JP5104015B2 - Metal mesh sheet for shielding electromagnetic wave and method for producing the same - Google Patents

Metal mesh sheet for shielding electromagnetic wave and method for producing the same Download PDF

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Description

本発明は、プラズマディスプレィの前面板に設けるとともに、高分子シート上に金属メッシュを備えてなる電磁波遮蔽用の金属メッシュシートおよびその製造方法に関する。   The present invention relates to an electromagnetic wave shielding metal mesh sheet provided on a front plate of a plasma display and provided with a metal mesh on a polymer sheet, and a method for producing the same.

画像表示に利用されるガス放電表示装置、たとえばプラズマディスプレイパネル(PDP)は電極間に電圧印加すると、印加に伴う放電によって内部に封入されるガス分子を励起し、発生する紫外線で内部に封じ込まれている蛍光物質を励起させる。この際、可視光領域の光線を発生させ画像を表示するが、この放電によって電磁波を発生させ、僅かであるが外部に電磁波を漏洩している。この電磁波遮蔽の為、プラズマディスプレィの前面板に設置されたフィルターにこの機能を設けている。この遮蔽機能を得るためには、たとえばポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムに導電体金属皮膜をメッシュ状に形成したものを積層することによって達成が可能である。導電性の金属メッシュは、遮蔽すべき周波数範囲をカバーし、かつ、映像光を妨げないように金属メッシュ格子の幅および間隔を最適に設定され、PDP筺体に金属メッシュを接続し、電磁波によって誘起される電荷を接地によって除いている。PDPの画素行列と金属メッシュとが重なり、モアレ縞の発生や映像光を妨げないように金属メッシュの方向を図1に示すように斜めに設定する。このような電磁波を遮蔽するのに有効なフィルターの従来例として、特許文献1、2を上げて説明する。   Gas discharge display devices used for image display, for example, plasma display panels (PDPs), when a voltage is applied between electrodes, gas molecules enclosed inside are excited by the discharge caused by the application, and encapsulated in the generated ultraviolet light. Excites rare fluorescent materials. At this time, a light beam in the visible light region is generated to display an image, but electromagnetic waves are generated by this discharge, and a slight amount of electromagnetic waves are leaked to the outside. In order to shield this electromagnetic wave, this function is provided in the filter installed on the front plate of the plasma display. In order to obtain this shielding function, for example, a polyethylene terephthalate (PET) film laminated with a conductive metal film formed in a mesh shape can be achieved. The conductive metal mesh covers the frequency range to be shielded and the width and spacing of the metal mesh grid are optimally set so as not to disturb the image light. The metal mesh is connected to the PDP housing and induced by electromagnetic waves. The generated charge is removed by grounding. The PDP pixel matrix and the metal mesh overlap, and the direction of the metal mesh is set obliquely as shown in FIG. 1 so as not to disturb the generation of moire fringes and image light. Patent Documents 1 and 2 will be described as conventional examples of filters effective for shielding such electromagnetic waves.

特許文献1では、液晶画面やCRTなど視認性を確保しつつ、それらの画面の全面から発生する電磁波を遮蔽するために、透明樹脂基板に銀ペーストによるメッシュ状のパターンをスクリーン印刷によって線幅30〜50μmで開口率80〜90%の範囲で形成されることを特徴とする電磁波カットフィルターを開示している。   In Patent Document 1, in order to shield the electromagnetic wave generated from the entire surface of a screen such as a liquid crystal screen and a CRT while ensuring visibility, a mesh-like pattern made of silver paste is screen printed on a transparent resin substrate by a line width of 30. An electromagnetic wave cut filter characterized by being formed in a range of 80 to 90% at an aperture ratio of ˜50 μm is disclosed.

また、特許文献2では、位置を検出するレジスターマークを額縁部に設けた投光部とし、投光部の面積が大きくても、投光部をメッシュ状、ドット状、またはスリット状などの幾何学模様の金属層を残すことで、製造途上や保管時でもブロッキングし難く、位置精度良くシートを切断することができる電磁波遮蔽用シートを開示している。
特開2005−243661号公報 特開2005−11994号公報
In Patent Document 2, a register mark for detecting a position is used as a light projecting portion provided in a frame portion, and even if the area of the light projecting portion is large, the light projecting portion has a geometric shape such as a mesh shape, a dot shape, or a slit shape. An electromagnetic wave shielding sheet is disclosed that can be cut with high positional accuracy by leaving a metal layer with a geometric pattern, which is difficult to block during production and storage.
JP-A-2005-243661 Japanese Patent Laid-Open No. 2005-11994

高分子シート上に金属薄膜を接着剤層を介して接着し、この金属薄膜をフォトリソグラフィ法によりメッシュ状に加工して電磁波遮蔽用の金属メッシュシートを製造する場合、一般的に高分子シートと金属薄膜との密着性を向上させるために、50〜80℃の加熱雰囲気中でエイジングさせる工程がある。しかしながら、高分子シートと金属薄膜の熱膨張係数が異なるため、50〜80℃の加熱雰囲気中でのエイジングによって、両者間に変形が発生し、生産収率が低下するという問題点があった。
したがって本発明の目的は、高分子シートと金属薄膜の伸び率等の物性をできる限り近似させ、50〜80℃の加熱雰囲気中での上記エイジングを行ったとしても、ゆがみ等の結果を発生させない、電磁波遮蔽用の金属メッシュシートおよびその製造方法を提供することにある。
When a metal thin film is bonded onto a polymer sheet via an adhesive layer and this metal thin film is processed into a mesh shape by photolithography to produce a metal mesh sheet for electromagnetic wave shielding, In order to improve the adhesion to the metal thin film, there is a step of aging in a heated atmosphere of 50 to 80 ° C. However, since the thermal expansion coefficients of the polymer sheet and the metal thin film are different, there is a problem that deformation occurs between the two due to aging in a heated atmosphere at 50 to 80 ° C., resulting in a decrease in production yield.
Therefore, even if the object of the present invention is to approximate the physical properties such as elongation of the polymer sheet and the metal thin film as much as possible and perform the above aging in a heating atmosphere at 50 to 80 ° C., the result of distortion and the like is not generated. An object of the present invention is to provide a metal mesh sheet for shielding electromagnetic waves and a method for producing the same.

本発明者は、鋭意検討を重ねた結果、金属メッシュ中の銅結晶の配向性を制御することにより、上記課題を解決することができた。
請求項1に記載の発明は、プラズマディスプレィの前面板に設けるとともに、高分子シート上に金属メッシュを備えてなる電磁波遮蔽用の金属メッシュシートにおいて、
前記高分子シートがポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、または、ポリメチルメタアクリレートからなり、
前記高分子シートと前記金属メッシュとが、接着剤層を介して接着後エイジングされてなり、
前記金属メッシュが銅メッシュからなり、かつ前記銅メッシュが(110)配向の柱状結晶を有することで、前記エイジングの際のシートの前記高分子シートのゆがみを防止していることを特徴とする金属メッシュシートである。
請求項2に記載の発明は、前記金属メッシュのラインピッチが20〜50μm、ライン幅が8〜20μm、かつバイアス角度が40〜60°の範囲であることを特徴とする請求項1に記載の金属メッシュシートである。
請求項3に記載の発明は、プラズマディスプレィの前面板に設けるとともに、高分子シート上に金属メッシュを備えてなる電磁波遮蔽用の金属メッシュシートの製造方法において、
前記高分子シート上に接着剤層を設ける工程と、前記接着剤層上に電析により得られた銅薄膜を積層する工程と、前記積層する工程後、エイジングを行う工程と、前記銅薄膜をフォトリソグラフィ法によりメッシュ状に加工する工程とを有し、前記高分子シートがポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、または、ポリメチルメタアクリレートからなり、前記電析によって得られた銅薄膜が、(110)配向の柱状結晶を有することを特徴とする金属メッシュシートの製造方法である。
As a result of intensive studies, the present inventor was able to solve the above problems by controlling the orientation of the copper crystals in the metal mesh.
The invention according to claim 1 is provided on the front plate of the plasma display, and in the metal mesh sheet for shielding electromagnetic waves, comprising a metal mesh on the polymer sheet,
The polymer sheet is made of polyethylene terephthalate, polycarbonate, or polymethyl methacrylate,
The polymer sheet and the metal mesh are aged after bonding through an adhesive layer,
The metal characterized in that the metal mesh is made of a copper mesh, and the copper mesh has columnar crystals of (110) orientation, thereby preventing distortion of the polymer sheet of the sheet during the aging. It is a mesh sheet.
The invention according to claim 2 is characterized in that the metal mesh has a line pitch of 20 to 50 μm, a line width of 8 to 20 μm, and a bias angle of 40 to 60 °. It is a metal mesh sheet.
The invention according to claim 3 is provided in the front plate of the plasma display, and in the method for producing an electromagnetic wave shielding metal mesh sheet comprising a metal mesh on a polymer sheet,
A step of providing an adhesive layer on the polymer sheet; a step of laminating a copper thin film obtained by electrodeposition on the adhesive layer; a step of aging after the step of laminating; and the copper thin film. The polymer sheet is made of polyethylene terephthalate, polycarbonate, or polymethylmethacrylate, and the copper thin film obtained by the electrodeposition has a (110) orientation. It is a manufacturing method of the metal mesh sheet | seat characterized by having a columnar crystal.

本発明によれば、高分子シートと金属薄膜の伸び率等の物性をできる限り近似させ、50〜80℃の加熱雰囲気中での上記エイジングを行ったとしても、ゆがみ等の結果を発生させない、電磁波遮蔽用の金属メッシュシートおよびその製造方法を提供することができる。   According to the present invention, the physical properties such as the elongation ratio of the polymer sheet and the metal thin film are approximated as much as possible, and even if the aging is performed in a heated atmosphere at 50 to 80 ° C., the result such as distortion is not generated. A metal mesh sheet for shielding electromagnetic waves and a method for producing the same can be provided.

以下、本発明をさらに詳細に説明する。
図2,3は、本発明の電磁波遮蔽用の金属メッシュシートの製造方法の工程を示した図で、図2は断面図,図3は平面図である。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
2 and 3 are views showing the steps of the method for producing a metal mesh sheet for shielding electromagnetic waves according to the present invention, FIG. 2 is a sectional view, and FIG. 3 is a plan view.

高分子シート1の上に、銅薄膜2をラミネートする。このラミネートは高分子シート1に透明な接着剤層を形成してから、銅薄膜2を積層する方法によって達成できる。
次に、フォトリソグラフィ法により、金属メッシュを作製する。銅薄膜2の表面にエッチング用のレジスト3を被覆し、パターニングする。本発明の金属メッシュシートは、ディスプレイに設けた際にメッシュ形状が視認されにくく、かつ十分な電磁波遮蔽能を備えるという理由から、金属メッシュのラインピッチが20〜50μm、ライン幅が8〜20μm、かつバイアス角度が40〜60°の範囲であることが望ましい。図4にラインピッチおよびバイアス角度を示した。ラインピッチとは、金属メッシュの細線間の距離である。バイアス角度とは金属メッシュシートの長さ方向に対する細線の傾斜角度である。上記仕様によってレジストの種類やパターニングの方法が選択される。一般的な方法は、感光性のドライフィルムレジストまたは液状レジストをコーティングし、フォトマスクを通して露光、現像するものである。
A copper thin film 2 is laminated on the polymer sheet 1. This lamination can be achieved by forming a transparent adhesive layer on the polymer sheet 1 and then laminating the copper thin film 2.
Next, a metal mesh is produced by photolithography. The surface of the copper thin film 2 is covered with an etching resist 3 and patterned. The metal mesh sheet of the present invention has a metal mesh line pitch of 20 to 50 μm, a line width of 8 to 20 μm, because the mesh shape is difficult to be visually recognized when provided on a display and has sufficient electromagnetic wave shielding ability. In addition, the bias angle is desirably in the range of 40 to 60 °. FIG. 4 shows the line pitch and the bias angle. The line pitch is a distance between fine lines of the metal mesh. The bias angle is an inclination angle of the thin line with respect to the length direction of the metal mesh sheet. The resist type and patterning method are selected according to the above specifications. A general method is to coat a photosensitive dry film resist or liquid resist, and to expose and develop through a photomask.

次に、銅薄膜2を現像して銅メッシュパターンを形成する。現像は、アルカリ性水溶液を用いて行うことができる。   Next, the copper thin film 2 is developed to form a copper mesh pattern. Development can be performed using an alkaline aqueous solution.

続いて、形成された銅メッシュパターンの表面を黒色化してもよい(符号4)。その直前処理として表面を脱脂、および、化学粗化することが望ましい。黒色化によって、光線透過率が適度に調節され、プラズマディスプレイ画像の視認性が向上する効果がある。黒色化方法としてはとくに制限されず、公知の方法を適宜選択できる。   Subsequently, the surface of the formed copper mesh pattern may be blackened (reference numeral 4). It is desirable that the surface is degreased and chemically roughened as the immediately preceding treatment. By blackening, the light transmittance is appropriately adjusted, and the visibility of the plasma display image is improved. The blackening method is not particularly limited, and a known method can be appropriately selected.

本発明に用いる高分子シート1としては、ポリエステル(PE)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリエチレン(PE)、ポリメチルメタアクリレート(PMMA)、ポリスチレン(PS)、ポリウレタン(PU)、トリアセチルロース(TAC)、セロファン、エチレン-酢酸ビニル共重合体、などの何れも用いることが可能である。この中で、望ましくは、PET、PC、またはPMMAなどによるシートを用いることができる。   As the polymer sheet 1 used in the present invention, polyester (PE), polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polyvinyl alcohol (PVA), polyethylene (PE), polymethyl methacrylate (PMMA), polystyrene (PS) Polyurethane (PU), triacetylrose (TAC), cellophane, ethylene-vinyl acetate copolymer, and the like can be used. Among these, a sheet made of PET, PC, PMMA, or the like can be preferably used.

上記接着剤層としては、エチレン-酢酸ビニル共重合体を主成分とするもの、エポキシ系、ウレタン系など、熱硬化型、光硬化型の何れの種類も用いることができる。   As the adhesive layer, any of a thermosetting type and a photosetting type such as an epoxy-based and urethane-based one having an ethylene-vinyl acetate copolymer as a main component can be used.

本発明では、銅薄膜が(110)配向の柱状結晶を有することを特徴としている。ここでいう(110)配向とは、X線回折において、無配向結晶と比較して(110)面の回折が最も強いことを意味する。したがって、(110)配向の柱状結晶を有する銅薄膜とは、銅薄膜中の結晶粒子がまとまりをもって厚さ方向に向いていると言える。このような柱状結晶は、電析における電流密度、めっき浴温度、めっき浴に入れる添加剤等の条件を変化させることにより作製できる。例えば、上記添加剤としては光沢剤(硫黄化合物)が挙げられる。該添加剤を下記実施例で記載する程度(量的関係)でもってめっき浴に添加することにより、当該柱状結晶を作製することができる。なお、本発明において、銅結晶はすべて柱状結晶である必要はない。銅薄膜中では銅結晶は様々な配向をなしていると考えられるが、本発明では、柱状結晶が銅薄膜中で量的に最も多ければよい。   The present invention is characterized in that the copper thin film has columnar crystals of (110) orientation. The (110) orientation here means that the diffraction of the (110) plane is the strongest in the X-ray diffraction as compared with the non-oriented crystal. Therefore, it can be said that the copper thin film having columnar crystals of (110) orientation is oriented in the thickness direction with the crystal grains in the copper thin film being gathered together. Such columnar crystals can be produced by changing conditions such as current density in electrodeposition, plating bath temperature, and additives added to the plating bath. For example, the additive includes a brightener (sulfur compound). The columnar crystals can be produced by adding the additive to the plating bath in the degree (quantitative relationship) described in the following examples. In the present invention, all copper crystals need not be columnar crystals. Although it is considered that the copper crystal has various orientations in the copper thin film, in the present invention, the columnar crystal only needs to be the most quantitatively in the copper thin film.

高分子シートと銅薄膜との接着方法は、加熱架橋、光架橋などの方法がある。加熱架橋による接着は、接着剤の種類にもよるが、通常80〜140℃の温度で、20分〜60分の範囲で行う。光架橋による接着は、光源として紫外〜可視領域に発光するものを用いることができる。たとえば、高圧、低圧水銀灯、ハロゲンランプ、白熱灯、などを挙げることができるが、高圧水銀灯が最適である。   As a method for bonding the polymer sheet and the copper thin film, there are methods such as heat crosslinking and photocrosslinking. Adhesion by heat crosslinking is usually performed at a temperature of 80 to 140 ° C. for 20 to 60 minutes, depending on the type of adhesive. For adhesion by photocrosslinking, a light source that emits light in the ultraviolet to visible region can be used. For example, high pressure, low pressure mercury lamp, halogen lamp, incandescent lamp, and the like can be mentioned, and high pressure mercury lamp is most suitable.

接着時に印加する圧力は、通常10〜100 Kg/cm2、好ましくは20〜50 Kg/cm2の範囲である。 The pressure applied at the time of adhesion is usually in the range of 10 to 100 Kg / cm 2 , preferably 20 to 50 Kg / cm 2 .

本発明においては、高分子シートと銅薄膜との接着をより確実にするため、50〜80℃の加熱雰囲気中でのエイジングをさらに行う。エイジング時間は、例えば48〜96時間である。本発明では、銅薄膜中の銅結晶の配向方向を特定しているので、高分子シートと銅薄膜の伸び率等の物性が近似することになり、上記エイジングを行ったとしても、ゆがみ等が発生しない。   In the present invention, in order to make the adhesion between the polymer sheet and the copper thin film more reliable, aging is further performed in a heated atmosphere at 50 to 80 ° C. The aging time is 48 to 96 hours, for example. In the present invention, since the orientation direction of the copper crystal in the copper thin film is specified, the physical properties such as the elongation ratio of the polymer sheet and the copper thin film are approximated. Does not occur.

以下、実施例および比較例を挙げ、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記例に制限されない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not restrict | limited to the following example.

実施例1
まず、銅薄膜を硫酸銅めっきにより作製した。浴組成は、硫酸銅・5水塩200〜230g/L、硫酸40〜80g/L、塩素イオンを80〜120mg/Lをイオン交換水に溶解したものを基本浴とし、これに光沢剤として硫黄化合物(Bis(3-sulfopropyl)disulfide disodium salt (SPS))を10〜20mg/Lを添加し、浴温度を30℃として、円筒ドラムにめっき厚約5〜25μmになるようにめっきを行った。このドラムは、予めクロメート溶液によって金属の剥離処理を行って、めっき後カッターによって面長方法に剥がし面を入れ、巻取りによって剥離した。このめっき皮膜の結晶配向性をX線回折装置によって調べると、強い(110)配向を示し、厚み方向に柱状の結晶であった。
図5に、実施例1の銅薄膜の柱状結晶のFocused Ion Beam(FIB)によってエッチングした断面組織写真を示す。
Example 1
First, a copper thin film was prepared by copper sulfate plating. The bath composition is copper sulfate pentahydrate 200-230 g / L, sulfuric acid 40-80 g / L, and chlorine ions 80-120 mg / L dissolved in ion-exchanged water. The compound (Bis (3-sulfopropyl) disulfide disodium salt (SPS)) was added in an amount of 10 to 20 mg / L, the bath temperature was set to 30 ° C., and the plating was performed on the cylindrical drum so that the plating thickness was about 5 to 25 μm. This drum was subjected to a metal peeling treatment with a chromate solution in advance, and a peeling surface was put into a surface length method with a cutter after plating, and peeling was performed by winding. When the crystal orientation of the plating film was examined by an X-ray diffractometer, it showed a strong (110) orientation and was a columnar crystal in the thickness direction.
FIG. 5 shows a photograph of a cross-sectional structure etched by Focused Ion Beam (FIB) of columnar crystals of the copper thin film of Example 1.

次にPETシート上に、熱硬化タイプのポリウレタン系の接着剤を均一に塗布し乾燥させ、さらに上記に作製した銅薄膜を載せて、20〜50 Kg/cm2の範囲で圧力を掛けながら、約2時間80〜100℃に加熱した。次に銅薄膜とPETシートの接着性を上げるために、60℃において72時間エイジングを行った。さらに、ネガ型のレジストフィルムを銅薄膜上に熱圧着させた。その後、YAGレーザーによって所定のバイアス角度を付けて露光した。次にアルカリ現像液で現像し、塩化銅エッチング液を用いてメッシュシートを作製した。その後、硫酸銅ニッケルめっき液にイオウ化合物を添加して公知の黒色めっきを行い、電磁波遮蔽用の金属メッシュシートを作製した。金属メッシュのラインピッチは30μm、ライン幅は15μm、バイアス角度は50°であった。 Next, on the PET sheet, a thermosetting polyurethane adhesive was uniformly applied and dried, and the copper thin film prepared above was placed on the PET sheet while applying pressure in the range of 20 to 50 Kg / cm 2 . Heated to 80-100 ° C for about 2 hours. Next, in order to improve the adhesion between the copper thin film and the PET sheet, aging was performed at 60 ° C. for 72 hours. Further, a negative resist film was thermocompression bonded onto the copper thin film. Thereafter, exposure was performed with a predetermined bias angle by a YAG laser. Next, it developed with the alkali developing solution and produced the mesh sheet using the copper chloride etching liquid. Thereafter, a sulfur compound was added to the copper sulfate nickel plating solution, and known black plating was performed to produce a metal mesh sheet for shielding electromagnetic waves. The metal mesh had a line pitch of 30 μm, a line width of 15 μm, and a bias angle of 50 °.

このようにして作製した金属メッシュシートは、深さの小さなくぼみ状欠陥の発生を抑えることができ、最終的な歩留まりを向上することができた。   The metal mesh sheet produced in this way was able to suppress the occurrence of a dent-like defect with a small depth and to improve the final yield.

比較例1
まず、銅薄膜を硫酸銅めっきにより作製した。浴組成は、硫酸銅・5水塩200〜230g/L、硫酸40〜80g/L、塩素イオンを80〜120mg/Lをイオン交換水に溶解したものを基本浴とし、これに界面活性剤であるポリエチレングリコール(PEG)を約200mg/Lを添加し、浴温度を30℃として、ドラムにめっき厚約5〜25μmになるようにめっきを行った。このドラムは、予めクロメート溶液などによって金属の剥離処理を行い、めっき後カッターによって面長方法に剥がし面を入れ、巻取りによって剥離した。このめっき皮膜をX線回折装置によって結晶配向性を調べると、弱い(100)配向を示し、断面においては柱状にならずダンダムな配向結晶であった。
図6に、比較例1の銅薄膜の柱状結晶のFocused Ion Beam(FIB)によってエッチングした断面組織写真を示す。
Comparative Example 1
First, a copper thin film was prepared by copper sulfate plating. The bath composition is copper sulfate pentahydrate 200-230 g / L, sulfuric acid 40-80 g / L, and chlorine ions 80-120 mg / L dissolved in ion-exchanged water. About 200 mg / L of a certain polyethylene glycol (PEG) was added, the bath temperature was set to 30 ° C., and the drum was plated to have a plating thickness of about 5 to 25 μm. The drum was previously subjected to a metal peeling treatment with a chromate solution or the like, and after the plating, a peeling surface was put into a surface length method by a cutter, and peeling was performed by winding. When the crystal orientation of this plating film was examined with an X-ray diffractometer, it showed a weak (100) orientation, and it was a randomly oriented crystal without a columnar shape in the cross section.
FIG. 6 shows a photograph of a cross-sectional structure etched by Focused Ion Beam (FIB) of the columnar crystal of the copper thin film of Comparative Example 1.

次にPETシート上に、熱硬化タイプのポリウレタン系の接着剤を均一に塗布し乾燥させ、さらに上記に作製した銅薄膜を載せて、20〜50 Kg/cm2の範囲で圧力を掛けながら、約2時間80〜100℃に加熱した。次に銅薄膜とPETシートの接着性を上げるために、60℃において72時間エイジングを行った。さらに、ネガ型のレジストフィルムを銅薄膜上に熱圧着させた。その後、YAGレーザーによって所定のバイアス角度を付けて露光した。次にアルカリ現像液で現像し、塩化銅エッチング液を用いてメッシュシートを作製した。その後、硫酸銅ニッケルめっき液にイオウ化合物を添加して公知の黒色めっきを行い、電磁波遮蔽用の金属メッシュシートを作製した。
金属メッシュのラインピッチは30μm、ライン幅は15μm、バイアス角度は50°であった。
Next, on the PET sheet, a thermosetting polyurethane adhesive was uniformly applied and dried, and the copper thin film prepared above was placed on the PET sheet while applying pressure in the range of 20 to 50 Kg / cm 2 . Heated to 80-100 ° C for about 2 hours. Next, in order to improve the adhesion between the copper thin film and the PET sheet, aging was performed at 60 ° C. for 72 hours. Further, a negative resist film was thermocompression bonded onto the copper thin film. Thereafter, exposure was performed with a predetermined bias angle by a YAG laser. Next, it developed with the alkali developing solution and produced the mesh sheet using the copper chloride etching liquid. Thereafter, a sulfur compound was added to the copper sulfate nickel plating solution, and known black plating was performed to produce a metal mesh sheet for shielding electromagnetic waves.
The metal mesh had a line pitch of 30 μm, a line width of 15 μm, and a bias angle of 50 °.

このようにして作製した金属メッシュシートは、深さの小さなくぼみ状欠陥の発生を抑えることができず、最終的な歩留まりが低下した。   The metal mesh sheet produced in this way could not suppress the occurrence of a dent-like defect with a small depth, and the final yield was lowered.

本発明金属メッシュシートは、上述したように、PDP画面や液晶画面から発生する電磁波を遮蔽するフィルターとして利用することができ、電磁波を発生する箇所へ設置して利用することができる。   As described above, the metal mesh sheet of the present invention can be used as a filter for shielding electromagnetic waves generated from a PDP screen or a liquid crystal screen, and can be used by being installed at a location where electromagnetic waves are generated.

金属メッシュの方向性を示す図である。It is a figure which shows the directionality of a metal mesh. 本発明の電磁波遮蔽用の金属メッシュシートの製造方法を説明するための図(断面図)である。It is a figure (sectional drawing) for demonstrating the manufacturing method of the metal mesh sheet for electromagnetic wave shielding of this invention. 本発明の電磁波遮蔽用の金属メッシュシートの製造方法を説明するための図(平面図)である。It is a figure (plan view) for demonstrating the manufacturing method of the metal mesh sheet for electromagnetic wave shielding of this invention. ラインピッチおよびバイアス角度を説明するための図である。It is a figure for demonstrating a line pitch and a bias angle. 実施例1の銅薄膜の柱状結晶のFocused Ion Beam(FIB)によってエッチングした断面組織写真を示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional structure | tissue photograph etched by Focused Ion Beam (FIB) of the columnar crystal of the copper thin film of Example 1. FIG. 比較例1の銅薄膜の柱状結晶のFocused Ion Beam(FIB)によってエッチングした断面組織写真を示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional structure | tissue photograph etched by Focused Ion Beam (FIB) of the columnar crystal of the copper thin film of the comparative example 1.

Claims (3)

プラズマディスプレィの前面板に設けるとともに、高分子シート上に金属メッシュを備えてなる電磁波遮蔽用の金属メッシュシートにおいて、
前記高分子シートがポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、または、ポリメチルメタアクリレートからなり、
前記高分子シートと前記金属メッシュとが、接着剤層を介して接着後エイジングされてなり、
前記金属メッシュが銅メッシュからなり、かつ前記銅メッシュが(110)配向の柱状結晶を有することで、前記エイジングの際のシートの前記高分子シートのゆがみを防止していることを特徴とする金属メッシュシート。
In the metal mesh sheet for shielding electromagnetic waves, which is provided on the front plate of the plasma display and provided with a metal mesh on the polymer sheet,
The polymer sheet is made of polyethylene terephthalate, polycarbonate, or polymethyl methacrylate,
The polymer sheet and the metal mesh are aged after bonding through an adhesive layer,
The metal characterized in that the metal mesh is made of a copper mesh, and the copper mesh has columnar crystals of (110) orientation, thereby preventing distortion of the polymer sheet of the sheet during the aging. Mesh sheet.
前記金属メッシュのラインピッチが20〜50μm、ライン幅が8〜20μm、かつバイアス角度が40〜60°の範囲であることを特徴とする請求項1に記載の金属メッシュシート。   2. The metal mesh sheet according to claim 1, wherein the metal mesh has a line pitch of 20 to 50 [mu] m, a line width of 8 to 20 [mu] m, and a bias angle of 40 to 60 [deg.]. プラズマディスプレィの前面板に設けるとともに、高分子シート上に金属メッシュを備えてなる電磁波遮蔽用の金属メッシュシートの製造方法において、
前記高分子シート上に接着剤層を設ける工程と、前記接着剤層上に電析により得られた銅薄膜を積層する工程と、前記積層する工程後、エイジングを行う工程と、前記銅薄膜をフォトリソグラフィ法によりメッシュ状に加工する工程とを有し、前記高分子シートがポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、または、ポリメチルメタアクリレートからなり、前記電析によって得られた銅薄膜が、(110)配向の柱状結晶を有することを特徴とする金属メッシュシートの製造方法。
In the method for producing a metal mesh sheet for shielding electromagnetic waves, which is provided on the front plate of the plasma display and provided with a metal mesh on the polymer sheet,
A step of providing an adhesive layer on the polymer sheet; a step of laminating a copper thin film obtained by electrodeposition on the adhesive layer; a step of aging after the step of laminating; and the copper thin film. The polymer sheet is made of polyethylene terephthalate, polycarbonate, or polymethylmethacrylate, and the copper thin film obtained by the electrodeposition has a (110) orientation. A method for producing a metal mesh sheet, comprising columnar crystals.
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