JP5101062B2 - INK COMPOSITION FOR INKJET RECORDING, INKJET RECORDING METHOD, PRINTED MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING A lithographic printing plate, and lithographic printing plate - Google Patents
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Description
本発明は、インクジェット記録用として好適に用いられるインク組成物、インクジェット記録方法、及びこれを用いた印刷物、更に、該インク組成物を用いて得られる平版印刷版並びに平版印刷版の製造方法に関するものである。 The present invention relates to an ink composition suitably used for Lee inkjet recording, an inkjet recording method prints, and using the same, further, the process for producing a lithographic printing plate and a lithographic printing plate obtained using the ink composition It is about.
3員環、4員環などの環状エーテル化合物は、高い反応性を示すことが知られており、光カチオン重合や酸無水物を用いる熱重合が適用される硬化性組成物に含まれる重合性化合物として利用されている(例えば、下記特許文献1及び2参照)。 Cyclic ether compounds such as three-membered rings and four-membered rings are known to exhibit high reactivity, and the polymerizability contained in curable compositions to which photocationic polymerization or thermal polymerization using acid anhydrides is applied. It is used as a compound (for example, see Patent Documents 1 and 2 below).
一方、画像データ信号に基づき、紙などの被記録媒体に画像を形成する画像記録方法として、電子写真方式、昇華型及び溶融型熱転写方式、インクジェット方式などがある。中でも、インクジェット方式は、安価な装置で実施可能であり、且つ、必要とされる画像部のみにインクを射出して被記録媒体上に直接画像形成を行うため、インクを効率良く使用でき、ランニングコストが安い。更に、騒音が少なく、画像記録方式として優れている。
インクジェット方式によれば、普通紙のみならずプラスチックシート、金属板など非吸水性の被記録媒体にも印字可能であるが、印字する際の高速化及び高画質化が重要な課題となっており、印字後の液滴の乾燥、硬化に要する時間が、印刷物の生産性や印字画像の鮮鋭度に大きく影響する性質を有している。
On the other hand, as an image recording method for forming an image on a recording medium such as paper based on an image data signal, there are an electrophotographic method, a sublimation type and melt type thermal transfer method, an ink jet method and the like. In particular, the ink jet method can be implemented with an inexpensive apparatus, and the ink can be used efficiently because the image is directly formed on the recording medium by ejecting the ink only to the required image portion. Cost is low. Furthermore, there is little noise and it is excellent as an image recording method.
According to the inkjet system, printing is possible not only on plain paper but also on non-water-absorbing recording media such as plastic sheets and metal plates. However, high speed and high image quality are important issues for printing. The time required for drying and curing the droplets after printing has a property of greatly affecting the productivity of printed matter and the sharpness of the printed image.
インクジェット方式の一つとして、放射線の照射により、硬化可能なインクジェット記録用インクを用いた記録方式がある。この方法によれば、インク射出後直ちに又は一定の時間後に放射線照射し、インク液滴を硬化させることで、印字の生産性が向上し、鮮鋭な画像を形成することができる。
紫外線などの放射線の照射により硬化可能なインクジェット記録用インクの高感度化を達成することにより、放射線に対し高い硬化性が付与され、インクジェット記録の生産性向上、消費電力低減、放射線発生器への負荷軽減による高寿命化、不充分硬化に基づく低分子物質の揮発発生の防止など、多くの利益が生じる。また、高感度化は、特にインクジェット記録用インクにより形成された画像の強度を向上させ、特に、平版印刷版の形成に応用した場合、画像部の硬化強度が高まることになり、高耐刷性が得られることになる。
As one of the ink jet methods, there is a recording method using an ink for ink jet recording that can be cured by irradiation of radiation. According to this method, the productivity of printing can be improved and a sharp image can be formed by irradiating the ink immediately after ink ejection or after a certain time and curing the ink droplets.
By achieving high sensitivity of ink for ink jet recording that can be cured by irradiation with radiation such as ultraviolet rays, high curability is imparted to radiation, improving productivity of ink jet recording, reducing power consumption, and applying to radiation generators. There are many benefits such as longer life by reducing the load and prevention of volatilization of low molecular weight materials due to insufficient curing. In addition, high sensitivity improves the strength of the image formed by the ink for ink jet recording, particularly when applied to the formation of a lithographic printing plate. Will be obtained.
このような放射線、例えば、紫外線による硬化型インクジェット方式は、比較的低臭気であり、速乾性、インク吸収性の無い被記録媒体への記録が出来る点で、近年注目されつつあり、ラジカル重合を利用したインクジェット用紫外線硬化型インク組成物が開示されている(例えば、特許文献2〜7参照。)。また、インクジェット記録方法にて通常直接記録することが困難な支持体に対しても、滲みがなく、高感度で、被記録媒体への密着性が高い画像が記録可能で、かつ皮膚刺激性や感作性の少ない安全性が高いインクジェット記録用インクを提供すること等を目的として、特定のラジカル重合型アクリレート化合物群からなる重合性化合物と色材とを含有する組成物が提案されている(例えば、特許文献8、9参照。)。これらのラジカル重合型インクは、硬化速度に優れ、滲みのない画像を形成しうるものの、硬化時の体積収縮により、被記録媒体との密着性が低下するという問題を有していた。 Such a curable ink jet method using radiation, for example, ultraviolet rays has been attracting attention in recent years because it has a relatively low odor, and can be recorded on a recording medium having no quick drying and no ink absorption. An ultraviolet ray curable ink composition for inkjet that is used is disclosed (for example, see Patent Documents 2 to 7). Further, even for a support that is usually difficult to directly record with an ink jet recording method, it is possible to record an image with no blur, high sensitivity, high adhesion to a recording medium, and skin irritation or For the purpose of providing an inkjet recording ink with low sensitization and high safety, a composition containing a polymerizable compound consisting of a specific radical polymerization type acrylate compound group and a coloring material has been proposed ( For example, see Patent Documents 8 and 9.) Although these radical polymerization type inks are excellent in curing speed and can form images without bleeding, they have a problem that adhesion to a recording medium is reduced due to volume shrinkage during curing.
このため、被記録媒体への密着性を向上させる目的で、紫外線硬化時の収縮率が小さいカチオン重合型インク組成物が提案されている(例えば、特許文献10参照。)。但し、これらカチオン重合型インクは、経時で発生した酸に基づく反応により、保存時の安定性が充分ではなく、実用化には大きな障害となっていた。このため、保存安定性を改良する試みとして、塩基性化合物や熱塩基発生剤を添加する技術が提案されている(例えば、特許文献11〜13参照。)が、塩基性化合物が露光により発生した酸の機能を阻害するためにインクの硬化感度が低下するという新たな問題が発生することがわかった。 For this reason, for the purpose of improving the adhesion to the recording medium, a cationic polymerization type ink composition having a small shrinkage rate upon UV curing has been proposed (for example, see Patent Document 10). However, these cationic polymerization type inks are not sufficiently stable at the time of storage due to a reaction based on an acid generated with the passage of time, which has been a major obstacle to practical use. For this reason, as an attempt to improve storage stability, a technique of adding a basic compound or a thermal base generator has been proposed (for example, see Patent Documents 11 to 13), but the basic compound was generated by exposure. It has been found that a new problem arises that the curing sensitivity of the ink is lowered due to the inhibition of the acid function.
以上のように、UV硬化型のインク組成物などに適用でき、放射線の照射に対する高感度と高強度な皮膜形成性を有する硬化性組成物は、未だ提供されていないのが現状である。
本発明は、放射線の照射に対して高感度で硬化し、高画質の画像を形成することができ、被記録媒体上への密着性が優れたインクジェット記録用インク組成物、及び該インク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、放射線の照射により高感度で硬化可能なインクジェット記録用インク組成物を用いて得られた印刷物、平版印刷版、及び、平版印刷版の作製方法を提供することを目的とする。
The present invention relates to an ink composition for ink jet recording which can be cured with high sensitivity to radiation irradiation, can form a high quality image, and has excellent adhesion to a recording medium, and the ink composition An object of the present invention is to provide an ink jet recording method using the above.
Another object of the present invention is to provide a printed matter, a lithographic printing plate, and a method for producing a lithographic printing plate obtained using an ink composition for inkjet recording that can be cured with high sensitivity by irradiation with radiation. .
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
<1> 下記一般式(I)で表される4員環の環状エーテルを含む部分構造(I)を含む部分構造(I)を1個と、前記部分構造(I)にアルキレン基を介して連結された下記一般式(II)で表される部分構造(II)と、らなる化合物であって、下記一般式(III)で表されるオキセタンアルコール化合物と下記一般式(IV)で表されるエーテル化合物とのエーテル化反応により製造される化合物を含有することを特徴とするインクジェット記録用インク組成物。
Means for solving the above problems are as follows.
<1> and one partial structure (I) containing a partial structure (I) containing a cyclic ether 4-membered ring represented by the following formula (I), via an alkylene group to the partial structure (I) Table partial structure represented by the concatenated following general formula (II) (II), a compound Ru Rana, at oxetane alcohol compound with the following general formula represented by the following general formula (III) (IV) An ink composition for ink-jet recording, comprising a compound produced by an etherification reaction with an ether compound .
一般式(II)中、R1は、炭素数2〜6のアルキレン基を表す。nは2〜8の整数を示す。前記部分構造(I)及び前記部分構造(II)は、1個の前記部分構造(II)が、アルキレン基を介して前記部分構造(I)に含まれる環状エーテル中の炭素原子に連結するか、又は、2個以上の前記部分構造(II)の各々が、アルキレン基を介して前記部分構造(I)に含まれる環状エーテル中の炭素原子に連結する。
一般式(III)中、R 11 は、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表し、R 12 は、アルキレン基、又はシクロアルキレン基を表す。一般式(IV)中、R 13 は、炭素数2〜6のアルキレン基を表し、R 14 は、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表す。nは2〜8の整数を示す。Xは脱離基を表す。
In general formula (II), R 1 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms . n shows the integer of 2-8. In the partial structure (I) and the partial structure (II), one partial structure (II) is linked to a carbon atom in the cyclic ether contained in the partial structure (I) via an alkylene group. Or each of two or more of the partial structures (II) is linked to a carbon atom in the cyclic ether contained in the partial structure (I) via an alkylene group.
In general formula (III), R 11 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group, and R 12 represents an alkylene group or a cycloalkylene group. In the general formula (IV), R 13 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, and R 14 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group. n shows the integer of 2-8. X represents a leaving group.
<2> 前記一般式(I)で表される4員環以上の環状エーテルを含む部分構造(I)を含む部分構造(I)を1個と、前記部分構造(I)にアルキレン基を介して連結された前記一般式(II)で表される部分構造(II)と、からなり、前記一般式(III)で表されるオキセタンアルコール化合物と、前記一般式(IV)で表されるエーテル化合物とのエーテル化反応により製造される化合物が、前記一般式(II)で表される部分構造(II)を1個有する<1>に記載のインク組成物。
<3> 前記一般式(II)におけるnが2〜4の整数を示す<1>又は<2>に記載のインク組成物。
<4> 更に、放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する<1>乃至<3>のいずれか1項に記載のインク組成物。
<2> One partial structure (I) including a partial structure (I) including a cyclic ether having a 4-membered ring or more represented by the general formula (I), and an alkylene group in the partial structure (I) a partial structure represented by the concatenated formula (II) (II) Te, Ri Tona, the oxetane alcohol compound represented by the general formula (III), represented by the general formula (IV) ether compounds and ether compounds that will be produced by the reaction of the ink composition according partial structure represented by the general formula (II) and (II) in <1> to one Yes.
< 3 > The ink composition according to <1> or < 2 > , wherein n in the general formula (II) represents an integer of 2 to 4.
< 4 > The ink composition according to any one of <1> to < 3 >, further comprising a compound that generates an acid upon irradiation with radiation.
<5> 着色剤を含有する<1>乃至<4>のいずれか1項に記載のインク組成物。
<6> 着色剤が顔料又は油溶性染料である<5>に記載のインク組成物。
<7> 油溶性染料の酸化電位が1.0V(vsSCE)以上である<6>に記載のインク組成物。
< 5 > The ink composition according to any one of <1> to < 4 >, which contains a colorant.
< 6 > The ink composition according to < 5 >, wherein the colorant is a pigment or an oil-soluble dye.
< 7 > The ink composition according to < 6 >, wherein the oxidation potential of the oil-soluble dye is 1.0 V (vs SCE) or more.
<8> 被記録媒体上にインク組成物をインクジェット記録装置により吐出する工程、及び
吐出されたインク組成物に活性放射線を照射してインク組成物を硬化する工程、を含むインクジェット記録方法であって、前記インク組成物が<1>乃至<7>いずれか1項に記載のインク組成物であるインクジェット記録方法。
<9> 前記活性放射線が、発光ピーク波長が350〜420nmの範囲にあり、かつ被記録媒体表面での最高照度が10〜2,000mW/cm2となる紫外線を発生する発光ダイオードにより照射される紫外線である<8>に記載のインクジェット記録方法。
<10> <8>又は<9>に記載のインクジェット記録方法によって記録された印刷物。
< 8 > An inkjet recording method comprising: a step of ejecting an ink composition onto a recording medium by an inkjet recording device; and a step of irradiating the ejected ink composition with active radiation to cure the ink composition. An ink jet recording method, wherein the ink composition is the ink composition according to any one of <1> to < 7 >.
< 9 > The actinic radiation is irradiated by a light emitting diode that generates ultraviolet rays having an emission peak wavelength in a range of 350 to 420 nm and a maximum illuminance on a recording medium surface of 10 to 2,000 mW / cm 2. < 8 > The inkjet recording method according to < 8 >, which is ultraviolet light.
< 10 > Printed matter recorded by the inkjet recording method according to < 8 > or < 9 >.
<11> <1>乃至<7>のいずれか1項に記載のインク組成物を親水性支持体上に吐出する工程、及び
吐出されたインク組成物に活性放射線を照射して、前記インク組成物を硬化させることにより、前記インク組成物が硬化してなる疎水性画像を前記支持体上に形成する工程、を含む平版印刷版の製造方法。
<12> <11>に記載の平版印刷版の製造方法によって製造された平版印刷版。
< 11 > The step of discharging the ink composition according to any one of <1> to < 7 > onto a hydrophilic support, and irradiating the discharged ink composition with actinic radiation to thereby form the ink composition A method for producing a lithographic printing plate, comprising: forming a hydrophobic image on the support by curing the product to cure the ink composition.
< 12 > A lithographic printing plate produced by the method for producing a lithographic printing plate according to < 11 >.
本発明のインクジェット記録用インク組成物は、紫外線等の放射線により高感度で硬化し、高画質の画像を形成することができることから、被記録媒体への密着性にも優れたインク組成物である。更には、保存安定性をも発揮しうる。
また、インクジェット記録方法を適用することで、非吸収性の被記録媒体上にインク組成物を射出した場合においても、高感度で硬化し、強度の高い画像部領域をデジタルデータに基づき直接形成しうる。従って、本発明のインク組成物は平版印刷版、特に、A2版以上の大面積の平版印刷版、の作製にも好適に使用され、これにより得られた平版印刷版は耐刷性に優れたものとなる。
The ink composition for ink- jet recording of the present invention is an ink composition having excellent adhesion to a recording medium because it can be cured with high sensitivity by radiation such as ultraviolet rays and can form a high-quality image. . Furthermore, storage stability can be exhibited.
In addition, by applying an ink jet recording method, even when an ink composition is ejected onto a non-absorbable recording medium, it is cured with high sensitivity and a high-strength image area is directly formed based on digital data. sell. Therefore, the ink composition of the present invention is also suitably used for preparing a lithographic printing plate, particularly a lithographic printing plate having a large area of A2 or larger, and the lithographic printing plate obtained thereby has excellent printing durability. It will be a thing.
本発明によれば、放射線の照射に対して高感度で硬化し、高画質の画像を形成することができ、被記録媒体上への密着性が優れたインクジェット記録用インク組成物、及び該インク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供することができる。
また、本発明によれば、放射線の照射により高感度で硬化可能なインクジェット記録用インク組成物を用いて得られた印刷物、平版印刷版、及び、平版印刷版の作製方法を提供することができる。
According to the present invention, an ink composition for ink jet recording that can be cured with high sensitivity to radiation irradiation, can form a high-quality image, and has excellent adhesion to a recording medium, and the ink. An ink jet recording method using the composition can be provided.
In addition, according to the present invention, it is possible to provide a printed matter, a lithographic printing plate, and a method for producing a lithographic printing plate obtained using an ink composition for inkjet recording that can be cured with high sensitivity by irradiation with radiation. .
本発明のインクジェット記録用インク組成物(以下、適宜、「インク組成物」と称する。)は、下記一般式(I)で表される4員環の環状エーテルを含む部分構造(I)を含む部分構造(I)を1個と、前記部分構造(I)にアルキレン基を介して連結された下記一般式(II)で表される部分構造(II)と、からなる化合物であって、下記一般式(III)で表されるオキセタンアルコール化合物と下記一般式(IV)で表されるエーテル化合物とのエーテル化反応により製造される化合物(以下、適宜「特定重合性化合物」と称する。)を含有することを特徴とする。 Inkjet recording ink composition of the present invention (hereinafter, appropriately referred to as "ink composition".) Contains a partial structure (I) containing a cyclic ether 4-membered ring represented by the following general formula (I) and one partial structure (I), the partial structure (II) represented by the following general formula in the partial structure (I) are connected via an alkylene group (II), a compound Ru Tona, A compound produced by an etherification reaction of an oxetane alcohol compound represented by the following general formula (III) and an ether compound represented by the following general formula (IV) (hereinafter referred to as “specific polymerizable compound” as appropriate). It is characterized by containing.
一般式(II)中、R1は、炭素数2〜6のアルキレン基を表す。nは2〜8の整数を示す。前記部分構造(I)及び前記部分構造(II)は、1個の前記部分構造(II)が、アルキレン基を介して前記部分構造(I)に含まれる環状エーテル中の炭素原子に連結するか、又は、2個以上の前記部分構造(II)の各々が、アルキレン基を介して前記部分構造(I)に含まれる環状エーテル中の炭素原子に連結する。
一般式(III)中、R 11 は、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表し、R 12 は、アルキレン基、又はシクロアルキレン基を表す。一般式(IV)中、R 13 は、炭素数2〜6のアルキレン基を表し、R 14 は、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表す。nは2〜8の整数を示す。Xは脱離基を表す。
In general formula (II), R 1 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms . n shows the integer of 2-8. In the partial structure (I) and the partial structure (II), one partial structure (II) is linked to a carbon atom in the cyclic ether contained in the partial structure (I) via an alkylene group. Or each of two or more of the partial structures (II) is linked to a carbon atom in the cyclic ether contained in the partial structure (I) via an alkylene group.
In general formula (III), R 11 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group, and R 12 represents an alkylene group or a cycloalkylene group. In the general formula (IV), R 13 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, and R 14 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group. n shows the integer of 2-8. X represents a leaving group.
本発明のインク組成物は、放射線の照射により硬化可能な組成物である。
本発明で言う「放射線」とは、その照射により組成物中において開始種を発生させうるエネルギーを付与することができるものであれば、特に制限はなく、広くα線、γ線、X線、紫外線、可視光線、電子線などを包含するものである。中でも、硬化感度及び装置の入手容易性の観点からは、紫外線及び電子線が好ましく、特に紫外線が好ましい。従って、本発明のインク組成物としては、放射線として、紫外線を照射することにより硬化可能なインク組成物であることが好ましい。
The ink composition of the present invention is a composition that can be cured by irradiation with radiation.
The “radiation” as used in the present invention is not particularly limited as long as it can impart energy capable of generating an initiation species in the composition by irradiation, and is widely α-ray, γ-ray, X-ray, Including ultraviolet rays, visible rays, electron beams, and the like. Among these, from the viewpoints of curing sensitivity and device availability, ultraviolet rays and electron beams are preferable, and ultraviolet rays are particularly preferable. Therefore, the ink composition of the present invention is preferably an ink composition that can be cured by irradiating ultraviolet rays as radiation.
以下では、本発明のインク組成物の構成例について説明を行うが、当然のことながら、本発明はこれに限定されるものではない。 The following, although a description is given usage scenario Lee ink composition of the present invention, it will be appreciated that the invention is not limited thereto.
(特定重合性化合物)
本発明に係る特定重合性化合物について説明する。
特定重合性化合物は、前記一般式(I)で表される4員環の環状エーテルを含む部分構造(I)を含む部分構造(I)を含む部分構造(I)(以下、適宜「部分構造(I)」と称する。)を1個と、前記部分構造(I)にアルキレン基を介して連結された前記一般式(II)で表される部分構造(II)(以下、適宜「部分構造(II)」と称する。)と、をその分子構造内に有する化合物である。
(Specific polymerizable compound)
The specific polymerizable compound according to the present invention will be described.
The specific polymerizable compound, the general formula (I) moiety containing a partial structure (I) containing a partial structure (I) containing a cyclic ether 4-membered ring represented by the structure (I) (hereinafter, as "partial structure And a partial structure (II) represented by the general formula (II) linked to the partial structure (I) via an alkylene group (hereinafter referred to as “partial structure” as appropriate). (II) ") in the molecular structure.
本発明に係る特定重合性化合物は、後述する、放射線の照射により酸を発生する化合物から発生する酸により重合反応を開始し、硬化する化合物であることが好ましい。 The specific polymerizable compound according to the present invention is preferably a compound that initiates a polymerization reaction and cures with an acid generated from a compound that generates an acid upon irradiation with radiation, which will be described later.
部分構造(I)に含まれる4員環の環状エーテルは、反応性の観点から、下記に示す環状エーテル(オキセタン構造)であるい。
Cyclic ethers 4-membered rings contained in the partial structure (I), from the viewpoint of reactivity, cyclic ethers (oxetane structure) shown below der Rui.
部分構造(I)は、導入可能な場合にはさらに置換基を有していてもよく、該置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、ニトロ基、アミノ基が挙げられる。 The partial structure (I) may further have a substituent when it can be introduced, and examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group, a nitro group, and an amino group. .
本発明においては、部分構造(I)は、特定重合性化合物中に1個含まれている。 In the present invention, one partial structure (I) is contained in the specific polymerizable compound.
部分構造(II)中、R1は、炭素数2〜6のアルキレン基を表す。
R1で表されるアルキレン基として具体的には、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基等が挙げられる。
In the partial structure (II), R 1 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms .
In concrete terms by an alkylene group represented by R 1, an ethylene group, a propylene group, isopropylene group, butylene group, pentylene group, and hexylene.
R1は、導入可能な場合、更に置換基を有していてもよい。該置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、ニトロ基、アミノ基が挙げられる。しかし、置換基を有さないアルキレン基、シクロアルキレン基、又はアリーレン基が好ましい。 R 1 may further have a substituent when it can be introduced. Examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group, a nitro group, and an amino group. However, an alkylene group, a cycloalkylene group, or an arylene group having no substituent is preferable.
nは、低粘度及び高感度の観点から、2〜8の整数であり、2〜6の整数が好ましく、2〜4の整数がより好ましい。 n is an integer of 2 to 8, from the viewpoint of low viscosity and high sensitivity, preferably an integer of 2 to 6, and more preferably an integer of 2 to 4.
部分構造(II)は、部分構造(I)に含まれる環状エーテル中の炭素原子に、アルキレン基を介して連結する。
部分構造(II)は、特定重合性化合物中に1個含まれていてもよいし、2個以上含まれていてもよい。即ち、部分構造(I)及び部分構造(II)は、1個の部分構造(II)が、アルキレン基を介して部分構造(I)に含まれる環状エーテル中の炭素原子に連結するか、又は、2個以上の部分構造(II)の各々が、アルキレン基を介して部分構造(I)に含まれる環状エーテル中の炭素原子に連結する。
The partial structure (II) is linked to a carbon atom in the cyclic ether contained in the partial structure (I) via an alkylene group .
One partial structure (II) may be contained in the specific polymerizable compound, or two or more thereof may be contained. That is, in the partial structure (I) and the partial structure (II), one partial structure (II) is linked to a carbon atom in the cyclic ether contained in the partial structure (I) via an alkylene group, or Each of the two or more partial structures (II) is linked to a carbon atom in the cyclic ether contained in the partial structure (I) via an alkylene group.
特定重合性化合物としては、部分構造(I)が特定重合性化合物中に1個含まれていて、環状エーテルが炭素数3のオキセタン構造であり、部分構造(II)は、R1が炭素数2〜4のアルキルレン基、nが2〜4の整数である組み合わせが、特に好ましい態様である。 As the specific polymerizable compound, one partial structure (I) is contained in the specific polymerizable compound, the cyclic ether is an oxetane structure having 3 carbon atoms, and the partial structure (II) has R 1 having a carbon number. A combination in which 2 to 4 alkylene groups and n is an integer of 2 to 4 is a particularly preferable embodiment.
以下、本発明に係る特定重合性化合物の代表的な具体例〔例示化合物(1)〜(9)、(11)〜(16)〕を挙げるが、本発明はこれらの具体例に何ら限定されるものではない。 Hereinafter, typical specific examples [Exemplary compounds (1) to (9) and (11) to (16)] of the specific polymerizable compound according to the present invention will be listed, but the present invention is not limited to these specific examples. It is not something.
特定重合性化合物の製造方法を以下に具体的に説明する。但し、特定重合性化合物の製造方法はこれらの方法に限定されるものではない。 The method for producing the specific polymerizable compound will be specifically described below. However, the production method of the specific polymerizable compound is not limited to these methods.
特定重合性化合物は、例えば、下記の製造方法により製造することができるが、これに限定されない。 The specific polymerizable compound can be produced, for example, by the following production method, but is not limited thereto.
(1)原料
特定重合性化合物を製造する際の原料について説明する。
特定重合性化合物の原料としては、脱ハロゲン化水素反応であるモトイの方法(Motoi、et. Al. ,Bull. Chem. Soc.Jpn.61,1998 )に準拠して、オキセタン化合物を製造できるものであれば、いずれの原料も使用することができる。具体的には、例えば、下記一般式(III)で表されるオキセタンアルコール化合物と、下記一般式(IV)で表されるハロゲン基又はスルホン酸エステル基等の脱離基を有するエーテル化合物とのエーテル化反応により、特定重合性化合物を製造することができる。
(1) Raw materials The raw materials for producing the specific polymerizable compound will be described.
As a raw material of the specific polymerizable compound, an oxetane compound can be produced according to Motoi's method (Motoi, et. Al., Bull. Chem. Soc. Jpn. 61, 1998) which is a dehydrohalogenation reaction. Any raw material can be used as long as it is. Specifically, for example, an oxetane alcohol compound represented by the following general formula (III) and an ether compound having a leaving group such as a halogen group or a sulfonate group represented by the following general formula (IV) A specific polymerizable compound can be produced by an etherification reaction.
一般式(III)中、R11は、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表し、R12は、アルキレン基、又はシクロアルキレン基を表す。一般式(IV)中、R13は、炭素数2〜6のアルキレン基を表し、R14は、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表す。nは2〜8の整数を示す。Xはハロゲン基又はスルホン酸エステル基等の脱離基を表す。 In general formula (III), R 11 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group, and R 12 represents an alkylene group or a cycloalkylene group. In the general formula (IV), R 13 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms , and R 14 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group. n represents an integer of 2 to 8. X represents a leaving group such as a halogen group or a sulfonate group.
一般式(III)で表されるオキセタンアルコール化合物としては、3−メチル−3−オキセタンメタノール、3−メチル−3−オキセタンエタノール、3−メチル−3−オキセタンプロパノール、3−エチル−3−オキセタンメタノール、3−エチル−3−オキセタンエタノール、3−エチル−3−オキセタンプロパノール、3−プロピル−3−オキセタンメタノール、3−プロピル−3−オキセタンエタノール、3−プロピル−3−オキセタンプロパノール等の1種単独又は2種以上の組合わせが挙げられる。 Examples of the oxetane alcohol compound represented by the general formula (III) include 3-methyl-3-oxetanemethanol, 3-methyl-3-oxetaneethanol, 3-methyl-3-oxetanepropanol, and 3-ethyl-3-oxetanemethanol. , 3-ethyl-3-oxetaneethanol, 3-ethyl-3-oxetanepropanol, 3-propyl-3-oxetanemethanol, 3-propyl-3-oxetaneethanol, 3-propyl-3-oxetanepropanol and the like alone Or the combination of 2 or more types is mentioned.
一般式(IV)で表されるハロゲン基又はスルホン酸エステル基等の脱離基を有するエーテル化合物としては、2−クロルエチルエチルエーテル、2−ブロムエチルエチルエーテル、3−クロルプロピルエチルエーテル、3−ブロムプロピルエチルエーテル、4−クロルブチルエチルエーテル、4−ブロムブチルエチルエーテル、2−ブロモエチルメチルエーテル、エチレングリコール2−ブロモエチルエチルエーテル、ビス(2−クロルエチル)エーテル、ビス(2−ブロムエチル)エーテル、ビス(3−クロルプロピル)エーテル、ビス(3−ブロムプロピル)エーテル、ビス(4−クロルブチル)エーテル、ビス(4−ブロムブチル)エーテル、ビス(2−ブロモエチル)エーテル、1,2−ビス(2−クロロエトキシ)エタン、1,2−ジブロモエタン等の1種単独又は2種以上の組合わせが挙げられる。 Examples of ether compounds having a leaving group such as a halogen group or a sulfonate group represented by the general formula (IV) include 2-chloroethyl ethyl ether, 2-bromoethyl ethyl ether, 3-chloropropyl ethyl ether, 3 -Bromopropyl ethyl ether, 4-chlorobutyl ethyl ether, 4-bromobutyl ethyl ether, 2-bromoethyl methyl ether, ethylene glycol 2-bromoethyl ethyl ether, bis (2-chloroethyl) ether, bis (2-bromoethyl) Ether, bis (3-chloropropyl) ether, bis (3-bromopropyl) ether, bis (4-chlorobutyl) ether, bis (4-bromobutyl) ether, bis (2-bromoethyl) ether, 1,2-bis ( 2-chloroethoxy) ethane, 1,2 Alone or two or more combinations of such dibromo ethane.
一般式(III)で表されるオキセタンアルコール化合物と、一般式(IV)で表されるハロゲン基又はスルホン酸エステル基等の脱離基を有するエーテル化合物との反応割合は特に制限されるものではないが、一般式(III)で表されるオキセタンアルコール化合物1モルあたり、一般式(IV)で表されるハロゲン基又はスルホン酸エステル基等の脱離基を有するエーテル化合物を0.1〜10モルの範囲内で反応させることが好ましい。一般式(III)で表されるオキセタンアルコール化合物1モルあたり、一般式(IV)で表されるハロゲン基又はスルホン酸エステル基等の脱離基を有するエーテル化合物を0.3〜3.0モルの範囲内で反応させることがより好ましい。 The reaction rate of the oxetane alcohol compound represented by the general formula (III) and the ether compound having a leaving group such as a halogen group or a sulfonate group represented by the general formula (IV) is not particularly limited. Although there is no ether compound having a leaving group such as a halogen group or a sulfonate group represented by the general formula (IV) per mole of the oxetane alcohol compound represented by the general formula (III) It is preferable to react within the molar range. 0.3 to 3.0 mol of an ether compound having a leaving group such as a halogen group or a sulfonate group represented by the general formula (IV) per 1 mol of the oxetane alcohol compound represented by the general formula (III) It is more preferable to make it react within the range.
(2)反応温度
特定重合性化合物を製造する際の反応温度について説明する。反応温度は、特定重合性化合物の収率等を考慮して定められるが、例えば、0〜100℃の範囲内の温度が好ましい。反応温度が0℃未満となると、反応原料の反応性が著しく低下し、収率が極端に低下する傾向があり、一方、反応温度が100℃を超えると、使用可能な有機溶媒の種類が限定される傾向がある。したがって、特定重合性化合物を製造する際の反応温度を、10〜90℃の範囲内の値とするのがより好ましく、20〜80℃の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
(2) Reaction temperature The reaction temperature for producing the specific polymerizable compound will be described. The reaction temperature is determined in consideration of the yield of the specific polymerizable compound and the like, and for example, a temperature within the range of 0 to 100 ° C. is preferable. When the reaction temperature is less than 0 ° C., the reactivity of the reaction raw materials is remarkably lowered, and the yield tends to be extremely reduced. Tend to be. Therefore, the reaction temperature for producing the specific polymerizable compound is more preferably set to a value within the range of 10 to 90 ° C, and further preferably set to a value within the range of 20 to 80 ° C.
(3)反応時間
特定重合性化合物を製造する際の反応時間について説明する。反応時間は、特定重合性化合物の収率や反応温度等を考慮して定められるが、例えば、0〜100℃の反応温度において、10分〜100時間の範囲内の値とするのが好ましい。反応時間が10分未満となると、未反応原料が多く残留する傾向があり、一方、反応時間が100時間を超えると、生産性が低下する傾向がある。したがって、特定重合性化合物を製造する際の反応時間を、30分〜50時間の範囲内の値とするのがより好ましく、1〜10時間の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
(3) Reaction time The reaction time for producing the specific polymerizable compound will be described. The reaction time is determined in consideration of the yield of the specific polymerizable compound, the reaction temperature, and the like. For example, the reaction time is preferably a value within a range of 10 minutes to 100 hours at a reaction temperature of 0 to 100 ° C. When the reaction time is less than 10 minutes, a large amount of unreacted raw material tends to remain, whereas when the reaction time exceeds 100 hours, productivity tends to decrease. Therefore, the reaction time for producing the specific polymerizable compound is more preferably set to a value within the range of 30 minutes to 50 hours, and further preferably set to a value within the range of 1 to 10 hours.
(4)反応雰囲気(pH)
特定重合性化合物を製造する際の反応雰囲気(pH)について説明する。反応雰囲気(pH値)は、特定重合性化合物の収率等を考慮して定められるが、例えば、5〜14の範囲内の値とするのが好ましい。pH値が5未満となると、副反応が生じやすくなり、収率が低下する傾向があり、一方、pH値が14を超えると、使用原料の種類が過度に制限される傾向がある。したがって、特定重合性化合物を製造する際のpH値を、6〜14の範囲内の値とするのがより好ましく、7〜14の範囲内の値とするのがさらに好ましい。なお、このような範囲内の値にpH値を調整するために、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリを添加使用することが好ましい。
(4) Reaction atmosphere (pH)
The reaction atmosphere (pH) when producing the specific polymerizable compound will be described. The reaction atmosphere (pH value) is determined in consideration of the yield of the specific polymerizable compound and the like, but for example, a value within the range of 5 to 14 is preferable. When the pH value is less than 5, side reactions tend to occur and the yield tends to decrease. On the other hand, when the pH value exceeds 14, the types of raw materials used tend to be excessively limited. Therefore, the pH value when producing the specific polymerizable compound is more preferably set to a value within the range of 6 to 14, and further preferably set to a value within the range of 7 to 14. In order to adjust the pH value to a value within such a range, it is preferable to add and use an alkali such as sodium hydroxide or potassium hydroxide.
(5)相間移動触媒
特定重合性化合物を製造する際に使用する相間移動触媒について説明する。かかる相間移動触媒は、オキセタンアルコール化合物とハロゲン基又はスルホン酸エステル基等の脱離基を有するエーテル化合物との反応性を向上させるために添加するが、例えば、原料の総量を100質量部としたときに、相間移動触媒の添加量を0.1〜30質量部の範囲内の値とするのが好ましい。相間移動触媒の添加量が0.1質量部未満となると、原料同士の反応性が著しく低下し、収率が極端に低下する傾向があり、一方、相間移動触媒の添加量が30質量部を超えると、精製が困難となる傾向がある。したがって、特定重合性化合物を製造する際に使用する相間移動触媒の添加量を、原料100質量部あたり、1.0〜20.0質量部の範囲内の値とするのがより好ましく、2.0〜10.0質量部の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
(5) Phase transfer catalyst The phase transfer catalyst used when manufacturing a specific polymerizable compound is demonstrated. Such a phase transfer catalyst is added in order to improve the reactivity between the oxetane alcohol compound and an ether compound having a leaving group such as a halogen group or a sulfonate group. For example, the total amount of raw materials is 100 parts by mass. Sometimes, it is preferable that the amount of the phase transfer catalyst added is in the range of 0.1 to 30 parts by mass. When the addition amount of the phase transfer catalyst is less than 0.1 parts by mass, the reactivity between the raw materials is remarkably lowered, and the yield tends to be extremely reduced, while the addition amount of the phase transfer catalyst is 30 parts by mass. If it exceeds, purification tends to be difficult. Therefore, the amount of the phase transfer catalyst used when producing the specific polymerizable compound is more preferably set to a value within the range of 1.0 to 20.0 parts by mass per 100 parts by mass of the raw material. More preferably, the value is in the range of 0 to 10.0 parts by mass.
相間移動触媒の種類についても、特に制限されるものではないが、例えば、4級アンモニウム塩および4級ホスホニウム塩あるいはいずれか一方の化合物であることが好ましい。より具体的には、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロミド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド、トリエチルヘキサデシルアンモニウムブロミド、トリオクチルメチルアンモニウムブロミド、メチルトリフェニルホスホニウムブロミド、トリエチルヘ
キサデシルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、テトラブチルホスホニウムブロミド等の1種単独あるいは2種以上の組合せが挙げられる。
The type of the phase transfer catalyst is not particularly limited, but is preferably, for example, a quaternary ammonium salt and a quaternary phosphonium salt or one of the compounds. More specifically, tetra-n-butylammonium bromide, tetramethylammonium bromide, benzyltriethylammonium bromide, hexadecyltrimethylammonium bromide, triethylhexadecylammonium bromide, trioctylmethylammonium bromide, methyltriphenylphosphonium bromide, triethylhexa One type of decylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, tetrabutylphosphonium bromide, or a combination of two or more types can be used.
(6)有機溶媒
特定重合性化合物を製造する際に使用する有機溶媒について説明する。有機溶剤としては、原料について良溶媒であり、また、製造が容易となる観点から、大気圧下での沸点が250℃以下の液体であることが好ましい。このような有機溶媒の例を挙げると、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよびシクロヘキサノンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミルおよびγ−ブチロラクトンなどのエステル類、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類の1種単独あるいは2種以上の組み合わせが挙げられる。
(6) Organic solvent The organic solvent used when manufacturing a specific polymeric compound is demonstrated. The organic solvent is preferably a liquid having a boiling point of 250 ° C. or less under atmospheric pressure from the viewpoint of being a good solvent for the raw material and facilitating production. Examples of such organic solvents include hydrocarbons such as hexane, heptane and octane, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, ethers such as diethyl ether, dibutyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane. 1 or 2 of ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, amyl acetate and γ-butyrolactone, and aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene A combination of more than one species is mentioned.
上記製造方法により得られた特定重合性化合物は、1H−NMR、IRスペクトルにより構造を確認することができる。 The structure of the specific polymerizable compound obtained by the above production method can be confirmed by 1 H-NMR and IR spectrum.
特定重合性化合物の含有量は、本発明のインク組成物を構成する全固形分に対し、1〜90質量%が好ましく、1〜70質量%がより好ましく、1〜50質量%が更に好ましい。 The content of the specific polymerizable compound is preferably 1 to 90% by mass, more preferably 1 to 70% by mass, and still more preferably 1 to 50% by mass with respect to the total solid content constituting the ink composition of the present invention.
本発明のインク組成物には、本発明の効果を損ねない範囲で、特定重合性化合物と共に以下に詳述する他の重合性化合物(カチオン重合性化合物)を併用することができる。
本発明おいては、組成物の硬化時の収縮を効果的に抑制するといった観点からは、特定重合性化合物と、他の重合性化合物として以下に説明するような、エポキシ化合物又は特定重合性化合物に含まれない他のオキセタン化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物と、ビニルエーテル化合物とを併用することが好ましい。
In the ink composition of the present invention, other polymerizable compounds (cationic polymerizable compounds) described in detail below can be used in combination with the specific polymerizable compound as long as the effects of the present invention are not impaired.
In the present invention, from the viewpoint of effectively suppressing shrinkage during curing of the composition, an epoxy compound or a specific polymerizable compound as described below as a specific polymerizable compound and another polymerizable compound. It is preferable to use a vinyl ether compound in combination with at least one compound selected from other oxetane compounds not included in the above.
(他の重合性化合物)
本発明に併用しうるカチオン重合性化合物は、後述する、放射線の照射により酸を発生する化合物から発生する酸により重合反応を開始し、硬化する化合物であれば特に制限はなく、光カチオン重合性モノマーとして知られる各種公知のカチオン重合性のモノマーを使用することができる。カチオン重合性モノマーとしては、例えば、特開平6−9714号、特開2001−31892号、同2001−40068号、同2001−55507号、同2001−310938号、同2001−310937号、同2001−220526号などの各公報に記載されているエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、特定重合性化合物に含まれない他のオキセタン化合物などが挙げられる。
(Other polymerizable compounds)
The cationically polymerizable compound that can be used in combination with the present invention is not particularly limited as long as it is a compound that initiates a polymerization reaction with an acid generated from a compound that generates an acid upon irradiation with radiation, and is cured, and is photocationically polymerizable. Various known cationic polymerizable monomers known as monomers can be used. Examples of the cationic polymerizable monomer include JP-A-6-9714, JP-A-2001-31892, JP-A-2001-40068, JP-A-2001-55507, JP-A-2001-310938, JP-A-2001-310937, and 2001-2001. Examples thereof include epoxy compounds, vinyl ether compounds, and other oxetane compounds not included in the specific polymerizable compound described in each publication such as 220526.
エポキシ化合物としては、芳香族エポキシド、脂環式エポキシド、及び、芳香族エポキシドなどが挙げられる。
芳香族エポキシドとしては、少なくとも1個の芳香族核を有する多価フェノールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるジ又はポリグリシジルエーテルが挙げられ、例えば、ビスフェノールAあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールAあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、並びにノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
Examples of the epoxy compound include aromatic epoxides, alicyclic epoxides, and aromatic epoxides.
Aromatic epoxides include di- or polyglycidyl ethers produced by the reaction of polyphenols having at least one aromatic nucleus or their alkylene oxide adducts and epichlorohydrin, such as bisphenol A or its alkylene oxides. Examples thereof include di- or polyglycidyl ethers of adducts, di- or polyglycidyl ethers of hydrogenated bisphenol A or its alkylene oxide adducts, and novolak-type epoxy resins. Here, examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide.
脂環式エポキシドとしては、少なくとも1個のシクロへキセン又はシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られる、シクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましく挙げられる。
脂肪族エポキシドとしては、脂肪族多価アルコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル等があり、その代表例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル又は1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリンあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテルに代表されるポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
As the alicyclic epoxide, cyclohexene oxide obtained by epoxidizing a compound having at least one cycloalkane ring such as cyclohexene or cyclopentene ring with a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. Or a cyclopentene oxide containing compound is mentioned preferably.
Examples of aliphatic epoxides include dihydric polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof, and typical examples thereof include diglycidyl ether of ethylene glycol, diglycidyl ether of propylene glycol, or 1,6. -Diglycidyl ether of alkylene glycol such as diglycidyl ether of hexanediol, polyglycidyl ether of polyhydric alcohol such as di- or triglycidyl ether of glycerin or its alkylene oxide adduct, diglycidyl of polyethylene glycol or its alkylene oxide adduct Diglycidyl of polyalkylene glycol typified by diglycidyl ether of ether, polypropylene glycol or its alkylene oxide adduct Ether and the like. Here, examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide.
本発明に用いることのできる単官能及び多官能のエポキシ化合物を詳しく例示する。
単官能エポキシ化合物の例としては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、p−tert−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、1,2−ブチレンオキサイド、1,3−ブタジエンモノオキサイド、1,2−エポキシドデカン、エピクロロヒドリン、1,2−エポキシデカン、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、3−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、3−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、3−ビニルシクロヘキセンオキサイド等が挙げられる。
The monofunctional and polyfunctional epoxy compounds that can be used in the present invention are exemplified in detail.
Examples of monofunctional epoxy compounds include, for example, phenyl glycidyl ether, p-tert-butylphenyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, 1,2-butylene oxide, 1,3-butadiene. Monooxide, 1,2-epoxydodecane, epichlorohydrin, 1,2-epoxydecane, styrene oxide, cyclohexene oxide, 3-methacryloyloxymethylcyclohexene oxide, 3-acryloyloxymethylcyclohexene oxide, 3-vinylcyclohexene oxide, etc. Is mentioned.
また、多官能エポキシ化合物の例としては、例えば、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールSジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3’,4’−エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−2−エチルヘキシル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類、1,1,3−テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイド、1,2,7,8−ジエポキシオクタン、1,2,5,6−ジエポキシシクロオクタン等が挙げられる。 Examples of polyfunctional epoxy compounds include, for example, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, brominated bisphenol A diglycidyl ether, brominated bisphenol F diglycidyl ether, and brominated bisphenol. S diglycidyl ether, epoxy novolac resin, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol S diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxy 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, bis (3,4-epoxy Hexylmethyl) adipate, vinylcyclohexene oxide, 4-vinylepoxycyclohexane, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl-3 ', 4'-epoxy- 6'-methylcyclohexanecarboxylate, methylenebis (3,4-epoxycyclohexane), dicyclopentadiene diepoxide, ethylene glycol di (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether, ethylenebis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate) ), Dioctyl epoxyhexahydrophthalate, di-2-ethylhexyl epoxyhexahydrophthalate, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl Ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ethers, 1,1,3-tetradecadiene dioxide, limonene dioxide, 1,2,7,8 -Diepoxyoctane, 1,2,5,6-diepoxycyclooctane and the like.
これらのエポキシ化合物のなかでも、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが、硬化速度に優れるという観点から好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。 Among these epoxy compounds, aromatic epoxides and alicyclic epoxides are preferable from the viewpoint of excellent curing speed, and alicyclic epoxides are particularly preferable.
ビニルエーテル化合物としては、例えばエチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル−O−プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。 Examples of vinyl ether compounds include ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, butanediol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, cyclohexanedimethanol divinyl ether, and trimethylol. Di- or trivinyl ether compounds such as propane trivinyl ether, ethyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octadecyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexanedimethanol monovinyl ether, n-pro Vinyl ether, isopropyl vinyl ether, isopropenyl ether -O- propylene carbonate, dodecyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, and octadecyl vinyl ether.
以下に、単官能ビニルエーテルと多官能ビニルエーテルを詳しく例示する。
単官能ビニルエーテルの例としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、n−ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、4−メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、2−ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、4−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、クロルブチルビニルエーテル、クロルエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル等が挙げられる。
Below, monofunctional vinyl ether and polyfunctional vinyl ether are illustrated in detail.
Examples of monofunctional vinyl ethers include, for example, methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, n-nonyl vinyl ether, lauryl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, cyclohexyl methyl vinyl ether, 4 -Methylcyclohexyl methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, dicyclopentenyl vinyl ether, 2-dicyclopentenoxyethyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, butoxyethyl vinyl ether, methoxyethoxyethyl vinyl ether, ethoxyethoxyethyl vinyl ether, methoxypolyethylene glycol vinyl D Ter, tetrahydrofurfuryl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 4-hydroxymethylcyclohexyl methyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, chlorobutyl vinyl ether, chloro Examples thereof include ethoxyethyl vinyl ether, phenylethyl vinyl ether, phenoxy polyethylene glycol vinyl ether and the like.
また、多官能ビニルエーテルの例としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ブチレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ビスフェノールAアルキレンオキサイドジビニルエーテル、ビスフェノールFアルキレンオキサイドジビニルエーテルなどのジビニルエーテル類;トリメチロールエタントリビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、エチレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテルなどの多官能ビニルエーテル類等が挙げられる。
ビニルエーテル化合物としては、ジ又はトリビニルエーテル化合物が、硬化性、被記録媒体との密着性、形成された画像の表面硬度などの観点から好ましく、特にジビニルエーテル化合物が好ましい。
Examples of the polyfunctional vinyl ether include, for example, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, butylene glycol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, bisphenol A alkylene oxide divinyl ether, and bisphenol F. Divinyl ethers such as alkylene oxide divinyl ether; trimethylolethane trivinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, ditrimethylolpropane tetravinyl ether, glycerin trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol pentavinyl ether, dipentaerythritol Hexavinyl ether, ethylene oxide-added trimethylolpropane trivinyl ether, propylene oxide-added trimethylolpropane trivinyl ether, ethylene oxide-added ditrimethylolpropane tetravinyl ether, propylene oxide-added ditrimethylolpropane tetravinyl ether, ethylene oxide-added pentaerythritol tetravinyl ether, propylene oxide addition Examples thereof include polyfunctional vinyl ethers such as pentaerythritol tetravinyl ether, ethylene oxide-added dipentaerythritol hexavinyl ether, and propylene oxide-added dipentaerythritol hexavinyl ether.
As the vinyl ether compound, a di- or trivinyl ether compound is preferable from the viewpoints of curability, adhesion to a recording medium, surface hardness of the formed image, and the like, and a divinyl ether compound is particularly preferable.
本発明に併用できる他のオキセタン化合物、具体的には前記部分構造(II)を有しない化合物としては、特開2001−220526号、同2001−310937号、同2003−341217号の各公報に記載される如き、公知のオキセタン化合物を任意に選択して使用できる。本発明のインク組成物に併用しうるオキセタン環を有する化合物としては、その構造内にオキセタン環を1〜4個有する化合物が好ましい。このような化合物を使用することで、組成物の粘度をハンドリング性の良好な範囲に維持することが容易となり、また、インク組成物等に適用した場合において、硬化後の組成物と被記録媒体との高い密着性を得ることができる。 Other oxetane compounds that can be used in combination with the present invention, specifically, compounds not having the partial structure (II) are described in JP-A Nos. 2001-220526, 2001-310937, and 2003-341217. As described above, a known oxetane compound can be arbitrarily selected and used. As the compound having an oxetane ring that can be used in combination with the ink composition of the present invention, a compound having 1 to 4 oxetane rings in its structure is preferable. By using such a compound, it becomes easy to maintain the viscosity of the composition in a favorable range of handling properties, and when applied to an ink composition or the like, the cured composition and the recording medium High adhesion can be obtained.
本発明に併用される分子内に1〜2個のオキセタン環を有する化合物としては、下記式(1)〜(3)で示される化合物等が挙げられる。 Examples of the compound having 1 to 2 oxetane rings in the molecule used in the present invention include compounds represented by the following formulas (1) to (3).
Ra1は、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基又はチエニル基を表す。分子内に2つのRa1が存在する場合、それらは同じであっても異なるものであってもよい。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、フルオロアルキル基としては、これらアルキル基の水素のいずれかがフッ素原子で置換されたものが好ましく挙げられる。
Ra2は、水素原子、炭素数1〜6個のアルキル基、炭素数2〜6個のアルケニル基、芳香環を有する基、炭素数2〜6個のアルキルカルボニル基、炭素数2〜6個のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜6個のN−アルキルカルバモイル基を表す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、アルケニル基としては、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基等が挙げられ、芳香環を有する基としては、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基、フェノキシエチル基等が挙げられる。アルキルカルボニル基としては、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基等が、アルキコキシカルボニル基としては、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が、N−アルキルカルバモイル基としては、エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基等が挙げられる。また、Ra2は置換基を有していてもよく、置換基としては、1〜6のアルキル基、フッ素原子が挙げられる。
R a1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an allyl group, an aryl group, a furyl group, or a thienyl group. When two R a1 are present in the molecule, they may be the same or different.
Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. Preferred examples of the fluoroalkyl group include those in which any hydrogen of these alkyl groups is substituted with a fluorine atom.
R a2 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, a group having an aromatic ring, an alkylcarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, or 2 to 6 carbon atoms. Represents an alkoxycarbonyl group, and an N-alkylcarbamoyl group having 2 to 6 carbon atoms. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. Examples of the alkenyl group include a 1-propenyl group, a 2-propenyl group, a 2-methyl-1-propenyl group, and 2-methyl-2. -Propenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group and the like. Examples of the group having an aromatic ring include phenyl group, benzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, phenoxyethyl group and the like. Can be mentioned. As the alkylcarbonyl group, an ethylcarbonyl group, a propylcarbonyl group, a butylcarbonyl group, etc., as an alkoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, etc., as an N-alkylcarbamoyl group, Examples thereof include an ethylcarbamoyl group, a propylcarbamoyl group, a butylcarbamoyl group, and a pentylcarbamoyl group. R a2 may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group of 1 to 6 and a fluorine atom.
Ra3は、線状又は分枝状アルキレン基、線状又は分枝状不飽和炭化水素基、カルボニル基又はカルボニル基を含むアルキレン基、カルボキシル基を含むアルキレン基、カルバモイル基を含むアルキレン基、又は、以下に示す基を表す。アルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基が挙げられ、ポリ(アルキレンオキシ)基としては、ポリ(エチレンオキシ)基、ポリ(プロピレンオキシ)基等が挙げられる。不飽和炭化水素基としては、プロペニレン基、メチルプロペニレン基、ブテニレン基等が挙げられる。 R a3 is a linear or branched alkylene group, a linear or branched unsaturated hydrocarbon group, an alkylene group containing a carbonyl group or a carbonyl group, an alkylene group containing a carboxyl group, an alkylene group containing a carbamoyl group, or Represents a group shown below. Examples of the alkylene group include an ethylene group, a propylene group, and a butylene group. Examples of the poly (alkyleneoxy) group include a poly (ethyleneoxy) group and a poly (propyleneoxy) group. Examples of the unsaturated hydrocarbon group include a propenylene group, a methylpropenylene group, and a butenylene group.
Ra3が上記多価基である場合、Ra4は、水素原子、炭素数1〜4個のアルキル基、炭素数1〜4個のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシル基、カルボキシル基、又はカルバモイル基を表す。
Ra5は、酸素原子、硫黄原子、メチレン基、NH、SO、SO2、C(CF3)2、又は
、C(CH3)2を表す。
Ra6は、炭素数1〜4個のアルキル基、又は、アリール基を表し、nは0〜2,000の整数である。Ra7は炭素数1〜4個のアルキル基、アリール基、又は、下記構造を有する1価の基を表す。下記式中、Ra8は炭素数1〜4個のアルキル基、又はアリール基であり、mは0〜100の整数である。
When R a3 is the above polyvalent group, R a4 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a mercapto group, Represents a lower alkyl carboxyl group, a carboxyl group, or a carbamoyl group.
R a5 represents an oxygen atom, a sulfur atom, a methylene group, NH, SO, SO 2 , C (CF 3 ) 2 , or C (CH 3 ) 2 .
R a6 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group, and n is an integer of 0 to 2,000. R a7 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group, or a monovalent group having the following structure. In the following formula, R a8 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group, and m is an integer of 0 to 100.
式(1)で表される化合物として、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン(OXT−101:東亞合成(株)製)、3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシメチル)オキセタン(OXT−212:東亞合成(株)製)、3−エチル−3−フェノキシメチルオキセタン(OXT−211:東亞合成(株)製)が挙げられる。式(2)で表される化合物としては、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン(OXT−121:東亞合成(株)が挙げられる。また、式(3)で表される化合物としては、ビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル(OXT−221:東亞合成(株))が挙げられる。 As a compound represented by the formula (1), 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane (OXT-101: manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane (OXT) -212: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and 3-ethyl-3-phenoxymethyloxetane (OXT-211: manufactured by Toagosei Co., Ltd.). Examples of the compound represented by the formula (2) include 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene (OXT-121: Toagosei Co., Ltd.). ), Bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether (OXT-221: Toagosei Co., Ltd.) is exemplified.
3〜4個のオキセタン環を有する化合物としては、下記式(4)で示される化合物が挙げられる。 Examples of the compound having 3 to 4 oxetane rings include a compound represented by the following formula (4).
式(4)において、Ra1は、前記式(1)におけるのと同義である。また、多価連結基であるRa9としては、例えば、下記A〜Cで示される基等の炭素数1〜12の分枝状アルキレン基、下記Dで示される基等の分枝状ポリ(アルキレンオキシ)基又は下記Eで示される基等の分枝状ポリシロキシ基等が挙げられる。jは、3又は4である。 In the formula (4), R a1 has the same meaning as in the formula (1). In addition, as R a9 which is a polyvalent linking group, for example, a branched polyalkylene group having 1 to 12 carbon atoms such as groups represented by the following A to C, a branched poly ( An alkyleneoxy) group or a branched polysiloxy group such as a group represented by E below. j is 3 or 4.
上記Aにおいて、Ra10はメチル基、エチル基又はプロピル基を表す。また、上記Dにおいて、pは1〜10の整数である。 In the above A, R a10 represents a methyl group, an ethyl group or a propyl group. Moreover, in said D, p is an integer of 1-10.
また、本発明に好適に使用しうるオキセタン化合物の別の態様として、側鎖にオキセタン環を有する下記式(5)で示される化合物が挙げられる。 Another embodiment of the oxetane compound that can be suitably used in the present invention includes a compound represented by the following formula (5) having an oxetane ring in the side chain.
式(5)において、Ra8は前記式におけるのと同義である。Ra11はメチル基、エチル
基、プロピル基又はブチル基等の炭素数1〜4のアルキル基又はトリアルキルシリル基であり、rは1〜4である。
In the formula (5), R a8 has the same meaning as in the above formula. R a11 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, or a trialkylsilyl group, and r is 1 to 4.
このようなオキセタン環を有する化合物については、前記特開2003−341217号公報、段落番号0021ないし0084に詳細に記載され、ここに記載の化合物は本発明にも好適に使用しうる。
特開2004−91556号公報に記載されたオキセタン化合物も本発明に併用することができる。当該化合物は、同公報の段落番号[0022]ないし[0058]に詳細に記載されている。
本発明に併用される他のオキセタン化合物のなかでも、組成物の粘度と粘着性の観点から、オキセタン環を1個有する化合物を使用することが好ましい。
Such a compound having an oxetane ring is described in detail in JP-A No. 2003-341217, paragraph numbers 0021 to 0084, and the compounds described therein can be suitably used in the present invention.
Oxetane compounds described in JP-A-2004-91556 can also be used in the present invention. The compound is described in detail in paragraphs [0022] to [0058] of the publication.
Among the other oxetane compounds used in combination with the present invention, it is preferable to use a compound having one oxetane ring from the viewpoint of the viscosity and tackiness of the composition.
本発明において特定重合性化合物と他のカチオン重合性化合物が併用される場合、特定重合性化合物と他のカチオン重合性化合物との含有比としては、質量比で、10:1〜10:100が好ましく、10:3〜10:80がより好ましく、10:5〜10:60がさらに好ましい。 In the present invention, when the specific polymerizable compound and another cationic polymerizable compound are used in combination, the content ratio of the specific polymerizable compound and the other cationic polymerizable compound is 10: 1 to 10: 100 in terms of mass ratio. Preferably, 10: 3 to 10:80 is more preferable, and 10: 5 to 10:60 is more preferable.
(放射線の照射により酸を発生する化合物)
本発明のインク組成物は、放射線の照射により酸を発生する化合物(以下、「光酸発生剤」とも称する。)を含有することが好ましい。本発明においては、放射線の照射により発生した酸により、前記した重合性化合物の重合反応が生起し、硬化する。
本発明のインク組成物に用いることのできる光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている光(400〜200nmの紫外線、遠紫外線、特に好ましくは、g線、h線、i線、KrFエキシマレーザー光)、ArFエキシマレーザー光、電子線、X線、分子線又はイオンビームなどの照射により酸を発生する化合物を適宜選択して使用することができる。
(Compounds that generate acid upon irradiation)
The ink composition of the present invention preferably contains a compound that generates an acid upon irradiation with radiation (hereinafter also referred to as a “photoacid generator”). In the present invention, the polymerization reaction of the polymerizable compound described above occurs due to the acid generated by the irradiation of radiation and is cured.
Examples of the photoacid generator that can be used in the ink composition of the present invention include a photoinitiator for photocationic polymerization, a photoinitiator for radical photopolymerization, a photodecolorant for dyes, a photochromic agent, and a microresist. Light (400-200 nm ultraviolet light, far ultraviolet light, particularly preferably g-line, h-line, i-line, KrF excimer laser light), ArF excimer laser light, electron beam, X-ray, molecular beam or ion A compound that generates an acid upon irradiation with a beam or the like can be appropriately selected and used.
このような光酸発生剤としては、放射線の照射により分解して酸を発生する、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウム塩化合物、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、o−ニトロベンジルスルホネート等のスルホネート化合物などを挙げることができる。 Examples of such a photoacid generator include an onium salt compound such as diazonium salt, phosphonium salt, sulfonium salt, iodonium salt, imide sulfonate, oxime sulfonate, diazodisulfone, disulfone, which decomposes upon irradiation with radiation to generate an acid. Examples thereof include sulfonate compounds such as o-nitrobenzyl sulfonate.
また、その他の本発明に用いられる活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(光酸発生剤)としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal etal,Polymer,21,423(1980)等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、同 Re 27,992号、特開平3−140140号等に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker etal,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen etal,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055 号、同4,069,056号等に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello etal,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.&Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号、同第339,049号、同第410,201号、特開平2−150848号、特開平2−296514号等に記載のヨードニウム塩、 Other compounds (photoacid generators) that generate an acid upon irradiation with actinic rays or radiation used in the present invention include, for example, S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. 18, 387 (1974), T .; S. Diazonium salts described in Bal etal, Polymer, 21, 423 (1980), U.S. Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, Re 27,992, JP-A-3-140140, etc. An ammonium salt according to claim 1, C. Necker et al., Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, and the like; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1988), European Patent Nos. 104,143, 339,049, 410,201, JP-A-2-150848, JP-A-2-296514 and the like,
J.V.Crivello etal,Polymer J.17,73 (1985)、J.V.Crivello etal.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt etal,J.PolymerSci.,PolymerChem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivello etal,Polymer Bull.,14,279(1985)、J.V.Crivelloetal,Macromorecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivelloetal,J.PolymerSci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693号、同161,811号、同410,201号、同339,049号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第3,902,114号、同4,933,377号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号、特開平7−28237号、同8−27102号等に記載のスルホニウム塩、 J. et al. V. Crivello et al, Polymer J. et al. 17, 73 (1985), J. MoI. V. Crivello et al. J. et al. Org. Chem. 43, 3055 (1978); R. Watt et al. PolymerSci. , Polymer Chem. Ed. , 22, 1789 (1984), J. Am. V. Crivello et al., Polymer Bull. 14, 279 (1985), J. Am. V. Crivello et al., Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J. MoI. V. Crivello et al. PolymerSci. , Polymer Chem. Ed. 17, 2877 (1979), European Patent Nos. 370,693, 161,811, 410,201, 339,049, 233,567, 297,443, and 297,442. U.S. Pat.Nos. 3,902,114, 4,933,377, 4,760,013, 4,734,444, 2,833,827, German Patent 2, Nos. 904, 626, 3,604, 580, 3,604, 581, JP-A-7-28237, 8-27102 and the like,
J.V.Crivello etal,Macromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello etal,J.PolymerSci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)等に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen etal,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)等に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第3,905,815号、特公昭46−4605号、特開昭48−36281号、特開昭55−32070号、特開昭60−239736号、特開昭61−169835号、特開昭61−169837号、特開昭62−58241号、特開昭62−212401号、特開昭63−70243号、特開昭63−298339号等に記載の有機ハロゲン化合物、K.Meier et al,J.Rad.Curing,13(4),26(1986)、T.P.Gill et al,Inorg.Chem.,19,3007(1980)、D.Astruc,Acc.Chem.Res.,19(12),377(1986)、特開平2−161445号等に記載の有機金属/有機ハロゲン化物、 J. et al. V. Crivello et al., Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al. PolymerSci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), etc., selenonium salts, C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988) and other onium salts such as arsonium salts, US Pat. No. 3,905,815, Japanese Examined Patent Publication No. 46-4605, Japanese Unexamined Patent Publication No. 48-36281, Japanese Unexamined Patent Publication No. 55-55. -32070, JP-A-60-239736, JP-A-61-169835, JP-A-61-169837, JP-A-62-58241, JP-A-62-212401, JP-A-63-70243 , Organic halogen compounds described in JP-A-63-298339 and the like; Meier et al, J.A. Rad. Curing, 13 (4), 26 (1986), T.A. P. Gill et al, Inorg. Chem. , 19, 3007 (1980), D.M. Astruc, Acc. Chem. Res. , 19 (12), 377 (1986), and organometallic / organic halides described in JP-A-2-161445, etc.
S.Hayase etal,J.Polymer Sci.,25,753(1987)、E.Reichmanis etal,J.Pholymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,23,1(1985)、Q.Q.Zhu etal,J.Photochem.,36,85,39,317(1987)、B.Amit etal,Tetrahedron Lett.,(24)2205(1973)、D.H.R.Barton etal,J.Chem.Soc.,3571(1965)、P.M.Collins et al,J.Chem.Soc.,Perkin I,1695(1975)、M.Rudinstein etal,Tetrahedron Lett.,(17),1445(1975)、J.W.Walker etal,J.Am.Chem.Soc.,110,7170(1988)、S.C.Busman etal,J.Imaging Technol.,11(4),191(1985)、H.M.Houlihan etal,Macormolecules,21,2001(1988)、P.M.Collins etal,J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,532(1972)、S.Hayase etal,Macromolecules,18,1799(1985)、E.Reichmanis etal,J.Electrochem.Soc.,Solid State Sci.Technol.,130(6)、F.M.Houlihan etal,Macromolcules,21,2001(1988)、 欧州特許第0290,750号、同046,083号、同156,535号、同271,851号、同0,388,343号、米国特許第3,901,710号、同4,181,531号、特開昭60−198538号、特開昭53−133022号等に記載のO−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、 S. Hayase et al. Polymer Sci. 25, 753 (1987), E.I. Reichmanis et al. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 23, 1 (1985), Q.M. Q. Zhu etal, J. et al. Photochem. 36, 85, 39, 317 (1987), B.R. Amit etal, Tetrahedron Lett. , (24) 2205 (1973), D.M. H. R. Barton et al. Chem. Soc. , 3571 (1965), p. M.M. Collins et al, J.A. Chem. Soc. Perkin I, 1695 (1975), M .; Rudinstein et al., Tetrahedron Lett. , (17), 1445 (1975), J. MoI. W. Walker et al. Am. Chem. Soc. 110, 7170 (1988), S.A. C. Busman et al. Imaging Technol. 11 (4), 191 (1985), H. et al. M.M. Houlihan et al, Macormolecules, 21, 2001 (1988), p. M.M. Collins et al. Chem. Soc. , Chem. Commun. 532 (1972), S.A. Hayase et al., Macromolecules, 18, 1799 (1985), E.I. Reichmanis et al. Electrochem. Soc. , Solid State Sci. Technol. , 130 (6), F.M. M.M. Houlihan et al, Macromolecules, 21, 2001 (1988), European Patent Nos. 0290,750, 046,083, 156,535, 271,851, 0,388,343, US Patent No. 3 , 901,710, 4,181,531, JP-A-60-198538, JP-A-53-133022 and the like, a photoacid generator having an O-nitrobenzyl type protecting group,
M.TUNOOKA etal,Polymer Preprints Japan,35(8)、G.Berner etal,J.Rad.Curing,13(4)、W.J.Mijs etal,Coating Technol.,55(697),45(1983),Akzo、H.Adachi etal,Polymer Preprints,Japan,37(3)、欧州特許第0199,672号、同84515号、同044,115号、同第618,564号、同0101,122号、米国特許第4,371,605号、同4,431,774号、特開昭64−18143号、特開平2−245756号、特開平3−140109号等に記載のイミノスルフォネ−ト等に代表される光分解してスルホン酸を発生する化合物、特開昭61−166544号、特開平2−71270号等に記載のジスルホン化合物、特開平3−103854号、同3−103856号、同4−210960号等に記載のジアゾケトスルホン、ジアゾジスルホン化合物を挙げることができる。 M.M. TUNOOKA et al, Polymer Preprints Japan, 35 (8), G.M. Berner et al. Rad. Curing, 13 (4), W.M. J. et al. Mijs et al, Coating Technol. , 55 (697), 45 (1983), Akzo, H .; Adachi et al, Polymer Preprints, Japan, 37 (3), European Patent No. 0199,672, No. 84515, No. 044,115, No. 618,564, No. 0101,122, US Pat. No. 4,371 , 605, 4,431,774, JP-A 64-18143, JP-A-2-245756, JP-A-3-140109, etc. Compounds generating an acid, disulfone compounds described in JP-A-61-1166544 and JP-A-2-71270, diazo compounds described in JP-A-3-103854, JP-A-3-103856, and JP-A-4-210960 Examples thereof include ketosulfone and diazodisulfone compounds.
また、これらの光により酸を発生する基、あるいは化合物をポリマーの主鎖又は側鎖に導入した化合物、たとえば、M.E.Woodhouse et al,J.Am.Chem.Soc.,104,5586(1982)、S.P.Pappas et al,J.Imaging Sci.,30(5),218(1986)、S.Kondo etal,Makromol.Chem.,Rapid Commun.,9,625(1988)、Y.Yamada etal,Makromol.Chem.,152,153,163(1972)、J.V.Crivello et al,J.PolymerSci.,Polymer Chem.Ed.,17,3845(1979)、米国特許第3,849,137号、独国特許第3,914,407号、特開昭63−26653号、特開昭55−164824号、特開昭62−69263号、特開昭63−146038号、特開昭63−163452号、特開昭62−153853号、特開昭63−146029号等に記載の化合物を用いることができる。たとえば、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等のオニウム塩、有機ハロゲン化合物、有機金属/有機ハロゲン化物、o−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、イミノスルフォネート等に代表される光分解してスルホン酸を発生する化合物、ジスルホン化合物、ジアゾケトスルホン、ジアゾジスルホン化合物を挙げることができる。 Further, a group which generates an acid by these light, or a compound in which a compound is introduced into the main chain or side chain of the polymer, for example, M.I. E. Woodhouse et al., J. MoI. Am. Chem. Soc. 104, 5586 (1982), S .; P. Pappas et al. Imaging Sci. , 30 (5), 218 (1986), S .; Kondo et al, Makromol. Chem. , Rapid Commun. , 9, 625 (1988), Y. et al. Yamada et al, Makromol. Chem. 152, 153, 163 (1972), J. Am. V. Crivello et al, J.A. PolymerSci. , Polymer Chem. Ed. 17, 3845 (1979), U.S. Pat. No. 3,849,137, German Patent No. 3,914,407, JP-A 63-26653, JP-A 55-164824, JP-A 62- 69263, JP-A 63-146038, JP-A 63-163452, JP-A 62-153853, JP-A 63-146029, and the like can be used. For example, diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, onium salts such as arsonium salts, organic halogen compounds, organic metal / organic halides, photoacid generators having o-nitrobenzyl type protecting groups Examples thereof include a compound capable of generating a sulfonic acid by photolysis represented by an agent, iminosulfonate, and the like, a disulfone compound, a diazoketosulfone, and a diazodisulfone compound.
さらにV.N.R.Pillai,Synthesis,(1),1(1980)、A.Abad etal,Tetrahedron Lett.,(47)4555(1971)、D.H.R.Barton et al,J.Chem.Soc.,(C),329(1970)、米国特許第3,779,778号、欧州特許第126,712号等に記載の光により酸を発生する化合物も使用することができる。 Furthermore, V. N. R. Pillai, Synthesis, (1), 1 (1980), A.M. Abad et al., Tetrahedron Lett. , (47) 4555 (1971), D.M. H. R. Barton et al, J.A. Chem. Soc. , (C), 329 (1970), U.S. Pat. No. 3,779,778, European Patent No. 126,712, and the like, compounds that generate an acid by light can also be used.
本発明に用いることができる光酸発生剤として好ましい化合物として、下記式(b1)、(b2)、(b3)で表される化合物を挙げることができる。 Preferred examples of the photoacid generator that can be used in the present invention include compounds represented by the following formulas (b1), (b2), and (b3).
式(b1)において、R201、R202及びR203は、各々独立に有機基を表す。
X-は、非求核性アニオンを表し、好ましくはスルホン酸アニオン、カルボン酸アニオ
ン、ビス(アルキルスルホニル)アミドアニオン、トリス(アルキルスルホニル)メチドアニオン、BF4 -、PF6 -、SbF6 -や以下に示す基などが挙げられ、好ましくは炭素原子を有する有機アニオンである。
In the formula (b1), R 201 , R 202 and R 203 each independently represents an organic group.
X − represents a non-nucleophilic anion, preferably a sulfonate anion, a carboxylate anion, a bis (alkylsulfonyl) amide anion, a tris (alkylsulfonyl) methide anion, BF 4 − , PF 6 − , SbF 6 − or the following The organic anion which has a carbon atom is preferable.
好ましい有機アニオンとしては下式に示す有機アニオンが挙げられる。 Preferable organic anions include organic anions represented by the following formula.
Rc1は、有機基を表す。
Rc1における有機基として炭素数1〜30のものが挙げられ、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、またはこれらの複数が、単結合、−O−、−CO2−、−S−、−SO3−、−SO2N(Rd1)−などの連結基で連結された基を挙げることができる。
Rc 1 represents an organic group.
Examples of the organic group in Rc 1 include those having 1 to 30 carbon atoms, and preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or a plurality of these are a single bond, —O—, —CO 2 —, —S—. , —SO 3 —, —SO 2 N (Rd 1 ) — and the like.
Rd1は、水素原子、アルキル基を表す。
Rc3、Rc4、Rc5は、各々独立に、有機基を表す。
Rc3、Rc4、Rc5の有機基として、好ましくはRc1における好ましい有機基と同じものを挙げることができ、最も好ましくは炭素数1〜4のパーフロロアルキル基である。
Rc3とRc4が結合して環を形成していてもよい。
Rc3とRc4が結合して形成される基としてはアルキレン基、アリーレン基が挙げられる。好ましくは炭素数2〜4のパーフロロアルキレン基である。
Rd 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
Rc 3 , Rc 4 and Rc 5 each independently represents an organic group.
Preferred examples of the organic group for Rc 3 , Rc 4 , and Rc 5 include the same organic groups as those for Rc 1 , and most preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
Rc 3 and Rc 4 may combine to form a ring.
Examples of the group formed by combining Rc 3 and Rc 4 include an alkylene group and an arylene group. Preferably, it is a C2-C4 perfluoroalkylene group.
Rc1、Rc3〜Rc5の有機基として、最も好ましくは1位がフッ素原子またはフロロアルキル基で置換されたアルキル基、フッ素原子またはフロロアルキル基で置換されたフェニル基である。フッ素原子またはフロロアルキル基を有することにより、光照射によって発生した酸の酸性度が上がり、感度が向上する。 The organic group of Rc 1 and Rc 3 to Rc 5 is most preferably an alkyl group substituted at the 1-position with a fluorine atom or a fluoroalkyl group, or a phenyl group substituted with a fluorine atom or a fluoroalkyl group. By having a fluorine atom or a fluoroalkyl group, the acidity of the acid generated by light irradiation is increased and the sensitivity is improved.
R201、R202及びR203としての有機基の炭素数は、一般的に1〜30、好ましくは1〜20である。
また、R201〜R203のうち2つが結合して環構造を形成してもよく、環内に酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合、カルボニル基を含んでいてもよい。R201〜R203
の内の2つが結合して形成する基としては、アルキレン基(例えば、ブチレン基、ペンチレン基)を挙げることができる。
The carbon number of the organic group as R 201 , R 202 and R 203 is generally 1-30, preferably 1-20.
Two of R 201 to R 203 may be bonded to form a ring structure, and the ring may contain an oxygen atom, a sulfur atom, an ester bond, an amide bond, or a carbonyl group. R 201 to R 203
Examples of the group formed by combining two of these include an alkylene group (for example, a butylene group and a pentylene group).
R201、R202及びR203としての有機基の具体例としては、後述する化合物(b1−1)、(b1−2)、(b1−3)における対応する基を挙げることができる。 Specific examples of the organic group as R 201 , R 202 and R 203 include corresponding groups in the compounds (b1-1), (b1-2) and (b1-3) described later.
なお、式(b1)で表される構造を複数有する化合物であってもよい。例えば、式(b1)で表される化合物のR201〜R203のうち少なくともひとつが、式(b1)で表される他の化合物におけるR201〜R203の少なくともひとつと直接、又は、連結基を介して結合した構造を有する化合物であってもよい。 In addition, the compound which has two or more structures represented by Formula (b1) may be sufficient. For example, at least one of R 201 to R 203 of a compound represented by the formula (b1) is at least one directly with R 201 to R 203 of another compound represented by formula (b1), or a linking group It may be a compound having a structure bonded via
更に好ましい(b1)成分として、以下に説明する化合物(b1−1)、(b1−2)、及び(b1−3)を挙げることができる。 Further preferred examples of the component (b1) include compounds (b1-1), (b1-2), and (b1-3) described below.
化合物(b1−1)は、上記式(b1)のR201〜R203の少なくとも1つがアリール基である、アリールスルホニム化合物、即ち、アリールスルホニウムをカチオンとする化合物である。 Compound (b1-1) is in which at least one aryl group R 201 to R 203 in formula (b1), arylsulfonium compound, i.e., a compound having arylsulfonium as a cation.
アリールスルホニウム化合物は、R201〜R203の全てがアリール基でもよいし、R201〜R203の一部がアリール基で、残りがアルキル基、シクロアルキル基でもよい。 In the arylsulfonium compound, all of R 201 to R 203 may be an aryl group, or a part of R 201 to R 203 may be an aryl group, and the rest may be an alkyl group or a cycloalkyl group.
アリールスルホニウム化合物としては、例えば、トリアリールスルホニウム化合物、ジアリールアルキルスルホニウム化合物、アリールジアルキルスルホニウム化合物、ジアリールシクロアルキルスルホニウム化合物、アリールジシクロアルキルスルホニウム化合物等を挙げることができる。 Examples of the arylsulfonium compound include triarylsulfonium compounds, diarylalkylsulfonium compounds, aryldialkylsulfonium compounds, diarylcycloalkylsulfonium compounds, aryldicycloalkylsulfonium compounds, and the like.
アリールスルホニウム化合物のアリール基としてはフェニル基、ナフチル基などのアリール基、インドール残基、ピロール残基、などのヘテロアリール基が好ましく、更に好ましくはフェニル基、インドール残基である。アリールスルホニム化合物が2つ以上のアリール基を有する場合に、2つ以上あるアリール基は同一であっても異なっていてもよい。 The aryl group of the arylsulfonium compound is preferably an aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group, or a heteroaryl group such as an indole residue or a pyrrole residue, more preferably a phenyl group or an indole residue. When the arylsulfonium compound has two or more aryl groups, the two or more aryl groups may be the same or different.
アリールスルホニウム化合物が必要に応じて有しているアルキル基としては、炭素数1〜15の直鎖又は分岐状アルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基等を挙げることができる。
アリールスルホニウム化合物が必要に応じて有しているシクロアルキル基としては、炭素数3〜15のシクロアルキル基が好ましく、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
As the alkyl group that the arylsulfonium compound has as necessary, a linear or branched alkyl group having 1 to 15 carbon atoms is preferable. For example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, sec -A butyl group, a t-butyl group, etc. can be mentioned.
The cycloalkyl group that the arylsulfonium compound has as necessary is preferably a cycloalkyl group having 3 to 15 carbon atoms, and examples thereof include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, and a cyclohexyl group.
R201〜R203のアリール基、アルキル基、シクロアルキル基は、アルキル基(例えば炭素数1〜15)、シクロアルキル基(例えば炭素数3〜15)、アリール基(例えば炭素数6〜14)、アルコキシ基(例えば炭素数1〜15)、ハロゲン原子、水酸基、フェニルチオ基を置換基として有してもよい。好ましい置換基としては、炭素数1〜12の直鎖又は分岐状アルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、炭素数1〜12の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基であり、最も好ましくは炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基である。置換基は、3つのR201〜R203のうち、いずれか1つに置換していてもよいし、3つ全てに置換していてもよい。また、R201〜R203がアリール基の場合に、置換基はアリール基のp−位に置換していることが好ましい。 Aryl group, alkyl group of R 201 to R 203, cycloalkyl group, an alkyl group (for example, 1 to 15 carbon atoms), a cycloalkyl group (for example, 3 to 15 carbon atoms), an aryl group (for example, 6 to 14 carbon atoms) , An alkoxy group (for example, having 1 to 15 carbon atoms), a halogen atom, a hydroxyl group, or a phenylthio group may be substituted. Preferred substituents are linear or branched alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, cycloalkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and linear, branched or cyclic alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms, and most preferred. Is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. Substituents, of the three R 201 to R 203, may be substituted on any one, or may be substituted on all of three. When R 201 to R 203 are an aryl group, the substituent is preferably substituted at the p-position of the aryl group.
次に、化合物(b1−2)について説明する。
化合物(b1−2)は、式(b1)におけるR201〜R203が、各々独立に、芳香環を含有しない有機基を表す場合の化合物である。ここで芳香環とは、ヘテロ原子を含有する芳香族環も包含するものである。
R201〜R203としての芳香環を含有しない有機基は、一般的に炭素数1〜30、好ましくは炭素数1〜20である。
R201〜R203は、各々独立に、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリル基、ビニル基であり、より好ましくは直鎖、分岐、環状2−オキソアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基、特に好ましくは直鎖、分岐2−オキソアルキル基である。
Next, the compound (b1-2) will be described.
The compound (b1-2) is a compound in the case where R 201 to R 203 in the formula (b1) each independently represents an organic group not containing an aromatic ring. Here, the aromatic ring includes an aromatic ring containing a hetero atom.
The organic group having no aromatic ring as R 201 to R 203 generally has 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms.
R 201 to R 203 each independently, preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an allyl group, a vinyl group, more preferably a linear, branched or cyclic 2-oxoalkyl group, an alkoxycarbonylmethyl group, particularly preferably Is a linear, branched 2-oxoalkyl group.
R201〜R203としてのアルキル基は、直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、好ましくは、炭素数1〜10の直鎖又は分岐アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基)を挙げることができ、直鎖、分岐2−オキソアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基がより好ましい。 The alkyl group as R 201 to R 203 may be linear, it may be either branched, preferably a straight-chain or branched alkyl group (e.g., methyl group having 1 to 10 carbon atoms, an ethyl group, a propyl Group, a butyl group, a pentyl group), and a linear, branched 2-oxoalkyl group, and an alkoxycarbonylmethyl group are more preferable.
R201〜R203としてのシクロアルキル基は、好ましくは、炭素数3〜10のシクロアルキル基(シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボニル基)を挙げることができ、環状2−オキソアルキル基がより好ましい。 The cycloalkyl group as R 201 to R 203 is preferably a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms (a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a norbornyl group) can be exemplified, more preferably a cyclic 2-oxoalkyl group.
R201〜R203の直鎖、分岐、環状2−オキソアルキル基としては、好ましくは、上記のアルキル基、シクロアルキル基の2位に>C=Oを有する基を挙げることができる。
R201〜R203としてのアルコキシカルボニルメチル基におけるアルコキシ基としては、好ましくは炭素数1〜5のアルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基)を挙げることができる。
R201〜R203は、ハロゲン原子、アルコキシ基(例えば炭素数1〜5)、水酸基、シアノ基、ニトロ基によって更に置換されていてもよい。
Linear R 201 to R 203, branched, or cyclic 2-oxoalkyl group, preferably, may be mentioned 2-position group having> C = O at the above-described alkyl or cycloalkyl group.
The alkoxy group in the alkoxycarbonylmethyl group as R 201 to R 203, preferably may be mentioned alkoxy groups having 1 to 5 carbon atoms (a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentoxy group).
R 201 to R 203 may be further substituted with a halogen atom, an alkoxy group (for example, having 1 to 5 carbon atoms), a hydroxyl group, a cyano group, or a nitro group.
化合物(b1−3)とは、以下の式(b1−3)で表される化合物であり、フェナシルスルフォニウム塩構造を有する化合物である。 The compound (b1-3) is a compound represented by the following formula (b1-3) and is a compound having a phenacylsulfonium salt structure.
式(b1−3)に於いて、R1c〜R5cは、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表す。
R6c及びR7cは、各々独立に、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。
Rx及びRyは、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリル基、又はビニル基を表す。
R1c〜R5c中のいずれか2つ以上、R6cとR7c、及びRxとRyは、それぞれ結合して環構造を形成してもよい。
Zc-は、非求核性アニオンを表し、式(b1)に於けるX-の非求核性アニオンと同様のものを挙げることができる。
In formula (b1-3), R 1c to R 5c each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, or a halogen atom.
R 6c and R 7c each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or a cycloalkyl group.
R x and R y each independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an allyl group, or a vinyl group.
Any two or more of R 1c to R 5c , R 6c and R 7c , and R x and R y may be bonded to each other to form a ring structure.
Zc − represents a non-nucleophilic anion, and examples thereof include the same as the non-nucleophilic anion of X − in formula (b1).
R1c〜R7cとしてのアルキル基は、直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、例えば炭素数1〜20個、好ましくは炭素数1〜12個の直鎖及び分岐アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、直鎖又は分岐プロピル基、直鎖又は分岐ブチル基、直鎖又は分岐ペンチル基)を挙げることができる。 The alkyl group as R 1c to R 7c may be either linear or branched, for example, a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 12 carbon atoms (for example, Methyl group, ethyl group, linear or branched propyl group, linear or branched butyl group, linear or branched pentyl group).
R1c〜R7cのシクロアルキル基として、好ましくは、炭素数3〜8個のシクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基)を挙げることができる。 Preferred examples of the cycloalkyl group represented by R 1c to R 7c include a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms (for example, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group).
R1c〜R5cとしてのアルコキシ基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、例えば炭素数1〜10のアルコキシ基、好ましくは、炭素数1〜5の直鎖及び分岐アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、直鎖又は分岐プロポキシ基、直鎖又は分岐ブトキシ基、直鎖又は分岐ペントキシ基)、炭素数3〜8の環状アルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基)を挙げることができる。 The alkoxy group as R 1c to R 5c may be linear, branched or cyclic, for example, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, preferably a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. (For example, methoxy group, ethoxy group, linear or branched propoxy group, linear or branched butoxy group, linear or branched pentoxy group), C3-C8 cyclic alkoxy group (for example, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group) ).
R1c〜R5c中のいずれか2つ以上、R6cとR7c、及びRxとRyが結合して形成する基としては、ブチレン基、ペンチレン基等を挙げることができる。この環構造は、酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合を含んでいてもよい。 Examples of the group formed by combining any two or more of R 1c to R 5c , R 6c and R 7c , and R x and R y include a butylene group and a pentylene group. This ring structure may contain an oxygen atom, a sulfur atom, an ester bond, or an amide bond.
好ましくはR1c〜R5cのうちいずれかが直鎖状若しくは分岐状アルキル基、シクロアルキル基又は直鎖、分岐、環状アルコキシ基であり、更に好ましくはR1cからR5cの炭素数の和が2〜15である。これにより、溶剤溶解性がより向上し、保存時にパーティクルの発生が抑制されるので好ましい。 Preferably any one of R 1c to R 5c is a linear or branched alkyl group, a cycloalkyl group, or a linear, branched or cyclic alkoxy group, and more preferably the sum of the carbon number of R 1c to R 5c is 2-15. This is preferable because solvent solubility is further improved and generation of particles is suppressed during storage.
Rx及びRyとしてのアルキル基、シクロアルキル基は、R1c〜R7cとしてのアルキル基、シクロアルキル基と同様のものを挙げることができる。
Rx及びRyは、2−オキソアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基であることが好ましい。
2−オキソアルキル基は、R1c〜R5cとしてのアルキル基、シクロアルキル基の2位に>C=Oを有する基を挙げることができる。
アルコキシカルボニルメチル基におけるアルコキシ基については、R1c〜R5cとしてのアルコキシ基と同様のものを挙げることができる。
Examples of the alkyl group and cycloalkyl group as R x and R y include the same alkyl groups and cycloalkyl groups as R 1c to R 7c .
R x and R y are preferably a 2-oxoalkyl group or an alkoxycarbonylmethyl group.
Examples of the 2-oxoalkyl group include a group having> C═O at the 2-position of the alkyl group or cycloalkyl group as R 1c to R 5c .
Examples of the alkoxy group in the alkoxycarbonylmethyl group include the same alkoxy groups as R 1c to R 5c .
Rx、Ryは、好ましくは炭素数4個以上のアルキル基、シクロアルキル基であり、より好ましくは6個以上、更に好ましくは8個以上のアルキル基、シクロアルキル基である。 R x and R y are preferably an alkyl group or cycloalkyl group having 4 or more carbon atoms, more preferably 6 or more, and still more preferably 8 or more alkyl groups or cycloalkyl groups.
式(b2)、(b3)中、R204〜R207は、各々独立に、アリール基、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。X-は、非求核性アニオンを表し、式(b1)に於けるX-の非求核性アニオンと同様のものを挙げることができる。 Formula (b2), in (b3), R 204 ~R 207 each independently represents an aryl group, an alkyl group or a cycloalkyl group. X − represents a non-nucleophilic anion, and examples thereof include the same non-nucleophilic anion as X − in formula (b1).
R204〜R207のアリール基としてはフェニル基、ナフチル基が好ましく、更に好ましくはフェニル基である。
R204〜R207としてのアルキル基は、直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、好ましくは、炭素数1〜10の直鎖又は分岐アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基)を挙げることができる。R204〜R207としてのシクロアルキル基は、好ましくは、炭素数3〜10のシクロアルキル基(シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボニル基)を挙げることができる。
R204〜R207が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基(例えば炭素数1〜15)、シクロアルキル基(例えば炭素数3〜15)、アリール基(例えば炭素数6〜15)、アルコキシ基(例えば炭素数1〜15)、ハロゲン原子、水酸基、フェニルチオ基等を挙げることができる。
Phenyl group and a naphthyl group are preferred as the aryl group of R 204 to R 207, more preferably a phenyl group.
The alkyl group as R 204 to R 207 may be linear, it may be either branched, preferably a straight-chain or branched alkyl group (e.g., methyl group having 1 to 10 carbon atoms, an ethyl group, a propyl Group, butyl group, pentyl group). The cycloalkyl group as R 204 to R 207 is preferably, and a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms (e.g., cyclopentyl, cyclohexyl, norbornyl).
The R 204 to R 207 are substituents which may have, for example, an alkyl group (for example, 1 to 15 carbon atoms), a cycloalkyl group (for example, 3 to 15 carbon atoms), an aryl group (e.g., 6 carbon atoms 15), alkoxy groups (for example, having 1 to 15 carbon atoms), halogen atoms, hydroxyl groups, phenylthio groups and the like.
使用してもよい活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物として、更に、下記式(b4)、(b5)、(b6)で表される化合物を挙げることができる。 Examples of the compound that generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation that may be used further include compounds represented by the following formulas (b4), (b5), and (b6).
式(b4)〜(b6)中、Ar3及びAr4は、各々独立に、アリール基を表す。
R206、R207及びR208は、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール
基を表す。
Aは、アルキレン基、アルケニレン基又はアリーレン基を表す。
In formulas (b4) to (b6), Ar 3 and Ar 4 each independently represents an aryl group.
R 206 , R 207 and R 208 each independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group.
A represents an alkylene group, an alkenylene group or an arylene group.
光酸発生剤のなかでも好ましいものとしては、式(b1)〜(b3)で表される化合物を挙げることができる。これらの光酸発生剤の中でも、スルホニウム塩構造を有するものが好ましく、トリアリールスルホニウム塩構造を有するものがより好ましく、トリ(クロロフェニル)スルホニウム塩構造を有するものが特に好ましい。トリ(クロロフェニル)スルホニウム塩構造を有する光酸発生剤としては、例えば、光酸発生剤の好ましい化合物例として以下に列挙される、化合物例(b−37)〜(b−40)が挙げられる。
本発明に用いることのできる(b)光酸発生剤の好ましい化合物例〔(b−1)〜(b−96)〕を以下に挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Preferable examples of the photoacid generator include compounds represented by formulas (b1) to (b3). Among these photoacid generators, those having a sulfonium salt structure are preferred, those having a triarylsulfonium salt structure are more preferred, and those having a tri (chlorophenyl) sulfonium salt structure are particularly preferred. Examples of the photoacid generator having a tri (chlorophenyl) sulfonium salt structure include compound examples (b-37) to (b-40) listed below as preferred compound examples of the photoacid generator.
Preferred compound examples ((b-1) to (b-96)) of (b) photoacid generator that can be used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.
また、特開2002−122994号公報、段落番号〔0029〕乃至〔0030〕に記載のオキサゾール誘導体、s−トリアジン誘導体なども好適に用いられる。
特開2002−122994号公報、段落番号〔0037〕乃至〔0063〕に例示されるオニウム塩化合物、スルホネート系化合物も本発明に好適に使用しうる。
Further, oxazole derivatives and s-triazine derivatives described in JP-A No. 2002-122994, paragraph numbers [0029] to [0030] are also preferably used.
The onium salt compounds and sulfonate compounds exemplified in JP-A-2002-122994, paragraphs [0037] to [0063] can also be suitably used in the present invention.
(b)光酸発生剤は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
インク組成物中の(b)光酸発生剤の含有量は、インク組成物の全固形分換算で、0.1〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜10質量%、更に好ましくは1〜7質量%である。
(B) A photo-acid generator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
The content of the (b) photoacid generator in the ink composition is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass, and still more preferably in terms of the total solid content of the ink composition. Is 1-7 mass%.
(着色剤)
本発明においては、着色剤を含有してもよい。
本発明に用いることのできる着色剤としては、特に制限はないが、耐候性に優れ、色再現性に富んだ顔料及び油溶性染料が好ましく、溶解性染料等の任意の公知の着色剤から選択して使用することができる。本発明のインクジェット記録用インク組成物に好適に使用し得る着色剤は、硬化反応である重合反応において重合禁止剤として機能しないことが好ましい。これは、活性放射線による硬化反応の感度を低下させないためである。
(Coloring agent)
In the present invention, a colorant may be contained.
The colorant that can be used in the present invention is not particularly limited, but pigments and oil-soluble dyes that are excellent in weather resistance and excellent in color reproducibility are preferable, and are selected from any known colorant such as a soluble dye. Can be used. Colorant that can be suitably used in the Lee inkjet recording ink composition of the present invention preferably does not function as a polymerization inhibitor in the polymerization reaction for curing. This is because the sensitivity of the curing reaction by actinic radiation is not reduced.
<顔料>
顔料としては、特に限定されるものではなく、一般に市販されているすべての有機顔料及び無機顔料、又は顔料を、分散媒として不溶性の樹脂等に分散させたもの、或いは顔料表面に樹脂をグラフト化したもの等を用いることができる。また、樹脂粒子を染料で染色したもの等も用いることができる。
これらの顔料としては、例えば、伊藤征司郎編「顔料の辞典」(2000年刊)、W.Herbst,K.Hunger「Industrial Organic Pigments」、特開2002−12607号公報、特開2002−188025号公報、特開2003−26978号公報、特開2003−342503号公報に記載の顔料が挙げられる。
<Pigment>
The pigment is not particularly limited, and all commercially available organic and inorganic pigments or pigments dispersed in an insoluble resin or the like as a dispersion medium, or the resin is grafted onto the pigment surface Can be used. Moreover, what dye | stained the resin particle with dye can be used.
Examples of these pigments include, for example, “Pigment Dictionary” (2000), edited by Seijiro Ito. Herbst, K.M. Hunger “Industrial Organic Pigments”, JP 2002-12607 A, JP 2002-188025 A, JP 2003-26978 A, and JP 2003-342503 A3.
本発明において使用できる有機顔料及び無機顔料の具体例としては、例えば、イエロー色を呈するものとして、C.I.ピグメントイエロー1(ファストイエローG等),C.I.ピグメントイエロー74の如きモノアゾ顔料、C.I.ピグメントイエロー12(ジスアジイエローAAA等)、C.I.ピグメントイエロー17の如きジスアゾ顔料、C.I.ピグメントイエロー180の如き非ベンジジン系のアゾ顔料、C.I.ピグメントイエロー100(タートラジンイエローレーキ等)の如きアゾレーキ顔料、C.I.ピグメントイエロー95(縮合アゾイエローGR等)の如き縮合アゾ顔料、C.I.ピグメントイエロー115(キノリンイエローレーキ等)の如き酸性染料レーキ顔料、C.I.ピグメントイエロー18(チオフラビンレーキ等)の如き塩基性染料レーキ顔料、フラバントロンイエロー(Y−24)の如きアントラキノン系顔料、イソインドリノンイエロー3RLT(Y−110)の如きイソインドリノン顔料、キノフタロンイエロー(Y−138)の如きキノフタロン顔料、イソインドリンイエロー(Y−139)の如きイソインドリン顔料、C.I.ピグメントイエロー153(ニッケルニトロソイエロー等)の如きニトロソ顔料、C.I.ピグメントイエロー117(銅アゾメチンイエロー等)の如き金属錯塩アゾメチン顔料等が挙げられる。 Specific examples of organic pigments and inorganic pigments that can be used in the present invention include C.I. I. Pigment Yellow 1 (Fast Yellow G etc.), C.I. I. A monoazo pigment such as C.I. Pigment Yellow 74; I. Pigment Yellow 12 (disaji yellow AAA, etc.), C.I. I. Disazo pigments such as C.I. Pigment Yellow 17; I. Non-benzidine type azo pigments such as CI Pigment Yellow 180; I. Azo lake pigments such as C.I. Pigment Yellow 100 (eg Tartrazine Yellow Lake); I. Condensed azo pigments such as CI Pigment Yellow 95 (Condensed Azo Yellow GR, etc.); I. Acidic dye lake pigments such as C.I. Pigment Yellow 115 (such as quinoline yellow lake); I. Basic dye lake pigments such as CI Pigment Yellow 18 (Thioflavin Lake, etc.), anthraquinone pigments such as Flavantron Yellow (Y-24), isoindolinone pigments such as Isoindolinone Yellow 3RLT (Y-110), and quinophthalone yellow Quinophthalone pigments such as (Y-138), isoindoline pigments such as isoindoline yellow (Y-139), C.I. I. Nitroso pigments such as C.I. Pigment Yellow 153 (nickel nitroso yellow, etc.); I. And metal complex salt azomethine pigments such as CI Pigment Yellow 117 (copper azomethine yellow, etc.).
赤或いはマゼンタ色を呈するものとして、C.I.ピグメントレッド3(トルイジンレッド等)の如きモノアゾ系顔料、C.I.ピグメントレッド38(ピラゾロンレッドB等)の如きジスアゾ顔料、C.I.ピグメントレッド53:1(レーキレッドC等)やC.I.ピグメントレッド57:1(ブリリアントカーミン6B)の如きアゾレーキ顔料、C.I.ピグメントレッド144(縮合アゾレッドBR等)の如き縮合アゾ顔料、C.I.ピグメントレッド174(フロキシンBレーキ等)の如き酸性染料レーキ顔料、C.I.ピグメントレッド81(ローダミン6G’レーキ等)の如き塩基性染料レーキ顔料、C.I.ピグメントレッド177(ジアントラキノニルレッド等)の如きアントラキノン系顔料、C.I.ピグメントレッド88(チオインジゴボルドー等)の如きチオインジゴ顔料、C.I.ピグメントレッド194(ペリノンレッド等)の如きペリノン顔料、C.I.ピグメントレッド149(ペリレンスカーレット等)の如きペリレン顔料、C.I.ピグメントバイオレット19(無置換キナクリドン)、C.I.ピグメントレッド122(キナクリドンマゼンタ等)の如きキナクリドン顔料、C.I.ピグメントレッド180(イソインドリノンレッド2BLT等)の如きイソインドリノン顔料、C.I.ピグメントレッド83(マダーレーキ等)の如きアリザリンレーキ顔料等が挙げられる。 C. As a thing which exhibits red or magenta color, C.I. I. Monoazo pigments such as CI Pigment Red 3 (Toluidine Red, etc.); I. Disazo pigments such as C.I. Pigment Red 38 (Pyrazolone Red B, etc.); I. Pigment Red 53: 1 (Lake Red C, etc.) and C.I. I. Azo lake pigments such as C.I. Pigment Red 57: 1 (Brilliant Carmine 6B); I. Condensed azo pigments such as C.I. Pigment Red 144 (condensed azo red BR, etc.); I. Acidic dye lake pigments such as C.I. Pigment Red 174 (Phloxine B Lake, etc.); I. Basic dye lake pigments such as C.I. Pigment Red 81 (Rhodamine 6G 'lake, etc.); I. Anthraquinone pigments such as C.I. Pigment Red 177 (eg, dianthraquinonyl red); I. Thioindigo pigments such as C.I. Pigment Red 88 (Thioindigo Bordeaux, etc.); I. Perinone pigments such as C.I. Pigment Red 194 (perinone red, etc.); I. Perylene pigments such as C.I. Pigment Red 149 (perylene scarlet, etc.); I. Pigment violet 19 (unsubstituted quinacridone), C.I. I. Quinacridone pigments such as CI Pigment Red 122 (quinacridone magenta, etc.); I. Isoindolinone pigments such as CI Pigment Red 180 (isoindolinone red 2BLT, etc.); I. And alizarin lake pigments such as CI Pigment Red 83 (Mada Lake, etc.).
青或いはシアン色を呈する顔料として、C.I.ピグメントブルー25(ジアニシジンブルー等)の如きジスアゾ系顔料、C.I.ピグメントブルー15(フタロシアニンブルー等)の如きフタロシアニン顔料、C.I.ピグメントブルー24(ピーコックブルーレーキ等)の如き酸性染料レーキ顔料、C.I.ピグメントブルー1(ビクロチアピュアブルーBOレーキ等)の如き塩基性染料レーキ顔料、C.I.ピグメントブルー60(インダントロンブルー等)の如きアントラキノン系顔料、C.I.ピグメントブルー18(アルカリブルーV−5:1)の如きアルカリブルー顔料等が挙げられる。 As a pigment exhibiting blue or cyan, C.I. I. Disazo pigments such as C.I. Pigment Blue 25 (Dianisidine Blue, etc.); I. Phthalocyanine pigments such as C.I. Pigment Blue 15 (phthalocyanine blue, etc.); I. Acidic dye lake pigments such as C.I. Pigment Blue 24 (Peacock Blue Lake, etc.); I. Basic dye lake pigments such as C.I. Pigment Blue 1 (Viclotia Pure Blue BO Lake, etc.); I. Anthraquinone pigments such as C.I. Pigment Blue 60 (Indantron Blue, etc.); I. And alkali blue pigments such as CI Pigment Blue 18 (Alkali Blue V-5: 1).
緑色を呈する顔料として、C.I.ピグメントグリーン7(フタロシアニングリーン)、C.I.ピグメントグリーン36(フタロシアニングリーン)の如きフタロシアニン顔料、C.I.ピグメントグリーン8(ニトロソグリーン)等の如きアゾ金属錯体顔料等が挙げられる。
オレンジ色を呈する顔料として、C.I.ピグメントオレンジ66(イソインドリンオレンジ)の如きイソインドリン系顔料、C.I.ピグメントオレンジ51(ジクロロピラントロンオレンジ)の如きアントラキノン系顔料が挙げられる。
As a pigment exhibiting green, C.I. I. Pigment green 7 (phthalocyanine green), C.I. I. Phthalocyanine pigments such as C.I. Pigment Green 36 (phthalocyanine green); I. And azo metal complex pigments such as CI Pigment Green 8 (Nitroso Green).
As a pigment exhibiting an orange color, C.I. I. An isoindoline pigment such as C.I. Pigment Orange 66 (isoindoline orange); I. And anthraquinone pigments such as CI Pigment Orange 51 (dichloropyrantron orange).
黒色を呈する顔料として、カーボンブラック、チタンブラック、アニリンブラック等が挙げられる。
白色顔料の具体例としては、塩基性炭酸鉛(2PbCO3Pb(OH)2、いわゆる、シルバーホワイト)、酸化亜鉛(ZnO、いわゆる、ジンクホワイト)、酸化チタン(TiO2、いわゆる、チタンホワイト)、チタン酸ストロンチウム(SrTiO3、いわゆる、チタンストロンチウムホワイト)などが利用可能である。
Examples of the black pigment include carbon black, titanium black, and aniline black.
Specific examples of the white pigment include basic lead carbonate (2PbCO 3 Pb (OH) 2 , so-called silver white), zinc oxide (ZnO, so-called zinc white), titanium oxide (TiO 2 , so-called titanium white), Strontium titanate (SrTiO 3 , so-called titanium strontium white) or the like can be used.
ここで、酸化チタンは他の白色顔料と比べて比重が小さく、屈折率が大きく化学的、物理的にも安定であるため、顔料としての隠蔽力や着色力が大きく、更に、酸やアルカリ、その他の環境に対する耐久性にも優れている。したがって、白色顔料としては酸化チタンを利用することが好ましい。もちろん、必要に応じて他の白色顔料(列挙した白色顔料以外であってもよい。)を使用してもよい。 Here, titanium oxide has a smaller specific gravity than other white pigments, a large refractive index, and is chemically and physically stable, and thus has a high hiding power and coloring power as a pigment. Excellent durability against other environments. Therefore, it is preferable to use titanium oxide as the white pigment. Of course, other white pigments (may be other than the listed white pigments) may be used as necessary.
顔料の分散には、例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、ジェットミル、ホモジナイザー、ペイントシェーカー、ニーダー、アジテータ、ヘンシェルミキサ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、湿式ジェットミル等の分散装置を用いることができる。
顔料の分散を行う際に分散剤を添加することも可能である。分散剤としては、水酸基含有カルボン酸エステル、長鎖ポリアミノアマイドと高分子量酸エステルの塩、高分子量ポリカルボン酸の塩、高分子量不飽和酸エステル、高分子共重合物、変性ポリアクリレート、脂肪族多価カルボン酸、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンアルキル燐酸エステル、顔料誘導体等を挙げることができる。また、Zeneca社のSolsperseシリーズなどの市販の高分子分散剤を用いることも好ましい。
また、分散助剤として、各種顔料に応じたシナージストを用いることも可能である。これらの分散剤及び分散助剤は、顔料100質量部に対し、1〜50質量部添加することが好ましい。
For dispersing the pigment, for example, a dispersion device such as a ball mill, a sand mill, an attritor, a roll mill, a jet mill, a homogenizer, a paint shaker, a kneader, an agitator, a Henschel mixer, a colloid mill, an ultrasonic homogenizer, a pearl mill, or a wet jet mill is used. be able to.
It is also possible to add a dispersant when dispersing the pigment. Examples of the dispersant include a hydroxyl group-containing carboxylic acid ester, a salt of a long-chain polyaminoamide and a high molecular weight acid ester, a salt of a high molecular weight polycarboxylic acid, a high molecular weight unsaturated acid ester, a high molecular weight copolymer, a modified polyacrylate, an aliphatic Examples thereof include polyvalent carboxylic acids, naphthalene sulfonic acid formalin condensates, polyoxyethylene alkyl phosphate esters, and pigment derivatives. It is also preferable to use a commercially available polymer dispersant such as the Solsperse series from Zeneca.
Moreover, it is also possible to use a synergist according to various pigments as a dispersion aid. These dispersants and dispersion aids are preferably added in an amount of 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment.
インク組成物において、顔料などの諸成分の分散媒としては、溶剤を添加してもよく、また、無溶媒で、低分子量成分であるカチオン重合性化合物を分散媒として用いてもよいが、本発明が適用されるインク組成物は、放射線硬化型のインクであり、インクを被記録媒体上に適用後、硬化させるため、無溶剤であることが好ましい。これは、硬化されたインク画像中に、溶剤が残留すると、耐溶剤性が劣化したり、残留する溶剤のVOC(Volatile Organic Compound)の問題が生じるためである。このような観点から、分散媒としては、カチオン重合性化合物を用い、中でも、最も粘度が低いカチオン重合性モノマーを選択することが分散適性やインク組成物のハンドリング性向上の観点から好ましい。 In the ink composition, as a dispersion medium for various components such as pigments, a solvent may be added, or a cationic polymerizable compound which is a low molecular weight component without a solvent may be used as a dispersion medium. The ink composition to which the invention is applied is a radiation curable ink, and is preferably solvent-free in order to cure the ink after it is applied to a recording medium. This is because if the solvent remains in the cured ink image, the solvent resistance is deteriorated or a VOC (Volatile Organic Compound) problem of the remaining solvent occurs. From such a viewpoint, it is preferable to use a cationically polymerizable compound as the dispersion medium, and in particular, to select a cationically polymerizable monomer having the lowest viscosity from the viewpoint of improving dispersibility and handling properties of the ink composition.
顔料の平均粒径は、0.02〜0.4μmにするのが好ましく、0.02〜0.1μmとするのが更に好ましく、より好ましくは、0.02〜0.07μmの範囲である。
顔料粒子の平均粒径を上記好ましい範囲となるよう、顔料、分散剤、分散媒体の選定、分散条件、ろ過条件を設定する。この粒径管理によって、ヘッドノズルの詰まりを抑制し、インクの保存安定性、インク透明性及び硬化感度を維持することができる。
The average particle diameter of the pigment is preferably 0.02 to 0.4 μm, more preferably 0.02 to 0.1 μm, and more preferably 0.02 to 0.07 μm.
The selection of pigment, dispersant, dispersion medium, dispersion conditions, and filtration conditions are set so that the average particle diameter of the pigment particles is within the above-mentioned preferable range. By controlling the particle size, clogging of the head nozzle can be suppressed, and ink storage stability, ink transparency, and curing sensitivity can be maintained.
<染料>
本発明に用いることのできる染料は、油溶性のものが好ましい。具体的には、25℃での水への溶解度(水100gに溶解する色素の質量)が1g以下であるものを意味し、好ましくは0.5g以下、より好ましくは0.1g以下である。従って、所謂、水に不溶性の油溶性染料が好ましく用いられる。
<Dye>
The dye that can be used in the present invention is preferably oil-soluble. Specifically, it means that the solubility in water at 25 ° C. (the mass of the dye dissolved in 100 g of water) is 1 g or less, preferably 0.5 g or less, more preferably 0.1 g or less. Therefore, a so-called water-insoluble oil-soluble dye is preferably used.
本発明に用いることのできる染料は、インク組成物に必要量溶解させるために上記記載の染料母核に対して油溶化基を導入することも好ましい。
油溶化基としては、長鎖、分岐アルキル基、長鎖、分岐アルコキシ基、長鎖、分岐アルキルチオ基、長鎖、分岐アルキルスルホニル基、長鎖、分岐アシルオキシ基、長鎖、分岐アルコキシカルボニル基、長鎖、分岐アシル基、長鎖、分岐アシルアミノ基長鎖、分岐アルキルスルホニルアミノ基、長鎖、分岐アルキルアミノスルホニル基及びこれら長鎖、分岐置換基を含むアリール基、アリールオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アリールカルボニルオキシ基、アリールアミノカルボニル基、アリールアミノスルホニル基、アリールスルホニルアミノ基等が挙げられる。
また、カルボン酸、スルホン酸を有する水溶性染料に対して、長鎖、分岐アルコール、アミン、フェノール、アニリン誘導体を用いて油溶化基であるアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルアミノスルホニル基、アリールアミノスルホニル基に変換することにより染料を得てもよい。
The dye that can be used in the present invention preferably has an oil-solubilizing group introduced into the dye mother nucleus described above in order to dissolve the necessary amount in the ink composition.
As the oil-solubilizing group, long chain, branched alkyl group, long chain, branched alkoxy group, long chain, branched alkylthio group, long chain, branched alkylsulfonyl group, long chain, branched acyloxy group, long chain, branched alkoxycarbonyl group, Long chain, branched acyl group, long chain, branched acylamino group long chain, branched alkylsulfonylamino group, long chain, branched alkylaminosulfonyl group and these long chains, aryl groups containing branched substituents, aryloxy groups, aryloxycarbonyl Group, arylcarbonyloxy group, arylaminocarbonyl group, arylaminosulfonyl group, arylsulfonylamino group and the like.
In addition, for water-soluble dyes having carboxylic acid and sulfonic acid, long chain, branched alcohol, amine, phenol, aniline derivatives are used as oil-solubilizing alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, alkylaminosulfonyl groups, A dye may be obtained by conversion to an arylaminosulfonyl group.
前記油溶性染料としては、融点が200℃以下のものが好ましく、融点が150℃以下であるものがより好ましく、融点が100℃以下であるものが更に好ましい。融点が低い油溶性染料を用いることにより、インク組成物中での色素の結晶析出が抑制され、インク組成物の保存安定性が良くなる。
また、退色、特にオゾンなどの酸化性物質に対する耐性や硬化特性を向上させるために、酸化電位が貴である(高い)ことが望ましい。このため、本発明で用いる油溶性染料として、酸化電位が1.0V(vs SCE)以上であるものが好ましく用いられる。酸化電位は高いほうが好ましく、酸化電位が1.1V(vsSCE)以上のものがより好ましく、1.15V(vs SCE)以上のものが特に好ましい。
The oil-soluble dye preferably has a melting point of 200 ° C. or lower, more preferably has a melting point of 150 ° C. or lower, and still more preferably has a melting point of 100 ° C. or lower. By using an oil-soluble dye having a low melting point, the precipitation of dye crystals in the ink composition is suppressed, and the storage stability of the ink composition is improved.
Further, it is desirable that the oxidation potential is noble (high) in order to improve fading, particularly resistance to oxidizing substances such as ozone and curing characteristics. For this reason, as the oil-soluble dye used in the present invention, those having an oxidation potential of 1.0 V (vs SCE) or more are preferably used. The oxidation potential is preferably higher, the oxidation potential is more preferably 1.1 V (vs SCE) or more, and particularly preferably 1.15 V (vs SCE) or more.
イエロー色の染料としては、特開2004−250483号公報の記載の一般式(Y−I)で表される構造の化合物が好ましい。
特に好ましい染料は、特開2004−250483号公報の段落番号[0034]に記載されている一般式(Y−II)〜(Y−IV)で表される染料であり、具体例として特開2004−250483号公報の段落番号[0060]から[0071]に記載の化合物が挙げられる。尚、該公報記載の一般式(Y−I)の油溶性染料はイエローのみでなく、ブラックインク、レッドインクなどのいかなる色のインクに用いてもよい。
As the yellow dye, a compound having a structure represented by the general formula (Y-I) described in JP-A No. 2004-250483 is preferable.
Particularly preferred dyes are dyes represented by general formulas (Y-II) to (Y-IV) described in paragraph [0034] of JP-A No. 2004-250483. And the compounds described in paragraph numbers [0060] to [0071] of JP-A-250483. The oil-soluble dye of the general formula (Y-I) described in the publication may be used not only for yellow but also for inks of any color such as black ink and red ink.
マゼンタ色の染料としては、特開2002−114930号公報に記載の一般式(3)、(4)で表される構造の化合物が好ましく、具体例としては、特開2002−114930号公報の段落[0054]〜[0073]に記載の化合物が挙げられる。
特に好ましい染料は、特開2002−121414号公報の段落番号[0084]から[0122]に記載されている一般式(M−1)〜(M−2)で表されるアゾ染料であり、具体例として特開2002−121414号公報の段落番号[0123]から[0132]に記載の化合物が挙げられる。尚、該公報記載の一般式(3)、(4)、(M−1)〜(M−2)の油溶性染料はマゼンタのみでなく、ブラックインク、レッドインクなどのいかなる色のインクに用いてもよい。
The magenta dye is preferably a compound having a structure represented by the general formulas (3) and (4) described in JP-A No. 2002-114930. Specific examples include paragraphs of JP-A No. 2002-114930. Examples include the compounds described in [0054] to [0073].
Particularly preferred dyes are azo dyes represented by the general formulas (M-1) to (M-2) described in paragraph numbers [0084] to [0122] of JP-A No. 2002-121414, and specific examples Examples thereof include compounds described in paragraph numbers [0123] to [0132] of JP-A No. 2002-121414. The oil-soluble dyes represented by the general formulas (3), (4) and (M-1) to (M-2) described in the publication are used not only for magenta but also for any color ink such as black ink and red ink. May be.
シアン色の染料としては、特開2001−181547号公報に記載の式(I)〜(IV)で表される染料、特開2002−121414号公報の段落番号[0063]から[0078]に記載されている一般式(IV−1)〜(IV−4)で表される染料が好ましいものとして挙げられ、具体例として特開2001−181547号公報の段落番号[0052]から[0066]、特開2002−121414号公報の段落番号[0079]から[0081]に記載の化合物が挙げられる。
特に好ましい染料は、特開2002−121414号公報の段落番号[0133]から[0196]に記載されている一般式(C−I)、(C−II)で表されるフタロシアニン染料であり、更に一般式(C−II)で表されるフタロシアニン染料が好ましい。この具体例としては、特開2002−121414号公報の段落番号[0198]から[0201]に記載の化合物が挙げられる。尚、前記式(I)〜(IV)、(IV−1)〜(IV−4)、(C−I)、(C−II)の油溶性染料はシアンのみでなく、ブラックインクやグリーンインクなどのいかなる色のインクに用いてもよい。
Examples of the cyan dye include dyes represented by formulas (I) to (IV) described in JP-A No. 2001-181547, and paragraphs [0063] to [0078] of JP-A No. 2002-121414. The dyes represented by the general formulas (IV-1) to (IV-4) described above are preferred, and specific examples include paragraph numbers [0052] to [0066] of JP-A No. 2001-181547. Examples thereof include the compounds described in paragraph Nos. [0079] to [0081] of Kai 2002-121414.
Particularly preferred dyes are phthalocyanine dyes represented by general formulas (CI) and (C-II) described in paragraphs [0133] to [0196] of JP-A No. 2002-121414, A phthalocyanine dye represented by formula (C-II) is preferred. Specific examples thereof include the compounds described in JP-A No. 2002-121414, paragraph numbers [0198] to [0201]. The oil-soluble dyes of the formulas (I) to (IV), (IV-1) to (IV-4), (CI) and (C-II) are not only cyan but also black ink or green ink. The ink may be used for any color ink.
−酸化電位−
本発明における染料の酸化電位の値(Eox)は、当業者が容易に測定することができる。この方法に関しては、例えばP.Delahay著“New Instrumental Methods in Electrochemistry”(1954年,Interscience Publishers社刊)や、A.J.Bard他著“Electrochemical Methods”(1980年、John Wiley &
Sons社刊)、藤嶋昭他著“電気化学測定法”(1984年 技報堂出版社刊)に記載されている。
具体的に酸化電位は、過塩素酸ナトリウムや過塩素酸テトラプロピルアンモニウムといった支持電解質を含むジメチルホルムアミドやアセトニトリルのような溶媒中に、被験試料を1×10-2〜1×10-6モル/リットル溶解して、サイクリックボルタンメトリーや直流ポーラログラフィー装置により、作用極として炭素(GC)を、対極として回転白金電極を用いて酸化側(貴側)に掃引したときの酸化波を直線で近似して、この直線と残余電流・電位直線との交点と、直線と飽和電流直線との交点(又はピーク電位値を通る縦軸に平行な直線との交点)とで作られる線分の中間電位値をSCE(飽和カロメル電極)に対する値として測定する。この値は、液間電位差や試料溶液の液抵抗などの影響で、数10ミルボルト程度偏位することがあるが、標準試料(例えばハイドロキノン)を入れて電位の再現性を保証することができる。また、用いる支持電解質や溶媒は、被験試料の酸化電位や溶解性により適当なものを選ぶことができる。用いることができる支持電解質や溶媒については藤嶋昭他著“電気化学測定法”(1984年 技報堂出版社刊)101〜118ページに記載がある。
-Oxidation potential-
The oxidation potential value (Eox) of the dye in the present invention can be easily measured by those skilled in the art. Regarding this method, see, for example, P.I. Delahay, “New Instrumental Methods in Electrochemistry” (1954, published by Interscience Publishers); J. et al. Bard et al., “Electrochemical Methods” (1980, John Wiley &
(Published by Sons), Akira Fujishima et al., "Electrochemical measurement method" (1984, published by Gihodo Publishing Co., Ltd.).
Specifically, the oxidation potential is 1 × 10 −2 to 1 × 10 −6 mol / min in a solvent such as dimethylformamide or acetonitrile containing a supporting electrolyte such as sodium perchlorate or tetrapropylammonium perchlorate. Approximate the oxidization wave in a straight line by dissolving 1 liter and sweeping to the oxidation side (noble side) using carbon (GC) as the working electrode and rotating platinum electrode as the counter electrode by cyclic voltammetry and DC polarography equipment Then, the intermediate potential of the line segment formed by the intersection of this straight line and the residual current / potential line and the intersection of the straight line and the saturation current line (or the intersection of the straight line parallel to the vertical axis passing through the peak potential value) Values are measured as values for SCE (saturated calomel electrode). Although this value may be deviated by several tens of mil volts due to the influence of the liquid potential difference or the liquid resistance of the sample solution, the reproducibility of the potential can be ensured by inserting a standard sample (for example, hydroquinone). The supporting electrolyte and solvent to be used can be selected appropriately depending on the oxidation potential and solubility of the test sample. The supporting electrolytes and solvents that can be used are described in Akira Fujishima et al., “Electrochemical measurement method” (published by Gihodo Publishing Co., Ltd., 1984), pages 101 to 118.
以下に、本発明で使用しうる染料の具体例を示すが、本発明に用いられる染料は、下記の具体例に限定されるものでない。 Specific examples of the dye that can be used in the present invention are shown below, but the dye used in the present invention is not limited to the following specific examples.
これらの着色剤は組成物中、固形分換算で1〜20質量%添加されることが好ましく、2〜10質量%がより好ましい。 These colorants are preferably added in an amount of 1 to 20% by mass in terms of solid content in the composition, and more preferably 2 to 10% by mass.
(その他の成分)
以下に、必要に応じて本発明に用いることのできる種々の添加剤について述べる。
(Other ingredients)
The various additives that can be used in the present invention as necessary are described below.
〔紫外線吸収剤〕
本発明においては、得られる画像の耐候性向上、退色防止の観点から、紫外線吸収剤を用いることができる。
紫外線吸収剤としては、例えば、特開昭58−185677号公報、同61−190537号公報、特開平2−782号公報、同5−197075号公報、同9−34057号公報等に記載されたベンゾトリアゾール系化合物、特開昭46−2784号公報、特開平5−194483号公報、米国特許第3214463号等に記載されたベンゾフェノン系化合物、特公昭48−30492号公報、同56−21141号公報、特開平10−88106号公報等に記載された桂皮酸系化合物、特開平4−298503号公報、同8−53427号公報、同8−239368号公報、同10−182621号公報、特表平8−501291号公報等に記載されたトリアジン系化合物、リサーチディスクロージャーNo.24239号に記載された化合物やスチルベン系、ベンズオキサゾール系化合物に代表される紫外線を吸収して蛍光を発する化合物、いわゆる蛍光増白剤、などが挙げられる。
添加量は目的に応じて適宜選択されるが、一般的には、固形分換算で0.5〜15質量%であることが好ましい。
[Ultraviolet absorber]
In the present invention, an ultraviolet absorber can be used from the viewpoint of improving the weather resistance of the obtained image and preventing discoloration.
Examples of the ultraviolet absorber are described in JP-A-58-185679, JP-A-61-190537, JP-A-2-782, JP-A-5-97075, JP-A-9-34057, and the like. Benzotriazole compounds, benzophenone compounds described in JP-A No. 46-2784, JP-A No. 5-194843, US Pat. No. 3,214,463, etc., JP-B Nos. 48-30492 and 56-21141 Cinnamic acid compounds described in JP-A-10-88106, JP-A-4-298503, JP-A-8-53427, JP-A-8-239368, JP-A-10-182621, JP The triazine compounds described in JP-A-8-501291, Research Disclosure No. Examples thereof include compounds described in No. 24239, compounds that emit ultraviolet light by absorbing ultraviolet rays typified by stilbene and benzoxazole compounds, so-called fluorescent brighteners, and the like.
The addition amount is appropriately selected according to the purpose, but generally it is preferably 0.5 to 15% by mass in terms of solid content.
〔増感剤〕
本発明には、光酸発生剤の酸発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、必要に応じ、増感剤を添加してもよい。増感剤としては、光酸発生剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものであれば、何れでもよい。好ましくは、アントラセン、9,10−ジアルコキシアントラセン、ピレン、ペリレンなどの芳香族多縮環化合物、アセトフェノン、ベンゾフェノン、チオキサントン、ミヒラーケトンなどの芳香族ケトン化合物、フェノチアジン、N−アリールオキサゾリジノンなどのヘテロ環化合物が挙げられる。添加量は目的に応じて適宜選択されるが、(b)光酸発生剤に対し0.01〜1モル%で用いることが好ましく、0.1〜0.5モル%がより好ましい。
[Sensitizer]
In the present invention, a sensitizer may be added, if necessary, for the purpose of improving the acid generation efficiency of the photoacid generator and increasing the photosensitive wavelength. Any sensitizer may be used as long as the photoacid generator is sensitized by an electron transfer mechanism or an energy transfer mechanism. Preferably, aromatic polycondensed compounds such as anthracene, 9,10-dialkoxyanthracene, pyrene and perylene, aromatic ketone compounds such as acetophenone, benzophenone, thioxanthone and Michlerketone, heterocyclic compounds such as phenothiazine and N-aryloxazolidinone Is mentioned. Although the addition amount is appropriately selected according to the purpose, it is preferably used in an amount of 0.01 to 1 mol%, more preferably 0.1 to 0.5 mol% with respect to (b) the photoacid generator.
〔酸化防止剤〕
組成物の安定性向上のため、酸化防止剤を添加することができる。酸化防止剤としては、ヨーロッパ公開特許、同第223739号公報、同309401号公報、同第309402号公報、同第310551号公報、同第310552号公報、同第459416号公報、ドイツ公開特許第3435443号公報、特開昭54−48535号公報、同62−262047号公報、同63−113536号公報、同63−163351号公報、特開平2−262654号公報、特開平2−71262号公報、特開平3−121449号公報、特開平5−61166号公報、特開平5−119449号公報、米国特許第4814262号明細書、米国特許第4980275号明細書等に記載のものを挙げることができる。
添加量は目的に応じて適宜選択されるが、固形分換算で0.1〜8質量%であることが好ましい。
〔Antioxidant〕
An antioxidant can be added to improve the stability of the composition. Examples of the antioxidant include European published patents, 223739, 309401, 309402, 310551, 310552, 359416, and 3435443. JP, 54-85535, 62-262417, 63-113536, 63-163351, JP-A-2-262654, JP-A-2-71262, Examples thereof include those described in Kaihei 3-121449, JP-A-5-61166, JP-A-5-119449, US Pat. No. 4,814,262, US Pat. No. 4,980,275, and the like.
Although the addition amount is appropriately selected according to the purpose, it is preferably 0.1 to 8% by mass in terms of solid content.
〔褪色防止剤〕
本発明には、各種の有機系及び金属錯体系の褪色防止剤を使用することができる。前記有機系の褪色防止剤としては、ハイドロキノン類、アルコキシフェノール類、ジアルコキシフェノール類、フェノール類、アニリン類、アミン類、インダン類、クロマン類、アルコキシアニリン類、ヘテロ環類、などが挙げられる。前記金属錯体系の褪色防止剤としては、ニッケル錯体、亜鉛錯体、などが挙げられ、具体的には、リサーチディスクロージャーNo.17643の第VIIのI〜J項、同No.15162、同No.18716の650頁左欄、同No.36544の527頁、同No.307105の872頁、同No.15162に引用された特許に記載された化合物や、特開昭62−215272号公報の127頁〜137頁に記載された代表的化合物の一般式及び化合物例に含まれる化合物を使用することができる。
添加量は目的に応じて適宜選択されるが、固形分換算で0.1〜8質量%であることが好ましい。
[Anti-fading agent]
In the present invention, various organic and metal complex anti-fading agents can be used. Examples of the organic anti-fading agent include hydroquinones, alkoxyphenols, dialkoxyphenols, phenols, anilines, amines, indanes, chromans, alkoxyanilines, and heterocycles. Examples of the metal complex anti-fading agent include nickel complexes and zinc complexes. No. 17643, VII, I to J, No. 15162, ibid. No. 18716, page 650, left column, ibid. No. 36544, page 527, ibid. No. 307105, page 872, ibid. The compounds described in the patent cited in No. 15162 and the compounds included in the general formulas and compound examples of representative compounds described in JP-A-62-215272, pages 127 to 137 can be used. .
Although the addition amount is appropriately selected according to the purpose, it is preferably 0.1 to 8% by mass in terms of solid content.
〔導電性塩類〕
本発明には、吐出物性の制御を目的として、チオシアン酸カリウム、硝酸リチウム、チオシアン酸アンモニウム、ジメチルアミン塩酸塩などの導電性塩類を添加することができる。
[Conductive salts]
In the present invention, conductive salts such as potassium thiocyanate, lithium nitrate, ammonium thiocyanate, and dimethylamine hydrochloride can be added for the purpose of controlling ejection properties.
〔溶剤〕
本発明には、被記録媒体との密着性を改良するため、極微量の有機溶剤を添加することも有効である。
溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等のケトン系溶剤、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール、1−ブタノール、tert−ブタノール等のアルコール系溶剤、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶剤、ベンゼン、トルエン等の芳香族系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピルなどのエステル系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル系溶剤、などが挙げられる。
この場合、耐溶剤性やVOCの問題が起こらない範囲での添加が有効であり、その量はインク組成物全体に対し0.1〜5質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜3質量%の範囲である。
〔solvent〕
In the present invention, it is also effective to add a very small amount of an organic solvent in order to improve the adhesion to the recording medium.
Examples of the solvent include ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and diethyl ketone, alcohol solvents such as methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, 1-butanol, and tert-butanol, and chlorine such as chloroform and methylene chloride. Solvents, aromatic solvents such as benzene and toluene, ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate and isopropyl acetate, ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, glycols such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol dimethyl ether And ether solvents.
In this case, it is effective to add the solvent within a range that does not cause the problem of solvent resistance and VOC. % Range.
〔高分子化合物〕
本発明には、膜物性を調整するため、各種高分子化合物を添加することができる。高分子化合物としては、アクリル系重合体、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類、その他の天然樹脂等が使用できる。また、これらは2種以上併用してもかまわない。これらのうち、アクリル系のモノマーの共重合によって得られるビニル系共重合が好ましい。更に、高分子結合材の共重合組成として、「カルボキシル基含有モノマー」、「メタクリル酸アルキルエステル」、又は「アクリル酸アルキルエステル」を構造単位として含む共重合体も好ましく用いられる。
[Polymer compound]
Various polymer compounds can be added to the present invention in order to adjust film properties. High molecular compounds include acrylic polymers, polyvinyl butyral resins, polyurethane resins, polyamide resins, polyester resins, epoxy resins, phenol resins, polycarbonate resins, polyvinyl butyral resins, polyvinyl formal resins, shellacs, vinyl resins, acrylic resins. Rubber resins, waxes and other natural resins can be used. Two or more of these may be used in combination. Of these, vinyl copolymer obtained by copolymerization of acrylic monomers is preferred. Furthermore, a copolymer containing “carboxyl group-containing monomer”, “methacrylic acid alkyl ester”, or “acrylic acid alkyl ester” as a structural unit is also preferably used as the copolymer composition of the polymer binder.
〔界面活性剤〕
本発明には、界面活性剤を添加してもよい。
界面活性剤としては、特開昭62−173463号、同62−183457号の各公報に記載されたものが挙げられる。例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第4級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤が挙げられる。なお、前記界面活性剤の代わりに有機フルオロ化合物を用いてもよい。前記有機フルオロ化合物は、疎水性であることが好ましい。前記有機フルオロ化合物としては、例えば、フッ素系界面活性剤、オイル状フッ素系化合物(例、フッ素油)及び固体状フッ素化合物樹脂(例、四フッ化エチレン樹脂)が含まれ、特公昭57−9053号(第8〜17欄)、特開昭62−135826号の各公報に記載されたものが挙げられる。
[Surfactant]
A surfactant may be added to the present invention.
Examples of the surfactant include those described in JP-A Nos. 62-173463 and 62-183457. For example, anionic surfactants such as dialkylsulfosuccinates, alkylnaphthalenesulfonates, fatty acid salts, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl allyl ethers, acetylene glycols, polyoxyethylene / polyoxypropylene blocks Nonionic surfactants such as copolymers, and cationic surfactants such as alkylamine salts and quaternary ammonium salts. An organic fluoro compound may be used in place of the surfactant. The organic fluoro compound is preferably hydrophobic. Examples of the organic fluoro compounds include fluorine surfactants, oily fluorine compounds (eg, fluorine oil) and solid fluorine compound resins (eg, tetrafluoroethylene resin). No. (columns 8 to 17) and those described in JP-A Nos. 62-135826.
この他にも、必要に応じて、例えば、レベリング添加剤、マット剤、膜物性を調整するためのワックス類、ポリオレフィンやPET等の被記録媒体への密着性を改善するために、重合を阻害しないタッキファイヤーなどを含有させることができる。
タッキファイヤーとしては、具体的には、特開2001−49200号公報の5〜6pに記載されている高分子量の粘着性ポリマー(例えば、(メタ)アクリル酸と炭素数1〜20のアルキル基を有するアルコールとのエステル、(メタ)アクリル酸と炭素数3〜14の脂環属アルコールとのエステル、(メタ)アクリル酸と炭素数6〜14の芳香属アルコールとのエステルからなる共重合物)や、重合性不飽和結合を有する低分子量粘着付与性樹脂などである。
In addition to this, if necessary, for example, leveling additives, matting agents, waxes for adjusting film physical properties, polymerization to inhibit the adhesion to recording media such as polyolefin and PET, and the like, The tackifier which does not do can be contained.
As the tackifier, specifically, a high molecular weight adhesive polymer described in JP-A-2001-49200, 5-6p (for example, (meth) acrylic acid and an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms). An ester with an alcohol having, an ester of (meth) acrylic acid with an alicyclic alcohol having 3 to 14 carbon atoms, a copolymer comprising an ester of (meth) acrylic acid with an aromatic alcohol having 6 to 14 carbon atoms) And a low molecular weight tackifying resin having a polymerizable unsaturated bond.
−インク組成物の好ましい態様−
本発明のインク組成物は、上述のように、特定重合性化合物、放射線の照射により酸を発生する化合物、任意含有される他の重合性化合物、着色剤、等を含有するものである。これらの成分は、インク組成物全体の質量に対して、着色剤が好ましくは1〜10質量%、より好ましくは、2〜8質量%、特定重合性化合物を含む全重合性化合物が、好ましくは1〜97質量%、より好ましくは、30〜95質量%である。放射線の照射により酸を発生する化合物が、特定重合性化合物を含む全重合性化合物に対して、好ましくは0.01〜20質量%、より好ましくは、0.1〜20質量%になるように含有することが適当である。
-Preferred embodiment of ink composition-
As described above, the ink composition of the present invention contains a specific polymerizable compound, a compound that generates an acid upon irradiation with radiation, other polymerizable compounds that are optionally contained, a colorant, and the like. These components are preferably 1 to 10% by mass, more preferably 2 to 8% by mass, and all polymerizable compounds including a specific polymerizable compound, preferably 1 to 10% by mass with respect to the total mass of the ink composition. 1 to 97% by mass, more preferably 30 to 95% by mass. The compound that generates an acid upon irradiation with radiation is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 20% by mass, based on the total polymerizable compound including the specific polymerizable compound. It is suitable to contain.
本発明のインク組成物をインクジェット記録用インクとして使用するに際しては、吐出性を考慮し、吐出時の温度(例えば、40〜80℃、好ましくは25〜30℃)において、粘度が、好ましくは7〜30mPa・sであり、より好ましくは7〜20mPa・sである。例えば、本発明のインク組成物の室温(25〜30℃)における粘度は、好ましくは35〜500mPa・s、より好ましくは35〜200mPa・sである。本発明のインク組成物は、粘度が上記範囲になるように適宜組成比を調整することが好ましい。室温での粘度を高く設定することにより、多孔質な被記録媒体を用いた場合でも、被記録媒体中へのインク浸透を回避し、未硬化モノマーの低減、臭気低減が可能となる。更にインク液滴着弾時のインクの滲みを抑えることができ、その結果として画質が改善されるので好ましい。 Is on the occasion to use the ink composition of the present invention as an inkjet recording ink, in consideration of the ejection properties, the discharge time of the temperature (e.g., 40 to 80 ° C., preferably from 25 to 30 ° C.) in a viscosity, Preferably it is 7-30 mPa * s, More preferably, it is 7-20 mPa * s. For example, the viscosity of the ink composition of the present invention at room temperature (25 to 30 ° C.) is preferably 35 to 500 mPa · s, more preferably 35 to 200 mPa · s. It is preferable that the composition ratio of the ink composition of the present invention is appropriately adjusted so that the viscosity is in the above range. By setting the viscosity at room temperature high, even when a porous recording medium is used, ink penetration into the recording medium can be avoided, and uncured monomers and odors can be reduced. Further, it is preferable because ink bleeding at the time of ink droplet landing can be suppressed, and as a result, the image quality is improved.
本発明のインク組成物の表面張力は、好ましくは20〜30mN/m、より好ましくは23〜28mN/mである。ポリオレフィン、PET、コート紙、非コート紙など様々な被記録媒体へ記録する場合、滲み及び浸透の観点から、20mN/m以上が好ましく、濡れ性の点はで30mN/m以下が好ましい。 The surface tension of the ink composition of the present invention is preferably 20 to 30 mN / m, more preferably 23 to 28 mN / m. When recording on various recording media such as polyolefin, PET, coated paper, and non-coated paper, 20 mN / m or more is preferable from the viewpoint of bleeding and penetration, and the wettability is preferably 30 mN / m or less.
本発明のインク組成物を用いたインクジェット記録は、インク組成物をインクジェットプリンターにより被記録媒体に射出し、その後、射出されたインク組成物に放射線を照射して硬化して行う。 Lee inkjet Symbol record that had use of the ink composition of the present invention, the ink composition injected on a recording medium by an inkjet printer, then intends row and cured by irradiation with radiation to the ejected ink composition .
このインクにより得られた印刷物は、画像部が紫外線などの放射線照射により硬化しており、画像部の強度に優れるため、インクによる画像形成以外にも、例えば、平版印刷版のインク受容層(画像部)の形成など、種々の用途に使用しうる。 In the printed matter obtained with this ink, the image portion is cured by irradiation with radiation such as ultraviolet rays, and the strength of the image portion is excellent. Part), and can be used for various purposes.
〔インクジェット記録方法〕
本発明のインク組成物が好適に適用されるインクジェット記録方法(本発明のインクジェット記録方法)について、以下説明する。
本発明のインクジェット記録方法は、上記した本発明のインク組成物を、被記録媒体(支持体、記録材料等)上にインク組成物をインクジェット記録装置により吐出する工程、及び、吐出されたインク組成物に活性放射線を照射してインク組成物を硬化する工程、を含むことを特徴とする。硬化したインク組成物は、被記録媒体上に画像を形成する。
[Inkjet recording method]
The ink jet recording method to which the ink composition of the present invention is suitably applied (the ink jet recording method of the present invention) will be described below.
The ink jet recording method of the present invention comprises a step of ejecting the ink composition of the present invention onto a recording medium (support, recording material, etc.) by an ink jet recording apparatus, and the ejected ink composition. And a step of irradiating the material with actinic radiation to cure the ink composition. The cured ink composition forms an image on the recording medium.
本発明のインクジェット記録方法に適用しる被記録媒体としては、特に制限はなく、通常の非コート紙、コート紙などの紙類、いわゆる軟包装に用いられる各種非吸収性樹脂材料あるいは、それをフィルム状に成形した樹脂フィルムを用いることができ、各種プラスチックフィルムとしては、例えば、PETフィルム、OPSフィルム、OPPフィルム、ONyフィルム、PVCフィルム、PEフィルム、TACフィルム等を挙げることができる。その他、被記録媒体材料として使用しうるプラスチックとしては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ABS、ポリアセタール、PVA、ゴム類などが挙げられる。また、金属類や、ガラス類も被記録媒体として使用可能である。
また、本発明のインク組成物は、硬化時の熱収縮が少なく、基材(被記録媒体)との密着性に優れるため、インクの硬化収縮、硬化反応時の発熱などにより、フィルムのカール、変形が生じやすいフィルム、例えば、熱でシュリンク可能な、PETフィルム、OPSフィルム、OPPフィルム、ONyフィルム、PVCフィルムなどにおいても、高精細な画像を形成しうるという利点を有する。
更に、本発明に適用しうる被記録材料としては、後述する平版印刷版の支持体が挙げられる。
The recording medium to be applied to the ink jet recording method of the present invention is not particularly limited, and various non-absorbing resin materials used for ordinary non-coated paper, coated paper, and so-called soft packaging, or the like. A resin film formed into a film can be used, and examples of the various plastic films include PET film, OPS film, OPP film, ONy film, PVC film, PE film, and TAC film. In addition, examples of the plastic that can be used as a recording medium material include polycarbonate, acrylic resin, ABS, polyacetal, PVA, and rubbers. Metals and glasses can also be used as the recording medium.
In addition, the ink composition of the present invention has little heat shrinkage at the time of curing and excellent adhesion to the substrate (recording medium). Films that are easily deformed, such as heat-shrinkable PET film, OPS film, OPP film, ONy film, PVC film, etc., have the advantage that a high-definition image can be formed.
Furthermore, examples of the recording material applicable to the present invention include a support for a lithographic printing plate described later.
本発明のインクジェット記録方法に適用される活性放射線としては、α線、γ線、X線、紫外線、可視光線、赤外光線、電子線などが挙げられる。活性放射線のピーク波長は、200〜600nmであることが好ましく、300〜450nmであることがより好ましく、350〜420nmであることがさらに好ましい。また、活性放射線の出力は、2,000mJ/cm2以下であることが好ましく、より好ましくは、10〜2,000mJ/cm2であり、さらに好ましくは、20〜1,000mJ/cm2であり、特に好ましくは、50〜800mJ/cm2である。
特に、本発明のインクジェット記録方法では、放射線照射が、発光波長ピークが350〜420nmであり、かつ、前記被記録媒体表面での最高照度が10〜1,000mW/cm2となる紫外線を発生する発光ダイオードから照射されることが好ましい。
Examples of the actinic radiation applied to the ink jet recording method of the present invention include α rays, γ rays, X rays, ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, and electron beams. The peak wavelength of the actinic radiation is preferably 200 to 600 nm, more preferably 300 to 450 nm, and still more preferably 350 to 420 nm. The output of active radiation is preferably 2,000 mJ / cm 2 or less, more preferably from 10 to 2,000 mJ / cm 2, more preferably, be 20 to 1,000 mJ / cm 2 Particularly preferably, it is 50 to 800 mJ / cm 2 .
In particular, in the ink jet recording method of the present invention, radiation irradiation generates ultraviolet rays having an emission wavelength peak of 350 to 420 nm and a maximum illuminance on the surface of the recording medium of 10 to 1,000 mW / cm 2. Irradiation from a light emitting diode is preferred.
上記の他、本発明のインクジェット記録方法に適用される諸条件及びインクジェット記録装置等の詳細事項については、本発明のインクジェット記録方法の好適な応用例である、本発明の平版印刷版及び平版印刷版の製造方法において後述する。 In addition to the above, various conditions applied to the ink jet recording method of the present invention and details of the ink jet recording apparatus and the like are suitable applications of the ink jet recording method of the present invention. This will be described later in the plate manufacturing method.
本発明のインクジェット記録方法によれば、表面の濡れ性が異なる様々な支持体(被記録媒体)に対しても、着弾したインクのドット径を一定に保つことができ、画質を向上させることができる。なお、本発明により、カラー画像を得るためには、明度の低い色から順に重ねていくことが好ましい。明度の低いインクから順に重ねることにより、下部のインクまで照射線が到達しやすくなり、良好な硬化感度、残留モノマーの低減、臭気の低減、密着性の向上が期待できる。また、照射は、全色を吐出してまとめて露光することが可能だが、1色毎に露光するほうが、硬化促進の観点で好ましい。 According to the ink jet recording method of the present invention, the dot diameter of the landed ink can be kept constant even on various supports (recording media) having different surface wettability, and the image quality can be improved. it can. In order to obtain a color image according to the present invention, it is preferable to superimpose in order from the color with the lowest brightness. By superimposing the inks in the order of low lightness, the irradiation line can easily reach the lower ink, and good curing sensitivity, reduction of residual monomers, reduction of odor, and improvement of adhesion can be expected. In addition, irradiation can be performed by discharging all colors and collectively exposing, but exposure for each color is preferable from the viewpoint of promoting curing.
[平版印刷版及び平版印刷版の製造方法]
本発明の平版印刷版の製造方法は、(a)本発明のインク組成物を支持体上に吐出する工程、及び(b)吐出されたインク組成物に活性放射線を照射して、前記インク組成物を硬化させることにより、前記インク組成物が硬化してなる疎水性画像を前記支持体上に形成する工程、を含む平版印刷版の製造方法である。
また、本発明の平版印刷版は、上記本発明の平版印刷版の製造方法により製造された平版印刷版であり、支持体と、該支持体上に形成された疎水性画像とを有する。
[Lithographic printing plate and lithographic printing plate manufacturing method]
The method for producing a lithographic printing plate of the present invention comprises: (a) a step of ejecting the ink composition of the present invention onto a support; and (b) irradiating the ejected ink composition with actinic radiation to form the ink composition. A method for producing a lithographic printing plate, comprising: forming a hydrophobic image on the support by curing the product to cure the ink composition.
The lithographic printing plate of the present invention is a lithographic printing plate produced by the above-described method for producing a lithographic printing plate of the present invention, and has a support and a hydrophobic image formed on the support.
従来、平版印刷版としては、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層を設けた構成を有するいわゆるPS版が広く用いられてきた。このPS版の製造方法としては、通常、リスフィルムを介してマスク露光(面露光)した後、非露光部を溶解除去することにより所望の印刷版を得ていた。しかし、近年、画像情報をコンピュータを用いて電子的に処理、蓄積、出力するディジタル化技術が広く普及し、それに対応した新しい画像出力方式が求められるようになった。特に、リスフィルムを使用することなく、レーザー光のような嗜好性の高い光をディジタル化された画像情報に従って走査し、直接印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート(CTP)技術が開発されている。 Conventionally, so-called PS plates having a configuration in which a lipophilic photosensitive resin layer is provided on a hydrophilic support have been widely used as lithographic printing plates. As a method for producing the PS plate, a desired printing plate is usually obtained by performing mask exposure (surface exposure) through a lith film and then dissolving and removing the non-exposed portion. However, in recent years, digitization techniques for electronically processing, storing, and outputting image information using a computer have become widespread, and a new image output method corresponding to the technique has been demanded. In particular, computer-to-plate (CTP) technology has been developed that scans highly-preferred light such as laser light according to digitized image information without using a lithographic film, and directly produces a printing plate. Yes.
このような走査露光を可能にする平版印刷版を得るための方式として、インク組成物又はインクジェット記録用インク組成物によって直接平版印刷版を作製する方法が挙げられる。これは、支持体(好ましくは親水性の支持体)上に、インクジェット方式等によってインクを吐出し、これを活性放射線に露光することにより、インク組成物又はインクジェット記録用インクの部分を露光して、所望の画像(好ましくは、疎水性画像)を有する印刷版を得るものである。このような方式に適したインクジェット記録用インク組成物が、本発明のインクジェット記録用インク組成物である。 Examples of a method for obtaining a lithographic printing plate that enables such scanning exposure include a method of directly producing a lithographic printing plate using an ink composition or an ink composition for ink jet recording. This is because an ink is ejected onto a support (preferably a hydrophilic support) by an ink jet method or the like, and exposed to actinic radiation, thereby exposing an ink composition or an ink jet recording ink portion. A printing plate having a desired image (preferably a hydrophobic image) is obtained. Inkjet recording ink composition suitable for such method, an inkjet recording ink composition of the present invention.
〔インク組成物を支持体上に吐出する工程〕
(支持体)
本発明の平版印刷版における支持体(被記録媒体)としては、特に限定されず、寸度的に安定な板状の支持体であればよい。支持体としては、親水性の支持体であることが好ましい。支持体としては、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上述した金属がラミネートされ又は蒸着された紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルム及びアルミニウム板が挙げられる。中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が好ましい。
[Step of discharging ink composition onto support]
(Support)
The support (recording medium) in the planographic printing plate of the present invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like support. The support is preferably a hydrophilic support. Examples of the support include paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), and plastic film (eg, cellulose diacetate, triacetic acid). Cellulose, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper or plastic film on which the above-mentioned metals are laminated or deposited. . A preferable support includes a polyester film and an aluminum plate. Among these, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.
アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、又は、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知の素材のものを適宜利用することができる。 The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a known material can be used as appropriate.
支持体の厚さは、0.1〜0.6mmであることが好ましく、0.15〜0.4mmであることがより好ましい。
アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すことが好ましい。表面処理により、親水性の向上及び画像記録層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。
The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm.
Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, it is easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the image recording layer and the support. Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.
アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的表面を溶解させる粗面化処理)、化学的粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。また、アルミニウムの圧延段階において凹凸を設けたロールで凹凸形状を転写する転写法も用いてもかまわない。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流又は直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、更に、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (roughening treatment for dissolving the electrochemical surface), chemical surface treatment, etc. Roughening treatment (roughening treatment that selectively dissolves the surface chemically) can be mentioned.
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Also, a transfer method in which the uneven shape is transferred with a roll provided with unevenness in the aluminum rolling step may be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.
The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.
アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸又はそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であることが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/m2であることが好ましく、1.5〜4.0g/m2であることがより好ましい。この範囲で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られるので好ましい。
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used and cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / day. dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferable. The amount of the anodized film formed is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2, and more preferably 1.5 to 4.0 g / m 2. Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained, which is preferable.
本発明の平版印刷版に用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ、陽極酸化皮膜を有する基板をそのまま用いてもよいが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、断熱性などを一層改良するため、必要に応じて、特開2001−253181号公報や特開2001−322365号公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理や封孔処理、及び親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。もちろんこれら拡大処理、封孔処理は、これらに記載のものに限られたものではなく従来公知の何れも方法も行うことができる。 As the support used in the lithographic printing plate of the present invention, the surface treatment as described above may be used as it is, and the substrate having the anodized film may be used as it is. In order to further improve the heat insulation and the like, if necessary, the micropore enlargement treatment and sealing treatment of the anodized film described in JP-A-2001-253181 and JP-A-2001-322365, and hydrophilic The surface hydrophilization treatment soaked in an aqueous solution containing a functional compound can be appropriately selected and performed. Of course, these enlargement processing and sealing processing are not limited to those described above, and any conventionally known method can be performed.
<封孔処理>
封孔処理としては、蒸気封孔のほかフッ化ジルコン酸の単独処理、フッ化ナトリウムによる処理など無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、塩化リチウムを添加した蒸気封孔、熱水による封孔処理でも可能である。
中でも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理及び熱水による封孔処理が好ましい。以下にそれぞれ説明する。
<Sealing treatment>
Sealing treatment includes vapor sealing, single treatment with zirconic fluoride, treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound such as treatment with sodium fluoride, vapor sealing with addition of lithium chloride, sealing with hot water. Hole processing is also possible.
Among these, a sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, a sealing treatment with water vapor, and a sealing treatment with hot water are preferable. Each will be described below.
−無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理−
無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理に用いられる無機フッ素化合物としては、金属フッ化物が好適に挙げられる。
具体的には、例えば、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸カリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸アンモニウム、フッ化チタン酸アンモニウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸、ヘキサフルオロケイ酸、フッ化ニッケル、フッ化鉄、フッ化リン酸、フッ化リン酸アンモニウムが挙げられる。なかでも、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸が好ましい。
-Sealing treatment with aqueous solution containing inorganic fluorine compound-
As the inorganic fluorine compound used for the sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, a metal fluoride is preferably exemplified.
Specifically, for example, sodium fluoride, potassium fluoride, calcium fluoride, magnesium fluoride, sodium fluoride zirconate, potassium fluoride zirconate, sodium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, zircon fluoride Ammonium acid, ammonium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, fluorinated zirconate, fluorinated titanate, hexafluorosilicic acid, nickel fluoride, iron fluoride, phosphor fluoride, ammonium fluoride phosphate It is done. Of these, sodium fluorinated zirconate, sodium fluorinated titanate, fluorinated zirconic acid, and fluorinated titanic acid are preferable.
水溶液中の無機フッ素化合物の濃度は、陽極酸化皮膜のマイクロポアの封孔を十分に行う点で、0.01質量%以上であることが好ましく、0.05質量%以上であることがより好ましく、また、耐汚れ性の点で、1質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以下であることがより好ましい。
無機フッ素化合物を含有する水溶液は、更に、リン酸塩化合物を含有することが好ましい。リン酸塩化合物を含有すると、陽極酸化皮膜の表面の親水性が向上するため、機上現像性および耐汚れ性を向上させることができるので好ましい。
The concentration of the inorganic fluorine compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, and more preferably 0.05% by mass or more in terms of sufficiently sealing the micropores of the anodized film. Further, in terms of stain resistance, the content is preferably 1% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or less.
It is preferable that the aqueous solution containing the inorganic fluorine compound further contains a phosphate compound. The inclusion of a phosphate compound is preferable because the hydrophilicity of the surface of the anodized film is improved, and the on-press developability and stain resistance can be improved.
リン酸塩化合物としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の金属のリン酸塩が好適に挙げられる。
具体的には、例えば、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸一アンモニウム、リン酸一カリウム、リン酸一ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸カルシウム、リン酸水素アンモニウムナトリウム、リン酸水素マグネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸第一鉄、リン酸第二鉄、リン酸二水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸鉛、リン酸二アンモニウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム、亜リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウムが挙げられる。なかでも、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウムが好ましい。
無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の組み合わせは、特に限定されないが、水溶液が、無機フッ素化合物として、少なくともフッ化ジルコン酸ナトリウムを含有し、リン酸塩化合物として、少なくともリン酸二水素ナトリウムを含有することが好ましい。
水溶液中のリン酸塩化合物の濃度は、機上現像性および耐汚れ性の向上の点で、0.01質量%以上であることが好ましく、0.1質量%以上であることがより好ましく、また、溶解性の点で、20質量%以下であることが好ましく、5質量%以下であることがより好ましい。
Suitable examples of the phosphate compound include phosphates of metals such as alkali metals and alkaline earth metals.
Specifically, for example, zinc phosphate, aluminum phosphate, ammonium phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, monoammonium phosphate, monopotassium phosphate, monosodium phosphate, dihydrogen phosphate Potassium, dipotassium hydrogen phosphate, calcium phosphate, sodium ammonium hydrogen phosphate, magnesium hydrogen phosphate, magnesium phosphate, ferrous phosphate, ferric phosphate, sodium dihydrogen phosphate, sodium phosphate, hydrogen phosphate Disodium, lead phosphate, diammonium phosphate, calcium dihydrogen phosphate, lithium phosphate, phosphotungstic acid, ammonium phosphotungstate, sodium phosphotungstate, ammonium phosphomolybdate, sodium phosphomolybdate, sodium phosphite , Tripolyphosphate Potassium, and sodium pyrophosphate. Of these, sodium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, and dipotassium hydrogen phosphate are preferable.
The combination of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is not particularly limited, but the aqueous solution contains at least sodium zirconate fluoride as the inorganic fluorine compound and contains at least sodium dihydrogen phosphate as the phosphate compound. It is preferable.
The concentration of the phosphate compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, from the viewpoint of improving on-press developability and stain resistance. Moreover, it is preferable that it is 20 mass% or less at a soluble point, and it is more preferable that it is 5 mass% or less.
水溶液中の各化合物の割合は、特に限定されないが、無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の質量比が、1/200〜10/1であることが好ましく、1/30〜2/1であることがより好ましい。
水溶液の温度は、20℃以上であることが好ましく、40℃以上であることがより好ましく、また、100℃以下であることが好ましく、80℃以下であることがより好ましい。
水溶液は、pH1以上であることが好ましく、pH2以上であることがより好ましく、また、pH11以下であることが好ましく、pH5以下であることがより好ましい。
無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理の方法は、特に限定されず、例えば、浸漬法、スプレー法が挙げられる。これらは単独で1回又は複数回用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
中でも、浸漬法が好ましい。浸漬法を用いて処理する場合、処理時間は、1秒以上であることが好ましく、3秒以上であることがより好ましく、また、100秒以下であることが好ましく、20秒以下であることがより好ましい。
The ratio of each compound in the aqueous solution is not particularly limited, but the mass ratio of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is preferably 1/200 to 10/1, and preferably 1/30 to 2/1. Is more preferable.
The temperature of the aqueous solution is preferably 20 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher, 100 ° C. or lower, and more preferably 80 ° C. or lower.
The aqueous solution preferably has a pH of 1 or more, more preferably has a pH of 2 or more, preferably has a pH of 11 or less, and more preferably has a pH of 5 or less.
The method for sealing with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound is not particularly limited, and examples thereof include an immersion method and a spray method. These may be used alone or in combination, or may be used in combination of two or more.
Of these, the dipping method is preferred. When processing using the dipping method, the processing time is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, 100 seconds or shorter, and 20 seconds or shorter. More preferred.
−水蒸気による封孔処理−
水蒸気による封孔処理は、例えば、加圧又は常圧の水蒸気を連続的に又は非連続的に、陽極酸化皮膜に接触させる方法が挙げられる。
水蒸気の温度は、80℃以上であることが好ましく、95℃以上であることがより好ましく、また、105℃以下であることが好ましい。
水蒸気の圧力は、(大気圧−50mmAq)から(大気圧+300mmAq)までの範囲(1.008×105〜1.043×105Pa)であることが好ましい。
また、水蒸気を接触させる時間は、1秒以上であることが好ましく、3秒以上であることがより好ましく、また、100秒以下であることが好ましく、20秒以下であることがより好ましい。
-Sealing treatment with water vapor-
Examples of the sealing treatment with water vapor include a method of bringing pressurized or normal pressure water vapor into contact with the anodized film continuously or discontinuously.
The temperature of the water vapor is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 95 ° C. or higher, and preferably 105 ° C. or lower.
The pressure of the water vapor is preferably in the range (1.008 × 10 5 to 1.043 × 10 5 Pa) from (atmospheric pressure−50 mmAq) to (atmospheric pressure + 300 mmAq).
The time for which the water vapor is contacted is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, 100 seconds or shorter, and more preferably 20 seconds or shorter.
−熱水による封孔処理−
水蒸気による封孔処理は、例えば、陽極酸化皮膜を形成させたアルミニウム板を熱水に浸漬させる方法が挙げられる。
熱水は、無機塩(例えば、リン酸塩)又は有機塩を含有していてもよい。
熱水の温度は、80℃以上であることが好ましく、95℃以上であることがより好ましく、また、100℃以下であることが好ましい。
熱水に浸漬させる時間は、1秒以上であることが好ましく、3秒以上であることがより好ましく、また、100秒以下であることが好ましく、20秒以下であることがより好ましい。
本発明に用いられる親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号及び同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウムなどの水溶液で浸漬処理し、又は電解処理する。そのほかに、特公昭36−22063号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号および同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが挙げられる。
支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであることが好ましい。この範囲であると、画像記録層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られるので好ましい。
-Sealing treatment with hot water-
Examples of the sealing treatment with water vapor include a method in which an aluminum plate on which an anodized film is formed is immersed in hot water.
The hot water may contain an inorganic salt (for example, phosphate) or an organic salt.
The temperature of the hot water is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 95 ° C. or higher, and preferably 100 ° C. or lower.
The time for immersion in hot water is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, 100 seconds or shorter, more preferably 20 seconds or shorter.
Examples of the hydrophilization treatment used in the present invention include US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734, and 3,902,734. There is an alkali metal silicate method as described in the book. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated. In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinylphosphonic acid as described in each specification of No.272.
The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the image recording layer, good printing durability and good stain resistance are obtained, which is preferable.
本発明のインク組成物を、親水性支持体の表面上に吐出する場合、インク組成物を好ましくは40〜80℃、より好ましくは25〜30℃に加熱して、インク組成物の粘度を好ましくは7〜30mPa・s、より好ましくは7〜20mPa・sに下げた後に吐出することが好ましい。特に、25℃におけるインク粘度が35〜500mP・sのインク組成物を用いると大きな効果を得ることができるので好ましい。この方法を用いることにより、高い吐出安定性を実現することができる。 When the ink composition of the present invention is discharged onto the surface of a hydrophilic support, the ink composition is preferably heated to 40 to 80 ° C., more preferably 25 to 30 ° C., so that the viscosity of the ink composition is preferable. Is preferably discharged after being lowered to 7 to 30 mPa · s, more preferably 7 to 20 mPa · s. In particular, it is preferable to use an ink composition having an ink viscosity of 35 to 500 mP · s at 25 ° C. because a great effect can be obtained. By using this method, high ejection stability can be realized.
本発明のインク組成物のような放射線硬化型インク組成物は、概して、通常インク組成物又はインクジェット記録用インクで使用される水性インクより粘度が高いため、吐出時の温度変動による粘度変動が大きい。インクの粘度変動は、液滴サイズの変化及び液滴吐出速度の変化に対して大きな影響を与え、延いては、は画質劣化を引き起こす。従って、吐出時のインクの温度はできるだけ一定に保つことが必要である。よって、本発明において、温度の制御幅は、設定温度の±5℃、好ましくは設定温度の±2℃、より好ましくは設定温度±1℃とすることが適当である。 A radiation curable ink composition such as the ink composition of the present invention generally has a higher viscosity than a water-based ink that is usually used in an ink composition or an ink for inkjet recording, and therefore has a large viscosity fluctuation due to temperature fluctuations during ejection. . The ink viscosity fluctuation has a great influence on the change of the droplet size and the change of the droplet discharge speed, and further causes the deterioration of the image quality. Therefore, it is necessary to keep the temperature of the ink at the time of ejection as constant as possible. Therefore, in the present invention, it is appropriate that the temperature control range is set to ± 5 ° C. of the set temperature, preferably ± 2 ° C. of the set temperature, more preferably set temperature ± 1 ° C.
(インクジェット記録装置)
本発明に用いられるインクジェット記録装置としては、特に制限はなく、市販のインクジェット記録装置が使用できる。即ち、本発明においては、市販のインクジェット記録装置を用いて被記録媒体へ記録することができる。
本発明で用いることのできるインクジェット記録装置としては、例えば、インク供給系、温度センサー、活性放射線源を含む。
インク供給系は、例えば、本発明のインク組成物を含む元タンク、供給配管、インクジェットヘッド直前のインク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッドからなる。ピエゾ型のインクジェットヘッドは、1〜100pl、好ましくは、8〜30plのマルチサイズドットを例えば、320×320〜4000×4000dpi、好ましくは、400×400〜1600×1600dpi、より好ましくは、720×720dpiの解像度で吐出できるよう駆動することができる。なお、本発明でいうdpiとは、2.54cm当たりのドット数を表す。
(Inkjet recording device)
There is no restriction | limiting in particular as an inkjet recording device used for this invention, A commercially available inkjet recording device can be used. That is, in the present invention, recording can be performed on a recording medium using a commercially available inkjet recording apparatus.
Examples of the ink jet recording apparatus that can be used in the present invention include an ink supply system, a temperature sensor, and an actinic radiation source.
The ink supply system includes, for example, an original tank containing the ink composition of the present invention, a supply pipe, an ink supply tank immediately before the inkjet head, a filter, and a piezo-type inkjet head. The piezo-type inkjet head has a multi-size dot of 1 to 100 pl, preferably 8 to 30 pl, for example, 320 × 320 to 4000 × 4000 dpi, preferably 400 × 400 to 1600 × 1600 dpi, and more preferably 720 × 720 dpi. It can drive so that it can discharge with the resolution of. In the present invention, dpi represents the number of dots per 2.54 cm.
上述したように、放射線硬化型インクは、吐出されるインクを一定温度にすることが望ましいことから、インク供給タンクからインクジェットヘッド部分までは、断熱および加温を行うことができる。温度コントロールの方法としては、特に制約はないが、例えば、温度センサーを各配管部位に複数設け、インク流量、環境温度に応じた加熱制御をすることが好ましい。温度センサーは、インク供給タンクおよびインクジェットヘッドのノズル付近に設けることができる。また、加熱するヘッドユニットは、装置本体を外気からの温度の影響を受けないよう、熱的に遮断もしくは断熱されていることが好ましい。加熱に要するプリンター立上げ時間を短縮するため、あるいは熱エネルギーのロスを低減するために、他部位との断熱を行うとともに、加熱ユニット全体の熱容量を小さくすることが好ましい。 As described above, since it is desirable for the radiation curable ink to have a constant temperature for the ink to be ejected, heat insulation and heating can be performed from the ink supply tank to the inkjet head portion. The temperature control method is not particularly limited, but for example, it is preferable to provide a plurality of temperature sensors at each piping site and perform heating control according to the ink flow rate and the environmental temperature. The temperature sensor can be provided in the vicinity of the ink supply tank and the nozzle of the inkjet head. Moreover, it is preferable that the head unit to be heated is thermally shielded or insulated so that the apparatus main body is not affected by the temperature from the outside air. In order to shorten the printer start-up time required for heating or to reduce the loss of thermal energy, it is preferable to insulate from other parts and reduce the heat capacity of the entire heating unit.
〔吐出されたインク組成物に活性放射線を照射して、前記インク組成物を硬化させることにより、前記インク組成物が硬化してなる疎水性画像を支持体上に形成する工程〕
支持体の表面上に吐出されたインク組成物は、活性放射線を照射することによって硬化する。このとき、インク組成物中に、重合開始剤(光開始剤)とともに、増感色素が存在すると、系中の増感色素が活性放射線を吸収して励起状態となり、重合開始剤と接触することによって重合開始剤の分解を促進させ、より高感度な硬化反応を達成できる。
[Step of forming a hydrophobic image on the support by curing the ink composition by irradiating the discharged ink composition with actinic radiation and curing the ink composition]
The ink composition ejected on the surface of the support is cured by irradiation with actinic radiation. At this time, when a sensitizing dye is present together with a polymerization initiator (photoinitiator) in the ink composition, the sensitizing dye in the system absorbs actinic radiation to be in an excited state and comes into contact with the polymerization initiator. By promoting the decomposition of the polymerization initiator, a more sensitive curing reaction can be achieved.
ここで、使用される活性放射線は、α線、γ線、電子線、X線、紫外線、可視光又は赤外光などが使用され得る。活性放射線のピーク波長は、増感色素の吸収特性にもよるが、例えば、200〜600nm、好ましくは、300〜450nm、より好ましくは、350〜420nmであることが適当である。また、本発明では、重合開始系は、低出力の活性放射線であっても充分な感度を有するものである。従って、活性放射線の出力は、例えば、2,000mJ/cm2以下、好ましくは、10〜2,000mJ/cm2、より好ましくは、20〜1,000mJ/cm2、さらに好ましくは、50〜800mJ/cm2の照射エネルギーであることが適当である。また、活性放射線は、露光面照度が、例えば、10〜2,000mW/cm2、好ましくは、20〜1,000mW/cm2で照射されることが適当である。 Here, α rays, γ rays, electron beams, X rays, ultraviolet rays, visible light, infrared rays, or the like can be used as the active radiation used. The peak wavelength of the actinic radiation is, for example, 200 to 600 nm, preferably 300 to 450 nm, and more preferably 350 to 420 nm, although it depends on the absorption characteristics of the sensitizing dye. In the present invention, the polymerization initiating system has sufficient sensitivity even with low-power actinic radiation. Thus, the output of the actinic radiation is, for example, 2,000 mJ / cm 2 or less, preferably, 10 to 2,000 mJ / cm 2, more preferably, 20 to 1,000 mJ / cm 2, more preferably, 50 to 800 mJ An irradiation energy of / cm 2 is appropriate. The active radiation, the illumination intensity on the exposed surface is, for example, 10 to 2,000 mW / cm 2, preferably, it is suitable to be irradiated at 20 to 1,000 mW / cm 2.
活性放射線源としては、水銀ランプやガス・固体レーザー等が主に利用されており、紫外線光硬化型インクジェットには、水銀ランプ、メタルハライドランプが広く知られている。しかしながら、現在環境保護の観点から水銀フリー化が強く望まれており、GaN系半導体紫外発光デバイスへの置き換えは産業的、環境的にも非常に有用である。更にLED(UV−LED),LD(UV−LD)は小型、高寿命、高効率、低コストであり、光硬化型インクジェット用光源として期待されている。 As the active radiation source, a mercury lamp, a gas / solid laser or the like is mainly used, and a mercury lamp and a metal halide lamp are widely known as the ultraviolet light curable ink jet. However, from the viewpoint of environmental protection, mercury-free is strongly desired, and replacement with a GaN-based semiconductor ultraviolet light-emitting device is very useful industrially and environmentally. Furthermore, LED (UV-LED) and LD (UV-LD) are small, have a long life, have high efficiency, and are low in cost, and are expected as light sources for photocurable ink jets.
本発明においては、発光ダイオード(LED)及びレーザーダイオード(LD)を活性放射線源として用いることが可能である。特に、紫外線源を要する場合、紫外LED及び紫外LDを使用することができる。例えば、日亜化学(株)は、主放出スペクトルが365nmと420nmとの間の波長を有する紫色LEDを上市している。更に一層短い波長が必要とされる場合、米国特許番号第6,084,250号明細書は、300nmと370nmとの間に中心付けされた活性放射線を放出し得るLEDを開示している。また、他の紫外LEDも、入手可能であり、異なる紫外線帯域の放射を照射することができる。本発明で特に好ましい活性放射線源は、UV−LEDであり、特に好ましくは、350〜420nmにピーク波長を有するUV−LEDである。
LEDの被記録媒体上での最高照度は10〜2,000mW/cm2であることが好ましく、20〜1,000mW/cm2であることがより好ましく、特に好ましくは50〜800mW/cm2である。
In the present invention, a light emitting diode (LED) and a laser diode (LD) can be used as the active radiation source. In particular, when an ultraviolet light source is required, an ultraviolet LED and an ultraviolet LD can be used. For example, Nichia Corporation has launched a purple LED whose main emission spectrum has a wavelength between 365 nm and 420 nm. When even shorter wavelengths are required, US Pat. No. 6,084,250 discloses an LED that can emit actinic radiation centered between 300 nm and 370 nm. Other ultraviolet LEDs are also available and can emit radiation in different ultraviolet bands. The actinic radiation source particularly preferred in the present invention is a UV-LED, particularly preferably a UV-LED having a peak wavelength at 350 to 420 nm.
Preferably maximum illumination intensity of the LED on a recording medium is 10 to 2,000 mW / cm 2, more preferably 20 to 1,000 mW / cm 2, particularly preferably at 50 to 800 mW / cm 2 is there.
本発明においては、インク組成物は、このような活性放射線に、例えば、0.01〜120秒、好ましくは、0.1〜90秒照射されることが適当である。
活性放射線の照射条件並びに基本的な照射方法としては、特開昭60−132767号公報に開示される内容が適用できる。具体的には、インクの吐出装置を含むヘッドユニットの両側に光源を設け、いわゆるシャトル方式でヘッドユニットと光源を走査することによって行われる。活性放射線の照射は、インク着弾後、一定時間(例えば、0.01〜0.5秒、好ましくは、0.01〜0.3秒、より好ましくは、0.01〜0.15秒)をおいて行われることになる。このようにインク着弾から照射までの時間を極短時間に制御することにより、被記録媒体に着弾したインクが硬化前に滲むことを防止するこが可能となる。また、多孔質な被記録媒体に対しても光源の届かない深部までインクが浸透する前に露光することができる為、未反応モノマーの残留を抑えられ、その結果として臭気を低減することができる。
更に、駆動を伴わない別光源によって硬化を完了させてもよい。WO99/54415号パンフレットでは、照射方法として、光ファイバーを用いた方法やコリメートされた光源をヘッドユニット側面に設けた鏡面に当て、記録部へUV光を照射する方法が開示されている。
In the present invention, it is appropriate that the ink composition is irradiated with such actinic radiation for, for example, 0.01 to 120 seconds, preferably 0.1 to 90 seconds.
The contents disclosed in JP-A-60-132767 can be applied as the irradiation conditions and the basic irradiation method of actinic radiation. Specifically, the light source is provided on both sides of the head unit including the ink ejection device, and the head unit and the light source are scanned by a so-called shuttle method. Irradiation with actinic radiation takes a certain time (for example, 0.01 to 0.5 seconds, preferably 0.01 to 0.3 seconds, more preferably 0.01 to 0.15 seconds) after ink landing. Will be done. In this way, by controlling the time from ink landing to irradiation to an extremely short time, it is possible to prevent the ink that has landed on the recording medium from spreading before curing. Further, since the ink can be exposed to a porous recording medium before the ink penetrates to a deep part where the light source does not reach, residual unreacted monomer can be suppressed, and as a result, odor can be reduced. .
Further, the curing may be completed by another light source that is not driven. WO99 / 54415 pamphlet discloses a method using an optical fiber and a method of irradiating a recording unit with UV light by applying a collimated light source to a mirror surface provided on the side surface of the head unit.
このように、本発明の平版印刷版の製造方法によれば、本発明のインク組成物を用いて、活性放射線の照射により硬化し、疎水性画像を前記支持体表面上に形成することができる。 Thus, according to the method for producing a lithographic printing plate of the present invention, the ink composition of the present invention can be used to cure by irradiation with actinic radiation to form a hydrophobic image on the surface of the support. .
以下に実施例及び比較例を示し、本発明をより具体的に説明する。但し、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to these examples.
[実施例1]
《インクの調製》
<イエローインク1>
・C.I.ピグメントイエロー13 5質量部
・光カチオン重合開始剤:トリフェニルスルフォニウム塩
(UVI−6992、ダウケミカル社製) 6質量部
・増感色素:9,10−ジブトキシアントラセン 3質量部
・重合性化合物
モノマー:3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
(セロキサイド2021A:ダイセルユーシービー社製) 35質量部
モノマー:3,7−ビス(3−オキセタニル)−5−オキサノナン
(OXT−221:東亞合成(株)製) 40質量部
モノマー:下記化合物(a−1) 11質量部
<Preparation of ink>
<Yellow ink 1>
・ C. I. Pigment Yellow 13 5 parts by mass / photocation polymerization initiator: triphenylsulfonium salt
(UVI-6992, manufactured by Dow Chemical Company) 6 parts by mass / sensitizing dye: 9,10-dibutoxyanthracene 3 parts by mass / polymerizable compound Monomer: 3,4-epoxycyclohexylmethyl-
3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate
(Celoxide 2021A: manufactured by Daicel UC Corporation) 35 parts by mass Monomer: 3,7-bis (3-oxetanyl) -5-oxanonane
(OXT-221: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 40 parts by mass Monomer: 11 parts by mass of the following compound (a-1)
<マゼンタインク1>
・C.I.ピグメントレッド57:1 5質量部
・光カチオン重合開始剤:トリフェニルスルフォニウム塩
(UVI−6992、ダウケミカル社製) 6質量部
・増感色素:9,10−ジブトキシアントラセン 3質量部
・重合性化合物
モノマー:3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
(セロキサイド2021A:ダイセルユーシービー社製) 35質量部
モノマー:3,7−ビス(3−オキセタニル)−5−オキサノナン
(OXT−221:東亞合成(株)製) 40質量部
モノマー:前記化合物(a−1) 11質量部
<Magenta ink 1>
・ C. I. Pigment Red 57: 1 5 parts by mass / photocation polymerization initiator: triphenylsulfonium salt
(UVI-6992, manufactured by Dow Chemical Company) 6 parts by mass / sensitizing dye: 9,10-dibutoxyanthracene 3 parts by mass / polymerizable compound Monomer: 3,4-epoxycyclohexylmethyl-
3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate
(Celoxide 2021A: manufactured by Daicel UC Corporation) 35 parts by mass Monomer: 3,7-bis (3-oxetanyl) -5-oxanonane
(OXT-221: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 40 parts by mass Monomer: 11 parts by mass of the compound (a-1)
<シアンインク1>
・C.I.ピグメントブルー15:3 5質量部
・光カチオン重合開始剤:トリフェニルスルフォニウム塩
(UVI−6992、ダウケミカル社製) 6質量部
・増感色素:9,10−ジブトキシアントラセン 3質量部
・重合性化合物
モノマー:3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
(セロキサイド2021A:ダイセルユーシービー社製) 35質量部
モノマー:3,7−ビス(3−オキセタニル)−5−オキサノナン
(OXT−221:東亞合成(株)製) 40質量部
モノマー:前記化合物(a−1) 11質量部
<Cyan ink 1>
・ C. I. Pigment Blue 15: 3 5 parts by mass / photocation polymerization initiator: triphenylsulfonium salt
(UVI-6992, manufactured by Dow Chemical Company) 6 parts by mass / sensitizing dye: 9,10-dibutoxyanthracene 3 parts by mass / polymerizable compound Monomer: 3,4-epoxycyclohexylmethyl-
3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate
(Celoxide 2021A: manufactured by Daicel UC Corporation) 35 parts by mass Monomer: 3,7-bis (3-oxetanyl) -5-oxanonane
(OXT-221: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 40 parts by mass Monomer: 11 parts by mass of the compound (a-1)
<ブラックインク1>
・C.I.ピグメントブラック7 5質量部
・光カチオン重合開始剤:トリフェニルスルフォニウム塩
(UVI−6992、ダウケミカル社製) 6質量部
・増感色素:9,10−ジブトキシアントラセン 3質量部
・重合性化合物
モノマー:3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
(セロキサイド2021A:ダイセルユーシービー社製) 35質量部
モノマー:3,7−ビス(3−オキセタニル)−5−オキサノナン
(OXT−221:東亞合成(株)製) 40質量部
モノマー:前記化合物(a−1) 11質量部
<Black ink 1>
・ C. I. Pigment Black 7 5 parts by mass / photocation polymerization initiator: triphenylsulfonium salt
(UVI-6992, manufactured by Dow Chemical Company) 6 parts by mass / sensitizing dye: 9,10-dibutoxyanthracene 3 parts by mass / polymerizable compound Monomer: 3,4-epoxycyclohexylmethyl-
3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate
(Celoxide 2021A: manufactured by Daicel UC Corporation) 35 parts by mass Monomer: 3,7-bis (3-oxetanyl) -5-oxanonane
(OXT-221: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 40 parts by mass Monomer: 11 parts by mass of the compound (a-1)
以上の様にして調製した粗製の各色インク1を絶対ろ過精度2μmのフィルターにてろ過し、各色のインク1とした。 The crude color inks 1 prepared as described above were filtered with a filter having an absolute filtration accuracy of 2 μm to obtain inks 1 of the respective colors.
《インクジェット画像記録》(多色画像の評価)
次に、ピエゾ型インクジェットノズルを有する市販のインクジェット記録装置を用いて、被記録媒体への記録を行った。インク供給系は、元タンク、供給配管、インクジェットヘッド直前のインク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッドから成り、インク供給タンクからインクジェットヘッド部分までを断熱及び加温を行った。温度センサーは、インク供給タンク及びインクジェットヘッドのノズル付近にそれぞれ設け、ノズル部分が常に70℃±2℃となるよう、温度制御を行った。ピエゾ型のインクジェットヘッドは、8〜30plのマルチサイズドットを720×720dpiの解像度で射出できるよう駆動した。着弾後はUV光を露光面照度100mW/cm2、に集光し、被記録媒体上にインク着弾した0.1秒後に照射が始まるよう露光系、主走査速度及び射出周波数を調整した。また、露光時間を可変とし、露光エネルギーを照射した。なお、本発明でいうdpiとは、2.54cm当たりのドット数を表す。
<Inkjet image recording> (Evaluation of multicolor images)
Next, recording on a recording medium was performed using a commercially available inkjet recording apparatus having a piezoelectric inkjet nozzle. The ink supply system was composed of an original tank, supply piping, an ink supply tank immediately before the inkjet head, a filter, and a piezo-type inkjet head, and heat insulation and heating were performed from the ink supply tank to the inkjet head portion. Temperature sensors were provided near the ink supply tank and the nozzles of the ink jet head, respectively, and temperature control was performed so that the nozzle portions were always 70 ° C. ± 2 ° C. The piezo-type inkjet head was driven so that 8 to 30 pl multi-size dots could be ejected at a resolution of 720 × 720 dpi. After landing, UV light was condensed to an exposure surface illuminance of 100 mW / cm 2 , and the exposure system, main scanning speed, and ejection frequency were adjusted so that irradiation started 0.1 seconds after ink landed on the recording medium. Further, the exposure time was variable, and exposure energy was irradiated. In the present invention, dpi represents the number of dots per 2.54 cm.
上記調製した各色インクを用い、環境温度25℃にて、ブラック→シアン→マゼンタ→イエローの順に射出、Integration Technology社製メタルハライドランプVzero085により紫外線を1色毎に照射した。触診で粘着性が無くなる様、完全に硬化するエネルギーとして、1色あたりのトータル露光エネルギーが一律100mJ/cm2で露光した。被記録媒体としては、砂目立てしたアルミニウム支持体、印刷適性を持たせた表面処理済みの透明二軸延伸ポリプロピレンフィルム、軟質塩化ビニルシート、キャストコート紙、市販の再生紙に各カラー画像を記録したところ、いずれもドットの滲みの無い高解像度の画像が得られた。更に、上質紙においてもインクが裏周りすることなく、十分にインクが硬化し、未反応モノマーによる臭気が殆どしなかった。また、フィルムに記録したインクには十分な可とう性があり、折り曲げてもインクにクラックが入ることは無く、セロテープ(登録商標)剥離による密着性テストにおいても問題無かった。 Using each of the color inks prepared above, the ink was emitted in the order of black → cyan → magenta → yellow at an environmental temperature of 25 ° C., and ultraviolet rays were irradiated for each color by a metal halide lamp Vzero085 manufactured by Integration Technology. The exposure was performed at a total exposure energy of 100 mJ / cm 2 uniformly per color as energy for complete curing so that the tackiness disappeared by palpation. As recording media, each color image was recorded on a grained aluminum support, a transparent biaxially stretched polypropylene film having a printability, a soft vinyl chloride sheet, cast coated paper, and commercially available recycled paper. However, in both cases, a high-resolution image without dot bleeding was obtained. Furthermore, even on high-quality paper, the ink was sufficiently cured without causing the ink to turn around, and there was almost no odor due to unreacted monomers. Further, the ink recorded on the film had sufficient flexibility, and the ink was not cracked even when it was bent, and there was no problem in the adhesion test by peeling the cello tape (registered trademark).
[実施例2]
<マゼンタインク2>
実施例1で調製したマゼンタインク1において、重合性化合物として用いたモノマーのうち、化合物(a−1)11質量部を、下記化合物(a−2)11質量部に変更した以外は、前記マゼンタインク1と同様にして、マゼンタインク2を調製した。
<Magenta ink 2>
In the magenta ink 1 prepared in Example 1, among the monomers used as the polymerizable compound, 11 parts by mass of the compound (a-1) was changed to 11 parts by mass of the following compound (a-2). Magenta ink 2 was prepared in the same manner as ink 1.
[実施例3]
<マゼンタインク3>
実施例1で調製したマゼンタインク1において、増感色素として用いた「9,10−ジブトキシアントラセン」3質量部を「Darocur ITX(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製)」3質量部に変更した以外は、前記マゼンタインク1と同様にして、マゼンタインク3を調製した。
[Example 3]
<Magenta ink 3>
In magenta ink 1 prepared in Example 1, 3 parts by mass of “9,10-dibutoxyanthracene” used as the sensitizing dye was changed to 3 parts by mass of “Darocur ITX (manufactured by Ciba Specialty Chemicals)”. A magenta ink 3 was prepared in the same manner as the magenta ink 1.
[実施例4]
<マゼンタインク4>
実施例1で調製したマゼンタインク1において用いた「C.I.ピグメントレッド57:1」5質量部を、下記に示す「油溶性染料M−1 酸化電位+1.37V」5質量部に変更した以外は、前記マゼンタインク1と同様にして、マゼンタインク4を調製した。
<Magenta ink 4>
5 parts by mass of “CI Pigment Red 57: 1” used in magenta ink 1 prepared in Example 1 was changed to 5 parts by mass of “oil-soluble dye M-1 oxidation potential + 1.37 V” shown below. Except for the above, magenta ink 4 was prepared in the same manner as magenta ink 1.
[実施例5]
<マゼンタインク5>
実施例1で調製したマゼンタインク1において用いた「C.I.ピグメントレッド57:1」5質量部を、下記に示す「油溶性染料M−2(酸化電位 +0.94V)」5質量部に変更した以外は、前記マゼンタインク1と同様にして、マゼンタインク5を調製した。
<Magenta ink 5>
5 parts by mass of “CI Pigment Red 57: 1” used in the magenta ink 1 prepared in Example 1 was changed to 5 parts by mass of “oil-soluble dye M-2 (oxidation potential +0.94 V)” shown below. A magenta ink 5 was prepared in the same manner as the magenta ink 1 except that it was changed.
[実施例6]
<マゼンタインク6>
実施例1で調製したマゼンタインク1において、光カチオン重合開始剤として用いた「UVI−6992」6質量部を、化合物例(b−39)として前記した化合物6質量部に変更した以外は、前記マゼンタインク1と同様にして、マゼンタインク6を調製した。
[Example 6]
<Magenta ink 6>
In the magenta ink 1 prepared in Example 1, except that 6 parts by mass of “UVI-6992” used as a photocationic polymerization initiator was changed to 6 parts by mass of the compound described above as Compound Example (b-39), Magenta ink 6 was prepared in the same manner as magenta ink 1.
[比較例1]
<マゼンタインク7>
実施例1で調製したマゼンタインク1において、重合性化合物として用いたモノマーのうち、3,7−ビス(3−オキセタニル)−5−オキサノナン(OXT−221:東亞合成(株)製)40質量部及び化合物(a−1)11質量部を、3,7−ビス(3−オキセタニル)−5−オキサノナン(OXT−221:東亞合成(株)製)51質量部に変更した以外は、前記マゼンタインク1と同様にして、マゼンタインク7を調製した。
[Comparative Example 1]
<Magenta ink 7>
40 parts by mass of 3,7-bis (3-oxetanyl) -5-oxanonane (OXT-221: manufactured by Toagosei Co., Ltd.) among the monomers used as the polymerizable compound in the magenta ink 1 prepared in Example 1. And magenta ink except that 11 parts by mass of the compound (a-1) was changed to 51 parts by mass of 3,7-bis (3-oxetanyl) -5-oxanonane (OXT-221: manufactured by Toagosei Co., Ltd.). In the same manner as in Example 1, a magenta ink 7 was prepared.
[比較例2]
<マゼンタインク8>
実施例1で調製したマゼンタインク1において、重合性化合物として用いたモノマーのうち、化合物(a−1)11質量部を、下記比較用化合物1を11質量部に変更した以外は、前記マゼンタインク1と同様にして、マゼンタインク8を調製した。
<Magenta ink 8>
In the magenta ink 1 prepared in Example 1, among the monomers used as the polymerizable compound, the magenta ink was changed except that 11 parts by mass of the compound (a-1) was changed to 11 parts by mass of the following comparative compound 1. In the same manner as in Example 1, a magenta ink 8 was prepared.
以上の実施例2〜6及び比較例1及び2において調製した粗製のマゼンタインク2〜8は、それぞれ絶対ろ過精度2μmのフィルターにてろ過し、マゼンタインク2〜8とした。 The crude magenta inks 2 to 8 prepared in Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 were each filtered through a filter having an absolute filtration accuracy of 2 μm to obtain magenta inks 2 to 8.
また、上記実施例及び比較例で作製したインク組成物において、インクの吐出温度でのインク粘度は、7〜20mPa・sの範囲内であった。 Further, in the ink compositions prepared in the above examples and comparative examples, the ink viscosity at the ink discharge temperature was in the range of 7 to 20 mPa · s.
《インクジェット画像記録》
以上のようにして調製した、実施例2〜6及び比較例1及び2のマゼンタインク2〜8と、実施例1で調製したマゼンタインク1を用いて、実施例1に記載の方法と同様にして、マゼンタ画像を作製した。
<Inkjet image recording>
Using the magenta inks 2 to 8 of Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 prepared as described above and the magenta ink 1 prepared in Example 1, the same method as described in Example 1 was used. A magenta image was produced.
<インクジェット画像の評価>
各形成した画像について、下記に記載の方法に準じて、硬化に必要な感度、臭気性、砂目立てしたアルミニウム支持体でのインク滲み、密着性、耐刷性、保存安定性の評価を行った。
<Evaluation of inkjet image>
For each formed image, the sensitivity required for curing, odor, ink bleeding on a grained aluminum support, adhesion, printing durability, and storage stability were evaluated according to the methods described below. .
1.硬化感度の測定
紫外線照射後の画像面において、粘着感の無くなる露光エネルギー量(mJ/cm2)を硬化感度と定義した。数値が小さいものほど高感度であることを表す。
1. Measurement of Curing Sensitivity The amount of exposure energy (mJ / cm 2 ) that eliminates stickiness on the image surface after UV irradiation was defined as curing sensitivity. The smaller the value, the higher the sensitivity.
2.浸透性の評価
市販の再生紙に対し印字した画像について、下記の基準に従い浸透性の評価を行った。
○:殆ど浸透せず、残留モノマー臭もしない
△:僅かに浸透し、残留モノマー臭が僅かに認められる
×:明らかにインクが裏面側に浸透し、残留モノマー臭も強い
2. Evaluation of penetrability An image printed on commercially available recycled paper was evaluated for penetrability according to the following criteria.
○: Almost no penetration, no residual monomer odor Δ: Slight penetration, slight residual monomer odor X: Clearly the ink penetrates the back side and the residual monomer odor is strong
3.砂目立てしたアルミニウム支持体におけるインク滲み評価
砂目立てしたアルミニウム支持体上に印字した画像について、下記の基準に従いインク滲みの評価を行った。なお、本評価に用いた支持体は、後述のごとく作製した。
○:隣接するドット間の滲みが無い
△:僅かにドットが滲む
×:ドットが滲み、明らかに画像がぼやける
3. Evaluation of Ink Bleeding on Grained Aluminum Support An image printed on a grained aluminum support was evaluated for ink bleeding according to the following criteria. In addition, the support body used for this evaluation was produced as described later.
○: No blur between adjacent dots Δ: Slightly blur dots ×: Dot blurs and the image is clearly blurred
−支持体の作製−
Si:0.06質量%、Fe:0.30質量%、Cu:0.025質量%、Mn:0.001質量%、Mg:0.001質量%、Zn:0.001質量%、Ti:0.03質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理及びろ過を行った上で、厚さ500mm、幅1200mmの鋳塊をDC鋳造法で作製した。表面を平均10mmの厚さで面削機により削り取った後、550℃で、約5時間均熱保持し、温度400℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ2.7mmの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を500℃で行った後、冷間圧延で、厚さ0.24mmに仕上げ、JIS 1050材のアルミニウム板を得た。なお、得られたアルミニウムの平均結晶粒径の短径は50μm、長径は300μmであった。このアルミニウム板を幅1030mmにした後、以下に示す表面処理に供しアルミニウム支持体を作成した。
-Production of support-
Si: 0.06 mass%, Fe: 0.30 mass%, Cu: 0.025 mass%, Mn: 0.001 mass%, Mg: 0.001 mass%, Zn: 0.001 mass%, Ti: It contains 0.03% by mass, and the balance is prepared by using an aluminum alloy of Al and inevitable impurities. After the molten metal treatment and filtration, an ingot having a thickness of 500 mm and a width of 1200 mm is obtained by a DC casting method. Produced. After the surface was shaved with a chamfering machine with an average thickness of 10 mm, it was kept soaked at 550 ° C. for about 5 hours, and when the temperature dropped to 400 ° C., rolling with a thickness of 2.7 mm using a hot rolling mill A board was used. Furthermore, after performing heat processing using a continuous annealing machine at 500 degreeC, it finished by cold rolling to 0.24 mm in thickness, and obtained the aluminum plate of JIS1050 material. The obtained aluminum had an average crystal grain size with a minor axis of 50 μm and a major axis of 300 μm. After making this aluminum plate width 1030mm, it used for the surface treatment shown below and created the aluminum support body.
−表面処理−
表面処理は、以下の(a)〜(j)の各種処理を連続的に行った。なお、各処理及び水洗の後には、ニップローラーで液切りを行った。
(a)機械的粗面化処理
比重1.12の研磨剤(パミス)と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的粗面化処理を行った。研磨剤の平均粒径は30μm、最大粒径は100μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン、毛長は45mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであった。
(b)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板をカセイソーダ濃度2.6質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を10g/m2溶解した。その後、スプレーによる水洗を行った。
(c)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマット処理に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
-Surface treatment-
In the surface treatment, the following various treatments (a) to (j) were continuously performed. In addition, after each process and water washing, the liquid draining was performed with the nip roller.
(A) Mechanical surface roughening treatment While supplying a suspension of a polishing agent (pumice) having a specific gravity of 1.12 and water as a polishing slurry liquid to the surface of the aluminum plate, mechanical roughening is performed by a rotating nylon brush. Surface treatment was performed. The average particle size of the abrasive was 30 μm, and the maximum particle size was 100 μm. The material of the nylon brush was 6 · 10 nylon, the hair length was 45 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 7 kW plus with respect to the load before the brush roller was pressed against the aluminum plate. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate. The rotation speed of the brush was 200 rpm.
(B) Alkali etching treatment The aluminum plate obtained above was subjected to an etching treatment by spraying using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 2.6% by mass, an aluminum ion concentration of 6.5% by mass and a temperature of 70 ° C. / M 2 dissolved. Then, water washing by spraying was performed.
(C) Desmutting treatment The desmutting treatment was performed by spraying with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by mass of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a waste liquid from a process of performing an electrochemical surface roughening treatment using alternating current in a nitric acid aqueous solution.
(d)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10.5g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L、アンモニウムイオンを0.007質量%含む。)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間が0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で220C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。
(e)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.50g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
(f)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度15質量%水溶液(アルミニウムイオンを4.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
(D) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 10.5 g / L aqueous solution of nitric acid (containing 5 g / L of aluminum ions and 0.007% by mass of ammonium ions) at a liquid temperature of 50 ° C. AC power supply waveform is 0.8 msec until the current value reaches the peak from zero, duty ratio is 1: 1, and trapezoidal rectangular wave alternating current is used to perform electrochemical surface roughening treatment with the carbon electrode as the counter electrode. went. Ferrite was used for the auxiliary anode.
The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 220 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Then, water washing by spraying was performed.
(E) Alkaline etching treatment The aluminum plate was subjected to etching treatment at 32 ° C. using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass to dissolve the aluminum plate by 0.50 g / m 2 . Removes the smut component mainly composed of aluminum hydroxide that was generated when electrochemical roughening treatment was performed using the alternating current of the previous stage, and also melted the edge part of the generated pit to smooth the edge part. did. Then, water washing by spraying was performed.
(F) Desmut treatment Desmut treatment was performed by spraying with a 15% by weight aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 4.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used in the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in the nitric acid aqueous solution.
(g)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸5.0g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L含む。)、温度35℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間が0.8msec、duty比1:1、台形の炬形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気
量の総和で50C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(h)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.12g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
(i)デスマット処理
温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
(j)陽極酸化処理
陽極酸化装置(第一及び第二電解部長各6m、第一及び第二給電部長各3m、第一及び第二給電部長各2.4m)を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度50g/L(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、温度20℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。
(G) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a hydrochloric acid 5.0 g / L aqueous solution (containing 5 g / L of aluminum ions) at a temperature of 35 ° C. The AC power supply waveform is subjected to electrochemical surface roughening using a carbon electrode as a counter electrode, using a trapezoidal trapezoidal wave alternating current with a time until the current value reaches a peak from zero for 0.8 msec, a duty ratio of 1: 1. went. Ferrite was used for the auxiliary anode.
The current density was 25 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 50 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.
(H) Alkaline etching treatment The aluminum plate was subjected to an etching treatment at 32 ° C. using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass to dissolve the aluminum plate by 0.12 g / m 2 . Removes the smut component mainly composed of aluminum hydroxide that was generated when electrochemical roughening treatment was performed using the alternating current of the previous stage, and also melted the edge part of the generated pit to smooth the edge part. did. Then, water washing by spraying was performed.
(I) Desmutting treatment A desmutting treatment by spraying was performed with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid at a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), followed by washing with water by spraying.
(J) Anodizing treatment Anodizing treatment is performed using an anodizing apparatus (first and second electrolysis section length 6 m, first and second feeding section length 3 m, first and second feeding section length 2.4 m each). It was. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis units. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 50 g / L (containing 0.5 mass% of aluminum ions) and a temperature of 20 ° C. Then, water washing by spraying was performed. The final oxide film amount was 2.7 g / m 2 .
4.砂目立てしたアルミニウム支持体における密着性の評価
上記で作製した砂目立てしたアルミニウム支持体上に印字した画像について、全く印字面に傷をつけない試料と、JIS K 5400に準拠して、印字面上に1mm間隔で縦、横に11本の切れ目をいれ、1mm角の碁盤目を100個作った試料を作製し、各印字面上にセロテープ(登録商標)を貼り付け、90度の角度で素早く剥がし、剥がれずに残った印字画像或いは碁盤目の状況について、下記の基準に則り評価した。
○:碁盤目テストでも、印字画像の剥がれが全く認められない
△:碁盤目テストでは若干のインク剥がれが認められるが、インク面に傷をつけなければ剥がれは殆ど認められない
×:両条件共に、簡単にセロテープ(登録商標)での剥がれが認められる
4). Evaluation of adhesion in a grained aluminum support For the image printed on the grained aluminum support prepared above, a sample that does not scratch the printing surface at all, and on the printing surface in accordance with JIS K 5400 Make 11 samples in 1 mm intervals vertically and horizontally, and make 100 samples of 1 mm square grids, and apply cello tape (registered trademark) on each printed surface, quickly at an angle of 90 degrees The printed image remaining without being peeled off or the state of the grid was evaluated according to the following criteria.
○: No peeling of the printed image was observed even in the cross cut test. Δ: Some ink peeling was observed in the cross cut test, but almost no peeling was observed unless the ink surface was scratched. Easy to peel off with cello tape (registered trademark)
5.耐刷性の評価
上記で作製した砂目立てしたアルミニウム支持体上に印字した画像を印刷版として、ハイデルKOR−D機で印刷後、刷了枚数を耐刷性の指標として相対比較した(実施例1を150とした)。数値が大きいものほど高耐刷であり好ましい。
5. Evaluation of printing durability After printing on the Heidel KOR-D machine using the image printed on the grained aluminum support prepared above as a printing plate, a relative comparison was made using the number of printed sheets as an index of printing durability (Examples). 1 was 150). A larger numerical value is preferable because it provides higher printing durability.
6.保存安定性の評価
作製したインクを75%RH、60℃で3日保存した後、射出温度でのインク粘度を測定し、インク粘度の増加分を、保存後/保存前の粘度比で表した。粘度が変化せず1.0に近いほうが保存安定性良好であり、1.5未満であれば保存安定性があると判断した。
これらの評価結果を下記表1に示す。
6). Evaluation of storage stability After the prepared ink was stored at 75% RH and 60 ° C. for 3 days, the ink viscosity at the injection temperature was measured, and the increase in the ink viscosity was expressed as the viscosity ratio after storage / before storage. . It was judged that the storage stability was good when the viscosity did not change and was close to 1.0, and when it was less than 1.5, the storage stability was determined.
The evaluation results are shown in Table 1 below.
[実施例7]
(発光ダイオード(LED)による画像形成)
実施例1で調製したマゼンタインク1を使用し、また、Integration Technology社製メタルハライドランプVzero085の代わりに、紫外発光ダイオード(UV−LED)を用いた以外は、実施例1と同様にして、インクジェット画像記録を行った。
本実施例ではUV−LEDとして日亜化学製のNCCU033を用いた。当該LEDは1チップから波長365nmの紫外光を出力するものであって、約500mAの電流を通電することにより、チップから約100mWの光が発光される。これを7mm間隔に複数個配列し、被記録媒体(以下、メディアとも言う。)表面で0.3W/cm2のパワーが得られる。打滴後露光されるまでの時間、及び露光時間はメディアの搬送速度及びヘッドとLEDの搬送方向の距離により変更可能である。本実施例では着弾後、約0.5秒後に露光される。
メディアとの距離及び搬送速度の設定に応じて、メディア上の露光エネルギーを0.01〜15J/cm2の間で調整することができる。
[Example 7]
(Image formation by light emitting diode (LED))
Inkjet image as in Example 1 except that the magenta ink 1 prepared in Example 1 was used and an ultraviolet light emitting diode (UV-LED) was used instead of the metal halide lamp Vzero085 manufactured by Integration Technology. Recorded.
In this embodiment, NCCU033 manufactured by Nichia Corporation was used as the UV-LED. The LED outputs ultraviolet light having a wavelength of 365 nm from one chip. When a current of about 500 mA is applied, light of about 100 mW is emitted from the chip. A plurality of these are arranged at intervals of 7 mm, and a power of 0.3 W / cm 2 can be obtained on the surface of a recording medium (hereinafter also referred to as a medium). The exposure time after the droplet ejection and the exposure time can be changed according to the transport speed of the medium and the distance between the head and the LED in the transport direction. In this embodiment, the exposure is performed about 0.5 seconds after landing.
Depending on the setting of the distance to the medium and the conveyance speed, the exposure energy on the medium can be adjusted between 0.01 and 15 J / cm 2 .
[比較例3]
(発光ダイオード(LED)による画像形成)
実施例7において、マゼンタインク1の代わりに、比較例1にて調製したマゼンタインク7を用いた以外は、実施例7と同様にしてインクジェット画像記録を行った。
[Comparative Example 3]
(Image formation by light emitting diode (LED))
Ink jet image recording was performed in the same manner as in Example 7 except that in Example 7, instead of magenta ink 1, magenta ink 7 prepared in Comparative Example 1 was used.
<インクジェット画像の評価>
各形成した画像について、前記に記載の方法に準じて、硬化に必要な感度、市販の再生紙における浸透性、砂目立てしたアルミニウム支持体でのインク滲み、密着性、耐刷性、保存安定性の評価を実施例1〜6、比較例1及び2と同様にして行った。評価結果を表2に示す。
<Evaluation of inkjet image>
For each formed image, in accordance with the method described above, sensitivity required for curing, permeability in commercially available recycled paper, ink bleeding on grained aluminum support, adhesion, printing durability, storage stability Was evaluated in the same manner as in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2. The evaluation results are shown in Table 2.
表1に示す紫外線ランプを用いた場合と、表2に示す紫外発光ダイオードを用いた場合とを比較すると、紫外発光ダイオードを用いた場合のほうが、放射線の照射に対して高感度であり、また印刷版の作製に用いた場合であっても、高耐刷の画像の形成が可能であることが分かる。 Comparing the case where the ultraviolet lamp shown in Table 1 is used with the case where the ultraviolet light emitting diode shown in Table 2 is used, the case where the ultraviolet light emitting diode is used is more sensitive to radiation irradiation, and It can be seen that it is possible to form a high printing durability image even when it is used for producing a printing plate.
[比較例4]
実施例1で調製したマゼンタインク1において、重合性化合物として用いたモノマーのうち、化合物(a−1)11質量部を、下記比較化合物2を11質量部に変更した以外は、前記マゼンタインク1と同様にして、マゼンタインク9を調製した。マゼンタインク9は、硬化速度に劣り、粘度が高いインクであった。マゼンタインク9について測定した硬化速度及び粘度を下記表3に示す。実施例1で調製したマゼンタインク1の硬化速度及び粘度の測定結果についても表3に併記する。
粘度は、B型粘度計(LVDV−I、ブルックフィールド社製)を用い、回転数:20rpm、25℃の条件下で測定した。
In the magenta ink 1 prepared in Example 1, among the monomers used as the polymerizable compound, the magenta ink 1 was changed except that 11 parts by mass of the compound (a-1) was changed to 11 parts by mass of the following comparative compound 2. In the same manner as described above, magenta ink 9 was prepared. The magenta ink 9 was an ink having a low viscosity and a high viscosity. The curing rate and viscosity measured for magenta ink 9 are shown in Table 3 below. The measurement results of the curing speed and viscosity of the magenta ink 1 prepared in Example 1 are also shown in Table 3.
The viscosity was measured using a B-type viscometer (LVDV-I, manufactured by Brookfield) under the conditions of a rotational speed of 20 rpm and 25 ° C.
Claims (12)
(一般式(II)中、R1は、炭素数2〜6のアルキレン基を表す。nは2〜8の整数を示す。前記部分構造(I)及び前記部分構造(II)は、1個の前記部分構造(II)が、アルキレン基を介して前記部分構造(I)に含まれる環状エーテル中の炭素原子に連結するか、又は、2個以上の前記部分構造(II)の各々が、アルキレン基を介して前記部分構造(I)に含まれる環状エーテル中の炭素原子に連結する。)
(一般式(III)中、R 11 は、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表し、R 12 は、アルキレン基、又はシクロアルキレン基を表す。一般式(IV)中、R 13 は、炭素数2〜6のアルキレン基を表し、R 14 は、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表す。nは2〜8の整数を示す。Xは脱離基を表す。) The following general formula one partial structure (I) containing a cyclic ether 4-membered ring of the formula (I) and the partial structure (I) to be connected via an alkylene group which has the following general formula (II) A partial structure (II) represented by the formula, and produced by an etherification reaction between an oxetane alcohol compound represented by the following general formula (III) and an ether compound represented by the following general formula (IV) inkjet recording ink composition characterized by containing the compound.
(In the general formula (II), R 1 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms . N represents an integer of 2 to 8. The partial structure (I) and the partial structure (II) are each one. The partial structure (II) is linked to a carbon atom in the cyclic ether contained in the partial structure (I) via an alkylene group, or each of two or more of the partial structures (II) is Linked to a carbon atom in the cyclic ether contained in the partial structure (I) via an alkylene group.)
(In General Formula (III), R 11 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group, and R 12 represents an alkylene group or a cycloalkylene group. In General Formula (IV), R 13 represents Represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, R 14 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group, n represents an integer of 2 to 8, and X represents a leaving group.
吐出されたインク組成物に活性放射線を照射してインク組成物を硬化する工程、を含むインクジェット記録方法であって、前記インク組成物が請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載のインク組成物であるインクジェット記録方法。 An ink jet recording method comprising: a step of ejecting an ink composition onto a recording medium using an ink jet recording apparatus; and a step of irradiating the ejected ink composition with active radiation to cure the ink composition. An ink jet recording method, wherein the composition is the ink composition according to any one of claims 1 to 7 .
吐出されたインク組成物に活性放射線を照射して、前記インク組成物を硬化させることにより、前記インク組成物が硬化してなる疎水性画像を前記支持体上に形成する工程、を含む平版印刷版の製造方法。 A step of discharging the ink composition according to any one of claims 1 to 7 onto a support, and irradiating the discharged ink composition with actinic radiation to cure the ink composition. A method for producing a lithographic printing plate, comprising: forming a hydrophobic image formed by curing the ink composition on the support.
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