JP5168560B2 - 薄膜インダクタ及びその製造方法 - Google Patents
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Description
σ=(Lmax−Lmin)/(Lmax+Lmin)×100(%)
ここで、Lmaxは、個片サンプル中の最大インダクタンスを示し、Lminは、個片サンプル中の最小インダクタンスを示す。その結果、本発明の実施例による薄膜インダクタの製造方法では、σが4.38%であり、従来の比較例による薄膜インダクタの製造方法では、σが10.46%であった。このことから、本発明の薄膜インダクタの製造方法によれば、基板面内における薄膜インダクタの個片間の特性のばらつきを格段に(半分以下に)改善できることが確認された。
Claims (1)
- 磁性基板上に形成された突起部と、
前記突起部上にのみ積層されており、かつ、第1の絶縁層からなるギャップ層と、
前記突起部を巻回するように形成された導体コイルと、
前記導体コイルの周回間に充填された第2の絶縁層樹脂と、
前記導体コイル、前記第2の絶縁層、及び、前記ギャップ層が積層された突起部上に形成された磁性層と、
を備え、
前記導体コイルの高さと前記ギャップ層の高さが、同一又は略同一に形成されている、
薄膜インダクタ。
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