JP5147478B2 - 基板の配線形成方法 - Google Patents
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Description
図1に、本発明に係る基板配線形成装置の構成図を示す。図1(A)は基板配線形成装置の構成図、図1(B)は主要部分の説明図である。図1(A)、(B)において、基板配線形成装置11は、レーザ照射手段12、金属線材供給手段13及び線材保持治具14を含んで構成される。
12 レーザ照射手段
12A,12B レーザ光
13 金属線材供給手段
14 線材保持治具
15 基板基材
21 線材供給部
22 供給ノズル
31 線材載置台
32,33 線材固定ローラ
41 配線パターン
Claims (1)
- 基板基材上に導電性金属材で配線パターンを形成する基板の配線形成方法であって、
前記基板基材上に形成させる所定の配線パターンに応じた位置に、配線の基材となる前記導電性金属材の金属線材を順次供給するステップと、
前記順次供給された金属線材の先端部分をレーザ照射手段からのレーザ照射により溶解させて前記基板基材上に当該溶解金属を固着させ、当該レーザ照射手段及び金属線材と当該基板基材とを相対的に移動させて配線パターンとさせるステップと、
を含むことを特徴とする基板の配線形成方法。
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