JP2007112788A - Oxetane compound - Google Patents
Oxetane compound Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007112788A JP2007112788A JP2006222615A JP2006222615A JP2007112788A JP 2007112788 A JP2007112788 A JP 2007112788A JP 2006222615 A JP2006222615 A JP 2006222615A JP 2006222615 A JP2006222615 A JP 2006222615A JP 2007112788 A JP2007112788 A JP 2007112788A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- general formula
- compound
- represented
- oxetane compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Abandoned
Links
Images
Landscapes
- Polyethers (AREA)
- Epoxy Compounds (AREA)
Abstract
Description
本発明は新規なオキセタン化合物に関する。 The present invention relates to a novel oxetane compound.
オキセタン化合物は、光カチオン重合や酸無水物を用いる熱重合に適用される材料として、従来、多種のものが報告されている（例えば、下記特許文献１〜３参照。）
例えば、下記特許文献３には、下記式で表されるオキセタン化合物（オキセタン環含有(メタ)アクリル酸エステル）が開示される。
Conventionally, various oxetane compounds have been reported as materials applied to photocationic polymerization and thermal polymerization using an acid anhydride (for example, see
For example,
本発明は、新規なオキセタン化合物を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a novel oxetane compound.
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
＜１＞ 下記一般式（Ｉ）で表される化合物。
Means for solving the above-mentioned problems are as follows.
<1> A compound represented by the following general formula (I).
一般式（Ｉ）中、Ｒ1及びＲ4は、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表す。Ｒ3は、アルキレン基、シクロアルキレン基、又はアリーレン基を表す。ｎは１〜８の整数を示す。 In general formula (I), R 1 and R 4 each independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group. R 3 represents an alkylene group, a cycloalkylene group, or an arylene group. n shows the integer of 1-8.
本発明によれば、硬化性組成物の重合性成分として有用な、新規なオキセタン化合物を提供することができる。 According to the present invention, a novel oxetane compound useful as a polymerizable component of a curable composition can be provided.
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The present invention is a compound represented by the following general formula (I).
一般式（Ｉ）中、Ｒ1及びＲ4は、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表す。Ｒ3は、アルキレン基、シクロアルキレン基、又はアリーレン基を表す。ｎは１〜８の整数を示す。 In general formula (I), R 1 and R 4 each independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group. R 3 represents an alkylene group, a cycloalkylene group, or an arylene group. n shows the integer of 1-8.
一般式（Ｉ）中、Ｒ1及びＲ4で表されるアルキル基としては、炭素原子数１〜１０（好ましくは１〜６、より好ましくは１〜４）のアルキル基が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。 In the general formula (I), the alkyl group represented by R 1 and R 4, include an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4). Specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group.
Ｒ1で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。
Ｒ4で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。
The alkyl group represented by R 1, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group are preferable, methyl group, ethyl group, propyl group are more preferable.
As the alkyl group represented by R 4 , a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group are preferable, and a methyl group, an ethyl group, and a propyl group are more preferable.
一般式（Ｉ）中、Ｒ1及びＲ4で表されるシクロアルキル基としては、炭素原子数４〜１２（好ましくは５〜７、より好ましくは５〜６）のシクロアルキル基が挙げられる。具体的には、シクロヘプチル基、シクロへキシル基、シクロペンチル基、ビシクロ環基等が挙げられる。 In the general formula (I), examples of the cycloalkyl group represented by R 1 and R 4 include cycloalkyl groups having 4 to 12 (preferably 5 to 7, more preferably 5 to 6) carbon atoms. Specific examples include a cycloheptyl group, a cyclohexyl group, a cyclopentyl group, and a bicyclo ring group.
Ｒ1で表されるシクロアルキル基としては、シクロヘプチル基、シクロへキシル基、シクロペンチル基が好ましく、シクロヘプチル基、シクロへキシル基がより好ましい。
Ｒ4で表されるシクロアルキル基としては、シクロヘプチル基、シクロへキシル基、シクロペンチル基が好ましく、シクロヘプチル基、シクロへキシル基がより好ましい。
The cycloalkyl group represented by R 1 is preferably a cycloheptyl group, a cyclohexyl group, or a cyclopentyl group, and more preferably a cycloheptyl group or a cyclohexyl group.
As the cycloalkyl group represented by R 4 , a cycloheptyl group, a cyclohexyl group, and a cyclopentyl group are preferable, and a cycloheptyl group and a cyclohexyl group are more preferable.
Ｒ1及びＲ4で表されるフェニル基としては、炭素原子数６〜１２（好ましくは６〜１２、より好ましくは６〜８）のアリール基が挙げられる。具体的には、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ベンジル基等が挙げられる。 Examples of the phenyl group represented by R 1 and R 4 include an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (preferably 6 to 12, more preferably 6 to 8). Specific examples include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, and a benzyl group.
Ｒ1で表されるアリール基としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ベンジル基が好ましく、フェニル基、ベンジル基がより好ましい。
Ｒ4で表されるアリール基としてはフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ベンジル基が好ましく、フェニル基、ベンジル基がより好ましい。
The aryl group represented by R 1, a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, a benzyl group is preferred, a phenyl group, a benzyl group is more preferable.
The aryl group represented by R 4 is preferably a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, or a benzyl group, and more preferably a phenyl group or a benzyl group.
Ｒ3で表されるアルキレン基としては、炭素原子数２〜１２（好ましくは２〜８、より好ましくは２〜６）のアルキレン基が挙げられる。具体的には、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基等が挙げられる。 Examples of the alkylene group represented by R 3 include alkylene groups having 2 to 12 (preferably 2 to 8, more preferably 2 to 6) carbon atoms. Specific examples include an ethylene group, a propylene group, an isopropylene group, a butylene group, a pentylene group, and a hexylene group.
Ｒ3で表されるシクロアルキレン基としては、炭素原子数４〜１２（好ましくは４ 〜８、より好ましくは５〜７）のシクロアルキレン基が挙げられる。具体的には、シクロヘプチル基、シクロへキシル基、シクロペンチル基、ビシクロ環基等の基から水素原子を１個除した基が挙げられる。
Ｒ3で表されるアリーレン基としては、炭素原子数６〜１２（好ましくは６〜１２、より好ましくは６〜８）のアリーレン基が挙げられる。具体的には、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ベンジル基が好ましく、フェニル基、ベンジル基等の基から水素原子を１個除した基が挙げられる。
Examples of the cycloalkylene group represented by R 3 include cycloalkylene groups having 4 to 12 (preferably 4 to 8, more preferably 5 to 7) carbon atoms. Specific examples include groups in which one hydrogen atom has been removed from a group such as a cycloheptyl group, a cyclohexyl group, a cyclopentyl group, or a bicyclo ring group.
Examples of the arylene group represented by R 3 include an arylene group having 6 to 12 carbon atoms (preferably 6 to 12 and more preferably 6 to 8). Specifically, a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, and a benzyl group are preferable, and a group obtained by removing one hydrogen atom from a group such as a phenyl group or a benzyl group can be given.
Ｒ1、Ｒ3、及びＲ4は、導入可能な場合、更に置換基を有していてもよい。該置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、ニトロ基、アミノ基等が挙げられる。 R 1 , R 3 , and R 4 may further have a substituent when they can be introduced. Examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group, a nitro group, and an amino group.
一般式（Ｉ）で表される化合物としては、Ｒ1が炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ3が炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ4が炭素数１〜４のアルキル基である態様が好ましい。 As a compound represented by the general formula (I), R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 3 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 4 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. The aspect which is an alkyl group is preferable.
ｎは、１〜８の整数であり、１〜６の整数が好ましく、２〜４の整数がより好ましい。一般式（Ｉ）におけるｎが１〜８の整数であることで、該一般式（Ｉ）で表される化合物を硬化性組成物の重合性成分として適用した場合には、低粘度且つ高感度な硬化性組成物を得ることができる。 n is an integer of 1 to 8, an integer of 1 to 6 is preferable, and an integer of 2 to 4 is more preferable. When n in the general formula (I) is an integer of 1 to 8, when the compound represented by the general formula (I) is applied as a polymerizable component of the curable composition, low viscosity and high sensitivity. A curable composition can be obtained.
以下、一般式（Ｉ）で表される化合物の代表的な具体例〔例示化合物（１）〜（８）〕を挙げるが、本発明はこれらの具体例に何ら限定されるものではない。 Hereinafter, typical specific examples [Exemplary compounds (1) to (8)] of the compound represented by the general formula (I) are listed, but the present invention is not limited to these specific examples.
一般式（Ｉ）で表される化合物は、下記の製造方法により製造することができる。 The compound represented by the general formula (I) can be produced by the following production method.
（１）原料
一般式（Ｉ）で表されるオキセタン化合物を製造する際の原料について説明する。
一般式（Ｉ）で表されるオキセタン化合物はの原料としては、脱ハロゲン化水素反応であるモトイの方法（Motoi、et. Al. ,Bull. Chem. Soc.Jpn.61,1998 ）に準拠して、オキセタン化合物を製造できるものであれば、いずれの原料も使用することができる。具体的には、下記一般式（II）で表されるオキセタンアルコール化合物と、下記一般式（III）で表されるハロゲン基又はスルホン酸エステル基等の脱離基を有するエーテル化合物とのエーテル化反応により、一般式（Ｉ）で表されるオキセタン化合物を製造することができる。
(1) Raw material The raw material at the time of manufacturing the oxetane compound represented by general formula (I) is demonstrated.
The raw material of the oxetane compound represented by the general formula (I) is based on the Motoi method (Motoi, et. Al., Bull. Chem. Soc. Jpn. 61, 1998), which is a dehydrohalogenation reaction. Any raw material can be used as long as it can produce an oxetane compound. Specifically, etherification of an oxetane alcohol compound represented by the following general formula (II) and an ether compound having a leaving group such as a halogen group or a sulfonate group represented by the following general formula (III) By the reaction, an oxetane compound represented by the general formula (I) can be produced.
一般式（II）中、Ｒ1は、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表す。
一般式（III）中、Ｒ3は、アルキレン基、シクロアルキレン基、又はアリーレン基を表し、Ｒ4は、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表す。ｎは１〜８の整数を示す。Ｘはハロゲン基又はスルホン酸エステル基等の脱離基を表す。
In general formula (II), R 1 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group.
In general formula (III), R 3 represents an alkylene group, a cycloalkylene group, or an arylene group, and R 4 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group. n shows the integer of 1-8. X represents a leaving group such as a halogen group or a sulfonate group.
一般式（II）で表されるオキセタンアルコール化合物の具体例としては、３−メチル−３−オキセタンメタノール、３−エチル−３−オキセタンメタノール、３−プロピル−３−オキセタンメタノール等の１種単独又は２種以上の組み合わせが挙げられる。 Specific examples of the oxetane alcohol compound represented by the general formula (II) include one kind such as 3-methyl-3-oxetanemethanol, 3-ethyl-3-oxetanemethanol, 3-propyl-3-oxetanemethanol alone or A combination of two or more types can be mentioned.
一般式（III）で表されるハロゲン基又はスルホン酸エステル基等の脱離基を有するエーテル化合物の具体例としては、２−クロルエチルエチルエーテル、２−ブロムエチルエチルエーテル、３−クロルプロピルエチルエーテル、３−ブロムプロピルエチルエーテル、４−クロルブチルエチルエーテル、４−ブロムブチルエチルエーテル、２−ブロモエチルメチルエーテル、エチレングリコール２−ブロモエチルエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルトシルエーテル等の１種単独又は２種以上の組み合わせが挙げられる。 Specific examples of the ether compound having a leaving group such as a halogen group or a sulfonate group represented by the general formula (III) include 2-chloroethyl ethyl ether, 2-bromoethyl ethyl ether, 3-chloropropyl ethyl. Ether, 3-bromopropyl ethyl ether, 4-chlorobutyl ethyl ether, 4-bromobutyl ethyl ether, 2-bromoethyl methyl ether, ethylene glycol 2-bromoethyl ethyl ether, diethylene glycol ethyl tosyl ether, etc. A combination of more than one species can be mentioned.
一般式（II）で表されるオキセタンアルコール化合物と、一般式（III）で表されるハロゲン基又はスルホン酸エステル基等の脱離基を有するエーテル化合物との反応割合は特に制限されるものではないが、一般式（II）で表されるオキセタンアルコール化合物１モルあたり、一般式（III）で表されるハロゲン基又はスルホン酸エステル基等の脱離基を有するエーテル化合物を０．１〜１０モルの範囲内で反応させることが好ましい。更に、一般式（II）で表されるオキセタンアルコール化合物１モルあたり、一般式（III）で表されるハロゲン基又はスルホン酸エステル基等の脱離基を有するエーテル化合物を０．３〜３．０モルの範囲内で反応させることがより好ましい。 The reaction rate of the oxetane alcohol compound represented by the general formula (II) and the ether compound having a leaving group such as a halogen group or a sulfonate group represented by the general formula (III) is not particularly limited. Although there is no ether compound having a leaving group such as a halogen group or a sulfonate group represented by the general formula (III) per mole of the oxetane alcohol compound represented by the general formula (II) It is preferable to react within the molar range. Furthermore, per 1 mole of oxetane alcohol compound represented by the general formula (II), an ether compound having a leaving group such as a halogen group or a sulfonate group represented by the general formula (III) is used in an amount of 0.3 to 3. It is more preferable to react within the range of 0 mol.
（２）反応温度
一般式（Ｉ）で表されるオキセタン化合物を製造する際の反応温度について説明する。反応温度は、オキセタン化合物の収率等を考慮して定められるが、例えば、０〜１００℃の範囲内の温度が好ましい。反応温度が０℃未満となると、反応原料の反応性が著しく低下し、収率が極端に低下する傾向があり、一方、反応温度が１００℃を超えると、使用可能な有機溶媒の種類が限定される傾向がある。したがって、オキセタン化合物を製造する際の反応温度を、１０〜９０℃の範囲内の値とするのがより好ましく、２０〜８０℃の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
(2) Reaction temperature The reaction temperature at the time of manufacturing the oxetane compound represented by the general formula (I) will be described. The reaction temperature is determined in consideration of the yield of the oxetane compound and the like, and for example, a temperature within the range of 0 to 100 ° C. is preferable. When the reaction temperature is less than 0 ° C., the reactivity of the reaction raw materials is remarkably reduced, and the yield tends to be extremely reduced. On the other hand, when the reaction temperature exceeds 100 ° C., the types of usable organic solvents are limited. Tend to be. Accordingly, the reaction temperature for producing the oxetane compound is more preferably set to a value within the range of 10 to 90 ° C, and further preferably set to a value within the range of 20 to 80 ° C.
（３）反応時間
一般式（Ｉ）で表されるオキセタン化合物を製造する際の反応時間について説明する。 オキセタン化合物を製造する際の反応時間は、オキセタン化合物の収率や反応温度等を考慮して定められるが、例えば、０〜１００℃の反応温度において、１０分〜１００時間の範囲内の値とするのが好ましい。反応時間が１０分未満となると、未反応原料が多く残留する傾向があり、一方、反応時間が１００時間を超えると、生産性が低下する傾向がある。したがって、オキセタン化合物を製造する際の反応時間を、３０分〜５０時間の範囲内の値とするのがより好ましく、１〜１０時間の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
(3) Reaction time The reaction time for producing the oxetane compound represented by the general formula (I) will be described. The reaction time for producing the oxetane compound is determined in consideration of the yield of the oxetane compound, the reaction temperature, and the like. For example, at a reaction temperature of 0 to 100 ° C., a reaction time of 10 minutes to 100 hours It is preferable to do this. When the reaction time is less than 10 minutes, a large amount of unreacted raw material tends to remain, whereas when the reaction time exceeds 100 hours, productivity tends to decrease. Therefore, the reaction time for producing the oxetane compound is more preferably set to a value within the range of 30 minutes to 50 hours, and further preferably set to a value within the range of 1 to 10 hours.
（４）反応雰囲気（ｐＨ）
一般式（Ｉ）で表されるオキセタン化合物を製造する際の反応雰囲気（ｐＨ）について説明する。反応雰囲気（ｐＨ値）は、オキセタン化合物の収率等を考慮して定められるが、例えば、５〜１４の範囲内の値とするのが好ましい。ｐＨ値が５未満となると、副反応が生じやすくなり、収率が低下する傾向があり、一方、ｐＨ値が１４を超えると、使用原料の種類が過度に制限される傾向がある。したがって、オキセタン化合物を製造する際のｐＨ値を、６〜１４の範囲内の値とするのがより好ましく、７〜１４の範囲内の値とするのがさらに好ましい。なお、このような範囲内の値にｐＨ値を調整するために、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリを添加使用することが好まし
い。
(4) Reaction atmosphere (pH)
The reaction atmosphere (pH) when producing the oxetane compound represented by the general formula (I) will be described. The reaction atmosphere (pH value) is determined in consideration of the yield of the oxetane compound and the like, but is preferably set to a value in the range of 5 to 14, for example. When the pH value is less than 5, side reactions tend to occur and the yield tends to decrease. On the other hand, when the pH value exceeds 14, the types of raw materials used tend to be excessively limited. Therefore, the pH value when producing the oxetane compound is more preferably set to a value within the range of 6 to 14, and further preferably set to a value within the range of 7 to 14. In order to adjust the pH value to a value within such a range, it is preferable to add and use an alkali such as sodium hydroxide or potassium hydroxide.
（５）相間移動触媒
一般式（Ｉ）で表されるオキセタン化合物を製造する際に使用する相間移動触媒について説明する。相間移動触媒は、オキセタンアルコール化合物とハロゲン基又はスルホン酸エステル基等の脱離基を有するエーテル化合物との反応性を向上させるために添加するが、例えば、原料の総量を１００質量部としたときに、相間移動触媒の添加量を０．１〜３０質量部の範囲内の値とするのが好ましい。相間移動触媒の添加量が０．１質量部未満となると、原料同士の反応性が著しく低下し、収率が極端に低下する傾向があり、一方、相間移動触媒の添加量が３０質量量部を超えると、精製が困難となる傾向がある。したがって、オキセタン化合物を製造する際に使用する相間移動触媒の添加量を、原料１００質量部あたり、１．０〜２０．０質量部の範囲内の値とするのがより好ましく、２．０〜１０．０質量部の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
(5) Phase transfer catalyst The phase transfer catalyst used when manufacturing the oxetane compound represented by general formula (I) will be described. The phase transfer catalyst is added to improve the reactivity between the oxetane alcohol compound and an ether compound having a leaving group such as a halogen group or a sulfonate group. For example, when the total amount of raw materials is 100 parts by mass Moreover, it is preferable to make the addition amount of a phase transfer catalyst into the value within the range of 0.1-30 mass parts. When the addition amount of the phase transfer catalyst is less than 0.1 parts by mass, the reactivity between the raw materials is remarkably lowered and the yield tends to be extremely reduced, while the addition amount of the phase transfer catalyst is 30 parts by mass. If it exceeds 1, it tends to be difficult to purify. Therefore, it is more preferable that the amount of the phase transfer catalyst used when producing the oxetane compound is set to a value within the range of 1.0 to 20.0 parts by mass per 100 parts by mass of the raw material. More preferably, the value is within the range of 10.0 parts by mass.
相間移動触媒の種類については、特に制限されるものではないが、例えば、４級アンモニウム塩および４級ホスホニウム塩あるいはいずれか一方の化合物であることが好ましい。より具体的には、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロミド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド、トリエチルヘキサデシルアンモニウムブロミド、トリオクチルメチルアンモニウムブロミド、メチルトリフェニルホスホニウムブロミド、トリエチルヘキサデシルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、テトラブチルホスホニウムブロミド等の１種単独あるいは２種以上の組み合わせが挙げられる。 The type of the phase transfer catalyst is not particularly limited, but is preferably, for example, a quaternary ammonium salt and a quaternary phosphonium salt or one of the compounds. More specifically, tetra-n-butylammonium bromide, tetramethylammonium bromide, benzyltriethylammonium bromide, hexadecyltrimethylammonium bromide, triethylhexadecylammonium bromide, trioctylmethylammonium bromide, methyltriphenylphosphonium bromide, triethylhexa One type of decylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, tetrabutylphosphonium bromide, or a combination of two or more types can be used.
（６）有機溶媒
一般式（Ｉ）で表されるオキセタン化合物を製造する際に使用する有機溶媒について説明する。有機溶剤としては、原料について良溶媒であり、また、製造が容易となる観点から、大気圧下での沸点が２５０℃以下の液体であることが好ましい。このような有機溶媒の例を挙げると、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよびシクロヘキサノンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミルおよびγ−ブチロラクトンなどのエステル類、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類の１種単独あるいは２種以上の組み合わせが挙げられる。
(6) Organic solvent The organic solvent used when manufacturing the oxetane compound represented by general formula (I) is demonstrated. The organic solvent is preferably a liquid having a boiling point of 250 ° C. or less under atmospheric pressure from the viewpoint of being a good solvent for the raw material and facilitating production. Examples of such organic solvents include hydrocarbons such as hexane, heptane and octane, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, ethers such as diethyl ether, dibutyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane. 1 or 2 of ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, amyl acetate and γ-butyrolactone, and aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene A combination of more than one species can be mentioned.
上記製造方法により得られた化合物は、１Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲスペクトルにより構造を確認することができる。 The structure of the compound obtained by the above production method can be confirmed by 1H-NMR and IR spectrum.
以下、実施例により本発明を具体的に示すが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example shows this invention concretely, this invention is not limited to these Examples.
（実施例１）
５００ｍｌ三口フラスコに冷却管、滴下ロートを二つ設置した。この５００ｍｌ三口フラスコに、５０ｗｔ％ＫＯＨ １００ｇ、ｔｅｔｒａｂｕｔｙｌａｍｍｏｎｉｕｍｂｒｏｍｉｄｅ ４．９９ｇ（１４．７ｍｍｏｌ）、Ｈｅｘａｎｅ ２００ｍｌを入れた。更に、冷却バスを用いて０℃まで降温した。一方の滴下ロートに３−ｅｔｈｙｌ−３−ｏｘｅｔａｎｅｍｅｔｈａｎｏｌ ３４．８５ｇ（０．３ｍｏｌ）を入れ、もう一方の滴下ロートに ２−ｂｒｏｍｏｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈｙｌ ｅｔｈｅｒ ４５．８７ｇ（０．３３ｍｏｌ）を入れ、両方同時にゆっくり滴下開始した。１時間後、滴下終了し、そのまま、攪拌を３０分間継続した。その後、室温まで昇温させ、１時間攪拌した。更に、オイルバスを用いて外温８０℃まで昇温させた。そのまま、４時間攪拌した。反応終了後、水と飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後濾過、濾液をエバポレーターで濃縮した。濃縮した濾液をシリカゲルカラム（展開溶液：Ｈｅｘａｎｅ／ｅｔｈｙｌａｃｅｔａｔｅ＝９／１）を用いて精製した。以上により目的とする化合物１（下記構造）を収量１３．１４ｇで得た。化合物１の構造は1Ｈ−ＮＭＲで確認した。化合物１の1Ｈ−ＮＭＲチャートを図１に示す。
Example 1
Two condensers and a dropping funnel were placed in a 500 ml three-necked flask. In this 500 ml three-necked flask, 100 g of 50 wt% KOH, 4.99 g (14.7 mmol) of tetrabutylammonium bromide and 200 ml of Hexane were added. Further, the temperature was lowered to 0 ° C. using a cooling bath. Add 34.85 g (0.3 mol) of 3-ethyl-3-oxethaneethanol into one dropping funnel and 45.87 g (0.33 mol) of 2-bromoethyl methyl ether into the other dropping funnel, and slowly start dripping both simultaneously did. After 1 hour, the dropping was completed, and stirring was continued for 30 minutes. Then, it heated up to room temperature and stirred for 1 hour. Furthermore, the temperature was raised to 80 ° C. using an oil bath. The mixture was stirred as it was for 4 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was washed with water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, filtered, and the filtrate was concentrated with an evaporator. The concentrated filtrate was purified using a silica gel column (developing solution: Hexane / ethylate = 9/1). As a result, the target compound 1 (the following structure) was obtained in a yield of 13.14 g. The structure of
（実施例２）
１Ｌ三口フラスコに冷却管、滴下ロートを二つ設置した。この１Ｌ三口フラスコに、５０ｗｔ％ＫＯＨ ２００ｇ、tetrabutylammoniumbromide ５．１ｇ（１５．０ｍｍｏｌ）、Ｈｅｘａｎｅ４００ｍｌを入れた。更に、冷却バスを用いて０℃まで降温した。一方の滴下ロートに3-ethyl-3-oxetanemethanol ３４．８５ｇ（０．３ｍｏｌ）を入れ、もう一方の滴下ロートにdiethyleneglycol ethyl tosyl ether ９５．１ｇ（０．３３ｍｏｌ）を入れ、両方同時にゆっくり滴下開始した。１時間後、滴下終了し、そのまま、攪拌を３０分間継続した。その後、室温まで昇温させ、１時間攪拌した。更に、オイルバスを用いて外温８０℃まで昇温させた。そのまま、４時間攪拌した。反応終了後、水と飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後濾過、濾液をエバポレーターで濃縮した。濃縮した濾液をシリカゲルカラム（展開溶液：Hexane／ethylacetate＝９／１）を用いて精製した。以上により目的とする化合物２（下記構造）を収量５．０ｇで得た。化合物２の構造は1Ｈ−ＮＭＲで確認した。化合物２の1Ｈ−ＮＭＲチャートを図２に示す。
(Example 2)
Two condensers and a dropping funnel were installed in a 1 L three-necked flask. Into this 1 L three-necked flask, 200 g of 50 wt% KOH, 5.1 g (15.0 mmol) of tetrabutylammonium bromide, and 400 ml of Hexane were added. Further, the temperature was lowered to 0 ° C. using a cooling bath. 34.85 g (0.3 mol) of 3-ethyl-3-oxetanemethanol was put into one dropping funnel, and 95.1 g (0.33 mol) of diethyleneglycol ethyl tosyl ether was put into the other dropping funnel. . After 1 hour, the dropping was completed, and stirring was continued for 30 minutes. Then, it heated up to room temperature and stirred for 1 hour. Furthermore, the temperature was raised to 80 ° C. using an oil bath. The mixture was stirred as it was for 4 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was washed with water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, filtered, and the filtrate was concentrated with an evaporator. The concentrated filtrate was purified using a silica gel column (developing solution: Hexane / ethylacetate = 9/1). Thus, the target compound 2 (the following structure) was obtained in a yield of 5.0 g. The structure of
本発明の化合物は、反応性に優れ、カチオン重合開始剤と共に用いる硬化性組成物の重合性成分として有用である。この硬化性組成物は、低粘度且つ高感度な硬化性組成物であり、ＵＶ硬化インク、接着剤、コーティング剤などに好適に適用しうる。 The compound of the present invention has excellent reactivity and is useful as a polymerizable component of a curable composition used with a cationic polymerization initiator. This curable composition is a curable composition having low viscosity and high sensitivity, and can be suitably applied to UV curable inks, adhesives, coating agents, and the like.
Claims (1)
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006222615A JP2007112788A (en) | 2005-08-23 | 2006-08-17 | Oxetane compound |
| AT06017546T ATE410460T1 (en) | 2005-08-23 | 2006-08-23 | CURABLE INK CONTAINING MODIFIED OXETANE |
| EP06017546A EP1757635B1 (en) | 2005-08-23 | 2006-08-23 | Curable ink comprising modified oxetane compound |
| DE602006003029T DE602006003029D1 (en) | 2005-08-23 | 2006-08-23 | Curable ink containing modified oxetane |
| US11/508,292 US20070049651A1 (en) | 2005-08-23 | 2006-08-23 | Curable composition, ink composition, inkjet recording method, printed material, method of producing planographic printing plate, planographic printing plate, and oxcetane compound |
| US12/433,333 US20100136300A1 (en) | 2005-08-23 | 2009-04-30 | Curable composition, ink composition, inkjet recording method, printed material, method of producing planographic printing plate, planographic printing plate and oxetane compound |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005240929 | 2005-08-23 | ||
| JP2005278903 | 2005-09-26 | ||
| JP2006222615A JP2007112788A (en) | 2005-08-23 | 2006-08-17 | Oxetane compound |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007112788A true JP2007112788A (en) | 2007-05-10 |
Family
ID=38095292
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006222615A Abandoned JP2007112788A (en) | 2005-08-23 | 2006-08-17 | Oxetane compound |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2007112788A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007112978A (en) * | 2005-09-26 | 2007-05-10 | Fujifilm Corp | Curable composition, ink composition, inkjet recording method, printed product, method for producing lithographic printing plate and lithographic printing plate |
| CN111909118A (en) * | 2019-05-07 | 2020-11-10 | 常州强力先端电子材料有限公司 | Oxetane compound, photocurable composition, ink and use thereof |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11152441A (en) * | 1997-11-21 | 1999-06-08 | Kansai Paint Co Ltd | Ultraviolet-curing composition for coating can |
| JP2001181385A (en) * | 1999-12-24 | 2001-07-03 | Kansai Paint Co Ltd | Cationically polymerizable coloring composition |
| JP2002260441A (en) * | 2001-03-06 | 2002-09-13 | Ube Ind Ltd | Polymeric solid electrolyte and method of making the same |
| JP2004149486A (en) * | 2002-10-31 | 2004-05-27 | Mitsubishi Chemicals Corp | Method for producing oxetane derivative |
| US20050084683A1 (en) * | 2003-07-09 | 2005-04-21 | Wynne Kenneth J. | Method for polymeric surface modification |
-
2006
- 2006-08-17 JP JP2006222615A patent/JP2007112788A/en not_active Abandoned
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11152441A (en) * | 1997-11-21 | 1999-06-08 | Kansai Paint Co Ltd | Ultraviolet-curing composition for coating can |
| JP2001181385A (en) * | 1999-12-24 | 2001-07-03 | Kansai Paint Co Ltd | Cationically polymerizable coloring composition |
| JP2002260441A (en) * | 2001-03-06 | 2002-09-13 | Ube Ind Ltd | Polymeric solid electrolyte and method of making the same |
| JP2004149486A (en) * | 2002-10-31 | 2004-05-27 | Mitsubishi Chemicals Corp | Method for producing oxetane derivative |
| US20050084683A1 (en) * | 2003-07-09 | 2005-04-21 | Wynne Kenneth J. | Method for polymeric surface modification |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007112978A (en) * | 2005-09-26 | 2007-05-10 | Fujifilm Corp | Curable composition, ink composition, inkjet recording method, printed product, method for producing lithographic printing plate and lithographic printing plate |
| CN111909118A (en) * | 2019-05-07 | 2020-11-10 | 常州强力先端电子材料有限公司 | Oxetane compound, photocurable composition, ink and use thereof |
| CN111909118B (en) * | 2019-05-07 | 2022-05-17 | 常州强力先端电子材料有限公司 | Oxetane compound, photocurable composition, ink and use thereof |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2007112788A (en) | Oxetane compound | |
| JP5305580B2 (en) | Oxetane compounds | |
| JP2009269820A (en) | Method for producing basket-formed siloxane compound | |
| TWI720410B (en) | Method for manufacturing potash and potash | |
| JP6204583B2 (en) | Process for producing α-bromoacetophenone compound | |
| JP2006298922A (en) | Method of producing unsaturated cyclic orthoester | |
| JP3697045B2 (en) | Process for producing β-hydrazino esters and pyrazolidinones, pyrazolones and β-amino acid derivatives | |
| JP2009007301A (en) | METHOD FOR PRODUCING alpha-METHYLENE-gamma-BUTYROLACTONE | |
| JP2005047852A (en) | Method for producing 1-organoxytetrasiloxane | |
| JP5177374B2 (en) | (Meth) acrylic acid ester and method for producing the same | |
| JP2013049657A (en) | Isocyanurate compound | |
| CN111499524B (en) | Method for preparing amino alcohol compound by using halogenated intermediate | |
| KR102376869B1 (en) | Method for producing iodine-containing silicon compound | |
| JP2012153642A (en) | Sulfonium compound | |
| JP2008231223A (en) | Novel oxetane derivative of novolac resin and its preparation method | |
| KR102157528B1 (en) | Method for producing 2-aminonicotinic acid benzyl ester derivative | |
| JP2007254293A (en) | METHOD FOR PRODUCING alpha-METHYLENE-beta-ALKYL-gamma-BUTYROLACTONE | |
| JP2007131582A (en) | Adamantyl ester compound | |
| JP2649535B2 (en) | Epoxy compound, method for producing the same, and curable composition containing the same | |
| JP2580282B2 (en) | Method for producing polyoxacyclodiene compound | |
| KR101691792B1 (en) | Enantiomerically pure binaphtol derivatives and method for preparing the same | |
| JP4781048B2 (en) | Process for producing disubstituted β-ketoesters | |
| JP5027424B2 (en) | Novel aromatic ether compounds and photoinitiators | |
| JP5573924B2 (en) | (Meth) acrylic acid ester and method for producing the same | |
| CN111187160A (en) | Novel synthesis method of ester compound |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Effective date: 20070215 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090220 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120207 |
|
| A762 | Written abandonment of application |
Effective date: 20120330 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 |