JP5142273B2 - 中性粒子質量分析装置及び分析方法 - Google Patents
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Description
SIMSは、鉄鋼や半導体産業では、従来から不可欠な分析手法であるが、近年、クラスターイオンビームを用いたSIMS分析(いわゆる、“クラスターSIMS”)がバイオメディカル試料のイメージング質量分析等にも非常に有効であることが知られるようになり、その応用分野は急速に拡大している。
クラスターイオンビーム源としては、Au3 + (分子量 590.9 u) やC60 + (分子量 720 u) を用いたイオン源が市販され、これらのクラスターイオンビームを用いたSIMS分析が注目を集めている。(非特許文献1参照)
一般的に、スパッタリングによって試料表面から放出される全粒子に対する二次イオンの量は、高々1%程度に過ぎず、スパッタリングされた粒子のほとんどは電気的に中性な粒子である。また、二次イオンとは異なり、中性粒子の場合には、定量化を困難にしているマトリクス効果がないことも知られている。(非特許文献2参照)
従って、試料表面から放出された中性粒子を、何らかの方法を用いてポストイオン化し、その後で質量分析することによって定量性ならびに感度の向上が可能となる。(特許文献2参照)
なおスパッタ中性粒子質量分析法は、二次中性粒子質量分析法(SNMS:Secondary Neutral Mass Spectrometry)と表記されることも多いが、どちらも英文の短縮表記はSNMSであるため、以下では、“SNMS”と表記することにする。
SNMSにおけるポストイオン化手法としては、電子線、プラズマ、レーザー等を用いる方式が報告されている。(特許文献2参照)
光イオン化を効率良く達成するためには、レーザー光を集光して光子密度を上げる必要があるが、放出される中性粒子は、ほぼ等方的に放出されるため、実際にレーザー光に捉えられる中性粒子は、スパッタされた全量の極僅かとなってしまうため、結果として感度が低くなってしまう。
同様に、電子照射やプラズマ等を用いる手法においても、感度等の問題があり、実用には至っていない。(特許文献2参照)
また本発明の課題は、質量の大きな高分子領域( m/z が大きい)の二次粒子の測定に当たって、上記フラグメンテーションを発生させない中性粒子質量分析装置及び分析方法を提供することである。
(1)分析試料に粒子ビームを照射する手段と、分析試料表面近傍から放出される電気的に中性な粒子をポストイオン化するエレクトロスプレー手段と、ポストイオン化された該中性な粒子を質量分析手段へ導くイオン輸送手段とを備えた中性粒子質量分析装置。
(2)上記エレクトロスプレー手段は、電界レンズを用いてエレクトロスプレーに起因するイオンを供給することを特徴とする(1)に記載の中性粒子質量分析装置。
(3)上記エレクトロスプレー手段は、磁界レンズを用いてエレクトロスプレーに起因するイオンを供給することを特徴とする(1)に記載の中性粒子質量分析装置。
(4)上記エレクトロスプレー手段は、絶縁性かつ、入口部と出口部にエレクトロスプレーに起因するイオンを輸送するための電界を形成できる構造を有する細管を用いてイオンを供給することを特徴とする(1)に記載の中性粒子質量分析装置。
(5)分析試料に粒子ビームを照射し、分析試料表面近傍から放出される電気的に中性な粒子をエレクトロスプレーによりポストイオン化し、ポストイオン化された該中性な粒子を質量分析手段へ導くことを特徴とする中性粒子の質量分析方法。
(1)エレクトロスプレーによって放出されたイオンは、分析試料の周囲に満遍なくシャワー状に輸送することが可能であるため、中性粒子のポストイオン化が可能となる空間を非常に大きくすることができ、結果として高感度な分析が可能となる。
(2)中性粒子のポストイオン化により、分析試料中の母材の影響(マトリクス効果)等の問題が解決されるため、定量的な分析が可能となる。
(3)従来のように、レーザーや電子衝撃等を用いるポストイオン化法では、イオン化の際に中性粒子は過剰なエネルギーを受け取らざるを得ず、結果として分解、つまりフラグメントイオンの生成が避けられないという深刻な問題があるが、本発明では、プトロン(H+)やハイドライド(H-)の移動反応等のソフトなイオン化過程を用いてポストイオン化を行うため、過剰なエネルギーが中性粒子に内在することが避けられ、結果としてフラグメンテーションを抑制しながらポストイオン化が可能となる。
なお、エレクトロスプレーは、ライフサイエンスなどの質量分析分野においては、エレクトロスプレーイオン化(ESI:Electrospray Ionizaiton)として広く応用されている。ESIは、高電圧をかけた細管に溶液試料を供給し、先端から大気圧下に帯電液滴を噴霧する方法である。大気中に放出された帯電液滴は溶媒の蒸発に伴い電荷密度が増大し、ついにクーロン斥力がレイリーリミットを越えるとクーロン崩壊し、気相イオンとなる。生成された気相中のイオンは、その後、高真空領域へ輸送される。
例えば、エレクトロスプレーによって気相中に生成されたイオン(例えば、プロトンH+など)は、中性粒子から電子(e-)を引き抜いたり、プロトン(H+)を付与する等の反応を起こし、結果として中性粒子をソフトにイオン化できる。
エレクトロスプレー部では、キャピラリー先端から気相中にイオンが放出される。その後、放出されたイオンは、分析試料付近へ輸送される。
分析試料に対する一次イオンビームの照射によって、分析試料表面から放出された中性粒子は、エレクトロスプレーにより供給されたイオンとの相互作用(プロトン授受反応等のイオン化反応)により、ソフトにポストイオン化がなされる。ポストイオン化された粒子は、その後、質量分析部へ輸送され、質量分析が行われる。
図2は、FAB法に対する、本発明に係る、中性粒子質量分析装置の他の実施例の概略図である。基本的に、図1と同じであるが、一次ビームがイオンビームではなく、電気的に中性な粒子ビームである点で相違している。
さらに一般的に、分析試料が電気的に絶縁性の場合には、イオンビーム照射に起因する分析試料のチャージアップが問題になるが、エレクトロスプレーにより生成されたイオンが分析試料表面に供給されるため、分析試料のチャージアップを抑制する効果も期待できる。
なお、本発明は、既存の二次イオン質量分析(SIMS)装置に容易に応用することが可能である。SIMSは、鉄鋼や半導体などのナノテクノロジー計測技術分野において、欠くことのできない重要な技術であり、最近ではライフサイエンス分野におけるイメージング質量分析技術等としても、その重要性が広く認識されるようになってきている。本発明を、既存のSIMS装置に応用し、中性粒子の質量分析を行うように改造することは比較的容易であり、SIMS分析の課題であった定量性の向上と高感度化が実現される。
Claims (3)
- 真空中の分析試料に粒子ビームを照射する手段と、分析試料表面近傍から放出される電気的に中性な粒子をポストイオン化するエレクトロスプレー手段と、ポストイオン化された該中性な粒子を質量分析手段へ導くイオン輸送手段とを備えた中性粒子質量分析装置であって、
上記エレクトロスプレー手段において、大気中または真空中においてキャピラリの先端から前記ポストイオン化のためのイオンを含有する溶液を霧状に噴霧してイオンを発生させ、
前記発生したイオンを、電界レンズを用いて前記分析試料表面に輸送することを特徴とする中性粒子質量分析装置。 - 上記エレクトロスプレー手段において、前記電界レンズに代わり、前記発生したイオンを、磁界レンズを用いて前記分析試料表面に輸送することを特徴とする請求項1に記載の中性粒子質量分析装置。
- 上記エレクトロスプレー手段において、前記電界レンズに代わり、前記発生したイオンを、絶縁性かつ、入口部と出口部に前記発生したイオンを輸送するための電界を形成できる構造を有する細管を用いて前記分析試料表面に輸送することを特徴とする請求項1に記載の中性粒子質量分析装置。
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