JP5137775B2 - シリコーン樹脂用組成物 - Google Patents
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Description
〔1〕 式(I):
で表される化合物、式(II):
で表される化合物、及び金属酸化物微粒子を含んでなる、シリコーン樹脂用組成物、
ならびに
〔2〕 前記〔1〕記載のシリコーン樹脂用組成物を用いて光半導体素子を封止してなる光半導体装置
に関する。
で表される化合物が挙げられる。なお、本明細書において「シリコーン樹脂用組成物」とは、樹脂化(硬化)することによりシリコーン樹脂となるもののことを意味し、従って、シリコーン樹脂用組成物は、樹脂化する前の状態である組成物のことである。
で表される化合物が使用される。なお、本明細書において「分散剤」とは、金属酸化物微粒子を予めビーズミル等の機械的シェアによって分散させる時に、金属酸化物微粒子を良好に分散させることができる物質のことを表わす。
(分散剤Aの合成)
攪拌機、還流冷却器及び窒素導入管を備えた容器に、側鎖に水素を有するメチルハイドロジェンシリコーンオイル(商品名:KF9901、信越シリコーン株式会社製、官能基当量140g/mol)14.8g、ビニルトリメトキシシラン(商品名:KBM1003、信越シリコーン株式会社製)14.8g、トルエン10mLを加えた。窒素置換を十分に行った後、白金触媒を3μL加えて、80℃で5時間反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し、溶媒を留去して式(II)で表される化合物(分散剤A:R=−(CH2)2Si(OCH3)3、シラノール基の繰り返し単位数nが2〜3の混合物)を得た。
酸化チタン微粒子(商品名:TTO-51A、平均粒子径:20nm、石原産業社製)100g、分散剤A20g、ジシラノール変性シリコーン(商品名:X-21-3178、信越シリコーン株式会社製、式(I)におけるシラノール基の繰り返し単位数mが2〜3の混合物)100g、メチルエチルケトン280gをディスパーで20分間攪拌した溶液をウルトラアペックスミル(寿工業株式会社製)で60分間分散を行い、分散液Aを得た。分散液A中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は70nmであった。
分散液A5gにジシラノール変性シリコーン(商品名:X-21-5841、信越シリコーン株式会社製、式(I)におけるシラノール基の繰り返し単位数mが2〜10の混合物)1gを加え、触媒であるアルミニウム錯体(商品名:CAT-AC、信越シリコーン株式会社製)を少量(0.1g)加えることにより、光半導体素子封止樹脂用組成物の溶液を得た。
(分散剤Bの合成)
攪拌機、還流冷却器及び窒素導入管を備えた容器に、側鎖に水素を有するメチルハイドロジェンシリコーンオイル(商品名:KF99、信越シリコーン株式会社製、官能基当量60g/mol)0.9g、ビニルトリメトキシシラン(商品名:KBM1003、信越シリコーン株式会社製)22.2g、トルエン10mLを加えた。窒素置換を十分に行った後、白金触媒を3μL加えて、80℃で5時間反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し、溶媒を留去して式(II)で表される化合物(分散剤B:R=−(CH2)2Si(OCH3)3、シラノール基の繰り返し単位数nが12〜15の混合物)を得た。
分散剤Aを分散剤Bに代えた以外は、実施例1の分散液Aの作製と同様にして、分散液Bを得た。分散液B中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は90nmであった。
分散液Aを分散液Bに代えた以外は、実施例1と同様にして、光半導体素子封止樹脂用組成物の溶液を得た。そして、実施例1と同様にして、透明な樹脂の皮膜で青色発光ダイオードが封止された光半導体装置を得た。上記皮膜の波長450nmにおける光透過率は93%であり、屈折率は1.60であった。
(分散剤Cの合成)
ビニルトリメトキシシラン(商品名:KBM1003、信越シリコーン株式会社製)の配合量を7.4g(実施例1の半分)に代えた以外は、実施例1の分散剤Aの合成と同様にして、式(II)で表される化合物(分散剤C:R=−(CH2)2Si(OCH3)3、シラノール基の繰り返し単位数nが2〜3の混合物)を得た。
分散剤Aを分散剤Cに代えた以外は、実施例1の分散液Aの作製と同様にして、分散液Cを得た。分散液C中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は110nmであった。
分散液Aを分散液Cに代えた以外は、実施例1と同様にして、光半導体素子封止樹脂用組成物の溶液を得た。そして、実施例1と同様にして、透明な樹脂の皮膜で青色発光ダイオードが封止された光半導体装置を得た。上記皮膜の波長450nmにおける光透過率は90%であり、屈折率は1.58であった。
(分散剤Dの合成)
攪拌機、還流冷却器及び窒素導入管を備えた容器に、側鎖に水素を有するメチルハイドロジェンシリコーンオイル(商品名:KF99、信越シリコーン株式会社製、官能基当量60g/mol)14.8g、ビニルトリメトキシシラン(商品名:KBM1003、信越シリコーン株式会社製)14.8g、トルエン10mLを加えた。窒素置換を十分に行った後、白金触媒を3μL加えて、80℃で5時間反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し、溶媒を留去して式(II)で表される化合物(分散剤D:R=−(CH2)2Si(OCH3)3、シラノール基の繰り返し単位数nが2〜4の混合物)を得た。
酸化チタン微粒子(商品名:TTO-51A、平均粒子径:20nm、石原産業社製)100g、分散剤D20g、ジシラノール変性シリコーン(商品名:X-21-3153、信越シリコーン株式会社製、式(I)におけるシラノール基の繰り返し単位数mが2〜3の混合物)100g、メチルエチルケトン280gをディスパーで20分間攪拌した溶液をウルトラアペックスミル(寿工業株式会社製)で60分間分散を行い、分散液Dを得た。分散液D中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は70nmであった。
分散液D5gにジシラノール変性シリコーン(商品名:X-21-5841、信越シリコーン株式会社製、式(I)におけるシラノール基の繰り返し単位数mが10〜14の混合物)1gを加え、触媒であるアルミニウム錯体(商品名:CAT-AC、信越シリコーン株式会社製)を少量(0.1g)加えることにより、光半導体素子封止樹脂用組成物の溶液を得た。
(分散剤Eの合成)
攪拌機、還流冷却器及び窒素導入管を備えた容器に、側鎖に水素を有するメチルハイドロジェンシリコーンオイル(商品名:KF9901、信越シリコーン株式会社製、官能基当量140g/mol)0.9g、ビニルトリメトキシシラン(商品名:KBM1003、信越シリコーン株式会社製)22.2g、トルエン10mLを加えた。窒素置換を十分に行った後、白金触媒を3μL加えて、80℃で5時間反応を行った。反応終了後、室温まで冷却し、溶媒を留去して式(II)で表される化合物(分散剤E:R=−(CH2)2Si(OCH3)3、シラノール基の繰り返し単位数nが12〜15の混合物)を得た。
分散剤Dを分散剤Eに代えた以外は、実施例4の分散液Dの作製と同様にして、分散液Eを得た。分散液E中の酸化チタン微粒子の平均粒子径は90nmであった。
分散液Dを分散液Eに代えた以外は、実施例4と同様にして、光半導体素子封止樹脂用組成物の溶液を得た。そして、実施例4と同様にして、透明な樹脂の皮膜で青色発光ダイオードが封止された光半導体装置を得た。上記皮膜の波長450nmにおける光透過率は93%であり、屈折率は1.60であった。
式(II)で表わされる化合物を用いずに組成物の作製を試みたが金属酸化物微粒子が凝集して、封止樹脂用組成物として使用できなかった。
上記に記載された金属酸化物微粒子の平均粒子径、光透過率又は屈折率は以下のように測定された。
配合される金属酸化物微粒子の平均粒子径は、動的光散乱法、あるいは透過型電子顕微鏡による直接観察により測定することができ、分散液中で凝集した金属酸化物微粒子の平均粒子径は、動的光散乱粒度分布計(ナノトラック、日機装社製)を用いて測定することができる。
分光光度計(U−4100、日立ハイテク社製)を用いて、波長450nmにおける光透過率を測定した。
アッベの屈折率計(NAR-IT型、アタゴ社製)を用いて、25℃における屈折率を測定した。
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