JP5162454B2 - ジアルコキシオルガノボランの合成方法 - Google Patents

ジアルコキシオルガノボランの合成方法 Download PDF

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Description

本発明は、ジアルコキシオルガノボランの合成方法、特に、エステル交換反応によるジアルコキシオルガノボランの合成方法に関する。さらに、本発明は、オルガノ−オキサザボロリジン触媒(オルガノ−CBS)及びトリアルキルボロキシンの合成方法に関する。さらにまた、本発明は、オルガノ−CBS触媒を製造するために及び鈴木型カップリング反応において、ジアルコキシオルガノボランを使用する方法に関する。
発明の背景
ジアルコキシオルガノボランは、有機合成用の用途の広い試薬であり、かつ例えば、抗生物質、殺虫剤及びオルガノボロヒドリドの合成におけるような多岐にわたる分野において使用されてきた。ジアルコキシメチルボランは、潜在的に、メチル置換されたキラルなオキサザボロリジンの合成に使用されることができ(Corey, Bakshi及びShibataの名をとったMeCBSとして知られる。Corey, E.J.他, Angew. Chem. Int. Ed., 37, 1986-2012 (1998)参照)、これらはケトン還元用の強力なエナンチオ選択的触媒である。ジアルコキシオルガノボランのための他の潜在的な使用は、鈴木型カップリング反応において、分子に有機基を導入して新しいC−C−結合を形成させることである(Miyaura, N.;Suzuki, A., Chem Rev. 95, 2457-2483 (1995))。
米国特許(US)第5,463,131号明細書には、オレフィンの存在で過剰のホウ酸トリアルキルをジボランと反応させることによるジアルコキシアルキルボランの製造が記載されており、例えば:
4B(OR)3 + B26 + 6C24 −→ 6Et−B(OR)2
(Rはアルキルである)
もちろん、ジアルコキシメチルボランは、その方法により製造されることができない。
ジアルコキシアルキルボランを製造する他の方法は、アルキルボロン酸(Brown, H.C.他, Organometallics 2(10), 1311-1316 (1983), Brown, H.C.他, Organometallics 2(10), 1316-1319 (1983))又はトリアルキルボロキシン(Dahlhoff, W.V.他, Liebigs Ann. Chem. 8, 807-810 (1990))を、適切なアルコールでエステル化することを含む。
R−B(OH)2 + 2R′OH −→ R−B(OR′)2 + 2H2
(R−BO)3 + 6R′OH −→ 3R−B(OR′)2 + 3H2
(R、R′はアルキルである)
水はこれらの反応において発生し、この水は、痕跡量のみの水が残留する場合ですら、極めて頻繁に生成物のさらなる使用を妨げる。
水は、ジアルコキシアルキルボランから製造されることができるアルキル−CBS触媒の機能に特に有害である。この理由のために、Coreyは、副生物としての水の形成を回避するために、エチル−CBS誘導体及びn−ブチル−CBS誘導体の合成のためのビス(トリフルオロエトキシ)アルキルボランの使用を提案した(Corey, E.J.他, Tetrahedron Lett. 33(29), 4141-4144 (1992))。アルキル−CBS触媒の合成のためのビス(ジアルキルアミノ)アルキルボランの使用も記載されている(Chavant, P.Y.他, J. Organomet. Chem. 455, 37-46 (1993))が、しかしこれらはかなり高価な試薬である。
本発明の一対象は、ジアルコキシオルガノボランを製造する単純でかつ効率のよい方法を提供することであった。取り扱うか又は除去するのが困難となりうる水又は他の副生物の形成は、本方法の間に回避されるべきである。本発明の別の対象は、ジアルコキシオルガノボランを用いてオルガノ−オキサザボロリジン触媒(オルガノ−CBS)を製造する方法を確立することであった。そのうえ、トリアルコキシボロキシンを製造する新規でかつ効率のよい方法が開発されるべきである。
発明の要約
それに応じて、本発明は、式(R1−BO)3のトリオルガノボロキシンを、式B(OR23のホウ酸トリアルキルと反応させる段階を有する、式R1−B(OR22のジアルコキシオルガノボランの新規製造方法を提供する(ここで、R1及びR2は、以下に定義される)。さらに、出発物質としてジアルコキシオルガノボランを用いてオルガノ−CBS触媒を、及びトリアルコキシボロキシンを、製造する改善された方法が開示される。そのうえ、オルガノ−CBS触媒を製造するために及び鈴木型カップリング反応において、ジアルコキシオルガノボランを使用する新しい方法が提供される。
発明の詳細な説明
本発明によれば、式R1−B(OR22のジアルコキシオルガノボラン(3)の合成方法は、式(R1−BO)3のトリオルガノ−ボロキシン(1)と、式B(OR23のホウ酸トリアルキル(2)との間のエステル交換反応を包含し、
ここで、
1は、C1〜C20 アルキル、C3〜C10 シクロアルキル、C6〜C14 アリール、C7〜C24 アラルキル、C7〜C24 アルカリール、C2〜C20 アルケニル、C5〜C15 シクロアルケニル、C2〜C20 アルキニル、CH2SiMe3、置換されたC1〜C20 アルキルであり、
かつ
2は、C1〜C20 アルキルであるか、
又は化合物2又は3中の2つのR2基は−BO2−部分と一緒になって、式
Figure 0005162454
[式中、二価の基R3は、−CH2CH2−、−CH(CH3)CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH(CH3)CH(CH3)−、−CH(CH2CH3)CH2−、C(CH32C(CH32−、−CH2C(CH32CH2−、−(CH26−、o−C64又はo−C63アルキルからなる群から選択される]で示される環状構造を形成する。
3が上記で定義された通りの二価の基である場合に、ホウ酸トリアルキル(2)は、次の二核構造:
Figure 0005162454
を有してよく、生じるジアルコキシオルガノボラン(3)は、次の環状構造を有していてよい:
Figure 0005162454
本発明による方法により製造される好ましい誘導体は、式R1−B(OR22のジアルコキシオルガノボラン(3)であり、ここで、R1は、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル又はn−ブチルであり、かつR2はイソプロピル又はn−ブチルである。
反応は好ましくは、空気及び水分の排除下に実施される。ジアルコキシオルガノボラン(3)は好ましくは、反応混合物から蒸留により分離される。反応は好ましくは、少なくとも1つの非配位性溶剤の存在で実施される。任意の非配位性溶剤又はそれらの混合物が使用されることができ、これらは好ましくは、生成物からのその溶剤の容易な分離を促進するために、製造されるジアルコキシオルガノボラン(3)の沸点とは異なる(より高いか又はより低い)沸点を有する。例えば、化合物(3)の沸点を下回る沸点を有する2つの溶剤の混合物が使用されてよい。例えば、化合物(3)の沸点よりも高い沸点を有する2つの溶剤の混合物を使用することも可能であるのに対し、製造されるべきジアルコキシオルガノボラン(3)の沸点を下回る沸点を有する溶剤及び上回る沸点を有する溶剤の混合物を使用することも有利でありうる。たいていの場合に1つの溶剤のみが使用される。例は、テトラヒドロフラン(THF)、ジエチルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、ヘキサン、ペンタン、トルエン又はベンゼン、好ましくはTHF又はトルエンである。
合成のための温度範囲は、−20℃〜+120℃、好ましくは0℃〜60℃、より好ましくはおよそ周囲温度、例えば20〜30℃である。合成は、通常、0.1bar〜5barの圧力で、好ましくは常圧で実施される。生成物の蒸留による単離は、0.01bar〜1barの圧力で、好ましくは常圧で、実施されることができる。
トリオルガノボロキシン1対ホウ酸アルキル2のモル比は、幅広い範囲内で変えることができる。しかしながら、モル比が約1:2〜1:4の範囲内、好ましくは約1:3の範囲内であることが好ましい。
さらに、R1がメチルである場合に、トリメチルボロキシン(1a)は、予備段階において現場で製造されることができ、引き続き(1a)と式B(OR23のホウ酸トリアルキル(2)との反応が好ましくは同じ反応器中で行われることができる。この場合にジボランガスは、一酸化炭素と反応してTHF溶液中の式(H3C−BO)3の所望の(1a)を生じる(図式1、Brown, H.C. Organometallics 4, 816 (1984), Rathke, M.W.;Brown, H.C. J. Am. Chem. Soc. 88, 2606 (1966))。
Figure 0005162454
故に、本発明の他の実施態様は、
a)ジボランを、溶剤中で一酸化炭素と反応させて式(H3C−BO)3のトリメチルボロキシン1aを形成させる、
b)トリメチルボロキシン(1a)を、式B(OR23のホウ酸トリアルキル(2)と反応させる、及び
c)ジアルコキシメチルボランを、反応混合物から蒸留により分離する
段階を有する、式H3C−B(OR22のジアルコキシメチルボラン(3a)の製造方法であり、
ここで、R2は、C1〜C20 アルキルであるか、
又は化合物(2)中の2つのR2基は−BO2−部分と一緒になって、式
Figure 0005162454
[式中、二価の基R3は、−CH2CH2−、−CH(CH3)CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH(CH3)CH(CH3)−、−CH(CH2CH3)CH2−、−C(CH32C(CH32−、−CH2C(CH32CH2−、−(CH26−、o−C64又はo−C63アルキルからなる群から選択される]で示される環状構造を形成する。
本発明の他の実施態様によれば、式(R2O−BO)3のトリアルコキシボロキシン(4)の合成は、式(R1−BO)3のトリオルガノボロキシン(1)と、式B(OR23のホウ酸トリアルキル(2)との間のエステル交換反応を包含し、ここで、
1は、C1〜C20 アルキル、C3〜C10 シクロアルキル、C6〜C14 アリール、C7〜C24 アラルキル、C7〜C24 アルカリール、C2〜C20 アルケニル、C5〜C15 シクロアルケニル、C2〜C20 アルキニル、CH2SiMe3、置換されたC1〜C20 アルキルであり、
かつ
2は、C1〜C20 アルキルである。
本発明によれば、ジアルコキシオルガノボラン(3)は、オルガノ−オキサザボロリジン触媒(オルガノ−CBS)の合成に使用されることができる。
故に、本発明の他の対象は、構造式(6)
Figure 0005162454
で示されるオルガノ−オキサザボロリジンの製造方法であって、
a)式(5)
HNR4−CR56CR78−OH (5)
[式中、
4〜R8は、水素、C1〜C20 アルキル、C6〜C14 アリール、C7〜C24 アラルキル、C7〜C24 アルカリール、置換されたC1〜C20 アルキルであるか、
又は2つの基R4及びR5は一緒になって、−CH2CH2−、−CH(CH3)CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH(CH3)CH(CH3)−、−CH(CH2CH3)CH2−、-C(CH32C(CH32−、−CH2C(CH32CH2−からなる群から選択される二価の基であり、−NH−CR6−部分と共に環状構造を形成する]で示される1,2−アミノアルコールを、
式R1−B(OR22
{式中、R1は、C1〜C20 アルキル、C3〜C10 シクロアルキル、C6〜C14 アリール、C7〜C24 アラルキル、C7〜C24 アルカリール、C2〜C20 アルケニル、C5〜C15 シクロアルケニル、C2〜C20 アルキニル、CH2SiMe3、置換されたC1〜C20 アルキルであり、
かつ
2は、C1〜C20 アルキルであるか、
又は化合物(3)中の2つのR2基は−BO2−部分と一緒になって、式
Figure 0005162454
[式中、二価の基R3は、−CH2CH2−、−CH(CH3)CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH(CH3)CH(CH3)−、−CH(CH2CH3)CH2−、−C(CH32C(CH32−、−CH2C(CH32CH2−、−(CH26−、o−C64又はo−C63アルキルからなる群から選択される]で示される環状構造を形成する}で示されるジアルコキシオルガノボラン3と反応させる、及び
b)反応混合物を加熱して閉環反応を完了させ、かつ形成されたアルコールを留去する
段階を有する。
好ましくは、キラルな1,2−アミノアルコール(5)がこの方法において使用される。キラルな1,2−アミノアルコールは、少なくとも1つの不斉炭素原子の存在により特徴付けられる。好ましくは、異なるR5及びR6基及び/又は異なるR7及びR8基を有する1,2−アミノアルコール(5)が使用される。
図式2は、(S)−MeCBS(6a)を、(S)−ジフェニルプロリノール(5a)から製造するために、ジイソプロポキシメチルボラン(3b)を使用する例を示す(米国特許(US)第4,943,635号明細書参照)。水の代わりに、イソプロパノールは、触媒から容易に除去されることができる副生成物として生じる。
Figure 0005162454
反応混合物は、前記の方法の段階b)において、閉環反応を完了させるのに十分な温度に、短時間、好ましくは3時間未満で加熱される。これは通常、反応混合物を常圧下に、使用される溶剤又は溶剤混合物の還流温度に加熱することにより達成される。この段階のための通例の温度範囲は、およそ周囲温度〜約+120℃である。
本方法は、通常、0.1bar〜5barの圧力で、好ましくは常圧で実施される。形成されたアルコールの蒸留による分離は、通常、0.01bar〜1barの圧力で、好ましくは常圧で実施されることができる。
ジアルコキシオルガノボランの他の潜在的な使用は、鈴木型C−C−結合カップリング反応において、分子に有機基を移動させることである。
本発明に関連して使用されるように、"アルキル"という用語は、炭素原子1〜20個を有する分枝鎖状又は非分枝鎖状又は環状の飽和炭化水素基を表し;例は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、アミル、イソアミル、s−アミル、1,2−ジメチルプロピル、1,1−ジメチルプロピル、ヘキシル、4−メチルペンチル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、1,1−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、3,3−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチル、1,2,2−トリメチルプロピル、1,1,2−トリメチルプロピル、ヘプチル、5−メチルヘキシル、1−メチルヘキシル、2,2−ジメチルペンチル、3,3−ジメチルペンチル、4,4−ジメチルペンチル、1,2−ジメチルペンチル、1,3−ジメチルペンチル、1,4−ジメチルペンチル、1,2,3−トリメチルブチル、1,1,2−トリメチルブチル、1,1,3−トリメチルブチル、オクチル、6−メチルヘプチル、1−メチルヘプチル、1,1,3,3−テトラメチルブチル、ノニル、1−、2−、3−、4−、5−、6−又は7−メチルオクチル、1−、2−、3−、4−又は5−エチルヘプチル、1−、2−又は3−プロピルヘキシル、デシル、1−、2−、3−、4−、5−、6−、7−及び8−メチルノニル、1−、2−、3−、4−、5−又は6−エチルオクチル、1−、2−、3−又は4−プロピルヘプチル、ウンデシル、1−、2−、3−、4−、5−、6−、7−、8−又は9−メチルデシル、1−、2−、3−、4−、5−、6−又は7−エチルノニル、1−、2−、3−、4−又は5−プロピルオクチル、1−、2−又は3−ブチルヘプチル、1−ペンチルヘキシル、ドデシル、1−、2−、3−、4−、5−、6−、7−、8−、9−又は10−メチルウンデシル、1−、2−、3−、4−、5−、6−、7−又は8−エチルデシル、1−、2−、3−、4−、5−又は6−プロピルノニル、1−、2−、3−又は4−ブチルオクチル、1−2−ペンチルヘプチル及びイソピノカンフェイルである。好ましくは、アルキル基はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、アミル、イソアミル、s−アミル、1,2−ジメチルプロピル、1,1−ジメチルプロピルである。
"シクロアルキル"という用語は、単環式又は多環式の構造部分を含む炭素原子3〜10個を有する飽和炭化水素基を表す。例は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル又はシクロデシルである。好ましくは、シクロアルキル基はシクロプロピル、シクロペンチル及びシクロヘキシルである。
"置換されたアルキル"という用語は、少なくとも1つの水素原子がフッ素、塩素、臭素又はヨウ素のようなハロゲン元素により又はアルコキシ基により置換されたアルキル基を表す。
"アルコキシ"という用語は、炭素原子1〜20個を有する脂肪族モノアルコールから誘導された基を表す。
"アルケニル"という用語は、少なくとも1つの炭素−炭素二重結合を含む炭素原子2〜20個を有する直鎖又は分枝鎖状の不飽和炭化水素基を表す。例は、ビニル、アリル、1−メチルビニル、ブテニル、イソブテニル、3−メチル−2−ブテニル、1−ペンテニル、1−ヘキセニル、3−ヘキセニル、1−ヘプテニル、3−ヘプテニル、1−オクテニル、1−ノネニル、2−ノネニル、3−ノネニル、1−デセニル、3−デセニル、1,3−ブタジエニル、1,4−ペンタジエニル、1,3−ヘキサジエニル、1,4−ヘキサジエニルである。好ましくは、アルケニル基はビニル、アリル、ブテニル、イソブテニル及び1,3−ブタジエニルである。
"シクロアルケニル"という用語は、少なくとも1つの炭素−炭素二重結合及び単環式又は多環式の構造部分を含む炭素原子5〜15個を有する不飽和炭化水素基を表す。例は、シクロペンテニル、1−メチルシクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロオクテニル、1,3−シクロペンタジエニル、1,3−シクロヘキサジエニル、1,4−シクロヘキサジエニル、1,3−シクロヘプタジエニル、1,3,5−シクロヘプタトリエニル及び1,3,5,7−シクロオクタテトラエニルである。
"アルキニル"という用語は、少なくとも1つの炭素−炭素三重結合を含む炭素原子2〜20個を有する直鎖又は分枝鎖状の不飽和炭化水素基を表す。アルキニル基の例は、エチニル、2−プロピニル及び2−又は3−ブチニルを含む。
"アリール"という用語は、フェニル又はナフチルのような芳香族環系又は他のいずれかの芳香族環系を少なくとも1つ含む炭素原子6〜14個を有する不飽和炭化水素基を表す。o−C64は、カテコール型誘導体に存在する二価アリール基を表す。
"アラルキル"という用語は、例えばフェニル基、ナフチル基又はアルキル置換されたフェニル基又はアルキル置換されたナフチル基又は他のいずれかの芳香族環系を含む炭素原子7〜24個を有するアリール置換されたアルキル基を表す。アラルキル基の例は、ベンジル、1−又は2−フェニルエチル、1−、2−又は3−フェニルプロピル、メシチル及び2−、3−又は4−メチルベンジル基を含む。
"アルカリール"という用語は、例えばフェニル基又はナフチル基又はアルキル置換されたフェニル基又はアルキル置換されたナフチル基又は他のいずれかの芳香族環系及び前記で定義された通りのアルキル置換基を含む炭素原子7〜24個を有するアルキル置換されたアリール基を表す。アルカリール基の例は、2−、3−又は4−メチルフェニル、2−、3−又は4−エチルフェニル及び2−、3−、4−、5−、6−、7−又は8−メチル−1−ナフチル基である。o−C63アルキルは、カテコール型誘導体に存在するアルキル置換された二価アリール基を表す。
実施例
次の例は、本発明を説明するものであり、本発明を限定するものではない。
例1:ジイソプロポキシメチルボランの合成
ホウ酸トリイソプロピル(110g、0.585mol)を、トリメチルボロキシン(THF中トリメチルボロキシンの50質量%溶液55ml、0.20mol)に窒素下に添加し、5分間撹拌した。生じた澄明な溶液を、Vigreuxカラムを介して所望のジイソプロポキシメチルボランを留去するために加熱した。一番目の留分(22g、66〜71℃で蒸留)は、主としてTHF及び少量のイソプロパノールを含有していた。二番目の留分(53g、74〜100℃で蒸留)は、ジイソプロポキシメチルボラン81質量%及びTHF 19質量%を含有していた。三番目の留分(24g、100〜112℃で蒸留)は、ジイソプロポキシメチルボラン87質量%及びトリイソプロポキシボロキシン13質量%を含有していた。ジイソプロポキシメチルボランの全収率は、使用されたホウ酸エステルを基準として75.8%であった。
例2:トリメチルボロキシンの事前形成を伴うジイソプロポキシメチルボランの合成
トリメチルボロキシンを、圧力反応器中で、ジボラン(86g、3mol)及び一酸化炭素(過剰)を、リチウムボロヒドリド触媒(0.25g)を含有するTHF(150ml)中へ添加することにより製造した。反応温度を、前記ガス添加の間、50℃未満に保持した。ジボランの一部は、ガス抜きされる過剰のCOにより反応器から押し流され、故に、得られた溶液の最終量は197gであった。THF中のトリメチルボロキシンの生じた濃度は、ホウ素分析により39.3質量%であった。トリメチルボロキシン77gを含有するこの溶液を、ホウ酸トリイソプロピル(348.8g、1.85mol)と組み合わせた。この混合物を分別蒸留した。一番目の留分(100ml、70〜88℃)は、THF、ジイソプロポキシメチルボラン及び不純物として自然発火性トリメチルボランを含有しており、かつ廃棄した。留分2(90ml、88〜98℃で蒸留)及び留分3(150ml、98〜120℃で蒸留)は双方とも、主としてジイソプロポキシメチルボラン(不純物<5%)を含有しており、約70%の推定収率を与えた。
例3:メチルジ−n−ブトキシボランの合成
トリメチルボロキシン(THF中50質量%溶液50ml、170mmol)を、窒素下に、分留頭及び受け器を備えた丸底フラスコ中へ入れた。ホウ酸トリ−n−ブチル(92ml、340mmol)を添加し、この混合物を30min撹拌した。メチルジ−n−ブトキシボラン及びTHFを、トリ−n−ブトキシボロキシンから蒸留した。このメチルジ−n−ブトキシボラン及びTHFを、さらに蒸留することにより分離して、メチルジ−n−ブトキシボラン44g、収率50%が得られた。
例4:メチルジ−n−ブトキシボランからの(S)−MeCBSの合成
(S)−ジフェニルプロリノール(DPP)(0.58g、2.3mmol)をトルエン15mlと共に、分留頭及び凝縮器を備え、かつ窒素でフラッシングした50ml三つ口丸底フラスコに添加した。不活性雰囲気下のままであるうちに、メチルジ−n−ブトキシボラン(0.60g、2.3mmol)を、シリンジを介してこのフラスコに添加した。反応内容物を、1時間撹拌しながら110℃に加熱した。反応混合物の11B NMRスペクトルが中間体(δ=9.7ppm)の形成を示した時に、さらに付加的なメチルジ−n−ブトキシボラン(0.06g、0.23mmol)を添加して、引き続き4時間加熱した。全てのトルエン及び1−ブタノールを、澄明な反応混合物から蒸留した(アゼオトロープ沸点106℃)。トルエンを残留物に添加した。トルエン溶液の11B NMRスペクトルは、(S)−MeCBS(δ=35ppm、ブロード一重線)の完全な形成を示した。生成物の1H NMRスペクトル(CDCl3)も、残存(S)−DPP又は未反応メチルジ−n−ブトキシボランを示さなかった。

Claims (8)

  1. 式R1−B(OR22で示されるジアルコキシオルガノボラン(3)を製造する方法であって、
    式(R1−BO)3で示されるトリオルガノボロキシン(1)及び式B(OR23で示されるホウ酸トリアルキル(2)を反応させる段階を有することを特徴とし、
    ここで、
    1は、C1〜C20 アルキル、C3〜C10 シクロアルキル、C6〜C14 アリール、C7〜C24 アラルキル、C7〜C24 アルカリール、C2〜C20 アルケニル、C5〜C15 シクロアルケニル、C2〜C20 アルキニル、CH2SiMe3、置換されたC1〜C20−アルキルであり、
    かつ
    2は、C1〜C20 アルキルであるか、
    又は化合物(2)又は(3)中の2つのR2基は−BO2−部分と一緒になって、式
    Figure 0005162454
    [式中、二価の基R3は、−CH2CH2−、−CH(CH3)CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH(CH3)CH(CH3)−、−CH(CH2CH3)CH2−、−C(CH32C(CH32−、−CH2C(CH32CH2−、−(CH26−、o−C64 及びo−C63アルキルからなる群から選択される]で示される環状構造を形成する、ジアルコキシオルガノボラン(3)の製造方法。
  2. ジアルコキシオルガノボラン(3)を、反応混合物から蒸留により分離する、請求項1記載の方法。
  3. 1が、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル又はn−ブチルであり、かつR2が、イソプロピル又はn−ブチルである、請求項1記載の方法。
  4. 反応を、少なくとも1つの非配位性溶剤の存在で実施する、請求項1記載の方法。
  5. 溶剤が、テトラヒドロフラン(THF)、ジエチルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、ヘキサン、ペンタン、トルエン又はベンゼンである、請求項4記載の方法。
  6. トリオルガノボロキシン(1)対ホウ酸トリアルキル(2)のモル比が、1:2〜1:4の範囲内である、請求項1記載の方法。
  7. 反応を−20℃〜+120℃の温度で実施する、請求項1記載の方法。
  8. 式H3C−B(OR22のジアルコキシメチルボラン(3a)を製造する方法であって、
    a)ジボランを、溶剤中で一酸化炭素と反応させて式(H3C−BO)3のトリメチルボロキシン1aを形成させる、
    b)トリメチルボロキシン(1a)を、式B(OR23のホウ酸トリアルキル(2)と反応させる、及び
    c)ジアルコキシメチルボラン(3a)を、反応混合物から蒸留により分離する
    段階を有することを特徴とし、
    ここで、R2は、C1〜C20 アルキルであるか、
    又は化合物(2)又は(3a)中の2つのR2基は−BO2−部分と一緒になって、式
    Figure 0005162454
    [式中、二価の基R3は、−CH2CH2−、−CH(CH3)CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH(CH3)CH(CH3)−、−CH(CH2CH3)CH2−、−C(CH32C(CH32−、−CH2C(CH32CH2−、−(CH26−、o−C64 及びo−C63アルキルからなる群から選択される]で示される環状構造を形成する、ジアルコキシメチルボラン(3a)の製造方法。
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