパン−１，３−ジオール（エントリー３）の製造＞
４−ニトロベンズアルデヒドの代わりに４−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドを用いたほかは、エントリー２と同様にして（Ｒ）−１−（４−トリフルオロメチルフェニル）プロパン−１，３−ジオールを収率７４％、９９％ｅｅで得た。

^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．８９−２．０２（２Ｈ，ｍ），２．５５（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），３．４９（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），３．８１−３．９１（２Ｈ，ｍ），５．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，７．６Ｈｚ），７．４７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）；
^１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ４０．３，６１．２，７３．５，１２２．８（２Ｃ），１２５．３−１２５．６（１Ｃ，ｍ），１２５．９（２Ｃ），１２９．５−１２９．９（１Ｃ，ｍ），１４８．３；
ＩＲ（ＫＢｒ）：ν３３３１，１６２１，１５５９，１４１９，１３２７，１１６４，１１２４，１０６８，１０１７，８３４ｃｍ^−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］^＋計算値Ｃ_１０Ｈ_１１Ｆ_３Ｏ_２Ｎａ：２４３．０６０３，実測値：２４３．０５８７；
［α］_Ｄ ^２４＝＋２５．３（ｃ＝１．５６，ＭｅＯＨ）．

不斉収率は、得られた化合物の１級アルコール性水酸基をモノベンゾイルエステルに変換した後、ＣｈｉｒａｌｐａｃＡＳ−Ｈカラムを用いたＨＰＬＣ（λ＝２５４ｎｍ、ヘキサン：２−プロパノール＝５０：１、流速１．０ｍｌ／分）の結果から求めた。Ｔ_Ｒ１＝１０．９分（ｍａｊｏｒ），Ｔ_Ｒ２＝１３．０分（ｍｉｎｏｒ）。

＜（Ｒ）−１−（４−ブロモフェニル）プロパン−１，３−ジオール（エントリー４）の製造＞
４−ニトロベンズアルデヒドの代わりに４−ブロモベンズアルデヒドを用い、触媒の添加量を４−ブロモベンズアルデヒドに対して３０ｍｏｌ％としたほかは、エントリー２と同様にして（Ｒ）−１−（４−ブロモフェニル）プロパン−１，３−ジオールを収率７７％、９７％ｅｅで得た。

^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．８６−２．０４（２Ｈ，ｍ），２．９７（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），３．８１−３．９２（２Ｈ，ｍ），４．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．０，８．４Ｈｚ），７．２５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．４８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）；
^１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ４０．３，６１．２，７３．５，１２１．２（２Ｃ），１２７．４（２Ｃ），１３１．５，１４３．３；
ＩＲ（ＫＢｒ）：ν３３９９，２９４９，１６５２，１５９２，１４８８，１４０４，１２８０，１０７２，１０１１，８２４ｃｍ^−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］^＋計算値Ｃ_９Ｈ_１１ＢｒＯ_２Ｎａ：２５２．９８３５，実測値：２５２．９８１０；
［α］_Ｄ ^２３＝＋１９．１（ｃ＝１．３３，ＭｅＯＨ）．

不斉収率は、得られた化合物の１級アルコール性水酸基をモノベンゾイルエステルに変換した後、ＣｈｉｒａｌｃｅｌＯＪ−Ｈカラムを用いたＨＰＬＣ（λ＝２２７ｎｍ、ヘキサン：２−プロパノール＝３０：１、流速１．０ｍｌ／分）の結果から求めた。Ｔ_Ｒ１＝４８．７分（ｍａｊｏｒ），Ｔ_Ｒ２＝５２．７分（ｍｉｎｏｒ）。

＜（Ｒ）−１−（４−トリフルオロメタンスルホニルフェニル）プロパン−１，３−ジオール（エントリー５）の製造＞
４−ニトロベンズアルデヒドの代わりに４−トリフルオロメタンスルホニルベンズアルデヒドを用い、触媒の添加量を４−トリフルオロメタンスルホニルベンズアルデヒドに対して３０ｍｏｌ％としたほかは、エントリー２と同様にして（Ｒ）−１−（４−トリフルオロメタンスルホニルフェニル）プロパン−１，３−ジオールを収率７１％、９８％ｅｅで得た。

^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．６４−１．７６（２Ｈ，ｍ），２．０６（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），３．４２（１Ｈ，ｓ），３．７８−３．８５（２Ｈ，ｍ），４．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，１０．４Ｈｚ），７．１４−７．２４（２Ｈ，ｍ），７．４０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）；
^１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ４６．１，６２．１，７４．６，１２１．７（２Ｃ），１２７．９（２Ｃ），１４４．２，１５１．２；
ＩＲ（ＫＢｒ）：ν３３７３，１６８０，１６０４，１５１８，１３４８，１０５１，８５４，７５０，７０１，４１４ｃｍ^−１；

不斉収率は、得られた化合物の１級アルコール性水酸基をモノベンゾイルエステルに変換した後、ＣｈｉｒａｌｐａｃＡＳ−Ｈカラムを用いたＨＰＬＣ（λ＝２５４ｎｍ、ヘキサン：２−プロパノール＝５０：１、流速１．０ｍｌ／分）の結果から求めた。Ｔ_Ｒ１＝２５．７分（ｍａｊｏｒ），Ｔ_Ｒ２＝２７．２分（ｍｉｎｏｒ）。

＜（Ｒ）−１−（ナフタレン−２−イル）プロパン−１，３−ジオール（エントリー６）の製造＞
４−ニトロベンズアルデヒドの代わりに２−ナフトアルデヒドを用い、アセトアルデヒド（５当量）を２４時間毎に３回加えたほかは、エントリー２と同様にして（Ｒ）−１−（ナフタレン−２−イル）プロパン−１，３−ジオールを収率５０％、９７％ｅｅで得た。

^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．９８−２．１７（２Ｈ，ｍ），３．８５−３．９３（２Ｈ，ｍ），３．０１（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），５．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．０，８．４Ｈｚ），７．４３−７．５２（３Ｈ，ｍ），７．７９−７．８７（４Ｈ，ｍ）；
^１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ４０．３，６１．４，７４．３，１２３．８，１２３．９，１２４．２，１２５．８，１２７．６，１２７．９，１２８．３，１３２．９，１３３．２，１４１．６；
ＩＲ（ＫＢｒ）：ν３２８９，２９２８，１１２２，１０７２，１０３８，９８３，８６０，８２６，７４３，４８４ｃｍ^−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］^＋計算値Ｃ_１３Ｈ_１４Ｏ_２Ｎａ：２２５．０８８６，実測値：２２５．０８７３；
［α］_Ｄ ^２４＝＋２１．８（ｃ＝１．０１，ＭｅＯＨ）．

不斉収率は、ＣｈｉｒａｌｐａｃＩＣカラムを用いたＨＰＬＣ（λ＝２７２ｎｍ、ヘキサン：２−プロパノール＝１０：１、流速１．０ｍｌ／分）の結果から求めた。Ｔ_Ｒ１＝１４．７分（ｍｉｎｏｒ），Ｔ_Ｒ２＝１７．９分（ｍａｊｏｒ）。

＜（Ｒ）−１−（２−クロロフェニル）プロパン−１，３−ジオール（エントリー７）の製造＞
４−ニトロベンズアルデヒドの代わりに２−クロロベンズアルデヒドを用いたほかは、エントリー２と同様にして（Ｒ）−１−（２−クロロフェニル）プロパン−１，３−ジオールを収率８５％、９９％ｅｅで得た。

^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．８８−１．９８（１Ｈ，ｍ），２．０１−２．１１（１Ｈ，ｍ），２．２８（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），３．８６−３．９７（２Ｈ，ｍ），５．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，８．８Ｈｚ），７．２１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．６，７．６Ｈｚ），７．２８−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．６，７．６Ｈｚ）；
^１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ３８．５，６１．６，７１．０，１２７．０６，１２７．１１，１２８．５，１２９．４，１３１．４，１４１．６；
ＩＲ（ＫＢｒ）：ν３３６６，２９５４，１５７３，１４７３，１４３９，１１９３，１１２９，１０３４，９７８，７５４ｃｍ^−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］^＋計算値Ｃ_９Ｈ_１１ＣｌＯ_２Ｎａ：２０９．０３４０，実測値：２０９．０３３６；
［α］_Ｄ ^２４＝＋６０．８（ｃ＝０．６７，ＭｅＯＨ）．

不斉収率は、得られた化合物の１級アルコール性水酸基をモノベンゾイルエステルに変換した後、ＣｈｉｒａｌｐａｃＡＤ−Ｈカラムを用いたＨＰＬＣ（λ＝２５４ｎｍ、ヘキサン：２−プロパノール＝３０：１、流速１．０ｍｌ／分）の結果から求めた。Ｔ_Ｒ１＝２４．９分（ｍｉｎｏｒ），Ｔ_Ｒ２＝２７．１分（ｍａｊｏｒ）。

＜（Ｒ）−１−（２−ニトロフェニル）プロパン−１，３−ジオール（エントリー８）の製造＞
４−ニトロベンズアルデヒドの代わりに２−ニトロベンズアルデヒドを用いたほかは、エントリー２と同様にして（Ｒ）−１−（２−ニトロフェニル）プロパン−１，３−ジオールを収率８９％、９７％ｅｅで得た。

^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．９４−２．０６（１Ｈ，ｍ），２．０８−２．１７（２Ｈ，ｍ），３．４５（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），３．９１−４．０６（２Ｈ，ｍ），５．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．８Ｈｚ），７．４３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．２，８．０Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．２，８．０Ｈｚ），７．９３（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．２，８．０Ｈｚ）；
^１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ３９．６，６１．８，６９．６，１２４．３，１２８．１，１２８．２，１３３．６，１３９．８，１４７．４；
ＩＲ（ＫＢｒ）：ν３３７５，２９６２，１６０９，１５２４，１３４７，１１９２，１０５５，８５７，７９０，７４３ｃｍ^−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］^＋計算値Ｃ_９Ｈ_１１ＮＯ_４Ｎａ：２２０．０５８０，実測値：２２０．０５６５；
［α］_Ｄ ^２３＝−５３．０（ｃ＝２．０８，ＭｅＯＨ）．

不斉収率は、得られた化合物の１級アルコール性水酸基をモノベンゾイルエステルに変換した後、ＣｈｉｒａｌｐａｃＡＤ−Ｈカラムを用いたＨＰＬＣ（λ＝２８９ｎｍ、ヘキサン：２−プロパノール＝２０：１、流速１．０ｍｌ／分）の結果から求めた。Ｔ_Ｒ１＝１７．９分（ｍａｊｏｒ），Ｔ_Ｒ２＝１９．９分（ｍｉｎｏｒ）。

＜（Ｒ）−１−（３−ニトロフェニル）プロパン−１，３−ジオール（エントリー９）の製造＞
４−ニトロベンズアルデヒドの代わりに３−ニトロベンズアルデヒドを用いたほかは、エントリー２と同様にして（Ｒ）−１−（３−ニトロフェニル）プロパン−１，３−ジオールを収率８９％、９７％ｅｅで得た。

^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．９４−２．０９（２Ｈ，ｍ），３．３９（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），３．９３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），５．０７−５．１５（１Ｈ，ｍ），７．５３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．１０−８．１６（１Ｈ，ｍ），８．２７（１Ｈ，ｍ）；
^１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ４０．３，６１．３，７３．２，１２０．７，１２２．４，１２９．４，１３１．８，１４６．６，１４８．４；
ＩＲ（ＫＢｒ）：ν３３３４，３２２８，１５３５，１３４０，１１０３，１０８８，１０６５，８９３，８１７，７３７ｃｍ^−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］^＋計算値Ｃ_９Ｈ_１１ＮＯ_４Ｎａ：２２０．０５８０，実測値：２２０．０５５７；
［α］_Ｄ ^２４＝＋２９．５（ｃ＝０．７７，ＭｅＯＨ）．

不斉収率は、得られた化合物の１級アルコール性水酸基をモノベンゾイルエステルに変換した後、ＣｈｉｒａｌｐａｃＡＤ−Ｈカラムを用いたＨＰＬＣ（λ＝２５４ｎｍ、ヘキサン：２−プロパノール＝２０：１、流速１．０ｍｌ／分）の結果から求めた。Ｔ_Ｒ１＝２４．２分（ｍｉｎｏｒ），Ｔ_Ｒ２＝３２．９分（ｍａｊｏｒ）。

＜（Ｒ）−１−（２，６−ジクロロフェニル）プロパン−１，３−ジオール（エントリー１０）の製造＞
４−ニトロベンズアルデヒドの代わりに２，６−ジクロロベンズアルデヒドを用いたほかは、エントリー２と同様にして（Ｒ）−１−（２，６−ジクロロフェニル）プロパン−１，３−ジオールを収率８２％、９６％ｅｅで得た。

^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．９４−２．０２（１Ｈ，ｍ），２．４１−２．５２（１Ｈ，ｍ），３．９１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），５．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，１０．０Ｈｚ），７．１１−７．１８（１Ｈ，ｍ），７．３１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）；
^１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ３７．２，６１．０，７１．０，１２９．０（２Ｃ），１２９．５（２Ｃ），１３４．２，１３７．４；
ＩＲ（ＫＢｒ）：ν３３５９，３１８７，１５７９，１５６０，１４３６，１０９２，１０７４，１０４０，９７２，８７２ｃｍ^−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］^＋計算値Ｃ_９Ｈ_１０Ｃ_１２Ｏ_２Ｎａ：２４２．９９５０，実測値：２４２．９９４９；
［α］_Ｄ ^２２＝−８．２（ｃ＝１．０４，ＭｅＯＨ）．

不斉収率は、得られた化合物の１級アルコール性水酸基をモノベンゾイルエステルに変換した後、ＣｈｉｒａｌｐａｃＡＤ−Ｈカラムを用いたＨＰＬＣ（λ＝２３７ｎｍ、ヘキサン：２−プロパノール＝５０：１、流速１．０ｍｌ／分）の結果から求めた。Ｔ_Ｒ１＝１６．１分（ｍａｊｏｒ），Ｔ_Ｒ２＝１７．５分（ｍｉｎｏｒ）。

＜（Ｒ）−１−（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）プロパン−１，３−ジオール（エントリー１１）の製造＞
４−ニトロベンズアルデヒドの代わりに３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドを用いたほかは、エントリー２と同様にして（Ｒ）−１−（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）プロパン−１，３−ジオールを収率７６％、９９％ｅｅで得た。

^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．９３−２．０１（２Ｈ，ｍ），３．９２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），５．１０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｓ），７．８３（２Ｈ，ｓ）；
^１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ４０．２，６１．２，７３．０，１２１．３（２Ｃ），１２３．３（１Ｃ，ｑ，Ｊ＝２７２Ｈｚ），１２５．８（２Ｃ），１３１．６（１Ｃ，ｑ，Ｊ＝３３Ｈｚ），１４７．０；
ＩＲ（ＫＢｒ）：ν３３８３，２９４８，１６６７，１６２３，１５０４，１３７８，１２７９，１１７９，１１２７，９０１ｃｍ^−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］^＋計算値Ｃ_１１Ｈ_１０Ｆ_６Ｏ_２Ｎａ］：３１１．０４７７，実測値：３１１．０４７３；
［α］_Ｄ ^２３＝＋２５．３（ｃ＝１．６６，ＭｅＯＨ）．

不斉収率は、得られた化合物の１級アルコール性水酸基をモノベンゾイルエステルに変換した後、ＣｈｉｒａｌｐａｃＡＳ−Ｈカラムを用いたＨＰＬＣ（λ＝２５４ｎｍ、ヘキサン：２−プロパノール＝５０：１、流速１．０ｍｌ／分）の結果から求めた。Ｔ_Ｒ１＝６．４分（ｍａｊｏｒ），Ｔ_Ｒ２＝６．９分（ｍｉｎｏｒ）。

＜（Ｒ）−１−（ペンタフルオロフェニル）プロパン−１，３−ジオール（エントリー１２）の製造＞
４−ニトロベンズアルデヒドの代わりにペンタフルオロベンズアルデヒドを用い、溶媒としてＤＭＦ以外に５当量の水を添加したほかは、エントリー２と同様にして（Ｒ）−１−（ペンタフルオロフェニル）プロパン−１，３−ジオールを収率９１％、９８％ｅｅで得た。

^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．８７−１．９８（１Ｈ，ｍ），２．２４−２．３８（１Ｈ，ｍ），３．８０−３．８７（１Ｈ），３．８８−３．９５（１Ｈ，ｍ），５．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，９．６Ｈｚ）；
^１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ３７．９，６０．７，６５．０，１３６．３，１３８．８，１３９．３，１４１．８，１４３．５，１４６．１；
ＩＲ（ＫＢｒ）：ν３４１８，１６５４，１５２４，１５０４，１４１７，１３０３，１１２６，１０５５，９７９，６６４ｃｍ^−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］^＋計算値Ｃ_９Ｈ_７Ｆ_５Ｏ_２Ｎａ：２６５．０２５８，実測値：２６５．０２６２；
［α］_Ｄ ^２３＝＋２．８４（ｃ＝１．６９，ＭｅＯＨ）．

不斉収率は、得られた化合物の１級アルコール性水酸基をモノベンゾイルエステルに変換した後、ＣｈｉｒａｌｐａｃＡＤ−Ｈカラムを用いたＨＰＬＣ（λ＝２３３ｎｍ、ヘキサン：２−プロパノール＝５０：１、流速１．０ｍｌ／分）の結果から求めた。Ｔ_Ｒ１＝２９．２分（ｍｉｎｏｒ），Ｔ_Ｒ２＝３８．８分（ｍａｊｏｒ）。

＜（Ｒ）−１−（ピリジン−４−イル）プロパン−１，３−ジオール（エントリー１３）の製造＞
４−ニトロベンズアルデヒドの代わりに４−ピリジンカルボアルデヒドを用いたほかは、エントリー２と同様にして（Ｒ）−１−（ピリジン−４−イル）プロパン−１，３−ジオールを収率８３％、９９％ｅｅで得た。

^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．８６−１．９３（２Ｈ，ｍ），３．５９−３．６８（１Ｈ，ｍ），３．７１−３．８０（１Ｈ，ｍ），４．８４−４．８９（１Ｈ，ｍ），７．４１−７．４６（２Ｈ，ｍ），８．４５−８．５０（２Ｈ，ｍ）；
^１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ４２．４，４８．４，７０．７，１２２．６，１５０．０（２Ｃ），１５７．３（２Ｃ）；
ＩＲ（ＫＢｒ）：ν３３６９，１６０３，１４１４，１３５１，１２１９，１０９９，１０６９，１００５，８２６，６３５ｃｍ^−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｈ］^＋計算値Ｃ_８Ｈ_１２ＮＯ_２：１５４．０８６３，実測値：１５４．０８７５；
［α］_Ｄ ^２３＝＋３７．７（ｃ＝０．３５，ＭｅＯＨ）．

不斉収率は、ＣｈｉｒａｌｐａｃＡＳ−Ｈカラムを用いたＨＰＬＣ（λ＝２０９ｎｍ、ヘキサン：２−プロパノール＝１０：１、流速１．０ｍｌ／分）の結果から求めた。Ｔ_Ｒ１＝１９．４分（ｍａｊｏｒ），Ｔ_Ｒ２＝２１．４分（ｍｉｎｏｒ）。

＜（Ｒ，Ｚ）−４−ブロモ−５−フェニル−４−ペンテン−１，３−ジオール（エントリー１４）の製造＞
４−ニトロベンズアルデヒドの代わりに２−ブロモ−３−フェニルアクリルアルデヒドを用いたほかは、エントリー２と同様にして（Ｒ，Ｚ）−４−ブロモ−５−フェニル−４−ペンテン−１，３−ジオールを収率５３％、９８％ｅｅで得た。

^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ２．０３−２．１０（２Ｈ，ｍ），２．２０（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），３．２３（１Ｈ，ｂｒ−ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ），３．８３−３．９１（１Ｈ，ｍ），３．９１−３．９９（１Ｈ，ｍ），４．５５−４．６２（１Ｈ，ｍ），７．１８（１Ｈ，ｓ），７．２８−７．３４（１Ｈ，ｍ），７．３４−７．４０（２Ｈ，ｍ），７．５９−７．６５（２Ｈ，ｍ）；
^１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ３７．１，６０．６，７６．７，１２７．７，１２８．１（２Ｃ），１２８．２，１２９．０（２Ｃ），１２９．１，１３５．１；
ＩＲ（ＫＢｒ）：ν３３５２，１６４２，１４９３，１４４６，１２７９，１０５２，８６２，７９１，７５３，６９４ｃｍ^−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］^＋計算値Ｃ_１１Ｈ_１３ＢｒＯ_２Ｎａ：２７８．９９９１，実測値：２７８．９９８４；
［α］_Ｄ ^２３＝−５．３（ｃ＝０．９６，ＭｅＯＨ）．

不斉収率は、得られた化合物をジベンゾイルエステルに変換した後、ＣｈｉｒａｌｐａｃＩＣカラムを用いたＨＰＬＣ（λ＝２５９ｎｍ、ヘキサン：２−プロパノール＝３０：１、流速１．０ｍｌ／分）の結果から求めた。Ｔ_Ｒ１＝９．５分（ｍａｊｏｒ），Ｔ_Ｒ２＝１０．４分（ｍｉｎｏｒ）。

＜（Ｒ）−４，４−ジメトキシブタン−１，３−ジオール（エントリー１５）の製造＞
４−ニトロベンズアルデヒドの代わりにジメトキシアセトアルデヒドを用いたほかは、エントリー２と同様にして（Ｒ）−４，４−ジメトキシブタン−１，３−ジオールを収率９２％、８０％ｅｅで得た。

^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．６２−１．７４（１Ｈ，ｍ），１．７５−１．８９（１Ｈ，ｍ），２．７１（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），２．７５（１Ｈ，ｂｒ−ｓ），３．４２（３Ｈ，ｓ），３．４５（３Ｈ，ｓ），３．７７−３．８６（３Ｈ，ｍ），４．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）；
^１３ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ３４．０，５５．５，５５．６，６１．２，７１．４，１０７．１；
ＩＲ（ＫＢｒ）：ν３４２８，２９６０，２８４２，２３５９，１６４５，１４５５，１１９２，１１３９，１０６０，９６７ｃｍ^−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）：［Ｍ＋Ｎａ］^＋計算値Ｃ_６Ｈ_１４Ｏ_４Ｎａ：１７３．０７８４，実測値：１７３．０７９８；
［α］_Ｄ ^２１＝＋５６．２（ｃ＝０．５７，ＭｅＯＨ）．

不斉収率は、得られた化合物の１級アルコール性水酸基をモノベンゾイルエステルに変換した後、ＣｈｉｒａｌｐａｃＡＳ−Ｈカラムを用いたＨＰＬＣ（λ＝２５４ｎｍ、ヘキサン：２−プロパノール＝５０：１、流速１．０ｍｌ／分）の結果から求めた。Ｔ_Ｒ１＝８．９分（ｍａｊｏｒ），Ｔ_Ｒ２＝９．９分（ｍｉｎｏｒ）。

＜（Ｒ）−１，３−ブタンジオールジベンゾイルエステル（エントリー１６）の製造＞
触媒１（１０５ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を含む無水ＮＭＰ（２９７ｍｇ、３ｍｍｏｌ）中に、アセトアルデヒド（１８３μｌ、３．０ｍｍｏｌ）を４℃にて加えた。反応液を６日間撹拌した後、メタノール（２ｍｌ）及びＮａＢＨ_４（２６６ｍｇ、７．０ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌した。その後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジエチルエーテル：メタノール＝９９：１）で精製して、溶出液を得た。

この溶出液に、ピリジン（０．５ｍｌ）、ＤＭＡＰ（３０ｍｇ）、及び塩化ベンゾイル（９８０ｍｇ、７ｍｍｏｌ）を０℃にて加え、１時間撹拌した。その後、反応液に希塩酸（２Ｎ、１５ｍｌ）を加えて反応を停止させた。そして、有機物を酢酸エチルで３回抽出し、ブラインで洗浄した後、溶媒を減圧留去することにより、粗生成物を得た。この粗生成物に含水ＮａＨＣＯ_３（５ｍｌ）を含むＴＨＦ（５ｍｌ）を加え、５０℃で６時間加熱した。そして、有機物を酢酸エチルで３回抽出し、ブラインで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）で精製し、（Ｒ）−１，３−ブタンジオールジベンゾイルエステル（１７５ｍｇ）を収率５９％、８７％ｅｅで得た。

^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．４５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），２．１０−２．２７（２Ｈ，ｍ），４．３９−４．５３（２Ｈ，ｍ），５．３５−５．４３（１Ｈ，ｍ），７．３８−７．４３（４Ｈ，ｍ），７．５１−７．５６（２Ｈ，ｍ），８．０２（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）．

不斉収率は、ＣｈｉｒａｌＯＤ−Ｈカラムを用いたＨＰＬＣ（λ＝２５６ｎｍ、ヘキサン：２−プロパノール＝２０：１、流速１．０ｍｌ／分）の結果から求めた。Ｔ_Ｒ１＝５．２５分（ｍａｊｏｒ），Ｔ_Ｒ２＝６．４１分（ｍｉｎｏｒ）。

Claims

下記一般式（１）で表されるアルデヒドとアセトアルデヒドとを、下記一般式（２）で表される不斉触媒又はそのエナンチオマーの存在下で反応させ、下記一般式（３）で表される化合物又はそのエナンチオマーを得ることを特徴とする不斉触媒アルドール反応生成物の製造方法。

［式中、Ｒ^１は、置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシアルキル基、アルコキシアルケニル基、アルコキシアルキニル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルコキシカルボニルアルケニル基、アルコキシカルボニルアルキニル基、アシル基、アシルアルキル基、アシルアルケニル基、アシルアルキニル基、アミド基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルキルアルケニル基、シクロアルキルアルキニル基、ヘテロシクロアルキルアルキル基、ヘテロシクロアルキルアルケニル基、ヘテロシクロアルキルアルキニル基、シクロアルケニルアルキル基、シクロアルケニルアルケニル基、シクロアルケニルアルキニル基、ヘテロシクロアルケニルアルキル基、ヘテロシクロアルケニルアルケニル基、ヘテロシクロアルケニルアルキニル基、アリールアルキル基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、ヘテロアリールアルキル基、ヘテロアリールアルケニル基、又はヘテロアリールアルキニル基を示し、Ｒ^２，Ｒ^３は、それぞれ独立に置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Ｒ^４は、水素原子、シリル基、又はアルキル基を示し、Ｒ^５は、水酸基の保護基を示し、ｎは０又は１を示す。］
上記一般式（２）において、Ｒ ^４が水素原子であることを特徴とする請求項１記載の不斉触媒アルドール反応生成物の製造方法。