JP2006045415A - Cationically polymerizable composition, ink composition for inkjet and image-formation method - Google Patents

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公彦 大久保
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cationically polymerizable composition excellent in curablity, to provide an ink composition for inkjet, excellent in ink curability and adhesion to substrate, obtaining blotless high quality images and excellent in preservability, and to provide an image-formation method using the ink composition for inkjet. <P>SOLUTION: The cationically polymerizable composition comprises at least one compound selected from compounds having one or more oxetane rings and at least one compound selected from compounds having at least one oxirane ring and substituted, with at least one aromatic group, at its carbon atom adjacent to an oxygen atom forming the oxirane ring. The ink composition for inkjet contains the cationically polymerizable composition. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、オキセタン環含有化合物と特定のオキシラン環含有化合物、活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物を含有するカチオン重合性組成物、及びこれを用いたインクジェット用インク組成物と画像形成方法に関し、詳しくは、オキセタン環含有化合物とオキシラン環を構成する酸素原子の隣接炭素原子上に芳香族基を少なくとも1つ以上有するオキシラン環含有化合物および活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物を含有するカチオン重合性組成物及びこれを用いたインクジェット用インク組成物を用い、反応性が高くなおかつ保存性も良好で、かつ高画質な画像を得ることのできる光硬化型のインクジェット用インク組成物及び画像形成方法に関する。   The present invention relates to a cationically polymerizable composition containing an oxetane ring-containing compound, a specific oxirane ring-containing compound, a compound that generates an acid upon irradiation with active energy rays, and an ink-jet ink composition and an image forming method using the same. In detail, the oxetane ring-containing compound, the oxirane ring-containing compound having at least one aromatic group on the adjacent carbon atom of the oxygen atom constituting the oxirane ring, and a compound capable of generating an acid upon irradiation with active energy rays A photo-curable ink composition for ink-jet printing, which has high reactivity, good storage stability, and can provide a high-quality image, and a cationically polymerizable composition that uses the ink, and an ink-jet ink composition using the same. The present invention relates to an image forming method.

近年、インクジェット記録方式は簡便・安価に画像を作製出来るため、写真、各種印刷、マーキング、カラーフィルター等の特殊印刷など、様々な印刷分野に応用されてきている。特に、微細なドットを出射、制御する記録装置や、色再現、耐久性、出射適性等を改善したインク及びインクの吸収性、色材の発色性、表面光沢などを飛躍的に向上させた専用紙を用い、銀塩写真に匹敵する画質を得ることも可能となっている。今日のインクジェット記録方式の画質向上は、記録装置、インク、専用紙の全てが揃って初めて達成されている。   In recent years, the inkjet recording method can be easily and inexpensively produced images, and thus has been applied to various printing fields such as photographs, various printing, marking, and special printing such as color filters. In particular, a recording device that emits and controls fine dots, and ink that has improved color reproduction, durability, and emission suitability, ink absorption, coloring material coloring, surface gloss, etc. Using paper, it is also possible to obtain image quality comparable to silver halide photography. The image quality improvement of today's ink jet recording system is achieved only when all of the recording apparatus, ink, and special paper are available.

しかしながら、専用紙を必要とするインクジェットシステムは、記録媒体が制限されること、記録媒体のコストアップが問題となる。そこで、専用紙と異なる被転写媒体へインクジェット方式により記録する試みが多数なされている。具体的には、室温で固形のワックスインクを用いる相変化インクジェット方式、速乾性の有機溶剤を主体としたインクを用いるソルベント系インクジェット方式や、記録後紫外線(UV)光により架橋させるUVインクジェット方式などである。   However, in an inkjet system that requires dedicated paper, the recording medium is limited, and the cost of the recording medium increases. Therefore, many attempts have been made to record on a transfer medium different from dedicated paper by an ink jet method. Specifically, a phase change ink jet method using a wax ink solid at room temperature, a solvent ink jet method using an ink mainly composed of a fast-drying organic solvent, a UV ink jet method in which crosslinking is performed by ultraviolet (UV) light after recording, etc. It is.

中でも、UVインクジェット方式は、ソルベント系インクジェット方式に比べ比較的低臭気であり、速乾性、インク吸収性の無い記録媒体への記録が出来る点で、近年注目されつつあり、紫外線硬化型インクジェットインクが開示されて(例えば、特許文献1、2参照。)いる。   Among these, the UV inkjet method has been attracting attention in recent years because it has a relatively low odor compared to the solvent-based inkjet method, and can be recorded on a recording medium having no quick drying and no ink absorption. It is disclosed (for example, see Patent Documents 1 and 2).

UVインクとしては、主にラジカル重合型、カチオン重合型が知られている。紫外線硬化型インクジェット記録方式においては、画質、即ち着弾ドット径は、着弾後の光照射タイミング、光照射照度、エネルギー、インク液滴サイズ、インクの感度、表面エネルギー、粘度、基材の濡れ性、着弾配列、誤差拡散パターンなどの因子により制御される。特に、画質を大きく左右する要因としては、インクの感度、粘度、表張、基材濡れ性と露光条件である。この中でも、インク感度は、ラジカル重合系の場合は酸素による重合阻害の影響を受けるためインク膜厚や露光照度に大きく依存し、カチオン重合系においては温度と湿度に大きく依存する。   As the UV ink, a radical polymerization type and a cationic polymerization type are mainly known. In the ultraviolet curable ink jet recording system, the image quality, that is, the impact dot diameter is the light irradiation timing after landing, light irradiation illuminance, energy, ink droplet size, ink sensitivity, surface energy, viscosity, substrate wettability, It is controlled by factors such as landing pattern and error diffusion pattern. In particular, factors that greatly influence image quality are ink sensitivity, viscosity, surface covering, substrate wettability, and exposure conditions. Among these, the ink sensitivity is greatly influenced by the ink film thickness and exposure illuminance in the case of the radical polymerization system because it is affected by the inhibition of polymerization by oxygen, and in the cationic polymerization system, it greatly depends on the temperature and humidity.

ラジカル重合型紫外線硬化インクにおいては、酸素による重合阻害を改善するためには、酸素阻害を受けないモノマー、開始剤、開始助剤の工夫や、窒素などの不活性化ガスによりパージする方法等が知られている。   In radical polymerization type UV curable ink, in order to improve polymerization inhibition by oxygen, there are a method of purging with an inert gas such as nitrogen, etc. Are known.

カチオン重合型紫外線硬化インクにおいては、湿度依存の影響を改善するためには、着弾したインクを加熱する方法(例えば、特許文献3参照。)が知られている。   In the cationic polymerization type ultraviolet curable ink, in order to improve the influence of humidity, a method of heating the landed ink is known (for example, see Patent Document 3).

カチオン重合硬化技術の応用分野の一つであるカチオン重合型紫外線硬化インクで用いられるカチオン重合性組成物を構成するモノマーとしては、オキシラン環を持つエポキシ化合物、オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物が知られている。   Epoxy compounds having an oxirane ring, oxetane compounds, and vinyl ether compounds are known as monomers constituting the cationic polymerizable composition used in the cationic polymerization type UV curable ink which is one of the application fields of the cationic polymerization curing technology. .

特に、エポキシ化合物とオキセタン化合物とを共に用いることにより、重合速度を顕著に増加させることが知られて(例えば、非特許文献1、特許文献4参照。)いる。特に、オキセタン化合物は、良好な耐熱性、接着性、耐薬品性を有することから、反応性を高めるエポキシ化合物との併用は有用である。   In particular, it is known that the polymerization rate is remarkably increased by using both an epoxy compound and an oxetane compound (see, for example, Non-Patent Document 1 and Patent Document 4). In particular, since the oxetane compound has good heat resistance, adhesiveness, and chemical resistance, it is useful to use it together with an epoxy compound that increases the reactivity.

この技術の応用例として、紫外線硬化型のインクジェットに用いることが開示されて(例えば、特許文献5参照。)いる。紫外線によりインクを硬化する紫外線硬化型インクジェット記録方式は、インク吸収性の乏しい基材に対しても画像形成する方法として、近年注目を集めている。   As an application example of this technique, use in an ultraviolet curable ink jet is disclosed (for example, see Patent Document 5). In recent years, an ultraviolet curable ink jet recording system that cures ink by ultraviolet rays has attracted attention as a method for forming an image even on a substrate having poor ink absorbability.

一般的には、紫外線硬化型のインクとしては、ラジカル重合型インクのものが良く知られ、実用化されている。一方、カチオン重合型のインクは、ラジカル重合型インクに見られるような酸素による重合阻害が無く、低照度の光源を用いることができること、アクリルモノマーが持つ臭気も無いこと、素材が低刺激性であることなど有利な点があるが、未だ実用化に至っていない。   Generally, as the ultraviolet curable ink, a radical polymerization type ink is well known and put into practical use. On the other hand, the cationic polymerization type ink does not inhibit the polymerization caused by oxygen as seen in radical polymerization type inks, can use a light source with low illuminance, has no odor of acrylic monomer, and has low irritation. Although there are advantages such as being there, it has not yet been put into practical use.

その一因としては、高湿下で著しく感度低下する性質、温度により感度が依存する性質が挙げられる。環境依存性のあるインクは、その画質が環境に依存するという本質的な課題を有する。   One reason for this is the property that the sensitivity decreases significantly under high humidity and the property that the sensitivity depends on the temperature. Environment-dependent inks have the essential problem that their image quality depends on the environment.

カチオン重合系のインクを用い、着弾したインクを加熱して光照射する方法が開示されて(例えば、特許文献6参照。)いる。しかしながら、加熱機構はプリンターコスト、熱に弱い基材などの適用の観点で好ましいものとは言えない。特定構造のオキセタンとエポキシ化合物を併用した活性エネルギー線硬化組成物が開示されて(例えば、特許文献7参照。)おり、また、特定のオキセタン化合物と芳香族基を有するエポキシ化合物を併用した硬化組成物が開示されている(例えば、特許文献8参照。)が、いずれの場合においても、エポキシ化合物のオキシラン環の隣接炭素原子に芳香族基が置換した構造は開示されていない。また、オキセタン化合物と併用し、反応速度を向上させる化合物として、2−(4−メトキシフェニル)−3,3−ジメチルオキセタンが開示されて(例えば、特許文献9参照。)いる。この化合物は、ジ[1−エチル(3−オキセタニル)]メチルエーテルなどのオキセタン化合物と脂環式エポキシ化合物との併用において、脂環式エポキシ化合物を代替できる程度の反応性がある。しかしながら、蛍光灯のような低照度光源を用いる場合においては、高湿環境における感度レベルはまだ十分なものとは言えなかった。
特開平6−200204号公報 (実施例) 特表2000−504778号公報 (実施例1〜5) 特開2002−137375号公報 (明細書第3〜5頁) 東亞合成研究年報 TREND2号(1999年)、「オキセタン化合物の光カチオン硬化システムへの応用」 特許第2679586号明細書 (実施例) 特開2001−220526号公報 (実施例) 特開2002−137375号公報 (明細書第3〜5頁) 特開平7−53711号公報 (実施例1) 特開2001−40085号公報 (実施例1〜8) 特開2001−181386号公報 (実施例1)
There has been disclosed a method of using a cationic polymerization type ink to heat and irradiate the landed ink (for example, refer to Patent Document 6). However, the heating mechanism cannot be said to be preferable from the viewpoint of application of printer cost, a heat-sensitive substrate, and the like. An active energy ray curable composition in which an oxetane having a specific structure and an epoxy compound are used together is disclosed (for example, see Patent Document 7), and a curable composition in which a specific oxetane compound and an epoxy compound having an aromatic group are used in combination. In any case, a structure in which an aromatic group is substituted on the adjacent carbon atom of the oxirane ring of the epoxy compound is not disclosed. In addition, 2- (4-methoxyphenyl) -3,3-dimethyloxetane is disclosed as a compound that is used in combination with an oxetane compound to improve the reaction rate (see, for example, Patent Document 9). This compound is reactive enough to replace an alicyclic epoxy compound in the combined use of an oxetane compound such as di [1-ethyl (3-oxetanyl)] methyl ether and an alicyclic epoxy compound. However, in the case of using a low illuminance light source such as a fluorescent lamp, it cannot be said that the sensitivity level in a high humidity environment is still sufficient.
JP-A-6-200204 (Example) JP 2000-504778 A (Examples 1 to 5) JP 2002-137375 A (Specifications, pages 3 to 5) Dongguan Synthetic Research Annual Report TREND 2 (1999), "Application of Oxetane Compounds to Photocationic Curing System" Japanese Patent No. 2679586 (Example) JP 2001-220526 A (Example) JP 2002-137375 A (Specifications, pages 3 to 5) JP-A-7-53711 (Example 1) JP 2001-40085 (Examples 1-8) JP 2001-181386 A (Example 1)

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、硬化性に優れたカチオン重合性組成物を提供することであり、さらに、インク硬化性、基材密着性に優れ、滲みのない高品位の画像を得られ、かつ保存性に優れたインクジェット用インク組成物及びこのインクジェット用インク組成物を用いた画像形成方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and its object is to provide a cationically polymerizable composition having excellent curability, and further excellent ink curability and substrate adhesion, and bleeding. It is an object of the present invention to provide an ink-jet ink composition which can obtain a high-quality image free of ink and has excellent storage stability, and an image forming method using the ink-jet ink composition.

本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。   The above object of the present invention can be achieved by the following configuration.

(請求項1)
1つ以上のオキセタン環を有する化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物と、少なくとも1つ以上のオキシラン環を有し、かつ、オキシラン環を構成する酸素原子の隣接炭素原子に少なくとも1つの芳香族基が置換した化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物とを含有することを特徴とするカチオン重合性組成物。
(Claim 1)
At least one compound selected from compounds having one or more oxetane rings, and at least one aromatic group in an adjacent carbon atom of an oxygen atom having at least one oxirane ring and constituting the oxirane ring. And at least one compound selected from compounds in which is substituted.

(請求項2)
少なくとも1つ以上のオキセタン環を有し、かつ、オキセタン環を構成する酸素原子の隣接炭素原子に少なくとも1つの芳香族基が置換した化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物と、少なくとも1つ以上のオキシラン環を有し、かつ、オキシラン環を構成する酸素原子の隣接炭素原子に少なくとも1つの芳香族基が置換した化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物とを含有することを特徴とするカチオン重合性組成物。
(Claim 2)
At least one compound selected from compounds having at least one oxetane ring and having at least one aromatic group substituted on an adjacent carbon atom of an oxygen atom constituting the oxetane ring; and at least one or more compounds Cationic polymerizability characterized by containing at least one compound selected from compounds having an oxirane ring and having at least one aromatic group substituted on the adjacent carbon atom of the oxygen atom constituting the oxirane ring Composition.

(請求項3)
活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする請求項1又は2に記載のカチオン重合性組成物。
(Claim 3)
The cationically polymerizable composition according to claim 1 or 2, comprising a compound that generates an acid upon irradiation with an active energy ray.

(請求項4)
活性エネルギー線が紫外線であることを特徴とする請求項3に記載のカチオン重合性組成物。
(Claim 4)
4. The cationic polymerizable composition according to claim 3, wherein the active energy ray is ultraviolet light.

(請求項5)
活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物が下記一般式(b)で表されるスルホニウム塩化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のカチオン重合性組成物。
(Claim 5)
The compound that generates an acid upon irradiation with active energy rays is at least one compound selected from sulfonium salt compounds represented by the following general formula (b). The cationically polymerizable composition described in 1.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

(式中、Rb1からRb3は各々置換基を表し、Xb-は対イオンを表す。)
(請求項6)
請求項1〜5のいずれか1項に記載のカチオン重合性組成物を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。
(In the formula, R b1 to R b3 each represents a substituent, and X b- represents a counter ion.)
(Claim 6)
An ink-jet ink composition comprising the cationically polymerizable composition according to any one of claims 1 to 5.

(請求項7)
請求項6に記載のインクジェット用インク組成物を、選択的にインク滴の吐出制御可能な少なくとも1つのノズルを有する記録ヘッドにより、記録材料上に該インクジェット用インク組成物をインク滴として吐出して該記録材料上へ噴射し、該インク滴が着弾した後、活性エネルギー線を照射して該インク滴を硬化させることを特徴とする画像形成方法。
(Claim 7)
The inkjet ink composition according to claim 6 is ejected as ink droplets onto a recording material by a recording head having at least one nozzle capable of selectively controlling ejection of ink droplets. An image forming method comprising: jetting onto the recording material and landing the ink droplet, and then irradiating an active energy ray to cure the ink droplet.

本発明により、反応性が高くなおかつ保存性も良好なカチオン重合性組成物を提供することができ、本発明のカチオン重合性組成物を用いることで長期間保存した場合でも優れた反応性を維持しながらさらに増粘抑制に優れ、低照度の光源でも環境湿度に影響を受けずにインク硬化性、基材密着性に優れ、滲みのない高品位、高画質な画像が得られるインクジェット用インク組成物及びこのインクジェット用インク組成物を用いた画像形成方法を提供することができた。   According to the present invention, it is possible to provide a cationic polymerizable composition having high reactivity and good storage stability, and maintaining excellent reactivity even when stored for a long period of time by using the cationic polymerizable composition of the present invention. Ink-jet ink composition that is superior in suppressing thickening and has excellent ink curability and substrate adhesion without being affected by environmental humidity even with a low illuminance light source, and provides high-quality and high-quality images without bleeding And an image forming method using the ink-jet ink composition.

本発明者は、上記課題に鑑みて鋭意検討を行った結果、オキセタン環含有化合物と特定のオキシラン環含有化合物、活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物を含有するカチオン重合性組成物を用いた場合に、環境湿度の影響を受けず、安定した硬化性を有するカチオン重合性硬化組成物が得られることを見出し、さらに、特定のオキセタン環含有化合物と特定のオキシラン環含有化合物、活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物を用いた場合に、低照度の光源でも優れた硬化性を有するカチオン重合性組成物が得られることを見出し、これを用いたインクジェット用インク組成物においては、硬化性、硬化膜特性ならびに保存性が非常に優れ、かつ高画質な画像を得ることができることを見いだし、本発明に至った次第である。   As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventor used a cationically polymerizable composition containing an oxetane ring-containing compound, a specific oxirane ring-containing compound, and a compound that generates an acid upon irradiation with active energy rays. The cation polymerizable curable composition having a stable curability without being affected by environmental humidity, and a specific oxetane ring-containing compound, a specific oxirane ring-containing compound, and an active energy ray. In the case of using a compound that generates an acid upon irradiation, it has been found that a cationically polymerizable composition having excellent curability can be obtained even with a light source having a low illuminance. As a result, the present invention has been found to have excellent properties, cured film properties and storage stability, and can obtain high-quality images. A.

以下本発明について詳細に説明する。まず、本発明における少なくとも一つ以上のオキセタン環を有する化合物(本明細書中においては、オキセタン環含有化合物、オキセタン化合物とも記載し、いずれも同義の化合物を表す)について説明する。オキセタン環とは環状4員環エーテル構造を表し、本発明の少なくとも一つ以上のオキセタン環を有する化合物とは、4員環エーテル構造を分子中に少なくとも一つ以上有していれば良く、他の部分構造は特に制限は無い。本発明のオキセタン化合物のオキセタン環の数およびその他の部分構造は、本発明のカチオン重合性組成物を実際に使用するにあたり、使用者の所望する性能を発揮するために必要な種々の性能評価を検討の上、決定すればよい。   The present invention will be described in detail below. First, a compound having at least one oxetane ring in the present invention (in the present specification, also referred to as an oxetane ring-containing compound and an oxetane compound, both of which represent the same meaning) will be described. The oxetane ring represents a cyclic 4-membered ether structure, and the compound having at least one oxetane ring of the present invention may have at least one 4-membered ether structure in the molecule. The partial structure of is not particularly limited. The number of oxetane rings and other partial structures of the oxetane compound of the present invention are various performance evaluations necessary for exhibiting the performance desired by the user in actually using the cationic polymerizable composition of the present invention. You should decide after examination.

下記一般式(1)で表されるオキセタン化合物は本発明においてより好ましい。   Oxetane compounds represented by the following general formula (1) are more preferred in the present invention.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

一般式(1)において、R1〜R6は、各々水素原子または置換基を表す。ただし、R1〜R6は全てが同時に水素原子を表すことはない。 In General formula (1), R < 1 > -R < 6 > represents a hydrogen atom or a substituent respectively. However, all of R 1 to R 6 do not represent hydrogen atoms at the same time.

一般式(1)において、R1〜R6で各々表される置換基としては、例えば、アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基)、アルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、プロパルギル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、芳香族炭化水素基(例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、複素芳香族基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基、ピロリル基、2−キノリル基、1−イソキニリル基等)、複素環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基、2−テトラヒドロフラニル基、2−テトラヒドロチエニル基、2−テトラヒドロピラニル基、3−テトラヒドロピラニル基等)、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、フッ化炭化水素基(例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、が挙げられる。R1とR2、R3とR4、R5とR6が互いに結合して2価の基となり環を形成してもよい。R1〜R6で各々表される置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、芳香族炭化水素基、複素芳香族基、ハロゲン原子、フッ化炭化水素基である。 In the general formula (1), examples of the substituent represented by R 1 to R 6 include an alkyl group (methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, Octyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group), alkenyl group (for example, vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, allyl group, etc.), Alkynyl group (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, propargyl group, etc.), alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, pentyloxy group, hexyloxy group) , Octyloxy group, dodecyloxy group, cyclopentyloxy group, cyclohexylo Si group, etc.), acyl groups (for example, acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, octylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group, dodecylcarbonyl group, phenylcarbonyl group, naphthylcarbonyl group) , Pyridylcarbonyl group etc.), acyloxy group (eg acetyloxy group, ethylcarbonyloxy group, butylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group, dodecylcarbonyloxy group, phenylcarbonyloxy group etc.), alkoxycarbonyl group (eg methyl Oxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group, octyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group, etc.), aromatic hydrocarbon group (for example, phenyl group) , Naphthyl group, anthracenyl group, etc.), heteroaromatic group (for example, furyl group, thienyl group, pyridyl group, pyridazinyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, thiazolyl group, benzoimidazolyl group, benzo Oxazolyl group, quinazolyl group, phthalazyl group, pyrrolyl group, 2-quinolyl group, 1-isoquinyl group, etc.), heterocyclic group (for example, pyrrolidyl group, imidazolidyl group, morpholyl group, oxazolidyl group, 2-tetrahydrofuranyl group, 2-tetrahydrothienyl group, 2-tetrahydropyranyl group, 3-tetrahydropyranyl group, etc.), halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom etc.), fluorinated hydrocarbon group (eg, fluoromethyl group, Trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, pen Fluorophenyl group), and the like. R 1 and R 2 , R 3 and R 4 , R 5 and R 6 may be bonded to each other to form a divalent group and form a ring. Preferable substituents represented by R 1 to R 6 are alkyl groups, alkoxy groups, acyloxy groups, alkoxycarbonyl groups, aromatic hydrocarbon groups, heteroaromatic groups, halogen atoms, and fluorinated hydrocarbon groups. is there.

これらのR1〜R6で各々表される基は、更に置換基を有していてもよい。 These groups represented by R 1 to R 6 may each further have a substituent.

1〜R6で各々表される置換基に置換可能な基の例としてはアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基)、アルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、プロパルギル基等)、芳香族炭化水素基(例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、複素芳香族基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基、ピロリル基、2−キノリル基、1−イソキニリル基等)、複素環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基、2−テトラヒドロフラニル基、2−テトラヒドロチエニル基、2−テトラヒドロピラニル基、3−テトラヒドロピラニル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、スルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、2−ピリジルスルフィニル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、フッ化炭化水素基(例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基(例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等)、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基等が挙げられ、これらの置換基は、上述したR1〜R6で各々表される置換基に置換可能な基の例と同義の基によってさらに置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。 Examples of groups that can be substituted for the substituents represented by R 1 to R 6 include alkyl groups (methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, Dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group), alkenyl group (for example, vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, allyl group, etc.), alkynyl group ( For example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, propargyl group, etc.), aromatic hydrocarbon group (for example, phenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, etc.), heteroaromatic group (for example, , Furyl group, thienyl group, pyridyl group, pyridazinyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, imida Ryl group, pyrazolyl group, thiazolyl group, benzimidazolyl group, benzoxazolyl group, quinazolyl group, phthalazyl group, pyrrolyl group, 2-quinolyl group, 1-isoquinylyl group, etc.), heterocyclic group (for example, pyrrolidyl group, imidazolidyl group) , Morpholyl group, oxazolidyl group, 2-tetrahydrofuranyl group, 2-tetrahydrothienyl group, 2-tetrahydropyranyl group, 3-tetrahydropyranyl group, etc.), alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, Pentyloxy group, hexyloxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.), aryloxy group (eg, phenoxy group, naphthyloxy group, etc.), alkylthio group (eg, methylthio group, ethylthio group) Group, propi Ruthio group, pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, dodecylthio group, cyclopentylthio group, cyclohexylthio group, etc.), arylthio group (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methyloxycarbonyl group, ethyl group) Oxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group, octyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenyloxycarbonyl group, naphthyloxycarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (eg, aminosulfonyl group, methyl) Aminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, octylaminosulfonyl group, Silylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, octylcarbonyl group) 2-ethylhexylcarbonyl group, dodecylcarbonyl group, phenylcarbonyl group, naphthylcarbonyl group, pyridylcarbonyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetyloxy group, ethylcarbonyloxy group, butylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group, dodecyl) Carbonyloxy group, phenylcarbonyloxy group, etc.), amide group (for example, methylcarbonylamino group, ethylcarbonylamino group, dimethylcarbonylamino group, Propylcarbonylamino group, pentylcarbonylamino group, cyclohexylcarbonylamino group, 2-ethylhexylcarbonylamino group, octylcarbonylamino group, dodecylcarbonylamino group, phenylcarbonylamino group, naphthylcarbonylamino group, etc.), carbamoyl group (for example, Aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, octylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group, dodecylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group Naphthylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), ureido group (for example, methylureido group, ethylurei group) Group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido group, dodecylureido group, phenylureido group, naphthylureido group, 2-pyridylaminoureido group, etc.), sulfinyl group (for example, methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, butylsulfinyl) Group, cyclohexylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, dodecylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, naphthylsulfinyl group, 2-pyridylsulfinyl group, etc.), alkylsulfonyl group (for example, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, Cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, dodecylsulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group (phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, -Pyridylsulfonyl group, etc.), amino group (for example, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, anilino group, naphthylamino group, 2- Pyridylamino groups, etc.), halogen atoms (eg, fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms, etc.), fluorinated hydrocarbon groups (eg, fluoromethyl groups, trifluoromethyl groups, pentafluoroethyl groups, pentafluorophenyl groups, etc.), Examples include cyano group, nitro group, hydroxy group, mercapto group, silyl group (for example, trimethylsilyl group, triisopropylsilyl group, triphenylsilyl group, phenyldiethylsilyl group), hydroxyl group, nitro group, carboxyl group, etc. Are each represented by R 1 to R 6 described above. The substituent may be further substituted with a group having the same meaning as the substitutable group, and a plurality of these substituents may be bonded to each other to form a ring.

1〜R6で各々表される置換基に置換可能な基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、芳香族炭化水素基、複素芳香族基、水酸基、フッ化炭化水素基である。R1〜R6で表される置換基の任意の位置のいずれかが、一般式(1)と同義のオキセタン環を置換基として有し、二官能以上の多官能オキセタン化合物となっても良い。 Preferred as a group that can be substituted for the substituent represented by each of R 1 to R 6 is a halogen atom, alkyl group, alkoxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyl group, aromatic hydrocarbon group, heteroaromatic group, hydroxyl group. , A fluorinated hydrocarbon group. Any of the arbitrary positions of the substituents represented by R 1 to R 6 may have an oxetane ring having the same meaning as in the general formula (1) as a substituent, and may be a bifunctional or higher polyfunctional oxetane compound. .

本発明のオキセタン化合物は、オキセタン環の2位もしくは3位に置換基を有することが好ましい。   The oxetane compound of the present invention preferably has a substituent at the 2-position or 3-position of the oxetane ring.

オキセタン環の2位に置換可能な置換基としては特に制限は無いが、好ましくは、芳香族基であり、本発明の芳香族基とは、上述した、芳香族炭化水素基(例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、複素芳香族基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基、ピロリル基、2−キノリル基、1−イソキニリル基等)と同義の基を表す。これらの芳香族基はさらに置換基を有していても良く、置換基の例としては、上述したハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基と同義の基である。2位の置換基が芳香族基の場合、さらに3位に置換基を有していても良く、好ましい置換基の例としては、上述したアルキル基、アルコキシ基と同義の基である。   The substituent that can be substituted at the 2-position of the oxetane ring is not particularly limited, but is preferably an aromatic group, and the aromatic group of the present invention is the aromatic hydrocarbon group (for example, phenyl group) described above. , Naphthyl group, anthracenyl group, etc.), heteroaromatic group (for example, furyl group, thienyl group, pyridyl group, pyridazinyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, thiazolyl group, benzoimidazolyl group, benzo An oxazolyl group, a quinazolyl group, a phthalazyl group, a pyrrolyl group, a 2-quinolyl group, a 1-isoquinyl group, and the like. These aromatic groups may further have a substituent, and examples of the substituent are the same groups as the above-described halogen atom, alkyl group, alkoxy group, acyloxy group, and alkoxycarbonyl group. When the substituent at the 2-position is an aromatic group, it may further have a substituent at the 3-position, and examples of preferred substituents are the same groups as the alkyl group and alkoxy group described above.

2位に置換基を有する本発明のオキセタン化合物は下記一般式(A)もしくは下記一般式(B)で表されるオキセタン化合物がより好ましい。   The oxetane compound of the present invention having a substituent at the 2-position is more preferably an oxetane compound represented by the following general formula (A) or the following general formula (B).

Figure 2006045415
Figure 2006045415

一般式(A)中QAは(mA+nA)価の芳香族基を表し、RA1からRA4は各々水素原子または置換基を表し、RA5は置換基を表し、mAは1から3の正数をあらわし、nAは0から5の整数をあらわす。QAで表される芳香族基は、(mA+nA)価の上述した芳香族基と同義の基を表す。RA1からRA4で表される置換基は上述したR1からR6で表される置換基と同義の基を表し、RA1からRA4は各々好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基である。RA5で表される置換基は上述したR1からR6で表される置換基と同義の基を表し、複数個のRA5は各々同一でも異なっていても良く、互いに結合して2価の基となり環を形成してもよい。RA5は好ましくは、アルキル基、アルコキシ基であり、複数個のRA5のうち少なくとも一つはアルコキシ基であることがより好ましい。mAは好ましくは1から2の整数であり、nAは好ましくは0から3の整数であり、より好ましくは0から2の整数であり、mA+nAは1から6の整数であることが好ましく、より好ましくは1から3の整数である。 In general formula (A), Q A represents a (mA + nA) valent aromatic group, R A1 to R A4 each represents a hydrogen atom or a substituent, R A5 represents a substituent, and mA represents a positive number of 1 to 3. NA represents an integer of 0 to 5. The aromatic group represented by Q A represents a group having the same meaning as the aromatic group having the (mA + nA) valence described above. The substituents represented by R A1 to R A4 represent the same groups as the substituents represented by R 1 to R 6 described above, and each of R A1 to R A4 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group. It is. The substituent represented by R A5 represents the same group as the substituent represented by R 1 to R 6 described above, and the plurality of R A5 may be the same or different, and may be bonded to each other to form a divalent group. And may form a ring. R A5 is preferably an alkyl group or an alkoxy group, and at least one of the plurality of R A5 is more preferably an alkoxy group. mA is preferably an integer from 1 to 2, nA is preferably an integer from 0 to 3, more preferably an integer from 0 to 2, and mA + nA is preferably an integer from 1 to 6, more preferably Is an integer from 1 to 3.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

一般式(B) 中QBは(nB+2)価の芳香族基を表し、RB1からRB4は各々水素原子または置換基を表し、RB5は置換基を表し、LBはmB価の連結基を表し、mBは2から4の整数を表し、nBは0から4の整数をあらわす。
Bで表される芳香族基は、(nB+2)価の上述した芳香族基と同義の基を表す。RB1からRB4で表される置換基は上述したR1からR6で表される置換基と同義の基を表し、RB1からRB4は各々好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基である。RB5で表される置換基は上述したR1からR6で表される置換基と同義の基を表し、複数個のRB5は各々同一でも異なっていても良く、互いに結合して2価の基となり環を形成してもよい。RB5はアルキル基、アルコキシ基であることがより好ましい。mBは好ましくは2もしくは3の整数であり、nBは好ましくは0から3の整数であり、より好ましくは0から2の整数である。
Formula (B) medium Q B represents (nB + 2) valent aromatic group, the R B1 R B4 each represents a hydrogen atom or a substituent, R B5 represents a substituent, L B is connected in mB value Represents a group, mB represents an integer of 2 to 4, and nB represents an integer of 0 to 4.
The aromatic group represented by Q B represents a group having the same meaning as the above-described aromatic group having an (nB + 2) valence. The substituents represented by R B1 to R B4 represent the same groups as the substituents represented by R 1 to R 6 described above, and each of R B1 to R B4 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group. It is. The substituent represented by R B5 represents the same group as the substituent represented by R 1 to R 6 described above, and the plurality of R B5 may be the same or different, and may be bonded to each other to form a divalent group. And may form a ring. R B5 is more preferably an alkyl group or an alkoxy group. mB is preferably an integer of 2 or 3, and nB is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2.

Bは、主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数0〜15のmB価の連結基あるいは単結合であることが好ましく、主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い2価の連結基の例としては、以下の列挙する基及びこれらの基と−O−基、−S−基、−CO−基、−CS−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。
メチレン基[−CH2−]、エチリデン基[>CHCH3]、イソプロピリデン基[>C(CH32]、1,2−エチレン基[−CH2CH2−]、1,2−プロピレン基[−CH(CH3)CH2−]、1,3−プロパンジイル基[−CH2CH2CH2−]、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジイル基[−CH2C(CH32CH2−]、2,2−ジメトキシ−1,3−プロパンジイル基[−CH2C(OCH32CH2−]、2,2−ジメトキシメチル−1,3−プロパンジイル基[−CH2C(CH2OCH32CH2−]、1−メチル−1,3−プロパンジイル基[−CH(CH3)CH2CH2−]、1,4−ブタンジイル基[−CH2CH2CH2CH2−]、1,5−ペンタンジイル基[−CH2CH2CH2CH2CH2−]、オキシジエチレン基[−CH2CH2OCH2CH2−]、チオジエチレン基[−CH2CH2SCH2CH2−]、3−オキソチオジエチレン基[−CH2CH2SOCH2CH2−]、3,3−ジオキソチオジエチレン基[−CH2CH2SO2CH2CH2−]、1,4−ジメチル−3−オキサ−1,5−ペンタンジイル基[−CH(CH3)CH2OCH(CH3)CH2−]、3−オキソペンタンジイル基[−CH2CH2COCH2CH2−]、1,5−ジオキソ−3−オキサペンタンジイル基[−COCH2OCH2CO−]、4−オキサ−1,7−ヘプタンジイル基[−CH2CH2CH2OCH2CH2CH2−]、3,6−ジオキサ−1,8−オクタンジイル基[−CH2CH2OCH2CH2OCH2CH2−]、1,4,7−トリメチル−3,6−ジオキサ−1,8−オクタンジイル基[−CH(CH3)CH2OCH(CH3)CH2OCH(CH3)CH2−]、5,5−ジメチル−3,7−ジオキサ−1,9−ノナンジイル基[−CH2CH2OCH2C(CH32CH2OCH2CH2−]、5,5−ジメトキシ−3,7−ジオキサ−1,9−ノナンジイル基[−CH2CH2OCH2C(OCH32CH2OCH2CH2−]、5,5−ジメトキシメチル−3,7−ジオキサ−1,9−ノナンジイル基[−CH2CH2OCH2C(CH2OCH32CH2OCH2CH2−]、4,7−ジオキソ−3,8−ジオキサ−1,10−デカンジイル基[−CH2CH2O−COCH2CH2CO−OCH2CH2−]、3,8−ジオキソ−4,7−ジオキサ−1,10−デカンジイル基[−CH2CH2CO−OCH2CH2O−COCH2CH2−]、1,3−シクロペンタンジイル基[−1,3−C58−]、1,2−シクロヘキサンジイル基[−1,2−C610−]、1,3−シクロヘキサンジイル基[−1,3−C610−]、1,4−シクロヘキサンジイル基[−1,4−C610−]、2,5−テトラヒドロフランジイル基[2,5−C46O−]、p−フェニレン基[−p−C64−]、m−フェニレン基[−m−C64−]、α,α′−o−キシリレン基[−o−CH2−C64−CH2−]、α,α′−m−キシリレン基[−m−CH2−C64−CH2−]、α,α′−p−キシリレン基[−p−CH2−C64−CH2−]、フラン−2,5−ジイル−ビスメチレン基[2,5−CH2−C42O−CH2−]、チオフェン−2,5−ジイル−ビスメチレン基[2,5−CH2−C42S−CH2−]、イソプロピリデンビス−p−フェニレン基[−p−C64−C(CH32−p−C64−]。
L B is primarily preferably contain an oxygen atom or a sulfur atom is also mB-valent linking group or a single bond good 0-15 carbon atoms in the chain, the main chain may contain an oxygen atom or a sulfur atom divalent Examples of the linking group include the following groups and groups formed by combining these groups with a plurality of —O— groups, —S— groups, —CO— groups, and —CS— groups.
Methylene group [—CH 2 —], ethylidene group [> CHCH 3 ], isopropylidene group [> C (CH 3 ) 2 ], 1,2-ethylene group [—CH 2 CH 2 —], 1,2-propylene Group [—CH (CH 3 ) CH 2 —], 1,3-propanediyl group [—CH 2 CH 2 CH 2 —], 2,2-dimethyl-1,3-propanediyl group [—CH 2 C ( CH 3) 2 CH 2 -] , 2,2- dimethoxy-1,3-propanediyl group [-CH 2 C (OCH 3) 2 CH 2 -], 2,2- dimethoxy-1,3-propanediyl Group [—CH 2 C (CH 2 OCH 3 ) 2 CH 2 —], 1-methyl-1,3-propanediyl group [—CH (CH 3 ) CH 2 CH 2 —], 1,4-butanediyl group [ -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -], 1,5- pentanediyl group [-CH 2 CH 2 CH 2 H 2 CH 2 -], oxydiethylene group [-CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 -], thiodiethylene group [-CH 2 CH 2 SCH 2 CH 2 -], 3- oxo thiodiethylene group [-CH 2 CH 2 SOCH 2 CH 2 —], 3,3-dioxothiodiethylene group [—CH 2 CH 2 SO 2 CH 2 CH 2 —], 1,4-dimethyl-3-oxa-1,5-pentanediyl group [— CH (CH 3 ) CH 2 OCH (CH 3 ) CH 2 —], 3-oxopentanediyl group [—CH 2 CH 2 COCH 2 CH 2 —], 1,5-dioxo-3-oxapentanediyl group [— COCH 2 OCH 2 CO—], 4-oxa-1,7-heptanediyl group [—CH 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 —], 3,6-dioxa-1,8-octanediyl group [— CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 OC 2 CH 2 -], 1,4,7- trimethyl-3,6-dioxa-1,8-diyl group [-CH (CH 3) CH 2 OCH (CH 3) CH 2 OCH (CH 3) CH 2 -], 5,5-dimethyl-3,7-dioxa-1,9 Nonanjiiru group [-CH 2 CH 2 OCH 2 C (CH 3) 2 CH 2 OCH 2 CH 2 -], 5,5- dimethoxy - 3,7-dioxa-1,9-Nonanjiiru group [-CH 2 CH 2 OCH 2 C (OCH 3) 2 CH 2 OCH 2 CH 2 -], 5,5- dimethoxymethyl-3,7-dioxa-1, 9-nonanediyl group [—CH 2 CH 2 OCH 2 C (CH 2 OCH 3 ) 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —], 4,7-dioxo-3,8-dioxa-1,10-decandiyl group [—CH 2 CH 2 O-COCH 2 CH 2 CO-OCH 2 CH 2 -], 3, 8-dioxo-4,7-dioxa-1,10-decandiyl group [—CH 2 CH 2 CO—OCH 2 CH 2 O—COCH 2 CH 2 —], 1,3-cyclopentanediyl group [−1,3 -C 5 H 8 -], 1,2- cyclohexane-diyl group [-1,2-C 6 H 10 - ], 1,3- cyclohexane-diyl group [-1,3-C 6 H 10 - ], 1, 4-cyclohexanediyl group [-1,4-C 6 H 10- ], 2,5-tetrahydrofurandiyl group [2,5-C 4 H 6 O-], p-phenylene group [-p-C 6 H 4 -], m-phenylene group [-m-C 6 H 4 - ], α, α'-o- xylylene group [-o-CH 2 -C 6 H 4 -CH 2 -], α, α'-m - xylylene group [-m-CH 2 -C 6 H 4 -CH 2 -], α, α'-p- xylylene group [-p-CH 2 -C 6 H 4 -CH 2 -] Furan-2,5-diyl - bismethylene group [2,5-CH 2 -C 4 H 2 O-CH 2 -], thiophene-2,5-diyl - bismethylene group [2,5-CH 2 -C 4 H 2 S—CH 2 —], an isopropylidenebis-p-phenylene group [—pC 6 H 4 —C (CH 3 ) 2 —pC 6 H 4 —].

3価以上の連結基としては、上記で列挙した2価の連結基から任意の部位の水素原子を必要なだけ除いてできる基、及びそれらと−O−基、−S−基、−CO−基、−CS−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。   Examples of the trivalent or higher valent linking group include a group formed by removing as many hydrogen atoms as necessary from the divalent linking groups listed above, and an —O— group, —S— group, —CO—. And a group formed by combining a plurality of groups and -CS- groups.

上述したオキセタン化合物の製造方法は特に制限されず、従来知られた方法に従えば良く、以下の文献に記載の方法に準じて合成することができる。   The manufacturing method of the oxetane compound described above is not particularly limited, and may be a conventionally known method, and can be synthesized according to the method described in the following literature.

A:Hu Xianming,Richard M.Kellogg,Synthesis,533〜538,May(1995)
B:A.O.Fitton,J.Hill,D.Ejane,R.Miller,Synth.,12,1140(1987)
C:Toshiro Imai and Shinya Nishida,Can.J.Chem.Vol.59,2503〜2509(1981)
D:Nobujiro Shimizu,Shintaro Yamaoka and Yuho Tsuno,Bull.Chem.Soc.Jpn.,56,3853〜3854(1983)
E:Walter Fisher and Cyril A.Grob,Helv.Chim.Acta.,61,2336(1978)
F:Chem.Ber.101,1850(1968)
G:“Heterocyclic Compounds with Three− and Four−membered Rings”,Part Two,Chapter IX,Interscience Publishers,John Wiley & Sons,New York(1964)
H:Bull.Chem.Soc.Jpn.,61,1653(1988) I:Pure Appl.Chem.,A29(10),915(1992) J:Pure Appl.Chem.,A30(2&amp;3),189(1993)
K:特開平6−16804号公報
L:ドイツ特許第1,021,858号明細書
以下に一般式(1)、一般式(A)、一般式(B)で表されるオキセタン化合物の例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
A: Hu Xianming, Richard M. et al. Kellogg, Synthesis, 533-538, May (1995)
B: A. O. Fitton, J .; Hill, D.C. Ejane, R.A. Miller, Synth. , 12, 1140 (1987)
C: Toshiro Imai and Shinya Nishida, Can. J. et al. Chem. Vol. 59, 2503-2509 (1981)
D: Nobujiro Shimizu, Shintaro Yamaoka and Yuho Tsuno, Bull. Chem. Soc. Jpn. 56, 3853-3854 (1983)
E: Walter Fisher and Cyril A.E. Grob, Helv. Chim. Acta. , 61, 2336 (1978)
F: Chem. Ber. 101, 1850 (1968)
G: “Heterocyclic Compounds with Three- and Four-membered Rings”, Part Two, Chapter IX, Interscience Publishers, John Wiley & Son, N
H: Bull. Chem. Soc. Jpn. 61, 1653 (1988) I: Pure Appl. Chem. , A29 (10), 915 (1992) J: Pure Appl. Chem. , A30 (2 &amp; 3), 189 (1993)
K: JP-A-6-16804 L: German Patent 1,021,858 Specification Examples of oxetane compounds represented by the following general formula (1), general formula (A), and general formula (B) The present invention is not limited to these examples.

Figure 2006045415
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オキセタン環の3位に置換可能な置換基としては特に制限は無いが、好ましくは上述したアルキル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、芳香族炭化水素基、複素芳香族基、ハロゲン原子、フッ化炭化水素基と同義の基を上げることができる。   The substituent that can be substituted at the 3-position of the oxetane ring is not particularly limited, but preferably the above-described alkyl group, alkoxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyl group, aromatic hydrocarbon group, heteroaromatic group, halogen atom, A group having the same meaning as the fluorinated hydrocarbon group can be raised.

3位に置換基を有するオキセタン化合物としては、2位が置換されていないオキセタン化合物がより好ましい。2位が置換されていないオキセタン化合物の1例としては、下記一般式(101)で示される化合物が挙げられる。   As the oxetane compound having a substituent at the 3-position, an oxetane compound not substituted at the 2-position is more preferable. As an example of the oxetane compound in which the 2-position is not substituted, a compound represented by the following general formula (101) can be given.

Figure 2006045415
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一般式(101)において、R1は水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基またはチエニル基である。R2はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜6個のアルキル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基等の炭素数2〜6個のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基、フェノキシエチル基等の芳香環を有する基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基等の炭素数2〜6個のアルキルカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等の炭素数2〜6個のアルコキシカルボニル基、またはエチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基等の炭素数2〜6個のN−アルキルカルバモイル基等である。本発明で使用するオキセタン化合物としては、1個のオキセタン環を有する化合物を使用することが、得られる組成物が粘着性に優れ、低粘度で作業性に優れるため、特に好ましい。 In General Formula (101), R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an allyl group or an aryl group. , Furyl group or thienyl group. R 2 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, butyl alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as, 1-propenyl, 2-propenyl, 2-methyl-1-propenyl group, 2-methyl-2 -Alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms such as propenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group and 3-butenyl group, aromatic groups such as phenyl group, benzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group and phenoxyethyl group A group having a ring, an alkylcarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms such as an ethylcarbonyl group, a propylcarbonyl group and a butylcarbonyl group, an alkoxy having 2 to 6 carbon atoms such as an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group and a butoxycarbonyl group Carbonyl group, ethylcarbamoyl group, propylcarbamoyl group, butylcarbamoyl group, pentylcarbamoyl group Number 2-6 carbons of an N- alkylcarbamoyl group. As the oxetane compound used in the present invention, it is particularly preferable to use a compound having one oxetane ring because the resulting composition has excellent tackiness, low viscosity and excellent workability.

2個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式(102)で示される化合物等が挙げられる。   An example of a compound having two oxetane rings includes a compound represented by the following general formula (102).

Figure 2006045415
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一般式(102)において、R1は上記一般式(101)におけるそれと同様の基である。R3は、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等の線状または分枝状アルキレン基、ポリ(エチレンオキシ)基、ポリ(プロピレンオキシ)基等の線状または分枝状ポリ(アルキレンオキシ)基、プロペニレン基、メチルプロペニレン基、ブテニレン基等の線状または分枝状不飽和炭化水素基、またはカルボニル基またはカルボニル基を含むアルキレン基、カルボキシル基を含むアルキレン基、カルバモイル基を含むアルキレン基等である。 In formula (102), R 1 is the same as the group in formula (101). R 3 is, for example, a linear or branched alkylene group such as an ethylene group, a propylene group or a butylene group, a linear or branched poly (alkyleneoxy) such as a poly (ethyleneoxy) group or a poly (propyleneoxy) group. ) Group, propenylene group, methylpropenylene group, butenylene group or other linear or branched unsaturated hydrocarbon group, alkylene group containing carbonyl group or carbonyl group, alkylene group containing carboxyl group, alkylene containing carbamoyl group Group.

また、R3としては、下記一般式(103)、(104)及び(105)で示される基から選択される多価基も挙げることができる。 Moreover, as R < 3 >, the polyvalent group selected from the group shown by the following general formula (103), (104) and (105) can also be mentioned.

Figure 2006045415
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一般式(103)において、R4は水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜4個のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜4個のアルコキシ基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシル基、カルボキシル基、またはカルバモイル基である。 In the general formula (103), R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, or a carbon such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, or a butoxy group. A C 1-4 alkoxy group, a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom, a nitro group, a cyano group, a mercapto group, a lower alkyl carboxyl group, a carboxyl group, or a carbamoyl group.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

一般式(104)において、R5は酸素原子、硫黄原子、メチレン基、NH、SO、SO2、C(CF32、またはC(CH32を表す。 In the general formula (104), R 5 represents an oxygen atom, a sulfur atom, a methylene group, NH, SO, SO 2 , C (CF 3 ) 2 , or C (CH 3 ) 2 .

Figure 2006045415
Figure 2006045415

一般式(105)において、R6はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜4個のアルキル基、またはアリール基である。nは0〜2000の整数である。R7はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基の炭素数1〜4個のアルキル基、またはアリール基である。R7としては、更に下記一般式(106)で示される基から選択される基も挙げることができる。 In General Formula (105), R 6 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, or an aryl group. n is an integer of 0-2000. R 7 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an aryl group. Examples of R 7 also include a group selected from the group represented by the following general formula (106).

Figure 2006045415
Figure 2006045415

一般式(106)において、R8はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜4個のアルキル基、またはアリール基である。mは0〜100の整数である。 In General Formula (106), R 8 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, or an aryl group. m is an integer of 0-100.

2個のオキセタン環を有する化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。   Specific examples of the compound having two oxetane rings include the following compounds.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

例示化合物11は、前記一般式(102)において、R1がエチル基、R3がカルボキシル基である化合物である。また、例示化合物12は、前記一般式(102)において、R1がエチル基、R3が前記一般式(105)でR6及びR7がメチル基、nが1である化合物である。 Exemplary compound 11 is a compound in which R 1 is an ethyl group and R 3 is a carboxyl group in the general formula (102). The exemplified compound 12 is a compound in which R 1 is an ethyl group, R 3 is the general formula (105), R 6 and R 7 are methyl groups, and n is 1 in the general formula (102).

2個のオキセタン環を有する化合物において、上記の化合物以外の好ましい例としては、下記一般式(107)で示される化合物がある。   In the compound having two oxetane rings, a preferred example other than the above compound is a compound represented by the following general formula (107).

Figure 2006045415
Figure 2006045415

一般式(107)において、R1は前記一般式(101)のR1と同義である。 In formula (107), R 1 has the same meaning as R 1 in the general formula (101).

また、3〜4個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式(108)で示される化合物が挙げられる。   Moreover, as an example of a compound having 3 to 4 oxetane rings, a compound represented by the following general formula (108) can be given.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

一般式(108)において、R1は前記一般式(101)におけるR1と同義である。R9としては、例えば、下記A〜Cで示される基等の炭素数1〜12の分枝状アルキレン基、下記Dで示される基等の分枝状ポリ(アルキレンオキシ)基または下記Eで示される基等の分枝状ポリシロキシ基等が挙げられる。jは3または4である。 In formula (108), R 1 has the same meaning as R 1 in the general formula (101). As R 9 , for example, a branched alkylene group having 1 to 12 carbon atoms such as groups represented by the following A to C, a branched poly (alkyleneoxy) group such as a group represented by the following D, or the following E And branched polysiloxy groups such as those shown. j is 3 or 4.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

上記Aにおいて、R10はメチル基、エチル基またはプロピル基等の低級アルキル基である。また、上記Dにおいて、pは1〜10の整数である。 In the above A, R 10 is a lower alkyl group such as a methyl group, an ethyl group or a propyl group. Moreover, in said D, p is an integer of 1-10.

3〜4個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、例示化合物13が挙げられる。   Illustrative compound 13 is an example of a compound having 3 to 4 oxetane rings.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

更に、上記説明した以外の1〜4個のオキセタン環を有する化合物の例としては、下記一般式(109)で示される化合物が挙げられる。   Furthermore, examples of the compound having 1 to 4 oxetane rings other than those described above include compounds represented by the following general formula (109).

Figure 2006045415
Figure 2006045415

一般式(109)において、R8は前記一般式(106)のR8と同義である。R11はメチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基等の炭素数1〜4のアルキル基またはトリアルキルシリル基であり、rは1〜4である。 In formula (109), R 8 has the same meaning as R 8 in the general formula (106). R 11 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group or a trialkylsilyl group, and r is 1 to 4.

本発明で使用するオキセタン化合物の好ましい具体例としては、以下に示す化合物がある。   Preferable specific examples of the oxetane compound used in the present invention include the following compounds.

Figure 2006045415
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Figure 2006045415
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上述したオキセタン環を有する各化合物の製造方法は、特に限定されず、従来知られた方法に従えばよく、例えば、パティソン(D.B.Pattison,J.Am.Chem.Soc.,3455,79(1957))が開示している、ジオールからのオキセタン環合成法等がある。また、これら以外にも、分子量1000〜5000程度の高分子量を有する1〜4個のオキセタン環を有する化合物も挙げられる。これらの具体的化合物例としては、以下の化合物が挙げられる。   The production method of each compound having an oxetane ring described above is not particularly limited, and may be a conventionally known method, for example, Pattison (DB Pattison, J. Am. Chem. Soc., 3455, 79). (1957)) discloses a method for synthesizing an oxetane ring from a diol. In addition to these, compounds having 1 to 4 oxetane rings having a high molecular weight of about 1000 to 5000 are also included. Examples of these specific compounds include the following compounds.

Figure 2006045415
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次に、少なくとも1つ以上のオキシラン環を有し、かつ、オキシラン環を構成する酸素原子の隣接炭素原子に少なくとも1つの芳香族基が置換した化合物(以下本発明のオキシラン化合物、あるいは本発明のエポキシ化合物とも記載し、いずれも同義の化合物を表す)について説明する。本発明のオキシラン環とは3員環環状エーテル構造を指し、オキシラン環を有する化合物の例としては通常エポキシ化合物として知られている化合物である。本発明のオキシラン化合物とは、3員環環状エーテル構造を分子中に少なくとも一つ以上有し、オキシラン環の2位に芳香族基を有していれば他の部分構造は特に制限は無い。本発明のオキシラン化合物のオキシラン環の数およびその他の部分構造は、本発明のカチオン重合性組成物を実際に使用するにあたり、使用者の所望する性能を発揮するために必要な種々の性能評価を検討の上、決定すればよい。   Next, a compound having at least one oxirane ring and having at least one aromatic group substituted on the adjacent carbon atom of the oxygen atom constituting the oxirane ring (hereinafter referred to as the oxirane compound of the present invention or the present invention) It is also referred to as an epoxy compound, and each represents a synonymous compound). The oxirane ring of the present invention refers to a 3-membered cyclic ether structure, and an example of a compound having an oxirane ring is a compound usually known as an epoxy compound. The oxirane compound of the present invention is not particularly limited as long as it has at least one 3-membered cyclic ether structure in the molecule and has an aromatic group at the 2-position of the oxirane ring. The number of oxirane rings and other partial structures of the oxirane compound of the present invention are various performance evaluations necessary for exhibiting the performance desired by the user in actually using the cationic polymerizable composition of the present invention. You should decide after examination.

本発明の芳香族基とは、上述した、芳香族炭化水素基(例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、複素芳香族基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基、ピロリル基、2−キノリル基、1−イソキニリル基等)と同義の基を表す。これらの芳香族基はさらに置換基を有していても良く、置換基の例としては、上述した一般式(1)中R1からR6で表される基と同義の基であり、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基である。 The aromatic group of the present invention refers to the above-described aromatic hydrocarbon group (for example, phenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, etc.), heteroaromatic group (for example, furyl group, thienyl group, pyridyl group, pyridazinyl group, Pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, thiazolyl group, benzoimidazolyl group, benzoxazolyl group, quinazolyl group, phthalazyl group, pyrrolyl group, 2-quinolyl group, 1-isoquinyl group, etc.) Represents a group. These aromatic groups may further have a substituent. Examples of the substituent are groups having the same meanings as the groups represented by R 1 to R 6 in the general formula (1) described above. A halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an acyl group, and an acyloxy group are preferable.

本発明のオキシラン化合物は下記一般式(C)もしくは下記一般式(D)で表される化合物がより好ましい。   The oxirane compound of the present invention is more preferably a compound represented by the following general formula (C) or the following general formula (D).

Figure 2006045415
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一般式(C)中QCは(mC+nC)価の芳香族基を表し、RC1およびRC2は各々水素原子または置換基を表し、RC3は置換基を表し、mCは1から3の整数をあらわし、mCは0から5の整数をあらわす。QCで表される芳香族基は、(mC+mC)価の上述した芳香族基と同義の基を表す。RC1およびRC2で表される置換基は上述したR1からR6で表される置換基と同義の基を表し、RC1およびRC2は各々好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、RC1およびRC2は同時に水素原子とはならない事が好ましい。RC3で表される置換基は上述したR1からR6で表される置換基と同義の基を表し、複数個のRC3は各々同一でも異なっていても良く、互いに結合して2価の基となり環を形成してもよい。RC3は好ましくは、アルキル基、アルコキシ基であり、複数個のRC3のうち少なくとも一つはアルコキシ基であることがより好ましい。mCは好ましくは1から2の整数であり、mCは好ましくは0から3の整数であり、より好ましくは0から2の整数であり、mC+mCは1から6の整数であることが好ましく、より好ましくは1から3の整数である。 In formula (C), Q C represents an (mC + nC) -valent aromatic group, R C1 and R C2 each represent a hydrogen atom or a substituent, R C3 represents a substituent, and mC is an integer of 1 to 3 MC represents an integer of 0 to 5. Aromatic group represented by Q C represents (mC + mC) value of the above aromatic groups as defined for groups. The substituents represented by R C1 and R C2 represent the same groups as the substituents represented by R 1 to R 6 described above, and each of R C1 and R C2 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group. R C1 and R C2 are preferably not hydrogen atoms at the same time. The substituent represented by R C3 represents the same group as the substituent represented by R 1 to R 6 described above, and the plurality of R C3 may be the same or different, and may be bonded to each other to form a divalent group. And may form a ring. R C3 is preferably an alkyl group or an alkoxy group, and at least one of the plurality of R C3 is more preferably an alkoxy group. mC is preferably an integer of 1 to 2, mC is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and mC + mC is preferably an integer of 1 to 6, more preferably Is an integer from 1 to 3.

Figure 2006045415
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一般式(D)中QDは(nD+2)価の芳香族基を表し、RD1およびRD2は各々水素原子または置換基を表し、RD3は置換基を表し、LDはmD価の連結基を表し、mDは2から4の整数を表し、nDは0から4の整数をあらわす。 In formula (D), Q D represents an (nD + 2) -valent aromatic group, R D1 and R D2 each represent a hydrogen atom or a substituent, R D3 represents a substituent, and L D represents an mD-valent linkage. Represents a group, mD represents an integer of 2 to 4, and nD represents an integer of 0 to 4.

Dで表される芳香族基は、(nD+2)価の上述した芳香族基と同義の基を表す。RD1およびRD2で表される置換基は上述したR1からR6で表される置換基と同義の基を表し、RD1およびRD2は各々好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、RD1およびRD2は同時に水素原子とはならない事が好ましい。RD3で表される置換基は上述したR1からR6で表される置換基と同義の基を表し、複数個のRD3は各々同一でも異なっていても良く、互いに結合して2価の基となり環を形成してもよい。RD3はアルキル基、アルコキシ基であることがより好ましい。mDは好ましくは2もしくは3の整数であり、nDは好ましくは0から3の整数であり、より好ましくは0から2の整数である。 The aromatic group represented by Q D represents a group having the same meaning as the above-described aromatic group having an (nD + 2) valence. The substituent represented by R D1 and R D2 represents the same group as the substituent represented by R 1 to R 6 described above, and each of R D1 and R D2 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group. R D1 and R D2 are preferably not hydrogen atoms at the same time. The substituent represented by R D3 represents a group having the same meaning as the substituent represented by R 1 to R 6 described above, and the plurality of R D3 may be the same or different, and are bonded to each other to form a divalent group. And may form a ring. R D3 is more preferably an alkyl group or an alkoxy group. mD is preferably an integer of 2 or 3, and nD is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2.

Dは、主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数0〜15のmD価の連結基あるいは単結合であることが好ましく、主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い2価の連結基の例としては、上述した一般式(B)中のLBと同義の連結基を挙げることができる。3価以上の連結基としても、上述した一般式(B)中のLBと同義の連結基を挙げることができる。 L D is preferably an mD-valent linking group having 0 to 15 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain, or a divalent group which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. examples of linking groups may be mentioned L B and a linking group having the same meaning in general formula (B). Even 3 or more valences linking group can include L B and a linking group having the same meaning in general formula (B).

上述した本発明のオキシラン化合物の製造方法は特に制限されず、従来知られた方法に従えば良く、以下の文献に記載の方法に準じて合成することができる。   The method for producing the oxirane compound of the present invention described above is not particularly limited, and may be a conventionally known method, which can be synthesized according to the methods described in the following documents.

A:E.Borredon,F.Clavellinas,M.Delmas,A.Gaset,J.V.Sinisterra,J.Org.Chem.,55,501〜504(1990).
B:Elisabeth Borredon,Michel Delmas,Antoine Gaset,Tetrahedron Letters,23(50),5283〜5286(1982).
C:E.J.Corey,Michael Chaykovsky,J.Amer.Chem.Soc.,87,1353〜1364(1965).
D:A.Guy,J.Doussot,C.Ferroud,R.Garreau,A.Godefroy−Falguieres,SYNTHESIS,821〜822,September(1992).
E:Luis Bohe,Majed Kammoun,Tetrahedron Letters,43803〜805(2002).
F:Pausacker Lynch,J.Chem.Soc.,1525(1955).
以下に本発明のオキシラン化合物、一般式(C)および一般式(D)で表される化合物の例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
A: E.E. Borredon, F.M. Clavellanas, M .; Delmas, A.M. Gasset, J .; V. Sinisterra, J. et al. Org. Chem. 55, 501-504 (1990).
B: Elisabeth Borredon, Michel Delmas, Antonio Gasset, Tetrahedron Letters, 23 (50), 5283-5286 (1982).
C: E.I. J. et al. Corey, Michael Chaykovsky, J .; Amer. Chem. Soc. , 87, 1353-1364 (1965).
D: A. Guy, J .; Doussot, C.I. Ferroud, R.A. Garreau, A.M. Godefrey-Falguieres, SYNTHESIS, 821-822, September (1992).
E: Luis Bohe, Majed Kammun, Tetrahedron Letters, 43803-805 (2002).
F: Pausacker Lynch, J.A. Chem. Soc. , 1525 (1955).
Although the example of the compound represented by the oxirane compound of this invention, general formula (C), and general formula (D) below is given, this invention is not limited to these.

Figure 2006045415
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Figure 2006045415
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本発明のカチオン重合性組成物はさらに活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物(光酸発生剤、光カチオン重合開始剤,カチオン重合開始剤とも記載する)を含有しても良い。   The cationically polymerizable composition of the present invention may further contain a compound that generates an acid upon irradiation with active energy rays (also referred to as a photoacid generator, a photocationic polymerization initiator, or a cationic polymerization initiator).

カチオン重合性組成物で用いる光酸発生剤としては、例えば、化学増幅型フォトジストや光カチオン重合に利用される化合物が用いられる(有機エレクトロニックス材料研究会編、「イメージング用有機材料」、ぶんしん出版(1993年)、187〜192ページ参照)。本発明に好適な化合物の例を以下に挙げる。   As the photoacid generator used in the cationic polymerizable composition, for example, a chemical amplification type photoresist or a compound used for photocationic polymerization is used (edited by Organic Electronics Materials Research Group, “Organic Materials for Imaging”, (See Shin Publishing (1993), pages 187-192). Examples of compounds suitable for the present invention are listed below.

第1に、ジアゾニウム、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウムなどの芳香族オニウム化合物の、BF4 -、B(C654 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、p−CH364SO3 -塩、CF3SO3 -塩などのスルホン酸塩を挙げることができる。対アニオンとしてボレート化合物をもつものおよびPF6 -塩が酸発生能力が高く好ましい。オニウム化合物の具体的な例を以下に示す。 First, BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 , PF 6 , AsF 6 , SbF 6 , p-CH of aromatic onium compounds such as diazonium, ammonium, iodonium, sulfonium and phosphonium. 3 C 6 H 4 SO 3 - salt, CF 3 SO 3 - and sulfonic acid salts such as salts. Those having a borate compound as a counter anion and PF 6 - salts acid generation capability higher preferred. Specific examples of the onium compound are shown below.

Figure 2006045415
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第2に、スルホン酸を発生するスルホン化物を挙げることができる。具体的な化合物を以下に例示する。   Secondly, sulfonated products that generate sulfonic acid can be mentioned. Specific compounds are exemplified below.

Figure 2006045415
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第3に、ハロゲン化水素を発生するハロゲン化物も用いることができる。以下に具体的な化合物を例示する。   Thirdly, a halide that generates hydrogen halide can also be used. Specific compounds are exemplified below.

Figure 2006045415
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第4に、鉄アレン錯体を挙げることができる。   Fourthly, an iron allene complex can be mentioned.

Figure 2006045415
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本発明で用いられる光カチオン重合開始剤としては、アリールスルホニウム塩誘導体(例えば、ユニオン・カーバイド社製のサイラキュアUVI−6990、サイラキュアUVI−6974、旭電化工業社製のアデカオプトマーSP−150、アデカオプトマーSP−152、アデカオプトマーSP−170、アデカオプトマーSP−172)、アリルヨードニウム塩誘導体(例えば、ローディア社製のRP−2074)、アレン−イオン錯体誘導体(例えば、チバガイギー社製のイルガキュア261)、ジアゾニウム塩誘導体、トリアジン系開始剤及びその他のハロゲン化物等の酸発生剤が挙げられる。   Examples of the photocationic polymerization initiator used in the present invention include arylsulfonium salt derivatives (for example, Cyracure UVI-6990, Cyracure UVI-6974, manufactured by Union Carbide, Adekaoptomer SP-150, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., and Adeka). Optomer SP-152, Adekaoptomer SP-170, Adekaoptomer SP-172), allyl iodonium salt derivatives (for example, RP-2074 manufactured by Rhodia), allene-ion complex derivatives (for example, Irgacure manufactured by Ciba Geigy) 261), acid generators such as diazonium salt derivatives, triazine-based initiators and other halides.

活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物として好ましくは、前記一般式(b)で表されるスルホニウム塩化合物である。   A compound that generates an acid upon irradiation with active energy rays is preferably a sulfonium salt compound represented by the general formula (b).

一般式(b)において、Rb1からRb3は置換基を表し、それぞれが同一でも異なる置換基でも良く、該置換基としては特に制限は受けないが、例としては、アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル基等)、芳香族炭化水素基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、複素芳香族基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等)、複素環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)等が挙げられ、これらのRb1からRb3で表される置換基はさらに置換基を有していても良く、Rb1からRb3で表される置換基に置換可能な基の例としては、上述したアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族炭化水素基、複素芳香族基、複素環基の他に、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、スルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、2−ピリジルスルフィニル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、フッ化炭化水素基(例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基(例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等)、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基等が挙げられ、これらの置換基は、上述した置換基によってさらに置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。RB1からRB3は各々任意に互いに結合して環を形成していてもよい。Rb1からRb3は好ましくは、アルキル基、芳香族炭化水素基であり、これらはさらに置換基を有していても良く、該置換基としては上述したRb1からRb3で表される置換基に置換可能な基の例を挙げることができる。 In the general formula (b), R b1 to R b3 each represents a substituent, and each may be the same or different, and the substituent is not particularly limited, but examples thereof include an alkyl group (methyl group, Ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group), alkenyl group (for example, vinyl group, Allyl group, etc.), alkynyl group (eg, ethynyl group, propargyl group, etc.), aromatic hydrocarbon group (eg, phenyl group, naphthyl group, etc.), heteroaromatic group (eg, furyl group, thienyl group, pyridyl group, Pyridazyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, thiazolyl group, benzo Table with imidazolyl group, a benzoxazolyl group, a quinazolyl group, phthalazyl group), a Hajime Tamaki (e.g., a pyrrolidyl group, imidazolidyl group, morpholyl group, and oxazolidyl group) or the like, R b3 these R b1 The substituents that may be substituted may further have substituents. Examples of groups that can be substituted for the substituents represented by R b1 to R b3 include the alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, and aromatic groups described above. In addition to hydrocarbon groups, heteroaromatic groups, and heterocyclic groups, alkoxy groups (eg, methoxy, ethoxy, propyloxy, pentyloxy, hexyloxy, octyloxy, dodecyloxy, etc.), cyclo Alkoxy groups (eg, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.), aryloxy groups (eg, phenoxy group, naphthyloxy group) ), Alkylthio group (for example, methylthio group, ethylthio group, propylthio group, pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, dodecylthio group, etc.), cycloalkylthio group (for example, cyclopentylthio group, cyclohexylthio group, etc.), arylthio group (for example, , Phenylthio group, naphthylthio group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group, octyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenyl) Oxycarbonyl group, naphthyloxycarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (for example, aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl) Group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, octylaminosulfonyl group, dodecylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, ethylcarbonyl group) Group, propylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, octylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group, dodecylcarbonyl group, phenylcarbonyl group, naphthylcarbonyl group, pyridylcarbonyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetyloxy group) Ethylcarbonyloxy group, butylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group, dodecylcarbonyloxy group, phenylcarbonyloxy group, etc.), Group (for example, methylcarbonylamino group, ethylcarbonylamino group, dimethylcarbonylamino group, propylcarbonylamino group, pentylcarbonylamino group, cyclohexylcarbonylamino group, 2-ethylhexylcarbonylamino group, octylcarbonylamino group, dodecylcarbonylamino group) Group, phenylcarbonylamino group, naphthylcarbonylamino group, etc.), carbamoyl group (for example, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, octylamino) Carbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group, dodecylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, naphthylaminocarbonyl Bonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), ureido group (for example, methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido group, dodecylureido group, phenylureido group, naphthylureido group, 2- Pyridylaminoureido group, etc.), sulfinyl group (for example, methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, butylsulfinyl group, cyclohexylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, dodecylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, naphthylsulfinyl group, 2-pyridylsulfinyl group) Etc.), alkylsulfonyl groups (for example, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl) Group, dodecylsulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group (phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), amino group (for example, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino) Group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, anilino group, naphthylamino group, 2-pyridylamino group, etc.), halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom etc.), fluorinated hydrocarbon group (for example, Fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, pentafluorophenyl group, etc.), cyano group, nitro group, hydroxy group, mercapto group, silyl group (for example, trimethylsilyl group, triisopropylsilyl group, triphenylsilyl group) , Phenyldiethylsilyl group ), A hydroxyl group, a nitro group, a carboxyl group, and the like. These substituents may be further substituted with the above-described substituents, and a plurality of these substituents are bonded to each other to form a ring. It may be. R B1 to R B3 may be optionally bonded to each other to form a ring. R b1 to R b3 are preferably an alkyl group or an aromatic hydrocarbon group, which may further have a substituent, and examples of the substituent include the substituents represented by R b1 to R b3 described above. Examples of groups that can be substituted for the group can be given.

b-は対イオンを表し、該対アニオンとしては、F-、Cl-、Br-などのハロゲンイオン、BF4 -、B(C654 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、GaF6 -、などの錯イオン、ベンゼンスルホン酸イオン(例えばp−CH364SO3 -、C65SO3 -、)、アルキルスルホン酸イオン(例えばCH3SO3 -、C25SO3 -)、フッ化アルキルスルホン酸イオン(例えばCF3SO3 -、C25SO3 -、C919SO3 -)、フッ化アルキルベンゼンスルホン酸イオン(例えばp−CF3−C64SO3 -、p−CF3−C64SO3 -)、フッ化ベンゼンスルホン酸イオン(例えばp−F−C64SO3 -、C65SO3 -、)などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしては、PF6 -、BF4 -、SbF6 -、GaF6 -、AsF6 -、B(C654 -、フッ化アルキルスルホン酸イオン(例えばCF3SO3 -、C25SO3 -、C919SO3 -)、がより好ましく、BF4 -、B(C654 -およびPF6 -が最も好ましい。 X b− represents a counter ion, and examples of the counter anion include halogen ions such as F , Cl , Br , BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 , PF 6 , AsF 6 , Complex ions such as SbF 6 and GaF 6 , benzene sulfonate ions (for example, p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 , C 6 H 5 SO 3 ), alkyl sulfonate ions (for example, CH 3 SO 3 -, C 2 H 5 SO 3 -), fluorinated alkyl sulfonate ion (e.g. CF 3 SO 3 -, C 2 F 5 SO 3 -, C 9 F 19 SO 3 -), fluorinated alkyl benzene sulfonate ion ( For example, p-CF 3 —C 6 H 4 SO 3 , p-CF 3 —C 6 F 4 SO 3 ), fluorinated benzenesulfonate ions (for example, p-F—C 6 H 4 SO 3 , C 6 Examples thereof include sulfonate ions such as F 5 SO 3 ). Counter anions include PF 6 , BF 4 , SbF 6 , GaF 6 , AsF 6 , B (C 6 F 5 ) 4 , fluorinated alkyl sulfonate ions (for example, CF 3 SO 3 , C 2 F 5 SO 3 , C 9 F 19 SO 3 ) are more preferable, and BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 and PF 6 are most preferable.

一般式(b)で表される化合物は下記一般式(I−1)、(I−2)、(I−3)で表されるスルホニウム塩のいずれかであることが好ましい.   The compound represented by the general formula (b) is preferably any of the sulfonium salts represented by the following general formulas (I-1), (I-2), and (I-3).

Figure 2006045415
Figure 2006045415

上記一般式(I−1)中、R11、R12、R13は置換基を表し、m、n、pは0〜2の整数を表す。X11 -は対イオンを表す。 In the general formula (I-1), R 11 , R 12, R 13 represents a substituent, m, n, p is an integer of 0 to 2. X 11 represents a counter ion.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

上記一般式(I−2)中、R14は置換基を表し、qは0〜2の整数を表す。R15、R16は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。X12 -は対イオンを表す。 In the general formula (I-2), R 14 represents a substituent, and q represents an integer of 0 to 2. R 15 and R 16 each represents a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. X 12 represents a counter ion.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

上記一般式(I−3)中、R17は置換基を表し、rは0〜3の整数を表す。R18は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、R19、R20は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。X13 -は対イオンを表す。 In the general formula (I-3), R 17 represents a substituent, and r represents an integer of 0 to 3. R 18 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 19 and R 20 represent a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, or a substituted or unsubstituted group. Represents a substituted aryl group. X 13 - is a counter ion.

更に、一般式(I−1)、(I−2)、(I−3)で表されるスルホニウム塩について説明する。一般式(I−1)で、R11、R12、R13は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基等)、炭素数1〜6個のアルキニル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等)、炭素数1〜6個のアルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基等)、炭素数6〜14のアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、炭素数6〜10のアリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等)、炭素数6〜10のアリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等)、炭素数4〜8のヘテロ原子含有芳香族環基(例えば、フリル基、チエニル基等)、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。 Furthermore, the sulfonium salt represented by general formula (I-1), (I-2), (I-3) is demonstrated. In the general formula (I-1), R 11 , R 12 and R 13 each represent a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.) ), A cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, etc.), C1-C6 alkynyl group (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, etc.), C1-6 Alkoxy groups (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), having 1 to 6 carbon atoms Alkylthio group (for example, methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, iso-propylthio group, n-butylthio group, tert-butylthio group, etc.), aryl group having 6 to 14 carbon atoms (for example, phenyl group, naphthyl group, Anthracenyl group etc.), C6-C10 aryloxy groups (e.g. phenoxy group, naphthoxy group etc.), C6-C10 arylthio groups (e.g. phenylthio group, naphthylthio group etc.), acyl groups (e.g. acetyl) Group, propionyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), acyloxy group (eg, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, benzoyloxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl) Group, tert-butoxy Carbonyl group and the like), hetero atom-containing aromatic Hajime Tamaki having 4 to 8 carbon atoms (e.g., furyl group, a thienyl group, etc.), a nitro group, a cyano group, and the like.

置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシル基である。これらの置換基のうち可能なものは更に置換されていてもよい。m、n、pは0〜2の整数を表しそれぞれが1以上であることが好ましい。X11 -は対アニオンを表す。対アニオンとしては、BF4 -、B(C654 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -などの錯イオン、p−CH364SO3 -、CF3SO3 -などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびPF6 -が酸発生能力が高く好ましい。 Preferred examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group, an alkyloxy group, an aryl group, an aryloxy group, an arylthio group, and an acyl group. Of these substituents, possible ones may be further substituted. m, n and p each represents an integer of 0 to 2, and each is preferably 1 or more. X 11 represents a counter anion. Counter anions include complex ions such as BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 , PF 6 , AsF 6 and SbF 6 , p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 and CF 3 SO. 3 - can be given sulfonate ion such. As the counter anion, borate ion and PF 6 - are preferable because of their high acid generation ability.

一般式(I−2)で、R14は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基等)、炭素数1〜6個のアルキニル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等)、炭素数1〜6個のアルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基等)、炭素数6〜14のアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、炭素数6〜10のアリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等)、炭素数6〜10のアリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等)、炭素数4〜8のヘテロ原子含有芳香族環基(例えば、フリル基、チエニル基等)、ニトロ基、シアノ基、等が挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基である。これらの置換基のうち可能なものは更に置換されていてもよい。qは0〜2の整数を表し1以上であることが好ましく、より好ましくは2である。 In the general formula (I-2), R 14 represents a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.) and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.) , A cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, vinyl group, 1-propenyl group, 2 -Propenyl group, 2-butenyl group, etc.), alkynyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, etc.), 1 to 6 carbon atoms An alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), Kirthio group (for example, methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, iso-propylthio group, n-butylthio group, tert-butylthio group, etc.), aryl group having 6 to 14 carbon atoms (for example, phenyl group, naphthyl group, Anthracenyl group etc.), C6-C10 aryloxy groups (e.g. phenoxy group, naphthoxy group etc.), C6-C10 arylthio groups (e.g. phenylthio group, naphthylthio group etc.), acyl groups (e.g. acetyl) Group, propionyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), acyloxy group (eg, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, benzoyloxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl) Group, tert-butoxyca Boniru group), hetero atom-containing aromatic Hajime Tamaki having 4 to 8 carbon atoms (e.g., furyl group, etc. thienyl group), a nitro group, a cyano group, and the like. Preferably, they are a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, and an aryloxy group. Of these substituents, possible ones may be further substituted. q represents an integer of 0 to 2, preferably 1 or more, and more preferably 2.

またR15、R16は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基等)、炭素数1〜6個のアルキニル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等)、炭素数1〜6個のアルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基等)、炭素数6〜14のアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、炭素数6〜10のアリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等)、炭素数6〜10のアリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等)、炭素数4〜8のヘテロ原子含有芳香族環基(例えば、フリル基、チエニル基等)、ニトロ基、シアノ基、水酸基等が挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基である。 R 15 and R 16 each represents a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.) ), A cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, etc.), C1-C6 alkynyl group (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, etc.), C1-6 Alkoxy groups (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), having 1 to 6 carbon atoms Alkylthio group (for example, methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, iso-propylthio group, n-butylthio group, tert-butylthio group, etc.), aryl group having 6 to 14 carbon atoms (for example, phenyl group, naphthyl group, Anthracenyl group etc.), C6-C10 aryloxy groups (e.g. phenoxy group, naphthoxy group etc.), C6-C10 arylthio groups (e.g. phenylthio group, naphthylthio group etc.), acyl groups (e.g. acetyl) Group, propionyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), acyloxy group (eg, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, benzoyloxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl) Group, tert-butoxy Carbonyl group and the like), hetero atom-containing aromatic Hajime Tamaki having 4 to 8 carbon atoms (e.g., furyl group, a thienyl group, etc.), a nitro group, a cyano group, and a hydroxyl group. Preferred are a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, and an acyl group.

15、R16として好ましくは、置換、無置換のアルキル基、または置換、無置換のアリール基であり、置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、水酸基である。 R 15 and R 16 are preferably a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group, and the substituent is preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, An acyl group and a hydroxyl group.

12 -は対アニオンを表す。対アニオンとしては、BF4 -、B(C654 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -などの錯イオン、p−CH364SO3 -、CF3SO3 -などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびPF6 -が酸発生能力が高く好ましい。 X 12 represents a counter anion. Counter anions include complex ions such as BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 , PF 6 , AsF 6 and SbF 6 , p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 and CF 3 SO. 3 - can be given sulfonate ion such. As the counter anion, borate ion and PF 6 - are preferable because of their high acid generation ability.

一般式(I−3)で、R17は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基等)、炭素数1〜6個のアルキニル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等)、炭素数6〜14のアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等)、炭素数6〜10のアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、炭素数4〜8のヘテロ原子含有芳香族環基(例えば、フリル基、チエニル基等)、ニトロ基、シアノ基、等が挙げられる。好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。rは0〜3の整数を表し1以上であることが好ましく、より好ましくは2である。 In the general formula (I-3), R 17 represents a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.) ), A cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (eg, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, etc.), C1-C6 alkynyl group (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, etc.), C1-6 Alkoxy groups (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), having 6 to 14 carbon atoms Reel group (for example, phenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetoxy group, propionyloxy group, tri Fluoroacetoxy group, benzoyloxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.), aryl group having 6 to 10 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, anthracenyl group) Group), a C4-C8 hetero atom-containing aromatic ring group (for example, furyl group, thienyl group, etc.), nitro group, cyano group, and the like. A halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, and an acyl group are preferable. r represents an integer of 0 to 3, preferably 1 or more, and more preferably 2.

18は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、R19、R20は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基等)、炭素数1〜6個のアルキニル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等)、炭素数6〜14のアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等)、炭素数6〜10のアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、炭素数4〜8のヘテロ原子含有芳香族環基(例えば、フリル基、チエニル基等)、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。 R 18 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 19 and R 20 represent a substituted, unsubstituted alkyl group, a substituted, unsubstituted alkenyl group, a substituted, unsubstituted alkynyl group, or a substituted, unsubstituted Represents a substituted aryl group. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.) ), A cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (eg, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, etc.), C1-C6 alkynyl group (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, etc.), C1-6 Alkoxy groups (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), having 6 to 14 carbon atoms Reel group (for example, phenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetoxy group, propionyloxy group, tri Fluoroacetoxy group, benzoyloxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.), aryl group having 6 to 10 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, anthracenyl group) Group), a C4-C8 hetero atom-containing aromatic ring group (for example, furyl group, thienyl group, etc.), nitro group, cyano group, and the like. A halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, and an acyl group are preferable.

18として好ましくは、水素原子または無置換の低級アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基)であり、R19、R20として、好ましくは置換、無置換のアルキル基、または置換、無置換のアリール基であり、置換基として、好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。X13 -は対アニオンを表す。対アニオンとしては、BF4 -、B(C654 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -などの錯イオン、p−CH364SO3 -、CF3SO3 -などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびPF6 -が酸発生能力が高く好ましい。 R 18 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted lower alkyl group (methyl group, ethyl group, propyl group), and R 19 and R 20 are preferably a substituted, unsubstituted alkyl group, or substituted, unsubstituted. The substituent is preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, or an acyl group. X 13 - is a counter anion. Counter anions include complex ions such as BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 , PF 6 , AsF 6 and SbF 6 , p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 and CF 3 SO. 3 - can be given sulfonate ion such. As the counter anion, borate ion and PF 6 - are preferable because of their high acid generation ability.

以下に、一般式(I−1)、(I−2)、(I−3)で表されるスルホニウム塩の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the sulfonium salt represented by the general formulas (I-1), (I-2), and (I-3) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2006045415
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Figure 2006045415
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Figure 2006045415
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さらに一般式(I−1)は下記一般式(T−1)で表されるスルホニウム塩であることがより好ましい。   Furthermore, the general formula (I-1) is more preferably a sulfonium salt represented by the following general formula (T-1).

Figure 2006045415
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式中、RT11、RT12はアルキル基もしくは芳香族基を表し、ZT1は酸素原子または硫黄原子を表し、RT13、RT14は各々アルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、mt1は0から4の整数を表し、nt1及びpt1は各々1から5の整数を表し、XT1 -は対アニオンを表す。 In the formula, R T11 and R T12 represent an alkyl group or an aromatic group, Z T1 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R T13 and R T14 represent an alkyl group, an aromatic group, an alkoxy group, an aryloxy group, An alkylthio group and an arylthio group are represented, mt1 represents an integer of 0 to 4, nt1 and pt1 each represents an integer of 1 to 5, and X T1 represents a counter anion.

更に、一般式(T−1)で表されるスルホニウム塩について説明する。   Furthermore, the sulfonium salt represented by the general formula (T-1) will be described.

一般式(T−1)において、RT11、RT12はアルキル基もしくは芳香族基を表し、該アルキル基は直鎖でも分岐を有していても、環状になっていてもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、該芳香族基としては芳香族炭化水素環基でも芳香族複素環基でもよく、縮合環を有していてもよく、例としては芳香族炭化水素基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、芳香族複素環基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等)等が挙げられる。 In the general formula (T-1), R T11 and R T12 each represents an alkyl group or an aromatic group, and the alkyl group may be linear, branched, or cyclic. For example, methyl Group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, and the like. The group may be an aromatic hydrocarbon ring group or an aromatic heterocyclic group, and may have a condensed ring. Examples include an aromatic hydrocarbon group (for example, phenyl group, naphthyl group, etc.), aromatic heterocycle. Ring group (for example, furyl group, thienyl group, pyridyl group, pyridazyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, thiazolyl group) Benzimidazolyl group, benzoxazolyl group, a quinazolyl group and a phthalazyl group) and the like.

上述したアルキル基もしくは芳香族基は、更に置換基を有していていもよく、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよく、縮合環を有していてもよく、該置換基の例としては、上述したアルキル基の他に、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル基等)、芳香族炭化水素基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、複素芳香族基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等)、ヘテロ環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、スルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、2−ピリジルスルフィニル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、フッ化炭化水素基(例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、シリル基(例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等)等が挙げられる。   The alkyl group or aromatic group described above may further have a substituent, and a plurality of these substituents may be bonded to each other to form a ring, or may have a condensed ring. Examples of the substituent include, in addition to the alkyl group described above, an alkenyl group (for example, vinyl group, allyl group, etc.), an alkynyl group (for example, ethynyl group, propargyl group, etc.), an aromatic hydrocarbon group (for example, , Phenyl group, naphthyl group, etc.), heteroaromatic group (for example, furyl group, thienyl group, pyridyl group, pyridazyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, thiazolyl group, benzoimidazolyl group, benzo Oxazolyl group, quinazolyl group, phthalazyl group, etc.), heterocyclic group (for example, pyrrolidyl group, imidazolidyl group, morpholyl group, oxazolid group) Group), alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, etc.), cycloalkoxy group (for example, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group) Etc.), aryloxy groups (eg phenoxy group, naphthyloxy group etc.), alkylthio groups (eg methylthio group, ethylthio group, propylthio group, pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, dodecylthio group etc.), cycloalkylthio group ( For example, cyclopentylthio group, cyclohexylthio group, etc.), arylthio group (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarb) Nyl group, octyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenyloxycarbonyl group, naphthyloxycarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (eg, aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylamino) Sulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, octylaminosulfonyl group, dodecylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), acyl group (for example, Acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, octylcarbonyl group, 2-ethylhexylcal A bonyl group, a dodecylcarbonyl group, a phenylcarbonyl group, a naphthylcarbonyl group, a pyridylcarbonyl group, etc.), an acyloxy group (for example, an acetyloxy group, an ethylcarbonyloxy group, a butylcarbonyloxy group, an octylcarbonyloxy group, a dodecylcarbonyloxy group, Phenylcarbonyloxy group, etc.), amide groups (for example, methylcarbonylamino group, ethylcarbonylamino group, dimethylcarbonylamino group, propylcarbonylamino group, pentylcarbonylamino group, cyclohexylcarbonylamino group, 2-ethylhexylcarbonylamino group, octyl) Carbonylamino group, dodecylcarbonylamino group, phenylcarbonylamino group, naphthylcarbonylamino group, etc.), carbamoyl group (for example, aminocarbonyl , Methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, octylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group, dodecylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, naphthylamino Carbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), ureido group (for example, methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido group, dodecylureido group, phenylureido group, naphthylureido group, 2- Pyridylaminoureido group, etc.), sulfinyl group (for example, methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, butylsulfinyl group, cyclohexylsulfinyl group) 2-ethylhexylsulfinyl group, dodecylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, naphthylsulfinyl group, 2-pyridylsulfinyl group, etc.), alkylsulfonyl group (for example, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2 -Ethylhexylsulfonyl group, dodecylsulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group (eg, phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), amino group (eg, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butyl) Amino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, anilino group, naphthylamino group, 2-pyridylamino group, etc.), halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom) , Bromine atom, etc.), fluorinated hydrocarbon group (eg, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, pentafluorophenyl group, etc.), cyano group, nitro group, hydroxyl group, mercapto group, silyl group ( For example, a trimethylsilyl group, a triisopropylsilyl group, a triphenylsilyl group, a phenyldiethylsilyl group, and the like.

これらの置換基は上記の置換基によって更に置換されていてもよく、またこれらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。RT11、RT12で表されるアルキル基もしくは芳香族基は、更に置換基を有していても有していなくてもよいが、好ましくは無置換のアルキル基もしくは芳香族基であるか、またはハロゲン原子が置換したアルキル基、もしくはアルコキシ基が置換した芳香族基であり、より好ましくは無置換のアルキル基もしくは芳香族基であるか、またはフッ素原子が置換したアルキル基、またはアルコキシ基が置換した芳香族基であり、フッ素原子が置換したアルキル基の例としては、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等を挙げる事ができる。 These substituents may be further substituted with the above substituents, and a plurality of these substituents may be bonded to each other to form a ring. The alkyl group or aromatic group represented by R T11 and R T12 may or may not have a substituent, but is preferably an unsubstituted alkyl group or aromatic group, Or an alkyl group substituted with a halogen atom, or an aromatic group substituted with an alkoxy group, more preferably an unsubstituted alkyl group or an aromatic group, or an alkyl group substituted with a fluorine atom, or an alkoxy group. Examples of the substituted aromatic group and the alkyl group substituted with a fluorine atom include a fluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, and a pentafluorophenyl group.

T1は酸素原子または硫黄原子を表し、ZT1はスルホニウムイオンが結合したベンゼン環に対して、オルト位もしくはパラ位に結合する事が好ましく、パラ位で結合することがより好ましい。RT13、RT14は各々アルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、該アルキル基、芳香族基は上述したRT11、RT12と同義の基を表し、該アルコキシ基、該アリールオキシ基としては、酸素原子に上述したRT11、RT12と同義の基が一箇所結合した基であり、例としてはアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)等が挙げられ、該アルキルチオ基、該アリールチオ基としては、硫黄原子に上述したRT11、RT12と同義の基が一箇所結合した基であり、例としてはアルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)等が挙げられる。 Z T1 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and Z T1 is preferably bonded to the ortho-position or para-position, and more preferably bonded to the para-position, with respect to the benzene ring to which the sulfonium ion is bonded. R T13 and R T14 each represents an alkyl group, an aromatic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group or an arylthio group, and the alkyl group and the aromatic group represent the same groups as R T11 and R T12 described above. , The alkoxy group, and the aryloxy group are groups in which a group having the same meaning as R T11 and R T12 described above is bonded to an oxygen atom at one position, and examples include an alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propyl group). Oxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, pentafluorophenyl group, etc.), cycloalkoxy group (for example, cyclopentyloxy group, Cyclohexyloxy group, etc.), aryloxy groups (eg, phenoxy group, naphthyloxy group, etc.) Gerare, the alkylthio group, the arylthio group, a R T11 described above to a sulfur atom, R T12 synonymous groups attached thereto one location group, an alkylthio group (e.g., examples include a methylthio group, ethylthio group, Propylthio group, pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, dodecylthio group, etc.), cycloalkylthio group (eg, cyclopentylthio group, cyclohexylthio group, etc.), arylthio group (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.) and the like.

上述した芳香族基、アリールオキシ基、アリールチオ基は、縮合環を有していてもよい。上述したアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基は更に置換基を有していていもよく、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよく、縮合環を有していてもよく、該置換基の例としては、上述したRT11の置換基の例と同義の基を挙げることができ、これらの置換基は、更に置換基によって置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。RT13、RT14で表される、アルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基は、更に置換基を有していても、有していなくてもよいが、好ましくは無置換のアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基であるか、またはハロゲン原子が置換したアルキル基、もしくはアルコキシ基が置換した芳香族基であり、より好ましくは無置換のアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基であるか、またはフッ素原子が置換したアルキル基、またはアルコキシ基が置換した芳香族基であり、フッ素原子が置換したアルキル基の例としては、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等を挙げる事ができる。 The aromatic group, aryloxy group, and arylthio group described above may have a condensed ring. The alkyl group, aromatic group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, and arylthio group described above may further have a substituent, and a plurality of these substituents are bonded to each other to form a ring. And may have a condensed ring, and examples of the substituent include the same groups as the examples of the substituent of R T11 described above. These substituents may be substituted, or a plurality of these substituents may be bonded to each other to form a ring. The alkyl group, aromatic group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group and arylthio group represented by R T13 and R T14 may or may not have a substituent. Preferably, it is an unsubstituted alkyl group, an aromatic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, or an alkyl group substituted with a halogen atom, or an aromatic group substituted with an alkoxy group, and more Preferably, it is an unsubstituted alkyl group, aromatic group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, an alkyl group substituted with a fluorine atom, or an aromatic group substituted with an alkoxy group, and fluorine Examples of alkyl groups substituted with atoms include a fluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, It can be exemplified pentafluorophenyl group.

mt1は0から4の整数を表し好ましく0から3であり、より好ましくは0から2であり、nt1及びpt1は各々1から5の整数を表し、各々好ましくは1から3であり、より好ましくは各々1から2である。複数個のRT12、RT13、RT14、は各々同じでも異なってもよく、RT11とRT12あるいは複数個のRT12同士が結合して環を形成してもよく、RT12とRT13あるいは複数個のRT13同士が結合して環を形成してもよく、RT12とRT14あるいは複数個のRT14同士が結合して環を形成してもよく、RT12とRT14が結合して環を形成してもよい。RT13の少なくとも一つはスルホニウムイオンが結合したベンゼン環に対して、オルト位もしくはパラ位に結合する事が好ましく、パラ位で結合することがより好ましい。RT14の少なくとも一つはスルホニウムイオンが結合したベンゼン環に対して、オルト位もしくはパラ位に結合する事が好ましく、パラ位で結合することがより好ましい。 mt1 represents an integer of 0 to 4, preferably 0 to 3, more preferably 0 to 2, and nt1 and pt1 each represents an integer of 1 to 5, each preferably 1 to 3, more preferably Each is 1 to 2. A plurality of R T12, R T13, R T14 , may be the same or different and each, R T11 and R T12, or a plurality of R T12 each other may bond together to form a ring, R T12 and R T13 or a plurality of R T13 each other may bond together to form a ring, may be R T12 and R T14 or plural R T14 are bonded to each other to form a ring, R T12 and R T14 are coupled To form a ring. At least one of R T13 is preferably bonded to the ortho-position or para-position relative to the benzene ring to which the sulfonium ion is bonded, and more preferably bonded to the para-position. At least one of R T14 for benzene ring sulfonium ion is bonded, it is preferable to bind the ortho- or para-position, and more preferably bonded at the para position.

T1 -は対アニオンを表し、対アニオンとしてはF-、Cl-、Br-などのハロゲンイオン、BF4 -、B(C654 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、GaF6 -などの錯イオン、ベンゼンスルホン酸イオン(例えば、p−CH364SO3 -、C65SO3 -)、アルキルスルホン酸イオン(例えば、CH3SO3 -、C25SO3 -)、フッ化アルキルスルホン酸イオン(例えば、CF3SO3 -、C25SO3 -、C919SO3 -)、フッ化アルキルベンゼンスルホン酸イオン(例えば、p−CF3−C64SO3 -、p−CF3−C64SO3 -)、フッ化ベンゼンスルホン酸イオン(例えば、p−F−C64SO3 -、C65SO3 -)などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしては、PF6 -、BF4 -、SbF6 -、GaF6 -、AsF6 -、B(C654 -、フッ化アルキルスルホン酸イオン(例えばCF3SO3 -、C25SO3 -、C919SO3 -)がより好ましく、BF4 -、B(C654 -及びPF6 -が最も好ましい。 X T1 represents a counter anion, which includes halogen ions such as F , Cl and Br , BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 , PF 6 , AsF 6 and SbF 6. -, GaF 6 - complex ions such as, benzene sulfonic acid ion (e.g., p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 -, C 6 H 5 SO 3 -), alkylsulfonate ion (e.g., CH 3 SO 3 - , C 2 H 5 SO 3 ), fluorinated alkyl sulfonate ions (for example, CF 3 SO 3 , C 2 F 5 SO 3 , C 9 F 19 SO 3 ), fluorinated alkyl benzene sulfonate ions (for example, P-CF 3 —C 6 H 4 SO 3 , p-CF 3 —C 6 F 4 SO 3 ), fluorinated benzenesulfonate ions (for example, p-F—C 6 H 4 SO 3 , C And sulfonate ions such as 6 F 5 SO 3 ). Counter anions include PF 6 , BF 4 , SbF 6 , GaF 6 , AsF 6 , B (C 6 F 5 ) 4 , fluorinated alkyl sulfonate ions (for example, CF 3 SO 3 , C 2 F 5 SO 3 , C 9 F 19 SO 3 ) are more preferable, and BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 and PF 6 are most preferable.

以下に、一般式(T−1)で表されるスルホニウム塩の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the sulfonium salt represented by the general formula (T-1) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2006045415
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カチオン重合開始剤は、カチオン重合性を有する化合物100質量部に対して、0.2〜20質量部の比率で含有させることが好ましい。重合開始剤の含有量が0.2質量部未満では、硬化物を得ることが困難であり、20質量部を越えて含有させても、更なる硬化性向上効果はない。これらカチオン重合開始剤、1種又は2種以上を選択して使用することができる。   The cationic polymerization initiator is preferably contained at a ratio of 0.2 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the compound having cationic polymerizability. If the content of the polymerization initiator is less than 0.2 parts by mass, it is difficult to obtain a cured product, and even if the content exceeds 20 parts by mass, there is no further effect of improving curability. One or more of these cationic polymerization initiators can be selected and used.

また、本発明のカチオン重合性組成物においては、さらに他のエポキシ化合物を含有しても良い。   Further, the cationic polymerizable composition of the present invention may further contain another epoxy compound.

エポキシ化合物において、芳香族エポキシドとして好ましいものは、少なくとも1個の芳香族核を有する多価フェノールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるジまたはポリグリシジルエーテルであり、例えばビスフェノールAあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールAあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、ならびにノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイド等が挙げられる。   In the epoxy compound, preferred as the aromatic epoxide is a di- or polyglycidyl ether produced by a reaction between a polyhydric phenol having at least one aromatic nucleus or an alkylene oxide adduct thereof and epichlorohydrin, such as bisphenol A. Alternatively, di- or polyglycidyl ethers of the alkylene oxide adducts, di- or polyglycidyl ethers of hydrogenated bisphenol A or alkylene oxide adducts thereof, and novolak type epoxy resins can be used. Here, examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide.

脂環式エポキシドとしては、少なくとも1個のシクロへキセンまたはシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによつて得られる、シクロヘキセンオキサイドまたはシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましい。   The alicyclic epoxide can be obtained by epoxidizing a compound having at least one cycloalkane ring such as cyclohexene or cyclopentene ring with a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. Cyclohexene oxide or cyclopentene oxide-containing compounds are preferred.

脂肪族エポキシドの好ましいものとしては、脂肪族多価アルコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル等があり、その代表例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテルまたは1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリンあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル等のポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイド等が挙げられる。   Preferred aliphatic epoxides include di- or polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof, and typical examples thereof include diglycidyl ether of ethylene glycol, diglycidyl ether of propylene glycol or Diglycidyl ether of alkylene glycol such as diglycidyl ether of 1,6-hexanediol, polyglycidyl ether of polyhydric alcohol such as di- or triglycidyl ether of glycerin or its alkylene oxide adduct, polyethylene glycol or its alkylene oxide adduct Of polyalkylene glycols such as diglycidyl ether, polypropylene glycol or diglycidyl ether of its alkylene oxide adduct Glycidyl ether, and the like. Here, examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide.

これらのエポキシドのうち、迅速な硬化性を考慮すると、芳香族エポキシドおよび脂環式エポキシドが好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。本発明では、上記エポキシドの1種を単独で使用してもよいが、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。   Among these epoxides, in view of rapid curability, aromatic epoxides and alicyclic epoxides are preferable, and alicyclic epoxides are particularly preferable. In the present invention, one of the epoxides may be used alone, or two or more may be used in appropriate combination.

脂環式エポキシドとして特に好ましいのは以下の一般式(A)、(I)、(II)、(III)、(IV)、(V)及び(VI)で表される化合物である。   Particularly preferred as the alicyclic epoxide are compounds represented by the following general formulas (A), (I), (II), (III), (IV), (V) and (VI).

Figure 2006045415
Figure 2006045415

式中、R100は置換基を表し、m0は0〜2の整数を、r0は1〜3の整数を表す。L0は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr0+1価の連結基または単結合を表す。 Wherein, R 100 represents a substituent, m0 represents an integer of 0 to 2, r0 represents an integer of 1-3. L 0 represents a C 1-15 r 0 + 1 valent linking group or single bond that may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

式中、R101は置換基を表し、m1は0〜2の整数を、p1、q1はそれぞれ0または1を、r1は1〜3の整数を表す。L1は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr1+1価の連結基または単結合を表す。 In the formula, R 101 represents a substituent, m1 represents an integer of 0 to 2, p1 and q1 each represents 0 or 1, and r1 represents an integer of 1 to 3. L 1 represents a C 1-15 r 1 + 1 valent linking group or single bond that may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

式中、R102は置換基を表し、m2は0〜2の整数を、p2、q2はそれぞれ0または1を、r2は1〜3の整数を表す。L2は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr2+1価の連結基または単結合を表す。 Wherein, R 102 represents a substituent, m2 is an integer of 0 to 2, p2, q2 and each 0 or 1, r2 represents an integer of 1 to 3. L 2 represents a C 1-15 r 2 + 1 valent linking group or single bond which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

式中、R103は置換基を表し、m3は0〜2の整数を、p3は0または1を表す。L3は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜8の2価の連結基または単結合を表す。 In the formula, R 103 represents a substituent, m3 represents an integer of 0 to 2, and p3 represents 0 or 1. L 3 represents a C 1-8 divalent linking group or single bond that may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

式中、R104は置換基を表し、m4は0〜2の整数を、p4は0または1を表す。L4は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜8の2価の連結基または単結合を表す。 Wherein, R 104 represents a substituent, m4 is an integer of 0 to 2, p4 is 0 or 1. L 4 represents a C 1-8 divalent linking group or single bond which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

式中、R105は置換基を表し、m5は1または2を表す。 In the formula, R 105 represents a substituent, and m5 represents 1 or 2.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

式中、R106は置換基を表し、m6は0〜2の整数を表す。 In the formula, R 106 represents a substituent, and m6 represents an integer of 0 to 2.

前記一般式(A)、一般式(I)〜一般式(VI)において、R100、R101、R102、R103、R104、R105、R106は各々置換基を表す。該置換基としては、例えば、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等)等が挙げられる。上記置換基の中でも好ましいものは、アルキル基、アルコキシ基、またはアルコキシカルボニル基である。 In the general formula (A) and general formula (I) to general formula (VI), R 100 , R 101 , R 102 , R 103 , R 104 , R 105 , and R 106 each represent a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group). Etc.), an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), acyl group (for example, acetyl group) , Propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), acyloxy group (eg, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.) ) And the like. Among the above substituents, an alkyl group, an alkoxy group, or an alkoxycarbonyl group is preferable.

前記一般式(A)、一般式(I)〜一般式(VI)において、m0、m1、m2、m3、m4、m6は各々0〜2の整数を表し、0または1が好ましい。また、m5は1または2を表す。   In the general formula (A) and general formula (I) to general formula (VI), m0, m1, m2, m3, m4, and m6 each represents an integer of 0 to 2, and 0 or 1 is preferable. M5 represents 1 or 2.

前記一般式(A)において、L0は、主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr0+1価の連結基あるいは単結合を、前記一般式(I)において、L1は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr1+1価の連結基あるいは単結合を、前記一般式(II)において、L2は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr2+1価の連結基あるいは単結合を、前記一般式(III)、前記一般式(IV)において、L3、L4は各々主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数8の2価の連結基あるいは単結合を表す。 In the general formula (A), L 0 is the main chain an oxygen atom or a sulfur atom may contain an r0 + 1 valent connecting group or a single bond of 1 to 15 carbon atoms, the general formula (I), L 1 Is an R1 + 1 valent linking group or single bond having 1 to 15 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain, and in the general formula (II), L 2 contains an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. In the general formula (III) and the general formula (IV), L 3 and L 4 may each contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. However, it represents a divalent linking group having a carbon number of 8 or a single bond.

上記主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い2価の連結基の例としては、以下の列挙する基及びこれらの基と−O−基、−S−基、−CO−基、−CS−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。   Examples of the divalent linking group that may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain include the following groups, and these groups and —O— group, —S— group, —CO— group, —CS. -The group formed by combining a plurality of groups can be mentioned.

メチレン基[−CH2−]、
エチリデン基[>CHCH3]、
イソプロピリデン[>C(CH32
1,2−エチレン基[−CH2CH2−]、
1,2−プロピレン基[−CH(CH3)CH2−]、
1,3−プロパンジイル基[−CH2CH2CH2−]、
2,2−ジメチル−1,3−プロパンジイル基[−CH2C(CH32CH2−]、
2,2−ジメトキシ−1,3−プロパンジイル基[−CH2C(OCH32CH2−]、
2,2−ジメトキシメチル−1,3−プロパンジイル基[−CH2C(CH2OCH32CH2−]、
1−メチル−1,3−プロパンジイル基[−CH(CH3)CH2CH2−]、
1,4−ブタンジイル基[−CH2CH2CH2CH2−]、
1,5−ペンタンジイル基[−CH2CH2CH2CH2CH2−]、
オキシジエチレン基[−CH2CH2OCH2CH2−]、
チオジエチレン基[−CH2CH2SCH2CH2−]、
3−オキソチオジエチレン基[−CH2CH2SOCH2CH2−]、
3,3−ジオキソチオジエチレン基[−CH2CH2SO2CH2CH2−]、
1,4−ジメチル−3−オキサ−1,5−ペンタンジイル基[−CH(CH3)CH2OCH(CH3)CH2−]、
3−オキソペンタンジイル基[−CH2CH2COCH2CH2−]、
1,5−ジオキソ−3−オキサペンタンジイル基[−COCH2OCH2CO−]、
4−オキサ−1,7−ヘプタンジイル基[−CH2CH2CH2OCH2CH2CH2−]、
3,6−ジオキサ−1,8−オクタンジイル基[−CH2CH2OCH2CH2OCH2CH2−]、
1,4,7−トリメチル−3,6−ジオキサ−1,8−オクタンジイル基[−CH(CH3)CH2OCH(CH3)CH2OCH(CH3)CH2−]、
5,5−ジメチル−3,7−ジオキサ−1,9−ノナンジイル基[−CH2CH2OCH2C(CH32CH2OCH2CH2−]、
5,5−ジメトキシ−3,7−ジオキサ−1,9−ノナンジイル基[−CH2CH2OCH2C(OCH32CH2OCH2CH2−]、
5,5−ジメトキシメチル−3,7−ジオキサ−1,9−ノナンジイル基[−CH2CH2OCH2C(CH2OCH32CH2OCH2CH2−]、
4,7−ジオキソ−3,8−ジオキサ−1,10−デカンジイル基[−CH2CH2O−COCH2CH2CO−OCH2CH2−]、
3,8−ジオキソ−4,7−ジオキサ−1,10−デカンジイル基[−CH2CH2CO−OCH2CH2O−COCH2CH2−]、
1,3−シクロペンタンジイル基[−1,3−C58−]、
1,2−シクロヘキサンジイル基[−1,2−C610−]、
1,3−シクロヘキサンジイル基[−1,3−C610−]、
1,4−シクロヘキサンジイル基[−1,4−C610−]、
2,5−テトラヒドロフランジイル基[2,5−C46O−]
p−フェニレン基[−p−C64−]、
m−フェニレン基[−m−C64−]、
α,α′−o−キシリレン基[−o−CH2−C64−CH2−]、
α,α′−m−キシリレン基[−m−CH2−C64−CH2−]、
α,α′−p−キシリレン基[−p−CH2−C64−CH2−]、
フラン−2,5−ジイル−ビスメチレン基[2,5−CH2−C42O−CH2−]
チオフェン−2,5−ジイル−ビスメチレン基[2,5−CH2−C42S−CH2−]
イソプロピリデンビス−p−フェニレン基[−p−C64−C(CH32−p−C64−]
3価以上の連結基としては、上記で列挙した2価の連結基から任意の部位の水素原子を必要なだけ除いてできる基、及びそれらと−O−基、−S−基、−CO−基、−CS−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。
A methylene group [—CH 2 —],
An ethylidene group [> CHCH 3 ],
Isopropylidene [> C (CH 3 ) 2 ]
1,2-ethylene group [—CH 2 CH 2 —],
1,2-propylene group [—CH (CH 3 ) CH 2 —],
1,3-propanediyl group [—CH 2 CH 2 CH 2 —],
2,2-dimethyl-1,3-propanediyl group [—CH 2 C (CH 3 ) 2 CH 2 —],
2,2-dimethoxy-1,3-propanediyl group [—CH 2 C (OCH 3 ) 2 CH 2 —],
2,2-dimethoxymethyl-1,3-propanediyl group [—CH 2 C (CH 2 OCH 3 ) 2 CH 2 —],
1-methyl-1,3-propanediyl group [—CH (CH 3 ) CH 2 CH 2 —],
1,4-butanediyl group [—CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —],
1,5-pentanediyl group [—CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —],
An oxydiethylene group [—CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
A thiodiethylene group [—CH 2 CH 2 SCH 2 CH 2 —],
3-oxothiodiethylene group [—CH 2 CH 2 SOCH 2 CH 2 —],
3,3-dioxothiodiethylene group [—CH 2 CH 2 SO 2 CH 2 CH 2 —],
1,4-dimethyl-3-oxa-1,5-pentanediyl group [—CH (CH 3 ) CH 2 OCH (CH 3 ) CH 2 —],
3-oxopentanediyl group [—CH 2 CH 2 COCH 2 CH 2 —],
1,5-dioxo-3-oxapentanediyl group [—COCH 2 OCH 2 CO—],
4-oxa-1,7-heptanediyl group [—CH 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 —],
3,6-dioxa-1,8-octanediyl group [—CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
1,4,7-trimethyl-3,6-dioxa-1,8-octanediyl group [—CH (CH 3 ) CH 2 OCH (CH 3 ) CH 2 OCH (CH 3 ) CH 2 —],
5,5-dimethyl-3,7-dioxa-1,9-nonanediyl group [—CH 2 CH 2 OCH 2 C (CH 3 ) 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
5,5-dimethoxy-3,7-dioxa-1,9-nonanediyl group [—CH 2 CH 2 OCH 2 C (OCH 3 ) 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
5,5-dimethoxymethyl-3,7-dioxa-1,9-nonanediyl group [—CH 2 CH 2 OCH 2 C (CH 2 OCH 3 ) 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
4,7-dioxo-3,8-dioxa-1,10-decandiyl group [—CH 2 CH 2 O—COCH 2 CH 2 CO—OCH 2 CH 2 —],
3,8-dioxo-4,7-dioxa-1,10-decandiyl group [—CH 2 CH 2 CO—OCH 2 CH 2 O—COCH 2 CH 2 —],
1,3-cyclopentanediyl group [-1,3-C 5 H 8 —],
1,2-cyclohexanediyl group [-1,2-C 6 H 10- ],
1,3-cyclohexanediyl group [-1,3-C 6 H 10- ],
1,4-cyclohexanediyl group [-1,4-C 6 H 10- ],
2,5-tetrahydrofurandiyl group [2,5-C 4 H 6 O—]
p- phenylene [-p-C 6 H 4 - ],
m- phenylene group [-m-C 6 H 4 - ],
α, α′-o-xylylene group [—o—CH 2 —C 6 H 4 —CH 2 —],
α, α′-m-xylylene group [—m—CH 2 —C 6 H 4 —CH 2 —],
α, α'-p- xylylene group [-p-CH 2 -C 6 H 4 -CH 2 -],
Furan-2,5-diyl - bismethylene group [2,5-CH 2 -C 4 H 2 O-CH 2 -]
Thiophene-2,5-diyl-bismethylene group [2,5-CH 2 —C 4 H 2 S—CH 2 —]
Isopropylidenebis -p- phenylene group [-p-C 6 H 4 -C (CH 3) 2 -p-C 6 H 4 -]
Examples of the trivalent or higher valent linking group include a group formed by removing as many hydrogen atoms as necessary from the divalent linking groups listed above, and an —O— group, —S— group, —CO—. And a group formed by combining a plurality of groups and -CS- groups.

0、L1、L2、L3、L4は各々置換基を有していても良い。置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等)等が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、またはアルコキシカルボニル基である。 L 0 , L 1 , L 2 , L 3 and L 4 may each have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.) ), An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, Propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), acyloxy group (eg, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.) Etc. Preferred as a substituent is an alkyl group, an alkoxy group, or an alkoxycarbonyl group.

0、L1、L2としては、主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜8の2価の連結基が好ましく、あるいはL0、L1、L2、L3、L4としては各々主鎖が炭素のみからなる炭素数1〜5の2価の連結基がより好ましい。 L 0 , L 1 and L 2 are preferably divalent linking groups having 1 to 8 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain, or L 0 , L 1 , L 2 , L 3 , L 4 is more preferably a divalent linking group having 1 to 5 carbon atoms each having a main chain composed of only carbon.

p1、q1は各々0または1を表し、p1+q1が1以上であることが好ましい。p2、q2は各々0または1を表し、各々1が好ましい。p3、p4は各々0または1を表す。   p1 and q1 each represents 0 or 1, and p1 + q1 is preferably 1 or more. p2 and q2 each represents 0 or 1, each preferably 1; p3 and p4 each represents 0 or 1.

以下に、好ましい脂環式エポキシドの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of preferable alicyclic epoxides are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2006045415
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本発明のカチオン重合性組成物はさらにビニルエーテル化号物を含有していていも良い。ビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル−O−プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。   The cationically polymerizable composition of the present invention may further contain a vinyl ether compound. Examples of the vinyl ether compound include ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, butanediol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, cyclohexanedimethanol divinyl ether, Di- or trivinyl ether compounds such as methylolpropane trivinyl ether, ethyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octadecyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexane dimethanol monovinyl ether, n-propyl Pills vinyl ether, isopropyl vinyl ether, isopropenyl ether -O- propylene carbonate, dodecyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, and octadecyl vinyl ether.

これらのビニルエーテル化合物のうち、硬化性、密着性、表面硬度を考慮すると、ジ又はトリビニルエーテル化合物が好ましく、特にジビニルエーテル化合物が好ましい。本発明では、上記ビニルエーテル化合物の1種を単独で使用してもよいが、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。   Among these vinyl ether compounds, in consideration of curability, adhesion, and surface hardness, di- or trivinyl ether compounds are preferable, and divinyl ether compounds are particularly preferable. In the present invention, one of the above vinyl ether compounds may be used alone, or two or more thereof may be used in appropriate combination.

光重合促進剤としては、アントラセン、アントラセン誘導体(例えば、旭電化工業社製のアデカオプトマーSP−100)、フェノチアジン(10H−フェノチアジン)、フェノチアジン誘導体が(例えば、10−メチルフェノチアジン、10−エチルフェノチアジン、10−デシルフェノチアジン、10−アセチルフェノチアジン10−デシルフェノチアジン−5−オキシド、10−デシルフェノチアジン−5,5−ジオキシド、10−アセチルフェノチアジン−5,5−ジオキシド、など)挙げられる。これらの光重合促進剤は1種又は複数を組み合わせて使用することができる。   Examples of the photopolymerization accelerator include anthracene, anthracene derivatives (for example, Adekaoptomer SP-100 manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), phenothiazine (10H-phenothiazine), and phenothiazine derivatives (for example, 10-methylphenothiazine, 10-ethylphenothiazine). 10-decylphenothiazine, 10-acetylphenothiazine, 10-decylphenothiazine-5-oxide, 10-decylphenothiazine-5,5-dioxide, 10-acetylphenothiazine-5,5-dioxide, etc.). These photopolymerization accelerators can be used alone or in combination.

本発明のインクジェットインクには、上記説明した構成要素の他に、各種の添加剤を用いることができる。   In addition to the components described above, various additives can be used in the inkjet ink of the present invention.

本発明のインクジェットインクで用いる色材としては、重合性化合物の主成分に溶解または分散できる色材が使用出来るが、耐候性の点から顔料が好ましい。   As the color material used in the inkjet ink of the present invention, a color material that can be dissolved or dispersed in the main component of the polymerizable compound can be used, but a pigment is preferable from the viewpoint of weather resistance.

本発明で好ましく用いることのできる顔料を、以下に列挙する。   The pigments that can be preferably used in the present invention are listed below.

C.I.Pigment Yellow−1、3、12、13、14、17、81、83、87、95、109、42、
C.I.Pigment Orange−16、36、38、
C.I.Pigment Red−5、22、38、48:1、48:2、48:4、49:1、53:1、57:1、63:1、144、146、185、101、
C.I.Pigment Violet−19、23、
C.I.Pigment Blue−15:1、15:3、15:4、18、60、27、29、
C.I.Pigment Green−7、36、
C.I.Pigment White−6、18、21、
C.I.Pigment Black−7、
上記顔料の分散には、例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、ヘンシェルミキサ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー等を用いることができる。また、顔料の分散を行う際に分散剤を添加することも可能である。分散剤としては、高分子分散剤を用いることが好ましく、高分子分散剤としてはAvecia社のSolsperseシリーズが挙げられる。また、分散助剤として、各種顔料に応じたシナージストを用いることも可能である。これらの分散剤および分散助剤は、顔料100質量部に対し、1〜50質量部添加することが好ましい。分散媒体は、溶剤または重合性化合物を用いて行うが、本発明に用いる活性光線硬化型インクでは、インク着弾直後に反応・硬化させるため、無溶剤であることが好ましい。溶剤が硬化画像に残ってしまうと、耐溶剤性の劣化、残留する溶剤のVOCの問題が生じる。よって、分散媒体は溶剤ではなく重合性化合物、その中でも最も粘度の低いモノマーを選択することが分散適性上好ましい。
C. I. Pigment Yellow-1, 3, 12, 13, 14, 17, 81, 83, 87, 95, 109, 42,
C. I. Pigment Orange-16, 36, 38,
C. I. Pigment Red-5, 22, 38, 48: 1, 48: 2, 48: 4, 49: 1, 53: 1, 57: 1, 63: 1, 144, 146, 185, 101,
C. I. Pigment Violet-19, 23,
C. I. Pigment Blue-15: 1, 15: 3, 15: 4, 18, 60, 27, 29,
C. I. Pigment Green-7, 36,
C. I. Pigment White-6, 18, 21,
C. I. Pigment Black-7,
For the dispersion of the pigment, for example, a ball mill, sand mill, attritor, roll mill, agitator, Henschel mixer, colloid mill, ultrasonic homogenizer, pearl mill, wet jet mill, paint shaker, or the like can be used. It is also possible to add a dispersant when dispersing the pigment. As the dispersant, a polymer dispersant is preferably used, and examples of the polymer dispersant include Solsperse series manufactured by Avecia. Moreover, it is also possible to use a synergist according to various pigments as a dispersion aid. These dispersants and dispersion aids are preferably added in an amount of 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment. The dispersion medium is used using a solvent or a polymerizable compound, but the actinic ray curable ink used in the present invention is preferably solventless because it reacts and cures immediately after ink landing. If the solvent remains in the cured image, the solvent resistance deteriorates and the VOC of the remaining solvent arises. Therefore, it is preferable in view of dispersibility that the dispersion medium is not a solvent but a polymerizable compound, and among them, a monomer having the lowest viscosity is selected.

顔料の分散は、顔料粒子の平均粒径を0.08〜0.5μmとすることが好ましく、最大粒径は0.3〜10μm、好ましくは0.3〜3μmとなるよう、顔料、分散剤、分散媒体の選定、分散条件、ろ過条件を適宜設定する。この粒径管理によって、ヘッドノズルの詰まりを抑制し、インクの保存安定性、インク透明性および硬化の感度を維持することができる。   The pigment is preferably dispersed so that the average particle diameter of the pigment particles is 0.08 to 0.5 μm, and the maximum particle diameter is 0.3 to 10 μm, preferably 0.3 to 3 μm. The selection of the dispersion medium, the dispersion conditions, and the filtration conditions are appropriately set. By controlling the particle size, clogging of the head nozzle can be suppressed, and ink storage stability, ink transparency, and curing sensitivity can be maintained.

本発明のインクジェットインクにおいては、色材濃度として、インク全体の1質量%乃至10質量%であることが好ましい。   In the inkjet ink of the present invention, the color material concentration is preferably 1% by mass to 10% by mass with respect to the entire ink.

本発明においては、吐出安定性、保存性を向上させる目的で、熱塩基発生剤も用いることができる。   In the present invention, a thermal base generator can also be used for the purpose of improving ejection stability and storage stability.

熱塩基発生剤としては、例えば、加熱により脱炭酸して分解する有機酸と塩基の塩、分子内求核置換反応、ロッセン転位、ベックマン転位等の反応により分解してアミン類を放出する化合物や、加熱により何らかの反応を起こして塩基を放出するものが好ましく用いられる。具体的には、英国特許第998,949号記載のトリクロロ酢酸の塩、米国特許第4,060,420号に記載のアルファースルホニル酢酸の塩、特開昭59−157637号に記載のプロピール酸類の塩、2−カルボキシカルボキサミド誘導体、特開昭59−168440号に記載の塩基成分に有機塩基の他にアルカリ金属、アルカリ土類金属を用いた熱分解性酸との塩、特開昭59−180537号に記載のロッセン転位を利用したヒドロキサムカルバメート類、加熱によりニトリルを生成する特開昭59−195237号に記載のアルドキシムカルバメート類等が挙げられる。その他、英国特許第998,945号、米国特許第3,220,846号、英国特許第279,480号、特開昭50−22625号、同61−32844号、同61−51139号、同61−52638号、同61−51140号、同61−53634号〜同61−53640号、同61−55644号、同61−55645号等に記載の熱塩基発生剤が有用である。更に具体的に例を挙げると、トリクロロ酢酸グアニジン、トリクロロ酢酸メチルグアニジン、トリクロロ酢酸カリウム、フェニルスルホニル酢酸グアニジン、p−クロロフェニルスルホニル酢酸グアニジン、p−メタンスルホニルフェニルスルホニル酢酸グアニジン、フェニルプロピオール酸カリウム、フェニルプロピオール酸グアニジン、フェニルプロピオール酸セシウム、p−クロロフェニルプロピオール酸グアニジン、p−フェニレン−ビス−フェニルプロピオール酸グアニジン、フェニルスルホニル酢酸テトラメチルアンモニウム、フェニルプロピオール酸テトラメチルアンモニウムがある。上記の熱塩基発生剤は広い範囲で用いることができる。   Examples of the thermal base generator include compounds that release amines by decomposition by reactions such as organic acid and base salts that are decomposed by decarboxylation by heating, intramolecular nucleophilic substitution reaction, Rossen rearrangement, Beckmann rearrangement, etc. Those which cause some kind of reaction by heating and release a base are preferably used. Specifically, the salt of trichloroacetic acid described in British Patent No. 998,949, the salt of alpha-sulfonylacetic acid described in US Pat. No. 4,060,420, and the propionic acids described in JP-A-59-157737 Salts, 2-carboxycarboxamide derivatives, salts with a base component described in JP-A-59-168440 and a thermally decomposable acid using an alkali metal or an alkaline earth metal in addition to an organic base, JP-A-59-180537 Hydroxam carbamates utilizing the Lossen rearrangement described in No. 5, and aldoxime carbamates described in JP-A No. 59-195237 that generate nitriles by heating. In addition, British Patent No. 998,945, US Pat. No. 3,220,846, British Patent No. 279,480, Japanese Patent Laid-Open Nos. 50-22625, 61-32844, 61-51139, 61 The thermal base generators described in Nos. -52638, 61-51140, 61-53634 to 61-53640, 61-55644, 61-55645 and the like are useful. More specifically, guanidine trichloroacetate, methylguanidine trichloroacetate, potassium trichloroacetate, guanidine phenylsulfonylacetate, guanidine p-chlorophenylsulfonylacetate, guanidine p-methanesulfonylphenylsulfonylacetate, potassium phenylpropiolate, phenylpropiool Examples include acid guanidine, cesium phenylpropiolate, guanidine p-chlorophenylpropiolate, guanidine p-phenylene-bis-phenylpropiolate, tetramethylammonium phenylsulfonylacetate, and tetramethylammonium phenylpropiolate. The thermal base generator can be used in a wide range.

本発明のインクは、特開平8−248561号、同9−34106号をはじめとし、既に公知となっている活性光線の照射で発生した酸により新たに酸を発生する酸増殖剤を含有することも可能である。   The ink of the present invention contains an acid proliferating agent that newly generates an acid by an acid generated by irradiation with actinic rays, which is already known, including JP-A-8-248561 and JP-A-9-34106. Is also possible.

本発明のインクジェット用インクは、活性エネルギー線硬化性化合物、顔料分散剤と共に、顔料をサンドミル等の通常の分散機を用いてよく分散することにより製造される。予め、顔料高濃度の濃縮液を調製しておき、活性エネルギー線硬化性化合物で希釈することが好ましい。通常の分散機による分散でも充分な分散が可能であり、このため、過剰な分散エネルギーがかからず、多大な分散時間を必要としないため、インク成分の分散時の変質を招きにくく、安定性に優れたインクが調製される。インクは、孔径3μm以下、更には1μm以下のフィルターにて濾過することが好ましい。   The ink-jet ink of the present invention is produced by well dispersing the pigment together with an active energy ray-curable compound and a pigment dispersant using an ordinary dispersing machine such as a sand mill. It is preferable to prepare a concentrated solution having a high pigment concentration in advance and dilute with an active energy ray-curable compound. Sufficient dispersion is possible even with dispersion by a normal disperser, so it does not take excessive dispersion energy and does not require a great amount of dispersion time. Ink excellent in the quality is prepared. The ink is preferably filtered through a filter having a pore diameter of 3 μm or less, more preferably 1 μm or less.

本発明のインクジェット用インクは、25℃での粘度が5〜50mPa・sと高めに調整することが好ましい。25℃での粘度が5〜50mPa・sのインクは、特に通常の4〜10KHzの周波数を有するヘッドから、10〜50KHzの高周波数のヘッドにおいても安定した吐出特性を示す。粘度が5mPa・s未満の場合は、高周波数のヘッドにおいて、吐出の追随性の低下が認められ、50mPa・sを越える場合は、加熱による粘度の低下機構をヘッドに組み込んだとしても吐出特性そのものの低下を生じ、吐出の安定性が不良となり、全く吐出できなくなる。   The ink-jet ink of the present invention is preferably adjusted to have a high viscosity at 25 ° C. of 5 to 50 mPa · s. An ink having a viscosity of 5 to 50 mPa · s at 25 ° C. exhibits stable ejection characteristics even from a head having a normal frequency of 4 to 10 KHz to a head having a high frequency of 10 to 50 KHz. When the viscosity is less than 5 mPa · s, a decrease in the followability of the discharge is recognized in the high-frequency head, and when it exceeds 50 mPa · s, the discharge characteristic itself even if a mechanism for reducing the viscosity by heating is incorporated in the head. Drop, the stability of the discharge becomes poor, and it becomes impossible to discharge at all.

また、本発明のインクジェット用インクは、ピエゾヘッドにおいては、10μS/cm以下の電導度とし、ヘッド内部での電気的な腐食のないインクとすることが好ましい。また、コンティニュアスタイプにおいては、電解質による電導度の調整が必要であり、この場合には、0.5mS/cm以上の電導度に調整する必要がある。   The ink-jet ink of the present invention preferably has a conductivity of 10 μS / cm or less in a piezo head and does not cause electrical corrosion inside the head. Further, in the continuous type, it is necessary to adjust the electric conductivity by the electrolyte. In this case, it is necessary to adjust the electric conductivity to 0.5 mS / cm or more.

本発明においては、インクの25℃における表面張力が、25〜40mN/mの範囲にあることが好ましい。25℃におけるインクの表面張力が25mN/m未満では、安定した出射が得られにくく、また40mN/mを越えると所望のドット径を得ることができない。25〜40mN/mの範囲外では、本発明のように、インクの粘度や含水率を制御しながら出射、光照射しても、様々な支持体に対して均一なドット径を得ることが困難となる。   In the present invention, the surface tension of the ink at 25 ° C. is preferably in the range of 25 to 40 mN / m. If the surface tension of the ink at 25 ° C. is less than 25 mN / m, stable emission is difficult to obtain, and if it exceeds 40 mN / m, a desired dot diameter cannot be obtained. Outside the range of 25 to 40 mN / m, it is difficult to obtain uniform dot diameters for various supports even when the light is emitted and irradiated with light while controlling the viscosity and moisture content of the ink as in the present invention. It becomes.

表面張力を調整するために、必要に応じて、界面活性剤を含有させてもよい。本発明に係るインクに好ましく使用される界面活性剤としては、例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第4級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤、重合性基を有する界面活性化合物などが挙げられる。これらの中で特に、シリコーン変性アクリレート、フッ素変性アクリレート、シリコーン変性エポキシ、フッ素変性エポキシ、シリコーン変性オキセタン、フッ素変性オキセタンなど、不飽和結合やオキシラン、オキセタン環など重合性基を有する界面活性化合物が好ましい。   In order to adjust the surface tension, a surfactant may be contained as necessary. Examples of the surfactant preferably used in the ink according to the present invention include anionic surfactants such as dialkylsulfosuccinates, alkylnaphthalenesulfonates, and fatty acid salts, polyoxyethylene alkyl ethers, and polyoxyethylene alkyl. Nonionic surfactants such as allyl ethers, acetylene glycols, polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers, cationic surfactants such as alkylamine salts and quaternary ammonium salts, and surfactants having a polymerizable group Compound etc. are mentioned. Of these, particularly preferable are surface active compounds having a polymerizable group such as an unsaturated bond, oxirane, or oxetane ring, such as silicone-modified acrylate, fluorine-modified acrylate, silicone-modified epoxy, fluorine-modified epoxy, silicone-modified oxetane, and fluorine-modified oxetane. .

本発明のインクには、上記説明した以外に様々な添加剤を用いることができる。例えば、レベリング添加剤、マット剤、膜物性を調整するためのポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類を添加することが出来る。記録媒体との密着性を改善するため、極微量の有機溶剤を添加することも有効である。この場合、耐溶剤性やVOCの問題が起こらない範囲での添加が有効であり、その使用量は0.1〜5%の範囲であり、好ましくは0.1〜3%である。また、ラジカル重合性モノマーと開始剤を組み合わせ、ラジカル・カチオンのハイブリッド型硬化インクとすることも可能である。   Various additives other than those described above can be used in the ink of the present invention. For example, leveling additives, matting agents, polyester resins for adjusting film properties, polyurethane resins, vinyl resins, acrylic resins, rubber resins, and waxes can be added. In order to improve the adhesion with the recording medium, it is also effective to add a trace amount of organic solvent. In this case, it is effective to add in the range where the solvent resistance and VOC problems do not occur, and the amount used is in the range of 0.1 to 5%, preferably 0.1 to 3%. It is also possible to combine a radically polymerizable monomer and an initiator into a radical / cation hybrid type curable ink.

本発明の画像形成方法においては、インク組成物をインクジェット記録方式により記録材料上に吐出、描画し、次いで紫外線などの活性光線を照射してインクを硬化させる。   In the image forming method of the present invention, the ink composition is ejected and drawn on a recording material by an ink jet recording method, and then the ink is cured by irradiation with an actinic ray such as ultraviolet rays.

本発明の画像形成方法においては、インク出射時にはインクをインクジェットノズルごと加温し、インク液を低粘度させることが好ましい。加熱温度としては、30〜80℃、好ましくは35〜60℃である。   In the image forming method of the present invention, it is preferable that the ink is heated together with the ink jet nozzles during ink ejection so that the ink liquid has a low viscosity. As heating temperature, it is 30-80 degreeC, Preferably it is 35-60 degreeC.

本発明において、インクが着弾し、活性光線を照射して硬化した後の総インク膜厚が2〜20μmであることが好ましい。スクリーン印刷分野の活性光線硬化型インクジェット記録では、総インク膜厚が20μmを越えているのが現状であるが、記録材料が薄いプラスチック材料であることが多い軟包装印刷分野では、前述した記録材料のカール・しわの問題でだけでなく、印刷物全体のこし・質感が変わってしまうという問題が有るため使えない。また、本発明では、各ノズルより吐出する液滴量が2〜15plであることが好ましい。   In the present invention, the total ink film thickness after the ink has landed and cured by irradiation with actinic rays is preferably 2 to 20 μm. In the actinic ray curable inkjet recording in the screen printing field, the total ink film thickness currently exceeds 20 μm, but in the flexible packaging printing field where the recording material is often a thin plastic material, the recording material described above is used. Not only because of curling and wrinkling problems, but also because it has the problem of changing the texture and texture of the entire printed matter. Moreover, in this invention, it is preferable that the amount of droplets discharged from each nozzle is 2 to 15 pl.

本発明においては、高精細な画像を形成するためには、照射タイミングができるだけ早い方が好ましいが、本発明においては、インクの粘度または含水率が好ましい状態となるタイミングで光照射を開始することが好ましい。   In the present invention, in order to form a high-definition image, it is preferable that the irradiation timing is as early as possible. However, in the present invention, light irradiation is started at a timing at which the viscosity or moisture content of the ink is in a preferable state. Is preferred.

詳しくは、発生光線の照射条件として、インク着弾後0.001〜2.0秒の間に活性光線照射を開始することが好ましく、より好ましくは0.001〜0.4秒である。また、0.1〜3秒後、好ましくは0.2〜1秒以内に、インクの流動性が失われる程度まで光照射を行なった後、終了させることが好ましい。上記条件とすることにより、ドット径の拡大やドット間の滲みを防止することができる。   Specifically, as the irradiation condition of the generated light, actinic light irradiation is preferably started within 0.001 to 2.0 seconds after ink landing, and more preferably 0.001 to 0.4 seconds. Also, it is preferable to terminate the light irradiation after 0.1 to 3 seconds, preferably within 0.2 to 1 second, until the ink fluidity is lost. By setting it as the above condition, enlargement of the dot diameter and bleeding between the dots can be prevented.

活性光線の照射方法として、その基本的な方法が特開昭60−132767号に開示されている。これによると、記録ヘッドユニットの両側に光源を設け、シャトル方式で記録ヘッドと光源を走査する。照射は、インク着弾後、一定時間を置いて行われることになる。更に、駆動を伴わない別光源によって硬化を完了させる。米国特許第6,145,979号では、照射方法として、光ファイバーを用いた方法や、コリメートされた光源を記録ヘッドユニット側面に設けた鏡面に当て、記録部へUV光を照射する方法が開示されている。本発明の画像形成方法においては、これらのいずれの照射方法も用いることができる。   As a method for irradiating actinic rays, the basic method is disclosed in JP-A-60-132767. According to this, the light source is provided on both sides of the recording head unit, and the recording head and the light source are scanned by the shuttle method. Irradiation is performed after a certain period of time after ink landing. Further, the curing is completed by another light source that is not driven. In US Pat. No. 6,145,979, as an irradiation method, a method using an optical fiber or a method of applying a collimated light source to a mirror surface provided on the side surface of a recording head unit and irradiating the recording unit with UV light is disclosed. ing. Any of these irradiation methods can be used in the image forming method of the present invention.

また、活性光線を照射を2段階に分け、まずインク着弾後0.001〜2.0秒の間に前述の方法で活性光線を照射し、かつ、全印字終了後、更に活性光線を照射する方法も好ましい態様の1つである。活性光線の照射を2段階に分けることで、よりインク硬化の際に起こる記録材料の収縮を抑えることが可能となる。   In addition, irradiation with actinic rays is divided into two stages. First, actinic rays are irradiated by the above-described method within 0.001 to 2.0 seconds after ink landing, and further, actinic rays are irradiated after all printing is completed. The method is also a preferred embodiment. By dividing the irradiation of actinic rays into two stages, it is possible to further suppress the shrinkage of the recording material that occurs during ink curing.

活性光線照射で用いる光源の例としては、水銀アークランプ、キセノンアークランプ、螢光ランプ、炭素アークランプ、タングステン−ハロゲン複写ランプ高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極UVランプ、低圧水銀ランプ、UVレーザー、キセノンフラッシュランプ、捕虫灯、ブラックライト、殺菌灯、冷陰極管、LEDをなどがあるが、これらに限定されないが、この中でも蛍光管が低エネルギー・低コストであり、好ましい。光源波長としては250〜370nm、好ましくには270〜320nmに発光波長のピークがある光源が、感度の点で好ましい。照度は、1〜3000mW/cm2、好ましくは1〜200mW/cm2である。また、電子線により硬化させる場合には、通常300eVの以下のエネルギーの電子線で硬化させるが、1〜5Mradの照射量で瞬時に硬化させることも可能である。 Examples of light sources used for actinic ray irradiation include mercury arc lamps, xenon arc lamps, fluorescent lamps, carbon arc lamps, tungsten-halogen copying lamps, high pressure mercury lamps, metal halide lamps, electrodeless UV lamps, low pressure mercury lamps, UV lasers. , Xenon flash lamps, insect traps, black lights, germicidal lamps, cold cathode tubes, LEDs, and the like, but are not limited to these. Among these, fluorescent tubes are preferred because of their low energy and low cost. A light source having a light emission wavelength peak at 250 to 370 nm, preferably 270 to 320 nm is preferable in terms of sensitivity. The illuminance is 1 to 3000 mW / cm 2 , preferably 1 to 200 mW / cm 2 . In addition, in the case of curing with an electron beam, the curing is usually performed with an electron beam having an energy of 300 eV or less, but it is also possible to cure instantaneously with an irradiation amount of 1 to 5 Mrad.

本発明のインクジェット用インクを用いて、被記録媒体(基材ともいう)への画像印字を行うが、被記録媒体としては、従来各種の用途で使用されている広汎な合成樹脂を全て用いることができ、具体的には、例えば、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリウレタン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブタジエンテレフタレート等が挙げられ、これらの合成樹脂基材の厚みや形状は何ら限定されない。   The inkjet ink of the present invention is used to print an image on a recording medium (also referred to as a base material). As the recording medium, all of a wide range of conventional synthetic resins used in various applications are used. Specific examples include polyester, polyvinyl chloride, polyethylene, polyurethane, polypropylene, acrylic resin, polycarbonate, polystyrene, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, polyethylene terephthalate, polybutadiene terephthalate, and the like. The thickness and shape of the synthetic resin base material are not limited at all.

本発明で用いることのできる基材としては、通常の非コート紙、コート紙などの他に、非吸収性支持体を用いることができるが、その中でも、基材として非吸収性支持体を用いることが好ましい。   As a base material that can be used in the present invention, a non-absorbent support can be used in addition to normal uncoated paper, coated paper, etc. Among them, a non-absorbent support is used as the base material. It is preferable.

本発明においては、非吸収性支持体としては、各種非吸収性のプラスチックおよびそのフィルムを用いることができ、各種プラスチックフィルムとしては、例えば、PETフィルム、OPSフィルム、OPPフィルム、ONyフィルム、PVCフィルム、PEフィルム、TACフィルムを挙げることができる。その他のプラスチックとしては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ABS、ポリアセタール、PVA、ゴム類などが使用できる。また、金属類や、ガラス類にも適用可能である。これらの記録材料の中でも、特に熱でシュリンク可能な、PETフィルム、OPSフィルム、OPPフィルム、ONyフィルム、PVCフィルムへ画像を形成する場合に本発明の構成は、有効となる。これらの基材は、インクの硬化収縮、硬化反応時の発熱などにより、フィルムのカール、変形が生じやすいばかりでなく、インク膜が基材の収縮に追従し難い。   In the present invention, various non-absorbing plastics and films thereof can be used as the non-absorbing support. Examples of the various plastic films include PET film, OPS film, OPP film, ONy film, and PVC film. , PE film, and TAC film. As other plastics, polycarbonate, acrylic resin, ABS, polyacetal, PVA, rubbers and the like can be used. Moreover, it is applicable also to metals and glass. Among these recording materials, the structure of the present invention is effective particularly when an image is formed on a PET film, an OPS film, an OPP film, an ONy film, or a PVC film that can be shrunk by heat. These substrates are not only susceptible to curling and deformation of the film due to ink curing shrinkage and heat generation during the curing reaction, but also the ink film is difficult to follow the substrate shrinkage.

これら、各種プラスチックフィルムの表面エネルギーは大きく異なり、記録材料によってインク着弾後のドット径が変わってしまうことが、従来から問題となっていた。本発明の構成では、表面エネルギーの低いOPPフィルム、OPSフィルムや表面エネルギーの比較的大きいPETまでを含むが、基材として、濡れ指数が40〜60mN/mであることが好ましい。   The surface energies of these various plastic films differ greatly, and it has been a problem in the past that the dot diameter after ink landing varies depending on the recording material. The constitution of the present invention includes an OPP film having a low surface energy, an OPS film, and a PET having a relatively large surface energy, but the substrate preferably has a wetting index of 40 to 60 mN / m.

本発明において、包装の費用や生産コスト等の記録材料のコスト、プリントの作製効率、各種のサイズのプリントに対応できる等の点で、長尺(ウェブ)な記録材料を使用する方が有利である。   In the present invention, it is more advantageous to use a long (web) recording material in terms of the cost of the recording material such as packaging cost and production cost, the production efficiency of the print, and the ability to cope with printing of various sizes. is there.

以下、本発明を実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated concretely, the embodiment of this invention is not limited to these.

実施例1
《カチオン重合性組成物の調製》
下記の組成からなるカチオン重合性組成物101を調製した。
Example 1
<< Preparation of cationically polymerizable composition >>
A cationically polymerizable composition 101 having the following composition was prepared.

オキセタン化合物:化合物例 1 75質量部
オキシラン化合物:化合物例 AP−21 20質量部
光酸発生剤:化合物例 TAS−13 5質量部
上記活性エネルギー線硬化組成物のオキセタン化合物、オキシラン化合物を表1に変更して、カチオン重合性組成物102〜135を調製した。
Oxetane compound: Compound example 1 75 parts by mass Oxirane compound: Compound example AP-21 20 parts by mass Photoacid generator: Compound example TAS-13 5 parts by mass The oxetane compound and oxirane compound of the above active energy ray-curable composition are shown in Table 1. Modifications were made to prepare cationically polymerizable compositions 102-135.

得られたカチオン重合性組成物1mlを157cm2のPETフィルムに塗布し、30℃に加熱した状態で、湿度80%に保った状態で、高圧水銀灯を用いて照射エネルギー10mJ/cm2にて20秒間照射を行なった。得られた硬化組成物の粘性の変化を表1に示す。また、カチオン重合組成物10mlをサンプル瓶に密栓して温度70℃湿度80%の恒温槽内にて、3日間保存した後のカチオン重合性硬化組成物の粘性の変化を評価した。こちらの結果もあわせて表1に示す。さらに3日間保存後のカチオン重合組成物のうち粘性変化が少ないものについて再度保存前と同じ条件で紫外線照射実験を行った。結果を表1に合わせて示す。 1 ml of the resulting cationic polymerizable composition was applied to a 157 cm 2 PET film, heated to 30 ° C., and maintained at a humidity of 80%, using a high pressure mercury lamp at an irradiation energy of 10 mJ / cm 2 . Irradiation was performed for 2 seconds. Table 1 shows changes in the viscosity of the obtained cured composition. Further, 10 ml of the cationic polymerization composition was sealed in a sample bottle, and the change in viscosity of the cationic polymerization curable composition after being stored for 3 days in a constant temperature bath at 70 ° C. and 80% humidity was evaluated. These results are also shown in Table 1. Further, among the cationic polymerization compositions after storage for 3 days, UV irradiation experiments were again performed under the same conditions as before storage for those having little viscosity change. The results are shown in Table 1.

粘性の変化は、光未照射塗膜と光照射後の塗膜を金属スパチュラで触り、実験者の触感から判定した。「硬化」とは完全に硬化した堅牢な塗膜が形成したことを示し、「ゲル化」とはゲル状の塗膜が形成した事を示し、「増粘した」とは、光未照射塗膜と光照射後の塗膜で明らかに粘性に差があることを示し、「わずかに増粘した」とは光未照射塗膜と光照射後の塗膜で粘性にわずかに差があることを示し、「増粘せず」とは光未照射塗膜と光照射後の塗膜で触感に有意な差が見られなかった事を示す。表から明らかなように、本発明のオキセタン化合物とオキシラン化合物からなるカチオン重合性組成物に紫外線を照射すると、塗膜の硬化が生じ、重合が進行している事を示している。さらに、70℃3日間保存してもカチオン重合性組成物は良好な重合性を維持しつつ、粘度上昇がほとんど無いことを示している。   The change in viscosity was judged from the tactile sensation of the experimenter by touching the light unirradiated coating film and the coating film after the light irradiation with a metal spatula. “Curing” indicates that a completely cured and robust coating was formed, “Gelification” indicates that a gel-like coating was formed, and “Thickened” indicates that the coating was not irradiated with light. Clearly there is a difference in viscosity between the film and the film after light irradiation. “Slightly thickened” means that there is a slight difference in viscosity between the light unirradiated film and the film after light irradiation. “No thickening” means that no significant difference was found in the tactile sensation between the light-unirradiated coating film and the light-irradiated coating film. As is apparent from the table, when the cationic polymerizable composition comprising the oxetane compound and the oxirane compound of the present invention is irradiated with ultraviolet rays, the coating film is cured and the polymerization proceeds. Furthermore, even if it preserve | saves at 70 degreeC for 3 days, the cationically polymerizable composition has shown that there is almost no viscosity raise, maintaining favorable polymerizability.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

<光酸発生剤>
ESACURE1187:トリフェニルスルホニウム塩(ESACURE 1187 lambertie社製)
UVI6990:トリフェニルスルホニウム塩(サイラキュアUVI6990 ユニオンカーバイド社製)
RODOSIL2074:ヨードニウム塩(RODOSIL2074 RODIA社製)
CGI552:ヨードニウム塩(CGI552 チバガイギー社製)
CI2855:アリールジアルキルスルホニウム塩(CI2855 日本曹達社製)
<オキシラン化合物>
セロキサイド3000:脂環式エポキシ(ダイセルUCB社製)
セロキサイド2021P:脂環式エポキシ(ダイセルUCB社製)
<オキセタン化合物>
OXT−221:ジ〔1−エチル(3−オキセタニル)〕メチルエーテル(東亞合成社製)
OXT−212:3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシメチル)オキセタン
実施例2
《インクジェットインクの調製》
(マゼンタインク201の調製)
下記の組成からなるマゼンタインク1を調製した。マゼンタインク201は、光酸発生剤を除く各組成物を、サンドグラインダーを用いて4時間分散した後、光酸発生剤を添加し、0.8μmのメンブランフィルターで濾過を行った後、50℃に加熱しながら減圧脱水を行って調製した。
<Photo acid generator>
ESACURE1187: Triphenylsulfonium salt (manufactured by ESACURE 1187 lambertie)
UVI 6990: Triphenylsulfonium salt (Syracure UVI 6990 manufactured by Union Carbide)
RODOSIL 2074: Iodonium salt (RODOSIL 2074 manufactured by RODIA)
CGI552: Iodonium salt (CGI552 manufactured by Ciba Geigy)
CI2855: Aryl dialkylsulfonium salt (CI2855 manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.)
<Oxirane compounds>
Celoxide 3000: Alicyclic epoxy (manufactured by Daicel UCB)
Celoxide 2021P: Alicyclic epoxy (Daicel UCB)
<Oxetane compound>
OXT-221: Di [1-ethyl (3-oxetanyl)] methyl ether (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
OXT-212: 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane Example 2
<Preparation of inkjet ink>
(Preparation of magenta ink 201)
Magenta ink 1 having the following composition was prepared. The magenta ink 201 was prepared by dispersing each composition excluding the photoacid generator for 4 hours using a sand grinder, adding the photoacid generator, and filtering through a 0.8 μm membrane filter. The solution was prepared by dehydration under reduced pressure while heating.

顔料:C.I.ピグメントレッド184 3質量部
分散剤:ソルスパース24000(Avecia社製) 1質量部
オキセタン化合物:OXT221 75質量部
オキシラン化合物:セロキサイド3000 20質量部
光酸発生剤:UVI6990 5質量部
(インク202〜249の調製)
オキセタン化合物、オキシラン化合物、光酸発生剤、顔料を以下に示す表2に記載したような構成に変更した以外はインク201と同様に調製して本発明のインクジェット用インクであるインク201〜249を得た。
Pigment: C.I. I. Pigment Red 184 3 parts by weight Dispersant: Solsperse 24000 (Avecia) 1 part by weight Oxetane compound: OXT221 75 parts by weight Oxirane compound: Celoxide 3000 20 parts by weight Photoacid generator: UVI 6990 5 parts by weight (Preparation of inks 202 to 249) )
Inks 201 to 249, which are ink jet inks of the present invention, were prepared in the same manner as ink 201 except that the oxetane compound, oxirane compound, photoacid generator, and pigment were changed to the configuration shown in Table 2 below. Obtained.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

表2に記載の各化合物の詳細を、以下に示す。   The detail of each compound described in Table 2 is shown below.

<顔料>
P0:C.I.ピグメントレッド184
P1:粗製銅フタロシアニン(東洋インク製造社製「銅フタロシアニン」)の250部、塩化ナトリウムの2500部及びポリエチレングリコール(東京化成社製「ポリエチレングリコール300」)の160部を、スチレン製4.55L(1ガロン)のニーダー(井上製作所社製)に仕込み、3時間混練した。次に、この混合物を2.5リットルの温水に投入し、約80℃に加熱しながらハイスピードミキサーで約1時間攪拌しスラリー状とした後、濾過、水洗を5回繰り返して塩化ナトリウムおよび溶剤を除き、次いでスプレードライをして乾燥して顔料P1を得た。
<Pigment>
P0: C.I. I. Pigment Red 184
P1: 250 parts of crude copper phthalocyanine (“Copper phthalocyanine” manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.), 2500 parts of sodium chloride and 160 parts of polyethylene glycol (“Polyethylene glycol 300” manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 1 gallon) kneader (manufactured by Inoue Seisakusho) was kneaded for 3 hours. Next, this mixture is poured into 2.5 liters of warm water, heated to about 80 ° C. and stirred for about 1 hour with a high speed mixer to form a slurry, followed by filtration and water washing 5 times to repeat sodium chloride and solvent And then dried by spray drying to obtain Pigment P1.

P2:キナクリドン系赤顔料(Ciba Geigy社製「シンカシアマゼンタRT−355−D」)の250部、塩化ナトリウムの2500部及び「ポリエチレングリコール300」の160部を、スチレン製4.55L(1ガロン)ニーダーに仕込み、P1と同様にして顔料P2を得た。   P2: 250 parts of quinacridone red pigment (“Cincacia Magenta RT-355-D” manufactured by Ciba Geigy), 2500 parts of sodium chloride and 160 parts of “polyethylene glycol 300” were added to 4.55 L (1 gallon) of styrene. ) The mixture was charged into a kneader, and pigment P2 was obtained in the same manner as P1.

<光酸発生剤>
ESACURE1187:トリフェニルスルホニウム塩(ESACURE 1187 lambertie社製)
UVI6990:トリフェニルスルホニウム塩(サイラキュアUVI6990 ユニオンカーバイド社製)
<オキシラン化合物>
セロキサイド3000:脂環式エポキシ(ダイセルUCB社製)
セロキサイド2021P:脂環式エポキシ(ダイセルUCB社製)
<オキセタン化合物>
OXT−221:ジ〔1−エチル(3−オキセタニル)〕メチルエーテル(東亞合成社製)
OXT−212:3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシメチル)オキセタン
《インクジェット画像記録及び評価》
上記調製した各インクを用いて、下記の方法に従って画像記録及び得られた画像の評価を行った。また各インクをガラスサンプル瓶に密栓し、70℃80%RHの恒温槽内で3日間保存後、同様の画像記録及び画像評価を行った。
<Photo acid generator>
ESACURE1187: Triphenylsulfonium salt (manufactured by ESACURE 1187 lambertie)
UVI 6990: Triphenylsulfonium salt (Syracure UVI 6990 manufactured by Union Carbide)
<Oxirane compounds>
Celoxide 3000: Alicyclic epoxy (manufactured by Daicel UCB)
Celoxide 2021P: Alicyclic epoxy (Daicel UCB)
<Oxetane compound>
OXT-221: Di [1-ethyl (3-oxetanyl)] methyl ether (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
OXT-212: 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane << Inkjet image recording and evaluation >>
Using the inks prepared above, image recording and evaluation of the obtained images were performed according to the following methods. Each ink was sealed in a glass sample bottle and stored in a thermostat at 70 ° C. and 80% RH for 3 days, and then the same image recording and image evaluation were performed.

〔画像評価A〕
(画像記録)
得られた各マゼンタインクを、液滴サイズ7plが得られるピエゾタイプのインクジェットノズル(ノズルピッチ360dpi、本発明でいうdpiとは2.54cm当たりのドット数を表す)を、ノズル部分を50℃に加熱制御し、コロナ処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを基材として用いて出射し、マゼンタベタ画像(インク液付き量10g/m2)と6ポイントMS明朝体文字を印字した。光源は、308nmに主ピークを持つ蛍光管を用い、光源直下、基材面の照度が1mW/cm2の条件で、着弾後0.3秒後に露光を開始し、0.5秒後に露光を終了させた。
[Image Evaluation A]
(Image recording)
Piezo-type inkjet nozzles (nozzle pitch 360 dpi, dpi as used in the present invention represents the number of dots per 2.54 cm) for each magenta ink obtained to obtain a droplet size of 7 pl, and the nozzle portion at 50 ° C. Heat-controlled, corona-treated polyethylene terephthalate film was used as a base material and emitted, and a magenta solid image (amount with ink solution 10 g / m 2 ) and 6-point MS Mincho font were printed. The light source is a fluorescent tube having a main peak at 308 nm. Under the condition that the illuminance of the substrate surface is 1 mW / cm 2 directly under the light source, the exposure starts 0.3 seconds after landing and the exposure is 0.5 seconds later. Ended.

なお、露光エネルギーは0.5mJ/cm2であった。この画像印字を30℃、20%RHおよび85%RHの環境下にて行った。 The exposure energy was 0.5 mJ / cm 2 . This image printing was performed in an environment of 30 ° C., 20% RH and 85% RH.

(画像の評価)
以上のようにして得られた各画像について、下記の評価を行った。
(Image evaluation)
The following evaluation was performed on each image obtained as described above.

〈インク硬化性の評価〉
印字画像について、下記の基準に則りインク硬化性の評価を行った。
<Evaluation of ink curability>
The printed images were evaluated for ink curability according to the following criteria.

○:露光終了直後に触っても画像はタッキネスがない
△:露光終了直後に触ると画像はタッキネスが若干あるが、1分後にはタッキネスが無くなる
×:露光終了1分後でもタッキネスが残る
〈基材接着性の評価〉
ベタ画像上に、幅25mmのセロテープ(登録商標)を貼り付けて強く圧着した後、90度の剥離角度で素早く剥離し、隔離後の画像の状態を目視観察し、下記の基準に則り基材接着性の評価を行った。
○: The image has no tackiness even when touched immediately after the exposure is finished. Δ: The image has a slight tackiness when touched immediately after the exposure is finished, but the tackiness disappears after 1 minute. ×: The tackiness remains even after 1 minute after the exposure. Evaluation of material adhesion>
Paste a 25 mm wide cello tape (registered trademark) on the solid image and press it firmly, then quickly peel it off at a 90 degree peel angle, visually observe the image after separation, and follow the criteria below. Adhesion was evaluated.

○:テープ剥離でも画像は剥がれない
△:テープ剥離で画像が一部剥がれる
×:テープ剥離で画像が全て剥がれる
〈画像滲み耐性の評価〉
6ポイントMS明朝体文字をルーペで観察し、隣り合うドットの状態を観察し、下記の基準に則り画像滲み耐性の評価を行った。
○: The image is not peeled even when the tape is peeled △: The image is peeled off partly by the tape peeling ×: The whole image is peeled off by the tape peeling <Evaluation of image bleeding resistance>
The 6-point MS Mincho font was observed with a loupe, the state of adjacent dots was observed, and image bleeding resistance was evaluated according to the following criteria.

○:2ドット間の滲みが殆どない
△:2ドット間の滲みが僅かに見られる
×:ドットが大きく滲む
以上により得られた結果を表3、表4に示す。
○: Almost no bleeding between 2 dots Δ: Slight bleeding between 2 dots is observed ×: The dots are greatly blurred Tables 3 and 4 show the results obtained as described above.

Figure 2006045415
Figure 2006045415

Figure 2006045415
Figure 2006045415

表3、表4より明らかなように、本発明のインクジェット用インク組成物は、格段に優れたインク硬化性、基材密着性に優れ、滲みのない高品位の画像を得られることが分かる。また、インク保存後においても本発明のインクジェット用インク組成物は格段に優れたインク硬化性を維持していることが分る。   As is clear from Tables 3 and 4, it can be seen that the ink composition for inkjet according to the present invention is excellent in ink curability and substrate adhesion, and can obtain a high-quality image without bleeding. In addition, it can be seen that the ink composition for ink-jet recording of the present invention maintains remarkably excellent ink curability even after ink storage.

Claims (7)

1つ以上のオキセタン環を有する化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物と、少なくとも1つ以上のオキシラン環を有し、かつ、オキシラン環を構成する酸素原子の隣接炭素原子に少なくとも1つの芳香族基が置換した化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物とを含有することを特徴とするカチオン重合性組成物。 At least one compound selected from compounds having one or more oxetane rings, and at least one aromatic group in an adjacent carbon atom of an oxygen atom having at least one oxirane ring and constituting the oxirane ring. And at least one compound selected from compounds in which is substituted. 少なくとも1つ以上のオキセタン環を有し、かつ、オキセタン環を構成する酸素原子の隣接炭素原子に少なくとも1つの芳香族基が置換した化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物と、少なくとも1つ以上のオキシラン環を有し、かつ、オキシラン環を構成する酸素原子の隣接炭素原子に少なくとも1つの芳香族基が置換した化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物とを含有することを特徴とするカチオン重合性組成物。 At least one compound selected from compounds having at least one oxetane ring and having at least one aromatic group substituted on an adjacent carbon atom of an oxygen atom constituting the oxetane ring; and at least one or more compounds Cationic polymerizability characterized by containing at least one compound selected from compounds having an oxirane ring and having at least one aromatic group substituted on the adjacent carbon atom of the oxygen atom constituting the oxirane ring Composition. 活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする請求項1又は2に記載のカチオン重合性組成物。 The cationically polymerizable composition according to claim 1 or 2, comprising a compound that generates an acid upon irradiation with an active energy ray. 活性エネルギー線が紫外線であることを特徴とする請求項3に記載のカチオン重合性組成物。 4. The cationic polymerizable composition according to claim 3, wherein the active energy ray is ultraviolet light. 活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物が下記一般式(b)で表されるスルホニウム塩化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のカチオン重合性組成物。
Figure 2006045415
(式中、Rb1からRb3は各々置換基を表し、Xb-は対イオンを表す。)
The compound that generates an acid upon irradiation with active energy rays is at least one compound selected from sulfonium salt compounds represented by the following general formula (b). The cationically polymerizable composition described in 1.
Figure 2006045415
(In the formula, R b1 to R b3 each represents a substituent, and X b- represents a counter ion.)
請求項1〜5のいずれか1項に記載のカチオン重合性組成物を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。 An ink-jet ink composition comprising the cationically polymerizable composition according to any one of claims 1 to 5. 請求項6に記載のインクジェット用インク組成物を、選択的にインク滴の吐出制御可能な少なくとも1つのノズルを有する記録ヘッドにより、記録材料上に該インクジェット用インク組成物をインク滴として吐出して該記録材料上へ噴射し、該インク滴が着弾した後、活性エネルギー線を照射して該インク滴を硬化させることを特徴とする画像形成方法。 The inkjet ink composition according to claim 6 is ejected as ink droplets onto a recording material by a recording head having at least one nozzle capable of selectively controlling ejection of ink droplets. An image forming method comprising: jetting onto the recording material and landing the ink droplet, and then irradiating an active energy ray to cure the ink droplet.
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