JP2005171122A - Active energy ray-curable composition containing specific oxetane compound, ink composition for inkjet using the same, and method for forming image - Google Patents

Active energy ray-curable composition containing specific oxetane compound, ink composition for inkjet using the same, and method for forming image Download PDF

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公彦 大久保
Masahito Nishizeki
雅人 西関
Akio Miura
紀生 三浦
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an active energy ray-curable composition cured even by a light source having low illumination without being affected by environmental humidity; to provide an ink composition for inkjet, having excellent adhesiveness to a base material, and providing a high-quality image having high image quality without bleeding by using the curable composition; and to provide a method for forming the image by using the ink composition for the inkjet. <P>SOLUTION: The active energy ray-curable composition contains an oxetane compound represented by general formula (OT-I) [wherein, L<SP>T1</SP>is an oxygen atom, a sulfur atom or -CR<SP>T111</SP>(R<SP>T112</SP>)-; R<SP>T101</SP>to R<SP>T112</SP>are each a hydrogen atom or a substituent; p<SP>T1</SP>is 0 or 1; and q<SP>T1</SP>and r<SP>T1</SP>are each 0-3]. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、特定のオキセタン化合物を含有する活性エネルギー線硬化組成物、インクジェット用インク組成物と画像形成方法に関し、詳しくは、カチオン重合性のオキセタン化合物を用い、反応性が高く高画質な画像を得ることのできる光硬化型のインクジェット用インク組成物及び画像形成方法に関する。   The present invention relates to an active energy ray-curable composition containing a specific oxetane compound, an inkjet ink composition, and an image forming method. More specifically, a cationically polymerizable oxetane compound is used to produce a highly reactive and high-quality image. The present invention relates to a photocurable ink composition for inkjet and an image forming method.

近年、インクジェット記録方式は簡便・安価に画像を作製出来るため、写真、各種印刷、マーキング、カラーフィルター等の特殊印刷など、様々な印刷分野に応用されてきている。特に、微細なドットを出射、制御する記録装置や、色再現域、耐久性、出射適性等を改善したインク及びインクの吸収性、色材の発色性、表面光沢などを飛躍的に向上させた専用紙を用い、銀塩写真に匹敵する画質を得ることも可能となっている。今日のインクジェット記録方式の画質向上は、記録装置、インク、専用紙の全てが揃って初めて達成されている。   In recent years, the inkjet recording method can be easily and inexpensively produced images, and thus has been applied to various printing fields such as photographs, various printing, marking, and special printing such as color filters. In particular, a recording device that emits and controls fine dots, ink that has improved color reproduction gamut, durability, and emission suitability, and ink absorbability, coloring material color development, surface gloss, etc. have been dramatically improved. It is also possible to obtain image quality comparable to silver halide photography using special paper. The image quality improvement of today's ink jet recording system is achieved only when all of the recording apparatus, ink, and special paper are available.

しかしながら、専用紙を必要とするインクジェットシステムは、記録媒体が制限されること、記録媒体のコストアップが問題となる。そこで、専用紙と異なる被転写媒体へインクジェット方式により記録する試みが多数なされている。具体的には、室温で固形のワックスインクを用いる相変化インクジェット方式、速乾性の有機溶剤を主体としたインクを用いるソルベント系インクジェット方式や、記録後紫外線(UV)光により架橋させるUVインクジェット方式などである。   However, in an inkjet system that requires dedicated paper, the recording medium is limited, and the cost of the recording medium increases. Therefore, many attempts have been made to record on a transfer medium different from dedicated paper by an ink jet method. Specifically, a phase change ink jet method using a wax ink solid at room temperature, a solvent ink jet method using an ink mainly composed of a fast-drying organic solvent, a UV ink jet method in which crosslinking is performed by ultraviolet (UV) light after recording, etc. It is.

中でも、UVインクジェット方式は、ソルベント系インクジェット方式に比べ比較的低臭気であり、速乾性、インク吸収性の無い記録媒体への記録が出来る点で、近年注目されつつあり、例えば、特開平6−200204号、特表2000−504778号において、紫外線硬化型インクジェットインクが開示されている。   Among these, the UV inkjet method has been attracting attention in recent years because it has a relatively low odor compared to the solvent-based inkjet method, and can be recorded on a recording medium having no quick drying and no ink absorption. No. 200204 and JP 2000-504778 A disclose an ultraviolet curable inkjet ink.

UVインクとしては、主にラジカル重合型、カチオン重合型が知られている。   As the UV ink, a radical polymerization type and a cationic polymerization type are mainly known.

紫外線硬化型インクジェット記録方式においては、画質、即ち着弾ドット径は、着弾後の光照射タイミング、光照射照度、エネルギー、インク液滴サイズ、インクの感度、表面エネルギー、粘度、基材の濡れ性、着弾配列、誤差拡散パターンなどの因子により制御される。特に、画質を大きく左右する要因としては、インクの感度、粘度、表張、基材濡れ性と露光条件である。この中でも、インク感度は、ラジカル重合系の場合は酸素による重合阻害の影響を受けるためインク膜厚や露光照度に大きく依存し、カチオン重合系においては温度と湿度に大きく依存する。   In the ultraviolet curable ink jet recording system, the image quality, that is, the impact dot diameter is the light irradiation timing after landing, light irradiation illuminance, energy, ink droplet size, ink sensitivity, surface energy, viscosity, substrate wettability, It is controlled by factors such as landing pattern and error diffusion pattern. In particular, factors that greatly influence image quality are ink sensitivity, viscosity, surface covering, substrate wettability, and exposure conditions. Among these, the ink sensitivity is greatly influenced by the ink film thickness and exposure illuminance in the case of the radical polymerization system because it is affected by the inhibition of polymerization by oxygen, and in the cationic polymerization system, it greatly depends on the temperature and humidity.

ラジカル重合型紫外線硬化インクにおいては、酸素による重合阻害を改善するためには、酸素阻害を受けないモノマー、開始剤、開始助剤の工夫や、窒素などの不活性化ガスによりパージする方法等が知られている。   In radical polymerization type UV curable ink, in order to improve polymerization inhibition by oxygen, there are a method of purging with an inert gas such as nitrogen, etc. Are known.

カチオン重合型紫外線硬化インクにおいては、湿度依存の影響を改善するためには、特開2002−137375号のように、着弾したインクを加熱する方法が知られている。   In order to improve the influence of humidity on the cationic polymerization type ultraviolet curable ink, a method of heating the landed ink is known as disclosed in JP-A-2002-137375.

カチオン重合型紫外線硬化インクで用いられるカチオン重合性のモノマーとしては、オキシラン環を持つエポキシ化合物、オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物が知られている。   As the cationic polymerizable monomer used in the cationic polymerization type ultraviolet curable ink, an epoxy compound having an oxirane ring, an oxetane compound, and a vinyl ether compound are known.

特に、エポキシ化合物とオキセタン化合物とを共に用いることにより、重合速度を顕著に増加させることが知られている。例えば、東亞合成研究年報 TREND2号(1999年)、「オキセタン化合物の光カチオン硬化システムへの応用」、特許公報第2679586号等に記載されている。特に、オキセタン化合物は、良好な耐熱性、接着性、耐薬品性を有することから、反応性を高めるエポキシ化合物との併用は有用である。   In particular, it is known that the polymerization rate is remarkably increased by using both an epoxy compound and an oxetane compound. For example, it is described in Toagosei Research Annual Report TREND2 (1999), “Application of Oxetane Compound to Photocationic Curing System”, Japanese Patent Publication No. 2679586, and the like. In particular, since the oxetane compound has good heat resistance, adhesiveness, and chemical resistance, it is useful to use it together with an epoxy compound that increases the reactivity.

この技術の応用例として、特開2001−220526号では紫外線硬化型のインクジェットに用いることが開示されている。紫外線によりインクを硬化する紫外線硬化型インクジェット記録方式は、インク吸収性の乏しい基材に対しても画像形成する方法として、近年注目を集めている。   As an application example of this technique, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-220526 discloses use in an ultraviolet curable ink jet. In recent years, an ultraviolet curable ink jet recording system that cures ink by ultraviolet rays has attracted attention as a method for forming an image even on a substrate having poor ink absorbability.

一般的には、紫外線硬化型のインクとしては、ラジカル重合型インクのものが良く知られ、実用化されている。一方、カチオン重合型のインクは、ラジカル重合型インクに見られるような酸素による重合阻害が無く、低照度の光源を用いることができること、アクリルモノマーが持つ臭気も無いこと、素材が低刺激性であることなど有利な点があるが、未だ実用化に至っていない。   Generally, as the ultraviolet curable ink, a radical polymerization type ink is well known and put into practical use. On the other hand, the cationic polymerization type ink does not inhibit the polymerization caused by oxygen as seen in radical polymerization type inks, can use a light source with low illuminance, has no odor of acrylic monomer, and has low irritation. Although there are advantages such as being there, it has not yet been put into practical use.

その一因としては、高湿下で著しく感度低下する性質、温度により感度が依存する性質が挙げられる。環境依存性のあるインクは、その画質が環境に依存するという本質的な課題を有する。   One reason for this is the property that the sensitivity decreases significantly under high humidity and the property that the sensitivity depends on the temperature. Environment-dependent inks have the essential problem that their image quality depends on the environment.

カチオン重合系のインクを用い、着弾したインクを加熱して光照射する方法が開示(例えば、特許文献1参照。)されている。しかしながら、加熱機構はプリンターコスト、熱に弱い基材などの適用の観点で好ましいものとは言えない。また、オキセタン化合物と併用し、反応速度を向上させる化合物として、2−(4−メトキシフェニル)−3,3−ジメチルオキセタンが開示(例えば、特許文献2参照。)されている。この化合物は、ジ[1−エチル(3−オキセタニル)]メチルエーテルなどのオキセタン化合物と脂環式エポキシ化合物との併用において、脂環式エポキシ化合物を代替できる程度の反応性がある。しかしながら、蛍光灯のような低照度光源を用いる場合においては、高湿環境における感度レベルはまだ十分なものとは言えなかった。
特開2002−137375号公報 特開2001−181386号公報
There has been disclosed a method of using a cationic polymerization-based ink to heat and irradiate the landed ink (for example, see Patent Document 1). However, the heating mechanism cannot be said to be preferable from the viewpoint of application of printer cost, a heat-sensitive substrate, and the like. Further, 2- (4-methoxyphenyl) -3,3-dimethyloxetane is disclosed as a compound that is used in combination with an oxetane compound to improve the reaction rate (see, for example, Patent Document 2). This compound is reactive enough to replace an alicyclic epoxy compound in the combined use of an oxetane compound such as di [1-ethyl (3-oxetanyl)] methyl ether and an alicyclic epoxy compound. However, in the case of using a low illuminance light source such as a fluorescent lamp, it cannot be said that the sensitivity level in a high humidity environment is still sufficient.
JP 2002-137375 A JP 2001-181386 A

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、低照度の光源でも環境湿度に影響を受けずに硬化する、特定のオキセタン化合物を含有する活性エネルギー線硬化組成物と、インク硬化性、基材密着性に優れ、滲みのない高品位の画像を得られる高画質な画像が得られるインクジェット用インク組成物およびこのインクジェット用インク組成物を用いた画像形成方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is to cure an active energy ray-curable composition containing a specific oxetane compound, which is cured without being affected by environmental humidity even with a low-illuminance light source, and To provide an ink-jet ink composition excellent in ink curability and substrate adhesion and capable of obtaining a high-quality image capable of obtaining a high-quality image without bleeding, and an image forming method using the ink-jet ink composition It is in.

本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
(請求項1)
下記一般式(OT−I)で表されるオキセタン化合物を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化組成物。
The above object of the present invention can be achieved by the following constitution.
(Claim 1)
An active energy ray-curable composition comprising an oxetane compound represented by the following general formula (OT-I).

Figure 2005171122
Figure 2005171122

〔上記一般式(OT−I)において、LT1は酸素原子、硫黄原子、−CRT111(RT112)−を表し、RT101〜RT112は水素原子または置換基を表し、pT1は0または1、qT1、rT1は0から3を表す。〕
(請求項2)
T101,RT102,RT105,RT106の少なくとも一箇所以上に置換基を有することを特徴とする請求項1に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
(請求項3)
T101,RT102,RT105,RT106が置換もしくは無置換のアルキル基であることを特徴とする請求項2に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
(請求項4)
活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
(請求項5)
活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物がオニウム塩化合物であることを特徴とする請求項4に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
(請求項6)
活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物がスルホニウム塩化合物であることを特徴とする請求項5に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
(請求項7)
スルホニウム塩化合物が下記一般式(I−1)、(I−2)または(I−3)で表されることを特徴とする請求項6に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
[In the above general formula (OT-I), L T1 represents an oxygen atom, a sulfur atom, —CR T111 (R T112 ) —, R T101 to R T112 represent a hydrogen atom or a substituent, and p T1 represents 0 or 1, q T1 and r T1 represent 0 to 3; ]
(Claim 2)
2. The active energy ray-curable composition according to claim 1, which has a substituent at at least one of R T101 , R T102 , R T105 , and R T106 .
(Claim 3)
The active energy ray-curable composition according to claim 2, wherein R T101 , R T102 , R T105 , and R T106 are substituted or unsubstituted alkyl groups.
(Claim 4)
The active energy ray-curable composition according to any one of claims 1 to 3, comprising a compound that generates an acid upon irradiation with an active energy ray.
(Claim 5)
5. The active energy ray-curable composition according to claim 4, wherein the compound that generates an acid upon irradiation with active energy rays is an onium salt compound.
(Claim 6)
6. The active energy ray-curable composition according to claim 5, wherein the compound that generates an acid upon irradiation with active energy rays is a sulfonium salt compound.
(Claim 7)
The active energy ray-curable composition according to claim 6, wherein the sulfonium salt compound is represented by the following general formula (I-1), (I-2) or (I-3).

Figure 2005171122
Figure 2005171122

〔式中、R11、R12、R13は置換基を表し、m、n、pは0〜5の整数を表す。X11 -は対イオンを表す。〕 [Wherein R 11 , R 12 and R 13 represent substituents, and m, n and p each represents an integer of 0 to 5. X 11 represents a counter ion. ]

Figure 2005171122
Figure 2005171122

〔式中、R14は置換基を表し、qは0〜2の整数を表す。R15、R16は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。X12 -は対イオンを表す。〕 Wherein, R 14 represents a substituent, q is an integer of 0 to 2. R 15 and R 16 each represents a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. X 12 represents a counter ion. ]

Figure 2005171122
Figure 2005171122

〔式中、R17は置換基を表し、rは0〜3の整数を表す。R18は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、R19、R20は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。X13 -は対イオンを表す。〕
(請求項8)
前記一般式(I−1)で表されるスルホニウム塩化合物が下記一般式(T−1)で表されることを特徴とする請求項7に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
[Wherein, R 17 represents a substituent, and r represents an integer of 0 to 3. R 18 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 19 and R 20 represent a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, or a substituted or unsubstituted group. Represents a substituted aryl group. X 13 - is a counter ion. ]
(Claim 8)
The active energy ray-curable composition according to claim 7, wherein the sulfonium salt compound represented by the general formula (I-1) is represented by the following general formula (T-1).

Figure 2005171122
Figure 2005171122

(式中、RT11、RT12はアルキル基もしくは芳香族基を表し、ZT1は酸素原子または硫黄原子を表し、RT13、RT14は各々アルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、mt1は0から4の整数を表し、nt1およびpt1は各々1から5の整数を表し、XT1は対アニオンを表す。)
(請求項9)
インクジェット方式により被記録媒体に画像形成するインクジェット用インク組成物において、請求項1〜8のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化組成物を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。
(請求項10)
2位に置換基を有さないオキセタン化合物を含有することを特徴とする請求項9に記載のインクジェット用インク組成物。
(請求項11)
エポキシ化合物またはビニルエーテル化合物を含有することを特徴とする請求項9又は10に記載のインクジェット用インク組成物。
(請求項12)
2位に置換基を有さないオキセタン化合物を50質量部〜80質量部、エポキシ化合物を0質量部〜50質量部、一般式(OT−I)で表されるオキセタン化合物の少なくとも1種を1質量部〜20質量部含有することを特徴とする請求項9〜11のいずれか1項に記載のインクジェット用インク組成物。
(請求項13)
エポキシ化合物が下記一般式(VI)〜(VIII)で表される脂環式エポキシド化合物の少なくとも1種から選ばれたものであることを特徴とする請求項11又は12に記載のインクジェット用インク組成物。
(In the formula, R T11 and R T12 represent an alkyl group or an aromatic group, Z T1 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R T13 and R T14 represent an alkyl group, an aromatic group, an alkoxy group, and an aryloxy group, respectively. , An alkylthio group and an arylthio group, mt1 represents an integer of 0 to 4, nt1 and pt1 each represents an integer of 1 to 5, and X T1 represents a counter anion.)
(Claim 9)
An inkjet ink composition for forming an image on a recording medium by an inkjet method, comprising the active energy ray-curable composition according to any one of claims 1 to 8.
(Claim 10)
The inkjet ink composition according to claim 9, comprising an oxetane compound having no substituent at the 2-position.
(Claim 11)
The ink composition for inkjet according to claim 9 or 10, comprising an epoxy compound or a vinyl ether compound.
(Claim 12)
50 parts by mass to 80 parts by mass of an oxetane compound having no substituent at the 2-position, 0 parts by mass to 50 parts by mass of an epoxy compound, and at least one oxetane compound represented by the general formula (OT-I) is 1 The ink composition for inkjet according to any one of claims 9 to 11, wherein the ink composition is contained in an amount of 20 to 20 parts by mass.
(Claim 13)
The ink composition for inkjet according to claim 11 or 12, wherein the epoxy compound is selected from at least one of alicyclic epoxide compounds represented by the following general formulas (VI) to (VIII): Stuff.

Figure 2005171122
Figure 2005171122

〔式中、R601は脂肪族基を表し、m6は0〜2を表す。X1は−(CH2n6−または−(O)n6−を表し、n6は0または1を表す。p1、q1はそれぞれ0または1を表す。r1は1〜3を表す。L3は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr1+1価の連結基または単結合を表す。〕 [Wherein, R 601 represents an aliphatic group, and m6 represents 0 to 2. X 1 represents — (CH 2 ) n6 — or — (O) n6 —, and n6 represents 0 or 1. p1 and q1 each represents 0 or 1. r1 represents 1-3. L 3 represents a C 1-15 r 1 + 1 valent linking group or single bond that may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. ]

Figure 2005171122
Figure 2005171122

〔式中、R701は脂肪族基を表し、m7は0〜2を表す。X2は−(CH2n7−または−(O)n7−を表し、n7は0または1を表す。p2、q2はそれぞれ0または1を表す。r2は1〜3を表す。L4は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr2+1価の連結基または単結合を表す。〕 [Wherein, R 701 represents an aliphatic group, and m7 represents 0 to 2. X 2 represents — (CH 2 ) n7 — or — (O) n7 —, and n7 represents 0 or 1. p2 and q2 each represents 0 or 1. r2 represents 1-3. L 4 represents a C 1-15 r 2 + 1 valent linking group or single bond that may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. ]

Figure 2005171122
Figure 2005171122

〔式中、R801は脂肪族基を表し、m8は0〜2を表す。X3は−(CH2n8−または−(O)n8−を表し、n8は0または1を表す。R802、R803は置換基を表し、p3は0または1を表す。〕
(請求項14)
請求項9〜13のいずれか1項に記載のインクジェット用インク組成物を用い、選択的にインク滴の吐出制御可能な少なくとも1つのノズルを有する記録ヘッドで、被記録媒体上にインク滴を吐出し、インクが着弾した後、活性エネルギー線を照射することでインクを硬化させることを特徴とする画像形成方法。
[Wherein, R 801 represents an aliphatic group, and m8 represents 0-2. X 3 represents — (CH 2 ) n8 — or — (O) n8 —, and n8 represents 0 or 1. R 802 and R 803 each represent a substituent, and p3 represents 0 or 1. ]
(Claim 14)
An ink droplet is ejected onto a recording medium using a recording head having at least one nozzle capable of selectively controlling the ejection of an ink droplet, using the inkjet ink composition according to any one of claims 9 to 13. Then, after the ink has landed, the ink is cured by irradiating with active energy rays.

本発明者は、上記課題に鑑みて鋭意検討を行った結果、二つのオキセタン環がオキセタン環内酸素原子の隣接位置に結合する炭素原子を介してオキサントレン環、キサンテン環、フェノキサチイン環あるいはジベンゾフラン環の特定の位置に結合したオキセタン化合物(以下「本発明の二官能オキセタン化合物」とする)のいずれかを少なくとも一種以上含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化組成物は低照度の光源でも環境湿度に影響を受けずに硬化可能となり、さらに本発明の活性エネルギー線硬化組成物をインクジェット用インク組成物に用いた場合に、高画質な画像が得られることを見いだし、本発明に至った次第である。   As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventor has found that an oxanthrene ring, a xanthene ring, a phenoxathiin ring, or a dibenzofuran via a carbon atom in which two oxetane rings are bonded to adjacent positions of oxygen atoms in the oxetane ring. An active energy ray-curable composition containing at least one oxetane compound bonded to a specific position of the ring (hereinafter referred to as “the bifunctional oxetane compound of the present invention”) is a low-illuminance light source. It was possible to cure without being affected by the environmental humidity, and furthermore, when the active energy ray-curable composition of the present invention was used for an ink jet ink composition, it was found that a high-quality image was obtained, and the present invention was achieved. It depends on you.

更に、本発明の活性エネルギー線硬化組成物を含有するインクジェット用インク組成物において、本発明の二官能オキセタン化合物がインク組成物を構成する他の重合性化合物に対して少量添加した場合でも環境湿度による硬化反応の阻害に対して充分な改善効果を発揮することが明らかになった。   Furthermore, in the inkjet ink composition containing the active energy ray-curable composition of the present invention, even when a small amount of the bifunctional oxetane compound of the present invention is added to other polymerizable compounds constituting the ink composition, the environmental humidity It has become clear that it exerts a sufficient improvement effect on the inhibition of the curing reaction by.

2−(4−メトキシ−フェニル)−3,3−ジメチル−オキセタンを含有する活性エネルギー線カチオン硬化型組成物が特開2001−181386号公報に記載されているが、この特許では本発明の二官能のオキセタンを含有する組成物に関しての明確な言及はない。   An active energy ray cationic curable composition containing 2- (4-methoxy-phenyl) -3,3-dimethyl-oxetane is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-181386. There is no specific mention regarding compositions containing functional oxetanes.

2−(4−メトキシ−フェニル)−3,3−ジメチル−オキセタンを他のオキセタン化合物と混合して得られるインク組成物が優れた硬化性を有することも上記特許に示されているが、インク組成としては他のオキセタン化合物60質量部〜80質量部に対して20質量部〜40質量部の2−(4−メトキシ−フェニル)−3,3−ジメチル−オキセタンを混合したインクが優れた硬化性を示していることは示されているものの、少量のオキセタンを他の重合性化合物に添加したインクでも充分な硬化性を示すかどうかは示唆されてはいない。   It is also shown in the above patent that the ink composition obtained by mixing 2- (4-methoxy-phenyl) -3,3-dimethyl-oxetane with other oxetane compounds has excellent curability. As a composition, an ink in which 20 to 40 parts by mass of 2- (4-methoxy-phenyl) -3,3-dimethyl-oxetane is mixed with 60 to 80 parts by mass of another oxetane compound is excellent in curing. However, it has not been suggested whether an ink obtained by adding a small amount of oxetane to another polymerizable compound exhibits sufficient curability.

本発明の活性エネルギー線硬化組成物を含有するインクジェット用インク組成物において、本発明の二官能オキセタン化合物はインクジェット用インク組成物を構成する他の重合性化合物に対して1質量%〜20質量%の添加比で添加した場合でも環境湿度による硬化反応の阻害に対して改善効果を発揮する。このような少量の添加でも効果が得られることは全く予想外のことであった。   In the inkjet ink composition containing the active energy ray-curable composition of the present invention, the bifunctional oxetane compound of the present invention is 1% by mass to 20% by mass with respect to another polymerizable compound constituting the inkjet ink composition. Even when it is added at an addition ratio, it exhibits an improvement effect on the inhibition of the curing reaction due to environmental humidity. It was completely unexpected that an effect could be obtained even with such a small amount of addition.

本発明の活性エネルギー線硬化組成物において、本発明の二官能オキセタン化合物のオキセタン環の3位に置換基を持たせることで、本発明の活性エネルギー線硬化組成物をインクジェット用インク組成物として用いる場合に、その他の重合性化合物との相溶性を向上させることができ、安全性、疎水性、粘度、表面張力、その他の物性なども適宜設計することが可能となった。   In the active energy ray-curable composition of the present invention, the active energy ray-curable composition of the present invention is used as an inkjet ink composition by giving a substituent to the 3-position of the oxetane ring of the bifunctional oxetane compound of the present invention. In some cases, compatibility with other polymerizable compounds can be improved, and safety, hydrophobicity, viscosity, surface tension, and other physical properties can be appropriately designed.

また、本発明のインクジェット用インク組成物においては、本発明のオキセタン化合物を含有する活性エネルギー線硬化組成物と共に、2位に置換基のないオキセタン化合物と併用することで、インクジェット用インク組成物として好ましい低粘度を得ると共に、反応性の向上、硬化膜強度の強化が可能となった。また、エポキシ化合物またはビニルエーテル化合物は、その他の併用可能なカチオン重合性モノマーであり、これらの併用により、適宜膜物性、基材への密着性、インク物性を調整することが可能となった。   Moreover, in the inkjet ink composition of the present invention, by using together with the active energy ray-curable composition containing the oxetane compound of the present invention together with an oxetane compound having no substituent at the 2-position, an inkjet ink composition is obtained. It was possible to obtain a preferable low viscosity, to improve the reactivity and to strengthen the cured film strength. Epoxy compounds or vinyl ether compounds are other cationic polymerizable monomers that can be used in combination, and by using these in combination, film properties, adhesion to a substrate, and ink properties can be appropriately adjusted.

本発明により、低照度の光源でも環境湿度に影響を受けずに硬化する、特定のオキセタン化合物を含有する活性エネルギー線硬化組成物と、インク硬化性、基材密着性に優れ、滲みのない高品位の画像を得られる高画質な画像が得られるインクジェット用インク組成物およびこのインクジェット用インク組成物を用いた画像形成方法を提供することができた。   According to the present invention, an active energy ray-curable composition containing a specific oxetane compound that cures without being affected by environmental humidity even with a light source of low illuminance, and has excellent ink curability and substrate adhesion, and has no bleeding. It was possible to provide an ink-jet ink composition capable of obtaining a high-quality image capable of obtaining a quality image and an image forming method using the ink-jet ink composition.

以下、本発明の詳細について説明する。   Details of the present invention will be described below.

一般式(OT−I)においてLT1は酸素原子、硫黄原子、−CRT111(RT112)−を表し、好ましくは酸素原子または−CRT111(RT112)−であり、より好ましくは酸素原子である。 In the general formula (OT-I), L T1 represents an oxygen atom, a sulfur atom, —CR T111 (R T112 ) —, preferably an oxygen atom or —CR T111 (R T112 ) —, more preferably an oxygen atom. is there.

一般式(OT−I)のRT101〜RT112で表される置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、等)、炭素数1〜6個のアルキ二ル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、アシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、アリールオキシカルボニル基、等が挙げられる。 Examples of the substituent represented by R T101 to R T112 in the general formula (OT-I) include a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms ( For example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.), cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (eg, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), carbon 1 to 6 alkenyl groups (for example, vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, etc.), alkenyl groups having 1 to 6 carbon atoms (for example, acetylenyl group, 1 -Propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, etc.), alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butyl group) Xy group, tert-butoxy group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, etc.), alkoxycarbonyl Group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group, and the like.

T101とRT102、RT103とRT104、のように同一炭素上の2つの置換基が互いに末端で結合して2価の基となり環を形成してもよい。 Two substituents on the same carbon, such as R T101 and R T102 and R T103 and R T104 , may be bonded to each other at the terminal to form a divalent group to form a ring.

これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、アシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、等が挙がられる。置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基である。   These groups may further have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n -Butoxy group, tert-butoxy group, etc.), acyl group (eg, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), acyloxy group (eg, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, etc.), alkoxy Examples include carbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, cyano group, nitro group, and the like. As the substituent, a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, and an alkoxycarbonyl group are preferable.

本発明の二官能性オキセタン化合物としては、二つのオキセタン環のうちどちらかの3位には少なくとも1つ以上の置換基を有することが好ましく、二つのオキセタン環の3位にそれぞれに一つ以上の置換基を有することがより好ましく、二つのオキセタン環の3位にそれぞれに二つの置換基を有することがもっとも好ましい。好ましい置換基としては、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、アシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、等が挙げられる。これらはさらに置換されていても良く、置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基である。   The bifunctional oxetane compound of the present invention preferably has at least one substituent at the 3-position of either oxetane ring, and one or more at each 3-position of the two oxetane rings. It is more preferable that it has two substituents at the 3-positions of the two oxetane rings. Preferred examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, etc.), and a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (for example, a cyclo group). Propyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert- Butoxy group, etc.), acyl group (eg, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), acyloxy group (eg, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group) Ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.) It is. These may be further substituted, and preferred as a substituent are a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, and an alkoxycarbonyl group.

本発明のオキセタンとしては、3位に置換、無置換のアルキル基が置換されているのが好ましく、2つのアルキル基で置換されることでオキセタンの3位が3級の炭素になることがより好ましい。アルキル基の置換基として好ましいものは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基である。   As the oxetane of the present invention, a substituted or unsubstituted alkyl group is preferably substituted at the 3-position, and it is more preferable that the 3-position of the oxetane becomes a tertiary carbon by substitution with two alkyl groups. preferable. Preferred as a substituent for the alkyl group are a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, and an alkoxycarbonyl group.

本発明の二官能オキセタン化合物は、4位に電子吸引性基を置換することで、より反応性を高くすることが可能である。電子吸引性基とはハメットの置換基定数σpが正の値を取る置換基のことであり、電子吸引性基の具体例としては、−NO2、−CN、−SO2−Alkyl、−SO2−Aryl、−CO−Alkyl、−CO−Aryl、−CO−O−Alkyl、−CO−O−Aryl、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子)が挙げられる。本発明のオキセタン化合物において4位の置換基として好ましい電子吸引性基はα〜γ位の炭素原子上に前記の電子吸引性基の置換したアルキル基であり、特にフッ素原子で置換されたアルキル基が好ましい。 The bifunctional oxetane compound of the present invention can be made more reactive by substituting an electron-withdrawing group at the 4-position. The electron withdrawing group is a substituent having a positive Hammett substituent constant σp. Specific examples of the electron withdrawing group include —NO 2 , —CN, —SO 2 —Alkyl, —SO 2 -Aryl, -CO-Alkyl, -CO-Aryl, -CO-O-Alkyl, -CO-O-Aryl, and halogen atoms (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom). In the oxetane compound of the present invention, a preferable electron-withdrawing group as a substituent at the 4-position is an alkyl group in which the electron-withdrawing group is substituted on a carbon atom at the α to γ positions, and particularly an alkyl group substituted with a fluorine atom. Is preferred.

一般式(OT−I)において、pT1は0または1を表し、好ましくは1である。qT1、rT1は0から3を表す。qT1、rT1が2以上の場合、複数のRT109もしくはRT110は同じであっても良く、異なっていても良く、隣り合った位置に置換した場合、互いに末端で結合して2価の基となり環を形成してもよい。 In the general formula (OT-I), pT1 represents 0 or 1, preferably 1. qT1 and rT1 represent 0 to 3. When qT1 and rT1 are 2 or more, a plurality of R T109 or R T110 may be the same or different, and when substituted at adjacent positions, they are bonded to each other to form a divalent group. A ring may be formed.

一般式(OT−I)において、オキセタン環が結合するベンゼン環のオルト位もしくはパラ位に酸素原子が結合していることが好ましい。すなわち、オキセタン環がオキサントレン環に結合する場合、オキセタン環の結合位置はオキサントレン環のいずれの位置でも良く、オキセタン環の結合しているベンゼン環の少なくとも一つはパラ位に酸素原子が結合していることがより好ましく、オキセタン環の結合しているベンゼン環はパラ位に酸素原子が結合していることがもっとも好ましい。オキセタン環がキサンテン環に結合する場合、二つのオキセタン環は2位と5位、2位と7位、4位と5位、4位と7位に結合していることが好ましく、2位と7位に結合することがより好ましい。オキセタン環がフェノキサチイン環もしくはジベンゾフラン環に結合する場合、2位と6位、2位と8位、4位と6位、4位と8位に結合していることが好ましく、2位と8位に結合することがより好ましい。   In general formula (OT-I), it is preferable that an oxygen atom is bonded to the ortho-position or para-position of the benzene ring to which the oxetane ring is bonded. That is, when the oxetane ring is bonded to the oxanthrene ring, the bonding position of the oxetane ring may be any position of the oxanthrene ring, and at least one of the benzene rings bonded to the oxetane ring has an oxygen atom bonded to the para position. More preferably, the benzene ring to which the oxetane ring is bonded most preferably has an oxygen atom bonded to the para position. When the oxetane ring is bonded to the xanthene ring, the two oxetane rings are preferably bonded to the 2-position and 5-position, 2-position and 7-position, 4-position and 5-position, 4-position and 7-position, More preferably, it is bonded to the 7-position. When the oxetane ring is bonded to the phenoxathiin ring or dibenzofuran ring, it is preferably bonded to the 2nd and 6th positions, the 2nd and 8th positions, the 4th and 6th positions, the 4th and 8th positions, More preferably, it is bonded to the 8-position.

以下に、本発明のオキセタン化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the oxetane compound of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2005171122
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Figure 2005171122
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Figure 2005171122
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Figure 2005171122
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本発明のオキセタン化合物の合成は、以下に文献に記載の方法に準じて、行うことができる。   The synthesis of the oxetane compound of the present invention can be carried out according to the methods described in the literature below.

A:Hu Xianming,Richard M.Kellogg,Synthesis,533〜538,May(1995)
B:A.O.Fitton,J.Hill,D.Ejane,R.Miller,Synth.,12,1140(1987)
C:Toshiro Imai and Shinya Nishida,Can.J.Chem.Vol.59,2503〜2509(1981)
D:Nobujiro Shimizu,Shintaro Yamaoka and Yuho Tsuno,Bull.Chem.Soc.Jpn.,56,3853〜3854(1983)
E:Walter Fisher and Cyril A.Grob,Helv.Chim.Acta.,61,2336(1978)
F:Chem.Ber.101,1850(1968)
G:“Heterocyclic Compounds with Three− and Four−membered Rings”,Part Two,Chapter IX,Interscience Publishers,John Wiley & Sons,New York(1964)
H:Bull.Chem.Soc.Jpn.,61,1653(1988)
I:Pure Appl.Chem.,A29(10),915(1992)
J:Pure Appl.Chem.,A30(2&amp;3),189(1993)
K:特開平6−16804号公報
L:ドイツ特許第1,021,858号
前記文献に従って、例示化合物の合成例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
A: Hu Xianming, Richard M. et al. Kellogg, Synthesis, 533-538, May (1995)
B: A. O. Fitton, J .; Hill, D.C. Ejan, R.A. Miller, Synth. , 12, 1140 (1987)
C: Toshiro Imai and Shinya Nishida, Can. J. et al. Chem. Vol. 59, 2503-2509 (1981)
D: Nobujiro Shimizu, Shintaro Yamaoka and Yuho Tsuno, Bull. Chem. Soc. Jpn. 56, 3853-3854 (1983)
E: Walter Fisher and Cyril A.E. Grob, Helv. Chim. Acta. , 61, 2336 (1978)
F: Chem. Ber. 101, 1850 (1968)
G: “Heterocyclic Compounds with Three- and Four-membered Rings”, Part Two, Chapter IX, Interscience Publishers, John Wiley & Son, N
H: Bull. Chem. Soc. Jpn. 61, 1653 (1988)
I: Pure Appl. Chem. , A29 (10), 915 (1992)
J: Pure Appl. Chem. , A30 (2 &amp; 3), 189 (1993)
K: Japanese Patent Laid-Open No. 6-16804 L: German Patent 1,021,858 According to the above literature, examples of synthesis of exemplary compounds are shown below, but the present invention is not limited thereto.

〔合成例1〕
例示化合物OT−1の合成
[Synthesis Example 1]
Synthesis of exemplary compound OT-1

Figure 2005171122
Figure 2005171122

イソブチルアルデヒド4.2当量と化合物(1)1.0当量をメタノールに溶解し、室温で、水酸化カリウム2.1当量のメタノール溶液を滴下した。次いで60℃で4時間反応した後、反応液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物を10倍量の水で加熱溶解し、放冷後、析出した結晶をろ過し水洗、脱水剤とともに2日間減圧乾燥した。白色結晶の化合物(2)を得た。収率は80〜85%だった。1H NMR(CDCl3)、マススペクトルより目的物と確認した。 Isobutyl aldehyde 4.2 equivalent and compound (1) 1.0 equivalent were melt | dissolved in methanol, and the methanol solution of 2.1 equivalent of potassium hydroxide was dripped at room temperature. Subsequently, after reacting at 60 degreeC for 4 hours, the reaction liquid was concentrate | evaporated under reduced pressure. The concentrated mixture was dissolved by heating with 10 times the amount of water, allowed to cool, and then the precipitated crystals were filtered, washed with water, and dried under reduced pressure with a dehydrating agent for 2 days. Compound (2) was obtained as white crystals. Yields were 80-85%. 1 H NMR (CDCl 3 ) and mass spectrum confirmed the target product.

この化合物(2)を2.1倍モルの塩化メタンスルホニルと2.2倍モルのトリエチルアミンを用いて塩化メチレン中でスルホネートとした。反応液を水層のpHが7になるまで水洗した後、1モル%のテトラ−n−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と50%水酸化ナトリウム溶液(10当量分)を加えて30±5℃で6時間反応した。反応液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のOT−1粗結晶を得た。粗収率は90〜95%だった。   This compound (2) was sulfonated in methylene chloride using 2.1 moles of methanesulfonyl chloride and 2.2 moles of triethylamine. The reaction solution was washed with water until the pH of the aqueous layer reached 7, then 1 mol% tetra-n-butylammonium hydrogensulfate and 50% sodium hydroxide solution (10 equivalents) were added, and the mixture was stirred at 30 ± 5 ° C for 6 minutes. Reacted for hours. The reaction solution was washed with water, dehydrated over anhydrous magnesium sulfate, and then concentrated under reduced pressure to obtain the desired OT-1 crude crystals. The crude yield was 90-95%.

この粗製物を酢酸エチル−ヘキサンで再結晶し、例示化合物OT−1のオキセタン化合物を得た。収率は70〜75%だった。1H NMR(CDCl3)、マススペクトルより目的物と確認した。 This crude product was recrystallized from ethyl acetate-hexane to obtain an oxetane compound of Exemplified Compound OT-1. Yields were 70-75%. 1 H NMR (CDCl 3 ) and mass spectrum confirmed the target product.

〔合成例2〕
例示化合物OT−14の合成
[Synthesis Example 2]
Synthesis of Exemplary Compound OT-14

Figure 2005171122
Figure 2005171122

イソブチルアルデヒド4.2当量と化合物(3)1.0当量をメタノールに溶解し、室温で、水酸化カリウム2.1当量のメタノール溶液を滴下した。次いで60℃で4時間反応した後、反応液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物を10倍量の水で加熱溶解し、放冷後、析出した結晶をろ過し水洗、脱水剤とともに2日間減圧乾燥した。白色結晶の化合物(4)を得た。収率は80〜90%だった。1H NMR(CDCl3)、マススペクトルより目的物と確認した。 Isobutyl aldehyde 4.2 equivalent and compound (3) 1.0 equivalent were melt | dissolved in methanol, and the methanol solution of 2.1 equivalent of potassium hydroxide was dripped at room temperature. Subsequently, after reacting at 60 degreeC for 4 hours, the reaction liquid was concentrate | evaporated under reduced pressure. The concentrated mixture was dissolved by heating with 10 times the amount of water, allowed to cool, and then the precipitated crystals were filtered, washed with water, and dried under reduced pressure with a dehydrating agent for 2 days. Compound (4) was obtained as white crystals. Yields were 80-90%. 1 H NMR (CDCl 3 ) and mass spectrum confirmed the target product.

この化合物(4)を2.1倍モルの塩化メタンスルホニルと2.2倍モルのトリエチルアミンを用いて塩化メチレン中でスルホネートとした。反応液を水層のpHが7になるまで水洗した後、1モル%のテトラ−n−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と50%水酸化ナトリウム溶液(10当量分)を加えて30±5℃で6時間反応した。反応液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のOT−14粗製物を得た。粗収率はほぼ定量的だった。   This compound (4) was sulfonated in methylene chloride using 2.1 moles of methanesulfonyl chloride and 2.2 moles of triethylamine. The reaction solution was washed with water until the pH of the aqueous layer reached 7, then 1 mol% tetra-n-butylammonium hydrogensulfate and 50% sodium hydroxide solution (10 equivalents) were added, and the mixture was stirred at 30 ± 5 ° C for 6 minutes. Reacted for hours. The reaction solution was washed with water, dehydrated with anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain the desired crude OT-14 product. The crude yield was almost quantitative.

この粗製物をアセトニトリルで再結晶し、例示化合物OT−14のオキセタン化合物を得た。収率は55〜70%だった。1H NMR(CDCl3)、マススペクトルより目的物と確認した。 This crude product was recrystallized from acetonitrile to obtain an oxetane compound of Exemplified Compound OT-14. The yield was 55-70%. 1 H NMR (CDCl 3 ) and mass spectrum confirmed the target product.

〔合成例3〕
例示化合物OT−31の合成
[Synthesis Example 3]
Synthesis of exemplary compound OT-31

Figure 2005171122
Figure 2005171122

3−クロロ−2,2−ジメチル−塩化プロピオニル2.2当量と化合物(5)1当量に塩化アルミニウムを触媒(2当量)として用いてFriedel−Crafts反応を行い、化合物(6)、化合物(7)の反応混合物を得た。粗収率は90〜95%%だった。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、化合物(6)と化合物(7)をそれぞれ単離精製した。化合物(6)の収率は65〜70%、化合物(7)の収率は20〜25%だった。それぞれ、1H NMR(CDCl3)、マススペクトルより目的物と確認した。
ついで、この化合物(6)を水素化ホウ素ナトリウム2.4当量用いてアルコール中で還元し、化合物(8)を得た。収率は90%以上だった。1H NMR(CDCl3)、IR(KBr法)より目的物と確認した。
The Friedel-Crafts reaction was carried out using 2.2 equivalents of 3-chloro-2,2-dimethyl-propionyl chloride and 1 equivalent of compound (5) using aluminum chloride as a catalyst (2 equivalents) to give compound (6), compound (7 ) Was obtained. The crude yield was 90-95%. Compound (6) and compound (7) were isolated and purified by silica gel column chromatography. The yield of compound (6) was 65 to 70%, and the yield of compound (7) was 20 to 25%. Each was confirmed as the target product by 1 H NMR (CDCl 3 ) and mass spectrum.
Subsequently, this compound (6) was reduced in alcohol using 2.4 equivalents of sodium borohydride to obtain a compound (8). The yield was over 90%. It was confirmed as the target product by 1 H NMR (CDCl 3 ) and IR (KBr method).

この化合物(8)を塩化メチレンに溶解し、1モル%のテトラ−n−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と50%水酸化ナトリウム溶液(10当量分)を加えて30±5℃で12時間反応した。反応液を水洗後、有機相を水で洗い、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のOT−31粗製物を得た。粗収率は85〜90%だった。   This compound (8) was dissolved in methylene chloride, 1 mol% tetra-n-butylammonium hydrogensulfate and 50% sodium hydroxide solution (10 equivalents) were added and reacted at 30 ± 5 ° C for 12 hours. After the reaction solution was washed with water, the organic phase was washed with water, dehydrated with anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain the desired crude OT-31. The crude yield was 85-90%.

この粗製物をアセトニトリルで再結晶し、例示化合物OT−31のオキセタン化合物を得た。収率は75〜80%だった。1H NMR(CDCl3)、マススペクトルより目的物と確認した。 This crude product was recrystallized from acetonitrile to obtain an oxetane compound of Exemplified Compound OT-31. The yield was 75-80%. 1 H NMR (CDCl 3 ) and mass spectrum confirmed the target product.

〔合成例4〕
例示化合物OT−33の合成
[Synthesis Example 4]
Synthesis of exemplary compound OT-33

Figure 2005171122
Figure 2005171122

ジイソプロピルケトン2.1当量をTHF中、−40℃でリチウムジイソピロピルアミド(2.1当量分、ヘキサン溶液)と反応させリチウムエノラートを調製した。この溶液中に化合物(9)1当量のTHF溶液を−10℃で30分〜1時間で滴下した。次いで室温で6時間反応した後、反応液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物から塩化メチレンで抽出を行ない、化合物(10)を得た。収率は70〜80%だった。1H NMR(CDCl3)、マススペクトルより目的物と確認した。 Lithium enolate was prepared by reacting 2.1 equivalents of diisopropyl ketone with lithium diisopropylpyramide (2.1 equivalents, hexane solution) in THF at −40 ° C. In this solution, 1 equivalent of THF solution of Compound (9) was added dropwise at −10 ° C. for 30 minutes to 1 hour. Subsequently, after reacting at room temperature for 6 hours, the reaction solution was concentrated under reduced pressure. Extraction was performed from the concentrated mixture with methylene chloride to obtain a compound (10). The yield was 70-80%. 1 H NMR (CDCl 3 ) and mass spectrum confirmed the target product.

ついで、この化合物を水素化ホウ素ナトリウム2.4当量用いて還元し、化合物(11)を得た。収率は90%以上だった。1H NMR(CDCl3)、IR(KBr法)より目的物と確認した。 Subsequently, this compound was reduced using 2.4 equivalents of sodium borohydride to obtain a compound (11). The yield was over 90%. It was confirmed as the target product by 1 H NMR (CDCl 3 ) and IR (KBr method).

この化合物(11)を2.2倍モルの塩化メタンスルホニルと2.4倍モルのトリエチルアミンを用いて塩化メチレン中でスルホネートとした。反応液を水層のpHが7になるまで水洗した後、1モル%のテトラ−n−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と50%水酸化ナトリウム溶液(10当量分)を加えて30±5℃で12時間反応した。反応液を水洗後、有機相を水で洗い、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタン粗製物を得た。粗収率は75〜85%だった。   This compound (11) was sulfonated in methylene chloride using 2.2 moles of methanesulfonyl chloride and 2.4 moles of triethylamine. The reaction solution was washed with water until the pH of the aqueous layer reached 7, then 1 mol% tetra-n-butylammonium hydrogensulfate and 50% sodium hydroxide solution (10 equivalents) were added, and the mixture was added at 30 ± 5 ° C. Reacted for hours. The reaction solution was washed with water, the organic phase was washed with water, dehydrated with anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain the desired crude oxetane. The crude yield was 75-85%.

この粗製物をアセトニトリルで再結晶し、OT−33のオキセタン化合物を得た。収率は70〜75%だった。1H NMR(CDCl3)、マススペクトルより目的物と確認した。 This crude product was recrystallized from acetonitrile to obtain an oxetane compound of OT-33. Yields were 70-75%. 1 H NMR (CDCl 3 ) and mass spectrum confirmed the target product.

〔合成例5〕
例示化合物OT−36の合成
〔合成例3〕で合成した化合物(7)を用いて、〔合成例3〕と同様の方法でOT−36を合成した。1H NMR(CDCl3)、マススペクトルより目的物と確認した。
[Synthesis Example 5]
Synthesis of Exemplary Compound OT-36 OT-36 was synthesized in the same manner as in [Synthesis Example 3] using Compound (7) synthesized in [Synthesis Example 3]. 1 H NMR (CDCl 3 ) and mass spectrum confirmed the target product.

〔合成例6〕
例示化合物OT−43の合成
[Synthesis Example 6]
Synthesis of exemplary compound OT-43

Figure 2005171122
Figure 2005171122

イソブチルアルデヒド4.2当量と化合物(12)1.0当量をメタノールに溶解し、室温で、水酸化カリウム2.1当量のメタノール溶液を滴下した。次いで60℃で4時間反応した後、反応液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物を10倍量の水で加熱溶解し、放冷後、析出した結晶をろ過し水洗、脱水剤とともに2日間減圧乾燥した。白色結晶の化合物(13)を得た。収率は95%以上だった。1H NMR(CDCl3)、マススペクトルより目的物と確認した。 Isobutyl aldehyde 4.2 equivalent and compound (12) 1.0 equivalent were melt | dissolved in methanol, and the methanol solution of 2.1 equivalent of potassium hydroxide was dripped at room temperature. Subsequently, after reacting at 60 degreeC for 4 hours, the reaction liquid was concentrate | evaporated under reduced pressure. The concentrated mixture was dissolved by heating with 10 times the amount of water, allowed to cool, and then the precipitated crystals were filtered, washed with water, and dried under reduced pressure with a dehydrating agent for 2 days. Compound (13) was obtained as white crystals. The yield was over 95%. 1 H NMR (CDCl 3 ) and mass spectrum confirmed the target product.

この化合物(13)を2.1倍モルの塩化メタンスルホニルと2.2倍モルのトリエチルアミンを用いて塩化メチレン中でスルホネートとした。反応液を水層のpHが7になるまで水洗した後、1モル%のテトラ−n−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と50%水酸化ナトリウム溶液(10当量分)を加えて30±5℃で6時間反応した。反応液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のOT−43粗製物を得た。粗収率はほぼ定量的だった。   This compound (13) was sulfonated in methylene chloride using 2.1 moles of methanesulfonyl chloride and 2.2 moles of triethylamine. The reaction solution was washed with water until the pH of the aqueous layer reached 7, then 1 mol% tetra-n-butylammonium hydrogensulfate and 50% sodium hydroxide solution (10 equivalents) were added, and the mixture was stirred at 30 ± 5 ° C for 6 minutes. Reacted for hours. The reaction solution was washed with water, dehydrated with anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain the desired crude OT-43. The crude yield was almost quantitative.

この粗製物をアセトニトリルで再結晶し、例示化合物OT−14のオキセタン化合物を得た。収率は70〜80%だった。1H NMR(CDCl3)、マススペクトルより目的物と確認した。 This crude product was recrystallized from acetonitrile to obtain an oxetane compound of Exemplified Compound OT-14. The yield was 70-80%. 1 H NMR (CDCl 3 ) and mass spectrum confirmed the target product.

〔合成例7〕
例示化合物OT−53の合成
[Synthesis Example 7]
Synthesis of exemplary compound OT-53

Figure 2005171122
Figure 2005171122

4,4,4−トリフルオロ−2,2−ジメチル−3−オキソ−ブタン酸クロリド2.2当量とジベンゾフラン1当量に塩化アルミニウムを触媒(2当量)として用いてFriedel−Crafts反応を行い、化合物(14)と化合物(15)の反応混合物を得た。粗収率は90〜95%%だった。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、化合物(14)と化合物(15)をそれぞれ単離精製した。化合物(14)の収率は60〜70%、化合物(7)の収率は25〜30%だった。それぞれ、1H NMR(CDCl3)、マススペクトルより目的物と確認した。 Friedel-Crafts reaction was carried out using 2.2 equivalents of 4,4,4-trifluoro-2,2-dimethyl-3-oxo-butanoic acid chloride and 1 equivalent of dibenzofuran as the catalyst (2 equivalents) using aluminum chloride as a catalyst. A reaction mixture of (14) and compound (15) was obtained. The crude yield was 90-95%. Compound (14) and compound (15) were isolated and purified by silica gel column chromatography. The yield of compound (14) was 60 to 70%, and the yield of compound (7) was 25 to 30%. Each was confirmed as the target product by 1 H NMR (CDCl 3 ) and mass spectrum.

ついで、この化合物(14)を水素化ホウ素ナトリウム4.6倍モル用いてアルコール中で還元し、化合物(16)を得た。収率は95%以上だった。1H NMR(CDCl3)、IR(KBr法)より目的物と確認した。 Subsequently, this compound (14) was reduced in alcohol using 4.6 moles of sodium borohydride to obtain a compound (16). The yield was over 95%. It was confirmed as the target product by 1 H NMR (CDCl 3 ) and IR (KBr method).

この化合物(16)を2.2倍モルの塩化メタンスルホニルと2.4倍モルのトリエチルアミンを用いて塩化メチレン中でスルホネートとした。反応液を水層のpHが7になるまで水洗した後、1モル%のテトラ−n−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と50%水酸化ナトリウム溶液(10当量分)を加えて30±5℃で12時間反応した。反応液を水洗後、有機相を水で洗い、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のOT−53粗製物を得た。粗収率は85〜90%だった。   This compound (16) was sulfonated in methylene chloride using 2.2 moles of methanesulfonyl chloride and 2.4 moles of triethylamine. The reaction solution was washed with water until the pH of the aqueous layer reached 7, then 1 mol% tetra-n-butylammonium hydrogensulfate and 50% sodium hydroxide solution (10 equivalents) were added, and the mixture was added at 30 ± 5 ° C. Reacted for hours. After the reaction solution was washed with water, the organic phase was washed with water, dehydrated with anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain the desired crude OT-53. The crude yield was 85-90%.

この粗製物をアセトニトリルで再結晶し、例示化合物OT−53のオキセタン化合物を得た。収率は70〜75%だった。1H NMR(CDCl3)、マススペクトルより目的物と確認した。 This crude product was recrystallized from acetonitrile to obtain an oxetane compound of Exemplified Compound OT-53. Yields were 70-75%. 1 H NMR (CDCl 3 ) and mass spectrum confirmed the target product.

その他の一般式(OT−I)で表される本発明のオキセタン化合物も同様の方法で収率良く合成できる。   Other oxetane compounds of the present invention represented by the general formula (OT-I) can also be synthesized in a similar manner by a similar method.

本発明のインクジェットインクにおいては、本発明のオキセタン化合物と共に、2位が置換されていないオキセタン化合物と併用することで、感度向上効果あるいは硬化膜物性の改良効果を得ることができ好ましい。   In the ink-jet ink of the present invention, it is preferable to use the oxetane compound of the present invention together with an oxetane compound not substituted at the 2-position to obtain an effect of improving the sensitivity or improving the properties of the cured film.

以下、2位が置換されていないオキセタン化合物について説明する。   Hereinafter, the oxetane compound in which the 2-position is not substituted will be described.

2位が置換されていないオキセタン化合物の一例としては、下記一般式(101)で示される化合物が挙げられる。   As an example of the oxetane compound in which the 2-position is not substituted, a compound represented by the following general formula (101) can be given.

Figure 2005171122
Figure 2005171122

一般式(101)において、R1は水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基またはチエニル基である。R2は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜6個のアルキル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基等の炭素数2〜6個のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基、フェノキシエチル基等の芳香環を有する基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基等の炭素数2〜6個のアルキルカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等の炭素数2〜6個のアルコキシカルボニル基、またはエチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基等の炭素数2〜6個のN−アルキルカルバモイル基等である。本発明で使用するオキセタン化合物としては、1個のオキセタン環を有する化合物を使用することが、得られる組成物が粘着性に優れ、低粘度で作業性に優れるため、特に好ましい。 In General Formula (101), R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an allyl group or an aryl group. , Furyl group or thienyl group. R 2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 2-methyl- C2-C6 alkenyl group such as 2-propenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, phenyl group, benzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, phenoxyethyl group, etc. A group having an aromatic ring, an alkylcarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms such as an ethylcarbonyl group, a propylcarbonyl group, and a butylcarbonyl group, an alkylcarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms such as an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, and a butoxycarbonyl group; Alkoxycarbonyl group, ethylcarbamoyl group, propylcarbamoyl group, butylcarbamoyl group, pentylcarbamoyl Is N- alkylcarbamoyl group having a carbon number of 2-6 and the like. As the oxetane compound used in the present invention, it is particularly preferable to use a compound having one oxetane ring because the resulting composition has excellent tackiness, low viscosity and excellent workability.

2個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式(102)で示される化合物等が挙げられる。   An example of a compound having two oxetane rings includes a compound represented by the following general formula (102).

Figure 2005171122
Figure 2005171122

一般式(102)において、R1は、上記一般式(101)におけるそれと同様の基である。R3は、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等の線状または分枝状アルキレン基、ポリ(エチレンオキシ)基、ポリ(プロピレンオキシ)基等の線状または分枝状ポリ(アルキレンオキシ)基、プロペニレン基、メチルプロペニレン基、ブテニレン基等の線状または分枝状不飽和炭化水素基、またはカルボニル基またはカルボニル基を含むアルキレン基、カルボキシル基を含むアルキレン基、カルバモイル基を含むアルキレン基等である。 In General Formula (102), R 1 is the same group as that in General Formula (101). R 3 is, for example, a linear or branched alkylene group such as an ethylene group, a propylene group or a butylene group, a linear or branched poly (alkyleneoxy) such as a poly (ethyleneoxy) group or a poly (propyleneoxy) group. ) Group, propenylene group, methylpropenylene group, butenylene group or other linear or branched unsaturated hydrocarbon group, alkylene group containing carbonyl group or carbonyl group, alkylene group containing carboxyl group, alkylene containing carbamoyl group Group.

また、R3としては、下記一般式(103)、(104)及び(105)で示される基から選択される多価基も挙げることができる。 Moreover, as R < 3 >, the polyvalent group selected from the group shown by the following general formula (103), (104) and (105) can also be mentioned.

Figure 2005171122
Figure 2005171122

一般式(103)において、R4は、水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜4個のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜4個のアルコキシ基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシル基、カルボキシル基、またはカルバモイル基である。 In General Formula (103), R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, or a butoxy group. An alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom, a nitro group, a cyano group, a mercapto group, a lower alkyl carboxyl group, a carboxyl group, or a carbamoyl group.

Figure 2005171122
Figure 2005171122

一般式(104)において、R5は、酸素原子、硫黄原子、メチレン基、NH、SO、SO2、C(CF32、又はC(CH32を表す。 In the general formula (104), R 5 represents an oxygen atom, a sulfur atom, a methylene group, NH, SO, SO 2 , C (CF 3 ) 2 , or C (CH 3 ) 2 .

Figure 2005171122
Figure 2005171122

一般式(105)において、R6は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜4個のアルキル基、またはアリール基である。nは0〜2000の整数である。R7はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基の炭素数1〜4個のアルキル基、またはアリール基である。R7としては、更に、下記一般式(106)で示される基から選択される基も挙げることができる。 In General Formula (105), R 6 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, or an aryl group. n is an integer of 0-2000. R 7 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an aryl group. R 7 may further include a group selected from the group represented by the following general formula (106).

Figure 2005171122
Figure 2005171122

一般式(106)において、R8は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜4個のアルキル基、またはアリール基である。mは0〜100の整数である。 In General Formula (106), R 8 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, or an aryl group. m is an integer of 0-100.

2個のオキセタン環を有する化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。   Specific examples of the compound having two oxetane rings include the following compounds.

Figure 2005171122
Figure 2005171122

例示化合物11は、前記一般式(102)において、R1がエチル基、R3がカルボキシル基である化合物である。また、例示化合物12は、前記一般式(102)において、R1がエチル基、R3が前記一般式(105)でR6及びR7がメチル基、nが1である化合物である。 Exemplary compound 11 is a compound in which R 1 is an ethyl group and R 3 is a carboxyl group in the general formula (102). The exemplified compound 12 is a compound in which R 1 is an ethyl group, R 3 is the general formula (105), R 6 and R 7 are methyl groups, and n is 1 in the general formula (102).

2個のオキセタン環を有する化合物において、上記の化合物以外の好ましい例としては、下記一般式(107)で示される化合物がある。一般式(107)において、R1は、前記一般式(101)のR1と同義である。 In the compound having two oxetane rings, a preferred example other than the above compound is a compound represented by the following general formula (107). In formula (107), R 1 has the same meaning as R 1 in the general formula (101).

Figure 2005171122
Figure 2005171122

また、3〜4個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式(108)で示される化合物が挙げられる。   Moreover, as an example of a compound having 3 to 4 oxetane rings, a compound represented by the following general formula (108) can be given.

Figure 2005171122
Figure 2005171122

一般式(108)において、R1は、前記一般式(101)におけるR1と同義である。R9としては、例えば、下記A〜Cで示される基等の炭素数1〜12の分枝状アルキレン基、下記Dで示される基等の分枝状ポリ(アルキレンオキシ)基又は下記Eで示される基等の分枝状ポリシロキシ基等が挙げられる。jは、3又は4である。 In formula (108), R 1 has the same meaning as R 1 in the general formula (101). As R 9 , for example, a branched alkylene group having 1 to 12 carbon atoms such as groups represented by the following A to C, a branched poly (alkyleneoxy) group such as a group represented by the following D, or the following E And branched polysiloxy groups such as those shown. j is 3 or 4.

Figure 2005171122
Figure 2005171122

上記Aにおいて、R10はメチル基、エチル基又はプロピル基等の低級アルキル基である。また、上記Dにおいて、pは1〜10の整数である。 In A above, R 10 is a lower alkyl group such as a methyl group, an ethyl group or a propyl group. Moreover, in said D, p is an integer of 1-10.

3〜4個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、例示化合物13が挙げられる。   Illustrative compound 13 is an example of a compound having 3 to 4 oxetane rings.

Figure 2005171122
Figure 2005171122

さらに、上記説明した以外の1〜4個のオキセタン環を有する化合物の例としては、下記一般式(109)で示される化合物が挙げられる。   Furthermore, examples of the compound having 1 to 4 oxetane rings other than those described above include compounds represented by the following general formula (109).

Figure 2005171122
Figure 2005171122

一般式(109)において、R8は前記一般式(106)のR8と同義である。R11はメチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基等の炭素数1〜4のアルキル基又はトリアルキルシリル基であり、rは1〜4である。 In formula (109), R 8 has the same meaning as R 8 in the general formula (106). R 11 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, or a trialkylsilyl group, and r is 1 to 4.

本発明で使用するオキセタン化合物の好ましい具体例としては、以下に示す化合物がある。   Preferable specific examples of the oxetane compound used in the present invention include the following compounds.

Figure 2005171122
Figure 2005171122

Figure 2005171122
Figure 2005171122

上述したオキセタン環を有する各化合物の製造方法は、特に限定されず、従来知られた方法に従えばよく、例えば、パティソン(D.B.Pattison,J.Am.Chem.Soc.,3455,79(1957))が開示している、ジオールからのオキセタン環合成法等がある。また、これら以外にも、分子量1000〜5000程度の高分子量を有する1〜4個のオキセタン環を有する化合物も挙げられる。これらの具体的化合物例としては、以下の化合物が挙げられる。   The production method of each compound having an oxetane ring described above is not particularly limited, and may be a conventionally known method, for example, Pattisson (DB Pattison, J. Am. Chem. Soc., 3455, 79). (1957)) discloses a method for synthesizing an oxetane ring from a diol. In addition to these, compounds having 1 to 4 oxetane rings having a high molecular weight of about 1000 to 5000 are also included. Examples of these specific compounds include the following compounds.

Figure 2005171122
Figure 2005171122

また、本発明のインクジェットインクにおいては、本発明のオキセタン化合物と共に、エポキシ化合物またはビニルエーテル化合物を含有することが好ましい。   Moreover, in the inkjet ink of this invention, it is preferable to contain an epoxy compound or a vinyl ether compound with the oxetane compound of this invention.

エポキシ化合物において、芳香族エポキシドとして好ましいものは、少なくとも1個の芳香族核を有する多価フェノールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるジまたはポリグリシジルエーテルであり、例えばビスフェノールAあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールAあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、ならびにノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイド等が挙げられる。   In the epoxy compound, preferred as the aromatic epoxide is a di- or polyglycidyl ether produced by a reaction between a polyhydric phenol having at least one aromatic nucleus or an alkylene oxide adduct thereof and epichlorohydrin, such as bisphenol A. Alternatively, di- or polyglycidyl ethers of the alkylene oxide adducts, di- or polyglycidyl ethers of hydrogenated bisphenol A or alkylene oxide adducts thereof, and novolak type epoxy resins can be used. Here, examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide.

脂環式エポキシドとしては、少なくとも1個のシクロへキセンまたはシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによつて得られる、シクロヘキセンオキサイドまたはシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましい。   The alicyclic epoxide can be obtained by epoxidizing a compound having at least one cycloalkane ring such as cyclohexene or cyclopentene ring with a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. Cyclohexene oxide or cyclopentene oxide-containing compounds are preferred.

脂肪族エポキシドの好ましいものとしては、脂肪族多価アルコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル等があり、その代表例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテルまたは1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリンあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル等のポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイド等が挙げられる。   Preferred aliphatic epoxides include di- or polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof, and typical examples thereof include diglycidyl ether of ethylene glycol, diglycidyl ether of propylene glycol or Diglycidyl ether of alkylene glycol such as diglycidyl ether of 1,6-hexanediol, polyglycidyl ether of polyhydric alcohol such as di- or triglycidyl ether of glycerin or its alkylene oxide adduct, polyethylene glycol or its alkylene oxide adduct Of polyalkylene glycols such as diglycidyl ether, polypropylene glycol or diglycidyl ether of its alkylene oxide adduct Glycidyl ether, and the like. Here, examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide.

これらのエポキシドのうち、迅速な硬化性を考慮すると、芳香族エポキシドおよび脂環式エポキシドが好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。本発明では、上記エポキシドの1種を単独で使用してもよいが、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。   Among these epoxides, in view of rapid curability, aromatic epoxides and alicyclic epoxides are preferable, and alicyclic epoxides are particularly preferable. In the present invention, one of the epoxides may be used alone, or two or more may be used in appropriate combination.

脂環式エポキシドとして特に好ましいのは以下の一般式(VI)、(VII)または(VIII)で表される化合物である。   Particularly preferred as the alicyclic epoxide is a compound represented by the following general formula (VI), (VII) or (VIII).

Figure 2005171122
Figure 2005171122

式中、R601は脂肪族基を表し、m6は0〜2を表す。X1は−(CH2n6−または−(O)n6−を表し、n6は0または1を表す。p1、q1はそれぞれ0または1を表す。r1は1〜3を表す。L3は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr1+1価の連結基または単結合を表す。 In the formula, R 601 represents an aliphatic group, and m6 represents 0-2. X 1 represents — (CH 2 ) n6 — or — (O) n6 —, and n6 represents 0 or 1. p1 and q1 each represents 0 or 1. r1 represents 1-3. L 3 represents a C 1-15 r 1 + 1 valent linking group or single bond that may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain.

Figure 2005171122
Figure 2005171122

式中、R701は脂肪族基を表し、m7は0〜2を表す。X2は−(CH2n7−または−(O)n7−を表し、n7は0または1を表す。p2、q2はそれぞれ0または1を表す。r2は1〜3を表す。L4は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr2+1価の連結基または単結合を表す。 In the formula, R 701 represents an aliphatic group, and m7 represents 0 to 2. X 2 represents — (CH 2 ) n7 — or — (O) n7 —, and n7 represents 0 or 1. p2 and q2 each represents 0 or 1. r2 represents 1-3. L 4 represents a C 1-15 r 2 + 1 valent linking group or single bond that may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain.

Figure 2005171122
Figure 2005171122

式中、R801は脂肪族基を表し、m8は0〜2を表す。X3は−(CH2n8−または−(O)n8−を表し、n8は0または1を表す。R802、R803は置換基を表し、p3は0または1を表す。 In the formula, R 801 represents an aliphatic group, and m8 represents 0 to 2. X 3 represents — (CH 2 ) n8 — or — (O) n8 —, and n8 represents 0 or 1. R 802 and R 803 each represent a substituent, and p3 represents 0 or 1.

さらに、一般式(VI)、(VII)または(VIII)で表される脂環式エポキシドについて説明する。   Furthermore, the alicyclic epoxide represented by the general formula (VI), (VII) or (VIII) will be described.

上記の式中、R601、R701、R801は脂肪族基を表わす、脂肪族基としては炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、等)、炭素数1〜6個のアルキ二ル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、等)が挙げられる。好ましくは、炭素数1〜3個のアルキル基であり、メチル基、エチル基がより好ましい。m6、m7、m8は0〜2を表し、1以上が好ましい。 In the above formula, R 601 , R 701 and R 801 each represents an aliphatic group, and the aliphatic group is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group) Group, etc.), a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, vinyl group, 1 -Propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, etc.), alkynyl groups having 1 to 6 carbon atoms (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, etc.) ). Preferably, it is a C1-C3 alkyl group, and a methyl group and an ethyl group are more preferable. m6, m7 and m8 represent 0 to 2, and preferably 1 or more.

1は−(CH2n6−または−(O)n6−を、X2は−(CH2n7−または−(O)n7−を、X3は−(CH2n8−または−(O)n8−を表す。n6、n7、n8は0または1を表し、n6、n7、n8が0の場合はX1、X2、X3が存在しないことを表す。 X 1 represents — (CH 2 ) n6 — or — (O) n6 —, X 2 represents — (CH 2 ) n7 — or — (O) n7 —, and X 3 represents — (CH 2 ) n8 — or — (O) represents n8- . n6, n7, and n8 represent 0 or 1, and when n6, n7, and n8 are 0, it represents that X 1 , X 2 , and X 3 do not exist.

m6+n6、m7+n7またはm8+n8は1以上が好ましい。   m6 + n6, m7 + n7 or m8 + n8 is preferably 1 or more.

3は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr1+1価の連結基あるいは単結合を、L4は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr2+1価の連結基あるいは単結合を表す。 L 3 is an r 1 + 1 valent linking group or a single bond having 1 to 15 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain, and L 4 is a 1 to 1 carbon atom which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. 15 represents an r2 + 1-valent linking group or a single bond.

主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15の2価の連結基の例としては以下の基およびこれらの基と−O−基、−S−基、−CO−基、−CS−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。
メチレン基[−CH2−]
エチリデン基[>CHCH3]、
イソプロピリデン[>C(CH32
1,2−エチレン基[−CH2CH2−]、
1,2−プロピレン基[−CH(CH3)CH2−]、
1,3−プロパンジイル基[−CH2CH2CH2−]、
2,2−ジメチル−1,3−プロパンジイル基[−CH2C(CH32CH2−]、
2,2−ジメトキシ−1,3−プロパンジイル基[−CH2C(OCH32CH2−]、
2,2−ジメトキシメチル−1,3−プロパンジイル基[−CH2C(CH2OCH32CH2−]、
1−メチル−1,3−プロパンジイル基[−CH(CH3)CH2CH2−]、
1,4−ブタンジイル基[−CH2CH2CH2CH2−]、
1,5−ペンタンジイル基[−CH2CH2CH2CH2CH2−]、
オキシジエチレン基[−CH2CH2OCH2CH2−]、
チオジエチレン基[−CH2CH2SCH2CH2−]、
3−オキソチオジエチレン基[−CH2CH2SOCH2CH2−]、
3,3−ジオキソチオジエチレン基[−CH2CH2SO2CH2CH2−]、
1,4−ジメチル−3−オキサ−1,5−ペンタンジイル基[−CH(CH3)CH2O CH(CH3)CH2−]、
3−オキソペンタンジイル基[−CH2CH2COCH2CH2−]、
1,5−ジオキソ−3−オキサペンタンジイル基[−COCH2OCH2CO−]、
4−オキサ−1,7−ヘプタンジイル基[−CH2CH2CH2OCH2CH2CH2−]、
3,6−ジオキサ−1,8−オクタンジイル基[−CH2CH2OCH2CH2OCH2CH2−]、
1,4,7−トリメチル−3,6−ジオキサ−1,8−オクタンジイル基[−CH(CH3)CH2O CH(CH3)CH2OCH(CH3)CH2−]、
5,5−ジメチル−3,7−ジオキサ−1,9−ノナンジイル基[−CH2CH2OCH2C(CH32CH2OCH2CH2−]、
5,5−ジメトキシ−3,7−ジオキサ−1,9−ノナンジイル基[−CH2CH2OCH2C(OCH32CH2OCH2CH2−]、
5,5−ジメトキシメチル−3,7−ジオキサ−1,9−ノナンジイル基[−CH2CH2OCH2C(CH2OCH32CH2OCH2CH2−]、
4,7−ジオキソ−3,8−ジオキサ−1,10−デカンジイル基[−CH2CH2O−COCH2CH2CO−OCH2CH2−]、
3,8−ジオキソ−4,7−ジオキサ−1,10−デカンジイル基[−CH2CH2CO−OCH2CH2O−COCH2CH2−]、
1,3−シクロペンタンジイル基[−1,3−C58−]、
1,2−シクロヘキサンジイル基[−1,2−C610−]、
1,3−シクロヘキサンジイル基[−1,3−C610−]、
1,4−シクロヘキサンジイル基[−1,4−C610−]、
2,5−テトラヒドロフランジイル基[2,5−C46O−]
p−フェニレン基[−p−C64−]、
m−フェニレン基[−m−C64−]、
α,α’−o−キシリレン基[−o−CH2−C64−CH2−]、
α,α’−m−キシリレン基[−m−CH2−C64−CH2−]、
α,α’−p−キシリレン基[−p−CH2−C64−CH2−]、
フラン−2,5−ジイル−ビスメチレン基[2,5−CH2−C42O−CH2−]
チオフェン−2,5−ジイル−ビスメチレン基[2,5−CH2−C42S−CH2−]
イソプロピリデンビス−p−フェニレン基[−p−C64−C(CH32−p−C64−]
3価以上の連結基としては以上に挙げた2価の連結基から任意の部位の水素原子を必要なだけ除いてできる基およびそれらと−O−基、−S−基、−CO−基、−CS−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。
Examples of the divalent linking group having 1 to 15 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain include the following groups, and these groups and —O— group, —S— group, —CO— group, Examples include groups formed by combining a plurality of —CS— groups.
Methylene group [—CH 2 —]
An ethylidene group [> CHCH 3 ],
Isopropylidene [> C (CH 3 ) 2 ]
1,2-ethylene group [—CH 2 CH 2 —],
1,2-propylene group [—CH (CH 3 ) CH 2 —],
1,3-propanediyl group [—CH 2 CH 2 CH 2 —],
2,2-dimethyl-1,3-propanediyl group [—CH 2 C (CH 3 ) 2 CH 2 —],
2,2-dimethoxy-1,3-propanediyl group [—CH 2 C (OCH 3 ) 2 CH 2 —],
2,2-dimethoxymethyl-1,3-propanediyl group [—CH 2 C (CH 2 OCH 3 ) 2 CH 2 —],
1-methyl-1,3-propanediyl group [—CH (CH 3 ) CH 2 CH 2 —],
1,4-butanediyl group [—CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —],
1,5-pentanediyl group [—CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —],
An oxydiethylene group [—CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
A thiodiethylene group [—CH 2 CH 2 SCH 2 CH 2 —],
3-oxothiodiethylene group [—CH 2 CH 2 SOCH 2 CH 2 —],
3,3-dioxothiodiethylene group [—CH 2 CH 2 SO 2 CH 2 CH 2 —],
1,4-dimethyl-3-oxa-1,5-pentanediyl group [—CH (CH 3 ) CH 2 O CH (CH 3 ) CH 2 —],
3-oxopentanediyl group [—CH 2 CH 2 COCH 2 CH 2 —],
1,5-dioxo-3-oxapentanediyl group [—COCH 2 OCH 2 CO—],
4-oxa-1,7-heptanediyl group [—CH 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 —],
3,6-dioxa-1,8-octanediyl group [—CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
1,4,7-trimethyl-3,6-dioxa-1,8-octanediyl group [—CH (CH 3 ) CH 2 O CH (CH 3 ) CH 2 OCH (CH 3 ) CH 2 —],
5,5-dimethyl-3,7-dioxa-1,9-nonanediyl group [—CH 2 CH 2 OCH 2 C (CH 3 ) 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
5,5-dimethoxy-3,7-dioxa-1,9-nonanediyl group [—CH 2 CH 2 OCH 2 C (OCH 3 ) 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
5,5-dimethoxymethyl-3,7-dioxa-1,9-nonanediyl group [—CH 2 CH 2 OCH 2 C (CH 2 OCH 3 ) 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
4,7-dioxo-3,8-dioxa-1,10-decandiyl group [—CH 2 CH 2 O—COCH 2 CH 2 CO—OCH 2 CH 2 —],
3,8-dioxo-4,7-dioxa-1,10-decandiyl group [—CH 2 CH 2 CO—OCH 2 CH 2 O—COCH 2 CH 2 —],
1,3-cyclopentanediyl group [-1,3-C 5 H 8 —],
1,2-cyclohexanediyl group [-1,2-C 6 H 10- ],
1,3-cyclohexanediyl group [-1,3-C 6 H 10- ],
1,4-cyclohexanediyl group [-1,4-C 6 H 10- ],
2,5-tetrahydrofurandiyl group [2,5-C 4 H 6 O—]
p- phenylene [-p-C 6 H 4 - ],
m- phenylene group [-m-C 6 H 4 - ],
α, α′-o-xylylene group [—o—CH 2 —C 6 H 4 —CH 2 —],
α, α′-m-xylylene group [—m—CH 2 —C 6 H 4 —CH 2 —],
α, α′-p-xylylene group [—p—CH 2 —C 6 H 4 —CH 2 —],
Furan-2,5-diyl - bismethylene group [2,5-CH 2 -C 4 H 2 O-CH 2 -]
Thiophene-2,5-diyl-bismethylene group [2,5-CH 2 —C 4 H 2 S—CH 2 —]
Isopropylidenebis -p- phenylene group [-p-C 6 H 4 -C (CH 3) 2 -p-C 6 H 4 -]
Examples of the trivalent or higher linking group include groups formed by removing as many hydrogen atoms as necessary from the divalent linking groups listed above, and an —O— group, —S— group, —CO— group, Examples include groups formed by combining a plurality of —CS— groups.

3、L4は置換基を有していても良い。置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、アシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、等が挙げられる。置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基である。 L 3 and L 4 may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, Etc.), an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), acyl group (for example, acetyl group) , Propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.) ), And the like. As the substituent, a halogen atom, an alkyl group, and an alkoxy group are preferable.

3、L4としては主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜8の2価の連結基が好ましく、主鎖が炭素のみからなる炭素数1〜5の2価の連結基がより好ましい。 L 3 and L 4 are preferably a divalent linking group having 1 to 8 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain, and a divalent linking group having 1 to 5 carbon atoms in which the main chain is composed solely of carbon. Groups are more preferred.

3、L4としては主鎖に2級以上の炭素による分岐を有するものが好ましく、3級炭素による分岐を有するものがより好ましい。 L 3 and L 4 are preferably those having a branch due to secondary or higher carbon in the main chain, and more preferably those having a branch due to tertiary carbon.

p1、q1はそれぞれ0または1を表し、p1+q1が1以上であるのが好ましい。p2、q2はそれぞれ0または1を表し、それぞれ1が好ましい。r1、r2はそれぞれ1〜3を表し、それぞれ1または2が好ましい。   p1 and q1 each represents 0 or 1, and p1 + q1 is preferably 1 or more. p2 and q2 each represents 0 or 1, and 1 is preferable for each. r1 and r2 each represent 1 to 3, and preferably 1 or 2, respectively.

802、R803は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜8個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等)、炭素数1〜8個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、アシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、等が挙げられる。置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。これらの置換基はさらに置換されていても良い。置換基の例としては先に上げたものと同じものが挙げられる。 R 802 and R 803 represent a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, Etc.), an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), acyl group (for example, acetyl group) , Propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.) ), And the like. Preferred as a substituent are a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, and an alkoxycarbonyl group. These substituents may be further substituted. Examples of the substituent include the same as those mentioned above.

802とR803が末端で結合して環を形成しても良いし、R802とR803が同じ炭素上に置換しても良い。 R 802 and R 803 may be bonded at the end to form a ring, or R 802 and R 803 may be substituted on the same carbon.

p3は0または1を表し、1が好ましい。   p3 represents 0 or 1, and 1 is preferable.

以下に、好ましい脂環式エポキシドの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of preferable alicyclic epoxides are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2005171122
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ビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル−O−プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。   Examples of the vinyl ether compound include ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, butanediol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, cyclohexanedimethanol divinyl ether, Di- or trivinyl ether compounds such as methylolpropane trivinyl ether, ethyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octadecyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexane dimethanol monovinyl ether, n-propyl Pills vinyl ether, isopropyl vinyl ether, isopropenyl ether -O- propylene carbonate, dodecyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, and octadecyl vinyl ether.

これらのビニルエーテル化合物のうち、硬化性、密着性、表面硬度を考慮すると、ジ又はトリビニルエーテル化合物が好ましく、特にジビニルエーテル化合物が好ましい。本発明では、上記ビニルエーテル化合物の1種を単独で使用してもよいが、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。   Among these vinyl ether compounds, in consideration of curability, adhesion, and surface hardness, di- or trivinyl ether compounds are preferable, and divinyl ether compounds are particularly preferable. In the present invention, one of the above vinyl ether compounds may be used alone, or two or more thereof may be used in appropriate combination.

本発明のインクジェットインクにおいては、本発明のオキセタン化合物と共に、光酸発生剤を含有することが特徴である。   The inkjet ink of the present invention is characterized by containing a photoacid generator together with the oxetane compound of the present invention.

カチオン重合型インクで用いる光酸発生剤としては、例えば、化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物が用いられる(有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」、ぶんしん出版(1993年)、187〜192ページ参照)。本発明に好適な化合物の例を以下に挙げる。   As the photoacid generator used in the cationic polymerization type ink, for example, a chemically amplified photoresist or a compound used for photocationic polymerization is used (edited by Organic Electronics Materials Research Group, “Organic Materials for Imaging”, Bunshin Publishing). (1993), pages 187-192). Examples of compounds suitable for the present invention are listed below.

第1に、ジアゾニウム、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウムなどの芳香族オニウム化合物のB(C654 -,PF6 -,AsF6 -,SbF6 -,p−CH364SO3 -塩、CF3SO3 -塩などのスルホン酸塩を挙げることができる。 First, B (C 6 F 5 ) 4 , PF 6 , AsF 6 , SbF 6 , p-CH 3 C 6 H 4 of aromatic onium compounds such as diazonium, ammonium, iodonium, sulfonium and phosphonium. SO 3 - salt, CF 3 SO 3 - and sulfonic acid salts such as salts.

対アニオンとしてボレート化合物をもつもものおよびPF6 -塩が酸発生能力が高く好ましい。オニウム化合物の具体的な例を以下に示す。 Thigh and PF 6 with borate compound as counter anion - salt acid generating ability is higher preferred. Specific examples of the onium compound are shown below.

Figure 2005171122
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第2に、スルホン酸を発生するスルホン化物を挙げることができる。具体的な化合物を以下に例示する。   Secondly, sulfonated products that generate sulfonic acid can be mentioned. Specific compounds are exemplified below.

Figure 2005171122
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第3に、ハロゲン化水素を発生するハロゲン化物も用いることができる。以下に具体的な化合物を例示する。   Thirdly, a halide that generates hydrogen halide can also be used. Specific compounds are exemplified below.

Figure 2005171122
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第4に、鉄アレン錯体を挙げることができる。   Fourthly, an iron allene complex can be mentioned.

Figure 2005171122
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本発明で用いられる光カチオン重合開始剤としては、アリールスルホニウム塩誘導体(例えば、ユニオン・カーバイド社製のサイラキュアUVI−6990、サイラキュアUVI−6974、旭電化工業社製のアデカオプトマーSP−150、アデカオプトマーSP−152、アデカオプトマーSP−170、アデカオプトマーSP−172)、アリルヨードニウム塩誘導体(例えば、ローディア社製のRP−2074)、アレン−イオン錯体誘導体(例えば、チバガイギー社製のイルガキュア261)、ジアゾニウム塩誘導体、トリアジン系開始剤及びその他のハロゲン化物等の酸発生剤が挙げられる。カチオン重合開始剤は、カチオン重合性を有する化合物100質量部に対して、0.2〜20質量部の比率で含有させることが好ましい。重合開始剤の含有量が0.2質量部未満では、硬化物を得ることが困難であり、20質量部を越えて含有させても、更なる硬化性向上効果はない。これら光カチオン重合開始剤は、1種又は2種以上を選択して使用することができる。
本発明で用いられる光酸発生剤として好ましいのはスルホニウム塩、ヨードニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、等のオニウム塩であり、中でもスルホニウム塩化合物が好ましい。より好ましいスルホニウム塩化合物の構造として、以下の一般式(I−1)、(I−2)(I−3)で表されるスルホニウム塩が挙げられる。
Examples of the photocationic polymerization initiator used in the present invention include arylsulfonium salt derivatives (for example, Cyracure UVI-6990, Cyracure UVI-6974 manufactured by Union Carbide, Adekaoptomer SP-150 manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., and Adeka). Optomer SP-152, Adekaoptomer SP-170, Adekaoptomer SP-172), allyl iodonium salt derivative (for example, RP-2074 manufactured by Rhodia), allene-ion complex derivative (for example, Irgacure manufactured by Ciba Geigy) 261), acid generators such as diazonium salt derivatives, triazine-based initiators and other halides. It is preferable to contain a cationic polymerization initiator in the ratio of 0.2-20 mass parts with respect to 100 mass parts of compounds which have cationic polymerizability. When the content of the polymerization initiator is less than 0.2 parts by mass, it is difficult to obtain a cured product. These cationic photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.
Preferred photoacid generators used in the present invention are onium salts such as sulfonium salts, iodonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, etc. Among them, sulfonium salt compounds are preferred. More preferable sulfonium salt compounds include sulfonium salts represented by the following general formulas (I-1), (I-2) and (I-3).

Figure 2005171122
Figure 2005171122

式中、R11、R12、R13は置換基を表し、m、n、pは0〜5の整数を表す。X11 -は対イオンを表す。 Wherein, R 11, R 12, R 13 represents a substituent, m, n, p is an integer of 0-5. X 11 represents a counter ion.

Figure 2005171122
Figure 2005171122

式中、R14は置換基を表し、qは0〜2の整数を表す。R15、R16は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。X12 -は対イオンを表す。 Wherein, R 14 represents a substituent, q is an integer of 0 to 2. R 15 and R 16 each represents a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. X 12 represents a counter ion.

Figure 2005171122
Figure 2005171122

式中、R17は置換基を表し、rは0〜3の整数を表す。R18は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、R19、R20は置換基を置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。X13 -は対イオンを表す。 In the formula, R 17 represents a substituent, and r represents an integer of 0 to 3. R 18 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 19 and R 20 each represents a substituted substituent, an unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, or It represents a substituted or unsubstituted aryl group. X 13 - is a counter ion.

さらに、一般式(I−1)、(I−2)、(I−3)で表されるスルホニウム塩について説明する。   Furthermore, the sulfonium salt represented by general formula (I-1), (I-2), (I-3) is demonstrated.

一般式(I−1)で、R11、R12、R13は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、等)、炭素数1〜6個のアルキ二ル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、炭素数1〜6個のアルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基、等)、炭素数6〜14のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、等)、炭素数6〜10のアリールオキシ基(例えばフェノキシ基、ナフトキシ基、等)、炭素数6〜10のアリールチオ基(例えばフェニルチオ基、ナフチルチオ基、等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基、等)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、炭素数4〜8のヘテロ原子含有芳香族環基(例えばフリル基、チエニル基、等)、ニトロ基、シアノ基、等が挙げられる。置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシル基である。 In the general formula (I-1), R 11 , R 12 and R 13 each represent a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, Etc.), a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, vinyl group, 1-propenyl, etc.) Group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, etc.), alkynyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, etc.), An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), carbon number -6 alkylthio groups (for example, methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, iso-propylthio group, n-butylthio group, tert-butylthio group, etc.), aryl groups having 6 to 14 carbon atoms (for example, phenyl group) , Naphthyl group, anthracenyl group, etc.), aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms (for example, phenoxy group, naphthoxy group, etc.), arylthio group having 6 to 10 carbon atoms (for example, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), acyl Group (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, benzoyloxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl) Group, ethoxycarbonyl group, tert-butyl group Alkoxycarbonyl group, etc.), heteroatom-containing aromatic Hajime Tamaki (such as furyl group having 4 to 8 carbon atoms, a thienyl group, etc.), a nitro group, a cyano group, and the like. Preferred examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group, an alkyloxy group, an aryl group, an aryloxy group, an arylthio group, and an acyl group.

これらの置換基のうち可能なものはさらに置換されていてもよい。   Of these substituents, possible ones may be further substituted.

m、n、pは0〜5の整数を表わしそれぞれが1以上であることが好ましい。   m, n and p each represents an integer of 0 to 5, and each is preferably 1 or more.

11 -は対アニオンを表す。対アニオンとしては、BF4 -、B(C654 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、などの錯イオン、p−CH364SO3 -、CF3SO3 -などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびPF6 -が酸発生能力が高く好ましい。 X 11 represents a counter anion. Counter anions include complex ions such as BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 , PF 6 , AsF 6 and SbF 6 , p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 and CF 3. SO 3 - may be mentioned sulfonate ion such. As the counter anion, borate ion and PF 6 - are preferable because of their high acid generation ability.

一般式(I−2)で、R14は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、等)、炭素数1〜6個のアルキ二ル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、炭素数1〜6個のアルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基、等)、炭素数6〜14のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、等)、炭素数6〜10のアリールオキシ基(例えばフェノキシ基、ナフトキシ基、等)、炭素数6〜10のアリールチオ基(例えばフェニルチオ基、ナフチルチオ基、等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基、等)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、炭素数4〜8のヘテロ原子含有芳香族環基(例えばフリル基、チエニル基、等)、ニトロ基、シアノ基、等が挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基である。これらの置換基のうち可能なものはさらに置換されていてもよい。 In the general formula (I-2), R 14 represents a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, Etc.), a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, vinyl group, 1-propenyl, etc.) Group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, etc.), alkynyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, etc.), An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), carbon number -6 alkylthio groups (for example, methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, iso-propylthio group, n-butylthio group, tert-butylthio group, etc.), aryl groups having 6 to 14 carbon atoms (for example, phenyl group) , Naphthyl group, anthracenyl group, etc.), aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms (for example, phenoxy group, naphthoxy group, etc.), arylthio group having 6 to 10 carbon atoms (for example, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), acyl Group (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, benzoyloxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl) Group, ethoxycarbonyl group, tert-butyl group Alkoxycarbonyl group, etc.), heteroatom-containing aromatic Hajime Tamaki (such as furyl group having 4 to 8 carbon atoms, a thienyl group, etc.), a nitro group, a cyano group, and the like. Preferably, they are a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, and an aryloxy group. Of these substituents, possible ones may be further substituted.

qは0〜2の整数を表わし1以上であることが好ましく、より好ましくは2である。またR15、R16は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。 q represents an integer of 0 to 2, preferably 1 or more, and more preferably 2. R 15 and R 16 each represents a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group.

置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、等)、炭素数1〜6個のアルキ二ル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、炭素数1〜6個のアルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基、等)、炭素数6〜14のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、等)、炭素数6〜10のアリールオキシ基(例えばフェノキシ基、ナフトキシ基、等)、炭素数6〜10のアリールチオ基(例えばフェニルチオ基、ナフチルチオ基、等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基、等)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、炭素数4〜8のヘテロ原子含有芳香族環基(例えばフリル基、チエニル基、等)、ニトロ基、シアノ基、水酸基、等が挙げられる。   Examples of the substituent include a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, Etc.), a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, vinyl group, 1-propenyl, etc.) Group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, etc.), alkynyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, etc.), An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), carbon number -6 alkylthio groups (for example, methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, iso-propylthio group, n-butylthio group, tert-butylthio group, etc.), aryl groups having 6 to 14 carbon atoms (for example, phenyl group) , Naphthyl group, anthracenyl group, etc.), aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms (for example, phenoxy group, naphthoxy group, etc.), arylthio group having 6 to 10 carbon atoms (for example, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), acyl Group (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, benzoyloxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl) Group, ethoxycarbonyl group, tert-butyl group Alkoxycarbonyl group, etc.), heteroatom-containing aromatic Hajime Tamaki having 4 to 8 carbon atoms (such as furyl group, a thienyl group, etc.), a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, and the like.

好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基である。   Preferred are a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, and an acyl group.

15、R16として好ましくは、置換、無置換のアルキル基、または置換、無置換のアリール基であり、置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、水酸基である。 R 15 and R 16 are preferably a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group, and the substituent is preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, An acyl group and a hydroxyl group.

12 -は対アニオンを表す。対アニオンとしては、BF4 -、B(C654 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、などの錯イオン、p−CH364SO3 -、CF3SO3 -などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびPF6−が酸発生能力が高く好ましい。 X 12 represents a counter anion. Counter anions include complex ions such as BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 , PF 6 , AsF 6 and SbF 6 , p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 and CF 3. SO 3 - may be mentioned sulfonate ion such. As the counter anion, borate ion and PF 6 -are preferable because of their high acid generating ability.

一般式(I−3)で、R17は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、等)、炭素数1〜6個のアルキ二ル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、炭素数6〜14のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基、等)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、炭素数6〜10のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、等)、炭素数4〜8のヘテロ原子含有芳香族環基(例えばフリル基、チエニル基、等)、ニトロ基、シアノ基、等が挙げられる。 In the general formula (I-3), R 17 represents a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, Etc.), a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, vinyl group, 1-propenyl, etc.) Group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, etc.), alkynyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, etc.), An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), carbon number To 14 aryl groups (for example, phenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, etc.), acyl groups (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), acyloxy groups (for example, acetoxy group, propionyloxy) Group, trifluoroacetoxy group, benzoyloxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.), aryl group having 6 to 10 carbon atoms (for example, phenyl group, naphthyl group) , Anthracenyl group, etc.), a C4-C8 heteroatom-containing aromatic ring group (eg, furyl group, thienyl group, etc.), nitro group, cyano group, and the like.

好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。   Preferably, they are a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, and an acyl group.

rは0〜3の整数を表わし1以上であることが好ましく、より好ましくは2である。R18は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、R19、R20は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。 r represents an integer of 0 to 3, preferably 1 or more, and more preferably 2. R 18 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 19 and R 20 represent a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, or a substituted or unsubstituted group. Represents a substituted aryl group.

置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、等)、炭素数1〜6個のアルキ二ル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、等)、炭素数6〜14のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基、等)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、等)、炭素数6〜10のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、等)、炭素数4〜8のヘテロ原子含有芳香族環基(例えばフリル基、チエニル基、等)、ニトロ基、シアノ基、等が挙げられる。   Examples of the substituent include a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, Etc.), a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, vinyl group, 1-propenyl, etc.) Group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, etc.), alkynyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, etc.), An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), carbon number To 14 aryl groups (for example, phenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, etc.), acyl groups (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), acyloxy groups (for example, acetoxy group, propionyloxy) Group, trifluoroacetoxy group, benzoyloxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.), aryl group having 6 to 10 carbon atoms (for example, phenyl group, naphthyl group) , Anthracenyl group, etc.), a C4-C8 heteroatom-containing aromatic ring group (eg, furyl group, thienyl group, etc.), nitro group, cyano group, and the like.

好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。   Preferably, they are a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, and an acyl group.

18として好ましくは、水素原子または無置換の低級アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基)であり、R19、R20として好ましくは、置換、無置換のアルキル基、または置換、無置換のアリール基であり、置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。 R 18 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted lower alkyl group (methyl group, ethyl group, propyl group), and R 19 and R 20 are preferably a substituted, unsubstituted alkyl group, or substituted, unsubstituted. The substituent is preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, or an acyl group.

13 -は対アニオンを表す。対アニオンとしては、BF4 -、B(C654 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、などの錯イオン、p−CH364SO3 -、CF3SO3 -などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびPF6 -が酸発生能力が高く好ましい。 X 13 - is a counter anion. Counter anions include complex ions such as BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 , PF 6 , AsF 6 and SbF 6 , p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 and CF 3. SO 3 - may be mentioned sulfonate ion such. As the counter anion, borate ion and PF 6 - are preferable because of their high acid generation ability.

以下に、一般式(I−1)、(I−2)(I−3)で表されるスルホニウム塩の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the sulfonium salt represented by the general formulas (I-1), (I-2) and (I-3) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2005171122
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Figure 2005171122
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一般式(I−1)で表されるスルホニウム塩としてさらに好ましくは下記一般式(T−1)で表されるスルホニウム塩が挙げられる。   More preferred examples of the sulfonium salt represented by the general formula (I-1) include a sulfonium salt represented by the following general formula (T-1).

Figure 2005171122
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式中、RT11、RT12はアルキル基もしくは芳香族基を表し、ZT1は酸素原子または硫黄原子を表し、RT13、RT14は各々アルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、mt1は0から4の整数を表し、nt1およびpt1は各々1から5の整数を表し、XT1は対アニオンを表す。 In the formula, R T11 and R T12 represent an alkyl group or an aromatic group, Z T1 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R T13 and R T14 represent an alkyl group, an aromatic group, an alkoxy group, an aryloxy group, An alkylthio group and an arylthio group are represented, mt1 represents an integer of 0 to 4, nt1 and pt1 each represents an integer of 1 to 5, and XT1 represents a counter anion.

さらに、一般式(T−1)で表されるスルホニウム塩について説明する。   Furthermore, the sulfonium salt represented by the general formula (T-1) will be described.

一般式(T−1)において、RT11、RT12はアルキル基もしくは芳香族基を表し、該アルキル基は直鎖でも分岐を有していても、環状になっていても良く、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、等が挙げられ、該芳香族基としては、芳香族炭化水素環基でも芳香族複素環基でも良く、縮合環を有していても良く、例としては芳香族炭化水素基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、芳香族複素環基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等)、等が挙げられる。上述したアルキル基もしくは芳香族基は、さらに置換基を有していていも良く、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよく、縮合環を有していても良く、該置換基の例としては、上述したアルキル基の他に、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル基等)、芳香族炭化水素基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、複素芳香族基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等)、ヘテロ環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、スルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、2−ピリジルスルフィニル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、フッ化炭化水素基(例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基(例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等)等が挙げられ、これらの置換基は、上記の置換基によってさらに置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。RT11、RT12で表される、アルキル基もしくは芳香族基は、さらに置換基を有していても、有していなくても良いが、好ましくは、無置換のアルキル基もしくは芳香族基であるかまたは、ハロゲン原子が置換したアルキル基もしくは、アルコキシ基が置換した芳香族基であり、より好ましくは、無置換のアルキル基もしくは芳香族基であるかまたは、フッ素原子が置換したアルキル基、または、アルコキシ基が置換した芳香族基であり、フッ素原子が置換したアルキル基の例としてはフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等を挙げることができる。 In the general formula (T-1), R T11 and R T12 each represents an alkyl group or an aromatic group, and the alkyl group may be linear, branched or cyclic, for example, methyl Group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc. The aromatic group may be an aromatic hydrocarbon ring group or an aromatic heterocyclic group, and may have a condensed ring. Examples thereof include an aromatic hydrocarbon group (for example, phenyl group, naphthyl group, etc.), aromatic Group heterocyclic group (for example, furyl group, thienyl group, pyridyl group, pyridazyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, thiazolyl group) Group, benzimidazolyl group, benzoxazolyl group, a quinazolyl group, phthalazyl group), and the like. The alkyl group or aromatic group described above may further have a substituent, and a plurality of these substituents may be bonded to each other to form a ring, or may have a condensed ring. Examples of the substituent include, in addition to the alkyl group described above, an alkenyl group (for example, vinyl group, allyl group, etc.), an alkynyl group (for example, ethynyl group, propargyl group, etc.), an aromatic hydrocarbon group (for example, , Phenyl group, naphthyl group, etc.), heteroaromatic group (for example, furyl group, thienyl group, pyridyl group, pyridazyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, thiazolyl group, benzoimidazolyl group, benzo Oxazolyl group, quinazolyl group, phthalazyl group, etc.), heterocyclic group (for example, pyrrolidyl group, imidazolidyl group, morpholyl group, oxazolyl group) Group), alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, etc.), cycloalkoxy group (eg, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy) Group), aryloxy group (for example, phenoxy group, naphthyloxy group, etc.), alkylthio group (for example, methylthio group, ethylthio group, propylthio group, pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, dodecylthio group, etc.), cycloalkylthio group (For example, cyclopentylthio group, cyclohexylthio group, etc.), arylthio group (for example, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), alkoxycarbonyl group (for example, methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl) Bonyl group, octyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenyloxycarbonyl group, naphthyloxycarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (eg, aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylamino) Sulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, octylaminosulfonyl group, dodecylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), acyl group (for example, Acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, octylcarbonyl group, 2-ethylhexylca Rubonyl group, dodecylcarbonyl group, phenylcarbonyl group, naphthylcarbonyl group, pyridylcarbonyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetyloxy group, ethylcarbonyloxy group, butylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group, dodecylcarbonyloxy group, Phenylcarbonyloxy group, etc.), amide groups (for example, methylcarbonylamino group, ethylcarbonylamino group, dimethylcarbonylamino group, propylcarbonylamino group, pentylcarbonylamino group, cyclohexylcarbonylamino group, 2-ethylhexylcarbonylamino group, octyl) Carbonylamino group, dodecylcarbonylamino group, phenylcarbonylamino group, naphthylcarbonylamino group, etc.), carbamoyl group (for example, aminocarbonyl Group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, octylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group, dodecylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, naphthyl Aminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), ureido group (for example, methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido group, dodecylureido group, phenylureido group, naphthylureido group, 2 -Pyridylaminoureido group, etc.), sulfinyl group (for example, methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, butylsulfinyl group, cyclohexylsulfini) Group, 2-ethylhexylsulfinyl group, dodecylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, naphthylsulfinyl group, 2-pyridylsulfinyl group, etc.), alkylsulfonyl group (for example, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, dodecylsulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group (phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), amino group (for example, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino) Group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, anilino group, naphthylamino group, 2-pyridylamino group, etc.), halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine) Atoms), fluorinated hydrocarbon groups (for example, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, pentafluorophenyl group, etc.), cyano group, nitro group, hydroxy group, mercapto group, silyl group (for example, Trimethylsilyl group, triisopropylsilyl group, triphenylsilyl group, phenyldiethylsilyl group, etc.), and these substituents may be further substituted with the above substituents, and these substituents are A plurality of them may be bonded to each other to form a ring. The alkyl group or aromatic group represented by R T11 or R T12 may or may not have a substituent, but is preferably an unsubstituted alkyl group or aromatic group. Or an alkyl group substituted with a halogen atom or an aromatic group substituted with an alkoxy group, more preferably an unsubstituted alkyl group or an aromatic group, or an alkyl group substituted with a fluorine atom, Alternatively, examples of the alkyl group substituted with an alkoxy group and substituted with a fluorine atom include a fluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, and a pentafluorophenyl group.

T1は酸素原子または硫黄原子を表し、ZT1はスルホニウムイオンが結合したベンゼン環に対して、オルト位もしくはパラ位に結合することが好ましく、パラ位で結合することがより好ましい。RT13、RT14は各々アルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、該アルキル基、芳香族基は上述したRT11、RT12と同義の基を表し、該アルコキシ基、該アリールオキシ基としては、酸素原子に上述したRT11、RT12と同義の基が一箇所結合した基であり、例としてはアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、等が挙げられ、該アルキルチオ基、該アリールチオ基としては、硫黄原子に上述したRT11、RT12と同義の基が一箇所結合した基であり、例としては、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、等が挙げられる。上述した芳香族基、アリールオキシ基、アリールチオ基は、縮合環を有していても良い。上述したアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基はさらに置換基を有していていも良く、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよく、縮合環を有していても良く、該置換基の例としては、上述したRT11の置換基の例と同義の基を挙げることができ、これらの置換基は、さらに置換基によって置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。RT13、RT14で表される、アルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基は、さらに置換基を有していても、有していなくても良いが、好ましくは、無置換のアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基であるかまたは、ハロゲン原子が置換したアルキル基もしくは、アルコキシ基が置換した芳香族基であり、より好ましくは、無置換のアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基であるかまたは、フッ素原子が置換したアルキル基、または、アルコキシ基が置換した芳香族基であり、フッ素原子が置換したアルキル基の例としてはフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等を挙げることができる。 Z T1 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and Z T1 is preferably bonded to the ortho-position or para-position, and more preferably bonded to the para-position, with respect to the benzene ring to which the sulfonium ion is bonded. R T13 and R T14 each represents an alkyl group, an aromatic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group or an arylthio group, and the alkyl group and the aromatic group represent the same groups as R T11 and R T12 described above. , The alkoxy group, and the aryloxy group are groups in which a group having the same meaning as R T11 and R T12 described above is bonded to an oxygen atom at one position, and examples include an alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propyl group). Oxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, pentafluorophenyl group, etc.), cycloalkoxy group (for example, cyclopentyloxy group, Cyclohexyloxy group etc.), aryloxy group (eg phenoxy group, naphthyloxy group etc.), etc. Among these, the alkylthio group, the arylthio group, a R T11 described above to a sulfur atom, R T12 synonymous groups attached thereto one location group, examples, alkylthio group (e.g., methylthio group, ethylthio group Propylthio group, pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, dodecylthio group, etc.), cycloalkylthio group (eg, cyclopentylthio group, cyclohexylthio group, etc.), arylthio group (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), etc. It is done. The aromatic group, aryloxy group, and arylthio group described above may have a condensed ring. The alkyl group, aromatic group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, and arylthio group described above may further have a substituent, and a plurality of these substituents are bonded to each other to form a ring. And may have a condensed ring, and examples of the substituent include the same groups as the examples of the substituent of R T11 described above. These substituents may be substituted, or a plurality of these substituents may be bonded to each other to form a ring. The alkyl group, aromatic group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group and arylthio group represented by R T13 and R T14 may or may not have a substituent. Preferably, it is an unsubstituted alkyl group, an aromatic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, or an alkyl group substituted with a halogen atom or an aromatic group substituted with an alkoxy group, More preferably, it is an unsubstituted alkyl group, aromatic group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, an alkyl group substituted with a fluorine atom, or an aromatic group substituted with an alkoxy group. Examples of alkyl groups substituted by fluorine atoms include fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl Group, and pentafluorophenyl group.

mt1は0から4の整数を表し好ましく0から3であり、より好ましくは0から2であり、nt1およびpt1は各々1から5の整数を表し、各々好ましくは1から3であり、より好ましくは各々1から2である。複数個のRT12、RT13、RT14、は各々、同じでも異なっても良く、RT11とRT12あるいは複数個のRT12同士が結合して環を形成しても良く、RT12とRT13あるいは複数個のRT13同士が結合して環を形成しても良く、RT12とRT14あるいは複数個のRT14同士が結合して環を形成しても良く、RT12とRT14が結合して環を形成しても良い。RT13の少なくとも一つはスルホニウムイオンが結合したベンゼン環に対して、オルト位もしくはパラ位に結合することが好ましく、パラ位で結合することがより好ましい。RT14の少なくとも一つはスルホニウムイオンが結合したベンゼン環に対して、オルト位もしくはパラ位に結合することが好ましく、パラ位で結合することがより好ましい。XT1は対アニオンを表し、該対アニオンとしては、F-、Cl-、Br-などのハロゲンイオン、BF4 -、B(C654 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、などの錯イオン、p−CH364SO3 -、C65SO3 -、CH3SO3 -、CF3SO3 -などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはBF4 -、B(C654 -およびPF6 -が酸発生能力が高く好ましい。 mt1 represents an integer of 0 to 4, preferably 0 to 3, more preferably 0 to 2, and nt1 and pt1 each represents an integer of 1 to 5, each preferably 1 to 3, more preferably Each is 1 to 2. A plurality of R T12, R T13, R T14, each may be the same or different, may be R T11 and R T12 or plural R T12 are bonded to each other to form a ring, R T12 and R may T13 or a plurality of R T13 each other combine to form a ring, may be R T12 and R T14 or plural R T14 are bonded to each other to form a ring, R T12 and R T14 are They may combine to form a ring. At least one of R T13 is preferably bonded to the ortho position or the para position, and more preferably bonded to the para position, with respect to the benzene ring to which the sulfonium ion is bonded. At least one of R T14 is preferably bonded at the ortho-position or para-position, more preferably at the para-position, with respect to the benzene ring to which the sulfonium ion is bonded. X T1 represents a counter anion. Examples of the counter anion include halogen ions such as F , Cl and Br , BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 , PF 6 , AsF 6 and SbF. Examples thereof include complex ions such as 6 , and sulfonate ions such as p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 , C 6 F 5 SO 3 , CH 3 SO 3 , and CF 3 SO 3 . As the counter anion, BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 and PF 6 are preferable because of their high acid generating ability.

以下に、一般式(T−1)で表されるスルホニウム塩の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the sulfonium salt represented by the general formula (T-1) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

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光重合促進剤としては、アントラセン、アントラセン誘導体(例えば、旭電化工業社製のアデカオプトマーSP−100)、フェノチアジン(10H−フェノチアジン)、フェノチアジン誘導体が(例えば、10−メチルフェノチアジン、10−エチルフェノチアジン、10−デシルフェノチアジン、10−アセチルフェノチアジン10−デシルフェノチアジン−5−オキシド、10−デシルフェノチアジン−5,5−ジオキシド、10−アセチルフェノチアジン−5,5−ジオキシド、など)挙げられる。これらの光重合促進剤は1種又は複数を組み合わせて使用することができる。   Examples of the photopolymerization accelerator include anthracene, anthracene derivatives (for example, Adekaoptomer SP-100 manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), phenothiazine (10H-phenothiazine), and phenothiazine derivatives (for example, 10-methylphenothiazine, 10-ethylphenothiazine). 10-decylphenothiazine, 10-acetylphenothiazine, 10-decylphenothiazine-5-oxide, 10-decylphenothiazine-5,5-dioxide, 10-acetylphenothiazine-5,5-dioxide, etc.). These photopolymerization accelerators can be used alone or in combination.

本発明のインクジェットインクには、上記説明した構成要素の他に、各種の添加剤を用いることができる。   In addition to the components described above, various additives can be used in the inkjet ink of the present invention.

本発明のインクジェットインクで用いる色材としては、重合性化合物の主成分に溶解または分散できる色材が使用出来るが、耐候性の点から顔料が好ましい。   As the color material used in the inkjet ink of the present invention, a color material that can be dissolved or dispersed in the main component of the polymerizable compound can be used, but a pigment is preferable from the viewpoint of weather resistance.

本発明で好ましく用いることのできる顔料を、以下に列挙する。   The pigments that can be preferably used in the present invention are listed below.

C.I.Pigment Yellow−1、3、12、13、14、17、81、83、87、95、109、42、
C.I.Pigment Orange−16、36、38、
C.I.Pigment Red−5、22、38、48:1、48:2、48:4、49:1、53:1、57:1、63:1、144、146、185、101、
C.I.Pigment Violet−19、23、
C.I.Pigment Blue−15:1、15:3、15:4、18、60、27、29、
C.I.Pigment Green−7、36、
C.I.Pigment White−6、18、21、
C.I.Pigment Black−7、
上記顔料の分散には、例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、ヘンシェルミキサ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー等を用いることができる。また、顔料の分散を行う際に分散剤を添加することも可能である。分散剤としては、高分子分散剤を用いることが好ましく、高分子分散剤としてはAvecia社のSolsperseシリーズが挙げられる。また、分散助剤として、各種顔料に応じたシナージストを用いることも可能である。これらの分散剤および分散助剤は、顔料100質量部に対し、1〜50質量部添加することが好ましい。
C. I. Pigment Yellow-1, 3, 12, 13, 14, 17, 81, 83, 87, 95, 109, 42,
C. I. Pigment Orange-16, 36, 38,
C. I. Pigment Red-5, 22, 38, 48: 1, 48: 2, 48: 4, 49: 1, 53: 1, 57: 1, 63: 1, 144, 146, 185, 101,
C. I. Pigment Violet-19, 23,
C. I. Pigment Blue-15: 1, 15: 3, 15: 4, 18, 60, 27, 29,
C. I. Pigment Green-7, 36,
C. I. Pigment White-6, 18, 21,
C. I. Pigment Black-7,
For the dispersion of the pigment, for example, a ball mill, sand mill, attritor, roll mill, agitator, Henschel mixer, colloid mill, ultrasonic homogenizer, pearl mill, wet jet mill, paint shaker, or the like can be used. It is also possible to add a dispersant when dispersing the pigment. As the dispersant, a polymer dispersant is preferably used, and examples of the polymer dispersant include Solsperse series manufactured by Avecia. Moreover, it is also possible to use a synergist according to various pigments as a dispersion aid. These dispersants and dispersion aids are preferably added in an amount of 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment.

分散媒体は、溶剤または重合性化合物を用いて行うが、本発明に用いる活性光線硬化型インクでは、インク着弾直後に反応・硬化させるため、無溶剤であることが好ましい。溶剤が硬化画像に残ってしまうと、耐溶剤性の劣化、残留する溶剤のVOCの問題が生じる。よって、分散媒体は溶剤ではなく重合性化合物、その中でも最も粘度の低いモノマーを選択することが分散適性上好ましい。   The dispersion medium is used using a solvent or a polymerizable compound, but the actinic ray curable ink used in the present invention is preferably solventless because it reacts and cures immediately after ink landing. If the solvent remains in the cured image, the solvent resistance deteriorates and the VOC of the remaining solvent arises. Therefore, it is preferable in view of dispersibility that the dispersion medium is not a solvent but a polymerizable compound, and among them, a monomer having the lowest viscosity is selected.

顔料の分散は、顔料粒子の平均粒径を0.08〜0.5μmとすることが好ましく、最大粒径は0.3〜10μm、好ましくは0.3〜3μmとなるよう、顔料、分散剤、分散媒体の選定、分散条件、ろ過条件を適宜設定する。この粒径管理によって、ヘッドノズルの詰まりを抑制し、インクの保存安定性、インク透明性および硬化の感度を維持することができる。   The pigment is preferably dispersed so that the average particle diameter of the pigment particles is 0.08 to 0.5 μm, and the maximum particle diameter is 0.3 to 10 μm, preferably 0.3 to 3 μm. The selection of the dispersion medium, the dispersion conditions, and the filtration conditions are appropriately set. By controlling the particle size, clogging of the head nozzle can be suppressed, and ink storage stability, ink transparency, and curing sensitivity can be maintained.

本発明のインクジェットインクにおいては、色材濃度として、インク全体の1質量%乃至10質量%であることが好ましい。   In the inkjet ink of the present invention, the color material concentration is preferably 1% by mass to 10% by mass with respect to the entire ink.

本発明においては、吐出安定性、保存性を向上させる目的で、熱塩基発生剤も用いることができる。   In the present invention, a thermal base generator can also be used for the purpose of improving ejection stability and storage stability.

熱塩基発生剤としては、例えば、加熱により脱炭酸して分解する有機酸と塩基の塩、分子内求核置換反応、ロッセン転位、ベックマン転位等の反応により分解してアミン類を放出する化合物や、加熱により何らかの反応を起こして塩基を放出するものが好ましく用いられる。具体的には、英国特許第998,949号記載のトリクロロ酢酸の塩、米国特許第4,060,420号に記載のアルファースルホニル酢酸の塩、特開昭59−157637号に記載のプロピール酸類の塩、2−カルボキシカルボキサミド誘導体、特開昭59−168440号に記載の塩基成分に有機塩基の他にアルカリ金属、アルカリ土類金属を用いた熱分解性酸との塩、特開昭59−180537号に記載のロッセン転位を利用したヒドロキサムカルバメート類、加熱によりニトリルを生成する特開昭59−195237号に記載のアルドキシムカルバメート類等が挙げられる。その他、英国特許第998,945号、米国特許第3,220,846号、英国特許第279,480号、特開昭50−22625号、同61−32844号、同61−51139号、同61−52638号、同61−51140号、同61−53634号〜同61−53640号、同61−55644号、同61−55645号等に記載の熱塩基発生剤が有用である。更に具体的に例を挙げると、トリクロロ酢酸グアニジン、トリクロロ酢酸メチルグアニジン、トリクロロ酢酸カリウム、フェニルスルホニル酢酸グアニジン、p−クロロフェニルスルホニル酢酸グアニジン、p−メタンスルホニルフェニルスルホニル酢酸グアニジン、フェニルプロピオール酸カリウム、フェニルプロピオール酸グアニジン、フェニルプロピオール酸セシウム、p−クロロフェニルプロピオール酸グアニジン、p−フェニレン−ビス−フェニルプロピオール酸グアニジン、フェニルスルホニル酢酸テトラメチルアンモニウム、フェニルプロピオール酸テトラメチルアンモニウムがある。上記の熱塩基発生剤は広い範囲で用いることができる。   Examples of the thermal base generator include compounds that release amines by decomposition by reactions such as organic acid and base salts that are decomposed by decarboxylation by heating, intramolecular nucleophilic substitution reaction, Rossen rearrangement, Beckmann rearrangement, etc. Those which cause some kind of reaction by heating and release a base are preferably used. Specifically, the salt of trichloroacetic acid described in British Patent No. 998,949, the salt of alpha-sulfonylacetic acid described in US Pat. No. 4,060,420, and the propionic acids described in JP-A-59-157737 Salts, 2-carboxycarboxamide derivatives, salts with a base component described in JP-A-59-168440 and a thermally decomposable acid using an alkali metal or an alkaline earth metal in addition to an organic base, JP-A-59-180537 Hydroxam carbamates utilizing the Lossen rearrangement described in No. 5, and aldoxime carbamates described in JP-A No. 59-195237 that generate nitriles by heating. In addition, British Patent No. 998,945, US Pat. No. 3,220,846, British Patent No. 279,480, Japanese Patent Laid-Open Nos. 50-22625, 61-32844, 61-51139, 61 The thermal base generators described in Nos. -52638, 61-51140, 61-53634 to 61-53640, 61-55644, 61-55645 and the like are useful. More specifically, guanidine trichloroacetate, methylguanidine trichloroacetate, potassium trichloroacetate, guanidine phenylsulfonylacetate, guanidine p-chlorophenylsulfonylacetate, guanidine p-methanesulfonylphenylsulfonylacetate, potassium phenylpropiolate, phenylpropiool Examples include acid guanidine, cesium phenylpropiolate, guanidine p-chlorophenylpropiolate, guanidine p-phenylene-bis-phenylpropiolate, tetramethylammonium phenylsulfonylacetate, and tetramethylammonium phenylpropiolate. The thermal base generator can be used in a wide range.

本発明のインクは、特開平8−248561号、同9−34106号をはじめとし、既に公知となっている活性光線の照射で発生した酸により新たに酸を発生する酸増殖剤を含有することも可能である。   The ink of the present invention contains an acid proliferating agent that newly generates an acid by an acid generated by irradiation with actinic rays, which is already known, including JP-A-8-248561 and JP-A-9-34106. Is also possible.

本発明のインクジェット用インクは、活性エネルギー線硬化性化合物、顔料分散剤と共に、顔料をサンドミル等の通常の分散機を用いてよく分散することにより製造される。予め、顔料高濃度の濃縮液を調製しておき、活性エネルギー線硬化性化合物で希釈することが好ましい。通常の分散機による分散でも充分な分散が可能であり、このため、過剰な分散エネルギーがかからず、多大な分散時間を必要としないため、インク成分の分散時の変質を招きにくく、安定性に優れたインクが調製される。インクは、孔径3μm以下、更には1μm以下のフィルターにて濾過することが好ましい。   The ink-jet ink of the present invention is produced by well dispersing the pigment together with an active energy ray-curable compound and a pigment dispersant using an ordinary dispersing machine such as a sand mill. It is preferable to prepare a concentrated solution having a high pigment concentration in advance and dilute with an active energy ray-curable compound. Sufficient dispersion is possible even with dispersion by a normal disperser, so it does not take excessive dispersion energy and does not require a great amount of dispersion time. Ink excellent in the quality is prepared. The ink is preferably filtered through a filter having a pore diameter of 3 μm or less, more preferably 1 μm or less.

本発明のインクジェット用インクは、25℃での粘度が5〜50mPa・sと高めに調整することが好ましい。25℃での粘度が5〜50mPa・sのインクは、特に通常の4〜10KHzの周波数を有するヘッドから、10〜50KHzの高周波数のヘッドにおいても安定した吐出特性を示す。粘度が5mPa・s未満の場合は、高周波数のヘッドにおいて、吐出の追随性の低下が認められ、50mPa・sを越える場合は、加熱による粘度の低下機構をヘッドに組み込んだとしても吐出特性そのものの低下を生じ、吐出の安定性が不良となり、全く吐出できなくなる。   The ink-jet ink of the present invention is preferably adjusted to have a high viscosity at 25 ° C. of 5 to 50 mPa · s. An ink having a viscosity of 5 to 50 mPa · s at 25 ° C. exhibits stable ejection characteristics even from a head having a normal frequency of 4 to 10 KHz to a head having a high frequency of 10 to 50 KHz. When the viscosity is less than 5 mPa · s, a decrease in the followability of the discharge is recognized in the high-frequency head, and when it exceeds 50 mPa · s, the discharge characteristic itself even if a mechanism for reducing the viscosity by heating is incorporated in the head. Drop, the stability of the discharge becomes poor, and it becomes impossible to discharge at all.

また、本発明のインクジェット用インクは、ピエゾヘッドにおいては、10μS/cm以下の電導度とし、ヘッド内部での電気的な腐食のないインクとすることが好ましい。また、コンティニュアスタイプにおいては、電解質による電導度の調整が必要であり、この場合には、0.5mS/cm以上の電導度に調整する必要がある。   The ink-jet ink of the present invention preferably has a conductivity of 10 μS / cm or less in a piezo head and does not cause electrical corrosion inside the head. Further, in the continuous type, it is necessary to adjust the electric conductivity by the electrolyte. In this case, it is necessary to adjust the electric conductivity to 0.5 mS / cm or more.

本発明においては、インクの25℃における表面張力が、25〜40mN/mの範囲にあることが好ましい。25℃におけるインクの表面張力が25mN/m未満では、安定した出射が得られにくく、また40mN/mを越えると所望のドット径を得ることができない。25〜40mN/mの範囲外では、本発明のように、インクの粘度や含水率を制御しながら出射、光照射しても、様々な支持体に対して均一なドット径を得ることが困難となる。   In the present invention, the surface tension of the ink at 25 ° C. is preferably in the range of 25 to 40 mN / m. If the surface tension of the ink at 25 ° C. is less than 25 mN / m, stable emission is difficult to obtain, and if it exceeds 40 mN / m, a desired dot diameter cannot be obtained. Outside the range of 25 to 40 mN / m, it is difficult to obtain uniform dot diameters for various supports even when the light is emitted and irradiated with light while controlling the viscosity and moisture content of the ink as in the present invention. It becomes.

表面張力を調整するために、必要に応じて、界面活性剤を含有させてもよい。本発明に係るインクに好ましく使用される界面活性剤としては、例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第4級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤、重合性基を有する界面活性化合物などが挙げられる。これらの中で特に、シリコーン変性アクリレート、フッ素変性アクリレート、シリコーン変性エポキシ、フッ素変性エポキシ、シリコーン変性オキセタン、フッ素変性オキセタンなど、不飽和結合やオキシラン、オキセタン環など重合性基を有する界面活性化合物が好ましい。   In order to adjust the surface tension, a surfactant may be contained as necessary. Examples of the surfactant preferably used in the ink according to the present invention include anionic surfactants such as dialkylsulfosuccinates, alkylnaphthalenesulfonates, and fatty acid salts, polyoxyethylene alkyl ethers, and polyoxyethylene alkyl. Nonionic surfactants such as allyl ethers, acetylene glycols, polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers, cationic surfactants such as alkylamine salts and quaternary ammonium salts, and surfactants having a polymerizable group Compound etc. are mentioned. Of these, particularly preferred are surface active compounds having a polymerizable group such as an unsaturated bond, oxirane, or oxetane ring, such as silicone-modified acrylate, fluorine-modified acrylate, silicone-modified epoxy, fluorine-modified epoxy, silicone-modified oxetane, and fluorine-modified oxetane. .

本発明のインクには、上記説明した以外に様々な添加剤を用いることができる。例えば、レベリング添加剤、マット剤、膜物性を調整するためのポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類を添加することが出来る。記録媒体との密着性を改善するため、極微量の有機溶剤を添加することも有効である。この場合、耐溶剤性やVOCの問題が起こらない範囲での添加が有効であり、その使用量は0.1〜5%の範囲であり、好ましくは0.1〜3%である。また、ラジカル重合性モノマーと開始剤を組み合わせ、ラジカル・カチオンのハイブリッド型硬化インクとすることも可能である。   Various additives other than those described above can be used in the ink of the present invention. For example, leveling additives, matting agents, polyester resins for adjusting film properties, polyurethane resins, vinyl resins, acrylic resins, rubber resins, and waxes can be added. In order to improve the adhesion with the recording medium, it is also effective to add a trace amount of organic solvent. In this case, it is effective to add in the range where the solvent resistance and VOC problems do not occur, and the amount used is in the range of 0.1 to 5%, preferably 0.1 to 3%. It is also possible to combine a radically polymerizable monomer and an initiator into a radical / cation hybrid type curable ink.

本発明の画像形成方法においては、インク組成物をインクジェット記録方式により記録材料上に吐出、描画し、次いで紫外線などの活性光線を照射してインクを硬化させる。   In the image forming method of the present invention, the ink composition is ejected and drawn on a recording material by an ink jet recording method, and then the ink is cured by irradiation with an actinic ray such as ultraviolet rays.

本発明の画像形成方法においては、インク出射時にはインクをインクジェットノズルごと加温し、インク液を低粘度させることが好ましい。加熱温度としては、30〜80℃、好ましくは35〜60℃である。   In the image forming method of the present invention, it is preferable that the ink is heated together with the ink jet nozzles during ink ejection so that the ink liquid has a low viscosity. As heating temperature, it is 30-80 degreeC, Preferably it is 35-60 degreeC.

本発明において、インクが着弾し、活性光線を照射して硬化した後の総インク膜厚が2〜20μmであることが好ましい。スクリーン印刷分野の活性光線硬化型インクジェット記録では、総インク膜厚が20μmを越えているのが現状であるが、記録材料が薄いプラスチック材料であることが多い軟包装印刷分野では、前述した記録材料のカール・しわの問題でだけでなく、印刷物全体のこし・質感が変わってしまうという問題が有るため使えない。また、本発明では、各ノズルより吐出する液滴量が2〜15plであることが好ましい。   In the present invention, the total ink film thickness after the ink has landed and cured by irradiation with actinic rays is preferably 2 to 20 μm. In the actinic ray curable inkjet recording in the screen printing field, the total ink film thickness currently exceeds 20 μm, but in the flexible packaging printing field where the recording material is often a thin plastic material, the recording material described above is used. Not only because of curling and wrinkling problems, but also because it has the problem of changing the texture and texture of the entire printed matter. Moreover, in this invention, it is preferable that the amount of droplets discharged from each nozzle is 2 to 15 pl.

本発明においては、高精細な画像を形成するためには、照射タイミングができるだけ早い方が好ましいが、本発明においては、インクの粘度または含水率が好ましい状態となるタイミングで光照射を開始することが好ましい。   In the present invention, in order to form a high-definition image, it is preferable that the irradiation timing is as early as possible. However, in the present invention, the light irradiation is started at a timing at which the viscosity or water content of the ink is in a preferable state. Is preferred.

詳しくは、発生光線の照射条件として、インク着弾後0.001〜2.0秒の間に活性光線照射を開始することが好ましく、より好ましくは0.001〜0.4秒である。また、0.1〜3秒後、好ましくは0.2〜1秒以内に、インクの流動性が失われる程度まで光照射を行なった後、終了させることが好ましい。上記条件とすることにより、ドット径の拡大やドット間の滲みを防止することができる。   Specifically, as the irradiation condition of the generated light, actinic light irradiation is preferably started within 0.001 to 2.0 seconds after ink landing, and more preferably 0.001 to 0.4 seconds. Also, it is preferable to terminate the light irradiation after 0.1 to 3 seconds, preferably within 0.2 to 1 second, until the ink fluidity is lost. By setting it as the above condition, enlargement of the dot diameter and bleeding between the dots can be prevented.

活性光線の照射方法として、その基本的な方法が特開昭60−132767号に開示されている。これによると、記録ヘッドユニットの両側に光源を設け、シャトル方式で記録ヘッドと光源を走査する。照射は、インク着弾後、一定時間を置いて行われることになる。更に、駆動を伴わない別光源によって硬化を完了させる。米国特許第6,145,979号では、照射方法として、光ファイバーを用いた方法や、コリメートされた光源を記録ヘッドユニット側面に設けた鏡面に当て、記録部へUV光を照射する方法が開示されている。本発明の画像形成方法においては、これらのいずれの照射方法も用いることができる。   As a method for irradiating actinic rays, the basic method is disclosed in JP-A-60-132767. According to this, the light source is provided on both sides of the recording head unit, and the recording head and the light source are scanned by the shuttle method. Irradiation is performed after a certain period of time after ink landing. Further, the curing is completed by another light source that is not driven. In US Pat. No. 6,145,979, as an irradiation method, a method using an optical fiber or a method of applying a collimated light source to a mirror surface provided on the side surface of a recording head unit and irradiating the recording unit with UV light is disclosed. ing. Any of these irradiation methods can be used in the image forming method of the present invention.

また、活性光線を照射を2段階に分け、まずインク着弾後0.001〜2.0秒の間に前述の方法で活性光線を照射し、かつ、全印字終了後、更に活性光線を照射する方法も好ましい態様の1つである。活性光線の照射を2段階に分けることで、よりインク硬化の際に起こる記録材料の収縮を抑えることが可能となる。   In addition, irradiation with actinic rays is divided into two stages. First, actinic rays are irradiated by the above-described method within 0.001 to 2.0 seconds after ink landing, and further, actinic rays are irradiated after all printing is completed. The method is also a preferred embodiment. By dividing the irradiation of actinic rays into two stages, it is possible to further suppress the shrinkage of the recording material that occurs during ink curing.

活性光線照射で用いる光源の例としては、水銀アークランプ、キセノンアークランプ、螢光ランプ、炭素アークランプ、タングステン−ハロゲン複写ランプ高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極UVランプ、低圧水銀ランプ、UVレーザー、キセノンフラッシュランプ、捕虫灯、ブラックライト、殺菌灯、冷陰極管、LEDをなどがあるが、これらに限定されないが、この中でも蛍光管が低エネルギー・低コストであり、好ましい。光源波長としては250〜370nm、好ましくには270〜320nmに発光波長のピークがある光源が、感度の点で好ましい。照度は、1〜3000mW/cm2、好ましくは1〜200mW/cm2である。また、電子線により硬化させる場合には、通常300eVの以下のエネルギーの電子線で硬化させるが、1〜5Mradの照射量で瞬時に硬化させることも可能である。 Examples of light sources used for actinic ray irradiation include mercury arc lamps, xenon arc lamps, fluorescent lamps, carbon arc lamps, tungsten-halogen copying lamps, high pressure mercury lamps, metal halide lamps, electrodeless UV lamps, low pressure mercury lamps, and UV lasers. , Xenon flash lamps, insect traps, black lights, germicidal lamps, cold cathode tubes, LEDs, and the like, but are not limited to these. Among these, fluorescent tubes are preferred because of their low energy and low cost. A light source having a light emission wavelength peak at 250 to 370 nm, preferably 270 to 320 nm is preferable in terms of sensitivity. The illuminance is 1 to 3000 mW / cm 2 , preferably 1 to 200 mW / cm 2 . In addition, in the case of curing with an electron beam, the curing is usually performed with an electron beam having an energy of 300 eV or less, but it is also possible to cure instantaneously with an irradiation amount of 1 to 5 Mrad.

本発明のインクジェット用インクを用いて、被記録媒体(基材ともいう)への画像印字を行うが、被記録媒体としては、従来各種の用途で使用されている広汎な合成樹脂を全て用いることができ、具体的には、例えば、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリウレタン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブタジエンテレフタレート等が挙げられ、これらの合成樹脂基材の厚みや形状は何ら限定されない。   The inkjet ink of the present invention is used to print an image on a recording medium (also referred to as a base material). As the recording medium, all of a wide range of conventional synthetic resins used in various applications are used. Specific examples include polyester, polyvinyl chloride, polyethylene, polyurethane, polypropylene, acrylic resin, polycarbonate, polystyrene, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, polyethylene terephthalate, polybutadiene terephthalate, and the like. The thickness and shape of the synthetic resin base material are not limited at all.

本発明で用いることのできる基材としては、通常の非コート紙、コート紙などの他に、非吸収性支持体を用いることができるが、その中でも、基材として非吸収性支持体を用いることが好ましい。   As a base material that can be used in the present invention, a non-absorbent support can be used in addition to normal uncoated paper, coated paper, etc. Among them, a non-absorbent support is used as the base material. It is preferable.

本発明においては、非吸収性支持体としては、各種非吸収性のプラスチックおよびそのフィルムを用いることができ、各種プラスチックフィルムとしては、例えば、PETフィルム、OPSフィルム、OPPフィルム、ONyフィルム、PVCフィルム、PEフィルム、TACフィルムを挙げることができる。その他のプラスチックとしては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ABS、ポリアセタール、PVA、ゴム類などが使用できる。また、金属類や、ガラス類にも適用可能である。これらの記録材料の中でも、特に熱でシュリンク可能な、PETフィルム、OPSフィルム、OPPフィルム、ONyフィルム、PVCフィルムへ画像を形成する場合に本発明の構成は、有効となる。これらの基材は、インクの硬化収縮、硬化反応時の発熱などにより、フィルムのカール、変形が生じやすいばかりでなく、インク膜が基材の収縮に追従し難い。   In the present invention, various non-absorbing plastics and films thereof can be used as the non-absorbing support. Examples of the various plastic films include PET film, OPS film, OPP film, ONy film, and PVC film. , PE film, and TAC film. As other plastics, polycarbonate, acrylic resin, ABS, polyacetal, PVA, rubbers and the like can be used. Moreover, it is applicable also to metals and glass. Among these recording materials, the structure of the present invention is effective particularly when an image is formed on a PET film, an OPS film, an OPP film, an ONy film, or a PVC film that can be shrunk by heat. These substrates are not only susceptible to curling and deformation of the film due to ink curing shrinkage and heat generation during the curing reaction, but also the ink film is difficult to follow the substrate shrinkage.

これら、各種プラスチックフィルムの表面エネルギーは大きく異なり、記録材料によってインク着弾後のドット径が変わってしまうことが、従来から問題となっていた。本発明の構成では、表面エネルギーの低いOPPフィルム、OPSフィルムや表面エネルギーの比較的大きいPETまでを含むが、基材として、濡れ指数が40〜60mN/mであることが好ましい。   The surface energies of these various plastic films differ greatly, and it has been a problem in the past that the dot diameter after ink landing varies depending on the recording material. The constitution of the present invention includes an OPP film having a low surface energy, an OPS film, and a PET having a relatively large surface energy, but the substrate preferably has a wetting index of 40 to 60 mN / m.

本発明において、包装の費用や生産コスト等の記録材料のコスト、プリントの作製効率、各種のサイズのプリントに対応できる等の点で、長尺(ウェブ)な記録材料を使用する方が有利である。   In the present invention, it is more advantageous to use a long (web) recording material in terms of the cost of the recording material such as packaging cost and production cost, the production efficiency of the print, and the ability to cope with printing of various sizes. is there.

以下、本発明を実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated concretely, the embodiment of this invention is not limited to these.

実施例1
《活性エネルギー線硬化組成物の調製》
下記の組成からなる活性エネルギー線硬化組成物101を調製した。
Example 1
<< Preparation of Active Energy Ray Curing Composition >>
An active energy ray-curable composition 101 having the following composition was prepared.

〈オキセタン化合物1〉
例示化合物 OT−1 15質量部
〈オキセタン化合物2〉
オキセタンA 80質量部
〈光酸発生剤〉
例示化合物例 TAS−1 5質量部
上記活性エネルギー線硬化組成物101のオキセタン化合物1、オキセタン化合物2、光酸発生剤を表1に記載の化合物に変更して、活性エネルギー線硬化組成物102〜127を調製した。
<Oxetane compound 1>
Exemplified Compound OT-1 15 parts by mass <Oxetane Compound 2>
Oxetane A 80 parts by mass <Photoacid generator>
Example Compound Example TAS-1 5 parts by mass The active energy ray-curable composition 102 to the active energy ray-curable composition 101 is changed to the compounds shown in Table 1 by changing the oxetane compound 1, the oxetane compound 2 and the photoacid generator of the active energy ray-curable composition 101 to 127 was prepared.

Figure 2005171122
Figure 2005171122

表1に記載の各化合物の詳細を、以下に示す。   The detail of each compound described in Table 1 is shown below.

〈光開始剤〉
SP−152:トリフェニルスルホニウム塩(アデカオプトマーSP−152旭電化社製)
UVI−6990:トリフェニルスルホニウム塩(サイラキュアUVI6990ユニオンカーバイド社製)
〈オキセタン環含有化合物〉
OXT−221:ジ〔1−エチル(3−オキセタニル)〕メチルエーテル(東亞合成社製)
オキセタンA:2−(4−メトキシ−フェニル)−3,3−ジメチル−オキセタン(特開2001−181386号公報に記載のオキセタン)
得られた活性エネルギー線硬化組成物1gをPETフィルム上に塗布し、308nmに主ピークを持つ蛍光管を光源に用いて、光源直下、照度が10mW/cm2、120秒間照射を行ない、得られた硬化組成物の粘性の変化を官能評価した。
<Photoinitiator>
SP-152: Triphenylsulfonium salt (Adekaoptomer SP-152 manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.)
UVI-6990: Triphenylsulfonium salt (manufactured by Cyracure UVI6990 Union Carbide)
<Oxetane ring-containing compound>
OXT-221: Di [1-ethyl (3-oxetanyl)] methyl ether (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
Oxetane A: 2- (4-methoxy-phenyl) -3,3-dimethyl-oxetane (oxetane described in JP-A No. 2001-181386)
1 g of the obtained active energy ray-curable composition was applied onto a PET film, and a fluorescent tube having a main peak at 308 nm was used as a light source. Irradiation was 10 mW / cm 2 under a light source for 120 seconds. The change in viscosity of the cured composition was sensory evaluated.

露光は低湿環境(25℃、20%RH)及び高湿環境(25℃、80%RH)にて行った。   Exposure was performed in a low humidity environment (25 ° C., 20% RH) and a high humidity environment (25 ° C., 80% RH).

粘性の変化は、光未照射塗膜と光照射後の塗膜を金属スパチュラで触り、実験者の触感から判定した。「固体化」とは固体状の塗膜が形成したことを示し、「増粘した」とは、光未照射塗膜と光照射後の塗膜で明らかに粘性に差があることを示し、「わずかに増粘した」とは光未照射塗膜と光照射後の塗膜で粘性にわずかに差があることを示し、「増粘せず」とは光未照射塗膜と光照射後の塗膜で触感に有意な差が見られなかったことを示す。結果を表1に示す。表から明らかなように、本発明の活性エネルギー線硬化組成物は、環境湿度の変動によらず、重合が進行していることがわかる。   The change in viscosity was judged from the tactile sensation of the experimenter by touching the non-light-irradiated coating film and the coating film after the light irradiation with a metal spatula. "Solidification" indicates that a solid coating was formed, and "Thickened" indicates that there is a clear difference in viscosity between the unirradiated coating and the coating after irradiation. “Slightly thickened” means that there is a slight difference in viscosity between the light-unirradiated film and the film after light-irradiation. This indicates that no significant difference was found in the tactile sensation of the coating film. The results are shown in Table 1. As is apparent from the table, it can be seen that the active energy ray-curable composition of the present invention undergoes polymerization regardless of the environmental humidity fluctuation.

実施例2
《インクジェットインクの調製》
(マゼンタインク1の調製)
下記の組成からなるマゼンタインク1を調製した。マゼンタインク1は、光酸発生剤を除く各組成物を、サンドグラインダーを用いて4時間分散した後、光酸発生剤を添加し、0.8μmのメンブランフィルターで濾過を行った後、50℃に加熱しながら減圧脱水を行って調製した。
Example 2
<Preparation of inkjet ink>
(Preparation of magenta ink 1)
Magenta ink 1 having the following composition was prepared. The magenta ink 1 was prepared by dispersing each composition excluding the photoacid generator for 4 hours using a sand grinder, adding the photoacid generator, and filtering through a 0.8 μm membrane filter, and then at 50 ° C. The solution was prepared by dehydration under reduced pressure while heating.

C.I.ピグメントレッド184 3質量部
オキセタンA 20質量部
OXT−221 80質量部
ソルスパース24000(Avecia社製) 1質量部
UVI−6990 5質量部
(インク2〜20の調製)
顔料、エポキシ化合物、オキセタン含有化合物、光開始剤を以下に示す表2に記載したような構成に変更した以外はインク1と同様に調製して本発明の活性エネルギー線硬化型のインクジェット用インクであるインク2〜20を得た。
C. I. Pigment Red 184 3 parts by mass Oxetane A 20 parts by mass OXT-221 80 parts by mass Solsperse 24000 (manufactured by Avecia) 1 part by mass UVI-6990 5 parts by mass (preparation of inks 2 to 20)
The active energy ray-curable inkjet ink of the present invention was prepared in the same manner as ink 1 except that the pigment, epoxy compound, oxetane-containing compound, and photoinitiator were changed to the configuration shown in Table 2 below. Some inks 2-20 were obtained.

Figure 2005171122
Figure 2005171122

表2に記載の各化合物の詳細を、以下に示す。   The detail of each compound described in Table 2 is shown below.

〈顔料〉
P0:C.I.ピグメントレッド184
P1:粗製銅フタロシアニン(東洋インク製造社製「銅フタロシアニン」)の250部、塩化ナトリウムの2500部及びポリエチレングリコール(東京化成社製「ポリエチレングリコール300」)の160部を、ステンレス製4.55L(1ガロン)のニーダー(井上製作所社製)に仕込み、3時間混練した。次に、この混合物を2.5リットルの温水に投入し、約80℃に加熱しながらハイスピードミキサーで約1時間攪拌しスラリー状とした後、濾過、水洗を5回繰り返して塩化ナトリウムおよび溶剤を除き、次いでスプレードライをして乾燥して顔料P1を得た。
<Pigment>
P0: C.I. I. Pigment Red 184
P1: 250 parts of crude copper phthalocyanine (“Copper phthalocyanine” manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.), 2500 parts of sodium chloride and 160 parts of polyethylene glycol (“Polyethylene glycol 300” manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 1 gallon) kneader (manufactured by Inoue Seisakusho) was kneaded for 3 hours. Next, this mixture is poured into 2.5 liters of warm water, heated to about 80 ° C. and stirred for about 1 hour with a high speed mixer to form a slurry, followed by filtration and water washing 5 times to repeat sodium chloride and solvent And then dried by spray drying to obtain Pigment P1.

P2:キナクリドン系赤顔料(Ciba Geigy社製「シンカシアマゼンタRT−355−D」)の250部、塩化ナトリウムの2500部及び「ポリエチレングリコール300」の160部を、ステンレス製4.55L(1ガロン)ニーダーに仕込み、P1と同様にして顔料P2を得た。   P2: 250 parts of quinacridone red pigment (“Cincacia Magenta RT-355-D” manufactured by Ciba Geigy), 2500 parts of sodium chloride, and 160 parts of “polyethylene glycol 300” were 4.55 L (1 gallon) made of stainless steel. ) The mixture was charged into a kneader, and pigment P2 was obtained in the same manner as P1.

〈エポキシ化合物〉
セロキサイド3000:脂環式エポキシ(ダイセルUCB社製)=EP−27
セロキサイド2021P:脂環式エポキシ(ダイセルUCB社製)=EP−1
〈光開始剤〉
《インクジェット画像記録及び評価》
上記調製した各マゼンタインクを用いて、下記の方法に従って画像記録及び得られた画像の評価を行った。
<Epoxy compound>
Celoxide 3000: Alicyclic epoxy (manufactured by Daicel UCB) = EP-27
Celoxide 2021P: Alicyclic epoxy (manufactured by Daicel UCB) = EP-1
<Photoinitiator>
<< Inkjet image recording and evaluation >>
Using the magenta inks prepared as described above, image recording and evaluation of the obtained images were performed according to the following methods.

〔画像評価A〕
(画像記録)
得られた各マゼンタインクを、液滴サイズ7plが得られるピエゾタイプのインクジェットノズル(ノズルピッチ360dpi、本発明でいうdpiとは2.54cm当たりのドット数を表す)を、ノズル部分を50℃に加熱制御し、コロナ処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを基材として用いて出射し、マゼンタベタ画像と6ポイントMS明朝体文字を印字した。光源は、308nmに主ピークを持つ蛍光管を用い、光源直下、基材面の照度が10mW/cm2の条件で、着弾後0.2秒後に露光を開始し、0.7秒後に露光を終了させた。
[Image Evaluation A]
(Image recording)
Piezo-type inkjet nozzles (nozzle pitch 360 dpi, dpi as used in the present invention represents the number of dots per 2.54 cm) for each magenta ink obtained to obtain a droplet size of 7 pl, and the nozzle portion at 50 ° C. Heat-controlled, corona-treated polyethylene terephthalate film was used as a base material and emitted, and a magenta solid image and a 6-point MS Mincho font were printed. The light source is a fluorescent tube having a main peak at 308 nm. Under the condition that the illuminance of the substrate surface is 10 mW / cm 2 directly under the light source, the exposure starts 0.2 seconds after landing and the exposure is 0.7 seconds later. Ended.

なお、露光エネルギーは5mJ/cm2であった。この画像印字を低湿環境(25℃、20%RH)及び高湿環境(25℃、80%RH)にて行った。 The exposure energy was 5 mJ / cm 2 . This image printing was performed in a low humidity environment (25 ° C., 20% RH) and a high humidity environment (25 ° C., 80% RH).

(画像の評価)
以上のようにして得られた各画像について、下記の評価を行った。
(Image evaluation)
The following evaluation was performed on each image obtained as described above.

〈インク硬化性の評価〉
各環境下で形成した印字画像について、下記の基準に則りインク硬化性の評価を行った。
<Evaluation of ink curability>
For the printed images formed under each environment, the ink curability was evaluated according to the following criteria.

○:露光終了直後に触っても画像はタッキネスがない
△:露光終了直後に触ると画像はタッキネスが若干あるが、1分後にはタッキネスが無くなる
×:露光終了1分後でもタッキネスが残る
〈基材接着性の評価〉
各環境下で形成したベタ画像上に、幅25mmのセロテープ(R)を貼り付けて強く圧着した後、90度の剥離角度で素早く剥離し、剥離後の画像の状態を目視観察し、下記の基準に則り基材接着性の評価を行った。
○: The image has no tackiness even when touched immediately after the exposure is finished. Δ: The image has a slight tackiness when touched immediately after the exposure is finished, but the tackiness disappears after 1 minute. ×: The tackiness remains even after 1 minute after the exposure. Evaluation of material adhesion>
A solid tape (R) with a width of 25 mm was applied to the solid image formed in each environment and strongly pressed, and then quickly peeled off at a peeling angle of 90 degrees, and the state of the image after peeling was visually observed, The substrate adhesion was evaluated according to the standard.

○:テープ剥離でも画像は剥がれない
△:テープ剥離で画像が一部剥がれる
×:テープ剥離で画像が全て剥がれる
〈画像滲み耐性の評価〉
各環境下で形成した6ポイントMS明朝体文字をルーペで観察し、隣り合うドットの状態を観察し、下記の基準に則り画像滲み耐性の評価を行った。
○: The image is not peeled even when the tape is peeled △: The image is peeled off partly by the tape peeling ×: The whole image is peeled off by the tape peeling <Evaluation of image bleeding resistance>
The 6-point MS Mincho characters formed under each environment were observed with a loupe, the state of adjacent dots was observed, and image blur resistance was evaluated according to the following criteria.

○:2ドット間の滲みが殆どない
△:2ドット間の滲みが僅かに見られる
×:ドットが大きく滲む
以上により得られた結果を表3に示す。
◯: There is almost no bleeding between two dots. Δ: Slight bleeding between two dots is observed. X: The dots are greatly blurred Table 3 shows the results obtained as described above.

Figure 2005171122
Figure 2005171122

〔画像評価B〕
上記画像評価Aにおいて、インクを印字した後の露光照射開始時間を0.6秒に、また露光照射終了時間を1.1秒後に変更した以外は、同様にして、画像記録及び評価を行った。露光時間、露光エネルギーは画像評価Aと同じくそれぞれ0.5秒間、5mJ/cm2であった。得られた結果を表4に示す。
[Image Evaluation B]
In the image evaluation A, image recording and evaluation were performed in the same manner except that the exposure irradiation start time after printing the ink was changed to 0.6 seconds and the exposure irradiation end time was changed after 1.1 seconds. . The exposure time and exposure energy were 5 mJ / cm 2 for 0.5 seconds, respectively, as in image evaluation A. Table 4 shows the obtained results.

Figure 2005171122
Figure 2005171122

表1〜表4より明らかなように、本発明の二官能オキセタン化合物を含有する活性エネルギー線硬化組成物は、比較例に対し、環境湿度に影響を受けずに硬化し、この活性エネルギー線硬化組成物を用いたインクジェット用インク組成物は高湿環境下や様々な露光環境でも優れたインク硬化性、基材密着性に優れ、滲みのない高品位の画像を得られることが分かる。   As is clear from Tables 1 to 4, the active energy ray-curable composition containing the bifunctional oxetane compound of the present invention is cured without being affected by the environmental humidity compared to the comparative example, and this active energy ray curing is performed. It can be seen that the ink-jet ink composition using the composition is excellent in ink curability and substrate adhesion even in a high humidity environment and in various exposure environments, and can obtain a high-quality image without bleeding.

Claims (14)

下記一般式(OT−I)で表されるオキセタン化合物を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化組成物。
Figure 2005171122
〔上記一般式(OT−I)において、LT1は酸素原子、硫黄原子、−CRT111(RT112)−を表し、RT101〜RT112は水素原子または置換基を表し、pT1は0または1、qT1、rT1は0から3を表す。〕
An active energy ray-curable composition comprising an oxetane compound represented by the following general formula (OT-I).
Figure 2005171122
[In the above general formula (OT-I), L T1 represents an oxygen atom, a sulfur atom, —CR T111 (R T112 ) —, R T101 to R T112 represent a hydrogen atom or a substituent, and p T1 represents 0 or 1, q T1 and r T1 represent 0 to 3; ]
T101,RT102,RT105,RT106の少なくとも一箇所以上に置換基を有することを特徴とする請求項1に記載の活性エネルギー線硬化組成物。 2. The active energy ray-curable composition according to claim 1, which has a substituent at at least one of R T101 , R T102 , R T105 , and R T106 . T101,RT102,RT105,RT106が置換もしくは無置換のアルキル基であることを特徴とする請求項2に記載の活性エネルギー線硬化組成物。 The active energy ray-curable composition according to claim 2, wherein R T101 , R T102 , R T105 , and R T106 are substituted or unsubstituted alkyl groups. 活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化組成物。 The active energy ray-curable composition according to any one of claims 1 to 3, comprising a compound that generates an acid upon irradiation with an active energy ray. 活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物がオニウム塩化合物であることを特徴とする請求項4に記載の活性エネルギー線硬化組成物。 5. The active energy ray-curable composition according to claim 4, wherein the compound that generates an acid upon irradiation with active energy rays is an onium salt compound. 活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物がスルホニウム塩化合物であることを特徴とする請求項5に記載の活性エネルギー線硬化組成物。 6. The active energy ray-curable composition according to claim 5, wherein the compound that generates an acid upon irradiation with active energy rays is a sulfonium salt compound. スルホニウム塩化合物が下記一般式(I−1)、(I−2)または(I−3)で表されることを特徴とする請求項6に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
Figure 2005171122
〔式中、R11、R12、R13は置換基を表し、m、n、pは0〜5の整数を表す。X11 -は対イオンを表す。〕
Figure 2005171122
〔式中、R14は置換基を表し、qは0〜2の整数を表す。R15、R16は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。X12 -は対イオンを表す。〕
Figure 2005171122
〔式中、R17は置換基を表し、rは0〜3の整数を表す。R18は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、R19、R20は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。X13 -は対イオンを表す。〕
The active energy ray-curable composition according to claim 6, wherein the sulfonium salt compound is represented by the following general formula (I-1), (I-2) or (I-3).
Figure 2005171122
[Wherein R 11 , R 12 and R 13 represent substituents, and m, n and p each represents an integer of 0 to 5. X 11 represents a counter ion. ]
Figure 2005171122
Wherein, R 14 represents a substituent, q is an integer of 0 to 2. R 15 and R 16 each represents a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. X 12 represents a counter ion. ]
Figure 2005171122
[Wherein, R 17 represents a substituent, and r represents an integer of 0 to 3. R 18 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 19 and R 20 represent a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, or a substituted or unsubstituted group. Represents a substituted aryl group. X 13 - is a counter ion. ]
前記一般式(I−1)で表されるスルホニウム塩化合物が下記一般式(T−1)で表されることを特徴とする請求項7に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
Figure 2005171122
(式中、RT11、RT12はアルキル基もしくは芳香族基を表し、ZT1は酸素原子または硫黄原子を表し、RT13、RT14は各々アルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、mt1は0から4の整数を表し、nt1およびpt1は各々1から5の整数を表し、XT1は対アニオンを表す。)
The active energy ray-curable composition according to claim 7, wherein the sulfonium salt compound represented by the general formula (I-1) is represented by the following general formula (T-1).
Figure 2005171122
(In the formula, R T11 and R T12 represent an alkyl group or an aromatic group, Z T1 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R T13 and R T14 represent an alkyl group, an aromatic group, an alkoxy group, and an aryloxy group, respectively. , An alkylthio group and an arylthio group, mt1 represents an integer of 0 to 4, nt1 and pt1 each represents an integer of 1 to 5, and X T1 represents a counter anion.)
インクジェット方式により被記録媒体に画像形成するインクジェット用インク組成物において、請求項1〜8のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化組成物を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。 An inkjet ink composition for forming an image on a recording medium by an inkjet method, comprising the active energy ray-curable composition according to any one of claims 1 to 8. 2位に置換基を有さないオキセタン化合物を含有することを特徴とする請求項9に記載のインクジェット用インク組成物。 The inkjet ink composition according to claim 9, comprising an oxetane compound having no substituent at the 2-position. エポキシ化合物またはビニルエーテル化合物を含有することを特徴とする請求項9又は10に記載のインクジェット用インク組成物。 The ink composition for inkjet according to claim 9 or 10, comprising an epoxy compound or a vinyl ether compound. 2位に置換基を有さないオキセタン化合物を50質量部〜80質量部、エポキシ化合物を0質量部〜50質量部、一般式(OT−I)で表されるオキセタン化合物の少なくとも1種を1質量部〜20質量部含有することを特徴とする請求項9〜11のいずれか1項に記載のインクジェット用インク組成物。 50 parts by mass to 80 parts by mass of an oxetane compound having no substituent at the 2-position, 0 parts by mass to 50 parts by mass of an epoxy compound, and at least one oxetane compound represented by the general formula (OT-I) is 1 The ink composition for inkjet according to any one of claims 9 to 11, wherein the ink composition is contained in an amount of 20 to 20 parts by mass. エポキシ化合物が下記一般式(VI)〜(VIII)で表される脂環式エポキシド化合物の少なくとも1種から選ばれたものであることを特徴とする請求項11又は12に記載のインクジェット用インク組成物。
Figure 2005171122
〔式中、R601は脂肪族基を表し、m6は0〜2を表す。X1は−(CH2n6−または−(O)n6−を表し、n6は0または1を表す。p1、q1はそれぞれ0または1を表す。r1は1〜3を表す。L3は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr1+1価の連結基または単結合を表す。〕
Figure 2005171122
〔式中、R701は脂肪族基を表し、m7は0〜2を表す。X2は−(CH2n7−または−(O)n7−を表し、n7は0または1を表す。p2、q2はそれぞれ0または1を表す。r2は1〜3を表す。L4は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数1〜15のr2+1価の連結基または単結合を表す。〕
Figure 2005171122
〔式中、R801は脂肪族基を表し、m8は0〜2を表す。X3は−(CH2n8−または−(O)n8−を表し、n8は0または1を表す。R802、R803は置換基を表し、p3は0または1を表す。〕
The ink composition for inkjet according to claim 11 or 12, wherein the epoxy compound is selected from at least one of alicyclic epoxide compounds represented by the following general formulas (VI) to (VIII): Stuff.
Figure 2005171122
[Wherein, R 601 represents an aliphatic group, and m6 represents 0 to 2. X 1 represents — (CH 2 ) n6 — or — (O) n6 —, and n6 represents 0 or 1. p1 and q1 each represents 0 or 1. r1 represents 1-3. L 3 represents a C 1-15 r 1 + 1 valent linking group or single bond that may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. ]
Figure 2005171122
[Wherein, R 701 represents an aliphatic group, and m7 represents 0 to 2. X 2 represents — (CH 2 ) n7 — or — (O) n7 —, and n7 represents 0 or 1. p2 and q2 each represents 0 or 1. r2 represents 1-3. L 4 represents a C 1-15 r 2 + 1 valent linking group or single bond that may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. ]
Figure 2005171122
[Wherein, R 801 represents an aliphatic group, and m8 represents 0-2. X 3 represents — (CH 2 ) n8 — or — (O) n8 —, and n8 represents 0 or 1. R 802 and R 803 each represent a substituent, and p3 represents 0 or 1. ]
請求項9〜13のいずれか1項に記載のインクジェット用インク組成物を用い、選択的にインク滴の吐出制御可能な少なくとも1つのノズルを有する記録ヘッドで、被記録媒体上にインク滴を吐出し、インクが着弾した後、活性エネルギー線を照射することでインクを硬化させることを特徴とする画像形成方法。 An ink droplet is ejected onto a recording medium using a recording head having at least one nozzle capable of selectively controlling the ejection of an ink droplet, using the inkjet ink composition according to any one of claims 9 to 13. Then, after the ink has landed, the ink is cured by irradiating with active energy rays.
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