JP5136662B2 - 放射線画像変換パネルの製造装置及び放射線画像変換パネルの製造方法 - Google Patents
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また、複数の蒸発源の間隔を狭くすることによって蛍光体の入射角のばらつきが少なくなることから、所定の入射角で支持体に到達する蛍光体を遮蔽する遮蔽板などをシャッタと別に設けることなく、結晶性を均一にして放射線画像の鮮鋭性を向上させることができる。
また、3個以上の蒸発源の間隔を狭くすることによって蛍光体の入射角のばらつきが少なくなることから、所定の入射角で支持体に到達する蛍光体を遮蔽する遮蔽板などをシャッタと別に設けることなく、結晶性を均一にして放射線画像の鮮鋭性を向上させることができる。
M1X・aM2X'2・bM3X"3:eA
[式中、M1はLi、Na、K、Rb及びCsの各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属原子であり、M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiの各原子から選ばれる少なくとも1種の二価金属原子であり、M3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びInの各原子から選ばれる少なくとも1種の三価金属原子であり、X、X'、X"はF、Cl、Br及びIの各原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子であり、AはEu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgの各原子から選ばれる少なくとも1種の金属原子であり、また、a、b、eはそれぞれ0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<e<1.0の範囲の数値を表す。]
この際、乳鉢、ボールミル、ミキサーミルなどを用いて充分に混合しても良い。
また、複数の蒸発源8の間隔を狭くすることにより輝尽性蛍光体の入射角のばらつきが少なくなることから、所定の入射角で支持体4に到達する輝尽性蛍光体を遮蔽する遮蔽板などをシャッタと別に設けることなく、結晶性を均一にして放射線画像の鮮鋭性を向上させることができる。
(放射線像変換パネルの作製)
アルミニウムからなる支持体の片面に輝尽性蛍光体(CsBr:0.0005Eu)を蒸着させて輝尽性蛍光体層を形成した。
すなわち、まず、支持体回転機構を備えた支持体ホルダに支持体を設置した。次に、上記蛍光体原料を蒸着材料として抵抗加熱るつぼに充填し、2個の抵抗加熱るつぼを真空容器の内部の底面付近であって支持体の中心から放射状に延びる直線上に配置した。このとき、支持体と蒸発源との間隔を200mmに調節すると共に、支持体に垂直な中心線と蒸発源との間隔を300mmに調節した。続いて真空容器の内部を一旦排気し、Arガスを導入して0.1Paに真空度を調整した後、10rpmの速度で支持体を回転させながら支持体の温度を100℃に保持した。次いで、抵抗加熱るつぼを加熱して輝尽性蛍光体を蒸着し、輝尽性蛍光体層の膜厚が500μmとなったところで蒸着を終了させた。
次いで、乾燥空気内で輝尽性蛍光体層を保護層袋に入れ、輝尽性蛍光体層が密封された構造の放射線像変換パネルを得た。
実施例1の蒸発源の数を3個として放射線画像変換パネルを得た。
図2に示すように、実施例1の蒸発源の数を1個とし、蒸発源と支持体との距離を800mmとして放射線画像変換パネルを得た。
実施例1の蒸発源の数を1個とし、蒸発源と支持体との距離を400mmとして放射線画像変換パネルを得た。
実施例1の蒸発源の数を1個として放射線画像変換パネルを得た。
そして、以上のようにして得られた放射線画像変換パネルについて下記のような評価を行った。
膜厚分布は、輝尽性蛍光体層における輝尽性蛍光体の膜厚のばらつきの程度を示す指標値となるものである。膜厚分布は、輝尽性蛍光体層における最大膜厚DMax及び最小膜厚
Dminを測定して、下記式(3)により算出した。
放射線画像変換パネルにCTFチャートを貼り付けて、管電圧80kVP−PのX線を10mR(管球から放射線画像変換パネルまでの距離:1.5m)照射した後、半導体レーザ光(発振波長:780nm、ビーム径:100μm)で走査して輝尽励起し、CTFチャート像を輝尽性蛍光体層から放射される輝尽発光として読み取り、光検出器(光電子増倍管)で光電変換して画像信号を得た。この信号値により、画像の変調伝達関数(MTF)を調べた。そして、実施例1の蒸発源の数を1個とし、蒸発源と支持体との距離を800mmとした場合(比較例1)の値を100として相対値で示した。なお、MTFは、空間周波数が1サイクル/mmの時の値である。
2 真空容器
3 真空ポンプ
4 支持体
5 支持体ホルダ
6 支持体回転機構
7 支持体回転軸
8 蒸発源
9 シャッタ
Claims (7)
- 真空容器と、
前記真空容器内に設けられ、水平方向に回転する支持体ホルダと、
前記支持体ホルダに、その中心が前記支持体ホルダの回転中心と一致するように保持された1つの支持体と、
前記支持体に垂直な中心線から所定の距離を離して、前記支持体と平行な平面において、前記中心線から水平方向に放射状に延びる直線のうち少なくとも一の直線上に配置され、同一種類の蛍光体を各々が含み、前記蛍光体を抵抗加熱法により加熱蒸発させて前記支持体に前記蛍光体を蒸着させる3個以上の蒸発源と、
を備え、
前記支持体と前記3個以上の蒸発源の各々との距離は100mm〜1500mmであることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造装置。 - 前記支持体ホルダは、前記蒸着源から前記蛍光体を蒸着させる際に前記支持体を回転させる支持体回転機構を備えていることを特徴とする請求項1に記載の放射線画像変換パネルの製造装置。
- 前記支持体に垂直な中心線と前記3個以上の蒸発源の各々との間隔は100mm〜1500mmであることを特徴とする請求項1又は2に記載の放射線画像変換パネルの製造装置。
- 真空容器内において、水平方向に回転する支持体ホルダに1つの支持体をその中心が前記支持体ホルダの回転中心と一致するように保持する工程と、
前記支持体に垂直な中心線から所定の距離を離して、前記支持体と平行な平面において、前記中心線から水平方向に放射状に延びる直線のうち少なくとも一の直線上に、同一種類の蛍光体を各々が含み、前記蛍光体を抵抗加熱法により加熱蒸発させる3個以上の蒸発源を配置する工程と、
前記3個以上の蒸発源から蒸発する前記蛍光体を前記支持体に蒸着させて蛍光体層を形成する工程と、
を備え、
前記支持体と前記3個以上の蒸発源の各々との距離を100mm〜1500mmとすることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。 - 前記支持体ホルダは、前記蒸着源から前記蛍光体を蒸着させる際に前記支持体を回転させる支持体回転機構を備えていることを特徴とする請求項4に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
- 前記支持体に垂直な中心線と前記3個以上の蒸発源の各々との間隔を100mm〜1500mmとすることを特徴とする請求項4又は5に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
- 前記蛍光体層の膜厚分布が10%以下であることを特徴とする請求項4から6のいずれか一項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。
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