JP5138316B2 - Plant cultivation method - Google Patents

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Description

本発明は、所定の植物ストレス耐性付与剤又は植物ストレス耐性付与組成物を、ストレス環境下にある植物に対して、例えば植物の根・茎・葉面若しくは果実に葉面散布、土壌灌注等の方法で施用する、植物ストレス耐性付与方法に関する。ここで、以下、「植物」は、植物の文言自体から認識され得るもの、野菜、果実、果樹、穀物、種子、球根、草花、香草(ハーブ)、分類学上の植物等を表すものとする。   The present invention provides a predetermined plant stress tolerance imparting agent or plant stress tolerance imparting composition to plants in a stress environment, for example, foliar spraying on plant roots, stems, leaves or fruits, soil irrigation, etc. It is related with the plant stress tolerance imparting method applied by the method. Here, hereinafter, the “plant” represents one that can be recognized from the wording of the plant itself, vegetable, fruit, fruit tree, grain, seed, bulb, flower, herb (herb), taxonomic plant, etc. .

地球上における陸地の約3分の1は乾燥地に属し、今後の温暖化からさらなる乾燥地の増加が予想される。また人口増加による深刻な食糧不足対策として植物にとって乾燥地域、塩類集積地域、高温、低温とされる地域、すなわち従来では生育が困難、あるいは生育が悪化し、収量が低下する地域において、収量を改善、維持、増加する技術開発が急務となっている。   About one-third of the land on the earth belongs to arid land, and further arid land is expected to increase due to future warming. In addition, as a countermeasure against serious food shortages due to population growth, yields are improved in dry areas, salt accumulation areas, areas where temperatures are high and low, that is, areas where growth is difficult or growth has deteriorated and yield has declined. There is an urgent need to develop, maintain and increase technology.

植物は自然界や人工的な環境において生育する際、温度(高温、低温、凍結)、強風、光強度(強光、弱光)、乾燥、無機物の毒性(塩類、重金属、アルミニウム等)、酸素、機械、病害虫などの様々なストレスを受ける。しかし植物は、動物のように移動によって様々なストレスから自らを防御することができない。そこで植物は、ストレス耐性を獲得するため、ストレスを受けた場合、様々な物質を生体内で合成することが知られている。たとえば、プロリン、グリシンベタイン、糖類などの適合溶質である(非特許文献1)。また前記のストレスを受けた場合、植物はアブシジン酸等の老化ホルモンを生成し、生育は低下あるいは停止し、その結果収量は低下してしまうことが知られている。   When plants grow in nature or artificial environments, temperature (high temperature, low temperature, freezing), strong wind, light intensity (strong light, weak light), drying, inorganic toxicity (salts, heavy metals, aluminum, etc.), oxygen, Subject to various stresses such as machines and pests. However, plants cannot protect themselves from various stresses by moving like animals. In order to acquire stress tolerance, plants are known to synthesize various substances in vivo when stressed. For example, it is a compatible solute such as proline, glycine betaine, and sugar (Non-Patent Document 1). In addition, it is known that when subjected to the stress described above, plants produce aging hormones such as abscisic acid, and the growth decreases or stops, resulting in a decrease in yield.

このような植物のストレス耐性を向上する方法としては、選抜や育種による方法や、遺伝子組み替え(特許文献1、2)、グリシンベタイン等の薬剤(特許文献3)、アミノレブリン酸(特許文献4)、ケイ酸(非特許文献2)施用などがあるが、これらはストレスを若干緩和させる程度で十分な効果は得られず、現在実用化されているものはない。また、ステアリルアルコール等、特定の化合物を農作物用の低温耐性向上剤として用いることが知られている(特許文献5)。
特開2002−262885号公報 特開2002−369634号公報 特開平10−262457号公報 特開平8−151304号公報 特開2002−265307号公報 「蛋白質 核酸 酵素」(共立出版) vol.44 No.15 PP54−65 1999 「根の研究」(根研究会) vol.14(2):PP41−49 2005
As methods for improving the stress tolerance of such plants, methods such as selection and breeding, gene recombination (patent documents 1 and 2), drugs such as glycine betaine (patent document 3), aminolevulinic acid (patent document 4), Although there is application of silicic acid (Non-Patent Document 2), these effects cannot be obtained enough to slightly relieve stress, and none are currently in practical use. In addition, it is known to use a specific compound such as stearyl alcohol as a low temperature tolerance improver for agricultural products (Patent Document 5).
JP 2002-262885 A JP 2002-369634 A JP-A-10-262457 JP-A-8-151304 JP 2002-265307 A “Protein Nucleic Acid Enzyme” (Kyoritsu Shuppan) vol. 44 no. 15 PP54-65 1999 “Study of Roots” (Root Research Society) vol. 14 (2): PP41-49 2005

本発明の課題は、植物に対する様々なストレスが生じる環境においても生育を促進するようなストレス耐性を植物に付与する方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method of imparting stress resistance to plants that promotes growth even in an environment in which various stresses on the plants occur.

本発明は、(A)下記一般式(1)で表される化合物からなる植物ストレス耐性付与剤を、植物ストレス率が111〜200%の栽培条件にある植物に施用する、植物ストレス耐性(低温耐性を除く)付与方法に関する。   The present invention applies (A) a plant stress tolerance imparting agent comprising a compound represented by the following general formula (1) to a plant under cultivation conditions having a plant stress rate of 111 to 200% (low temperature) (Excluding tolerance).

Figure 0005138316
Figure 0005138316

(式中、R1は炭素数10〜22の炭化水素基、R2は水素原子、水酸基又は炭素数1〜24の炭化水素基、R3は水素原子又は炭素数1〜24の炭化水素基を表す。) (In the formula, R 1 is a hydrocarbon group having 10 to 22 carbon atoms, R 2 is a hydrogen atom, a hydroxyl group or a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, R 3 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms. Represents.)

また、本発明は、(A)上記一般式(1)で表される化合物からなる植物ストレス耐性付与剤、もしくは、(A)上記一般式(1)で表される化合物〔以下、化合物(A)という〕、並びに(B)糖誘導体型界面活性剤及び糖アルコール誘導体型界面活性剤から選ばれる一種以上の界面活性剤〔以下、化合物(B)という〕、(C)ケイ素化合物〔以下、化合物(C)という〕、(D)ベタイン〔以下、化合物(D)という〕、(E)アミノ酸(トリプトファンを除く)〔以下、化合物(E)という〕、(F)抗酸化剤〔以下、化合物(F)という〕、(G)オーキシン生合成経路中間体物質(シキミ酸からインドール酢酸までの生合成経路)〔以下、化合物(G)という〕及び(H)糖類〔以下、化合物(H)という〕、からなる群より選ばれる1種以上の化合物、を含有する植物ストレス耐性付与剤組成物を、植物ストレス率が111〜200%の栽培条件にある植物に施用する、植物ストレス耐性付与方法に関する。   The present invention also relates to (A) a plant stress tolerance imparting agent comprising a compound represented by the above general formula (1), or (A) a compound represented by the above general formula (1) [hereinafter referred to as compound (A). )], And (B) one or more surfactants selected from sugar derivative surfactants and sugar alcohol derivative surfactants (hereinafter referred to as compound (B)), (C) silicon compounds (hereinafter referred to as compounds) (Referred to as (C)), (D) betaine (hereinafter referred to as compound (D)), (E) amino acid (excluding tryptophan) (hereinafter referred to as compound (E)), (F) antioxidant (hereinafter referred to as compound ( F)], (G) auxin biosynthetic pathway intermediate substance (biosynthetic pathway from shikimic acid to indoleacetic acid) [hereinafter referred to as compound (G)] and (H) saccharide [hereinafter referred to as compound (H)] Selected from the group consisting of One or more compounds, a plant stress tolerance imparting composition containing that plant stress rate is applied to the plant in the 111 to 200% of the cultivation conditions, relating to plant stress tolerance imparting method.

本発明によれば、植物に対して、塩ストレス、温度ストレス、乾燥ストレスといった種々のストレスに対する耐性を付与することができる。そのため、植物に対する様々なストレスが生じる環境においても植物の生育を促進することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, tolerance with respect to various stress, such as salt stress, temperature stress, and drought stress, can be provided with respect to a plant. Therefore, the growth of the plant can be promoted even in an environment where various stresses occur on the plant.

<化合物(A)>
一般式(1)において、R1、R2、R3の炭化水素基は、それぞれ飽和、不飽和の何れでも良く、好ましくは飽和であり、また直鎖、分岐鎖、環状の何れでも良く、好ましくは直鎖又は分岐鎖、より好ましくは直鎖である。また、炭化水素基の総炭素数は奇数でも偶数でもよいが、偶数が好ましい。
<Compound (A)>
In the general formula (1), the hydrocarbon groups of R 1 , R 2 and R 3 may be either saturated or unsaturated, preferably saturated, and may be linear, branched or cyclic, Preferably it is a straight chain or branched chain, more preferably a straight chain. The total carbon number of the hydrocarbon group may be an odd number or an even number, but an even number is preferable.

また、R1、R2、R3の炭素数の合計は、何れも50以下が好ましく、より好ましくは12〜48、更に好ましくは16〜44である。 Also, the total number of carbon atoms of R 1, R 2, R 3 are all preferably 50 or less, more preferably 12 to 48, more preferably from 16 to 44.

一般式(1)において、R1の炭素数は14〜22が好ましく、より好ましくは14〜20、更に好ましくは14〜18である。また、一般式(1)で表される化合物は、総炭素数が12〜48、更に16〜28、より更に16〜24であることが好ましい。更に、総炭素数が12〜24で水酸基を1個有するものが好ましく、総炭素数が16〜22で水酸基を1個有するものがより好ましい。一般式(1)で表される化合物の具体例としては、以下のようなものが挙げられる。 In the general formula (1), the carbon number of R 1 is preferably 14 to 22, more preferably 14 to 20, more preferably from 14 to 18. Further, the compound represented by the general formula (1) preferably has a total carbon number of 12 to 48, more preferably 16 to 28, and even more preferably 16 to 24. Further, those having a total carbon number of 12 to 24 and one hydroxyl group are preferred, and those having a total carbon number of 16 to 22 and one hydroxyl group are more preferred. Specific examples of the compound represented by the general formula (1) include the following.

(A1)
CH3(CH2s-1OH(sは12〜24、好ましくは16〜24、更に好ましくは16〜20の整数)で表される1−アルカノールが挙げられる。すなわち、一般式(1)で表される化合物として、炭素数12〜24の1価アルコールが挙げられる。具体的には、1−ドデカノール、1−トリデカノール、1−テトラデカノール、1−ペンタデカノール、1−ヘキサデカノール、1−ヘプタデカノール、1−オクタデカノール、1−ノナデカノール、1−イコサノール、1−ヘンイコサノール、1−ドコサノール、1−トリコサノール、1−テトラコサノールが挙げられる。
(A1)
1-alkanol represented by CH 3 (CH 2 ) s-1 OH (s is an integer of 12 to 24, preferably 16 to 24, more preferably 16 to 20). That is, as the compound represented by the general formula (1), a monohydric alcohol having 12 to 24 carbon atoms can be given. Specifically, 1-dodecanol, 1-tridecanol, 1-tetradecanol, 1-pentadecanol, 1-hexadecanol, 1-heptadecanol, 1-octadecanol, 1-nonadecanol, 1-icosanol 1-henicosanol, 1-docosanol, 1-tricosanol, 1-tetracosanol.

(A2)
CH3CH(OH)(CH2p-3CH3(pは12〜24、好ましくは16〜24、更に好ましくは16〜20の整数)で表される2−アルカノールが挙げられる。具体的には、2−ドデカノール、2−トリデカノール、2−テトラデカノール、2−ペンタデカノール、2−ヘキサデカノール、2−ヘプタデカノール、2−オクタデカノール、2−ノナデカノール、2−イコサノール等が挙げられる。
(A2)
2-alkanol represented by CH 3 CH (OH) (CH 2 ) p-3 CH 3 (p is an integer of 12 to 24, preferably 16 to 24, more preferably 16 to 20). Specifically, 2-dodecanol, 2-tridecanol, 2-tetradecanol, 2-pentadecanol, 2-hexadecanol, 2-heptadecanol, 2-octadecanol, 2-nonadecanol, 2-icosanol Etc.

(A3)
CH2=CH(CH2q-2OH(qは12〜24、好ましくは16〜24、更に好ましくは16〜20の整数)で表される末端不飽和アルコールが挙げられる。具体的には、11−ドデセン−1−オール、12−トリデセン−1−オール、15−ヘキサデセン−1−オール等が挙げられる。
(A3)
CH 2 = CH (CH 2) q-2 OH (q is 12 to 24, preferably 16 to 24, more preferably an integer of 16 to 20) include terminally unsaturated alcohol represented by. Specific examples include 11-dodecene-1-ol, 12-tridecene-1-ol, 15-hexadecene-1-ol, and the like.

(A4)
その他の不飽和長鎖アルコールとして、オレイルアルコール、エライジルアル、リノレイルアルコール、リノレニルアルコール、エレオステアリルアルコール(α又はβ)、リシノイルアルコール等が挙げられる。
(A4)
Examples of other unsaturated long chain alcohols include oleyl alcohol, elaidyl alcohol, linoleyl alcohol, linoleenyl alcohol, eleostearyl alcohol (α or β), ricinoyl alcohol, and the like.

(A5)
HOCH2CH(OH)(CH2r-2H(rは12〜24、好ましくは16〜24、更に好ましくは16〜20の整数)で表される1,2−ジオールが挙げられる。具体的には、1,2−ドデカンジオール、1,2−テトラデカンジオール、1,2−ヘキサデカンジオール、1,2−オクタデカンジオール等が挙げられる。
(A5)
HOCH 2 CH (OH) (CH 2) r-2 H (r is 12 to 24, preferably 16 to 24, more preferably an integer of 16 to 20) include 1,2-diol represented by. Specific examples include 1,2-dodecanediol, 1,2-tetradecanediol, 1,2-hexadecanediol, 1,2-octadecanediol, and the like.

植物ストレス耐性付与の観点から、上記(A1)〜(A5)のうち、(A1)、(A2)、(A4)、(A5)が好ましく、(A1)、(A2)、(A4)がより好ましく、(A1)、(A4)が更に好ましく、(A1)がより更に好ましい。   Of the above (A1) to (A5), (A1), (A2), (A4), and (A5) are preferable, and (A1), (A2), and (A4) are more preferable. Preferably, (A1) and (A4) are more preferable, and (A1) is still more preferable.

化合物(A)からなる植物ストレス耐性付与剤を、植物の地上部または地下部に施用するには、当該化合物(A)を含有する処理液、好ましくは水を含有する処理液を用いることができる。その際、処理液中の化合物(A)の濃度は葉面散布の場合、0.1〜5000ppm、更に1〜1000ppm、より更に10〜500ppmが好ましく、また、散布1回当たりの化合物(A)の施用量は、0.01g/10アール(以下10アールを10aと略記する)〜500g/10a、更に0.1g/10a〜100g/10a、より更に1g/10a〜50g/10aが好ましい。この範囲の施用量となるように処理液中の化合物(A)の濃度を調整することが植物ストレス耐性付与の観点から好ましい。   In order to apply the plant stress tolerance imparting agent comprising the compound (A) to the above-ground part or underground part of the plant, a treatment liquid containing the compound (A), preferably a treatment liquid containing water, can be used. . In that case, in the case of foliar spraying, the concentration of the compound (A) in the treatment liquid is preferably 0.1 to 5000 ppm, more preferably 1 to 1000 ppm, and even more preferably 10 to 500 ppm, and the compound (A) per spraying The application amount is preferably 0.01 g / 10 are (hereinafter abbreviated as 10 a) to 500 g / 10 a, more preferably 0.1 g / 10 a to 100 g / 10 a, and even more preferably 1 g / 10 a to 50 g / 10 a. From the viewpoint of imparting resistance to plant stress, it is preferable to adjust the concentration of the compound (A) in the treatment liquid so that the application rate is within this range.

また、土壌潅水の場合、処理液中の化合物(A)の濃度は、0.1〜1000ppm、更に1〜500ppm、より更に10〜200ppmが好ましく、また、潅水1回当たりの化合物(A)の施用量は、0.3g/10a〜3000g/10a、更に3g/10a〜1500g/10a、より更に30g/10a〜600g/10aが好ましい。この範囲の施用量となるように処理液中の化合物(A)の濃度を調整することが植物ストレス耐性付与の観点から好ましい。   Moreover, in the case of soil irrigation, the concentration of the compound (A) in the treatment liquid is preferably 0.1 to 1000 ppm, more preferably 1 to 500 ppm, and still more preferably 10 to 200 ppm, and the concentration of the compound (A) per irrigation The application rate is preferably 0.3 g / 10a to 3000 g / 10a, more preferably 3 g / 10a to 1500 g / 10a, and even more preferably 30 g / 10a to 600 g / 10a. From the viewpoint of imparting resistance to plant stress, it is preferable to adjust the concentration of the compound (A) in the treatment liquid so that the application rate is within this range.

また、粒剤で施用する場合、1回当たりの化合物(A)の施用量は、0.1g/10a〜1000g/10a、更に10g/10a〜5000g/10a、更に50g/10a〜2500g/10a、更に100g/10a〜1200g/10a、更に300g/10a〜1000g/10aが好ましい。   Moreover, when applying with a granule, the application amount of the compound (A) per time is 0.1 g / 10a to 1000 g / 10a, further 10 g / 10a to 5000 g / 10a, further 50 g / 10a to 2500 g / 10a, Furthermore, 100g / 10a-1200g / 10a, Furthermore, 300g / 10a-1000g / 10a are preferable.

<化合物(B)>
化合物(B)は糖誘導体型界面活性剤及び糖アルコール誘導体型界面活性剤から選ばれる一種以上の界面活性剤であり、糖又は糖アルコールに疎水基がエステル結合、グリコシド結合又はアミド結合のいずれか1つの結合を含む構造を有する界面活性剤が好ましい。糖又は糖アルコールに疎水基がエステル結合した構造を有するものとしては、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、ソルビット脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビット脂肪酸エステル、ポリグリセリン、ポリグリセリン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレングリセリン脂肪酸エステル等が挙げられる。
<Compound (B)>
Compound (B) is one or more surfactants selected from a sugar derivative-type surfactant and a sugar alcohol derivative-type surfactant, and the sugar or sugar alcohol has any of an ester bond, glycoside bond, or amide bond with a hydrophobic group. A surfactant having a structure containing one bond is preferred. Examples of those having a structure in which a hydrophobic group is ester-bonded to sugar or sugar alcohol include sorbitan fatty acid ester, polyoxyalkylene sorbitan fatty acid ester, sucrose fatty acid ester, sorbit fatty acid ester, polyoxyalkylene sorbit fatty acid ester, polyglycerin, polyglycerin Examples include fatty acid esters, glycerin fatty acid esters, and polyoxyalkylene glycerin fatty acid esters.

また、糖又は糖アルコールに疎水基がグリコシド結合した構造を有するものとしては、アルキルグリコシド、アルキルポリグリコシド、ポリオキシアルキレンアルキル(ポリ)グリコシド、アルキル(ポリ)グリコシドを硫酸化したアルキル(ポリ)グリコシドサルフェート、リン酸化アルキル(ポリ)グリコシド、グリセリルエーテル化アルキル(ポリ)グリコシド、スルホコハク酸エステル化アルキル(ポリ)グリコシド、グリセリルエステル化アルキル(ポリ)グリコシド、カルボキシアルキル化アルキル(ポリ)グリコシド、カチオン化アルキル(ポリ)グリコシド、ベタイン化アルキル(ポリ)グリコシドが挙げられる。   Also, those having a structure in which a hydrophobic group is glycosidically bonded to sugar or sugar alcohol include alkyl glycosides, alkyl polyglycosides, polyoxyalkylene alkyl (poly) glycosides, and alkyl (poly) glycosides obtained by sulfating alkyl (poly) glycosides. Sulfates, phosphorylated alkyl (poly) glycosides, glyceryl etherified alkyl (poly) glycosides, sulfosuccinate esterified alkyl (poly) glycosides, glyceryl esterified alkyl (poly) glycosides, carboxyalkylated alkyl (poly) glycosides, cationized alkyls Examples include (poly) glycosides and betaylated alkyl (poly) glycosides.

また、糖又は糖アルコールに疎水基がアミド結合した構造を有するもの、例えばグルコースやフルクトースの脂肪酸アミド等の糖系脂肪酸アミドを用いることもできる。また、アミノ基を有する糖又は糖アルコールに疎水基がアミド結合した構造を有するもの、例えばN−メチルグルカミンの脂肪酸アミド等の糖系脂肪酸アミドを用いることができる。糖系脂肪酸アミドとしては、下記一般式(2)
11−CO−NR12X (2)
〔式中、R11は炭素数5〜17の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基もしくはアルケニル基、又はアルキル(炭素数1〜13)フェニル基であり、R12は水素原子、炭素数1〜18の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基もしくはアルケニル基、−(CH2CH(R13)O)c−H(ここで、R13は水素原子又はメチル基であり、cは0〜10の数である。)、−CH2CH2OH、−CH2CH(OH)CH3又は−CH2CH2CH2OHであり、Xは炭素数4〜30の糖残基からなるポリヒドロキシアルキル基である。〕
で表される化合物を好ましく使用することができる。
Further, those having a structure in which a hydrophobic group is amide-bonded to sugar or sugar alcohol, for example, sugar fatty acid amides such as glucose and fructose fatty acid amides can be used. Further, those having a structure in which a hydrophobic group is amide-bonded to a sugar or sugar alcohol having an amino group, for example, a sugar fatty acid amide such as a fatty acid amide of N-methylglucamine can be used. As the sugar fatty acid amide, the following general formula (2)
R 11 —CO—NR 12 X (2)
[Wherein, R 11 is a linear or branched alkyl group or alkenyl group having 5 to 17 carbon atoms, or an alkyl (carbon number 1 to 13) phenyl group, and R 12 is a hydrogen atom or carbon number 1 to 18 A linear or branched alkyl group or alkenyl group, — (CH 2 CH (R 13 ) O) c —H (where R 13 is a hydrogen atom or a methyl group, and c is a number from 0 to 10. -CH 2 CH 2 OH, -CH 2 CH (OH) CH 3 or -CH 2 CH 2 CH 2 OH, and X is a polyhydroxyalkyl group consisting of a sugar residue having 4 to 30 carbon atoms. is there. ]
The compound represented by can be preferably used.

式(2)におけるR11としては、炭素数5〜17の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基もしくはアルケニル基、又はアルキルフェニル基の中でも、R11COがカプリン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸から誘導される基を挙げることができ、更に、カプリン酸、ラウリン酸から誘導される基を好ましく挙げることができる。 R 11 in the formula (2) is a linear or branched alkyl or alkenyl group having 5 to 17 carbon atoms or an alkylphenyl group, and R 11 CO is capric acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid. And groups derived from palmitic acid, stearic acid, and isostearic acid, and groups derived from capric acid and lauric acid are preferred.

12の具体例としては、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、ステアリル基、イソステアリル基又は重合度2〜10のポリエチレングリコール基若しくはポリプロピレングリコール基、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピル基等を挙げることができる。中でも、水素原子、メチル基、エチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピル基を好ましく挙げることができる。 Specific examples of R 12 include hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, decyl group. , Dodecyl group, stearyl group, isostearyl group, polyethylene glycol group or polypropylene glycol group having a polymerization degree of 2 to 10, 2-hydroxyethyl group, 2-hydroxypropyl group, 3-hydroxypropyl group, and the like. Among these, a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 2-hydroxypropyl group, and a 3-hydroxypropyl group can be preferably exemplified.

尚、Xの炭素数4〜30の糖残基からなるポリヒドロキシアルキル基には、モノ−、ジ−又はオリゴサッカライド基とグリコシド結合している炭素数4〜7のポリヒドロキシアルキル基を含む。   The polyhydroxyalkyl group consisting of a sugar residue of 4 to 30 carbon atoms in X includes a 4 to 7 carbon polyhydroxyalkyl group that is glycosidically bonded to a mono-, di-, or oligosaccharide group.

化合物(B)としては、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、アルキルポリグリコシド、ショ糖脂肪酸エステルが植物ストレス耐性付与の観点からより好ましい。   As the compound (B), sorbitan fatty acid ester, polyoxyalkylene sorbitan fatty acid ester, alkyl polyglycoside, and sucrose fatty acid ester are more preferable from the viewpoint of imparting plant stress resistance.

ソルビタン脂肪酸エステルは、モノエステル体の比率が高いことが好ましく、HLB(Hydrophilic Lypophilic Balance)は3〜10の範囲が好ましい。またその疎水基を構成するアシル基は飽和、不飽和、直鎖、分岐鎖の何れでも良いが、炭素数8〜18であることが植物ストレス耐性付与の観点から好ましい。   The sorbitan fatty acid ester preferably has a high monoester ratio, and the HLB (Hydrophilic Lyophilic Balance) is preferably in the range of 3-10. The acyl group constituting the hydrophobic group may be saturated, unsaturated, linear or branched, but preferably has 8 to 18 carbon atoms from the viewpoint of imparting plant stress resistance.

アルキルポリグリコシドとしては、植物ストレス耐性付与の観点から、平均糖縮合度が1.1〜5.0であることが好ましく、1.1〜2.0であることが更に好ましい。また、糖骨格としてグルコース骨格を有し、平均糖縮合度が1.1〜2.0のものが好ましい。疎水基は飽和、不飽和、直鎖、分岐鎖の何れでも良いが炭素数8〜18が好ましく、更に好ましくは炭素数8〜14である。   As an alkyl polyglycoside, it is preferable that average sugar condensation degree is 1.1-5.0, and it is still more preferable that it is 1.1-2.0 from a viewpoint of plant stress tolerance provision. Further, those having a glucose skeleton as the sugar skeleton and an average sugar condensation degree of 1.1 to 2.0 are preferred. The hydrophobic group may be saturated, unsaturated, linear or branched, but preferably has 8 to 18 carbon atoms, and more preferably has 8 to 14 carbon atoms.

ショ糖脂肪酸エステルとしては、モノ、ジ、トリ、ポリエステル(テトラエステル以上)の混合物であるが、植物ストレス耐性付与の観点から、モノエステル及びジエステル含量が多くポリエステル含量が少なく、HLBが4〜18の範囲であることが好ましい。また、その疎水基を構成するアシル基は飽和、不飽和、直鎖、分岐鎖の何れでも良いが、炭素数8〜18であることが好ましい。   The sucrose fatty acid ester is a mixture of mono, di, tri, and polyester (tetraester or higher), but from the viewpoint of imparting plant stress resistance, the monoester and diester content is high, the polyester content is low, and the HLB is 4-18. It is preferable that it is the range of these. The acyl group constituting the hydrophobic group may be saturated, unsaturated, linear or branched, but preferably has 8 to 18 carbon atoms.

化合物(B)の処理液中の濃度は、植物体へ施用する際の濃度として、葉面散布する場合、0.01〜10000ppmが好ましく、0.1〜5000ppmがより好ましく、更に1〜2000ppmがより好ましい。土壌及び水耕栽培において地下部から施用する場合、0.01〜10000ppmが好ましく、0.1〜2000ppmがより好ましく、更に1〜1000ppmが好ましい。   The concentration of the compound (B) in the treatment solution is preferably 0.01 to 10000 ppm, more preferably 0.1 to 5000 ppm, and more preferably 1 to 2000 ppm as the concentration when applied to the plant body when spraying the leaves. More preferred. When applied from the underground in soil and hydroponics, 0.01 to 10000 ppm is preferable, 0.1 to 2000 ppm is more preferable, and 1 to 1000 ppm is more preferable.

<化合物(C)>
化合物(C)はケイ素化合物であり、ケイ素、ケイ酸、オルトケイ酸、ジケイ酸、トリケイ酸、ポリケイ酸、シランなどの無機ケイ素化合物、シリコーンオイル、有機シラン、シロキシド、シリルヒドリド、シレン、シリコーン界面活性剤などの有機ケイ素化合物が挙げられる。無機ケイ素化合物ではケイ素、ケイ酸、オルトケイ酸、ジケイ酸、トリケイ酸、ポリケイ酸が好ましく、更にケイ酸、オルトケイ酸、ジケイ酸、トリケイ酸がより好ましい。またシリコーンオイルは界面活性剤を混合し水に分散させることが好ましい。有機ケイ素化合物では、シリコーン界面活性剤が好ましく、更にポリオキシエチレンメチルポリシロキサンがより好ましい。
<Compound (C)>
Compound (C) is a silicon compound, inorganic silicon compounds such as silicon, silicic acid, orthosilicic acid, disilicic acid, trisilicic acid, polysilicic acid and silane, silicone oil, organic silane, siloxide, silylhydride, silene, silicone surface activity And organosilicon compounds such as agents. Among inorganic silicon compounds, silicon, silicic acid, orthosilicic acid, disilicic acid, trisilicic acid, and polysilicic acid are preferred, and silicic acid, orthosilicic acid, disilicic acid, and trisilicic acid are more preferred. The silicone oil is preferably mixed with a surfactant and dispersed in water. In the organosilicon compound, a silicone surfactant is preferable, and polyoxyethylene methyl polysiloxane is more preferable.

従って、化合物(C)としては、植物ストレス耐性付与の観点から、ケイ素、ケイ酸、オルトケイ酸、ジケイ酸、トリケイ酸、ポリケイ酸、シリコーンオイル、シリコーン界面活性剤からなる群より選ばれる一種以上の化合物が好ましい。   Accordingly, the compound (C) is one or more selected from the group consisting of silicon, silicic acid, orthosilicic acid, disilicic acid, trisilicic acid, polysilicic acid, silicone oil, and silicone surfactant from the viewpoint of imparting plant stress resistance. Compounds are preferred.

化合物(C)の処理液中の濃度は、植物体へ施用する際の濃度として、葉面散布する場合、植物ストレス耐性付与の観点から、0.01〜10000ppmが好ましく、0.1〜5000ppmがより好ましく、更に1〜2000ppmがより好ましい。土壌及び水耕栽培において地下部から施用する場合、植物ストレス耐性付与の観点から、0.01〜10000ppmが好ましく、0.1〜2000ppmがより好ましく、更に1〜1000ppmがより好ましい。   The concentration of the compound (C) in the treatment solution is preferably 0.01 to 10000 ppm, preferably 0.1 to 5000 ppm from the viewpoint of imparting plant stress resistance, when the foliar spray is applied as a concentration when applied to the plant body. More preferably, it is more preferably 1 to 2000 ppm. When applying from the underground in soil and hydroponics, 0.01 to 10000 ppm is preferable, 0.1 to 2000 ppm is more preferable, and 1 to 1000 ppm is more preferable from the viewpoint of imparting plant stress resistance.

<化合物(D)>
化合物(D)はベタイン化合物であり、グリシンベタイン、プロリンベタイン、アラニンベタイン、ベタイン系界面活性剤が挙げられる。ベタイン系界面活性剤としては、アルキルジメチルベタイン、アルキルヒドロキシエチルベタイン、アシルアミドプロピルヒドロキシプロピルアンモニアスルホベタイン、アシルアミドプロピルヒドロキシプロピルアンモニアスルホベタイン、リシノレイン酸アミドプロピルジメチルカルボキシメチルアンモニアベタイン、イミダゾリン系としては、アルキルカルボキシメチルヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、アルキルエトキシカルボキシメチルイミダゾリウムベタイン等が挙げられる。植物ストレス耐性付与の観点から、グリシンベタイン、アルキルジメチルベタインが好ましく、更にアルキルジメチルベタインのアルキル基は炭素数8〜24が好ましい。化合物(D)としては、グリシンベタイン及びアルキルジメチルベタインからなる群より選ばれる一種以上の化合物が好ましい。
<Compound (D)>
Compound (D) is a betaine compound, and examples thereof include glycine betaine, proline betaine, alanine betaine, and betaine surfactants. As betaine surfactants, alkyl dimethyl betaine, alkyl hydroxyethyl betaine, acylamidopropyl hydroxypropyl ammonia sulfobetaine, acylamidopropyl hydroxypropyl ammonia sulfobetaine, ricinoleic acid amidopropyl dimethylcarboxymethyl ammonia betaine, imidazoline series, Examples thereof include alkyl carboxymethyl hydroxyethyl imidazolinium betaine and alkyl ethoxy carboxymethyl imidazolium betaine. From the viewpoint of imparting plant stress resistance, glycine betaine and alkyldimethylbetaine are preferable, and the alkyl group of alkyldimethylbetaine preferably has 8 to 24 carbon atoms. The compound (D) is preferably one or more compounds selected from the group consisting of glycine betaine and alkyldimethylbetaine.

化合物(D)の処理液中の濃度は、植物体へ施用する際の濃度として、葉面散布する場合、植物ストレス耐性付与の観点から、0.1〜5000ppmが好ましく、0.1〜1000ppmがより好ましく、更に1〜500ppmがより好ましい。土壌及び水耕栽培において地下部から施用する場合、植物ストレス耐性付与の観点から、0.1〜10000ppmが好ましく、0.1〜2000ppmがより好ましく、更に1〜1000ppmがより好ましい。   The concentration of the compound (D) in the treatment solution is preferably 0.1 to 5000 ppm, more preferably 0.1 to 1000 ppm from the viewpoint of imparting plant stress resistance, when the foliar spray is applied as a concentration when applied to the plant body. More preferably, 1 to 500 ppm is more preferable. When applying from the underground in soil and hydroponics, 0.1 to 10,000 ppm is preferable, 0.1 to 2000 ppm is more preferable, and 1 to 1000 ppm is more preferable from the viewpoint of imparting plant stress resistance.

<化合物(E)>
化合物(E)はトリプトファンを除くアミノ酸であり、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、プロリン、フェニルアラニン、メチオニン、グリシン、セリン、トレオニン、システイン、グルタミン、アスパラギン、チロシン、リシン、ヒスチジン、アスパラギン酸、グルタミン酸などが挙げられる。植物ストレス耐性付与の観点から、プロリン、グルタミン酸及びアスパラギン酸からなる群より選ばれる一種以上の化合物が好ましい。
<Compound (E)>
Compound (E) is an amino acid excluding tryptophan, such as alanine, valine, leucine, isoleucine, proline, phenylalanine, methionine, glycine, serine, threonine, cysteine, glutamine, asparagine, tyrosine, lysine, histidine, aspartic acid, glutamic acid, etc. Can be mentioned. From the viewpoint of imparting plant stress tolerance, one or more compounds selected from the group consisting of proline, glutamic acid and aspartic acid are preferred.

化合物(E)の処理液中の濃度は、植物体へ施用する際の濃度として、葉面散布する場合、植物ストレス耐性付与の観点から、0.1〜10000ppmが好ましく、1〜5000ppmがより好ましく、更に10〜1000ppmがより好ましい。土壌及び水耕栽培において地下部から施用する場合、植物ストレス耐性付与の観点から、0.01〜5000ppmが好ましく、0.1〜1000ppmがより好ましく、更に1〜500ppmがより好ましい。   The concentration of the compound (E) in the treatment solution is preferably 0.1 to 10000 ppm, more preferably 1 to 5000 ppm from the viewpoint of imparting plant stress resistance when spraying leaves as the concentration when applied to the plant body. Furthermore, 10 to 1000 ppm is more preferable. When applying from the underground part in soil and hydroponics, 0.01 to 5000 ppm is preferable, 0.1 to 1000 ppm is more preferable, and 1 to 500 ppm is more preferable from the viewpoint of imparting plant stress resistance.

<化合物(F)>
化合物(F)は抗酸化剤であり、酸化防止剤、植物体内抗酸化酵素、植物由来抗酸化物質等がある。更に、植物由来抗酸化物質として、ビタミン類、カロチノイド類、フェノール類、テルペン類、ポリフェノール類等が挙げられる。具体的には、酸化防止剤としては、ジブチルヒドロキシトルエン(BHT)、ブチルヒドロキシアニソール(BHA)、アスコルビン酸、グアヤク脂、オリザノール、亜硫酸、亜硫酸水素、没食子酸nプロピル、亜燐酸水素等が挙げられ、植物体内抗酸化酵素としては、スーパーオキシドディスムターゼ、カタラーゼ、グルタチオンペルオキシターゼ等が挙げられ、植物由来抗酸化物質としては、カロテン、ゼアキサンチン、グルタチオン、カフェイン、フラボン、ケルセチン、ルチン、クロロフィル、サポニン、カフェイン、カテキン、ポリフェノール、セサミン、セサモール、アスタキサンチン、クルクミン、アスコルビン酸、α−トコフェロールなどが挙げられる。植物ストレス耐性付与の観点から、より好ましくはフラボン、ケルセチン、ルチン、クロロフィル、サポニン、カフェイン、カテキン、ポリフェノール、セサミン、セサモール、アスタキサンチン、クルクミン、アスコルビン酸及びα−トコフェロールからなる群より選ばれる一種以上の化合物であり、更に好ましくはケルセチン、サポニン、カテキン、α−トコフェロールである。
<Compound (F)>
Compound (F) is an antioxidant, and includes antioxidants, plant antioxidants, plant-derived antioxidants, and the like. Furthermore, examples of plant-derived antioxidants include vitamins, carotenoids, phenols, terpenes, and polyphenols. Specifically, examples of the antioxidant include dibutylhydroxytoluene (BHT), butylhydroxyanisole (BHA), ascorbic acid, guaiac fat, oryzanol, sulfurous acid, hydrogen sulfite, n-propyl gallate, hydrogen phosphite, and the like. Examples of plant antioxidants include superoxide dismutase, catalase, and glutathione peroxidase. Plant-derived antioxidants include carotene, zeaxanthin, glutathione, caffeine, flavone, quercetin, rutin, chlorophyll, saponin, cafe In, catechin, polyphenol, sesamin, sesamol, astaxanthin, curcumin, ascorbic acid, α-tocopherol and the like. From the viewpoint of imparting plant stress tolerance, more preferably one or more selected from the group consisting of flavone, quercetin, rutin, chlorophyll, saponin, caffeine, catechin, polyphenol, sesamin, sesamol, astaxanthin, curcumin, ascorbic acid and α-tocopherol More preferred are quercetin, saponin, catechin, and α-tocopherol.

化合物(F)の処理液中の濃度は、植物体へ施用する際の濃度として、葉面散布する場合、植物ストレス耐性付与の観点から、0.01〜5000ppmが好ましく、0.1〜1000ppmがより好ましく、更に1〜500ppmがより好ましい。土壌及び水耕栽培において地下部から施用する場合、植物ストレス耐性付与の観点から、0.01〜5000ppmが好ましく、0.05〜1000ppmがより好ましく、更に0.1〜500ppmがより好ましい。   The concentration of the compound (F) in the treatment solution is preferably 0.01 to 5000 ppm, more preferably 0.1 to 1000 ppm from the viewpoint of imparting plant stress resistance, when the foliar spray is applied as a concentration when applied to the plant body. More preferably, 1 to 500 ppm is more preferable. When applying from the underground part in soil and hydroponics, 0.01 to 5000 ppm is preferable, 0.05 to 1000 ppm is more preferable, and 0.1 to 500 ppm is more preferable, from the viewpoint of imparting plant stress resistance.

<化合物(G)>
化合物(G)は、植物体内におけるシキミ酸からインドール酢酸までの生合成経路におけるオーキシン生合成経路中間体物質であり、シキミ酸、コリスミ酸、アントラニル酸、トリプトファン、インドール−3−ピルビン酸、インドール−3−アセトアルデヒド、インドール−3−アセトアルドキシム、インドール−3−メチルグルコシノレート、インドール−3−アセトニトリル、トリプタミン、インドール酢酸が挙げられる。植物ストレス耐性付与の観点から、シキミ酸、アントラニル酸、トリプトファン及びインドール酢酸からなる群より選ばれる一種以上の化合物がより好ましい。
<Compound (G)>
Compound (G) is an auxin biosynthetic pathway intermediate substance in the biosynthetic pathway from shikimic acid to indoleacetic acid in the plant body. Shikimic acid, chorismic acid, anthranilic acid, tryptophan, indole-3-pyruvic acid, indole- Examples include 3-acetaldehyde, indole-3-acetoaldoxime, indole-3-methylglucosinolate, indole-3-acetonitrile, tryptamine, and indole acetic acid. From the viewpoint of imparting plant stress tolerance, one or more compounds selected from the group consisting of shikimic acid, anthranilic acid, tryptophan, and indoleacetic acid are more preferred.

化合物(G)の処理液中の濃度は、植物体へ施用する際の濃度として、葉面散布する場合、植物ストレス耐性付与の観点から、0.01〜5000ppmが好ましく、0.1〜1000ppmがより好ましく、更に1〜500ppmがより好ましい。土壌及び水耕栽培において地下部から施用する場合、植物ストレス耐性付与の観点から、0.01〜5000ppmが好ましく、0.05〜1000ppmがより好ましく、更に0.1〜500ppmがより好ましい。   The concentration of the compound (G) in the treatment solution is preferably 0.01 to 5000 ppm, more preferably 0.1 to 1000 ppm from the viewpoint of imparting plant stress resistance when spraying leaves as the concentration when applied to the plant body. More preferably, 1 to 500 ppm is more preferable. When applying from the underground part in soil and hydroponics, 0.01 to 5000 ppm is preferable, 0.05 to 1000 ppm is more preferable, and 0.1 to 500 ppm is more preferable, from the viewpoint of imparting plant stress resistance.

<化合物(H)>
化合物(H)は糖類であり、グリセロール、エリトリトール、エリトルロース、エリトロース、トレオース、キシロース、リボース、アラビノース、リキソース、デオキシリボース、リブロース、アラビトール、フルクトース、イノシトール、ラムノース、マンニトール、ソルビトール、グルコース、グルコン酸、マンノース、アルトロース、イドース、ガラクトース、キノボース、グルカル酸、グロース、ジギタロース、ジギトキソース、シマロース、ソルボース、タガロース、タロース、フコース、プシコース、ガラクチトール、イズロン酸、ガラクツロン酸、グルクロン酸、マンヌロン酸、ガラクトサミン、グルコサミン、フコサミン、マンノサミン、ムラミン酸、カードラン、マルチトール、トレハロース、メリビオース、スクロース、ラクトース、パラチノース、アガロビオース、イソマルトース、キシロビオース、ゲンチオビオース、コージオビオース、コンドロイシン、セロビオース、ソホロース、ニゲロース、ヒアロビウロン酸、マルトース、ラクツロース、ラミナリビオース、ルチノース、グルコシルスクロース、ラフィノース、ゲンチアノース、セロトリオース、マルトトリオース、メレンジトース、スタキオース、キシロオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、ゲンチオオリゴ糖、フルクトオリゴ糖、キトサンオリゴ糖、キチンオリゴ糖、セロオリゴ糖、シクロデキストリン、ペクチン、デンプン、アガロース、アミロース、アミロペクチン、アラビナン、アラビノガラクタン、アルギン酸、イヌリン、ガラクタン、キシラン、キチン、キトサン、グリコーゲン、グルコマンナン、ケラタン硫酸、コロミン酸、コンドロイチン、コンドロイチン硫酸、セルロース、デキストラン、ヒアルロン酸、ペクチン、ペクチン酸、ヘパラン硫酸、ヘパリン、マンナン、リケナン、レバン、レンチナンなどが挙げられる。植物ストレス耐性付与の観点から、トレハロース、ラフィノース、フルクトース、グルコシルスクロース、シクロデキストリン、マンニトール及びオリゴ糖類からなる群より選ばれる一種以上の化合物がより好ましい。
<Compound (H)>
Compound (H) is a saccharide, glycerol, erythritol, erythrulose, erythrose, threose, xylose, ribose, arabinose, lyxose, deoxyribose, ribulose, arabitol, fructose, inositol, rhamnose, mannitol, sorbitol, glucose, gluconic acid, mannose , Altrose, idose, galactose, quinobose, glucaric acid, gulose, digitalose, digitoxose, cimarose, sorbose, tagalose, talose, fucose, psicose, galactitol, iduronic acid, galacturonic acid, glucuronic acid, mannuronic acid, galactosamine, glucosamine, Fucosamine, mannosamine, muramic acid, curdlan, maltitol, trehalose, melibiose, sucrose , Lactose, palatinose, agarobiose, isomaltose, xylobiose, gentiobiose, cordiobiose, chondroucine, cellobiose, sophorose, nigerose, hyalobiuronic acid, maltose, lactulose, laminaribiose, lutinose, glucosyl sucrose, raffinose, gentianose, Triose, melendiose, stachyose, xylo-oligosaccharide, isomaltoligosaccharide, gentio-oligosaccharide, fructooligosaccharide, chitosan oligosaccharide, chitin oligosaccharide, cellooligosaccharide, cyclodextrin, pectin, starch, agarose, amylose, amylopectin, arabinan, arabinogalactan, Alginate, inulin, galactan, xylan, chitin, chitosan, glycogen, Rukoman'nan, keratan sulfate, colominic acid, chondroitin, chondroitin sulfate, cellulose, dextran, hyaluronic acid, pectin, pectic acid, heparan sulfate, heparin, mannan, lichenan, levan, and the like lentinan. From the viewpoint of imparting plant stress resistance, one or more compounds selected from the group consisting of trehalose, raffinose, fructose, glucosyl sucrose, cyclodextrin, mannitol and oligosaccharides are more preferred.

化合物(H)の処理液中の濃度は、植物体へ施用する際の濃度として、葉面散布する場合、植物ストレス耐性付与の観点から、0.1〜10000ppmが好ましく、1〜5000ppmがより好ましく、更に10〜1000ppmがより好ましい。土壌及び水耕栽培において地下部から施用する場合、植物ストレス耐性付与の観点から、0.1〜10000ppmが好ましく、1〜5000ppmがより好ましく、更に10〜1000ppmがより好ましい。   The concentration of the compound (H) in the treatment liquid is preferably 0.1 to 10000 ppm, more preferably 1 to 5000 ppm from the viewpoint of imparting plant stress resistance when spraying leaves as the concentration when applied to the plant body. Furthermore, 10 to 1000 ppm is more preferable. In the case of applying from the underground in soil and hydroponics, 0.1 to 10,000 ppm is preferable, 1 to 5000 ppm is more preferable, and 10 to 1000 ppm is more preferable from the viewpoint of imparting plant stress resistance.

本発明では、化合物(A)からなる植物ストレス耐性付与剤又は化合物(A)と化合物(B)〜化合物(H)の少なくとも一種とを含有する植物ストレス耐性付与剤組成物を、植物に施用することで、ストレスが生じる環境においても、植物の生育を促進できるストレス耐性を付与するものである。   In the present invention, a plant stress tolerance imparting agent comprising the compound (A) or a plant stress tolerance imparting agent composition containing the compound (A) and at least one of the compounds (B) to (H) is applied to a plant. Thus, even in an environment where stress occurs, stress tolerance that can promote the growth of plants is imparted.

一般に、農作物などの栽培植物では、植物ごとに適切な栽培条件が知られている。植物がそのような適切な栽培条件ないしそれに近い条件で栽培されている場合は、植物にはストレスが負荷されない。本発明では、植物にストレスが負荷されているかどうかを、以下の植物ストレス率により判定する。すなわち、塩、乾燥、温度等のストレスとなり得る条件が適切な数値を超える条件で栽培されている場合の植物体重量(植物体重量1、ストレス下で栽培された植物体の重量)と、その条件からストレスとなる因子を除いた適切な条件(ストレスを与えない状態)で栽培した場合の植物体重量(植物体重量2、非ストレス下で栽培された植物体の重量)とから、以下の式(ii)により植物ストレス率(%)を算出し、この数値が111%以上となる場合は、生育が10%(重量基準)以上低下することを意味し、ストレスが負荷された栽培条件であると判定される。本発明は、この植物ストレス率が111〜200%の栽培条件にある植物に適用される。更に、植物ストレス率が120〜180%、好ましくは120〜160%の栽培条件にある植物に適用されると、植物ストレス耐性付与の観点からより顕著な効果が得られる。なお、前記植物ストレス率は、現実の栽培条件における所定のストレス因子に着目してそのストレス因子を除いた条件を実験室レベルで再現し、その結果を使い算出することもできる。
植物ストレス率(%)=植物体重量2/植物体重量1×100 (ii)
In general, for cultivated plants such as agricultural crops, suitable cultivation conditions are known for each plant. When a plant is cultivated under such appropriate cultivation conditions or conditions close thereto, the plant is not stressed. In the present invention, whether the plant is stressed is determined by the following plant stress rate. That is, the weight of the plant body (plant body weight 1, the weight of the plant body cultivated under stress) when cultivated under conditions that can cause stress such as salt, drying, and temperature to exceed appropriate values, From the plant weight (plant weight 2, weight of plant grown under non-stress) when cultivated under appropriate conditions (stress not applied) excluding stress factors from the conditions, the following The plant stress rate (%) is calculated by the formula (ii), and when this value is 111% or more, it means that the growth is reduced by 10% (weight basis) or more, and under the cultivation conditions under stress. It is determined that there is. The present invention is applied to a plant having a plant stress rate of 111 to 200%. Furthermore, when applied to a plant having a plant stress rate of 120 to 180%, preferably 120 to 160%, a more remarkable effect is obtained from the viewpoint of imparting plant stress resistance. Note that the plant stress rate can be calculated using a result obtained by reproducing a condition excluding the stress factor while paying attention to a predetermined stress factor in an actual cultivation condition and at a laboratory level.
Plant stress rate (%) = plant weight 2 / plant weight 1 × 100 (ii)

また、植物にストレス耐性が付与されているかどうかは、上記植物ストレス率により、植物がストレスを与える栽培条件にあることを確認し、その条件で栽培した植物の植物体重量(植物体重量1)と、本発明の植物ストレス耐性付与剤又は植物ストレス耐性付与剤組成物を地下部または地上部より施用して栽培した植物の植物体重量(植物体重量3、ストレス下で栽培された植物にストレス耐性付与処理を行った植物体の重量)とから、以下の式(iii)により植物ストレス耐性付与率(%)を算出する。植物ストレス耐性付与率は、100を超えれば植物にストレス耐性が付与されていることになるが、105%以上、更に111%以上となることが好ましい。
植物ストレス耐性付与率(%)=植物体重量3/植物体重量1×100 (iii)
Whether or not stress tolerance is imparted to a plant is confirmed by the above-mentioned plant stress rate that the plant is in a cultivation condition that gives stress, and the plant weight of the plant cultivated under that condition (plant weight 1) And plant weight of a plant cultivated by applying the plant stress tolerance imparting agent or plant stress tolerance imparting agent composition of the present invention from the underground part or the ground part (plant weight 3, stress applied to plants grown under stress) Based on the weight of the plant subjected to the tolerance imparting treatment), the plant stress tolerance imparting rate (%) is calculated by the following formula (iii). If the plant stress tolerance imparting rate exceeds 100, stress tolerance is imparted to the plant, but it is preferably 105% or more, more preferably 111% or more.
Plant stress tolerance imparting rate (%) = plant weight 3 / plant weight 1 × 100 (iii)

本発明の植物ストレス耐性付与方法又は植物ストレス耐性付与剤もしくは植物ストレス耐性付与剤組成物を適用することにより、後述の実施例の条件では、塩、温度、乾燥といったストレス因子のある栽培条件で栽培した場合でも、115%を超える植物ストレス耐性付与率を達成することができる。   By applying the plant stress tolerance imparting method or plant stress tolerance imparting agent or plant stress tolerance imparting agent composition of the present invention, cultivation is performed under cultivation conditions having stress factors such as salt, temperature, and drying under the conditions of the examples described later. Even if it did, the plant stress tolerance provision rate exceeding 115% can be achieved.

また、本発明では、特定の化合物がストレス耐性を付与できるかどうかの判定基準として、下記標準試験による標準植物塩ストレス耐性付与率が好ましくは111%以上であることが挙げられる。圃場など、実際の栽培では、多様なストレスが植物にかかるが、この標準試験は、ストレスがかかる環境を特定し実験室レベルで再現して、試験化合物のストレス耐性の付与効果を試験するものである。この標準植物塩ストレス耐性付与率が好ましくは111%以上の前記植物ストレス耐性付与剤又は前記植物ストレス耐性付与剤組成物を、植物の地上部または地下部に施用することができる。標準植物塩ストレス耐性付与率を測定するための標準試験(ここでは、対照区2も作成している)を以下に記す。   In the present invention, as a criterion for determining whether or not a specific compound can impart stress tolerance, the standard plant salt stress tolerance imparting rate according to the following standard test is preferably 111% or more. In actual cultivation such as in the field, various stresses are applied to plants, but this standard test identifies the stressed environment and reproduces it at the laboratory level to test the effect of imparting stress tolerance to the test compound. is there. The plant stress tolerance imparting agent or the plant stress tolerance imparting agent composition having a standard plant salt stress tolerance imparting rate of preferably 111% or more can be applied to the above-ground part or underground part of the plant. A standard test for measuring the standard plant salt stress tolerance imparting rate (here, control group 2 is also prepared) is described below.

<標準試験>
(I)植物の準備
培土(肥料成分;N:P:K=0.4:1.9:0.6(g)/培土1kg)を50穴セルトレイに詰め、トマト“桃太郎”(タキイ種苗)の種子を播種し、培土を薄く覆土し、十分に水を灌水し発芽させる。2葉期の葉が完全に展開した段階で、トマトの根部の土を流水で洗い流し、試験に供する。培土としては、呉羽化学(株)製のクレハ園芸培土等を用いることができる。
(II)試験条件の設定
温度23℃、相対湿度50%、照度5000Lux、1日の明暗周期が16hr明期、8hr暗期に環境条件を制御する。このような環境条件は、例えば、温度及び相対湿度を制御できる部屋または人工気象器において温度を調節し、また、蛍光灯等により照度を調節することで得られる。上記準備によるトマトを水耕液〔水道水にNaClを濃度が3510ppmとなるように加えたもの(NaClによる水ポテンシャル0.29MPa)〕250mlの入った容器(例えばポリエチレン製容器等)に植える。
(III)植物ストレス耐性付与剤による処理
以下の試験区、対照区1及び対照区2を作成する。試験区、対照区1、対照区2、何れも個体は10個体(計30個体)用意し、2週間後の植物体全体の生重量を測定する。
試験区:植物ストレス耐性付与剤又は前記植物ストレス耐性付与剤組成物の水溶液又は水分散液〔一般式(1)で表される化合物(A)の濃度として100ppm〕をトマト1株あたり10ml、葉面に散布処理する。
対照区1:水耕液にNaClを添加する(塩ストレスを与える)が、トマトに植物ストレス耐性付与剤又は前記植物ストレス耐性付与剤組成物を与えない。
対照区2:水耕液にNaClを添加せず(塩ストレスを与えず)、且つトマトに植物ストレス耐性付与剤又は前記植物ストレス耐性付与剤組成物を与えない。
(IV)標準植物塩ストレス耐性付与率(%)の算出
得られた植物体全体の生重量の平均値で以下のように標準植物塩ストレス耐性付与率を計算する〔式(i)〕。
標準植物塩ストレス耐性付与率(%)=試験区の植物体生重量/対照区1の植物体生重量 ×100 (i)
<Standard test>
(I) Preparation of plant Culture soil (fertilizer component; N: P: K = 0.4: 1.9: 0.6 (g) / culture soil 1 kg) is packed in a 50-well cell tray and tomato “Momotaro” (Takii seedling) Seeds, cover the culture soil thinly, irrigate with sufficient water and germinate. When the leaves of the second leaf stage are fully developed, the soil at the root of the tomato is washed away with running water and used for the test. As cultivation medium, Kureha gardening cultivation soil made by Kureha Chemical Co., Ltd. can be used.
(II) Setting of test conditions Environmental conditions are controlled at a temperature of 23 ° C., a relative humidity of 50%, an illuminance of 5000 Lux, and a light / dark cycle of 16 hours for a light period of 8 hours and a dark period of 8 hours. Such environmental conditions can be obtained, for example, by adjusting the temperature in a room or an artificial meteor that can control the temperature and relative humidity, and by adjusting the illuminance with a fluorescent lamp or the like. The tomato according to the above preparation is planted in a hydroponic solution (tap water added with NaCl to a concentration of 3510 ppm (water potential of 0.29 MPa with NaCl)) in a container (for example, a polyethylene container).
(III) Treatment with plant stress tolerance imparting agent The following test group, control group 1 and control group 2 are prepared. In each of the test group, the control group 1 and the control group 2, 10 individuals (30 individuals in total) are prepared, and the raw weight of the whole plant after 2 weeks is measured.
Test plot: An aqueous solution or an aqueous dispersion of the plant stress tolerance imparting agent or the plant stress tolerance imparting agent composition [100 ppm as the concentration of the compound (A) represented by the general formula (1)], 10 ml per leaf of tomato, leaf Sprinkle on the surface.
Control group 1: NaCl is added to the hydroponic solution (salt stress is applied), but the plant stress tolerance imparting agent or the plant stress tolerance imparting agent composition is not imparted to the tomato.
Control group 2: NaCl is not added to the hydroponic solution (no salt stress is applied), and the plant stress tolerance imparting agent or the plant stress tolerance imparting agent composition is not imparted to the tomato.
(IV) Calculation of standard plant salt stress tolerance imparting rate (%) The standard plant salt stress tolerance imparting rate is calculated as follows using the average value of the raw weight of the whole plant obtained [Formula (i)].
Standard plant salt stress tolerance application rate (%) = Plant weight of test body / Plant weight of control group 1 × 100 (i)

なお、上記標準試験における植物ストレス率(標準植物塩ストレス率)は130%近傍となる。この場合、標準植物塩ストレス率は下記の式(ii)’により算出できる。
標準植物塩ストレス率(%)=対照区2の植物体生重量/対照区1の植物体生重量 ×100 (ii)’
Note that the plant stress rate (standard plant salt stress rate) in the standard test is around 130%. In this case, the standard plant salt stress rate can be calculated by the following formula (ii) ′.
Standard plant salt stress rate (%) = Plant weight of control group 2 / Plant weight of control group 1 × 100 (ii) ′

後述の実施例では、標準試験における標準植物塩ストレス率は130%であった。また、後述の実施例で用いた化合物の上記標準試験による標準植物塩ストレス耐性付与率は、表1〜3に示される通りであった。   In the examples described later, the standard plant salt stress rate in the standard test was 130%. Moreover, the standard plant salt stress tolerance provision rate by the said standard test of the compound used in the below-mentioned Example was as Tables 1-3 showed.

本発明により耐性を付与できる植物のストレス因子として、塩ストレス、乾燥ストレス、温度ストレスが挙げられる。すなわち、本発明の方法は、土壌又は培養液中の塩濃度に起因する塩ストレス、土壌中の水分含有量に起因する乾燥ストレス、及び栽培環境の温度に起因する温度ストレスの少なくとも1つのストレス因子により、植物ストレス率111〜200%の栽培条件がもたらされている植物に対して適用することができる。但し、化合物(A)からなる植物ストレス耐性付与剤は、低温耐性を除くストレス耐性の付与に用いられる。   Examples of plant stress factors to which tolerance can be imparted according to the present invention include salt stress, drought stress, and temperature stress. That is, the method of the present invention includes at least one stress factor of salt stress caused by salt concentration in soil or culture solution, drought stress caused by moisture content in soil, and temperature stress caused by temperature of cultivation environment. Therefore, it can be applied to plants that have been cultivated with a plant stress rate of 111 to 200%. However, the plant stress tolerance imparting agent comprising the compound (A) is used for imparting stress tolerance excluding low temperature tolerance.

土壌栽培や水耕栽培において肥料等の塩類の集積により栽培溶液中の浸透圧が上昇し植物の吸水が阻害される結果、生育が阻害される現象が生じる。こうした状態は、一般に植物に塩ストレスがかかった状態と認識される。具体的には、例えば水耕栽培における水耕養液の塩による浸透圧ポテンシャルや土壌栽培における土壌中の塩による浸透圧ポテンシャルが0.2MPa(NaCl濃度では2400ppm)以上、更には0.25MPa以上、より更には0.30MPa以上で塩ストレスがある条件であるといえる。本発明によれば、このような浸透圧ポテンシャルを示す条件でも植物が適正に生育する耐性を付与することができる。浸透圧ポテンシャルは、土壌栽培においては、土壌を水で希釈して上澄み液の塩濃度を分析することによって、以下のラウールの法則により計算する。
ラウールの法則 π(atm)=cRT
R=0.082(L・atm/mol・K)
T=絶対温度(K)
c=イオンモル濃度(mol/L)
1atm=0.1MPa
In soil cultivation and hydroponics, the accumulation of salts such as fertilizers increases the osmotic pressure in the cultivation solution and inhibits water absorption of the plant, resulting in a phenomenon in which growth is inhibited. Such a state is generally recognized as a state in which the plant is subjected to salt stress. Specifically, for example, the osmotic potential due to the salt of the hydroponics in hydroponics or the osmotic potential due to the salt in the soil in soil cultivation is 0.2 MPa (2400 ppm in NaCl concentration) or more, and further 0.25 MPa or more. Further, it can be said that the condition is salt stress at 0.30 MPa or more. According to the present invention, it is possible to impart resistance to the proper growth of plants even under such conditions that show osmotic pressure potential. In soil cultivation, the osmotic pressure potential is calculated by the following Raoul's law by diluting the soil with water and analyzing the salt concentration of the supernatant.
Raoul's law π (atm) = cRT
R = 0.082 (L · atm / mol · K)
T = absolute temperature (K)
c = ion molar concentration (mol / L)
1 atm = 0.1 MPa

また、土壌栽培において、降雨量や灌水量の減少により土壌中の水分含有量が減少し、植物の吸水が阻害される結果、生育が阻害される現象が生じる。こうした状態は、一般に植物に乾燥ストレスがかかった状態と認識される。具体的には、植物が栽培されている土壌のpF値が、土壌水として重力水が認識できなくなる状態を意味する1.7以上、更には2.3以上、より更には2.5以上で乾燥ストレスがある条件であるといえる。本発明によれば、このようなpF値を示す条件でも植物が適正に生育する耐性を付与することができる。ここで、pF値は、「土壌・植物栄養・環境事典」(大洋社、1994年、松坂ら)の61〜62頁の「pF値測定法」に記述されている原理に則り測定することができる。   In soil cultivation, the moisture content in the soil decreases due to a decrease in the amount of rainfall and irrigation, and the water absorption of the plant is inhibited, resulting in a phenomenon that the growth is inhibited. Such a state is generally recognized as a state in which drought stress is applied to the plant. Specifically, the pF value of the soil where the plant is cultivated is 1.7 or more, which means a state where gravity water cannot be recognized as soil water, more than 2.3, and even more than 2.5. It can be said that this is a condition with drought stress. According to the present invention, it is possible to confer tolerance that a plant grows properly even under such a condition showing a pF value. Here, the pF value can be measured according to the principle described in the “pF value measurement method” on pages 61 to 62 of “Soil / Plant Nutrition / Environment Encyclopedia” (Taiyosha, 1994, Matsuzaka et al.). it can.

また、栽培環境に関して、ある植物の最適な生育温度よりも高い温度あるいは低い温度に植物が暴露された場合、生体内の生理代謝機能が減少し生育が阻害される現象が生じる。こうした状態は、一般に植物に温度ストレスがかかった状態と認識される。具体的には、植物が栽培されている環境における平均栽培温度が25℃以上、更には28℃以上、より更には32℃以上である、又は20℃以下、更には17℃以下、より更には15℃以下であると、温度ストレスがある条件であるといえる。本発明によれば、このような平均栽培温度を示す条件でも植物が適正に生育する耐性を付与することができる。ここで平均栽培温度とは、栽培期間(播種から生育終了までの期間)において昼夜問わず1時間おきに測定した栽培温度の平均値である。化合物(A)と化合物(B)〜(H)の一種以上とを含有する植物ストレス耐性付与剤組成物は、平均栽培温度が20℃以下、更には17℃以下、より更には15℃以下の、温度ストレスがかかると考えられる栽培条件にも適用可能である。   In addition, when a plant is exposed to a temperature higher or lower than the optimum growth temperature of a certain plant with respect to the cultivation environment, a phenomenon occurs in which the physiological metabolic function in the living body is reduced and growth is inhibited. Such a state is generally recognized as a state in which a plant is subjected to temperature stress. Specifically, the average cultivation temperature in the environment where the plant is cultivated is 25 ° C. or higher, further 28 ° C. or higher, more preferably 32 ° C. or higher, or 20 ° C. or lower, further 17 ° C. or lower, and even more. It can be said that it is conditions with temperature stress as it is 15 degrees C or less. According to the present invention, it is possible to impart resistance to the proper growth of plants even under such conditions that indicate the average cultivation temperature. Here, the average cultivation temperature is an average value of cultivation temperatures measured every hour in the cultivation period (period from sowing to the end of growth) regardless of day or night. The plant stress tolerance imparting agent composition containing the compound (A) and one or more of the compounds (B) to (H) has an average cultivation temperature of 20 ° C. or lower, further 17 ° C. or lower, and more preferably 15 ° C. or lower. It is also applicable to cultivation conditions that are considered to be subject to temperature stress.

上記の通り、本発明では、植物ストレス耐性付与の観点から、化合物(A)からなる植物ストレス耐性付与剤、もしくは、化合物(A)、並びに化合物(B)、化合物(C)、化合物(D)、化合物(E)、化合物(F)、化合物(G)及び化合物(H)からなる群より選ばれる1種以上の化合物、を含有する植物ストレス耐性付与剤組成物が用いられる。植物ストレス耐性付与剤組成物における化合物(A)の含有量は、植物ストレス耐性付与の観点から、0.1〜50重量%、更に1〜10重量%が好ましい。また、同様の観点から、化合物(B)の含有量は、0.1〜25重量%、更に1〜10重量%が好ましく、化合物(C)の含有量は、0.1〜25重量%、更に1〜10重量%が好ましく、化合物(D)の含有量は、0.1〜25重量%、更に1〜10重量%が好ましく、化合物(E)の含有量は、0.1〜25重量%、更に1〜10重量%が好ましく、化合物(F)の含有量は、0.1〜25重量%、更に1〜10重量%が好ましく、化合物(G)の含有量は、0.1〜25重量%、更に1〜10重量%が好ましく、化合物(H)の含有量は、0.1〜25重量%、更に1〜10重量%が好ましく、各成分を前記濃度で含有する組成物から、各成分を前記の濃度で含有する処理液を調製して植物に施用することが好ましい。   As described above, in the present invention, from the viewpoint of imparting plant stress tolerance, a plant stress tolerance imparting agent comprising the compound (A), or the compound (A), the compound (B), the compound (C), and the compound (D). A plant stress tolerance imparting agent composition containing at least one compound selected from the group consisting of a compound (E), a compound (F), a compound (G) and a compound (H) is used. The content of the compound (A) in the plant stress tolerance imparting agent composition is preferably 0.1 to 50% by weight, more preferably 1 to 10% by weight, from the viewpoint of imparting plant stress resistance. From the same viewpoint, the content of the compound (B) is preferably 0.1 to 25% by weight, more preferably 1 to 10% by weight, and the content of the compound (C) is 0.1 to 25% by weight, The content of the compound (D) is further preferably 0.1 to 25% by weight, more preferably 1 to 10% by weight, and the content of the compound (E) is 0.1 to 25% by weight. %, More preferably 1 to 10% by weight, and the content of the compound (F) is preferably 0.1 to 25% by weight, more preferably 1 to 10% by weight, and the content of the compound (G) is 0.1 to 10% by weight. 25% by weight, more preferably 1 to 10% by weight, and the content of the compound (H) is preferably 0.1 to 25% by weight, more preferably 1 to 10% by weight. It is preferable to prepare a treatment solution containing each component at the aforementioned concentration and apply it to a plant.

<界面活性剤>
本発明では、化合物(A)、更に化合物(B)〜化合物(H)と共に、界面活性剤〔化合物(A)〜(H)に属するものを除く〕を用いることができる。界面活性剤を用いることで、植物表面への化合物(A)の濡れ性、付着性、浸透性を飛躍的に向上し、化合物(A)の効果を増強させ、あるいは効率よく効果を発揮することで化合物(A)の使用濃度を低減することができる。
<Surfactant>
In the present invention, a surfactant (except for those belonging to the compounds (A) to (H)) can be used together with the compound (A) and further the compounds (B) to (H). By using a surfactant, the wettability, adhesion, and permeability of the compound (A) to the plant surface are dramatically improved, the effect of the compound (A) is enhanced, or the effect is efficiently exhibited. The use concentration of the compound (A) can be reduced.

非イオン界面活性剤としては、樹脂酸エステル、ポリオキシアルキレン樹脂酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル、アルキルアルカノールアミド、等が挙げられる。   Nonionic surfactants include resin acid esters, polyoxyalkylene resin acid esters, polyoxyalkylene alkyl ethers, polyoxyalkylene alkyl phenyl ethers, alkyl alkanolamides, and the like.

陰イオン界面活性剤としては、カルボン酸系、スルホン酸系、硫酸エステル系及びリン酸エステル系界面活性剤が挙げられるが、カルボン酸系及びリン酸エステル系界面活性剤から選ばれる一種以上が好ましい。   Examples of the anionic surfactant include carboxylic acid-based surfactants, sulfonic acid-based surfactants, sulfate ester-based surfactants, and preferably one or more selected from carboxylic acid-based surfactants and phosphate ester-based surfactants. .

カルボン酸系界面活性剤としては、例えば炭素数6〜30の脂肪酸又はその塩、多価カルボン酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルカルボン酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルアミドエーテルカルボン酸塩、ロジン酸塩、ダイマー酸塩、ポリマー酸塩、トール油脂肪酸塩、エステル化化工澱粉等が挙げられる。なかでもエステル化化工澱粉、更にアルケニルコハク酸化化工澱粉が好ましい。   Examples of the carboxylic acid-based surfactant include fatty acids having 6 to 30 carbon atoms or salts thereof, polyvalent carboxylates, polyoxyalkylene alkyl ether carboxylates, polyoxyalkylene alkylamide ether carboxylates, rosinates, Examples include dimer acid salts, polymer acid salts, tall oil fatty acid salts, and esterified starches. Of these, esterified starch, and alkenyl succinylated starch are preferred.

スルホン酸系界面活性剤としては、例えばアルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、ジフェニルエーテルスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸の縮合物塩、ナフタレンスルホン酸の縮合物塩等が挙げられる。   Examples of the sulfonic acid surfactant include alkylbenzene sulfonate, alkyl sulfonate, alkyl naphthalene sulfonate, naphthalene sulfonate, diphenyl ether sulfonate, alkyl naphthalene sulfonate condensate, and naphthalene sulfonic acid condensation. Examples include physical salts.

硫酸エステル系界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキル硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、トリスチレン化フェノール硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンジスチレン化フェノール硫酸エステル塩等が挙げられる。   Examples of sulfate surfactants include alkyl sulfates, polyoxyalkylene alkyl sulfates, polyoxyalkylene alkyl phenyl ether sulfates, tristyrenated phenol sulfates, polyoxyalkylene distyrenated phenol sulfates. Etc.

リン酸エステル系界面活性剤として、例えばアルキルリン酸エステル塩、アルキルフェニルリン酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキルリン酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルリン酸エステル塩等が挙げられる。
塩としては、例えば金属塩(Na、K、Ca、Mg、Zn等)、アンモニウム塩、アルカノールアミン塩、脂肪族アミン塩等が挙げられる。
Examples of the phosphate ester surfactant include alkyl phosphate ester salts, alkylphenyl phosphate ester salts, polyoxyalkylene alkyl phosphate ester salts, and polyoxyalkylene alkylphenyl phosphate ester salts.
Examples of the salt include metal salts (Na, K, Ca, Mg, Zn, etc.), ammonium salts, alkanolamine salts, aliphatic amine salts, and the like.

両性界面活性剤としては、アミノ酸系、イミダゾリン系、アミンオキサイド系が挙げられる。   Examples of amphoteric surfactants include amino acids, imidazolines, and amine oxides.

アミノ酸系としては、例えばアシルアミノ酸塩、アシルサルコシン酸塩、アシロイルメチルアミノプロピオン酸塩、アルキルアミノプロピオン酸塩、アシルアミドエチルヒドロキシエチルメチルカルボン酸塩等が挙げられる。   Examples of the amino acid system include acyl amino acid salts, acyl sarcosine salts, acyloylmethylaminopropionates, alkylaminopropionates, acylamidoethylhydroxyethylmethylcarboxylates, and the like.

アミンオキサイド系としては、アルキルジメチルアミンオキサイド、アルキルジエタノールアミンオキサイド、アルキルアミドプロピルアミンオキサイド等が挙げられる。   Examples of amine oxides include alkyldimethylamine oxide, alkyldiethanolamine oxide, alkylamidopropylamine oxide, and the like.

界面活性剤の処理液中の濃度は、植物体へ施用する際の濃度として、葉面散布する場合、0.1〜10000ppmが好ましく、1〜5000ppmがより好ましく、更に10〜1000ppmがより好ましい。土壌及び水耕栽培において地下部から施用する場合、0.01〜5000ppmが好ましく、0.1〜1000ppmがより好ましく、更に1〜500ppmが好ましい。   The concentration of the surfactant in the treatment liquid is preferably 0.1 to 10000 ppm, more preferably 1 to 5000 ppm, and still more preferably 10 to 1000 ppm as the concentration when applied to the plant body when spraying the leaves. When applying from the underground part in soil and hydroponics, 0.01 to 5000 ppm is preferable, 0.1 to 1000 ppm is more preferable, and 1 to 500 ppm is more preferable.

<キレート剤>
本発明では、化合物(A)、更に化合物(B)〜化合物(H)と共に、キレート剤を用いることができる。キレート剤を用いることで、化合物(A)及び他の成分から調製した組成物や処理液の安定性を飛躍的に向上でき、その結果、ストレス耐性付与効果を安定させることができる。キレート剤として以下のようなキレート能を有する有機酸又はその塩を併用すると、ストレス耐性付与効果が安定する。具体的にはクエン酸、グルコン酸、リンゴ酸、ヘプトン酸、シュウ酸、マロン酸、乳酸、酒石酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、アジピン酸、グルタル酸等のオキシカルボン酸、多価カルボン酸や、これらのカリウム塩、ナトリウム塩、アルカノールアミン塩、脂肪族アミン塩等が挙げられる。また、有機酸以外のキレート剤の混合でも良く、混合するキレート剤としてエチレンジアミン四酢酸(EDTA)もしくはその塩、ニトリロ三酢酸(NTA)もしくはその塩、1,2−シクロヘキサンジアミン四酢酸一水和物(CDTA)もしくはその塩等のアミノカルボン酸系キレート剤が挙げられる。
<Chelating agent>
In this invention, a chelating agent can be used with a compound (A) and also a compound (B)-a compound (H). By using a chelating agent, the stability of the composition prepared from the compound (A) and other components and the treatment liquid can be dramatically improved, and as a result, the stress tolerance imparting effect can be stabilized. When an organic acid or a salt thereof having the following chelating ability as a chelating agent is used in combination, the stress tolerance imparting effect is stabilized. Specifically, citric acid, gluconic acid, malic acid, heptonic acid, oxalic acid, malonic acid, lactic acid, tartaric acid, succinic acid, fumaric acid, maleic acid, adipic acid, glutaric acid and other oxycarboxylic acids, polyvalent carboxylic acids And potassium salts, sodium salts, alkanolamine salts, aliphatic amine salts and the like thereof. Further, a chelating agent other than an organic acid may be mixed. As a chelating agent to be mixed, ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) or a salt thereof, nitrilotriacetic acid (NTA) or a salt thereof, 1,2-cyclohexanediaminetetraacetic acid monohydrate. Examples thereof include aminocarboxylic acid-based chelating agents such as (CDTA) or a salt thereof.

キレート剤の処理液中の濃度は、植物体へ施用する際の濃度として、葉面散布する場合、0.1〜10000ppmが好ましく、1〜5000ppmがより好ましく、更に10〜1000ppmがより好ましい。土壌及び水耕栽培において地下部から施用する場合、0.1〜10000ppmが好ましく、1〜5000ppmがより好ましく、更に10〜1000ppmが好ましい。   The concentration of the chelating agent in the treatment solution is preferably 0.1 to 10000 ppm, more preferably 1 to 5000 ppm, and even more preferably 10 to 1000 ppm when spraying the leaves as the concentration when applied to the plant body. When applying from the underground part in soil and hydroponics, 0.1-10000 ppm is preferable, 1-5000 ppm is more preferable, and 10-1000 ppm is more preferable.

<肥料成分>
本発明では、化合物(A)、更に化合物(B)〜化合物(H)と共に、更に肥料成分を用いることができる。
<Fertilizer ingredients>
In this invention, a fertilizer component can further be used with a compound (A) and also a compound (B)-a compound (H).

肥料成分としては、具体的には、N、P、K、Ca、Mg、S、B、Fe、Mn、Cu、Zn、Mo、Cl、Si、Na等、更にN、P、K、Ca、Mgの供給源となる無機物及び有機物が挙げられる。そのような無機物としては、硝酸アンモニウム、硝酸カリウム、硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム、リン酸アンモニウム、硝酸ソーダ、尿素、炭酸アンモニウム、リン酸カリウム、過リン酸石灰、熔成リン肥(3MgO・CaO・P25・3CaSiO2)、硫酸カリウム、塩カリ、硝酸石灰、消石灰、炭酸石灰、硫酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム等が挙げられる。また、有機物としては、鶏フン、牛フン、バーク堆肥、ペプトン、ミエキ、発酵エキス、有機酸(クエン酸、グルコン酸、コハク酸等)のカルシウム塩、脂肪酸(ギ酸、酢酸、プロピオン酸、カプリル酸、カプリン酸、カプロン酸等)のカルシウム塩等が挙げられる。これら肥料成分は界面活性剤と併用することもできる。肥料成分は、葉菜類の露地栽培のように、土壌中に元肥として肥料成分が十分施用されている場合にはあえて配合する必要はない。また、養液土耕や水耕栽培のように元肥の過剰施用を避け肥料成分をかん水と同じに与えるようなタイプの栽培形態には肥料成分を配合することが好ましい。 As a fertilizer component, specifically, N, P, K, Ca, Mg, S, B, Fe, Mn, Cu, Zn, Mo, Cl, Si, Na, etc., and further, N, P, K, Ca, Examples include inorganic substances and organic substances that serve as a source of Mg. Examples of such an inorganic substance include ammonium nitrate, potassium nitrate, ammonium sulfate, ammonium chloride, ammonium phosphate, sodium nitrate, urea, ammonium carbonate, potassium phosphate, superphosphate lime, and molten phosphorus fertilizer (3MgO · CaO · P 2 O 5 · 3CaSiO 2), potassium sulfate, salts potassium nitrate of lime, slaked lime, lime carbonate, magnesium sulfate, magnesium hydroxide, magnesium carbonate, and the like. Organic substances include chicken dung, beef dung, bark compost, peptone, Mieki, fermented extract, calcium salts of organic acids (citric acid, gluconic acid, succinic acid, etc.), fatty acids (formic acid, acetic acid, propionic acid, caprylic acid) , Capric acid, caproic acid, etc.). These fertilizer components can also be used in combination with a surfactant. It is not necessary to add the fertilizer component when the fertilizer component is sufficiently applied as the original fertilizer in the soil, such as in the field cultivation of leafy vegetables. Moreover, it is preferable to mix | blend a fertilizer component with the type of cultivation form which avoids excessive application of original fertilizer and gives a fertilizer component in the same way as irrigation like a hydroponics and hydroponics.

肥料成分の処理液中の濃度は、植物体へ施用する際の濃度として、葉面散布する場合、N成分、P成分、K成分はそれぞれ0.1〜5000ppmが好ましく、1〜1000ppmがより好ましく、更に10〜500ppmがより好ましい。土壌及び水耕栽培において地下部から施用する場合、N成分、P成分、K成分はそれぞれ0.1〜5000ppmが好ましく、1〜1000ppmがより好ましく、更に10〜500ppmが好ましい。また、肥料成分全てを加算した濃度は、葉面散布する場合、1〜10000ppmが好ましく、10〜5000ppmがより好ましく、更に50〜2000ppmがより好ましい。肥料成分全てを加算した濃度は、土壌及び水耕栽培において地下部から施用する場合、1〜10000ppmが好ましく、10〜5000ppmがより好ましく、更に50〜2000ppmがより好ましい。   The concentration of the fertilizer component in the treatment liquid is preferably 0.1 to 5000 ppm, more preferably 1 to 1000 ppm for the N component, the P component, and the K component, respectively, as the concentration when applied to the plant body when spraying the leaves. Further, 10 to 500 ppm is more preferable. When applied from the underground in soil and hydroponics, the N component, P component, and K component are each preferably 0.1 to 5000 ppm, more preferably 1 to 1000 ppm, and even more preferably 10 to 500 ppm. Moreover, the density | concentration which added all the fertilizer components has preferable 1-10000 ppm, 10-5000 ppm is more preferable, and 50-2000 ppm is more preferable when foliar spraying. The concentration of all fertilizer components added is preferably 1 to 10000 ppm, more preferably 10 to 5000 ppm, and even more preferably 50 to 2000 ppm when applied from the underground in soil and hydroponics.

本発明によりストレス耐性を付与できる植物としては、果菜類では、キュウリ、カボチャ、スイカ、メロン、トマト、ナス、ピーマン、イチゴ、オクラ、サヤインゲン、ソラマメ、エンドウ、エダマメ、トウモロコシ等が挙げられる。葉菜類では、ハクサイ、ツケナ類、チンゲンサイ、キャベツ、カリフラワー、ブロッコリー、メキャベツ、タマネギ、ネギ、ニンニク、ラッキョウ、ニラ、アスパラガス、レタス、サラダナ、セルリー、ホウレンソウ、シュンギク、パセリ、ミツバ、セリ、ウド、ミョウガ、フキ、シソ等が挙げられる。根菜類としては、ダイコン、カブ、ゴボウ、ニンジン、ジャガイモ、サトイモ、サツマイモ、ヤマイモ、ショウガ、レンコン等が挙げられる。その他に、稲、麦類、花卉類等にも使用が可能である。   Examples of plants that can impart stress tolerance according to the present invention include cucumbers, pumpkins, watermelons, melons, tomatoes, eggplants, peppers, strawberries, okras, green beans, broad beans, peas, green beans, corn, and the like. For leafy vegetables, Chinese cabbage, hornbill, cabbage, cauliflower, broccoli, cabbage, onion, leeks, garlic, rakkyo, leek, asparagus, lettuce, saladna, celery, spinach, garlic, parsley, honey bee, seri, udo, myoga , Fuki, perilla etc. Root vegetables include radish, turnip, burdock, carrot, potato, taro, sweet potato, yam, ginger, lotus root and the like. In addition, it can also be used for rice, wheat, and flowering plants.

実施例1 塩ストレス耐性付与試験(トマト)
・試験方法
試験条件:温度23℃、相対湿度50%、照度:5000Lux(蛍光灯)、明/暗周期:16hr/8hr
水耕液条件:大塚1/2A処方〔大塚ハウス1号(N:P:K=10:8:27)7.5g/10L、大塚ハウス2号(N:P:K:Ca=10:0:0:23)5g/10Lの配合液でありトータル窒素130ppm、燐酸60ppm、カリウム203ppm〕
塩ストレス条件:NaCl濃度3510ppm(NaClによる水ポテンシャル0.29MPa)
栽培期間:2週間
植物の準備:呉羽化学(株)製のクレハ園芸培土(肥料成分;N:P:K=0.4:1.9:0.6(g)/培土1kg)を50穴セルトレイに詰め、トマト"桃太郎”の種子を播種し、クレハ園芸培土を薄く覆土し、十分に水を灌水し発芽させる。2葉期の葉が完全に展開した段階で、トマトの根部の土を丁寧に流水で洗い流し、試験に供した。
供試薬剤:
ステアリルアルコール、ラウリルアルコール、ベヘニルアルコール:カルコール8098、2098、220−80)〔花王(株)〕
POE(20)ソルビタン脂肪酸エステル:レオドールTW−O120V 〔花王(株)〕
アルキルポリグリコシド:AG−10LK 〔花王(株)〕
ショ糖脂肪酸エステル:リョートーシュガーエステルS−1570〔三菱化学フーズ(株)〕
オクテニルコハク酸化化工デンプン:エマルスター〔松谷化学(株)〕
シリコーンオイル:BY22−007〔東レ・ダウコーニング(株)〕
シリコーン界面活性剤:SILWET L−77(ポリオキシエチレンメチルポリシロキサン) 〔GE東芝シリコーン(株)〕
アルキルベタイン(炭素数12〜14):アンヒトール24B〔花王(株)〕
その他の薬剤:和光純薬(株)
処理液施用量:葉面散布 10ml/株 水耕栽培(地下部処理) 250ml/株
Example 1 Salt stress tolerance test (tomato)
Test method Test conditions: temperature 23 ° C., relative humidity 50%, illuminance: 5000 Lux (fluorescent lamp), light / dark cycle: 16 hr / 8 hr
Hydroponic liquid conditions: Otsuka 1 / 2A prescription [Otsuka House 1 (N: P: K = 10: 8: 27) 7.5 g / 10 L, Otsuka House 2 (N: P: K: Ca = 10: 0 : 0:23) 5 g / 10 L compound liquid, total nitrogen 130 ppm, phosphoric acid 60 ppm, potassium 203 ppm]
Salt stress condition: NaCl concentration 3510 ppm (water potential by NaCl 0.29 MPa)
Cultivation period: 2 weeks Plant preparation: Kureha Horticultural cultivation soil (fertilizer component; N: P: K = 0.4: 1.9: 0.6 (g) / cultured soil 1 kg) manufactured by Kureha Chemical Co., Ltd. 50 holes Pack in a cell tray, seed seeds of tomato "Momotaro", cover the Kureha Horticultural soil thinly, irrigate with sufficient water and germinate. When the leaves of the second leaf stage were fully developed, the soil at the root of the tomato was carefully washed away with running water and subjected to the test.
Reagents:
Stearyl alcohol, lauryl alcohol, behenyl alcohol: Calcoal 8098, 2098, 220-80) [Kao Corporation]
POE (20) sorbitan fatty acid ester: Rheodor TW-O120V [Kao Corporation]
Alkyl polyglycoside: AG-10LK [Kao Corporation]
Sucrose fatty acid ester: Ryoto sugar ester S-1570 [Mitsubishi Chemical Foods, Inc.]
Octenyl Succinic Oxidized Starch: Emulster [Matsutani Chemical Co., Ltd.]
Silicone oil: BY22-007 [Toray Dow Corning Co., Ltd.]
Silicone surfactant: SILWET L-77 (polyoxyethylene methyl polysiloxane) [GE Toshiba Silicone Co., Ltd.]
Alkylbetaine (carbon number 12-14): Anhitoal 24B [Kao Corporation]
Other drugs: Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
Treatment liquid application rate: foliar spray 10ml / strain Hydroponics (underground treatment) 250ml / strain

<塩ストレス耐性付与試験方法>
人工気象器において温度23℃、蛍光灯による照度5000Lux、1日の明暗周期が16hr明期、8hr暗期に環境条件を調整した。上記準備によるトマトを上記水耕液(1/2大塚A処方とNaClが3510ppm)の入ったポリエチレンボトル250mlに植えた。表1〜3の化合物を所定濃度で含有する処理液(残部は水)を調製し、葉面散布、または地下部へ処理した。また、対照区としてNaClを添加せずストレスを与えない対照区〔式(ii)の植物体重量2のための対照区であり、塩ストレスのない対照区である〕及びNaClの添加による塩ストレスを与え、前記処理液を与えない対照区〔式(ii)の植物体重量1のための対照区であり、塩ストレスのある対照区である〕を作成した。試験区、対照区共に、個体は10個体用意し、試験開始2週間後の各個体の植物体生重量の平均値を植物体生重量として、前記式(ii)及び(iii)により植物ストレス率及び植物ストレス耐性付与率を計算した。なお、本試験条件では植物ストレス率が130%であり、ストレスが生じていると評されるが、NaClについての植物ストレス耐性付与率は、表1〜3に示すように比較品と比べ本発明品の方が明らかに高くなった。
<Salt stress tolerance test method>
Environmental conditions were adjusted in an artificial weather device at a temperature of 23 ° C., an illuminance of 5000 Lux with a fluorescent lamp, a light / dark cycle of 16 hours for a light period of 16 hours, and a dark period of 8 hours. Tomatoes prepared as described above were planted in 250 ml of polyethylene bottles containing the above-mentioned hydroponic solution (1/2 Otsuka A prescription and NaCl of 3510 ppm). A treatment liquid containing the compounds shown in Tables 1 to 3 at a predetermined concentration (the balance being water) was prepared and applied to the foliage or underground. In addition, as a control group, no control stress is applied without adding NaCl (a control group for plant weight 2 of formula (ii), which is a control group without salt stress) and salt stress due to the addition of NaCl. And a control group [the control group for the plant weight 1 of the formula (ii) and a control group with salt stress] was prepared. In each of the test group and the control group, 10 individuals are prepared, and the average value of the plant raw weight of each individual two weeks after the start of the test is used as the plant raw weight, and the plant stress rate according to the above formulas (ii) and (iii) And the plant stress tolerance imparting rate was calculated. In this test condition, the plant stress rate is 130%, and it is evaluated that the stress is generated. However, the plant stress resistance imparting rate for NaCl is compared with the comparative product as shown in Tables 1 to 3 according to the present invention. The goods were clearly higher.

実施例2 温度ストレス耐性付与試験(トマト)
・試験方法
非温度ストレス試験条件:温度23℃ その他の栽培条件は温度ストレス試験条件に準じる。
温度ストレス試験条件:温度32℃、相対湿度50%、照度:5000Lux(蛍光灯)、明/暗周期:16hr/8hr
水耕液条件:大塚1/2A処方〔大塚ハウス1号(N:P:K=10:8:27)7.5g/10L、大塚ハウス2号(N:P:K:Ca=10:0:0:23)5g/10Lの配合液でありトータル窒素130ppm、燐酸60ppm、カリウム203ppm〕
栽培期間:2週間
植物の準備:呉羽化学(株)製のクレハ園芸培土(肥料成分;N:P:K=0.4:1.9:0.6(g)/培土1kg)を50穴セルトレイに詰め、トマト"桃太郎"の種子を播種し、クレハ園芸培土を薄く覆土し、十分に水を灌水し発芽させる。2葉期の葉が完全に展開した段階で、トマトの根部の土を丁寧に流水で洗い流し、試験に供した。
使用薬剤、処理液の施用量は実施例1に準じる。
Example 2 Temperature stress tolerance test (tomato)
Test method Non-temperature stress test conditions: Temperature 23 ° C. Other cultivation conditions conform to the temperature stress test conditions.
Temperature stress test conditions: temperature 32 ° C., relative humidity 50%, illuminance: 5000 Lux (fluorescent lamp), light / dark cycle: 16 hr / 8 hr
Hydroponic liquid conditions: Otsuka 1 / 2A prescription [Otsuka House 1 (N: P: K = 10: 8: 27) 7.5 g / 10 L, Otsuka House 2 (N: P: K: Ca = 10: 0 : 0:23) 5 g / 10 L compound liquid, total nitrogen 130 ppm, phosphoric acid 60 ppm, potassium 203 ppm]
Cultivation period: 2 weeks Plant preparation: Kureha Horticultural cultivation soil (fertilizer component; N: P: K = 0.4: 1.9: 0.6 (g) / cultured soil 1 kg) manufactured by Kureha Chemical Co., Ltd. 50 holes Packed in a cell tray, seeded with tomato "Momotaro" seeds, thinly covered Kureha Horticultural soil, irrigated with sufficient water to germinate. When the leaves of the second leaf stage were fully developed, the soil at the root of the tomato was carefully washed away with running water and subjected to the test.
The applied chemicals and treatment liquid are applied in the same manner as in Example 1.

<温度ストレス耐性付与試験方法>
人工気象器において温度32℃、蛍光灯による照度5000Lux、1日の明暗周期が16hr明期、8hr暗期に環境条件を調整した。本試験では生育が良好な温度23℃を基準(非温度ストレス試験条件)の温度とし、その温度から高温にすることでストレスを与えた。上記準備によるトマトを上記水耕液(1/2大塚A処方)の入ったポリエチレンボトル250mlに植えた。表1〜3の処理液を葉面散布、または地下部へ処理した。また、対照区として温度を23℃にしたストレスを与えない対照区〔式(ii)の植物体重量2のための対照区であり、温度ストレスのない対照区である〕及び温度を32℃とし、前記処理液を与えない対照区〔式(ii)の植物体重量1のための対照区であり、温度ストレスのある対照区である〕を作成した。試験区、対照区共に、個体は10個体用意し、試験開始2週間後の各個体の植物体生重量の平均値を植物体生重量として、前記式(ii)及び(iii)により植物ストレス率及び植物ストレス耐性付与率を計算した。なお、本試験条件では植物ストレス率が125%であり、ストレスが生じていると評されるが、温度についての植物ストレス耐性付与率は、表1〜3に示すように比較品と比べ本発明品の方が明らかに高くなった。
<Temperature stress tolerance test method>
Environmental conditions were adjusted in an artificial meteorological device at a temperature of 32 ° C., an illuminance of 5000 Lux with a fluorescent lamp, and a light / dark cycle of 16 hr light period and 8 hr dark period. In this test, a temperature of 23 ° C. at which growth was favorable was set as a reference (non-temperature stress test condition) temperature, and stress was applied by increasing the temperature from that temperature. The tomato prepared above was planted in 250 ml of a polyethylene bottle containing the hydroponic solution (1/2 Otsuka A formulation). The treatment liquids of Tables 1 to 3 were applied to the foliar surface or treated underground. In addition, as a control group, the temperature was set to 23 ° C., and a control group that was not subjected to stress (a control group for plant weight 2 of formula (ii) and a control group without temperature stress) and a temperature of 32 ° C. Then, a control group [the control group for plant weight 1 of formula (ii) and a control group with temperature stress] to which the treatment solution was not applied was prepared. In each of the test group and the control group, 10 individuals are prepared, and the average value of the plant raw weight of each individual two weeks after the start of the test is used as the plant raw weight, and the plant stress rate according to the above formulas (ii) and (iii) And the plant stress tolerance imparting rate was calculated. It should be noted that the plant stress rate is 125% under this test condition, and it is evaluated that the stress is generated. However, the plant stress resistance imparting rate with respect to the temperature is compared with the comparative product as shown in Tables 1 to 3 according to the present invention. The goods were clearly higher.

実施例3 乾燥ストレス耐性付与試験(トマト)
・試験方法
非乾燥ストレス試験条件:土壌pF値1.7以上2.3未満に制御 その他の栽培条件は乾燥ストレス試験条件に準じる。
ストレス試験条件:土壌pF値2.3以上に制御
栽培温度:23℃ 相対湿度50% 照度:5000Lux(蛍光灯)、明/暗周期:16hr/8hr
栽培期間:3週間
土壌:呉羽化学(株)製のクレハ園芸培土(肥料成分;N:P:K=0.4:1.9:0.6(g)/培土1kg)
植物の準備:呉羽化学(株)製のクレハ園芸培土(肥料成分;N:P:K=0.4:1.9:0.6(g)/培土1kg)を50穴セルトレイに詰め、トマト"桃太郎"の種子を播種し、クレハ園芸培土を薄く覆土し、十分に水を灌水し発芽させる。2葉期の葉が完全に展開した段階で、トマトの根部の土を丁寧に流水で洗い流し、試験に供した。
使用薬剤、処理液の濃度は実施例1に準じる。
処理液施用量:葉面散布 10ml/株 土壌灌水 50ml/株
Example 3 Dry stress tolerance imparting test (tomato)
-Test method Non-drying stress test condition: Soil pF value is controlled to 1.7 or more and less than 2.3. Other cultivation conditions conform to the dry stress test condition.
Stress test condition: Soil pF value 2.3 or higher Control cultivation temperature: 23 ° C. Relative humidity 50% Illuminance: 5000 Lux (fluorescent lamp), light / dark cycle: 16 hr / 8 hr
Cultivation period: 3 weeks Soil: Kureha Horticultural cultivation soil (Kureha Chemical Co., Ltd.) (fertilizer component; N: P: K = 0.4: 1.9: 0.6 (g) / cultured soil 1 kg)
Preparation of plant: Kureha Horticultural culture soil (fertilizer component; N: P: K = 0.4: 1.9: 0.6 (g) / 1 kg of culture soil) manufactured by Kureha Chemical Co., Ltd. was packed in a 50-well cell tray and tomato Seed "Momotaro" seeds, cover the Kureha Horticulture soil thinly, irrigate with enough water to germinate. When the leaves of the second leaf stage were fully developed, the soil at the root of the tomato was carefully washed away with running water and subjected to the test.
The concentrations of the chemicals used and the treatment liquid are the same as in Example 1.
Treatment liquid application rate: foliar spray 10ml / soil soil irrigation 50ml / strain

<乾燥ストレス耐性付与試験方法>
温度が制御された部屋内の植物培養棚に上記準備によるトマトを60cmのプランターに5株植えた。プランター中央部に土壌水分計(大起理化工業(株)製)を設置し、土壌水分の状態を確認しながら、1日数回灌水を行った。乾燥ストレスはpF値が2.3以上となるよう制御した。トマトを植えた直後より、1週間に1回の割合で表1〜3の処理液を葉面散布、または地下部へ処理した。また、対照区として土壌pF値が1.7以上2.3未満の間となるよう潅水したストレスを与えない対照区〔式(ii)の植物体重量2のための対照区であり、乾燥ストレスのない対照区である〕及びpF値が2.3以上となるよう潅水し且つ処理液を与えない対照区〔式(ii)の植物体重量1のための対照区であり、乾燥ストレスのある対照区である〕を作成した。試験区、対照区共に、個体は5個体(1プランター)用意し、試験開始3週間後、植物体の根を切らないよう採取し、土壌を流水で洗い流し、植物体生重量を測定し、その平均値で植物ストレス率及び植物ストレス耐性付与率を前記式(ii)及び(iii)により計算した。なお、本試験条件では植物乾燥ストレス率が130%であり、ストレスが生じていると評されるが、乾燥についての植物ストレス耐性付与率は、表1〜3に示すように比較品と比べ本発明品の方が明らかに高くなった。
<Drying stress tolerance test method>
Five strains of the tomatoes prepared above were planted in a planter of 60 cm on a plant culture shelf in a temperature-controlled room. A soil moisture meter (manufactured by Daiki Rika Kogyo Co., Ltd.) was installed in the center of the planter, and irrigation was performed several times a day while confirming the state of soil moisture. The drought stress was controlled so that the pF value was 2.3 or more. Immediately after planting the tomatoes, the treatment liquids shown in Tables 1 to 3 were applied to the foliage or treated underground at a rate of once a week. In addition, as a control plot, a control plot that does not give a stress irrigated so that the soil pF value is between 1.7 and less than 2.3 [control plot for plant weight 2 of formula (ii), and drought stress No control group] and a control group that is irrigated to give a pF value of 2.3 or more and no treatment solution is applied [control group for plant weight 1 of formula (ii), with drought stress It is a control plot]. In the test group and the control group, 5 individuals (1 planter) are prepared. After 3 weeks from the start of the test, the plant body is sampled so as not to cut the roots, the soil is washed away with running water, and the raw plant weight is measured. The plant stress rate and the plant stress tolerance imparting rate were calculated by the above formulas (ii) and (iii) as average values. It should be noted that the plant drought stress rate is 130% under this test condition, and it is evaluated that stress has occurred, but the plant stress tolerance imparting rate for drought is compared with that of the comparative product as shown in Tables 1 to 3. The invention was clearly higher.

実施例4 塩ストレス耐性付与試験(トマト)
・試験方法
試験条件:温度23℃、相対湿度50%、照度:5000Lux(蛍光灯)、明/暗周期:16hr/8hr
水耕液条件:水道水
塩ストレス条件:NaCl濃度3510ppm(NaClによる水ポテンシャル0.29MPa)
栽培期間:2週間
植物の準備:呉羽化学(株)製のクレハ園芸培土(肥料成分;N:P:K=0.4:1.9:0.6(g)/培土1kg)を50穴セルトレイに詰め、トマト"桃太郎"の種子を播種し、クレハ園芸培土を薄く覆土し、十分に水を灌水し発芽させる。2葉期の葉が完全に展開した段階で、トマトの根部の土を丁寧に流水で洗い流し、試験に供した。
使用薬剤、処理液の濃度は実施例1に準じる。
処理液施用量:葉面散布 10ml/株 地下部処理 250ml/株
Example 4 Salt stress tolerance imparting test (tomato)
Test method Test conditions: temperature 23 ° C., relative humidity 50%, illuminance: 5000 Lux (fluorescent lamp), light / dark cycle: 16 hr / 8 hr
Hydroponic liquid condition: tap salt stress condition: NaCl concentration 3510ppm (water potential by NaCl 0.29MPa)
Cultivation period: 2 weeks Plant preparation: Kureha Horticultural cultivation soil (fertilizer component; N: P: K = 0.4: 1.9: 0.6 (g) / cultured soil 1 kg) manufactured by Kureha Chemical Co., Ltd. 50 holes Packed in a cell tray, seeded with tomato "Momotaro" seeds, thinly covered Kureha Horticultural soil, irrigated with sufficient water to germinate. When the leaves of the second leaf stage were fully developed, the soil at the root of the tomato was carefully washed away with running water and subjected to the test.
The concentrations of the chemicals used and the treatment liquid are the same as in Example 1.
Treatment liquid application rate: foliar spray 10ml / strain underground treatment 250ml / strain

<塩ストレス耐性付与試験方法>
水耕液として、水道水にNaClを濃度が3510ppmとなるように加えたものを用いた以外は実施例1と同様に試験区、対照区を栽培した。その結果、本試験条件では植物ストレス率が130%であり、ストレスが生じていると評されるが、NaClについての植物ストレス耐性付与率は、表1〜3に示すように比較品と比べ本発明品の方で明らかに高くなり、植物ストレス耐性付与率は111%以上となった。
<Salt stress tolerance test method>
The test plot and the control plot were cultivated in the same manner as in Example 1 except that the hydroponic solution used was tap water with NaCl added to a concentration of 3510 ppm. As a result, the plant stress rate is 130% under this test condition, and it is evaluated that stress is occurring. However, the plant stress resistance imparting rate for NaCl is compared with that of the comparative product as shown in Tables 1 to 3. The product of the invention was clearly higher, and the plant stress resistance imparting rate was 111% or more.

実施例5 乾燥ストレス耐性付与試験(バレイショ:品種トヨシロ)
・試験方法
非乾燥ストレス試験条件:土壌pF値1.7−2.3に制御 その他の栽培条件は乾燥ストレス試験条件に準じる。
ストレス試験条件:土壌pF値2.3以上に制御
栽培温度:23℃ 相対湿度50% 照度:5000Lux(蛍光灯)、明/暗周期:16hr/8hr
栽培期間:3週間
土壌:呉羽化学(株)製のクレハ園芸培土(肥料成分;N:P:K=0.4:1.9:0.6(g)/培土1kg)
使用薬剤、処理液の施用量は実施例3に準じる。
Example 5 Dry stress tolerance imparting test (potato: variety Toyoshiro)
-Test method Non-drying stress test condition: Control to soil pF value 1.7-2.3 Other cultivation conditions conform to the dry stress test condition.
Stress test condition: Soil pF value 2.3 or higher Control cultivation temperature: 23 ° C. Relative humidity 50% Illuminance: 5000 Lux (fluorescent lamp), light / dark cycle: 16 hr / 8 hr
Cultivation period: 3 weeks Soil: Kureha Horticultural cultivation soil (Kureha Chemical Co., Ltd.) (fertilizer component; N: P: K = 0.4: 1.9: 0.6 (g) / cultured soil 1 kg)
The applied chemicals and the treatment liquid are applied in the same manner as in Example 3.

<乾燥ストレス耐性付与試験方法>
ガラス温室内で呉羽化学(株)製のクレハ園芸培土(肥料成分;N:P:K=0.4:1.9:0.6(g)/培土1kg)を60cmのプランターに詰め、バレイショ“トヨシロ”の種芋を半分に切除して5個ずつ播種し、クレハ園芸培土を薄く覆土し、十分に水を灌水し発芽させた。3葉期の葉が完全に展開した段階で、温度が制御された部屋内の植物培養棚にバレイショを移動し試験を開始した。プランター中央部に土壌水分計を設置し、土壌水分の状態を確認しながら、1日1回灌水を行った。乾燥ストレスはpF値が2.3以上となるよう制御した。試験開始直後より、1週間に1回の割合で表1〜3の処理液を葉面散布、または地下部へ処理した。また、対照区として土壌pF値が1.7以上2.3未満の間となるよう潅水したストレスを与えない対照区〔式(ii)の植物体重量2のための対照区であり、乾燥ストレスのない対照区である〕及びpF値が2.3以上となるよう潅水を制御し且つ処理液を与えない対照区〔式(ii)の植物体重量1のための対照区であり、乾燥ストレスのある対照区である〕を作成した。試験区、対照区共に、個体は5個体(1プランター)用意し、試験開始3週間後、植物体の根を切らないよう採取し、土壌を流水で洗い流し、植物体生重量を測定し、その平均値で植物ストレス率及び植物ストレス耐性付与率を前記式(ii)及び(iii)により計算した。なお、本試験条件では植物ストレス率が128%であり、ストレスが生じていると評されるが、乾燥についての植物ストレス耐性付与率は、表1〜3に示すように比較品と比べ本発明品の方が明らかに高くなった。
<Drying stress tolerance test method>
In the glass greenhouse, Kureha Horticultural Culture Soil (fertilizer component; N: P: K = 0.4: 1.9: 0.6 (g) / 1 kg of culture soil) made by Kureha Chemical Co., Ltd. was packed into a 60 cm planter and potato “Toyoshiro” seed pods were cut in half and sown 5 pieces at a time, and Kureha horticulture soil was thinly covered, and water was thoroughly sprinkled to allow germination. At the stage where the leaves at the 3 leaf stage were fully developed, the potato was moved to a plant culture shelf in a room where the temperature was controlled, and the test was started. A soil moisture meter was installed in the center of the planter, and irrigation was performed once a day while confirming the state of soil moisture. The drought stress was controlled so that the pF value was 2.3 or more. Immediately after the start of the test, the treatment liquids shown in Tables 1 to 3 were applied to the foliar surface or treated underground at a rate of once a week. In addition, as a control plot, a control plot that does not give a stress irrigated so that the soil pF value is between 1.7 and less than 2.3 [control plot for plant weight 2 of formula (ii), and drought stress Control group without irrigation] and control group in which irrigation is controlled so that the pF value is 2.3 or more and no treatment solution is given [control group for plant weight 1 of formula (ii), and drought stress This is a control zone. In the test group and the control group, 5 individuals (1 planter) are prepared. After 3 weeks from the start of the test, the plant body is sampled so as not to cut the roots, the soil is washed away with running water, and the raw plant weight is measured. The plant stress rate and the plant stress tolerance imparting rate were calculated by the above formulas (ii) and (iii) as average values. It should be noted that the plant stress rate is 128% under the present test conditions, and it is evaluated that stress has occurred. However, the plant stress resistance imparting rate for drying is compared with the comparative products as shown in Tables 1 to 3, according to the present invention. The goods were clearly higher.

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Claims (3)

(A)CH (CH s−1 OH(sは12〜24の整数)で表される1−アルカノール、並びに(C)ケイ素化合物〔以下、化合物(C)という〕、(F)抗酸化剤〔以下、化合物(F)という〕、(G)オーキシン生合成経路中間体物質(シキミ酸からインドール酢酸までの生合成経路)〔以下、化合物(G)という〕及び(H)糖類〔以下、化合物(H)という〕からなる群より選ばれる1種以上の化合物、を含有する植物ストレス耐性付与剤組成物を、塩ストレスによる水ポテンシャルが0.2MPa以上、乾燥ストレスによる土壌pF値が2.3以上、及び温度ストレスによる平均栽培温度が28℃以上、の群から選ばれる少なくとも1つ以上を含む栽培条件にある植物に施用する、植物の栽培方法であって、
化合物(C)がケイ素、ケイ酸、オルトケイ酸、ジケイ酸、トリケイ酸、ポリケイ酸、シリコーンオイル、シリコーン界面活性剤からなる群より選ばれる一種以上の化合物であり、化合物(F)がフラボン、ケルセチン、ルチン、クロロフィル、サポニン、カフェイン、カテキン、ポリフェノール、セサミン、セサモール、アスタキサンチン、及びクルクミンからなる群より選ばれる一種以上の化合物であり、化合物(G)がシキミ酸、アントラニル酸、トリプタミン及びインドール酢酸からなる群より選ばれる一種以上の化合物であり、化合物(H)がトレハロース、ラフィノース、フルクトース、グルコシルスクロース、シクロデキストリン、マンニトール及びオリゴ糖類からなる群より選ばれる一種以上の化合物であり、
前記植物が、トマト又はジャガイモである、
植物の栽培方法
(A) CH 3 (CH 2 ) s-1 OH (s 12 to 24 of an integer) is represented by 1-alkanol, as well (C) a silicon compound [hereinafter referred to as the compound (C)], (F) Antioxidant [hereinafter referred to as compound (F)] , (G) Auxin biosynthetic pathway intermediate substance (biosynthetic pathway from shikimic acid to indoleacetic acid) [hereinafter referred to as compound (G)] and (H) saccharide [ Hereinafter, a plant stress tolerance imparting agent composition containing one or more compounds selected from the group consisting of compounds (H)] has a water potential of 0.2 MPa or more due to salt stress and a soil pF value due to drought stress. 2.3 or more, and an average cultivation temperature due to temperature stress is 28 ° C. or more, and is applied to a plant under cultivation conditions including at least one selected from the group of the following:
Compound (C) is one or more compounds selected from the group consisting of silicon, silicic acid, orthosilicic acid, disilicic acid, trisilicic acid, polysilicic acid, silicone oil, and silicone surfactant, and compound (F) is flavone, quercetin , Rutin, chlorophyll, saponin, caffeine, catechin, polyphenol, sesamin, sesamol, astaxanthin, and curcumin, wherein compound (G) is shikimic acid, anthranilic acid, tryptamine, and indoleacetic acid One or more compounds selected from the group consisting of: Compound (H) is one or more compounds selected from the group consisting of trehalose, raffinose, fructose, glucosyl sucrose, cyclodextrin, mannitol and oligosaccharides;
The plant is tomato or potato,
Plant cultivation method .
更に、界面活性剤〔(A)、(C)、(F)、(G)、(H)に属するものを除く〕を施用する請求項記載の植物の栽培方法Furthermore, surfactants cultivation method of the plant according to claim 1, wherein applying the [(A), (C), (F), (G), belonging excluding those in (H)]. 前記界面活性剤が、アルケニルコハク酸化化工澱粉である、請求項1又は2記載の植物の栽培方法。The plant cultivation method according to claim 1 or 2, wherein the surfactant is alkenyl succinylated starch.
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