JP5102324B2 - 型の製造方法および型を用いた反射防止膜の製造方法 - Google Patents
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Description
含む。
Al+CrO3+2H3PO4⇔AlPO4+CrPO4+3H2O
3Zn(HPO4)2+2Al+3O+6HF→Zn3(PO4)2+2AlF3+4H3PO4+3H2O
、エッチング工程において、バリア層が薄い部分が先に除去され、Al基材の表面にエッチング液が到達し、ピットが形成される場合もあると考えられる。
12 細孔(微細な凹部)
13 ピット
14 皮膜
16 追加バリア層
18 Al基材
Claims (8)
- 表面の法線方向から見たときの2次元的な大きさが10nm以上500nm未満の複数の第1凸部を有するモスアイ構造を表面に形成するための型の製造方法であって、
(a)Alの含有量が99.99質量%未満で、標準電極電位がAlよりも高い元素の含有量が10ppm以下で、標準電極電位がAlよりも低い元素の含有量が0.1質量%以上であるAl基材を用意する工程と、
(b)前記Al基材を部分的に陽極酸化することによって、複数の微細な凹部を有するポーラスアルミナ層を形成する工程と、
(c)前記工程(b)の後に、前記ポーラスアルミナ層をエッチング液に接触させることによって、前記ポーラスアルミナ層の前記複数の微細な凹部を拡大させる工程と、
(d)前記工程(c)の後に、さらに陽極酸化することによって、前記複数の微細な凹部を成長させる工程と、
を包含する、型の製造方法。 - 前記工程(d)の後に、前記工程(c)および前記工程(d)をさらに行う、請求項1に記載の型の製造方法。
- 前記Al基材は、Fe、Si、Cu、Mn、Zn、Ni、Ti、Pb、SnおよびMgからなる群から選択された少なくとも1つの元素を含む、請求項1または2に記載の型の製造方法。
- 前記Al基材は、0.1質量%以上7.0質量%以下のMgを含む、請求項1から3のいずれかに記載の型の製造方法。
- 前記工程(c)の前に、アルミナの追加バリア層を形成する工程をさらに包含する、請求項1から4のいずれかに記載の型の製造方法。
- 前記工程(b)の前に、前記アルミナ基材の表面に、表面の法線方向から見たときの2次元的な大きさが0.1μm以上100μm以下の複数の第2凸部を有する凹凸形状を付与する工程をさらに包含する、請求項1から5のいずれかに記載の型の製造方法。
- 請求項1から6のいずれかに記載の製造方法によって製造された型と、被加工物とを用意する工程と、
前記型を用いて、前記被加工物の表面に、前記モスアイ構造を形成する工程と
を包含する、反射防止膜の製造方法。 - 前記型と前記被加工物の前記表面との間に光硬化性樹脂を付与した状態で、前記光硬化性樹脂を硬化することによって、前記被加工物の前記表面に、前記モスアイ構造が形成された光硬化性樹脂層を形成する工程を包含する、請求項7に記載の反射防止膜の製造方法。
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