JP5112773B2 - 載置台およびプラズマアッシング処理装置 - Google Patents
載置台およびプラズマアッシング処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5112773B2 JP5112773B2 JP2007192927A JP2007192927A JP5112773B2 JP 5112773 B2 JP5112773 B2 JP 5112773B2 JP 2007192927 A JP2007192927 A JP 2007192927A JP 2007192927 A JP2007192927 A JP 2007192927A JP 5112773 B2 JP5112773 B2 JP 5112773B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ashing
- mounting table
- lower electrode
- dielectric constant
- plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
尚、説明の便宜上、ウェーハ上にマスクとして形成されたレジストをアッシング処理する場合を例にとり説明をする。
図1に示すように、本実施の形態に係るアッシング装置1は、減圧雰囲気を維持可能なチャンバ2を備えている。チャンバ2内のプラズマPの発生部の下方には、ウェーハ(被処理物)Wを載置保持するための載置台10が配設されている。
ここで、下部電極3の端面(上面)に対する傾斜手段9の傾斜角度θを、0°を超え、30°以下とすることが好ましい。
プラズマPの中で発生したイオン(プラスイオン)46と電子のうち、質量の軽い電子は動きが速く、下部電極3とチャンバ2の壁面にすぐに到達する。下部電極3に到達した電子は、ブロッキングコンデンサ6により移動を阻止され下部電極3を負に帯電させる。下部電極3の帯電圧は400V〜1000V程度に達するが、これを「陰極降下」という。
そして、この陰極降下により発生する垂直な電界に沿ってイオン46が下部電極3、ウェーハWの方向に移動し、ウェーハW上のレジストに入射することで物理的なアッシング処理が行われる。尚、プラズマPの中で発生した中性活性種は、主に重力により下降してウェーハW上のレジストに到達し、化学的なアッシング処理が行われる。
図2(a)に示すように、インプラのマスクとしてウェーハ42上に形成され、インプラがされることによりイオンが注入されたレジスト45には、レジスト45の表面に形成された変質層(硬化層)44と、変質層の下のイオンが注入されていない未変質層(バルク層)43とが存在することになる。
まず、ウェーハWが図示しない搬送装置により、これも図示しないチャンバ2の側壁に設けられた搬入搬出口からチャンバ2内に搬入される。搬入されたウェーハWは、図示しない受け渡し装置により傾斜手段9の上面に受け渡される。受け渡されたウェーハWは、下部電極3に内蔵された図示しない静電チャックにより保持される。図示しない搬送装置がチャンバ2の外に退避した後、図示しない搬入搬出口が閉じられ、チャンバ2が密閉される。
また、下部電極3の端面(上面)とウェーハWとの間には、少なくともその表面が絶縁性材料からなる傾斜手段9が設けられているので、下部電極3の端面(上面)とウェーハWとの間で異常放電が発生するおそれもない。
尚、図1で説明をしたものと同様の部分には同じ符号を付し、その説明は省略する。
前述したように、プラズマPと下部電極3との間には電位差が生じる。
本発明者は検討の結果、プラズマPと下部電極3との間の誘電率を制御することができれば、セルフバイアスすなわち下部電極3の電位Vcを制御することができるので、イオンの入射方向も制御できるとの知見を得た。
また、図5は、誘電率の制御が可能な傾斜手段を例示するための模式断面図である。
尚、図1で説明をしたものと同様の部分には同じ符号を付し、その説明は省略する。
また、ウェーハWの大きさが小さいなどのためにアッシング処理の面内均一性を調整する必要性が少ないなどの場合には、傾斜手段91を分割しないようにすることもできる。
まず、ウェーハWの搬入や図示しない排気手段の作動に先立って、傾斜手段91の誘電率が所定の値に設定される。
収納手段13に収納された誘電率の制御を行うための物質を供給器17で汲み上げて空間12a、12b、12cに供給する。この際、開閉弁18、開閉弁20が開かれ、各空間に誘電率の制御を行うための物質が循環するようにして供給可能とされる。
尚、アッシング装置26のその他の作用に関しては、図1で説明をしたものと同様のためその説明は省略する。
尚、図1、図4で説明をしたものと同様の部分には同じ符号を付し、その説明は省略する。
例えば、アッシング装置1、アッシング装置25、アッシング装置26、アッシング装置30などが備える各要素の形状、寸法、材質、配置などは、例示したものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。
また、前述した各実施の形態が備える各要素は、可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。
Claims (7)
- プラズマアッシング処理される被処理物を載置する載置台であって、
高周波を印加することによりプラズマを発生可能とした電極と、
前記電極の上に設けられ、前記電極の上面に対して前記被処理物の主面を傾斜した状態で載置可能とした傾斜手段と、
を備えたことを特徴とする載置台。 - 前記傾斜手段は、前記電極の上面に対して前記被処理物の主面を、0°を超え、30°以下の範囲で傾斜させること、を特徴とする請求項1記載の載置台。
- 傾斜手段は、少なくともその表面が絶縁性材料からなること、を特徴とする請求項1または2に記載の載置台。
- 前記傾斜手段は複数の範囲に分割され、前記範囲毎に誘電率の変更が可能なこと、を特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の載置台。
- 前記傾斜手段は、内部に空間を有し、
誘電率の制御を行うための流動性を有する物質を収納する収納手段と、
前記収納手段に収納された前記物質を前記空間に供給する供給手段と、
前記空間に供給された前記物質を前記収納手段に回収する回収手段と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の載置台。 - 前記流動性を有する物質は、絶縁性を有する液体であること、を特徴とする請求項5記載の載置台。
- 大気よりも減圧された雰囲気を維持可能なチャンバと、
前記チャンバ内に反応性ガスを導入するガス導入手段と、
前記チャンバ内を排気する排気手段と、
請求項1〜6のいずれか1つに記載の載置台と、
を備えたことを特徴とするプラズマアッシング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007192927A JP5112773B2 (ja) | 2007-07-25 | 2007-07-25 | 載置台およびプラズマアッシング処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007192927A JP5112773B2 (ja) | 2007-07-25 | 2007-07-25 | 載置台およびプラズマアッシング処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009032768A JP2009032768A (ja) | 2009-02-12 |
JP5112773B2 true JP5112773B2 (ja) | 2013-01-09 |
Family
ID=40403007
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007192927A Expired - Fee Related JP5112773B2 (ja) | 2007-07-25 | 2007-07-25 | 載置台およびプラズマアッシング処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5112773B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5576738B2 (ja) * | 2010-07-30 | 2014-08-20 | 株式会社東芝 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
CN112885698B (zh) * | 2021-01-15 | 2022-12-27 | 苏州赛莱德自动化科技有限公司 | 一种半导体集成电路用硅晶片刻蚀装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09219391A (ja) * | 1996-02-08 | 1997-08-19 | Hitachi Ltd | レジスト膜の除去方法及び装置 |
JP3190830B2 (ja) * | 1996-07-22 | 2001-07-23 | 日本電気株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP2000040693A (ja) * | 1998-07-23 | 2000-02-08 | Sony Corp | 半導体製造装置およびアッシング方法 |
JP2004152960A (ja) * | 2002-10-30 | 2004-05-27 | Toppan Printing Co Ltd | ドライエッチング装置及びエッチング方法 |
JP4472372B2 (ja) * | 2003-02-03 | 2010-06-02 | 株式会社オクテック | プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用の電極板 |
JP4115337B2 (ja) * | 2003-05-30 | 2008-07-09 | 俊夫 後藤 | プラズマ処理装置 |
-
2007
- 2007-07-25 JP JP2007192927A patent/JP5112773B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009032768A (ja) | 2009-02-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7988814B2 (en) | Plasma processing apparatus, plasma processing method, focus ring, and focus ring component | |
TWI528491B (zh) | Plasma processing device, plasma processing method, program | |
JP5659425B2 (ja) | 負イオンプラズマを生成する処理システムおよび中性ビーム源 | |
KR100900595B1 (ko) | 플라즈마 한정 및 유동 컨덕턴스 강화 방법 및 장치 | |
JP5317424B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
KR101450350B1 (ko) | 기판 프로세싱을 위한 장치 및 방법 | |
US8608856B2 (en) | Sealing part and substrate processing apparatus | |
US9209034B2 (en) | Plasma etching method and plasma etching apparatus | |
US20140027059A1 (en) | Electrode for plasma processing apparatus, plasma processing apparatus, plasma processing method and storage medium | |
US8414705B2 (en) | Seal mechanism, seal trench, seal member, and substrate processing apparatus | |
JP2012204644A (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
JP2008182081A (ja) | プラズマ処理装置 | |
WO2001082355A2 (en) | Method and apparatus for plasma cleaning of workpieces | |
KR101858324B1 (ko) | 플라즈마 에칭 방법 | |
JP2016031955A (ja) | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | |
JP2009068105A (ja) | 膜コーティングシステム及びその隔離装置 | |
JP2007273596A (ja) | プラズマ処理用の電極板及びプラズマ処理装置 | |
JP5112773B2 (ja) | 載置台およびプラズマアッシング処理装置 | |
KR20130086511A (ko) | 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 방법 | |
KR102538188B1 (ko) | 플라즈마 처리 장치의 세정 방법 | |
KR20070066390A (ko) | 플라즈마 처리 장치 및 방법 | |
JP2000252261A (ja) | プラズマ処理装置 | |
Jun | Diffusive plasma Dechucking method for wafers to reduce falling dust particles | |
US7799237B2 (en) | Method and apparatus for etching a structure in a plasma chamber | |
JP5142360B2 (ja) | セルフバイアス制御装置およびプラズマ処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100708 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100930 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120723 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120910 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120928 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121011 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151019 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |