WO2013077715A1 - Корректор аберраций электронных линз - Google Patents
Корректор аберраций электронных линз Download PDFInfo
- Publication number
- WO2013077715A1 WO2013077715A1 PCT/KZ2012/000006 KZ2012000006W WO2013077715A1 WO 2013077715 A1 WO2013077715 A1 WO 2013077715A1 KZ 2012000006 W KZ2012000006 W KZ 2012000006W WO 2013077715 A1 WO2013077715 A1 WO 2013077715A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- electron
- corrector
- magnetic deflector
- mirror
- symmetry
- Prior art date
Links
- 230000004075 alteration Effects 0.000 title claims abstract description 50
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 11
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 abstract description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 abstract 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 9
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/15—Means for deflecting or directing discharge
- H01J2237/1508—Combined electrostatic-electromagnetic means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/153—Correcting image defects, e.g. stigmators
- H01J2237/1534—Aberrations
Definitions
- the invention relates to electron-optical instrumentation and can be used in imaging objects using electronic (ionic) lenses, in particular, it can be used in electron microscopy of micro- and nanotechnology objects.
- a known corrector for spherical aberration of electronic lenses containing a magnetic dispersion deflector (rectangular with an angle of rotation of the optical axis of 90 °), an axisymmetric electrostatic electron mirror and a set of electronic lenses in series between the magnetic deflector and an axisymmetric electrostatic electron mirror in the direction of the transmitted image (JP 5205687 , H01J37 / 12, 37/04, 37/153, 37/26, 37/29, 37/10, 1993; US 5319207, H0Sh7 / 153, 37/04, 37/147, 37/29, 1994).
- the main disadvantage of the known corrector is that in the aberration corrector at the same time there will be not only compensation for spherical aberration (useful function), but also the appearance of significant chromatic aberration (disadvantage).
- a corrector for spherical aberration of electronic lenses containing a magnetic dispersion deflector of various shapes, including a round, axisymmetric electrostatic electron mirror and an angular energy dispersion compensator of different designs, installed after the magnetic deflector.
- the angular energy dispersion compensator is a block containing a set of guide electronic lenses and an axisymmetric electrostatic electron mirror. is he may contain an additional magnetic deflector of various shapes, identical or non-identical to the main (first) magnetic deflector (EP 2224464 ⁇ , ⁇ ⁇ J37 / 153, WO 2009/045121 Al, H01 J37 / 153).
- the objective of the invention is to increase the resolution and sensitivity of electron-optical devices for imaging objects, mainly electronic microscopes for various purposes, by using an aberration corrector for electronic lenses of a simple design that can fully compensate for the most important aberrations of electronic lenses.
- an aberration corrector for electronic lenses of a simple design that can fully compensate for the most important aberrations of electronic lenses.
- using the proposed corrector one can completely compensate for either the spherical aberration of the electronic lens, or its axial chromatic aberration, or both of these aberrations at the same time.
- the electronic mirror is located relative to the magnetic deflector so that its center of curvature is aligned with the center point of the corrector lying on the axis of symmetry of the magnetic
- the magnetic deflector may contain electrodes electrostatic system, the axis of symmetry of which is combined with the axis of symmetry of the magnetic deflector.
- An electrostatic electron mirror may contain magnetic elements with an axis of symmetry representing the main optical axis of the electromagnetic mirror. In this case, the axis of symmetry of the magnetic deflector and the main optical axis of the electron mirror at the intersection form a right angle.
- the proposed corrector is presented in the attached graphic applications, where in FIG. 1, the proposed aberration corrector is shown schematically in projection onto the mean
- FIG. Figures 2 and 3 show the results of calculating the parameters of a two-electrode electrostatic mirror for a spherical aberration corrector.
- the proposed aberration corrector is depicted in projection onto the middle plane (the plane of the figure), in which the particles are deflected.
- the corrector comprises a magnetic deflector 1 with an axis of rotational symmetry passing through the center point O of the corrector perpendicular to the mid-plane, and a focusing axisymmetric electrostatic electron mirror 2 with the main optical axis OO 'located in the mid-plane.
- the center of curvature of the electron mirror 2 is aligned with the center point of the corrector.
- the axis of symmetry of the magnetic field and electron mirror 2 at the intersection form a right angle.
- the aberrations of the electron mirror 2 are selected so that they are equal in magnitude and opposite in sign to the corresponding coefficients of aberrations of the electronic lenses.
- An axisymmetric magnetic field with intensity N can be generated either by turns of circular electric currents, s either a permanent magnet, or an electromagnet with round magnetic poles.
- the radial distribution of the magnetic field H can be both homogeneous and inhomogeneous.
- the magnetic deflector 1 may contain electrodes (not shown) of an electrostatic system with the same axis of rotational symmetry.
- the electron mirror 2 may be an electrostatic, formed by a set of electrodes with a common axis of symmetry, but (like a magnetic deflecting system) the mirror may contain magnetic elements with the same axis of symmetry, which is the main optical axis of the electromagnetic mirror.
- the choice of this or that field distribution of the deflecting system and the electron mirror is made for reasons of optimization of the electron-optical path of a particular device. To do this, use standard procedures for calculating electronic trajectories.
- the aberration corrector works as follows. For normal operation of the device, the electronic lens 3 is positioned so that its image plane passes through the center point O of the corrector, and its main optical axis lies in its middle plane. With this arrangement in the absence
- the continuation of the straight sections of the trajectories pass at certain distances (impact distances) from the point O.
- the set of impact distances is a crossover of aberrations of the image of a point object in this electronic lens. Due to the symmetry of rotation of the magnetic deflector 1, the impact distances of each of the trajectories of the particle beam remain unchanged after the deflection of this beam, regardless of the angle of deviation of the trajectories, or the spread of particle energies in the beam (Siday RF // Proc. Phys. Soc. 1947. V. 59. No. 336. P. 905.).
- the magnetic deflector 1 works so that it rotates the optical axis of the particle beam and the plane of the virtual image of the object around its axis of rotation by the desired angle, determined by the magnetic field strength H, without distorting the structure of the virtual image. This circumstance is the reason for the absence of additional aberrations introduced by the deflecting field of the corrector. After deflection in a magnetic field, electrons enter the field
- the electron mirror 2 with a center of curvature at point O, which corrects the spherical and (or) axial chromatic aberrations of the electron lens 3.
- the spherical and (or) axial chromatic aberrations of the electron mirror 2 are selected so that they are equal in magnitude and opposite in sign corresponding aberrations of the electronic lens 3. With this selection, all electronic particle paths emanating from the center point of object 4, regardless of the aperture angles and (or) the energy spread, after reflection from the electron mirror 2 are directed strictly la (without scattering) of the central point O of the deflecting magnetic field.
- the electron mirror 2 with its aberrations compensates for the aberrations of the electronic lens 3 and forms an inverted virtual image in the vicinity of point O with an optical magnification factor equal to -1.
- the electron beam passes the magnetic field in the opposite direction, and after the optical axis is rotated again around point O, a virtual image of the object is formed in the vicinity of this point, cleared of the main aberrations of the electronic lens 3. If you need to obtain a valid image, use a focusing electronic lens 5, which plane 6 will create a valid image of the object. In this case, mirror 2 can be calculated so as to compensate for the aberrations of both lenses - Z and 5.
- the corrector below are the results of calculating the aberration corrector, designed to compensate for the spherical aberration of an immersion lens, an operating emission electron microscope.
- Cs 32261 cm.
- the electronic mirror 2 is a simple two-electrode axisymmetric electrostatic mirror.
- FIG. Figures 2 and 3 show the results of calculating the parameters of a two-electrode electrostatic mirror for the spherical aberration corrector for this immersion lens. In the calculations, such cases were selected when the value of the coefficient of spherical aberration of the mirror was equal in absolute value
- the figure 2 shows the dependence of the distance from the center of curvature of the round magnet to the middle of the gap between the first and second electrodes of the mirror Rc on the value of the inner diameter D the first cylindrical electrode of the mirror.
- Figure 3 shows the dependence of the potential ratio on the second reflecting electrode of the mirror (blocking potential)
- lens VI from the value of the inner diameter D of the first cylindrical electrode of the mirror.
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
Изобретение относится к электронно-оптическому приборостроению и может быть использовано при формировании изображения объектов с помощью электронных (ионных) линз, в частности его применяют в электронной микроскопии объектов микро- и нанотехнологии. Корректор аберраций электронных линз содержит осесимметричный магнитный дефлектор и осесимметричное электростатическое электронное зеркало, расположенные друг относительно друга так, что центр кривизны электронного зеркала совмещен с центральной точкой корректора - точкой пересечения главной оптической оси электронного зеркала с осью симметрии магнитного дефлектора. При этом ось симметрии магнитного дефлектора и главная оптическая ось электронного зеркала при пересечении образуют прямой угол. Для нормальной работы корректора следует расположить его так, чтобы плоскость изображений электронной линзы проходила через центральную точку корректора. Преимущества предлагаемого корректора аберраций электронных линз: 1. простая конструкция магнитного дефлектора; 2. отсутствие аберраций, вносимых магнитным дефлектором; 3. простая конструкция корректора аберраций в целом и высокая технологичность его изготовления; 4. возможность коррекции наиболее важных аберраций электронных линз: сферической и осевой хроматической одновременно.
Description
КОРРЕКТОР АБЕРРАЦИЙ ЭЛЕКТРОННЫХ ЛИНЗ
Изобретение относится к электронно-оптическому приборостроению и может быть использовано при формировании изображения объектов с помощью электронных (ионных) линз, в частности, его можно применять в электронной микроскопии объектов микро- и нанотехнологии.
Известен корректор сферической аберрации электронных линз, содержащий магнитный дефлектор дисперсионного типа (прямоугольной формы с углом поворота оптической оси 90°), осесимметричное электростатическое электронное зеркало и набор электронных линз, последовательно расположенных между магнитным дефлектором и осесимметричным электростатическим электронным зеркалом по направлению передаваемого изображения (JP 5205687, H01J37/12, 37/04, 37/153, 37/26, 37/29, 37/10, 1993; US 5319207, Н0Ш7/153, 37/04, 37/147, 37/29, 1994).
Основным недостатком известного корректора является то, что в корректоре аберраций одновременно будет иметь место не только компенсирование сферической аберрации (полезная функция), но и появление значительной хроматической аберрации (недостаток).
Наиболее близким к заявляемому корректору является
корректор сферической аберрации электронных линз, содержащий магнитный дефлектор дисперсионного типа различной формы, в том числе круглой, осесимметричное электростатическое электронное зеркало и компенсатор угловой энергетической дисперсии разной конструкции, установленный после магнитного дефлектора.
Компенсатор угловой энергетической дисперсии представляет собой блок, содержащий набор направляющих электронных линз и осесимметричное электростатическое электронное зеркало. Он
может содержать дополнительный магнитный дефлектор различной формы, идентичный или неидентичный к основному (первому) магнитному дефлектору (ЕР 2224464 ΑΙ ,ΗΟ Ι J37/153, WO 2009/045121 Al, Н01 J37/153).
Основным недостатком этого корректора является сложность его конструкции, обусловленная наличием дополнительного элемента - компенсатора угловой энергетической дисперсии.
Задачей предлагаемого изобретения является повышение разрешающей способности и чувствительности электронно- оптических устройств формирования изображений объектов, преимущественно электронных микроскопов различных назначений, путем использования корректора аберраций электронных линз простой конструкции, способного полностью компенсировать наиболее важные аберрации электронных линз. В зависимости от назначения того или иного прибора с помощью предлагаемого корректора можно полностью скомпенсировать либо сферическую аберрацию электронной линзы, либо её осевую хроматическую аберрацию, либо обе эти аберрации одновременно.
Для решения поставленной задачи в соответствии с
изобретением в корректоре аберраций электронных линз,
содержащим магнитный дефлектор с осевой симметрией и осесимметричное- электростатическое электронное зеркало, электронное зеркало расположено относительно магнитного дефлектора так, что его центр кривизны совмещен с центральной точкой корректора, лежащей на оси симметрии магнитного
дефлектора. При таком взаимном расположении магнитного дефлектора и электронного зеркала отпадает необходимость в дополнительном элементе - компенсаторе угловой энергетической дисперсии. Магнитный дефлектор может содержать электроды
электростатической системы, ось симметрии которых совмещена с осью симметрии магнитного дефлектора. Электростатическое электронное зеркало может содержать магнитные элементы с осью симметрии, представляющей собой главную оптическую ось электромагнитного зеркала. При этом ось симметрии магнитного дефлектора и главная оптическая ось электронного зеркала при пересечении образуют прямой угол.
Предлагаемый корректор представлен на прилагаемых графических приложениях, где на фиг. 1 предлагаемый корректор аберраций схематически изображен в проекции на среднюю
плоскость (плоскость рисунка); на фиг. 2 и 3 приведены результаты расчета параметров двухэлектродного электростатического зеркала для корректора сферической аберрации.
Предлагаемый корректор аберраций изображен в проекции на среднюю плоскость (плоскость рисунка), в которой происходит отклонение частиц. Корректор содержит магнитный дефлектор 1 с осью вращательной симметрии, проходящей через центральную точку О корректора перпендикулярно средней плоскости, и фокусирующее осесимметричное электростатическое электронное зеркало 2 с главной оптической осью ОО', расположенной в средней плоскости. Центр кривизны электронного зеркала 2 совмещен с центральной точкой корректора. Оси симметрии магнитного поля и электронного зеркала 2 при пересечении образуют прямой угол. Коэффициенты сферической и (или) осевой хроматической
аберраций электронного зеркала 2 подбирают так, что они равны по величине и противоположны по знаку соответствующим коэффициентам аберраций электронных линз.
Осесимметричное магнитное поле с напряженностью Н может быть генерировано либо витками круговых электрических токов, з
либо постоянным магнитом, либо электромагнитом с магнитными полюсами круглой формы. Радиальное распределение напряженности магнитного поля Н может быть как однородным, так и неоднородным. Кроме того, магнитный дефлектор 1 может содержать электроды (не показаны) электростатической системы с той же осью вращательной симметрии.
Важно отметить, что во всех случаях для создания отклоняющей системы корректора используется поле, обладающее одним из простейших видов симметрии - осевой симметрией. Это обеспечивает предельную простоту корректора и высокую технологичность его изготовления.
Отметим также известный факт, что при любом радиальном распределении осесимметричного отклоняющего электромагнитного поля величина азимутальной составляющей обобщенного импульса частицы является инвариантом движения, в частности, равным нулю при нормальном входе пучка частиц в отклоняющую систему, что в конечном итоге обеспечивает высокое качество фокусировки пучка при его отклонении.
Электронное зеркало 2 может быть электростатическим, образованным набором электродов с общей осью симметрии, но (как и магнитная отклоняющая система) зеркало может содержать магнитные элементы с той же осью симметрии, представляющей собой главную оптическую ось электромагнитного зеркала. Выбор того или иного распределения поля отклоняющей системы и электронного зеркала производится из соображений оптимизации электронно-оптического тракта конкретного прибора. Для этого используют стандартные процедуры расчета электронных траекторий.
Корректор аберраций работает следующим образом. Для
нормальной работы устройства электронную линзу 3 располагают так, чтобы ее плоскость изображений проходила через центральную точку О корректора, а ее главная оптическая ось лежала в его средней плоскости. При таком расположении в отсутствии
отклоняющего поля в плоскости, проходящей через центральную точку О, формируется действительное электронно-оптическое изображение объекта 4. При включенном поле корректора в этом месте прямолинейными участками лучей формируется виртуальное изображение объекта 4. При отсутствии аберраций прямолинейные участки лучей, исходящие из центральной точки объекта 4, и после отклонения частиц в магнитном поле проходят строго через центр кривизны магнитного дефлектора 1, совмещенной с центральной точкой О корректора. Величина рассеяния прямолинейных лучей от точечного объекта 4 в окрестности точки О будет связана только с наличием аберраций электронной линзы 3, в том числе сферической и осевой хроматической. При этом продолжения прямолинейных участков траекторий проходят на определенных расстояниях (прицельные расстояния) от точки О. Совокупность прицельных расстояний представляет собой кроссовер аберраций изображения точечного объекта в данной электронной линзе. Вследствие симметрии вращения магнитного дефлектора 1 прицельные расстояния каждой из траекторий пучка частиц остаются неизменными и после отклонения этого пучка, независимо ни от угла отклонения траекторий, ни от разброса энергий частиц в пучке (Siday R. F. // Proc. Phys. Soc. 1947. V. 59. No. 336. P. 905.).
Таким образом, магнитный дефлектор 1 работает так, что он поворачивает оптическую ось пучка частиц и плоскость виртуального изображения объекта вокруг своей оси вращения на нужный угол, определяемый напряженностью магнитного поля Н,
без искажения структуры виртуального изображения. Это обстоятельство является причиной отсутствия дополнительных аберраций, вносимых отклоняющим полем корректора. После отклонения в магнитном поле электроны попадают в поле
электронного зеркала 2 с центром кривизны в точке О, которое осуществляет коррекцию сферической и (или) осевой хроматической аберраций электронной линзы 3. Для этого сферическая и (или) осевая хроматическая аберрации электронного зеркала 2 подбираются так, что они равны по величине и противоположны по знаку соответствующим аберрациям электронной линзы 3. При таком подборе все электронные траектории частиц, исходящие из центральной точки объекта 4, независимо от апертурных углов и (или) разброса энергий, после отражения от электронного зеркала 2 направляются строго (без рассеяния) на центральную точку О отклоняющего магнитного поля. Таким образом, электронное зеркало 2 своими аберрациями компенсирует аберрации электронной линзы 3 и формирует в окрестности точки О перевернутое виртуальное изображение с коэффициентом оптического увеличения, равным -1. Далее пучок электронов проходит магнитное поле в обратном направлении и после повторного поворота его оптической оси вокруг точки О в окрестности этой точки формируется виртуальное изображение объекта, очищенное от основных аберраций электронной линзы 3. При необходимости получения действительного изображения следует применить фокусирующую электронную линзу 5, которая в плоскости 6 создаст действительное изображение объекта. При этом зеркало 2 может быть рассчитано так, чтобы скомпенсировать аберрации обеих линз - З и 5.
В качестве примера возможного использования заявляемого б
корректора ниже приведены результаты расчета корректора аберраций, предназначенного для компенсации сферической аберрации иммерсионного объектива, действующего эмиссионного электронного микроскопа. (A.R. Walker, М. Rignall, R. Badheka and А. Dr Fanis. // Conf. Handbook of Eighth Int. Conf. on Charged Particle Optics (CPO-8), Singapore, 2010, РЛ60-161.). При общей длине электронно-оптического тракта микроскопа, равной 40,9 см, коэффициент сферической аберрации его иммерсионного объектива составляет величину Cs =32261 см.
В качестве корректора аберраций оказалось возможным использовать сравнительно простое устройство, содержащее магнитный дефлектор 1, который имеет вид плоскопараллельных магнитных полюсов круглой формы с общей осью симметрии. Электронное зеркало 2 представляет собой простое двухэлектродное осесимметричное электростатическое зеркало. Первый электрод зеркала (со стороны входа пучка) имеет цилиндрическую форму с внутренним диаметром D, а внутренняя поверхность второго электрода (отражателя) представляет собой вогнутую сферу с радиусом R=0,8 D.
На фиг. 2 и 3 приведены результаты расчета параметров двухэлектродного электростатического зеркала для корректора сферической аберрации этого иммерсионного объектива. При расчетах отбирались такие случаи, когда значение коэффициента сферической аберрации зеркала было равно по абсолютной
величине, но противоположно по знаку по отношению к значению коэффициента сферической аберрации иммерсионного объектива.
На фигуре 2 дана зависимость расстояния от центра кривизны круглого магнита до середины зазора между первым и вторым электродами зеркала Rc от значения внутреннего диаметра D
первого цилиндрического электрода зеркала.
На фигуре. 3 дана зависимость отношения потенциала на втором отражающем электроде зеркала (запирающего потенциала)
V2 к потенциалу ускоряющего напряжения иммерсионного
объектива VI от значения внутреннего диаметра D первого цилиндрического электрода зеркала.
Приведенные зависимости дают достаточно широкие возможности для инженерной проработки корректора сферической аберрации данного иммерсионного объектива.
Преимущества предлагаемого корректора аберраций электронных линз:
1. простая конструкция магнитного дефлектора;
2. отсутствие аберраций, вносимых магнитным дефлектором;
3. простая конструкция корректора аберраций в целом и высокая технологичность его изготовления;
4. возможность коррекции наиболее важных аберраций электронных линз: сферической и осевой хроматической одновременно.
Claims
1. Корректор аберраций электронных линз, содержащий магнитный дефлектор с осевой симметрией и осесимметричное электростатическое электронное зеркало, отличающийся тем, что центр кривизны электростатического электронного зеркала совмещен с центральной точкой на оси симметрии магнитного дефлектора.
2. Корректор аберраций электронных линз по п.1, отличающийся тем, что магнитный дефлектор содержит электроды электростатической системы, ось симметрии которых совмещена с осью симметрии магнитного дефлектора.
3. Корректор аберраций электронных линз по п.2, отличающийся тем, что электростатическое электронное зеркало содержит магнитные элементы, ось симметрии которых совмещена с осью симметрии электростатического электронного зеркала.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KZ2011/1217.1 | 2011-11-22 | ||
KZ20111217 | 2011-11-22 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2013077715A1 true WO2013077715A1 (ru) | 2013-05-30 |
Family
ID=48470089
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/KZ2012/000006 WO2013077715A1 (ru) | 2011-11-22 | 2012-08-31 | Корректор аберраций электронных линз |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
WO (1) | WO2013077715A1 (ru) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1167130A (ja) * | 1997-08-18 | 1999-03-09 | Topcon Corp | 電子線光学装置 |
RU2240503C1 (ru) * | 2003-03-31 | 2004-11-20 | Институт автоматики и электрометрии СО РАН | Дифракционный интерферометр (варианты) |
US7348566B2 (en) * | 2006-02-28 | 2008-03-25 | International Business Machines Corporation | Aberration-correcting cathode lens microscopy instrument |
RU2362234C1 (ru) * | 2007-10-03 | 2009-07-20 | Вячеслав Данилович Саченко | Корпускулярно-оптическая система формирования изображения (варианты) |
JP2010114068A (ja) * | 2008-10-06 | 2010-05-20 | Jeol Ltd | 荷電粒子線装置の色収差補正装置及びその補正方法 |
US20100148086A1 (en) * | 2007-05-15 | 2010-06-17 | Ho Seob Kim | Magnetic deflector for an electron column |
US7787188B2 (en) * | 2005-05-23 | 2010-08-31 | Olympus Imaging Corp. | Image pickup apparatus |
-
2012
- 2012-08-31 WO PCT/KZ2012/000006 patent/WO2013077715A1/ru active Application Filing
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1167130A (ja) * | 1997-08-18 | 1999-03-09 | Topcon Corp | 電子線光学装置 |
RU2240503C1 (ru) * | 2003-03-31 | 2004-11-20 | Институт автоматики и электрометрии СО РАН | Дифракционный интерферометр (варианты) |
US7787188B2 (en) * | 2005-05-23 | 2010-08-31 | Olympus Imaging Corp. | Image pickup apparatus |
US7348566B2 (en) * | 2006-02-28 | 2008-03-25 | International Business Machines Corporation | Aberration-correcting cathode lens microscopy instrument |
US20100148086A1 (en) * | 2007-05-15 | 2010-06-17 | Ho Seob Kim | Magnetic deflector for an electron column |
RU2362234C1 (ru) * | 2007-10-03 | 2009-07-20 | Вячеслав Данилович Саченко | Корпускулярно-оптическая система формирования изображения (варианты) |
JP2010114068A (ja) * | 2008-10-06 | 2010-05-20 | Jeol Ltd | 荷電粒子線装置の色収差補正装置及びその補正方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
ZHUKOV V.A. ET AL.: "Axially Symmetric Composite Electromagnetic Mirror for Perfect Axial-Aberration Correction", RUSSIAN MICROELECTRONICS, vol. 35, no. 6, 2006, pages 372 - 381, XP019437705 * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8178850B2 (en) | Chromatic aberration corrector for charged-particle beam system and correction method therefor | |
JP3269575B2 (ja) | 鏡補正器を有する、荷電素粒子ビーム用結像系 | |
JP6490772B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
US9793088B2 (en) | Two-stage dodecapole aberration corrector for charged-particle beam | |
JP3985057B2 (ja) | 粒子光学機器のレンズ収差補正用補正装置 | |
KR101405901B1 (ko) | 전자빔장치 및 수차보정광학장치 | |
US7947964B2 (en) | Charged particle beam orbit corrector and charged particle beam apparatus | |
EP1381073A1 (en) | Aberration-corrected charged-particle optical apparatus | |
JP2004519084A (ja) | ミラー補正器を有する粒子ビームシステム | |
JP2009054581A (ja) | 荷電粒子ビーム用軌道補正器、及び、荷電粒子ビーム装置 | |
US9466454B2 (en) | Spin rotation device | |
US8785880B2 (en) | Chromatic aberration corrector and electron microscope | |
EP1432006A2 (en) | Energy filter and electron microscope | |
US8314402B2 (en) | Corrector | |
CN110660633B (zh) | 维恩过滤器和带电粒子束成像设备 | |
US20040000646A1 (en) | Array for achromatic imaging of a pulsed particle ensemble | |
US8362442B2 (en) | Corrector | |
JP4343951B2 (ja) | 荷電粒子ビーム系用の単段式荷電粒子ビームエネルギー幅低減系 | |
EP3979296A2 (en) | Method and system for correcting two-fold, fifth-order parasitic aberrations in charged particle systems | |
WO2013077715A1 (ru) | Корректор аберраций электронных линз | |
EP3731255B1 (en) | Energy filter and charged particle beam apparatus | |
SU1075329A1 (ru) | Электронна ахроматическа линза | |
CN117542712A (zh) | 用于sem的简单球面像差校正器 | |
Egerton et al. | Electron Optics | |
CN117542713A (zh) | 用于sem的简单球面像差校正器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 12851421 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 12851421 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |