JP5147734B2 - 収差補正カソード・レンズ顕微鏡機器 - Google Patents
収差補正カソード・レンズ顕微鏡機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5147734B2 JP5147734B2 JP2008557443A JP2008557443A JP5147734B2 JP 5147734 B2 JP5147734 B2 JP 5147734B2 JP 2008557443 A JP2008557443 A JP 2008557443A JP 2008557443 A JP2008557443 A JP 2008557443A JP 5147734 B2 JP5147734 B2 JP 5147734B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic deflector
- diffraction pattern
- electron diffraction
- electron
- aberration correction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/05—Electron or ion-optical arrangements for separating electrons or ions according to their energy or mass
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/252—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/295—Electron or ion diffraction tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/05—Arrangements for energy or mass analysis
- H01J2237/055—Arrangements for energy or mass analysis magnetic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/153—Correcting image defects, e.g. stigmators
- H01J2237/1534—Aberrations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/25—Tubes for localised analysis using electron or ion beams
- H01J2237/2505—Tubes for localised analysis using electron or ion beams characterised by their application
- H01J2237/2538—Low energy electron microscopy [LEEM]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/25—Tubes for localised analysis using electron or ion beams
- H01J2237/2505—Tubes for localised analysis using electron or ion beams characterised by their application
- H01J2237/2538—Low energy electron microscopy [LEEM]
- H01J2237/2544—Diffraction [LEED]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
- Lenses (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Description
104、204:集束レンズ
106:磁気偏向器
108、208:対物レンズ・システム
110、210:試料
112:X線光
114:投射鏡筒
116、216:投射レンズ
118、218:視野スクリーン
206:第1の磁気偏向器
220:スリット
222:第2の磁気偏向器
224:静電レンズ
226:電子鏡
228:補助静電レンズ・システム
Claims (21)
- 第1の磁気偏向器であって、第1の非分散電子回折パターンを受け取るように配置され、前記第1の磁気偏向器の出射面に第1のエネルギー分散電子回折パターンを投射するように構成された、第1の磁気偏向器と、
前記第1の磁気偏向器の前記出射面に配置された、静電レンズと、
前記第1の磁気偏向器と略同一の第2の磁気偏向器であって、前記静電レンズから前記第1のエネルギー分散電子回折パターンを受け取るように配置され、前記第2の磁気偏向器の第1の出射面に第2の非分散電子回折パターンを投射するように構成された、第2の磁気偏向器と、
前記第2の非分散電子回折パターンにおける1つ又は複数の収差を補正するように構成され、前記第2の磁気偏向器の第2の出射面に第2のエネルギー分散電子回折パターンを投射するために前記第2の非分散電子回折パターンを前記第2の磁気偏向器に反射するように配置された、電子鏡と、
電子を受け取るように配置された対物レンズ・システムであって、前記対物レンズ・システムは、前記第1の磁気偏向器のための入射面と一致する前記対物レンズ・システムの後側焦点面に電子回折パターンを形成するように構成された、対物レンズ・システムと、
前記対物レンズ・システムの前記後側焦点面及び前記第1の磁気偏向器の入射面に配置され、前記後側焦点面に形成された前記電子回折パターンを横断するスライスを与える入射開口部と、
前記第2のエネルギー分散電子回折パターンの所望の電子エネルギーを選択するように、前記第2の磁気偏向器の前記第2の出射面に配置された出射開口部と
を含み、前記第1の磁気偏向器は、前記後側焦点面に形成された前記電子回折パターンの前記スライスを前記第1の非分散電子回折パターンとして受け取る、収差補正顕微鏡機器。 - 前記第1の偏向器の前記出射面と、前記第2の磁気偏向器の前記第1の出射面と、前記第2の磁気偏向器の前記第2の出射面とは、前記第1のエネルギー分散電子回折パターン、前記第2の非分散電子回折パターンおよび前記第2のエネルギー分散電子回折パターンが等倍率で観察されるように配置される、
請求項1に記載の収差補正顕微鏡機器。 - 前記第2の非分散電子回折パターンを、収差補正のために前記電子鏡の表面上に合焦させ、収差補正後に該第2の非分散電子回折パターンが前記第2の磁気偏向器へ反射される際に、該第2の非分散電子回折パターンを、前記第2の磁気偏向器の前記第1の出射面上に再び合焦させるように配置された補助静電レンズ・システムを更に含む、
請求項1に記載の収差補正顕微鏡機器。 - 前記入射開口部は、調節可能又は移動可能の少なくとも一方である、
請求項1に記載の収差補正顕微鏡機器。 - 前記収差補正顕微鏡機器は、低エネルギー電子顕微鏡機器を含み、
電子ビームを特定の電子エネルギーで発生させる電子銃と、
前記電子ビームを前記電子銃から前記第1の磁気偏向器内に受け取って合焦させるように配置された1つ又は複数の集束レンズとを更に含み、
前記第1の磁気偏向器は、前記対物レンズ・システムへの電子反射のために、前記対物レンズ・システムを通して試料の表面上に前記電子ビームを偏向させる、
請求項1に記載の収差補正顕微鏡機器。 - 前記収差補正顕微鏡機器は、光電子放出顕微鏡機器を含み、試料を照射して光電子を前記対物レンズ・システムに発生させるために、紫外光源及び軟X線光子源のうち少なくとも1つを更に含む、
請求項1に記載の収差補正顕微鏡機器。 - 前記静電レンズは、回転しない像転写のために、固定焦点距離で動作する静電アインツェル・レンズを含む、
請求項1に記載の収差補正顕微鏡機器。 - 電子回折パターン及び実空間像のうち少なくとも1つを受け取り、拡大するように配置された投射鏡筒と、
前記投射鏡筒からの拡大された電子エネルギー回折パターン及び実空間像のうち少なくとも1つを投射するための視野スクリーンとを更に含む、
請求項1に記載の収差補正顕微鏡。 - 前記第1の磁気偏向器及び前記第2の磁気偏向器の各々は、特定の電子光学特性を生じさせるように電磁石を有するプリズム・アレイを含む、
請求項1に記載の収差補正顕微鏡機器。 - 前記プリズム・アレイの各々は、前記電子回折パターンに対応する実空間像を前記プリズム・アレイ内の対角面に形成するように構成される、
請求項9に記載の収差補正顕微鏡機器。 - 前記プリズム・アレイの各々は色分散のために構成される、
請求項9に記載の収差補正顕微鏡機器。 - 前記プリズム・アレイは、それぞれの入射面と出射面に対して垂直な、間で電子が偏向される、2枚の平行板を含み、前記2枚の平行板の各々は複数の電磁石を含む、
請求項9に記載の収差補正顕微鏡機器。 - 前記2枚の平行板の各々は5つの電磁石を含む、
請求項12に記載の収差補正顕微鏡機器。 - 前記第1の磁気偏向器及び前記第2の磁気偏向器は、前記電子回折パターンを略90度偏向するように構成される、
請求項1に記載の収差補正顕微鏡機器。 - 電子顕微鏡機器内の収差補正方法であって、
電子を対物レンズ・システムで受け取るステップであって、前記対物レンズ・システムは、電子回折パターンを前記対物レンズ・システムの後側焦点面に形成することができる、前記受け取るステップと、
前記対物レンズ・システムの前記後側焦点面に配置された入射開口部において前記後側焦点面に形成された電子回折パターンを横断するスライスを得るステップと、
前記入射開口部と一致する入射面を有する第1の磁気偏向器で前記電子回折パターンの前記スライスを受け取るステップと、
前記第1の磁気偏向器の出射面及び第2の磁気偏向器の入射面に配置された静電レンズを通して、エネルギー分散電子回折パターンを前記第1の磁気偏向器から前記第2の磁気偏向器に転写するステップであって、前記第2の磁気偏向器は前記第1の磁気偏向器と略同一である、前記転写するステップと、
非分散電子回折パターンを前記第2の磁気偏向器から前記第2の磁気偏向器の第1の出射面に投射するステップと、
1つ又は複数の収差を補正し、前記非分散電子回折パターンを前記第2の磁気偏向器に戻すように、前記非分散電子回折パターンを電子鏡内で反射させるステップと、
エネルギー分散電子回折パターンを前記第2の磁気偏向器の第2の出射面に投射するステップと
前記第2の磁気偏向器の前記第2の出射面に配置された出射開口部において前記エネルギー分散電子回折パターンの所望の電子エネルギーを選択するステップと
を含む方法。 - エネルギーがフィルタ処理された収差補正像を視野スクリーン上に拡大するステップを更に含む、
請求項15に記載の方法。 - エネルギーがフィルタ処理された回折パターンを視野スクリーン上に拡大するステップを更に含む、
請求項15に記載の方法。 - 分散エネルギー・スペクトルを視野スクリーン上に拡大するステップを更に含む、
請求項15に記載の方法。 - 第1の磁気偏向器であって、第1の非分散電子回折パターンを受け取るように配置され、前記第1の磁気偏向器の出射面に第1のエネルギー分散電子回折パターンを投射するように構成された、第1の磁気偏向器と、
前記第1の磁気偏向器の前記出射面に配置された、静電レンズと、
前記第1の磁気偏向器と略同一の第2の磁気偏向器であって、前記静電レンズから前記第1のエネルギー分散電子回折パターンを受け取るように配置され、前記第2の磁気偏向器の第1の出射面に第2の非分散電子回折パターンを投射するように構成された、第2の磁気偏向器と、
前記第2の非分散電子回折パターンにおける1つ又は複数の収差を補正するように構成され、前記第2の磁気偏向器の第2の出射面に第2のエネルギー分散電子回折パターンを投射するために前記第2の非分散電子回折パターンを前記第2の磁気偏向器に反射するように配置された、電子鏡と
を含む、収差補正顕微鏡機器。 - 前記第1の偏向器の前記出射面と、前記第2の磁気偏向器の前記第1の出射面と、前記第2の磁気偏向器の前記第2の出射面とは、前記第1のエネルギー分散電子回折パターン、前記第2の非分散電子回折パターンおよび前記第2のエネルギー分散電子回折パターンが等倍率で観察されるように配置される、請求項19に記載の収差補正顕微鏡機器。
- 前記第2の非分散電子回折パターンを、収差補正のために前記電子鏡の表面上に合焦させ、収差補正後に該第2の非分散電子回折パターンが前記第2の磁気偏向器へ反射される際に、該第2の非分散電子回折パターンを、前記第2の磁気偏向器の前記第1の出射面上に再び合焦させるように配置された補助静電レンズ・システムを更に含む、
請求項19または20に記載の収差補正顕微鏡機器。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/364,299 US7348566B2 (en) | 2006-02-28 | 2006-02-28 | Aberration-correcting cathode lens microscopy instrument |
US11/364,299 | 2006-02-28 | ||
PCT/US2007/062101 WO2007100978A2 (en) | 2006-02-28 | 2007-02-14 | Aberration-correcting cathode lens microscopy instrument |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009528668A JP2009528668A (ja) | 2009-08-06 |
JP2009528668A5 JP2009528668A5 (ja) | 2012-08-16 |
JP5147734B2 true JP5147734B2 (ja) | 2013-02-20 |
Family
ID=38290996
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008557443A Active JP5147734B2 (ja) | 2006-02-28 | 2007-02-14 | 収差補正カソード・レンズ顕微鏡機器 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7348566B2 (ja) |
EP (1) | EP1994544B1 (ja) |
JP (1) | JP5147734B2 (ja) |
CN (1) | CN101390186B (ja) |
AT (1) | ATE472822T1 (ja) |
CA (1) | CA2636239C (ja) |
DE (1) | DE602007007446D1 (ja) |
IL (1) | IL193703A (ja) |
WO (1) | WO2007100978A2 (ja) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7348566B2 (en) | 2006-02-28 | 2008-03-25 | International Business Machines Corporation | Aberration-correcting cathode lens microscopy instrument |
RU2362234C1 (ru) | 2007-10-03 | 2009-07-20 | Вячеслав Данилович Саченко | Корпускулярно-оптическая система формирования изображения (варианты) |
JP5250350B2 (ja) * | 2008-09-12 | 2013-07-31 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線応用装置 |
DE102009044989A1 (de) * | 2009-09-24 | 2011-03-31 | Funnemann, Dietmar, Dr. | Bildgebender Energiefilter für elektrisch geladene Teilchen sowie Spektroskop mit einem solchen |
EP2385542B1 (en) * | 2010-05-07 | 2013-01-02 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Electron beam device with dispersion compensation, and method of operating same |
US9355818B2 (en) * | 2010-05-28 | 2016-05-31 | Kla-Tencor Corporation | Reflection electron beam projection lithography using an ExB separator |
US9504135B2 (en) * | 2010-07-28 | 2016-11-22 | General Electric Company | Apparatus and method for magnetic control of an electron beam |
CN102479652B (zh) * | 2010-11-30 | 2016-03-16 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 采用紫外或深紫外激光源的高空间分辨光发射电子显微镜 |
US8334508B1 (en) * | 2011-02-22 | 2012-12-18 | Electron Optica, Inc. | Mirror energy filter for electron beam apparatus |
WO2013077715A1 (ru) * | 2011-11-22 | 2013-05-30 | Bimurzaev Seitkerim Bimurzaevich | Корректор аберраций электронных линз |
US8586923B1 (en) * | 2012-06-21 | 2013-11-19 | International Business Machines Corporation | Low-voltage transmission electron microscopy |
US8729466B1 (en) * | 2013-03-14 | 2014-05-20 | Electron Optica, Inc. | Aberration-corrected and energy-filtered low energy electron microscope with monochromatic dual beam illumination |
WO2014185074A1 (en) | 2013-05-15 | 2014-11-20 | Okinawa Institute Of Science And Technology School Corporation | Leed for sem |
US9595417B2 (en) * | 2014-12-22 | 2017-03-14 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | High resolution charged particle beam device and method of operating the same |
WO2016132487A1 (ja) | 2015-02-18 | 2016-08-25 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線応用装置、及び、収差補正器 |
DE102015210893B4 (de) * | 2015-06-15 | 2019-05-09 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Analyseeinrichtung zur Analyse der Energie geladener Teilchen und Teilchenstrahlgerät mit einer Analyseeinrichtung |
US9472373B1 (en) * | 2015-08-17 | 2016-10-18 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Beam separator device, charged particle beam device and methods of operating thereof |
NL2017213B1 (en) * | 2016-07-22 | 2018-01-30 | Univ Delft Tech | Aberration correcting device for an electron microscope and an electron microscope comprising such a device |
US10283315B2 (en) | 2017-05-16 | 2019-05-07 | International Business Machines Corporation | Measuring spherical and chromatic aberrations in cathode lens electrode microscopes |
WO2019100600A1 (en) | 2017-11-21 | 2019-05-31 | Focus-Ebeam Technology (Beijing) Co., Ltd. | Low voltage scanning electron microscope and method for specimen observation |
US10755892B2 (en) | 2018-05-23 | 2020-08-25 | Kla-Tencor Corporation | Reflection-mode electron-beam inspection using ptychographic imaging |
CN112432933B (zh) * | 2019-08-26 | 2021-11-19 | 北京大学 | 多激发光源光电子显微镜的超高时空分辨成像系统及方法 |
CN111194133B (zh) * | 2020-01-13 | 2022-01-11 | 电子科技大学 | 一种利用紫外辐射和电子枪产生中性尘埃粒子流的装置 |
US11264229B1 (en) | 2020-12-03 | 2022-03-01 | Guennadi Lebedev | Time-of-flight mass spectrometer and method for improving mass and spatial resolution of an image |
JP7381515B2 (ja) | 2021-03-31 | 2023-11-15 | 株式会社日立ハイテク | 電子線応用装置 |
JP2023037678A (ja) | 2021-09-06 | 2023-03-16 | 株式会社日立ハイテク | 電子線応用装置及び検査方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4129403A1 (de) * | 1991-09-04 | 1993-03-11 | Zeiss Carl Fa | Abbildungssystem fuer strahlung geladener teilchen mit spiegelkorrektor |
DE69213157T2 (de) * | 1991-10-24 | 1997-03-06 | Philips Electronics Nv | Elektronenstrahlvorrichtung |
JPH11273610A (ja) * | 1998-03-23 | 1999-10-08 | Jeol Ltd | 高加速電圧反射電子顕微鏡 |
JP2001319612A (ja) * | 2000-05-10 | 2001-11-16 | Jeol Ltd | 直接写像型電子顕微鏡 |
DE10107910A1 (de) * | 2001-02-20 | 2002-08-22 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | Teilchenstrahlsystem mit einem Spiegelkorrektor |
US6878937B1 (en) * | 2004-02-10 | 2005-04-12 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Prism array for electron beam inspection and defect review |
US7348566B2 (en) | 2006-02-28 | 2008-03-25 | International Business Machines Corporation | Aberration-correcting cathode lens microscopy instrument |
-
2006
- 2006-02-28 US US11/364,299 patent/US7348566B2/en active Active
-
2007
- 2007-02-14 DE DE602007007446T patent/DE602007007446D1/de active Active
- 2007-02-14 CN CN2007800068799A patent/CN101390186B/zh active Active
- 2007-02-14 CA CA2636239A patent/CA2636239C/en active Active
- 2007-02-14 JP JP2008557443A patent/JP5147734B2/ja active Active
- 2007-02-14 WO PCT/US2007/062101 patent/WO2007100978A2/en active Application Filing
- 2007-02-14 EP EP07756958A patent/EP1994544B1/en active Active
- 2007-02-14 AT AT07756958T patent/ATE472822T1/de not_active IP Right Cessation
-
2008
- 2008-08-26 IL IL193703A patent/IL193703A/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7348566B2 (en) | 2008-03-25 |
CA2636239A1 (en) | 2007-07-09 |
CN101390186B (zh) | 2011-02-16 |
CN101390186A (zh) | 2009-03-18 |
IL193703A0 (en) | 2009-05-04 |
EP1994544A2 (en) | 2008-11-26 |
CA2636239C (en) | 2015-10-06 |
US20070200070A1 (en) | 2007-08-30 |
WO2007100978A2 (en) | 2007-09-07 |
JP2009528668A (ja) | 2009-08-06 |
IL193703A (en) | 2011-11-30 |
ATE472822T1 (de) | 2010-07-15 |
WO2007100978A3 (en) | 2007-10-18 |
DE602007007446D1 (de) | 2010-08-12 |
EP1994544B1 (en) | 2010-06-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5147734B2 (ja) | 収差補正カソード・レンズ顕微鏡機器 | |
US7453062B2 (en) | Energy-filtering cathode lens microscopy instrument | |
JP2009528668A5 (ja) | ||
JP5116321B2 (ja) | 位相差電子顕微鏡 | |
JP5354850B2 (ja) | 表面分析用分光装置と分析方法 | |
WO2012009543A2 (en) | Improved contrast for scanning confocal electron microscope | |
JP4416208B2 (ja) | 磁気形結像エネルギフィルタを有する電子顕微鏡 | |
JP7336926B2 (ja) | 性能が向上されたマルチ電子ビーム撮像装置 | |
US8334508B1 (en) | Mirror energy filter for electron beam apparatus | |
JPH1173899A (ja) | エネルギーフィルタおよびこれを備えた電子顕微鏡 | |
US6040576A (en) | Energy filter, particularly for an electron microscope | |
US4978855A (en) | Electron microscope for investigation of surfaces of solid bodies | |
JP3867048B2 (ja) | モノクロメータ及びそれを用いた走査電子顕微鏡 | |
JP2019537228A (ja) | 電子ビームシステムにおける収差補正方法及びシステム | |
US6437353B1 (en) | Particle-optical apparatus and process for the particle-optical production of microstructures | |
JP7328477B2 (ja) | 光電子顕微鏡 | |
JP3896043B2 (ja) | 電子顕微鏡の球面収差補正装置 | |
EP1585165B1 (en) | Electron microscope | |
JP3849353B2 (ja) | 透過型電子顕微鏡 | |
JP2000215842A (ja) | 複合放出電子顕微鏡におけるその場観察システム | |
JP4931359B2 (ja) | 電子線装置 | |
US11276549B1 (en) | Compact arrangement for aberration correction of electron lenses | |
TW202333184A (zh) | 組合聚焦離子束銑削及掃描電子顯微鏡成像 | |
JPH0234142B2 (ja) | ||
Vašina et al. | X-ray photoemission and low-energy electron microscope |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091120 |
|
RD12 | Notification of acceptance of power of sub attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7432 Effective date: 20120524 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20120524 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120626 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20120626 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20120712 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120717 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121003 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121030 |
|
RD14 | Notification of resignation of power of sub attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7434 Effective date: 20121030 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121127 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5147734 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151207 Year of fee payment: 3 |