JP5132238B2 - フッ素化アダマンタン化合物の製造方法 - Google Patents
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(1)SF4、CF3OF、元素状フッ素などのフッ素化剤を用いてアダマンタン化合物の橋頭位の炭素原子に結合した水素原子をフッ素原子に置換する方法(非特許文献1、特許文献1参照)。
(2)(C2H5)2NSF3[DAST]などを用いて、アダマンタン化合物の橋頭位の炭素原子に結合した水酸基をフッ素原子に置換する方法(特許文献2、特許文献3参照)。
(3)フッ素ガスを用いてアダマンタン化合物の橋頭位の炭素原子に結合した臭素原子やヨウ素原子をフッ素原子に置換する方法(非特許文献2参照)。
(1)の方法は、用いるフッ素化剤の毒性が強くまた、取り扱いが難しい。また、原料化合物中に橋頭位の炭素原子に結合した水素原子を複数含む場合、選択的に任意の個数のフッ素原子で置換することは困難である。
(2)および(3)の方法は、あらかじめ水酸基、臭素原子、ヨウ素原子などをアダマンタン環に導入しておく必要があり、複数のフッ素を導入するためには、多くの工程を必要とする。
<1>橋頭位の炭素原子に結合した水素原子を1〜4個有するアダマンタン誘導体およびアダマンタンから選ばれるアダマンタン化合物を、第3級アミンのポリフッ化水素酸塩および第4級アンモニウムフルオリドのポリフッ化水素酸塩から選ばれる少なくとも1種のフッ素化剤を用いて電解フッ素化し、橋頭位の炭素原子に結合した水素原子のみ、その一部ないし全部をフッ素原子に置換するフッ素化アダマンタン化合物の製造方法であって、
前記アダマンタン誘導体は、アダマンタンの水素原子の1個以上が、下記ハロゲン原子(α)、原子団(β)、および炭素数20以下の有機基(γ)から選ばれる少なくとも1種に置換された化合物であることを特徴とするフッ素化アダマンタン化合物の製造方法。
ハロゲン原子(α);フッ素原子、および塩素原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子。
原子団(β);ニトロ基、シアノ基、およびカルボキシ基から選ばれる少なくとも1種の原子団。
炭素数20以下の有機基(γ);アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルオキシアルキル基、およびアルコキシ基から選ばれる少なくとも1種の有機基。
<2>橋頭位の炭素原子に結合した水素原子を2〜3個有する前記アダマンタン誘導体から、フッ素原子を1〜3個有するフッ素化アダマンタン化合物を製造する、上記<1>に記載の製造方法。
<3>アダマンタン化合物が、橋頭位の炭素原子に結合した不活性置換基を1〜2個有するアダマンタン誘導体であり、前記不活性置換基が、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルオキシアルキル基およびアルコキシ基から選ばれる少なくとも1種の基である、上記<1>または<2>に記載の製造方法。
<4>橋頭位の炭素原子に結合した水素原子を2〜4個有するアダマンタン化合物を用い、電解フッ素化における電位を制御して該水素原子が置換されるフッ素原子の数を制御する、上記<1>〜<3>のいずれか一項に記載の製造方法。
<5>前記フッ素化剤が、トリアルキルアミンのポリフッ化水素酸塩およびテトラアルキルアンモニウムフルオリドのポリフッ化水素酸塩から選ばれる少なくとも1種である、上記<1>〜<4>のいずれか一項に記載の製造方法。
<6>フッ素化剤が常温で液体であるフッ素化剤であり、該フッ素化剤を電解フッ素化における溶媒の少なくとも一部として使用する、上記<1>〜<5>のいずれか一項に記載の製造方法。
(R3)3N・mHF ・・・(1)
(R4)4NF・nHF ・・・(2)
(CH3)3N・3HF、(CH3)3N・4HF、(CH3)3N・5HF、(CH3)3N・6HF、(C2H5)3N・3HF、(C2H5)3N・4HF、(C2H5)3N・5HF、(C2H5)3N・6HF、(C2H5)3N・7HF、(n−C3H7)3N・5HF、(n−C3H7)3N・6HF、(i−C3H7)3N・6HF、(n−C4H9)3N・5HF、(t−C4H9)3N・6HF、Pr・5HF、Pr・6HF、(CH3)4NF・4HF、(CH3)4NF・5HF、(CH3)4NF・6HF、(C2H5)4NF・3HF、(C2H5)4NF・4HF、(C2H5)4NF・5HF、(C2H5)4NF・6HF、(C2H5)4NF・7HF、(n−C3H7)4NF・5HF、(t−C4H9)4NF・6HF。
電解反応は通常、−50℃〜+50℃で行うことができるが、特に−10℃〜+40℃で行うのが好ましい。また電位は1〜3.0V、好ましくは1.5〜3.0V、電流密度は1〜100mA/cm3、好ましくは5〜50mA/cm3である。
白金電極(2×2cm)をアノード、カソードに持つフッ素樹脂製1室型電解槽に、Et3N−5HF(12ml)、1−アセトキシメチルアダマンタン(199mg、0.95mmol)を入れた。室温、定電位(2.54V vs.Ag/Ag+)で2.65F/molの電流を流し反応を行った。反応混合物を水に注ぎ、塩化メチレンで抽出した。有機層を混合し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成することにより、3−フルオロ−1−アセトキシメチルアダマンタンを収率86%で得た。
1H−NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(ppm):1.47〜1.59(6H,m)、1.69〜1.87(6H,m)、3.02(3H,s)、2.32(2H,s)。
19F−NMR(376MHz、溶媒CDCl3、基準:CFCl3)δ(ppm):−132.6(1F,s)。
1−アセトキシメチルアダマンタンを[例1]と同条件下、2.7V vs.Ag/Ag+で5.2F/molの電流を流し反応を行った。通電後、[例1]と同様に後処理を行い、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成することにより、3,5−ジフルオロ−1−アセトキシメチルアダマンタンを収率85%で得た。
1H−NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(ppm):1.40(2H,s)、1.68〜1.83(10H,m)、2.08(3H,s)、2.49(1H,s)、3.86(2H,s)。
19F−NMR(376MHz、溶媒CDCl3、基準:CFCl3)δ(ppm):−137.5(2F,s)。
1−アダマンタンカルボン酸メチルを[例1]と同条件下、2.45V vs.Ag/Ag+で2.8F/molの電流を流し反応を行った。通電後、[例1]と同様に後処理を行い、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成することにより、3−フルオロ−1−アダマンタンカルボン酸メチルを収率84%で得た。
1H−NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(ppm):1.60(2H,s)、1.80〜1.89(8H,m)、2.03(d,2H,5.72Hz)、2.34(2H,s)、3.68(3H,s)。
19F−NMR(376MHz、溶媒CDCl3、基準:CFCl3)δ(ppm):−133.0(1F,s)。
1−アダマンタンカルボン酸メチルを[例1]と同条件下、2.6V vs.Ag/Ag+で6.57F/molの電流を流し反応を行った。通電後、[例1]と同様に後処理を行い、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成することにより、3,5−ジフルオロ−1−アダマンタンカルボン酸メチルを収率72%で得た。
1H−NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(ppm):1.71(2H,bs)、1.83(4H,m)、2.01(4Hbs)、2.10(2H,m)、2.52(1H,bs)、3.71(3H,s)。
19F−NMR(376MHz、溶媒CDCl3、基準:CFCl3)δ(ppm):−137.6(2F,s)。
1−アダマンタンカルボン酸メチルを[例1]と同条件下、2.8V vs.Ag/Ag+で10.3F/molの電流を流し反応を行った。通電後、[例1]と同様に後処理を行い、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成することにより、3,5,7−トリフルオロ−1−アダマンタンカルボン酸メチルを収率92%で得た。
1H−NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(ppm):1.99〜2.15(12H,m)、3.74(3H,s)。
19F−NMR(2376MHz、溶媒CDCl3、基準:CFCl3)δ(ppm):−143.9(3F,s)。
1,3−アダマンタンジカルボン酸ジメチルエステルを[例1]と同条件下、2.53V vs.Ag/Ag+で3.1F/molの電流を流し反応を行った。通電後、[例1]と同様に後処理を行い、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成することにより、5−フルオロ−1,3−アダマンタンジカルボン酸ジメチルエステルを収率76%で得た。
1H−NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(ppm):1.79(4H,s)、1.87〜2.06(8H,m)、2.44〜2.48(1H,m)、3.69(6H,s)。
19F−NMR(376MHz、溶媒CDCl3、基準:CFCl3)δ(ppm):−136.3(1F,s)。
1,3−アダマンタンジカルボン酸ジメチルエステルを[例1]と同条件下、2.8V vs.Ag/Ag+で6.4F/molの電流を流し反応を行った。通電後、[例1]と同様に後処理を行い、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成することにより、5,7−ジフルオロ−1,3−アダマンタンジカルボン酸ジメチルエステルを収率86%で得た。
1H−NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(ppm):1.93(2H,s)、1.98〜2.05(8H,m)、2.12(2H,t,5.36Hz)、3.72(6H,s)。
19F−NMR(376MHz、溶媒CDCl3、基準:CFCl3)δ(ppm):−140.2(2F,s)。
アダマンタンを[例1]で用いたのと同じ電解槽を用いて、Et3N−5HF(6ml)、塩化メチレン(6ml)中、35℃で、2.3V vs.Ag/Ag+で2.2F/molの電流を流し反応を行った。通電後、[例1]と同様に後処理を行い、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成することにより、1−フルオロアダマンタンを収率74%で得た。
1H−NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(ppm):1.56〜1.66(6H,m)、1.88〜1.90(6H,m)、2.23(3H,bs)。
19F−NMR(376MHz、溶媒CDCl3、基準:CFCl3)δ(ppm):−129.1〜−129.0(1F,m)。
アダマンタンを[例1]で用いたのと同じ電解槽を用いて、Et3N−5HF(6ml)、塩化メチレン(6ml)中、35℃で、2.5V vs.Ag/Ag+で4.4F/molの電流を流し反応を行った。通電後、[例1]と同様に後処理を行い、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成することにより、1,3−ジフルオロアダマンタンを収率79%で得た。
1H−NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(ppm):1.50(2H,bs)、1.84〜1.90(8H,m)、2.09(2H,t,5.56Hz)、2.44(2H,bs)。
19F−NMR(376MHz、溶媒CDCl3、基準:CFCl3)δ(ppm):−134.5(2F,m)
アダマンタンを[例1]で用いたのと同じ電解槽を用いて、Et3N−5HF(12ml)中、45℃で、2.7V vs.Ag/Ag+で14F/molの電流を流し反応を行った。通電後、[例1]と同様に後処理を行い、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成することにより、1,3,5−トリフルオロアダマンタンを収率61%で得た。
1H−NMR(400MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS)δ(ppm):1.79〜1.83(6H,m)、2.04〜2.15(6H,m)、2.49〜2.56(1H,m)。
19F−NMR(376MHz、溶媒CDCl3、基準:CFCl3)δ(ppm):−141.4(3F,s)。
Claims (6)
- 橋頭位の炭素原子に結合した水素原子を1〜4個有するアダマンタン誘導体およびアダマンタンから選ばれるアダマンタン化合物を、第3級アミンのポリフッ化水素酸塩および第4級アンモニウムフルオリドのポリフッ化水素酸塩から選ばれる少なくとも1種のフッ素化剤を用いて電解フッ素化し、橋頭位の炭素原子に結合した水素原子のみ、その一部ないし全部をフッ素原子に置換するフッ素化アダマンタン化合物の製造方法であって、
前記アダマンタン誘導体は、アダマンタンの水素原子の1個以上が、下記ハロゲン原子(α)、原子団(β)、および炭素数20以下の有機基(γ)から選ばれる少なくとも1種に置換された化合物であることを特徴とするフッ素化アダマンタン化合物の製造方法。
ハロゲン原子(α);フッ素原子、および塩素原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子。
原子団(β);ニトロ基、シアノ基、およびカルボキシ基から選ばれる少なくとも1種の原子団。
炭素数20以下の有機基(γ);アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルオキシアルキル基、およびアルコキシ基から選ばれる少なくとも1種の有機基。 - 橋頭位の炭素原子に結合した水素原子を2〜3個有する前記アダマンタン誘導体から、フッ素原子を1〜3個有するフッ素化アダマンタン化合物を製造する、請求項1に記載の製造方法。
- アダマンタン化合物が、橋頭位の炭素原子に結合した不活性置換基を1〜2個有するアダマンタン誘導体であり、前記不活性置換基が、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルオキシアルキル基およびアルコキシ基から選ばれる少なくとも1種の基である、請求項1または2に記載の製造方法。
- 橋頭位の炭素原子に結合した水素原子を2〜4個有するアダマンタン化合物を用い、電解フッ素化における電位を制御して該水素原子が置換されるフッ素原子の数を制御する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記フッ素化剤が、トリアルキルアミンのポリフッ化水素酸塩およびテトラアルキルアンモニウムフルオリドのポリフッ化水素酸塩から選ばれる少なくとも1種である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の製造方法。
- フッ素化剤が常温で液体であるフッ素化剤であり、該フッ素化剤を電解フッ素化における溶媒の少なくとも一部として使用する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の製造方法。
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