JP2005239877A - Composition of agent generating acid by active energy ray, active energy ray-curable composition, ink composition for inkjet, and image-forming method - Google Patents

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JP2005239877A JP2004051502A JP2004051502A JP2005239877A JP 2005239877 A JP2005239877 A JP 2005239877A JP 2004051502 A JP2004051502 A JP 2004051502A JP 2004051502 A JP2004051502 A JP 2004051502A JP 2005239877 A JP2005239877 A JP 2005239877A
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Kimihiko Okubo
公彦 大久保
Masahito Nishizeki
雅人 西関
Nobumasa Sasa
信正 左々
Akio Miura
紀生 三浦
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition of an agent generating an acid by an active energy ray, having excellent preservability; to provide an active energy ray-curable composition having excellent preservability even in a state mixed with a cationically polymerizable monomer; to provide an ink composition for inkjet, excellently prevented from being thickened even after a long term preservation, having excellent ink curability and adhesion to a base material, and providing an image having high quality without bleeding; and to provide an image-forming method by using the ink composition. <P>SOLUTION: The composition of the agent generating the acid by the active energy ray contains a compound represented by general formula (a): Q<SP>n+</SP>(Y<SP>m-</SP>)<SB>n/m</SB>and a compound represented by general formula (b). <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、トリアリールスルホニウム塩化合物と特定のイオン性化合物を含有する活性エネルギー線酸発生剤組成物、これを含有する活性エネルギー線硬化組成物、及びこれを用いたインクジェット用インク組成物及び画像形成方法に関し、詳しくは、トリアリールスルホニウム塩化合物と特定のイオン性化合物を含有する活性エネルギー線酸発生剤組成物を含有する活性エネルギー線硬化組成物を用い、反応性が高く高画質な画像を得ることのできる光硬化型のインクジェット用インク組成物及び画像形成方法に関する。   The present invention relates to an active energy ray acid generator composition containing a triarylsulfonium salt compound and a specific ionic compound, an active energy ray curable composition containing the same, and an ink-jet ink composition and image using the same. Regarding the formation method, in detail, an active energy ray curable composition containing an active energy ray acid generator composition containing a triarylsulfonium salt compound and a specific ionic compound is used, and a high-reactivity and high-quality image is obtained. The present invention relates to a photocurable ink composition for inkjet and an image forming method.

近年、インクジェット記録方式は簡便・安価に画像を作成できるため、写真、各種印刷、マーキング、カラーフィルター等の特殊印刷等、さまざまな印刷分野に応用されてきている。特に、微細等ットを出射、制御する記録装置や、色再現域、耐久性、出射適性等を改善したインク及びインクの吸収性、色材の発色性、表面光沢等を飛躍的に向上させた専用紙を用い、銀塩写真に匹敵する画質を得ることも可能となっている。今日のインクジェット記録方式の画質向上は、記録装置、インク、専用紙の全てが揃って初めて達成されている。   In recent years, the inkjet recording method can create images easily and inexpensively, and thus has been applied to various printing fields such as photographs, various printing, marking, and special printing such as color filters. In particular, recording devices that emit and control fine dots, ink with improved color reproduction gamut, durability, emission suitability, etc., and improved ink absorbency, color development, surface gloss, etc. It is also possible to obtain image quality comparable to silver halide photography using special paper. The image quality improvement of today's ink jet recording system is achieved only when all of the recording apparatus, ink, and special paper are available.

しかしながら、専用紙を必要とするインクジェットシステムは、記録媒体が制限されること、記録媒体のコストアップが問題となる。そこで、専用紙と異なる被転写媒体へインクジェット方式により記録する試みが多数なされている。具体的には、室温で固形のワックスインクを用いる相変化インクジェット方式、速乾性の有機溶剤を主体としたインクを用いるソルベント系インクジェット方式や、記録後紫外線(UV)光により架橋させるUVインクジェット方式等である。   However, in an inkjet system that requires dedicated paper, the recording medium is limited, and the cost of the recording medium increases. Therefore, many attempts have been made to record on a transfer medium different from dedicated paper by an ink jet method. Specifically, a phase change ink jet method using a wax ink that is solid at room temperature, a solvent ink jet method using an ink mainly composed of a fast-drying organic solvent, a UV ink jet method that is crosslinked by ultraviolet (UV) light after recording, etc. It is.

中でも、UVインクジェット方式は、ソルベント系インクジェット方式に比べ比較的低臭気であり、速乾性、インク吸収性のない記録媒体への記録ができる点で近年注目されつつあり、例えば、特許文献1、2において、紫外線硬化型インクジェット用インクが開示されている。   Among these, the UV inkjet method has been attracting attention in recent years because it has a relatively low odor compared to the solvent-based inkjet method, and can be recorded on a recording medium having no quick drying and no ink absorption. Discloses an ultraviolet curable ink-jet ink.

一般的には、紫外線硬化型のインクとしては、ラジカル重合型インクのものがよく知られ、実用化されている。一方、カチオン重合型のインクは、ラジカル重合型インクに見られるような酸素による重合阻害がなく、低照度の光源を用いることができること、アクリルモノマーが持つ臭気もないこと、素材が低刺激性であること等有利な点があるが、未だ実用化に至っていない。   Generally, as the ultraviolet curable ink, a radical polymerization type ink is well known and put into practical use. On the other hand, the cationic polymerization type ink does not inhibit the polymerization caused by oxygen as seen in radical polymerization type inks, can use a light source with low illuminance, has no odor of acrylic monomers, and has low irritation. Although there are advantages such as being there, it has not yet been put into practical use.

その一因としては、高湿下で著しく感度低下する性質、温度に感度が依存する性質、長期間保存時のインクの粘度増加等が挙げられる。環境依存性のあるインクは、その画質が環境に依存するという本質的な課題を有する。
特開平6−200204号公報 特表2000−504778号公報
One reason for this is the property that the sensitivity decreases significantly under high humidity, the property that the sensitivity depends on temperature, and the increase in the viscosity of the ink during long-term storage. Environment-dependent inks have the essential problem that their image quality depends on the environment.
JP-A-6-200204 Special Table 2000-504778

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、保存性に優れた活性エネルギー線酸発生剤組成物を提供すること、カチオン重合性モノマーと混合した状態においても保存性に優れ、かつ硬化性の高い活性エネルギー線硬化組成物を提供すること、さらに長期間保存した場合でも増粘抑制に優れ、インク硬化性、基材密着性に優れ、滲みのない高品位の画像が得られるインクジェット用インク組成物及びこれを用いた画像形成方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is to provide an active energy ray acid generator composition having excellent storage stability, and also to storage stability even when mixed with a cationic polymerizable monomer. Providing an active energy ray curable composition that is excellent and highly curable, and also has excellent suppression of thickening even when stored for a long period of time, excellent ink curability and substrate adhesion, and high-quality images without bleeding. An object of the present invention is to provide an inkjet ink composition and an image forming method using the same.

本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。   The above object of the present invention can be achieved by the following constitution.

(請求項1)
下記一般式(a)で表される化合物及び下記一般式(b)で表される化合物を含有することを特徴とする活性エネルギー線酸発生剤組成物。
(Claim 1)
An active energy ray acid generator composition comprising a compound represented by the following general formula (a) and a compound represented by the following general formula (b).

一般式(a) Qn+(Ym-n/m
(式中、Qn+はn価のカチオンを、Ym-はその共役酸のpKaの値が下記一般式(b)中のXB-の共役酸のpKaよりも大きい値を取るm価のアニオンを表し、n、mはそれぞれ1〜3の整数を表す。)
Formula (a) Q n + (Y m− ) n / m
(In the formula, Q n + is an n-valent cation, Y m− is an m- valent cation whose pKa value of the conjugate acid is larger than the pKa of the X B− conjugate acid in the following general formula (b)). Represents an anion, and n and m each represent an integer of 1 to 3.)

Figure 2005239877
Figure 2005239877

(式中、RB1〜RB3は置換基を、XB-は対イオンを表す。)
(請求項2)
前記一般式(b)で表される化合物が、下記一般式(I−1)〜(I−3)から選ばれる少なくとも一つの化合物であることを特徴とする請求項1に記載の活性エネルギー線酸発生剤組成物。
(In the formula, R B1 to R B3 represent substituents, and X B- represents a counter ion.)
(Claim 2)
The active energy ray according to claim 1, wherein the compound represented by the general formula (b) is at least one compound selected from the following general formulas (I-1) to (I-3). Acid generator composition.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

(式中、R11、R12、R13は置換基を、m、n、pはそれぞれ0〜5の整数を、X11 -は対イオンを表す。) (In the formula, R 11 , R 12 and R 13 represent substituents, m, n and p each represents an integer of 0 to 5, and X 11 represents a counter ion.)

Figure 2005239877
Figure 2005239877

(式中、R14は置換基を、qは0〜2の整数を表す。R15、R16は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。X12 -は対イオンを表す。) (Wherein R 14 represents a substituent, and q represents an integer of 0 to 2. R 15 and R 16 represent a substituted, unsubstituted alkyl group, a substituted, unsubstituted alkenyl group, a substituted, unsubstituted alkynyl group. or substituted, .X 12 representing the unsubstituted aryl group - represents a counter ion).

Figure 2005239877
Figure 2005239877

(式中、R17は置換基を、rは0〜3の整数を表す。R18は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、R19、R20は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。X13 -は対イオンを表す。)
(請求項3)
前記一般式(I−1)で表される化合物が、下記一般式(T−1)で表される化合物であることを特徴とする請求項2に記載の活性エネルギー線酸発生剤組成物。
(Wherein R 17 represents a substituent, r represents an integer of 0 to 3. R 18 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 19 and R 20 represent a substituted or unsubstituted alkyl group. , substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group or a substituted, .X 13 representing the unsubstituted aryl group - represents a counter ion).
(Claim 3)
The active energy ray acid generator composition according to claim 2, wherein the compound represented by the general formula (I-1) is a compound represented by the following general formula (T-1).

Figure 2005239877
Figure 2005239877

(式中、RT11、RT12はアルキル基または芳香族基を表し、ZT1は酸素原子または硫黄原子を表し、RT13、RT14はそれぞれアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、mt1は0〜4の整数を表し、nt1及びpt1はそれぞれ1〜5の整数を表し、XT1は対アニオンを表す。)
(請求項4)
前記一般式(a)中のQn+が、N+、S+、P+のいずれかを有するカチオンであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の活性エネルギー線酸発生剤組成物。
(Wherein R T11 and R T12 represent an alkyl group or an aromatic group, Z T1 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R T13 and R T14 represent an alkyl group, an aromatic group, an alkoxy group, and an aryloxy group, respectively. , An alkylthio group and an arylthio group, m t1 represents an integer of 0 to 4, n t1 and p t1 each represent an integer of 1 to 5, and X T1 represents a counter anion.)
(Claim 4)
The active energy ray acid according to any one of claims 1 to 3, wherein Q n + in the general formula (a) is a cation having any one of N + , S + , and P +. Generator composition.

(請求項5)
前記Qn+が第4級アンモニウムカチオンまたはピリジニウムカチオンであることを特徴とする請求項4に記載の活性エネルギー線酸発生剤組成物。
(Claim 5)
The active energy ray acid generator composition according to claim 4, wherein the Q n + is a quaternary ammonium cation or a pyridinium cation.

(請求項6)
前記一般式(a)中のYm-が、Cl-、Br-、I-、R601−SO3 -、SO4 2-、NO3 -、R602−COO-、AlO2 -、ClO4 -、PO4 3-、B(C654 -、R603−O-から選ばれる少なくとも1種のアニオン、前記一般式(b)中のXB-が、PF6 -、BF4 -、SbF6 -、GaF6 -、AsF6 -、B(C654 -、CnF(2n+1)SO3 -から選ばれる少なくとも1種のアニオンであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の活性エネルギー線酸発生剤組成物。
ただし、nは1〜30の整数を、R601、R602はそれぞれ独立に炭素数1〜30の脂肪族基または炭素数6〜20の芳香族基を、R603は炭素数6〜20の芳香族基を表す。
(Claim 6)
Y m− in the general formula (a) is Cl , Br , I , R 601 —SO 3 , SO 4 2− , NO 3 , R 602 —COO , AlO 2 , ClO 4. -, PO 4 3-, B ( C 6 H 5) 4 -, R 603 -O - at least one anion selected from, X in the general formula (b) B- is, PF 6 -, BF 4 -, SbF 6 -, GaF 6 -, AsF 6 -, B (C 6 F 5) 4 - , wherein the at least one anion selected from -, C n F (2n + 1) SO 3 The active energy ray acid generator composition of any one of Claims 1-5.
However, n is an integer of 1 to 30, R 601 and R 602 are each independently an aliphatic group having 1 to 30 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and R 603 is an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms. Represents an aromatic group.

(請求項7)
エポキシ化合物及び請求項1〜6のいずれか1項に記載の活性エネルギー線酸発生剤組成物を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化組成物。
(Claim 7)
An active energy ray curable composition comprising an epoxy compound and the active energy ray acid generator composition according to any one of claims 1 to 6.

(請求項8)
前記エポキシ化合物が下記一般式(A)で表される脂環式エポキシ化合物であることを特徴とする請求項7に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
(Claim 8)
The active energy ray-curable composition according to claim 7, wherein the epoxy compound is an alicyclic epoxy compound represented by the following general formula (A).

Figure 2005239877
Figure 2005239877

(式中、R100は置換基を、m0は0〜2の整数を、r0は1〜3の整数を表す。L0は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数1〜15のr0+1価の連結基または単結合を表す。)
(請求項9)
前記エポキシ化合物が下記一般式(1)〜(6)で表される脂環式エポキシ化合物の少なくとも1種であることを特徴とする請求項7または8に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
(In the formula, R 100 represents a substituent, m 0 represents an integer of 0 to 2, r 0 represents an integer of 1 to 3. L 0 has 1 to 15 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. Represents an r0 + 1-valent linking group or a single bond.)
(Claim 9)
The active energy ray-curable composition according to claim 7 or 8, wherein the epoxy compound is at least one of alicyclic epoxy compounds represented by the following general formulas (1) to (6).

Figure 2005239877
Figure 2005239877

(式中、R101は置換基を、m1は0〜2の整数を表す。p1、q1はそれぞれ0または1を、r1は1〜3の整数を表す。L1は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数1〜15のr1+1価の連結基または単結合を表す。) (Wherein the R 101 are substituents, .P1 which m1 is an integer of 0 to 2, q1 and each 0 or 1, r1 is .L 1 represents an integer of 1 to 3 oxygen atoms or in the main chain (It represents a C1-C15 r1 + 1 valent linking group or single bond which may contain a sulfur atom.)

Figure 2005239877
Figure 2005239877

(式中、R102は置換基を、m2は0〜2の整数を表す。p2、q2はそれぞれ0または1を、r2は1〜3の整数を表す。L2は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数1〜15のr2+1価の連結基または単結合を表す。) (Wherein the R 102 are substituents, .P2 which m2 represents an integer of 0 to 2, q2 and each 0 or 1, r2 is .L 2 represents an integer of 1 to 3 oxygen atoms or in the main chain (It represents a C1-15 r2 + 1 valent linking group or single bond which may contain a sulfur atom.)

Figure 2005239877
Figure 2005239877

(式中、R103は置換基を、m3は0〜2の整数を表す。p3は0または1を表す。L3は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数1〜8の2価の連結基または単結合を表す。) (In the formula, R 103 represents a substituent, m3 represents an integer of 0 to 2. p3 represents 0 or 1. L 3 has 1 to 8 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. Represents a divalent linking group or a single bond.)

Figure 2005239877
Figure 2005239877

(式中、R104は置換基を、m4は0〜2の整数を表す。p4は0または1を表す。L4は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数1〜8の2価の連結基または単結合を表す。) (In the formula, R 104 represents a substituent, m4 represents an integer of 0 to 2. p4 represents 0 or 1. L 4 has 1 to 8 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. Represents a divalent linking group or a single bond.)

Figure 2005239877
Figure 2005239877

(式中、R105は置換基を表し、m5は1または2を表す。) (In the formula, R 105 represents a substituent, and m5 represents 1 or 2.)

Figure 2005239877
Figure 2005239877

(式中、R106は置換基を表し、m6は0〜2の整数を表す。)
(請求項10)
オキセタン化合物を含有することを特徴とする請求項7〜9のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
(In the formula, R 106 represents a substituent, and m6 represents an integer of 0 to 2.)
(Claim 10)
The active energy ray-curable composition according to claim 7, comprising an oxetane compound.

(請求項11)
前記活性エネルギー線酸発生剤組成物の活性エネルギー線が紫外線であることを特徴とする請求項7〜10のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
(Claim 11)
The active energy ray-curable composition according to any one of claims 7 to 10, wherein the active energy ray of the active energy ray acid generator composition is an ultraviolet ray.

(請求項12)
請求項7〜11のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化組成物を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。
(Claim 12)
An ink composition for ink jet, comprising the active energy ray-curable composition according to any one of claims 7 to 11.

(請求項13)
請求項12に記載のインクジェット用インク組成物を、選択的にインク滴の吐出制御可能な少なくとも1つのノズルを有する記録ヘッドで、記録材料上に該インク滴を吐出し、該インク滴が着弾した後、活性エネルギー線を照射することによりインクを硬化させることを特徴とする画像形成方法。
(Claim 13)
The inkjet ink composition according to claim 12 is ejected onto a recording material by a recording head having at least one nozzle capable of selectively controlling ejection of the ink droplet, and the ink droplet is landed. Thereafter, the ink is cured by irradiating with an active energy ray.

本発明により、保存性に優れた活性エネルギー線酸発生剤組成物を提供すること、カチオン重合性モノマーと混合した状態においても保存性に優れ、かつ硬化性の高い活性エネルギー線硬化組成物を提供すること、さらに長期間保存した場合でも増粘抑制に優れ、インク硬化性、基材密着性に優れ、滲みのない高品位の画像が得られるインクジェット用インク組成物及びこれを用いた画像形成方法を提供することができる。   According to the present invention, an active energy ray acid generator composition having excellent storage stability is provided, and an active energy ray curable composition having excellent storage stability and high curability even when mixed with a cationic polymerizable monomer is provided. Ink jet ink composition that is excellent in suppressing thickening even when stored for a long period of time, has excellent ink curability and substrate adhesion, and can produce a high-quality image without bleeding, and an image forming method using the same Can be provided.

本発明者は、上記課題に鑑みて鋭意検討を行った結果、特定のスルホニウム塩化合物と特定のイオン性化合物を併用することにより、保存性に優れた活性エネルギー線酸発生組成物が得られ、これに特定のカチオン重合性モノマーを用いることにより、保存性に優れ、かつ硬化性の高い活性エネルギー線硬化組成物が得られ、該活性エネルギー線硬化組成物をインクジェットインクに用いた場合に、長期間保存した場合でもインク液の増粘抑制が非常に優れていることを見いだし、本発明に至った次第である。   As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventor obtained an active energy linear acid generating composition excellent in preservability by using a specific sulfonium salt compound and a specific ionic compound in combination. By using a specific cationic polymerizable monomer for this, an active energy ray curable composition having excellent storage stability and high curability can be obtained. When this active energy ray curable composition is used in an inkjet ink, it is long. Even when stored for a long period of time, it has been found that the suppression of thickening of the ink liquid is very excellent, and as soon as the present invention has been achieved.

以下本発明について詳細に説明する。   The present invention will be described in detail below.

一般式(a)において、式中Qn+はn価のカチオンを表し、nは1〜3の整数を表し、Qn+はカチオンであれば特に制限はないが、例としては、金属イオン、N+、S+、O+またはP+を含むカチオンを挙げることができる。 In the general formula (a), Q n + represents an n-valent cation, n represents an integer of 1 to 3, and Q n + is not particularly limited as long as it is a cation, but examples include metal ions, N Mention may be made of cations containing + , S + , O + or P + .

金属イオンとして好ましくはLi+、Na+、K+、Be2+、Mg2+、Ca2+、Fe2+、Fe3+、Ru2+、Co2+、Ni2+、Cu+、Cu2+、Ag+、Zn2+、Al3+であり、より好ましくはLi+、Na+、K+、Mg2+、Ca2+、Zn2+、Al3+であり、最も好ましくはNa+、K+、Ca2+である。 The metal ions are preferably Li + , Na + , K + , Be 2+ , Mg 2+ , Ca 2+ , Fe 2+ , Fe 3+ , Ru 2+ , Co 2+ , Ni 2+ , Cu + , Cu 2+ , Ag + , Zn 2+ , Al 3+ , more preferably Li + , Na + , K + , Mg 2+ , Ca 2+ , Zn 2+ , Al 3+ , most preferably Na + , K + and Ca 2+ .

+を含むカチオンの例としては、下記一般式(a−1)、一般式(a−2)で表される化合物を挙げることができる。 Examples of the cation containing N + include compounds represented by the following general formula (a-1) and general formula (a-2).

Figure 2005239877
Figure 2005239877

一般式(a−1)において、RA11は水素原子またはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族炭化水素基、複素芳香族基を表し、RA12〜RA14はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族炭化水素基、複素芳香族基を表し、例としてはアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル基等)、芳香族炭化水素基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、複素芳香族基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等)、複素環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)等が挙げられ、これらのRA11〜RA14はさらに置換基を有していてもよく、RA11〜RA14で表される置換基に置換可能な基の例としては、上述したアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族炭化水素基、複素芳香族基、複素環基の他に、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、スルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、2−ピリジルスルフィニル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、フッ化炭化水素基(例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基(例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等)、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基等が挙げられ、これらの置換基は、RA11〜RA14で表される置換基に置換可能な基の例と同義の基によってさらに置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。RA11〜RA14は好ましくは、炭素数1〜30のアルキル基または芳香族炭化水素が置換したアルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜18のアルキル基である。 In General Formula (a-1), R A11 represents a hydrogen atom or an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aromatic hydrocarbon group, or a heteroaromatic group, and R A12 to R A14 each independently represents an alkyl group, an alkenyl group, Group, alkynyl group, aromatic hydrocarbon group, heteroaromatic group, examples include alkyl groups (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group) Group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), alkenyl group (eg, vinyl group, allyl group, etc.), alkynyl group (eg, ethynyl group, propargyl group, etc.), aromatic Hydrocarbon group (eg, phenyl group, naphthyl group, etc.), heteroaromatic group (eg, furyl group, thienyl group, pyridi) Group, pyridazyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, thiazolyl group, benzoimidazolyl group, benzoxazolyl group, quinazolyl group, phthalazyl group, etc.), heterocyclic group (for example, pyrrolidyl group, Imidazolidyl group, morpholyl group, oxazolidyl group, etc.), and these R A11 to R A14 may further have a substituent and can be substituted with the substituent represented by R A11 to R A14. Examples of the alkyl group, the alkenyl group, the alkynyl group, the aromatic hydrocarbon group, the heteroaromatic group, the heterocyclic group, and the alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, pentyl). Oxy group, hexyloxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, etc.), cycloalkoxy group (for example, cyclopentyl) Xy group, cyclohexyloxy group, etc.), aryloxy group (for example, phenoxy group, naphthyloxy group, etc.), alkylthio group (for example, methylthio group, ethylthio group, propylthio group, pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, dodecylthio group, etc. ), Cycloalkylthio group (for example, cyclopentylthio group, cyclohexylthio group, etc.), arylthio group (for example, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), alkoxycarbonyl group (for example, methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl) Group, octyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenyloxycarbonyl group, naphthyloxycarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (eg, Minosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, octylaminosulfonyl group, dodecylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group, 2 -Pyridylaminosulfonyl group, etc.), acyl groups (for example, acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, octylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group, dodecylcarbonyl group, phenylcarbonyl group, naphthyl) Carbonyl group, pyridylcarbonyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetyloxy group, ethylcarbonyloxy group, butylcarbonyloxy) Group, octylcarbonyloxy group, dodecylcarbonyloxy group, phenylcarbonyloxy group, etc.), amide group (for example, methylcarbonylamino group, ethylcarbonylamino group, dimethylcarbonylamino group, propylcarbonylamino group, pentylcarbonylamino group, cyclohexyl group) Carbonylamino group, 2-ethylhexylcarbonylamino group, octylcarbonylamino group, dodecylcarbonylamino group, phenylcarbonylamino group, naphthylcarbonylamino group, etc.), carbamoyl group (for example, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl) Group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, octylaminocarbonyl group, 2-ethylhexyl Aminocarbonyl group, dodecylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, naphthylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), ureido group (for example, methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido) Group, dodecylureido group, phenylureido group, naphthylureido group, 2-pyridylaminoureido group, etc.), sulfinyl group (for example, methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, butylsulfinyl group, cyclohexylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, dodecyl) Sulfinyl group, phenylsulfinyl group, naphthylsulfinyl group, 2-pyridylsulfinyl group, etc.), alkylsulfonyl group (for example, methylsulfonyl group, Acetylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, dodecylsulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group (phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), amino group (for example, amino Group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, anilino group, naphthylamino group, 2-pyridylamino group, etc.), halogen atom (for example, fluorine atom, Chlorine atom, bromine atom, etc.), fluorinated hydrocarbon group (eg, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, pentafluorophenyl group, etc.), cyano group, nitro group, hydroxy group, mercapto group, silyl Group (for example, , Trimethylsilyl group, triisopropylsilyl group, triphenylsilyl group, phenyldiethylsilyl group, etc.), hydroxyl group, nitro group, carboxyl group and the like. These substituents are substituents represented by R A11 to R A14. The substituent may be further substituted with a group having the same meaning as the example of the substitutable group, and a plurality of these substituents may be bonded to each other to form a ring. R A11 to R A14 are preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or an alkyl group substituted with an aromatic hydrocarbon, and more preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms.

一般式(a−2)において、RA21は水素原子またはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族炭化水素基、複素芳香族基を表し、好ましくはアルキル基であり、より好ましくは炭素数1〜30のアルキル基または芳香族炭化水素が置換したアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数1〜18のアルキル基である。QA2は窒素カチオンとXA2とともに5員または6員の含窒素芳香族環を形成するのに必要な原子団を表し、XA2は炭素、窒素、硫黄、酸素を表し、窒素カチオンとXA2によって形成される5員または6員環の例としては、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環を挙げることができ、好ましくはイミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環であり、より好ましくはピリジン環である。RA22はそれぞれ独立に、QA2と窒素カチオンとXA2によって形成される5員または6員環の任意の位置に置換可能な水素原子または置換基を表し、nA2は1〜5の整数を表し、RA22の例としては上述したRA11〜RA14で表される置換基に置換可能な基の例と同義の置換基を挙げることができる。これらの置換基は、上述したRA1〜RA3で表される置換基に置換可能な基の例と同義の置換基によってさらに置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。複数のRA22はそれぞれ任意に互いに結合して環を形成していてもよい。 In the general formula (a-2), R A21 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aromatic hydrocarbon group or a heteroaromatic group, preferably an alkyl group, more preferably 1 carbon atom. -30 alkyl group or an alkyl group substituted by an aromatic hydrocarbon, more preferably an alkyl group having 1-18 carbon atoms. Q A2 represents an atomic group necessary for forming a 5- or 6-membered nitrogen-containing aromatic ring together with the nitrogen cation and X A2 , X A2 represents carbon, nitrogen, sulfur, and oxygen, and the nitrogen cation and X A2 Examples of 5-membered or 6-membered rings formed by imidazole ring, pyrazole ring, thiazole ring, isothiazole ring, oxazole ring, isoxazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring Preferably, it is an imidazole ring, a pyrazole ring or a pyridine ring, and more preferably a pyridine ring. R A22 each independently represents a hydrogen atom or a substituent which can be substituted at any position of a 5-membered or 6-membered ring formed by Q A2 , a nitrogen cation and X A2 , and n A2 represents an integer of 1 to 5 As examples of R A22 , the same substituents as the examples of the groups that can be substituted for the substituents represented by R A11 to R A14 described above can be given. These substituents may be further substituted with substituents having the same meanings as the examples of the groups that can be substituted for the substituents represented by R A1 to R A3 described above. It may combine to form a ring. A plurality of R A22 may be optionally bonded to each other to form a ring.

+を含むカチオンの例としては、チオピリリウムカチオン、チオクロメニリウムカチオン、イソチオクロメニリウムカチオン、チオキサンチンチリウムカチオン、後述する一般式(b)中の Examples of cations containing S + include thiopyrylium cation, thiochromenium cation, isothiochromenilium cation, thioxanthine thyllium cation, and in general formula (b) described later.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

と同義のカチオンを挙げることができる。好ましくは、チオピリリウムカチオン、後述する一般式(b)中の And cations having the same meaning. Preferably, the thiopyrylium cation, in the general formula (b) described later

Figure 2005239877
Figure 2005239877

と同義のカチオンであり、さらに好ましくは、Qn+と一般式(b)で表される化合物の Of the compound represented by Q n + and general formula (b).

Figure 2005239877
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が同一構造を有するカチオンである。 Are cations having the same structure.

+を含むカチオンの例としては、ピリリウムカチオンを挙げることができる。 An example of a cation containing O + is a pyrylium cation.

+を含むカチオンの例としては、下記一般式(a−3)で表される化合物を挙げることができる。 As an example of the cation containing P + , a compound represented by the following general formula (a-3) can be given.

Figure 2005239877
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式中、RA31〜RA34はそれぞれ独立に、上述した一般式(a−1)中のRA12〜RA14で表される置換基の例と同義の置換基を表す。RA31〜RA34は好ましくは、炭素数1〜30のアルキル基または炭素数6〜30の芳香族炭化水素基であり、より好ましくは炭素数1〜18のアルキル基または炭素数6〜18の芳香族炭化水素基である。 In the formula, R A31 to R A34 each independently represent a substituent having the same meaning as the example of the substituent represented by R A12 to R A14 in the general formula (a-1). R A31 to R A34 are preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms or an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms. It is an aromatic hydrocarbon group.

一般式(a)中のQn+は、N+、S+またはP+を含むカチオンであることが好ましく、より好ましくはS+を含むカチオン、一般式(a−1)、一般式(a−2)または一般式(a−3)で表されるカチオンであり、最も好ましくは一般式(a−1)、一般式(a−2)または一般式(a−3)で表されるカチオンである。 Q n + in the general formula (a) is preferably a cation containing N + , S + or P + , more preferably a cation containing S + , a general formula (a-1), a general formula (a− 2) or a cation represented by formula (a-3), most preferably a cation represented by formula (a-1), formula (a-2) or formula (a-3). is there.

m-はその共役酸のpKaの値が一般式(b)中のXB-の共役酸のpKaよりも大きい値を取るm価のアニオンを表し、mは1〜3の整数を表す。Ym-はその共役酸である(H)mYのpKaYが、XB-の共役酸であるHXBのpKaXBに対して、pKaY>pKaXBを満たせば特に制限はなく、mが2以上の場合HmYの第一段階目のpKaYが、XB-の共役酸であるHXBのpKaXBに対して、pKaY>pKaXBを満たせばよい。Ym-の好ましい例としてはハロゲンイオン、スルホン酸イオン、SO4 2-、NO3 -、カルボン酸イオン、AlO2 -、ClO4 -、PO4 3-、SCN-、CN-、B(C654 -、フェノキサオドイオンであり、より好ましくはCl-、Br-、I-、R601−SO3 -、SO4 2-、NO3 -、R602−COO-、AlO2 -、ClO4 -、PO4 3-、B(C654 -、R603−O-である(式中、R601、R602はそれぞれ独立に炭素数1〜30の脂肪族基、または炭素数6〜20の芳香族基を表し、R603は炭素数6〜20の芳香族基を表し、R601、R602、R603は上述したRA11〜RA14で表される置換基に置換可能な基の例と同義の置換基によってさらに置換されていてもよい)。Yの例としてさらに好ましくは、Cl-、Br-、I-、CH3−SO3 -、p−CH3−C64−SO4 2-、NO3 -、R602−COO-、AlO2 -、PO4 3-、B(C654 -、R603−O-であり、最も好ましくはCl-、Br-、I-、CH3−SO3 -、p−CH3−C64−SO4 2-、R602−COO-、AlO2 -、PO4 3-、B(C654 -、R603−O-である。Qn+が第4級アンモニウムカチオンである場合には、Ym-は特にCl-、Br-、I-、AlO2 -、PO4 3-、B(C654 -、R603−O-であることが好ましい。 Y m− represents an m-valent anion in which the pKa value of the conjugate acid is larger than the pKa of the X B− conjugate acid in the general formula (b), and m represents an integer of 1 to 3. Y m− is its conjugate acid (H) There is no particular limitation as long as pKa Y of m Y satisfies pKa Y > pKa XB with respect to pKa XB of HX B which is a conjugate acid of X B− , m There first stage of pKa Y of two or more if H m Y is, relative pKa XB of X B- is a conjugate acid HX B, should satisfy pKa Y> pKa XB. Preferred examples of Y m- include halogen ions, sulfonate ions, SO 4 2− , NO 3 , carboxylate ions, AlO 2 , ClO 4 , PO 4 3− , SCN , CN , B (C 6 H 5 ) 4 , phenoxaodo ion, more preferably Cl , Br , I , R 601 —SO 3 , SO 4 2− , NO 3 , R 602 —COO , AlO 2. -, ClO 4 -, PO 4 3-, B (C 6 H 5) 4 -, R 603 -O - a is (wherein, R 601, R 602 are each independently an aliphatic group having from 1 to 30 carbon atoms Or an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, R 603 represents an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and R 601 , R 602 , and R 603 are the substituents represented by R A11 to R A14 described above. And may be further substituted with a substituent having the same meaning as the example of the substitutable group. More preferable examples of Y include Cl , Br , I , CH 3 —SO 3 , p—CH 3 —C 6 H 4 —SO 4 2− , NO 3 , R 602 —COO , AlO. 2 , PO 4 3− , B (C 6 H 5 ) 4 , R 603 —O , most preferably Cl , Br , I , CH 3 —SO 3 , p—CH 3 —. C 6 H 4 —SO 4 2− , R 602 —COO , AlO 2 , PO 4 3− , B (C 6 H 5 ) 4 , R 603 —O . When Q n + is a quaternary ammonium cation, Y m− is particularly Cl , Br , I , AlO 2 , PO 4 3− , B (C 6 H 5 ) 4 , R 603 −. O - it is preferred that.

一般式(a)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the specific example of a compound represented by general formula (a) is shown, this invention is not limited to these.

Figure 2005239877
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Figure 2005239877

本発明の一般式(a)で表される化合物は、カチオン重合性を有する化合物100質量部に対して、0.001〜20質量部の比率で含有させることが好ましい。一般式(a)で表される化合物が0.001質量部未満では、十分な保存性を得ることが困難であり、20質量部を越えて含有させても、更なる保存性向上効果はない。含有量は0.005〜10質量部であることがより好ましく、0.01〜5質量部であることが最も好ましい。これら本発明の本発明の一般式(a)で表される化合物は、1種または2種以上を選択して使用することができる。   It is preferable to contain the compound represented by general formula (a) of this invention in the ratio of 0.001-20 mass parts with respect to 100 mass parts of compounds which have cationic polymerizability. When the compound represented by the general formula (a) is less than 0.001 part by mass, it is difficult to obtain sufficient storage stability, and even if the compound is contained exceeding 20 parts by mass, there is no further effect of improving storage stability. . The content is more preferably 0.005 to 10 parts by mass, and most preferably 0.01 to 5 parts by mass. These compounds represented by the general formula (a) of the present invention can be used alone or in combination of two or more.

次に一般式(b)で表される化合物について説明する。一般式(b)において、RB1〜RB3は置換基を表し、それぞれが同一でも異なる置換基でもよく、置換基としては特に制限はないが、例としては、アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル基等)、芳香族炭化水素基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、複素芳香族基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等)、複素環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)等が挙げられ、これらのRB1〜RB3で表される置換基はさらに置換基を有していてもよく、RB1〜RB3で表される置換基に置換可能な基の例としては、上述したアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族炭化水素基、複素芳香族基、複素環基の他に、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、スルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、2−ピリジルスルフィニル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、フッ化炭化水素基(例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基(例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等)、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基等が挙げられ、これらの置換基は、上述した置換基によってさらに置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。RB1〜RB3はそれぞれ任意に互いに結合して環を形成していてもよい。RB1〜RB3は好ましくは、アルキル基、芳香族炭化水素基であり、これらはさらに置換基を有していてもよく、置換基としては上述したRB1〜RB3で表される置換基に置換可能な基の例を挙げることができる。 Next, the compound represented by formula (b) will be described. In the general formula (b), R B1 to R B3 each represents a substituent, and each may be the same or different, and the substituent is not particularly limited, but examples include an alkyl group (methyl group, ethyl group). Propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), alkenyl group (for example, vinyl group, allyl group) Group), alkynyl group (eg ethynyl group, propargyl group etc.), aromatic hydrocarbon group (eg phenyl group, naphthyl group etc.), heteroaromatic group (eg furyl group, thienyl group, pyridyl group, pyridazyl) Group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, thiazolyl group, benzimidazole Zolyl group, benzoxazolyl group, quinazolyl group, phthalazyl group, etc.), heterocyclic groups (for example, pyrrolidyl group, imidazolidyl group, morpholyl group, oxazolidyl group, etc.) and the like, and these are represented by R B1 to R B3 . The substituent to be substituted may further have a substituent, and examples of the group that can be substituted with the substituent represented by R B1 to R B3 include the above-described alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, and aromatic group. In addition to hydrocarbon groups, heteroaromatic groups, and heterocyclic groups, alkoxy groups (eg, methoxy, ethoxy, propyloxy, pentyloxy, hexyloxy, octyloxy, dodecyloxy, etc.), cyclo An alkoxy group (eg, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.), an aryloxy group (eg, phenoxy group, naphthyloxy group, etc.), Kirthio group (for example, methylthio group, ethylthio group, propylthio group, pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, dodecylthio group, etc.), cycloalkylthio group (for example, cyclopentylthio group, cyclohexylthio group, etc.), arylthio group (for example, phenylthio group) Group, naphthylthio group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group, octyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenyloxycarbonyl) Group, naphthyloxycarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (for example, aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexyl group) A silaminosulfonyl group, a cyclohexylaminosulfonyl group, an octylaminosulfonyl group, a dodecylaminosulfonyl group, a phenylaminosulfonyl group, a naphthylaminosulfonyl group, a 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), an acyl group (for example, an acetyl group, an ethylcarbonyl group, Propylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, octylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group, dodecylcarbonyl group, phenylcarbonyl group, naphthylcarbonyl group, pyridylcarbonyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetyloxy group, ethyl group) Carbonyloxy group, butylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group, dodecylcarbonyloxy group, phenylcarbonyloxy group, etc.), amide group ( For example, methylcarbonylamino group, ethylcarbonylamino group, dimethylcarbonylamino group, propylcarbonylamino group, pentylcarbonylamino group, cyclohexylcarbonylamino group, 2-ethylhexylcarbonylamino group, octylcarbonylamino group, dodecylcarbonylamino group, phenyl Carbonylamino group, naphthylcarbonylamino group, etc.), carbamoyl group (for example, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, octylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group, dodecylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, naphthylaminocarbonyl 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), ureido group (for example, methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido group, dodecylureido group, phenylureido group, naphthylureido group, 2-pyridylaminoureido Group), sulfinyl group (for example, methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, butylsulfinyl group, cyclohexylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, dodecylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, naphthylsulfinyl group, 2-pyridylsulfinyl group, etc.) Alkylsulfonyl group (for example, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, dode Silsulfonyl group etc.), arylsulfonyl group (phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group etc.), amino group (for example, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, anilino group, naphthylamino group, 2-pyridylamino group, etc.), halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom etc.), fluorinated hydrocarbon group (eg, fluoromethyl) Group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, pentafluorophenyl group, etc.), cyano group, nitro group, hydroxy group, mercapto group, silyl group (for example, trimethylsilyl group, triisopropylsilyl group, triphenylsilyl group, phenyl) Diethylsilyl group), water Group, nitro group, carboxyl group, etc., and these substituents may be further substituted by the above-mentioned substituents, and these substituents are bonded to each other to form a ring. Also good. R B1 to R B3 may be optionally bonded to each other to form a ring. R B1 to R B3 are preferably an alkyl group or an aromatic hydrocarbon group, which may further have a substituent, and the substituent is a substituent represented by R B1 to R B3 described above. Examples of substitutable groups can be given.

B-は対イオンを表し、対イオンとしては、F-、Cl-、Br-等のハロゲンイオン、BF4 -、B(C654 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、GaF6 -、等の錯イオン、ベンゼンスルホン酸イオン(例えば、p−CH364SO3 -、C65SO3 -)、アルキルスルホン酸イオン(例えば、CH3SO3 -、C25SO3 -)、フッ化アルキルスルホン酸イオン(例えば、CF3SO3 -、C25SO3 -、C919SO3 -)、フッ化アルキルベンゼンスルホン酸イオン(例えば、p−CF3−C64SO3 -、p−CF3−C64SO3 -)、フッ化ベンゼンスルホン酸イオン(例えば、p−F−C64SO3 -、C65SO3 -)等のスルホネートイオンを挙げることができる。対イオンとしては、PF6 -、BF4 -、SbF6 -、GaF6 -、AsF6 -、B(C654 -、フッ化アルキルスルホン酸イオン(例えば、CF3SO3 -、C25SO3 -、C919SO3 -)がより好ましく、BF4 -、B(C654 -及びPF6 -が最も好ましい。 X B- represents a counter ion, which includes halogen ions such as F , Cl , Br , BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 , PF 6 , AsF 6 , SbF. 6 , GaF 6 , complex ions such as benzene sulfonate (eg, p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 , C 6 H 5 SO 3 ), alkyl sulfonate (eg, CH 3 SO 3 , C 2 H 5 SO 3 ), fluorinated alkyl sulfonate ions (for example, CF 3 SO 3 , C 2 F 5 SO 3 , C 9 F 19 SO 3 ), fluorinated alkyl benzene sulfonate ions (Eg, p-CF 3 —C 6 H 4 SO 3 , p-CF 3 —C 6 F 4 SO 3 ), fluorinated benzenesulfonate ion (eg, p-F—C 6 H 4 SO 3 And sulfonate ions such as C 6 F 5 SO 3 ). Counter ions include PF 6 , BF 4 , SbF 6 , GaF 6 , AsF 6 , B (C 6 F 5 ) 4 , fluorinated alkyl sulfonate ions (for example, CF 3 SO 3 , C 2 F 5 SO 3 and C 9 F 19 SO 3 ) are more preferable, and BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 and PF 6 are most preferable.

さらに、一般式(I−1)、(I−2)、(I−3)で表されるスルホニウム塩について説明する。   Furthermore, the sulfonium salt represented by general formula (I-1), (I-2), (I-3) is demonstrated.

一般式(I−1)において、R11、R12、R13は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基等)、炭素数1〜6個のアルキ二ル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等)、炭素数1〜6個のアルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基等)、炭素数6〜14のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、炭素数6〜10のアリールオキシ基(例えばフェノキシ基、ナフトキシ基等)、炭素数6〜10のアリールチオ基(例えばフェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等)、炭素数4〜8のヘテロ原子含有芳香族環基(例えばフリル基、チエニル基等)、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。
換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシル基である。これらの置換基のうち可能なものはさらに置換されていてもよい。
In the general formula (I-1), R 11 , R 12 and R 13 each represent a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.) ), A cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, etc.), C1-C6 alkynyl groups (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, etc.), C1-C1 6 alkoxy groups (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), having 1 to 6 carbon atoms Alkylthio group (for example, methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, iso-propylthio group, n-butylthio group, tert-butylthio group, etc.), aryl group having 6 to 14 carbon atoms (for example, phenyl group, naphthyl group, anthracenyl group) Group), an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms (eg, phenoxy group, naphthoxy group, etc.), an arylthio group having 6 to 10 carbon atoms (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), an acyl group (eg, acetyl group, propionyl). Group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, benzoyloxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl) Group) Heteroatom-containing aromatic Hajime Tamaki having 4 to 8 carbon atoms (such as furyl group, a thienyl group, etc.), a nitro group, a cyano group, and the like.
Preferred examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group, an alkyloxy group, an aryl group, an aryloxy group, an arylthio group, and an acyl group. Of these substituents, possible ones may be further substituted.

m、n、pは0〜5の整数を表し、それぞれが1以上であることが好ましい。
11 -は対アニオンを表す。対アニオンとしては、F-、Cl-、Br-等のハロゲンイオン、BF4 -、B(C654 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、GaF6 -等の錯イオン、ベンゼンスルホン酸イオン(例えば、p−CH364SO3 -、C65SO3 -)、アルキルスルホン酸イオン(例えば、CH3SO3 -、C25SO3 -)、フッ化アルキルスルホン酸イオン(例えば、CF3SO3 -、C25SO3 -、C919SO3 -)、フッ化アルキルベンゼンスルホン酸イオン(例えば、p−CF3−C64SO3 -、p−CF3−C64SO3 -)、フッ化ベンゼンスルホン酸イオン(例えば、p−F−C64SO3 -、C65SO3 -)等のスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしては、PF6 -、BF4 -、SbF6 -、GaF6 -、AsF6 -、B(C654 -、フッ化アルキルスルホン酸イオン(例えば、CF3SO3 -、C25SO3 -、C919SO3 -)がより好ましく、BF4 -、B(C654 -及びPF6 -が最も好ましい。
m, n and p each represents an integer of 0 to 5, and each is preferably 1 or more.
X 11 represents a counter anion. Counter anions include complex ions such as halogen ions such as F , Cl and Br , BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 , PF 6 , AsF 6 , SbF 6 and GaF 6 −. Ions, benzenesulfonate ions (eg, p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 , C 6 H 5 SO 3 ), alkylsulfonate ions (eg, CH 3 SO 3 , C 2 H 5 SO 3 −) ), Fluorinated alkyl sulfonate ions (for example, CF 3 SO 3 , C 2 F 5 SO 3 , C 9 F 19 SO 3 ), fluorinated alkyl benzene sulfonate ions (for example, p-CF 3 —C 6). H 4 SO 3 , p-CF 3 —C 6 F 4 SO 3 ), fluorinated benzene sulfonate ions (eg, p-F—C 6 H 4 SO 3 , C 6 F 5 SO 3 ), etc. The sulfonate ion can be mentioned. Counter anions include PF 6 , BF 4 , SbF 6 , GaF 6 , AsF 6 , B (C 6 F 5 ) 4 , fluorinated alkyl sulfonate ions (for example, CF 3 SO 3 , C 2 F 5 SO 3 and C 9 F 19 SO 3 ) are more preferable, and BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 and PF 6 are most preferable.

一般式(I−2)において、R14は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基等)、炭素数1〜6個のアルキ二ル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等)、炭素数1〜6個のアルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基等)、炭素数6〜14のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、炭素数6〜10のアリールオキシ基(例えばフェノキシ基、ナフトキシ基等)、炭素数6〜10のアリールチオ基(例えばフェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等)、炭素数4〜8のヘテロ原子含有芳香族環基(例えばフリル基、チエニル基等)、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基である。これらの置換基のうち可能なものはさらに置換されていてもよい。 In the general formula (I-2), R 14 represents a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.) ), A cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, etc.), C1-C6 alkynyl groups (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, etc.), C1-C1 6 alkoxy groups (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), having 1 to 6 carbon atoms Alkylthio group (for example, methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, iso-propylthio group, n-butylthio group, tert-butylthio group, etc.), aryl group having 6 to 14 carbon atoms (for example, phenyl group, naphthyl group, anthracenyl group) Group), an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms (eg, phenoxy group, naphthoxy group, etc.), an arylthio group having 6 to 10 carbon atoms (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), an acyl group (eg, acetyl group, propionyl). Group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, benzoyloxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl) Group) Heteroatom-containing aromatic Hajime Tamaki having 4 to 8 carbon atoms (such as furyl group, a thienyl group, etc.), a nitro group, a cyano group, and the like. Preferably, they are a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, and an aryloxy group. Of these substituents, possible ones may be further substituted.

qは0〜2の整数を表し、1以上であることが好ましく、より好ましくは2である。またR15、R16は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。 q represents an integer of 0 to 2, preferably 1 or more, and more preferably 2. R 15 and R 16 each represents a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group.

置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基等)、炭素数1〜6個のアルキ二ル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等)、炭素数1〜6個のアルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基等)、炭素数6〜14のアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、炭素数6〜10のアリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等)、炭素数6〜10のアリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等)、炭素数4〜8のヘテロ原子含有芳香族環基(例えば、フリル基、チエニル基等)、ニトロ基、シアノ基、水酸基等が挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基である。   Examples of the substituent include a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group). Etc.), a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (eg, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, vinyl group, 1-propenyl group). , 2-propenyl group, 2-butenyl group, etc.), C1-C6 alkynyl groups (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, etc.), carbon number 1 -6 alkoxy groups (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), 1 to 6 carbon atoms An alkylthio group (eg, methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, iso-propylthio group, n-butylthio group, tert-butylthio group, etc.), aryl group having 6 to 14 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, Anthracenyl group, etc.), C6-C10 aryloxy groups (e.g., phenoxy group, naphthoxy group, etc.), C6-C10 arylthio groups (e.g., phenylthio group, naphthylthio group, etc.), acyl groups (e.g., Acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), acyloxy group (eg, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, benzoyloxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxy) Carbonyl group, tert-but Aryloxycarbonyl group), hetero atom-containing aromatic Hajime Tamaki having 4 to 8 carbon atoms (e.g., furyl group, a thienyl group, etc.), a nitro group, a cyano group, and a hydroxyl group. Preferred are a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, and an acyl group.

15、R16として好ましくは、置換、無置換のアルキル基、または置換、無置換のアリール基であり、置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、水酸基である。 R 15 and R 16 are preferably a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group, and the substituent is preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, An acyl group and a hydroxyl group.

12 -は対アニオンを表す。対アニオンとしては、F-、Cl-、Br-等のハロゲンイオン、BF4 -、B(C654 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、GaF6 -等の錯イオン、ベンゼンスルホン酸イオン(例えば、p−CH364SO3 -、C65SO3 -)、アルキルスルホン酸イオン(例えば、CH3SO3 -、C25SO3 -)、フッ化アルキルスルホン酸イオン(例えば、CF3SO3 -、C25SO3 -、C919SO3 -)、フッ化アルキルベンゼンスルホン酸イオン(例えば、p−CF3−C64SO3 -、p−CF3−C64SO3 -)、フッ化ベンゼンスルホン酸イオン(例えば、p−F−C64SO3 -、C65SO3 -)等のスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしては、PF6 -、BF4 -、SbF6 -、GaF6 -、AsF6 -、B(C654 -、フッ化アルキルスルホン酸イオン(例えば、CF3SO3 -、C25SO3 -、C919SO3 -)がより好ましく、BF4 -、B(C654 -及びPF6 -が最も好ましい。 X 12 represents a counter anion. Counter anions include complex ions such as halogen ions such as F , Cl and Br , BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 , PF 6 , AsF 6 , SbF 6 and GaF 6 −. Ions, benzenesulfonate ions (eg, p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 , C 6 H 5 SO 3 ), alkylsulfonate ions (eg, CH 3 SO 3 , C 2 H 5 SO 3 −) ), Fluorinated alkyl sulfonate ions (for example, CF 3 SO 3 , C 2 F 5 SO 3 , C 9 F 19 SO 3 ), fluorinated alkyl benzene sulfonate ions (for example, p-CF 3 —C 6). H 4 SO 3 , p-CF 3 —C 6 F 4 SO 3 ), fluorinated benzene sulfonate ions (eg, p-F—C 6 H 4 SO 3 , C 6 F 5 SO 3 ), etc. The sulfonate ion can be mentioned. Counter anions include PF 6 , BF 4 , SbF 6 , GaF 6 , AsF 6 , B (C 6 F 5 ) 4 , fluorinated alkyl sulfonate ions (for example, CF 3 SO 3 , C 2 F 5 SO 3 and C 9 F 19 SO 3 ) are more preferable, and BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 and PF 6 are most preferable.

一般式(I−3)において、R17は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基等)、炭素数1〜6個のアルキ二ル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等)、炭素数6〜14のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等)、炭素数6〜10のアリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、炭素数4〜8のヘテロ原子含有芳香族環基(例えば、フリル基、チエニル基等)、ニトロ基、シアノ基、等が挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。 In the general formula (I-3), R 17 represents a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.) ), A cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, etc.), C1-C6 alkynyl groups (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, etc.), C1-C1 6 alkoxy groups (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), having 6 to 14 carbon atoms Reel group (for example, phenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoro) An acetoxy group, a benzoyloxy group, etc.), an alkoxycarbonyl group (eg, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a tert-butoxycarbonyl group, etc.), an aryl group having 6 to 10 carbon atoms (eg, a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group). Etc.), a C4-C8 heteroatom-containing aromatic ring group (for example, a furyl group, a thienyl group, etc.), a nitro group, a cyano group, and the like. Preferably, they are a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, and an acyl group.

rは0〜3の整数を表し、1以上であることが好ましく、より好ましくは2である。R18は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、R19、R20は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。 r represents an integer of 0 to 3, preferably 1 or more, and more preferably 2. R 18 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 19 and R 20 represent a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, or a substituted or unsubstituted group. Represents a substituted aryl group.

置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基等)、炭素数1〜6個のアルキ二ル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等)、炭素数6〜14のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等)、炭素数6〜10のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等)、炭素数4〜8のヘテロ原子含有芳香族環基(例えばフリル基、チエニル基等)、ニトロ基、シアノ基、等が挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。   Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.) ), A cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, etc.), C1-C6 alkynyl groups (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, etc.), C1-C1 6 alkoxy groups (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), having 6 to 14 carbon atoms Reel group (for example, phenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group) Group, benzoyloxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.), aryl group having 6 to 10 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, etc.), carbon Examples thereof include hetero atom-containing aromatic ring groups of 4 to 8 (for example, furyl group, thienyl group, etc.), nitro group, cyano group and the like. Preferably, they are a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, and an acyl group.

18として好ましくは、水素原子または無置換の低級アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基)であり、R19、R20として好ましくは、置換、無置換のアルキル基、または置換、無置換のアリール基であり、置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。 R 18 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted lower alkyl group (methyl group, ethyl group, propyl group), and R 19 and R 20 are preferably a substituted, unsubstituted alkyl group, or substituted, unsubstituted. The substituent is preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, or an acyl group.

13 -は対アニオンを表す。対アニオンとしては、F-、Cl-、Br-等のハロゲンイオン、BF4 -、B(C654 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、GaF6 -等の錯イオン、ベンゼンスルホン酸イオン(例えば、p−CH364SO3 -、C65SO3 -)、アルキルスルホン酸イオン(例えば、CH3SO3 -、C25SO3 -)、フッ化アルキルスルホン酸イオン(例えば、CF3SO3 -、C25SO3 -、C919SO3 -)、フッ化アルキルベンゼンスルホン酸イオン(例えば、p−CF3−C64SO3 -、p−CF3−C64SO3 -)、フッ化ベンゼンスルホン酸イオン(例えば、p−F−C64SO3 -、C65SO3 -)等のスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしては、PF6 -、BF4 -、SbF6 -、GaF6 -、AsF6 -、B(C654 -、フッ化アルキルスルホン酸イオン(例えば、CF3SO3 -、C25SO3 -、C919SO3 -)がより好ましく、BF4 -、B(C654 -及びPF6 -が最も好ましい。 X 13 - is a counter anion. Counter anions include complex ions such as halogen ions such as F , Cl and Br , BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 , PF 6 , AsF 6 , SbF 6 and GaF 6 −. Ions, benzenesulfonate ions (eg, p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 , C 6 H 5 SO 3 ), alkylsulfonate ions (eg, CH 3 SO 3 , C 2 H 5 SO 3 −) ), Fluorinated alkyl sulfonate ions (for example, CF 3 SO 3 , C 2 F 5 SO 3 , C 9 F 19 SO 3 ), fluorinated alkyl benzene sulfonate ions (for example, p-CF 3 —C 6). H 4 SO 3 , p-CF 3 —C 6 F 4 SO 3 ), fluorinated benzene sulfonate ions (eg, p-F—C 6 H 4 SO 3 , C 6 F 5 SO 3 ), etc. The sulfonate ion can be mentioned. Counter anions include PF 6 , BF 4 , SbF 6 , GaF 6 , AsF 6 , B (C 6 F 5 ) 4 , fluorinated alkyl sulfonate ions (for example, CF 3 SO 3 , C 2 F 5 SO 3 and C 9 F 19 SO 3 ) are more preferable, and BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 and PF 6 are most preferable.

以下に、一般式(b)、(I−1)、(I−2)(I−3)で表されるスルホニウム塩の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the sulfonium salt represented by the general formulas (b), (I-1), (I-2) and (I-3) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2005239877
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一般式(T−1)において、RT11、RT12はアルキル基または芳香族基を表す。アルキル基は直鎖でも分岐を有していても、環状になっていてもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、芳香族基としては、芳香族炭化水素環基でも芳香族複素環基でもよく、縮合環を有していてもよく、例としては芳香族炭化水素基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、芳香族複素環基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等)等が挙げられる。上述したアルキル基または芳香族基は、さらに置換基を有していていもよく、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよく、縮合環を有していてもよく、置換基の例としては、上述したアルキル基の他に、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル基等)、芳香族炭化水素基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、複素芳香族基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等)、複素環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、スルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、2−ピリジルスルフィニル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、フッ化炭化水素基(例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基(例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等)等が挙げられ、これらの置換基は、上記の置換基によってさらに置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。RT11、RT12で表されるアルキル基または芳香族基は、さらに置換基を有していても、有していなくてもよいが、好ましくは、無置換のアルキル基または芳香族基であるか、またはハロゲン原子が置換したアルキル基、またはアルコキシ基が置換した芳香族基であり、より好ましくは、無置換のアルキル基または芳香族基であるか、またはフッ素原子が置換したアルキル基、またはアルコキシ基が置換した芳香族基であり、フッ素原子が置換したアルキル基の例としてはフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等を挙げることができる。 In the general formula (T-1), R T11 and R T12 each represents an alkyl group or an aromatic group. The alkyl group may be linear, branched or cyclic, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, Examples include dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, and the aromatic group may be an aromatic hydrocarbon ring group or an aromatic heterocyclic group, and has a condensed ring. Examples include aromatic hydrocarbon groups (for example, phenyl group, naphthyl group, etc.), aromatic heterocyclic groups (for example, furyl group, thienyl group, pyridyl group, pyridazyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group). Imidazolyl group, pyrazolyl group, thiazolyl group, benzimidazolyl group, benzoxazolyl group, quinazolyl group, phthalazyl group, etc.) And the like. The alkyl group or aromatic group described above may further have a substituent, and a plurality of these substituents may be bonded to each other to form a ring, or may have a condensed ring. Examples of the substituent include, in addition to the alkyl group described above, an alkenyl group (for example, vinyl group, allyl group, etc.), an alkynyl group (for example, ethynyl group, propargyl group, etc.), an aromatic hydrocarbon group (for example, Phenyl group, naphthyl group, etc.), heteroaromatic group (for example, furyl group, thienyl group, pyridyl group, pyridazyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, thiazolyl group, benzoimidazolyl group, benzooxa Zolyl group, quinazolyl group, phthalazyl group, etc.), heterocyclic group (for example, pyrrolidyl group, imidazolidyl group, morpholyl group, oxazolidyl group) ), Alkoxy groups (for example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, etc.), cycloalkoxy groups (for example, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.) , Aryloxy groups (for example, phenoxy group, naphthyloxy group, etc.), alkylthio groups (for example, methylthio group, ethylthio group, propylthio group, pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, dodecylthio group, etc.), cycloalkylthio groups (for example, Cyclopentylthio group, cyclohexylthio group, etc.), arylthio group (for example, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), alkoxycarbonyl group (for example, methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarboni) Group, octyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenyloxycarbonyl group, naphthyloxycarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (eg, aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl) Group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, octylaminosulfonyl group, dodecylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), acyl group (for example, Acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, octylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl Group, dodecylcarbonyl group, phenylcarbonyl group, naphthylcarbonyl group, pyridylcarbonyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetyloxy group, ethylcarbonyloxy group, butylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group, dodecylcarbonyloxy group, Phenylcarbonyloxy group, etc.), amide groups (for example, methylcarbonylamino group, ethylcarbonylamino group, dimethylcarbonylamino group, propylcarbonylamino group, pentylcarbonylamino group, cyclohexylcarbonylamino group, 2-ethylhexylcarbonylamino group, octyl) Carbonylamino group, dodecylcarbonylamino group, phenylcarbonylamino group, naphthylcarbonylamino group, etc.), carbamoyl group (for example, aminocarbonyl group, Tylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, octylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group, dodecylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, naphthylaminocarbonyl Group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), ureido group (for example, methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido group, dodecylureido group, phenylureido group, naphthylureido group, 2-pyridylamino group) Ureido group), sulfinyl group (for example, methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, butylsulfinyl group, cyclohexylsulfinyl group, -Ethylhexylsulfinyl group, dodecylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, naphthylsulfinyl group, 2-pyridylsulfinyl group, etc.), alkylsulfonyl group (for example, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexyl) Sulfonyl group, dodecylsulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group (phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), amino group (for example, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentyl) Amino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, anilino group, naphthylamino group, 2-pyridylamino group, etc.), halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.) ), Fluorinated hydrocarbon group (eg, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, pentafluorophenyl group, etc.), cyano group, nitro group, hydroxy group, mercapto group, silyl group (eg, trimethylsilyl group) , Triisopropylsilyl group, triphenylsilyl group, phenyldiethylsilyl group, etc.), and these substituents may be further substituted with the above-mentioned substituents. They may be bonded to each other to form a ring. The alkyl group or aromatic group represented by R T11 or R T12 may or may not further have a substituent, but is preferably an unsubstituted alkyl group or aromatic group. Or an alkyl group substituted with a halogen atom, or an aromatic group substituted with an alkoxy group, more preferably an unsubstituted alkyl group or an aromatic group, or an alkyl group substituted with a fluorine atom, or Examples of the alkyl group substituted with an alkoxy group and substituted with a fluorine atom include a fluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, and a pentafluorophenyl group.

T1は酸素原子または硫黄原子を表し、ZT1はスルホニウムイオンが結合したベンゼン環に対して、オルト位またはパラ位に結合することが好ましく、パラ位で結合することがより好ましい。RT13、RT14はそれぞれアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、アルキル基、芳香族基は上述したRT11、RT12と同義の基を表し、アルコキシ基、アリールオキシ基としては、酸素原子に上述したRT11、RT12と同義の基が一箇所結合した基であり、例としてはアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)等が挙げられ、アルキルチオ基、アリールチオ基としては、硫黄原子に上述したRT11、RT12と同義の基が一箇所結合した基であり、例としては、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)等が挙げられる。上述した芳香族基、アリールオキシ基、アリールチオ基は、縮合環を有していてもよい。上述したアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基はさらに置換基を有していていもよく、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよく、縮合環を有していてもよく、該置換基の例としては、上述したRT11の置換基の例と同義の基を挙げることができ、これらの置換基は、さらに置換基によって置換されていてもよく、また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。RT13、RT14で表されるアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基はさらに置換基を有していても、有していなくてもよいが、好ましくは、無置換のアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基であるか、またはハロゲン原子が置換したアルキル基またはアルコキシ基が置換した芳香族基であり、より好ましくは無置換のアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基であるか、またはフッ素原子が置換したアルキル基、またはアルコキシ基が置換した芳香族基であり、フッ素原子が置換したアルキル基の例としては、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等を挙げることができる。 Z T1 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and Z T1 is preferably bonded to the ortho-position or para-position, and more preferably bonded to the para-position, with respect to the benzene ring to which the sulfonium ion is bonded. R T13 and R T14 each represent an alkyl group, an aromatic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, and an arylthio group, and the alkyl group and the aromatic group represent the same groups as R T11 and R T12 described above, The alkoxy group and the aryloxy group are groups in which a group having the same meaning as R T11 and R T12 described above is bonded to an oxygen atom at one position, and examples include an alkoxy group (for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, Pentyloxy group, hexyloxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, pentafluorophenyl group, etc.), cycloalkoxy group (for example, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group) Etc.), aryloxy groups (for example, phenoxy group, naphthyloxy group, etc.) Are, alkylthio group, arylthio group, an R T11 described above to a sulfur atom, R T12 synonymous groups attached thereto one location group, examples, alkylthio group (e.g., methylthio group, ethylthio group, propylthio group Pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, dodecylthio group, etc.), cycloalkylthio group (eg, cyclopentylthio group, cyclohexylthio group, etc.), arylthio group (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.) and the like. The aromatic group, aryloxy group, and arylthio group described above may have a condensed ring. The alkyl group, aromatic group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, and arylthio group described above may further have a substituent, and a plurality of these substituents are bonded to each other to form a ring. And may have a condensed ring, and examples of the substituent include the same groups as the examples of the substituent of R T11 described above. These substituents may be substituted, or a plurality of these substituents may be bonded to each other to form a ring. The alkyl group, aromatic group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group and arylthio group represented by R T13 and R T14 may or may not have a substituent, but preferably , An unsubstituted alkyl group, an aromatic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, or an alkyl group substituted with a halogen atom or an aromatic group substituted with an alkoxy group, more preferably An unsubstituted alkyl group, an aromatic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkyl group substituted with a fluorine atom, or an aromatic group substituted with an alkoxy group, and the fluorine atom Examples of substituted alkyl groups include fluoromethyl, trifluoromethyl, pentafluoroethyl, pen Fluorophenyl group and the like.

t1は0〜4の整数を表し、好ましく0〜3であり、より好ましくは0〜2であり、nt1及びpt1はそれぞれ1〜5の整数を表し、それぞれ好ましくは1〜3であり、より好ましくはそれぞれ1〜2である。複数個のRT12、RT13、RT14、はそれぞれ、同じでも異なってもよく、RT11とRT12あるいは複数個のRT12同士が結合して環を形成してもよく、RT12とRT13あるいは複数個のRT13同士が結合して環を形成してもよく、RT12とRT14あるいは複数個のRT14同士が結合して環を形成してもよく、RT12とRT14が結合して環を形成してもよい。RT13の少なくとも一つはスルホニウムイオンが結合したベンゼン環に対して、オルト位またはパラ位に結合することが好ましく、パラ位で結合することがより好ましい。RT14の少なくとも一つはスルホニウムイオンが結合したベンゼン環に対して、オルト位またはパラ位に結合することが好ましく、パラ位で結合することがより好ましい。XT1は対アニオンを表し、対アニオンとしては、F-、Cl-、Br-等のハロゲンイオン、BF4 -、B(C654 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、GaF6 -等の錯イオン、ベンゼンスルホン酸イオン(例えば、p−CH364SO3 -、C65SO3 -)、アルキルスルホン酸イオン(例えば、CH3SO3 -、C25SO3 -)、フッ化アルキルスルホン酸イオン(例えば、CF3SO3 -、C25SO3 -、C919SO3 -)、フッ化アルキルベンゼンスルホン酸イオン(例えば、p−CF3−C64SO3 -、p−CF3−C64SO3 -)、フッ化ベンゼンスルホン酸イオン(例えば、p−F−C64SO3 -、C65SO3 -、)等のスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしては、PF6 -、BF4 -、SbF6 -、GaF6 -、AsF6 -、B(C654 -、フッ化アルキルスルホン酸イオン(例えば、CF3SO3 -、C25SO3 -、C919SO3 -)がより好ましく、BF4 -、B(C654 -及びPF6 -が最も好ましい。 m t1 represents an integer of 0 to 4, preferably 0 to 3, more preferably 0 to 2, and n t1 and p t1 each represents an integer of 1 to 5, preferably 1 to 3, respectively. More preferably, it is 1-2 respectively. A plurality of R T12, R T13, R T14, respectively, which may be the same or different, may be R T11 and R T12, or a plurality of R T12 each other combine to form a ring, R T12 and R T13 or a plurality of R T13 may combine to form a ring, R T12 and R T14 or a plurality of R T14 may combine to form a ring, and R T12 and R T14 may They may combine to form a ring. At least one of R T13 is preferably bonded to the ortho position or the para position, and more preferably bonded to the para position, with respect to the benzene ring to which the sulfonium ion is bonded. At least one of R T14 is preferably bonded to the ortho or para position, and more preferably bonded to the para position, with respect to the benzene ring to which the sulfonium ion is bonded. X T1 represents a counter anion. Examples of the counter anion include halogen ions such as F , Cl and Br , BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 , PF 6 , AsF 6 and SbF 6. -, GaF 6 - like of the complex ion, benzenesulfonate ion (e.g., p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 -, C 6 H 5 SO 3 -), alkyl sulfonate ion (e.g., CH 3 SO 3 - , C 2 H 5 SO 3 ), fluorinated alkyl sulfonate ions (for example, CF 3 SO 3 , C 2 F 5 SO 3 , C 9 F 19 SO 3 ), fluorinated alkyl benzene sulfonate ions (for example, P-CF 3 —C 6 H 4 SO 3 , p-CF 3 —C 6 F 4 SO 3 ), fluorinated benzenesulfonate ions (for example, p-F—C 6 H 4 SO 3 , C And sulfonate ions such as 6 F 5 SO 3 ). Counter anions include PF 6 , BF 4 , SbF 6 , GaF 6 , AsF 6 , B (C 6 F 5 ) 4 , fluorinated alkyl sulfonate ions (for example, CF 3 SO 3 , C 2 F 5 SO 3 and C 9 F 19 SO 3 ) are more preferable, and BF 4 , B (C 6 F 5 ) 4 and PF 6 are most preferable.

以下に一般式(T−1)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定
されるものではない。
Specific examples of the compound represented by formula (T-1) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2005239877
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本発明に係るスルホニウム塩は、カチオン重合性を有する化合物100質量部に対して、0.2〜20質量部の比率で含有させることが好ましい。重合開始剤の含有量が0.2質量部未満では、硬化物を得ることが困難であり、20質量部を越えて含有させても、更なる硬化性向上効果はない。これら本発明のスルホニウム塩は、1種または2種以上を選択して使用することができる。   It is preferable to contain the sulfonium salt based on this invention in the ratio of 0.2-20 mass parts with respect to 100 mass parts of compounds which have cationic polymerizability. If the content of the polymerization initiator is less than 0.2 parts by mass, it is difficult to obtain a cured product, and even if the content exceeds 20 parts by mass, there is no further effect of improving curability. These sulfonium salts of the present invention can be used alone or in combination of two or more.

また、本発明の活性エネルギー線硬化組成物においては、さらにエポキシ化合物を含有することが好ましい。エポキシ化合物としては芳香族エポキシド、脂環式エポキシドが用いられる。   Moreover, in the active energy ray hardening composition of this invention, it is preferable to contain an epoxy compound further. An aromatic epoxide and an alicyclic epoxide are used as the epoxy compound.

芳香族エポキシドとして好ましいものは、少なくとも1個の芳香族核を有する多価フェノールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるジまたはポリグリシジルエーテルであり、例えばビスフェノールAあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールAあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、ならびにノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。   A preferable aromatic epoxide is a di- or polyglycidyl ether produced by the reaction of a polyhydric phenol having at least one aromatic nucleus or an alkylene oxide adduct thereof and epichlorohydrin, such as bisphenol A or an alkylene oxide thereof. Examples thereof include di- or polyglycidyl ethers of adducts, di- or polyglycidyl ethers of hydrogenated bisphenol A or alkylene oxide adducts thereof, and novolak type epoxy resins. Here, examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide.

脂環式エポキシドとしては、少なくとも1個のシクロへキセンまたはシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによつて得られる、シクロヘキセンオキサイドまたはシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましい。   The alicyclic epoxide can be obtained by epoxidizing a compound having at least one cycloalkane ring such as cyclohexene or cyclopentene ring with a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. Cyclohexene oxide or cyclopentene oxide-containing compounds are preferred.

脂肪族エポキシドの好ましいものとしては、脂肪族多価アルコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル等があり、その代表例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテルまたは1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリンあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル等のポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。   Preferred aliphatic epoxides include di- or polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof, and typical examples thereof include diglycidyl ether of ethylene glycol, diglycidyl ether of propylene glycol or Diglycidyl ether of alkylene glycol such as diglycidyl ether of 1,6-hexanediol, polyglycidyl ether of polyhydric alcohol such as di- or triglycidyl ether of glycerin or its alkylene oxide adduct, polyethylene glycol or its alkylene oxide adduct Of polyalkylene glycols such as diglycidyl ether, polypropylene glycol or diglycidyl ether of its alkylene oxide adduct Glycidyl ether, and the like. Here, examples of the alkylene oxide include ethylene oxide and propylene oxide.

これらのエポキシドのうち、迅速な硬化性を考慮すると、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。本発明では、上記エポキシドの1種を単独で使用してもよいが、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。   Among these epoxides, in view of rapid curability, aromatic epoxides and alicyclic epoxides are preferable, and alicyclic epoxides are particularly preferable. In the present invention, one of the epoxides may be used alone, or two or more may be used in appropriate combination.

脂環式エポキシドとして特に好ましいのは以下の一般式(A)、(1)〜(6)で表される化合物である。   Particularly preferred as the alicyclic epoxide are compounds represented by the following general formulas (A) and (1) to (6).

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一般式(A)、(1)〜(6)において、R100、R101、R102、R103、R104、R105、R106はそれぞれ置換基を表す。置換基としては、例えば、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等)等が挙げられる。上記置換基の中でも好ましいものは、アルキル基、アルコキシ基、またはアルコキシカルボニル基である。 Formula (A), representing the (1) in ~ (6), R 100, R 101, R 102, R 103, R 104, R 105, R 106 are each a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.) ), An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, Propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), acyloxy group (eg, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.) Etc. Among the above substituents, an alkyl group, an alkoxy group, or an alkoxycarbonyl group is preferable.

前記一般式(A)、(1)〜(6)において、m0、m1、m2、m3、m4、m6はそれぞれ0〜2の整数を表し、0または1が好ましい。また、m5は1または2を表す。   In the general formulas (A) and (1) to (6), m0, m1, m2, m3, m4, and m6 each represents an integer of 0 to 2, and 0 or 1 is preferable. M5 represents 1 or 2.

前記一般式(A)において、L0は、主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数1〜15のr0+1価の連結基あるいは単結合を、前記一般式(1)において、L1は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数1〜15のr1+1価の連結基あるいは単結合を、前記一般式(2)において、L2は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数1〜15のr2+1価の連結基あるいは単結合を、前記一般式(3)、前記一般式(4)において、L3、L4はそれぞれ主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数8の2価の連結基または単結合を表す。 In formula (A), L 0 is the main chain of r0 + 1 valent connecting group or a single bond oxygen atoms or from 1 to 15 carbon atoms which may contain a sulfur atom, the general formula (1), L 1 Is an R1 + 1 valent linking group or single bond having 1 to 15 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. In the general formula (2), L 2 contains an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. In the general formula (3) and the general formula (4), L 3 and L 4 may each contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. Or a divalent linking group having a carbon number of 8 or a single bond.

上記主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい2価の連結基の例としては、以下の列挙する基及びこれらの基と−O−基、−S−基、−CO−基、−CS−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。   Examples of the divalent linking group that may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain include the following groups, and these groups and —O— group, —S— group, —CO— group, —CS -The group formed by combining a plurality of groups can be mentioned.

メチレン基[−CH2−]、
エチリデン基[>CHCH3]、
イソプロピリデン[>C(CH32]、
1,2−エチレン基[−CH2CH2−]、
1,2−プロピレン基[−CH(CH3)CH2−]、
1,3−プロパンジイル基[−CH2CH2CH2−]、
2,2−ジメチル−1,3−プロパンジイル基[−CH2C(CH32CH2−]、
2,2−ジメトキシ−1,3−プロパンジイル基[−CH2C(OCH32CH2−]、
2,2−ジメトキシメチル−1,3−プロパンジイル基[−CH2C(CH2OCH32CH2−]、
1−メチル−1,3−プロパンジイル基[−CH(CH3)CH2CH2−]、
1,4−ブタンジイル基[−CH2CH2CH2CH2−]、
1,5−ペンタンジイル基[−CH2CH2CH2CH2CH2−]、
オキシジエチレン基[−CH2CH2OCH2CH2−]、
チオジエチレン基[−CH2CH2SCH2CH2−]、
3−オキソチオジエチレン基[−CH2CH2SOCH2CH2−]、
3,3−ジオキソチオジエチレン基[−CH2CH2SO2CH2CH2−]、
1,4−ジメチル−3−オキサ−1,5−ペンタンジイル基[−CH(CH3)CH2OCH(CH3)CH2−]、
3−オキソペンタンジイル基[−CH2CH2COCH2CH2−]、
1,5−ジオキソ−3−オキサペンタンジイル基[−COCH2OCH2CO−]、
4−オキサ−1,7−ヘプタンジイル基[−CH2CH2CH2OCH2CH2CH2−]、
3,6−ジオキサ−1,8−オクタンジイル基[−CH2CH2OCH2CH2OCH2CH2−]、
1,4,7−トリメチル−3,6−ジオキサ−1,8−オクタンジイル基[−CH(CH3)CH2OCH(CH3)CH2OCH(CH3)CH2−]、
5,5−ジメチル−3,7−ジオキサ−1,9−ノナンジイル基[−CH2CH2OCH2C(CH32CH2OCH2CH2−]、
5,5−ジメトキシ−3,7−ジオキサ−1,9−ノナンジイル基[−CH2CH2OCH2C(OCH32CH2OCH2CH2−]、
5,5−ジメトキシメチル−3,7−ジオキサ−1,9−ノナンジイル基[−CH2CH2OCH2C(CH2OCH32CH2OCH2CH2−]、
4,7−ジオキソ−3,8−ジオキサ−1,10−デカンジイル基[−CH2CH2O−COCH2CH2CO−OCH2CH2−]、
3,8−ジオキソ−4,7−ジオキサ−1,10−デカンジイル基[−CH2CH2CO−OCH2CH2O−COCH2CH2−]、
1,3−シクロペンタンジイル基[−1,3−C58−]、
1,2−シクロヘキサンジイル基[−1,2−C610−]、
1,3−シクロヘキサンジイル基[−1,3−C610−]、
1,4−シクロヘキサンジイル基[−1,4−C610−]、
2,5−テトラヒドロフランジイル基[2,5−C46O−]
p−フェニレン基[−p−C64−]、
m−フェニレン基[−m−C64−]、
α,α′−o−キシリレン基[−o−CH2−C64−CH2−]、
α,α′−m−キシリレン基[−m−CH2−C64−CH2−]、
α,α′−p−キシリレン基[−p−CH2−C64−CH2−]、
フラン−2,5−ジイル−ビスメチレン基[2,5−CH2−C42O−CH2−]、
チオフェン−2,5−ジイル−ビスメチレン基[2,5−CH2−C42S−CH2−]、
イソプロピリデンビス−p−フェニレン基[−p−C64−C(CH32−p−C64−]
3価以上の連結基としては、上記で列挙した2価の連結基〜任意の部位の水素原子を必要なだけ除いてできる基、及びそれらと−O−基、−S−基、−CO−基、−CS−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。
A methylene group [—CH 2 —],
An ethylidene group [> CHCH 3 ],
Isopropylidene [> C (CH 3 ) 2 ],
1,2-ethylene group [—CH 2 CH 2 —],
1,2-propylene group [—CH (CH 3 ) CH 2 —],
1,3-propanediyl group [—CH 2 CH 2 CH 2 —],
2,2-dimethyl-1,3-propanediyl group [—CH 2 C (CH 3 ) 2 CH 2 —],
2,2-dimethoxy-1,3-propanediyl group [—CH 2 C (OCH 3 ) 2 CH 2 —],
2,2-dimethoxymethyl-1,3-propanediyl group [—CH 2 C (CH 2 OCH 3 ) 2 CH 2 —],
1-methyl-1,3-propanediyl group [—CH (CH 3 ) CH 2 CH 2 —],
1,4-butanediyl group [—CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —],
1,5-pentanediyl group [—CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —],
An oxydiethylene group [—CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
A thiodiethylene group [—CH 2 CH 2 SCH 2 CH 2 —],
3-oxothiodiethylene group [—CH 2 CH 2 SOCH 2 CH 2 —],
3,3-dioxothiodiethylene group [—CH 2 CH 2 SO 2 CH 2 CH 2 —],
1,4-dimethyl-3-oxa-1,5-pentanediyl group [—CH (CH 3 ) CH 2 OCH (CH 3 ) CH 2 —],
3-oxopentanediyl group [—CH 2 CH 2 COCH 2 CH 2 —],
1,5-dioxo-3-oxapentanediyl group [—COCH 2 OCH 2 CO—],
4-oxa-1,7-heptanediyl group [—CH 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 —],
3,6-dioxa-1,8-octanediyl group [—CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
1,4,7-trimethyl-3,6-dioxa-1,8-octanediyl group [—CH (CH 3 ) CH 2 OCH (CH 3 ) CH 2 OCH (CH 3 ) CH 2 —],
5,5-dimethyl-3,7-dioxa-1,9-nonanediyl group [—CH 2 CH 2 OCH 2 C (CH 3 ) 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
5,5-dimethoxy-3,7-dioxa-1,9-nonanediyl group [—CH 2 CH 2 OCH 2 C (OCH 3 ) 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
5,5-dimethoxymethyl-3,7-dioxa-1,9-nonanediyl group [—CH 2 CH 2 OCH 2 C (CH 2 OCH 3 ) 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —],
4,7-dioxo-3,8-dioxa-1,10-decandiyl group [—CH 2 CH 2 O—COCH 2 CH 2 CO—OCH 2 CH 2 —],
3,8-dioxo-4,7-dioxa-1,10-decandiyl group [—CH 2 CH 2 CO—OCH 2 CH 2 O—COCH 2 CH 2 —],
1,3-cyclopentanediyl group [-1,3-C 5 H 8 —],
1,2-cyclohexanediyl group [-1,2-C 6 H 10- ],
1,3-cyclohexanediyl group [-1,3-C 6 H 10- ],
1,4-cyclohexanediyl group [-1,4-C 6 H 10- ],
2,5-tetrahydrofurandiyl group [2,5-C 4 H 6 O—]
p- phenylene [-p-C 6 H 4 - ],
m- phenylene group [-m-C 6 H 4 - ],
α, α′-o-xylylene group [—o—CH 2 —C 6 H 4 —CH 2 —],
α, α′-m-xylylene group [—m—CH 2 —C 6 H 4 —CH 2 —],
α, α'-p- xylylene group [-p-CH 2 -C 6 H 4 -CH 2 -],
Furan-2,5-diyl - bismethylene group [2,5-CH 2 -C 4 H 2 O-CH 2 -],
A thiophene-2,5-diyl-bismethylene group [2,5-CH 2 —C 4 H 2 S—CH 2 —],
Isopropylidenebis -p- phenylene group [-p-C 6 H 4 -C (CH 3) 2 -p-C 6 H 4 -]
Examples of the trivalent or higher valent linking group include the divalent linking groups listed above to groups formed by removing hydrogen atoms at arbitrary positions as necessary, and those with —O— group, —S— group, —CO—. And a group formed by combining a plurality of groups and -CS- groups.

0、L1、L2、L3、L4はそれぞれ置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等)等が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、またはアルコキシカルボニル基である。 L 0 , L 1 , L 2 , L 3 and L 4 may each have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.) ), An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, Propionyl group, trifluoroacetyl group, etc.), acyloxy group (eg, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.) Etc. Preferred as a substituent is an alkyl group, an alkoxy group, or an alkoxycarbonyl group.

0、L1、L2としては、主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数1〜8の2価の連結基が好ましく、あるいはL0、L1、L2、L3、L4としてはそれぞれ主鎖が炭素のみ〜なる炭素数1〜5の2価の連結基がより好ましい。 L 0 , L 1 and L 2 are preferably divalent linking groups having 1 to 8 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain, or L 0 , L 1 , L 2 , L 3 , L 4 is more preferably a divalent linking group having 1 to 5 carbon atoms, each having a main chain consisting of only carbon.

p1、q1はそれぞれ0または1を表し、p1+q1が1以上であることが好ましい。p2、q2はそれぞれ0または1を表し、それぞれ1が好ましい。p3、p4はそれぞれ0または1を表す。   p1 and q1 each represents 0 or 1, and p1 + q1 is preferably 1 or more. p2 and q2 each represents 0 or 1, and 1 is preferable for each. p3 and p4 each represents 0 or 1.

以下に、好ましい脂環式エポキシドの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of preferable alicyclic epoxides are shown below, but the present invention is not limited thereto.

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本発明に係る上記各脂環式エポキシド化合物においては、分子量を分子内のエポキシ基の総数で除した数値が160〜300であることが好ましい。   In each of the above alicyclic epoxide compounds according to the present invention, a value obtained by dividing the molecular weight by the total number of epoxy groups in the molecule is preferably 160 to 300.

前記一般式(A)、(1)〜(6)で表される脂環式エポキシド化合物の合成は、例えば、以下に列挙する特許明細書に記載の方法に準じて行うことができる。   The synthesis of the alicyclic epoxide compounds represented by the general formulas (A) and (1) to (6) can be performed, for example, according to the methods described in the patent specifications listed below.

A:米国特許2,745,847号明細書
B:米国特許2,750,395号明細書
C:米国特許2,853,498号明細書
D:米国特許2,853,499号明細書
E:米国特許2,863,881号明細書
以下に、上記特許明細書に記載されている方法に準じて、上記例示化合物の合成例の一例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
A: US Pat. No. 2,745,847 B: US Pat. No. 2,750,395 C: US Pat. No. 2,853,498 D: US Pat. No. 2,853,499 E: US Pat. No. 2,863,881 In the following, examples of the synthesis of the above exemplified compounds are shown below according to the methods described in the above patent specifications, but the present invention is not limited thereto. is not.

〔合成例1〕
例示化合物EP−9:Ethylenglycol−bis−(4−methyl−3,4−epoxy−cyclohexanecarboxylate)の合成
〈Methyl−(4−methyl−3−cyclohexenecarboxylate)の合成〉
公知のDiels−Alder反応によって、イソプレンとアクリル酸メチルを原料に、Methyl−(4−methyl−3−cyclohexenecarboxylate)を合成した。反応は、文献(J.Organomet.Chem.,285,1985,333−342、J.Phys.Chem.,95,5,1992,2293−2297、Acta.Chem.Scand.,47,6,1993,581−591)あるいは米国特許第1,944,731号明細書等に記載された条件に準じた反応条件で行ない、高収率で目的の化合物を得た。
[Synthesis Example 1]
Example Compound EP-9: Synthesis of Ethylglycol-bis- (4-methyl-3,4-epoxy-cyclohexanecarboxylate) <Synthesis of Methyl- (4-methyl-3-cyclohexanecarboxylate)>
Methyl- (4-methyl-3-cyclohexanecarboxylate) was synthesized from isoprene and methyl acrylate as raw materials by a known Diels-Alder reaction. Reactions are described in the literature (J. Organomet. Chem., 285, 1985, 333-342, J. Phys. Chem., 95, 5, 1992, 2293-2297, Acta. Chem. Scand., 47, 6, 1993, 581-591) or reaction conditions according to the conditions described in US Pat. No. 1,944,731, etc., and the desired compound was obtained in high yield.

〈Ethylenglycol−bis−(4−methyl−3−cyclohexenecarboxylate)の合成〉
Methyl−(4−methyl−3−cyclohexenecarboxylate)の340g(2mol)と、エチレングリコール62g(1mol)とにトルエンスルホン酸1水和物1gを添加し、80〜90℃で8時間反応した。反応液を重曹水で洗浄した後、減圧蒸留を行い、目的の化合物を得た。収率は92%だった。
<Synthesis of Ethyleneglycol-bis- (4-methyl-3-cyclohexenecarboxylate)>
1 g of toluenesulfonic acid monohydrate was added to 340 g (2 mol) of Methyl- (4-methyl-3-cyclohexanecarboxylate) and 62 g (1 mol) of ethylene glycol, and reacted at 80 to 90 ° C. for 8 hours. The reaction solution was washed with aqueous sodium bicarbonate and then distilled under reduced pressure to obtain the target compound. The yield was 92%.

〈例示化合物EP−9の合成〉
Ethylenglycol−bis−(4−methyl−3−cyclohexenecarboxylate)の306g(1mol)を2Lの三頭フラスコに入れ、内温を35〜40℃に保ったまま、過酢酸含有率が25質量%のアセトン溶液770g(過酢酸192g(2.5mol))を4時間かけて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で4時間後反応した。反応液は−11℃で一晩保存した後、過酢酸の残量を調べ理論量の98%以上が反応していることを確認した。
<Synthesis of Exemplified Compound EP-9>
306 g (1 mol) of ethylglycol-bis- (4-methyl-3-cyclohexanecarbylate) is placed in a 2 L three-headed flask, and an acetone solution having a peracetic acid content of 25% by mass while maintaining the internal temperature at 35 to 40 ° C. 770 g (192 g (2.5 mol) peracetic acid) was added dropwise over 4 hours. After completion of the dropwise addition, the reaction was carried out after 4 hours at the same temperature. The reaction solution was stored at −11 ° C. overnight, and then the remaining amount of peracetic acid was examined to confirm that 98% or more of the theoretical amount had reacted.

次いで、反応液をトルエン1Lで希釈し、水流アスピレーターによる減圧下で50℃に加熱し溜出物がなくなるまで低沸点成分を溜去し除去した。残った反応組成物を減圧蒸留し、目的の例示化合物EP−9を得た。収率は78%であった。   Next, the reaction solution was diluted with 1 L of toluene, heated to 50 ° C. under reduced pressure using a water aspirator, and the low boiling point components were distilled off and removed until the distillate disappeared. The remaining reaction composition was distilled under reduced pressure to obtain the target exemplified compound EP-9. The yield was 78%.

得られた例示化合物EP−9の構造は、NMR、MASS分析で確認した。   The structure of the obtained exemplary compound EP-9 was confirmed by NMR and MASS analysis.

1H NMR (CDCl3) δ(ppm):1.31(s,6H,CH3−)、1.45〜2.50(m,14H,シクロヘキサン環)、3.10(m,2H,エポキシ根元)、4.10(s,4H,−CH2−O−)
〔合成例2〕
例示化合物EP−12:Propane−1,2−diol−bis−(4−methyl−3,4−epoxy−cyclohexanecarboxylate)の合成
〈Propane−1,2−diol−bis−(4−methyl−3−cyclohexenecarboxylate)の合成〉
Methyl−(4−methyl−3−cyclohexenecarboxylate)の340g(2mol)と、Propane−1,2−diolの76g(1mol)にトルエンスルホン酸1水和物1gを添加し、80〜90℃で8時間反応した。反応液を重曹水で洗浄した後、減圧蒸留を行い目的の化合物を得た。収率は90%だった。
1H NMR (CDCl 3 ) δ (ppm): 1.31 (s, 6H, CH 3 —), 1.45 to 2.50 (m, 14H, cyclohexane ring), 3.10 (m, 2H, epoxy root) ), 4.10 (s, 4H, —CH 2 —O—)
[Synthesis Example 2]
Example Compound EP-12: Synthesis of Propane-1,2-diol-bis- (4-methyl-3,4-epoxy-cyclohexanecarboxylate) <Propane-1,2-diol-bis- (4-methyl-3-cyclohexanecarbylate) )
1 g of toluenesulfonic acid monohydrate was added to 340 g (2 mol) of Methyl- (4-methyl-3-cyclohexanecarboxylate) and 76 g (1 mol) of Propane-1,2-diol at 80 to 90 ° C. for 8 hours. Reacted. The reaction solution was washed with aqueous sodium bicarbonate, and then distilled under reduced pressure to obtain the target compound. The yield was 90%.

〈例示化合物EP−12の合成〉
Propane−1,2−diol−bis−(4−methyl−3−cyclohexenecarboxylate)の320g(1mol)を2Lの三頭フラスコに入れ、内温を35〜40℃に保ったまま、過酢酸含有率が25質量%のアセトン溶液770g(過酢酸192g(2.5mol))を4時間かけて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で4時間後反応した。反応液は−11℃で一晩保存した後、過酢酸の残量を調べ理論量の98%以上が反応していることを確認した。
<Synthesis of Exemplified Compound EP-12>
Propane-1,2-diol-bis- (4-methyl-3-cyclohexenecarboxylate) 320 g (1 mol) was placed in a 2 L three-headed flask, and the peracetic acid content was kept at 35-40 ° C. while maintaining the internal temperature at 35-40 ° C. 770 g of a 25 mass% acetone solution (192 g (2.5 mol) of peracetic acid) was added dropwise over 4 hours. After completion of the dropwise addition, the reaction was carried out after 4 hours at the same temperature. The reaction solution was stored at −11 ° C. overnight, and then the remaining amount of peracetic acid was examined to confirm that 98% or more of the theoretical amount had reacted.

次いで、反応液をトルエン1Lで希釈し、水流アスピレーターによる減圧下で50℃に加熱し溜出物がなくなるまで低沸点成分を溜去し除去した。   Next, the reaction solution was diluted with 1 L of toluene, heated to 50 ° C. under reduced pressure using a water aspirator, and the low boiling point components were distilled off and removed until the distillate disappeared.

残った反応組成物を減圧蒸留し、目的の例示化合物EP−12を得た。収率は75%だった。   The remaining reaction composition was distilled under reduced pressure to obtain the target exemplified compound EP-12. The yield was 75%.

得られた例示化合物EP−12の構造は、NMR、MASS分析で確認した。   The structure of the obtained exemplary compound EP-12 was confirmed by NMR and MASS analysis.

1H NMR (CDCl3) δ(ppm):1.23(d,3H,CH3−)、1.31(s,6H,CH3−)、1.45〜2.50(m,14H,シクロヘキサン環)、3.15(m,2H,エポキシ根元)、4.03(m,1H,−O−CH2−)、4.18(m,1H,−O−CH2−)、5.15(m,1H,>CH−O−)
〔合成例3〕
例示化合物EP−17:2,2−Dimethyl−propane−1,3−diol−bis−(4−methyl−3,4−epoxy−cyclohexanecarboxylate)の合成
〈2,2−Dimethyl−propane−1,3−diol−bis−(4−methyl−3−cyclohexenecarboxylate)の合成〉
Methyl−(4−methyl−3−cyclohexenecarboxylate)の340g(2mol)と、2,2−Dimethyl−propane−1,3−diolの104g(1mol)とに、トルエンスルホン酸1水和物1gを添加し80〜90℃で12時間反応した。反応液を重曹水で洗浄した後、減圧蒸留を行い目的の化合物を得た。収率は86%だった。
1H NMR (CDCl 3 ) δ (ppm): 1.23 (d, 3H, CH 3 —), 1.31 (s, 6H, CH 3 —), 1.45 to 2.50 (m, 14H, cyclohexane) Ring), 3.15 (m, 2H, epoxy root), 4.03 (m, 1H, —O—CH 2 —), 4.18 (m, 1H, —O—CH 2 —), 5.15 (M, 1H,> CH-O-)
[Synthesis Example 3]
Synthesis of Exemplary Compound EP-17: 2,2-Dimethyl-propane-1,3-diol-bis- (4-methyl-3,4-epoxy-cyclohexanecarboxylate) <2,2-Dimethyl-propane-1,3- Synthesis of diol-bis- (4-methyl-3-cyclohexenecarboxylate)>
1 g of toluenesulfonic acid monohydrate was added to 340 g (2 mol) of methyl- (4-methyl-3-cyclohexanecarboxylate) and 104 g (1 mol) of 2,2-dimethyl-propane-1,3-diol. It reacted at 80-90 degreeC for 12 hours. The reaction solution was washed with aqueous sodium bicarbonate, and then distilled under reduced pressure to obtain the target compound. The yield was 86%.

〈例示化合物EP−17の合成〉
2,2−Dimethyl−propane−1,3−diol−bis−(4−methyl−3−cyclohexenecarboxylate)の348g(1mol)を2Lの三頭フラスコに入れ、内温を40℃に保ったまま、過酢酸含有率が25質量%のアセトン溶液770g(過酢酸192g(2.5mol))を4時間かけて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で4時間後反応した。反応液は−11℃で一晩保存した後、過酢酸の残量を調べ理論量の98%以上が反応していることを確認した。
<Synthesis of Exemplified Compound EP-17>
348 g (1 mol) of 2,2-Dimethyl-propane-1,3-diol-bis- (4-methyl-3-cyclohexenecarboxylate) was placed in a 2 L three-headed flask, and the internal temperature was kept at 40 ° C. 770 g of an acetone solution having an acetic acid content of 25% by mass (192 g (2.5 mol) of peracetic acid) was added dropwise over 4 hours. After completion of the dropwise addition, the reaction was carried out after 4 hours at the same temperature. The reaction solution was stored at −11 ° C. overnight, and then the remaining amount of peracetic acid was examined to confirm that 98% or more of the theoretical amount had reacted.

次いで、反応液をトルエン1Lで希釈し、水流アスピレーターによる減圧下で50℃に加熱し溜出物がなくなるまで低沸点成分を溜去し除去した。   Next, the reaction solution was diluted with 1 L of toluene, heated to 50 ° C. under reduced pressure using a water aspirator, and the low boiling point components were distilled off and removed until the distillate disappeared.

残った反応組成物を減圧蒸留し、目的の例示化合物EP−17を得た。収率は70%だった。   The remaining reaction composition was distilled under reduced pressure to obtain the target exemplified compound EP-17. The yield was 70%.

例示化合物EP−17の構造は、NMR、MASS分析で確認した。   The structure of exemplary compound EP-17 was confirmed by NMR and MASS analysis.

1H NMR (CDCl3) δ(ppm):0.96(s,6H,CH3−)、1.31(s,6H,CH3−)、1.45〜2.50(m,14H,シクロヘキサン環)、3.00(m,2H,エポキシ根元)、3.87(s,4H,−O−CH2−)
〔合成例4〕
例示化合物EP−31:1,3−Bis−(4−methyl−3,4−epoxy−cyclohexylmethyloxy)−2−propanolの合成
〈4−Methyl−3−cyclohexenylmethanolの合成〉
公知のDiels−Alder反応によって、イソプレンとアクロレインを原料に、4−Methyl−3−cyclohexenyl aldehydeを合成した。反応は、文献(J.Amer.Chem.Soc.,119,15,1997,3507−3512、Tetrahedron Lett.,40,32,1999,5817−5822)等に記載された条件に準じた反応条件で行ない、高収率で目的の化合物を得た。次いで、この化合物を還元することで4−Methyl−3−cyclohexenylmethanolを高収率で合成した。
1H NMR (CDCl 3 ) δ (ppm): 0.96 (s, 6H, CH 3 —), 1.31 (s, 6H, CH 3 —), 1.45 to 2.50 (m, 14H, cyclohexane) Ring), 3.00 (m, 2H, epoxy root), 3.87 (s, 4H, —O—CH 2 —)
[Synthesis Example 4]
Synthesis of Exemplified Compound EP-31: 1,3-Bis- (4-methyl-3,4-epoxy-cyclohexylmethyl) -2-propanol <Synthesis of 4-Methyl-3-cyclohexenylmethyl>
4-Methyl-3-cyclohexenyl aldehyde was synthesized from isoprene and acrolein by known Diels-Alder reactions. The reaction was performed under the reaction conditions according to the conditions described in the literature (J. Amer. Chem. Soc., 119, 15, 1997, 3507-3512, Tetrahedron Lett., 40, 32, 1999, 5817-5822). The target compound was obtained in high yield. Subsequently, 4-methyl-3-cyclohexenyl methanol was synthesized in a high yield by reducing this compound.

〈1,2−Bis−(4−methyl−3−cyclohexenylmethyloxy)−2−propanolの合成〉
4−Methyl−3−cyclohexenylmethanolの284g(2mol)と、エピクロルヒドリンを92g(1mol)含むアセトン1L溶液に炭酸カリウムを305g(2.2mol)添加し、50℃で8時間反応した。析出した塩をろ過によって除去し、反応液を減圧濃縮した後、残った粗生物の減圧蒸留を行い目的の化合物を得た。収率は90%だった。
<Synthesis of 1,2-Bis- (4-methyl-3-cyclohexylmethyl) -2-propanol>
305 g (2.2 mol) of potassium carbonate was added to 1 L of acetone containing 284 g (2 mol) of 4-methyl-3-cyclohexenylethanol and 92 g (1 mol) of epichlorohydrin, and reacted at 50 ° C. for 8 hours. The precipitated salt was removed by filtration, the reaction solution was concentrated under reduced pressure, and the remaining crude product was distilled under reduced pressure to obtain the desired compound. The yield was 90%.

〈例示化合物EP−31の合成〉
1,2−Bis−(4−methyl−3−cyclohexenylmethyloxy)−2−propanolの308g(1mol)を2Lの三頭フラスコに入れ、内温を35〜40℃に保ったまま、過酢酸含有率が25質量%のアセトン溶液770g(過酢酸192g(2.5mol))を4時間かけて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で4時間後反応した。反応液は−11℃で一晩保存した後、過酢酸の残量を調べ理論量の98%以上が反応していることを確認した。
<Synthesis of Exemplified Compound EP-31>
308 g (1 mol) of 1,2-Bis- (4-methyl-3-cyclomethylyloxy) -2-propanol was placed in a 2 L three-headed flask, and the peracetic acid content was maintained while maintaining the internal temperature at 35-40 ° C. 770 g of a 25 mass% acetone solution (192 g (2.5 mol) of peracetic acid) was added dropwise over 4 hours. After completion of the dropwise addition, the reaction was carried out after 4 hours at the same temperature. The reaction solution was stored at −11 ° C. overnight, and then the remaining amount of peracetic acid was examined to confirm that 98% or more of the theoretical amount had reacted.

次いで、反応液をトルエン1Lで希釈し、水流アスピレーターによる減圧下で50℃に加熱し溜出物がなくなるまで低沸点成分を溜去し除去した。   Next, the reaction solution was diluted with 1 L of toluene, heated to 50 ° C. under reduced pressure using a water aspirator, and the low boiling point components were distilled off and removed until the distillate disappeared.

残った反応組成物を減圧蒸留し、目的の例示化合物EP−31を得た。収率は83%だった。   The remaining reaction composition was distilled under reduced pressure to obtain the target exemplified compound EP-31. The yield was 83%.

例示化合物EP−31の構造は、NMR、MASS分析で確認した。   The structure of exemplary compound EP-31 was confirmed by NMR and MASS analysis.

1H NMR (CDCl3) δ(ppm):1.31(s,6H,CH3−)、1.4〜2.0(m,14H,シクロヘキサン環)、2.7(s,1H,−OH)、3.10(m,2H,エポキシ根元)、3.45(d,4H,−CH2−O−)、3.50(m,4H,−CH2−O−)、3.92(m,1H,>CH−)
〔合成例5〕
例示化合物EP−35:Bis−(4−methyl−3,4−epoxy−cyclohexylmethyl)oxalateの合成
〈Bis−(4−methyl−3−cyclohexenylmethyl)succinateの合成〉
4−Methyl−3−cyclohexenylmethanolの284g(2mol)と、コハク酸無水物を100g(1mol)含むトルエン1L溶液とに、トルエンスルホン酸1水和物5gを添加し、生成する水を水分離装置で除去しながら110〜120℃で8時間反応した。反応液を重曹水で洗浄した後、減圧濃縮でトルエンを溜去した。残った粗生物の減圧蒸留を行い目的の化合物を得た。収率は90%だった。
1H NMR (CDCl 3 ) δ (ppm): 1.31 (s, 6H, CH 3 —), 1.4 to 2.0 (m, 14H, cyclohexane ring), 2.7 (s, 1H, —OH) ), 3.10 (m, 2H, epoxy base), 3.45 (d, 4H, -CH 2 -O -), 3.50 (m, 4H, -CH 2 -O -), 3.92 ( m, 1H,> CH-)
[Synthesis Example 5]
Exemplary Compound EP-35: Synthesis of Bis- (4-methyl-3,4-epoxy-cyclohexylmethyl) oxalate <Synthesis of Bis- (4-methyl-3-cyclomethylethyl) succinate>
To a 1 L toluene solution containing 284 g (2 mol) of 4-methyl-3-cyclohexenyl methanol and 100 g (1 mol) of succinic anhydride, 5 g of toluenesulfonic acid monohydrate was added, and water produced was separated with a water separator. The reaction was carried out at 110 to 120 ° C. for 8 hours while removing. The reaction solution was washed with an aqueous sodium bicarbonate solution, and toluene was distilled off by concentration under reduced pressure. The remaining crude product was distilled under reduced pressure to obtain the target compound. The yield was 90%.

〈例示化合物EP−35の合成〉
Bis−(4−methyl−3−cyclohexenylmethyl)succinateの335g(1mol)を2Lの三頭フラスコに入れ、内温を35〜40℃に保ったまま、過酢酸含有率が25質量%のアセトン溶液770g(過酢酸192g(2.5mol))を4時間かけて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で4時間後反応した。反応液は−11℃で一晩保存した後、過酢酸の残量を調べ理論量の98%以上が反応していることを確認した。
<Synthesis of Exemplified Compound EP-35>
335 g (1 mol) of Bis- (4-methyl-3-cyclohexylmethyl) succinate was put into a 2 L three-headed flask, and 770 g of an acetone solution having a peracetic acid content of 25% by mass while maintaining the internal temperature at 35 to 40 ° C. (192 g (2.5 mol) of peracetic acid) was added dropwise over 4 hours. After completion of the dropwise addition, the reaction was carried out after 4 hours at the same temperature. The reaction solution was stored at −11 ° C. overnight, and then the remaining amount of peracetic acid was examined to confirm that 98% or more of the theoretical amount had reacted.

次いで、反応液をトルエン1Lで希釈し、水流アスピレーターによる減圧下で50℃に加熱し、溜出物がなくなるまで低沸点成分を溜去し除去した。   Next, the reaction solution was diluted with 1 L of toluene, heated to 50 ° C. under reduced pressure using a water aspirator, and low boiling point components were distilled off and removed until the distillate disappeared.

残った反応組成物を減圧蒸留し、例示化合物EP−35を得た。収率は75%だった。   The remaining reaction composition was distilled under reduced pressure to obtain Exemplified Compound EP-35. The yield was 75%.

例示化合物EP−35の構造は、NMR、MASS分析で確認した。   The structure of exemplary compound EP-35 was confirmed by NMR and MASS analysis.

1H NMR (CDCl3) δ(ppm):1.31(s,6H,CH3−)、1.4〜2.0(m,14H,シクロヘキサン環)、3.10(m,2H,エポキシ根元)、2.62(s,4H,−CH2−CO−)、4.05(d,4H,−CH2−O−)
その他の上記で列挙した本発明に係る各脂環式エポキシド化合物も、上記の方法と同様にして収率良く合成できる。
1H NMR (CDCl3) δ (ppm): 1.31 (s, 6H, CH 3 —), 1.4 to 2.0 (m, 14H, cyclohexane ring), 3.10 (m, 2H, epoxy base) 2.62 (s, 4H, —CH 2 —CO—), 4.05 (d, 4H, —CH 2 —O—)
Other alicyclic epoxide compounds according to the present invention listed above can also be synthesized in a high yield in the same manner as in the above method.

本発明の活性エネルギー線硬化組成物においては、上記説明した本発明に係る前記一般式(A)、(1)〜(6)で表される脂環式エポキシド化合物と共に、オキセタン化合物を含有することが好ましい。オキセタン化合物としては、従来公知のオキセタン化合物を用いることができるが、特に2位が置換されていないオキセタン化合物を併用することで、感度向上効果あるいは硬化膜物性の改良効果を得ることができ好ましい。   The active energy ray-curable composition of the present invention contains an oxetane compound together with the alicyclic epoxide compound represented by the general formulas (A) and (1) to (6) according to the present invention described above. Is preferred. As the oxetane compound, a conventionally known oxetane compound can be used. Particularly, an oxetane compound which is not substituted at the 2-position is preferably used because an effect of improving the sensitivity or an effect of improving the physical properties of the cured film can be obtained.

以下、2位が置換されていないオキセタン化合物について説明する。   Hereinafter, the oxetane compound in which the 2-position is not substituted will be described.

2位が置換されていないオキセタン化合物の一例としては、下記一般式(101)で示される化合物が挙げられる。   As an example of the oxetane compound in which the 2-position is not substituted, a compound represented by the following general formula (101) can be given.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

一般式(101)において、R1は水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基またはチエニル基である。R2はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜6個のアルキル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基等の炭素数2〜6個のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基、フェノキシエチル基等の芳香環を有する基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基等の炭素数2〜6個のアルキルカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等の炭素数2〜6個のアルコキシカルボニル基、またはエチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基等の炭素数2〜6個のN−アルキルカルバモイル基等である。本発明で使用するオキセタン化合物としては、1個のオキセタン環を有する化合物を使用することが、得られる組成物が粘着性に優れ、低粘度で作業性に優れるため、特に好ましい。 In General Formula (101), R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an allyl group or an aryl group. , Furyl group or thienyl group. R 2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 2-methyl-2. -Alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms such as propenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group and 3-butenyl group, aromatic groups such as phenyl group, benzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group and phenoxyethyl group A group having a ring, an alkylcarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms such as an ethylcarbonyl group, a propylcarbonyl group and a butylcarbonyl group, an alkoxy having 2 to 6 carbon atoms such as an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group and a butoxycarbonyl group Carbonyl group, ethylcarbamoyl group, propylcarbamoyl group, butylcarbamoyl group, pentylcarbamoyl group Number 2-6 carbons of an N- alkylcarbamoyl group. As the oxetane compound used in the present invention, it is particularly preferable to use a compound having one oxetane ring because the resulting composition has excellent tackiness, low viscosity and excellent workability.

2個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式(102)で示される化合物等が挙げられる。   An example of a compound having two oxetane rings includes a compound represented by the following general formula (102).

Figure 2005239877
Figure 2005239877

一般式(102)において、R1は上記一般式(101)におけるそれと同様の基である。R3は、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等の線状または分枝状アルキレン基、ポリ(エチレンオキシ)基、ポリ(プロピレンオキシ)基等の線状または分枝状ポリ(アルキレンオキシ)基、プロペニレン基、メチルプロペニレン基、ブテニレン基等の線状または分枝状不飽和炭化水素基、またはカルボニル基またはカルボニル基を含むアルキレン基、カルボキシル基を含むアルキレン基、カルバモイル基を含むアルキレン基等である。 In the general formula (102), R 1 is the same group as that in the general formula (101). R 3 is, for example, a linear or branched alkylene group such as an ethylene group, a propylene group or a butylene group, a linear or branched poly (alkyleneoxy) such as a poly (ethyleneoxy) group or a poly (propyleneoxy) group. ) Group, propenylene group, methylpropenylene group, butenylene group or other linear or branched unsaturated hydrocarbon group, alkylene group containing carbonyl group or carbonyl group, alkylene group containing carboxyl group, alkylene containing carbamoyl group Group.

また、R3としては、下記一般式(103)、(104)及び(105)で示される基から選択される多価基も挙げることができる。 Moreover, as R < 3 >, the polyvalent group selected from the group shown by the following general formula (103), (104) and (105) can also be mentioned.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

一般式(103)において、R4は水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜4個のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜4個のアルコキシ基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシル基、カルボキシル基、またはカルバモイル基である。 In the general formula (103), R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, or a carbon such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, or a butoxy group. A C 1-4 alkoxy group, a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom, a nitro group, a cyano group, a mercapto group, a lower alkyl carboxyl group, a carboxyl group, or a carbamoyl group.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

一般式(104)において、R5は酸素原子、硫黄原子、メチレン基、NH、SO、SO2、C(CF32、またはC(CH32を表す。 In the general formula (104), R 5 represents an oxygen atom, a sulfur atom, a methylene group, NH, SO, SO 2 , C (CF 3 ) 2 , or C (CH 3 ) 2 .

Figure 2005239877
Figure 2005239877

一般式(105)において、R6はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜4個のアルキル基、またはアリール基である。nは0〜2000の整数である。R7はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基の炭素数1〜4個のアルキル基、またはアリール基である。R7としては、更に下記一般式(106)で示される基〜選択される基も挙げることができる。 In General Formula (105), R 6 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, or an aryl group. n is an integer of 0-2000. R 7 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an aryl group. Examples of R 7 also include a group represented by the following general formula (106) to a selected group.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

一般式(106)において、R8はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜4個のアルキル基、またはアリール基である。mは0〜100の整数である。 In General Formula (106), R 8 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, or an aryl group. m is an integer of 0-100.

2個のオキセタン環を有する化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。   Specific examples of the compound having two oxetane rings include the following compounds.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

例示化合物11は、前記一般式(102)において、R1がエチル基、R3がカルボキシル基である化合物である。また、例示化合物12は、前記一般式(102)において、R1がエチル基、R3が前記一般式(105)でR6及びR7がメチル基、nが1である化合物である。 Exemplary compound 11 is a compound in which R 1 is an ethyl group and R 3 is a carboxyl group in the general formula (102). The exemplified compound 12 is a compound in which R 1 is an ethyl group, R 3 is the general formula (105), R 6 and R 7 are methyl groups, and n is 1 in the general formula (102).

2個のオキセタン環を有する化合物において、上記の化合物以外の好ましい例としては、下記一般式(107)で示される化合物がある。   In the compound having two oxetane rings, a preferred example other than the above compound is a compound represented by the following general formula (107).

Figure 2005239877
Figure 2005239877

一般式(107)において、R1は前記一般式(101)のR1と同義である。 In formula (107), R 1 has the same meaning as R 1 in the general formula (101).

また、3〜4個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式(108)で示される化合物が挙げられる。   Moreover, as an example of a compound having 3 to 4 oxetane rings, a compound represented by the following general formula (108) can be given.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

一般式(108)において、R1は前記一般式(101)におけるR1と同義である。R9としては、例えば、下記A〜Cで示される基等の炭素数1〜12の分枝状アルキレン基、下記Dで示される基等の分枝状ポリ(アルキレンオキシ)基または下記Eで示される基等の分枝状ポリシロキシ基等が挙げられる。jは3または4である。 In formula (108), R 1 has the same meaning as R 1 in the general formula (101). As R 9 , for example, a branched alkylene group having 1 to 12 carbon atoms such as groups represented by the following A to C, a branched poly (alkyleneoxy) group such as a group represented by the following D, or the following E And branched polysiloxy groups such as those shown. j is 3 or 4.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

上記Aにおいて、R10はメチル基、エチル基またはプロピル基等の低級アルキル基である。また、上記Dにおいて、pは1〜10の整数である。 In the above A, R 10 is a lower alkyl group such as a methyl group, an ethyl group or a propyl group. Moreover, in said D, p is an integer of 1-10.

3〜4個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、例示化合物13が挙げられる。   Illustrative compound 13 is an example of a compound having 3 to 4 oxetane rings.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

更に、上記説明した以外の1〜4個のオキセタン環を有する化合物の例としては、下記一般式(109)で示される化合物が挙げられる。   Furthermore, examples of the compound having 1 to 4 oxetane rings other than those described above include compounds represented by the following general formula (109).

Figure 2005239877
Figure 2005239877

一般式(109)において、R8は前記一般式(106)のR8と同義である。R11はメチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基等の炭素数1〜4のアルキル基またはトリアルキルシリル基であり、rは1〜4である。 In formula (109), R 8 has the same meaning as R 8 in the general formula (106). R 11 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group or a trialkylsilyl group, and r is 1 to 4.

本発明で使用するオキセタン化合物の好ましい具体例としては、以下に示す化合物がある。   Preferable specific examples of the oxetane compound used in the present invention include the following compounds.

Figure 2005239877
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Figure 2005239877
Figure 2005239877

上述したオキセタン環を有する各化合物の製造方法は、特に限定されず、従来知られた方法に従えばよく、例えば、パティソン(D.B.Pattison,J.Am.Chem.Soc.,3455,79(1957))が開示している、ジオールからのオキセタン環合成法等がある。   The production method of each compound having an oxetane ring described above is not particularly limited, and may be a conventionally known method, for example, Pattisson (DB Pattison, J. Am. Chem. Soc., 3455, 79). (1957)) discloses a method for synthesizing an oxetane ring from a diol.

さらなる感度向上効果あるいは効果膜物性向上効果あるいは環境湿度変動耐性向上効果を得るために、下記一般式(I)、(II)、(III)、(IV)または(V)で表されるオキセタン化合物を含有していてもよい。   An oxetane compound represented by the following general formula (I), (II), (III), (IV) or (V) in order to obtain a further sensitivity improving effect, an effect film physical property improving effect or an environmental humidity fluctuation resistance improving effect May be contained.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

一般式(I)において、R101〜R104は水素原子または置換基を表す。R105は置換、無置換のアルコキシ基、または置換、無置換のアリールオキシ基を表し、m1は0、1または2を表す。R106は置換基を表し、n1は0〜3を表す。 In the general formula (I), R 101 ~R 104 represents a hydrogen atom or a substituent. R 105 represents a substituted or unsubstituted alkoxy group or a substituted or unsubstituted aryloxy group, and m1 represents 0, 1 or 2. R 106 represents a substituent, and n1 represents 0 to 3.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

一般式(II)において、R201〜R204は水素原子または置換基を表す。R205は置換、無置換のアルコキシ基、または置換、無置換のアリールオキシ基を表し、m2は0、1または2を表す。R206は置換基を表し、n2は0〜3を表す。 In formula (II), R 201 ~R 204 represents a hydrogen atom or a substituent. R205 represents a substituted or unsubstituted alkoxy group or a substituted or unsubstituted aryloxy group, and m2 represents 0, 1 or 2. R 206 represents a substituent, and n2 represents 0 to 3.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

一般式(III)において、R301〜R304は水素原子または置換基を表す。R305、R306は置換基を表し、m3、n3は0〜4を表す。 In the general formula (III), R 301 ~R 304 represents a hydrogen atom or a substituent. R 305 and R 306 represent a substituent, and m3 and n3 represent 0 to 4.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

一般式(IV)において、R401〜R404は水素原子または置換基を表す。R405は置換基を表し、m4は0〜4を表す。L1は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数1〜15の2価の連結基を表す。 In the general formula (IV), R 401 to R 404 represent a hydrogen atom or a substituent. R 405 represents a substituent, and m4 represents 0 to 4. L 1 represents a C 1-15 divalent linking group that may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

一般式(V)において、R501〜R504は水素原子または置換基を表す。R505は置換、無置換のアルキル基を表す。R506は置換基を表し、m5は0〜3を表す。L2は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数1〜15の2価の連結基、または酸素原子を表す。 In formula (V), R 501 ~R 504 represents a hydrogen atom or a substituent. R 505 represents a substituted or unsubstituted alkyl group. R 506 represents a substituent, and m5 represents 0 to 3. L 2 represents a C 1-15 divalent linking group which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain, or an oxygen atom.

一般式(I)のR101〜R104、一般式(II)のR201〜R204、一般式(III)のR301〜R304、一般式(IV)のR401〜R405、一般式(V)のR501〜R504で表される置換基の例としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、炭素数1〜6個のアルケニル基(例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基等)、炭素数1〜6個のアルキニル基(例えば、アセチレニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基等が挙げられる。 R 101 to R 104 of the general formula (I), R 201 to R 204 of the general formula (II), R 301 to R 304 of the general formula (III), R 401 to R 405 of the general formula (IV), Examples of the substituent represented by R 501 to R 504 in (V) include a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group) , Ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.), cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms (for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), 1 to 6 carbon atoms An alkenyl group (for example, vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, etc.), alkynyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, acetylenyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, etc.), carbon number 1 Alkoxy groups (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group, etc.), acyl groups (for example, acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group) Etc.), acyloxy groups (for example, acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group, etc.), alkoxycarbonyl groups (for example, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl groups, etc. Can be mentioned.

101とR102、R103とR104、R201とR202、R203とR204、R301とR302、R303とR304、R401とR402、R403とR404、R501とR502、R503とR504のように同一炭素上の2つの置換基が互いに末端で結合して2価の基となり環を形成してもよい。 R 101 and R 102, R 103 and R 104, R 201 and R 202, R 203 and R 204, R 301 and R 302, R 303 and R 304, R 401 and R 402, R 403 and R 404, R 501 And R 502 , R 503, and R 504 , two substituents on the same carbon may be bonded to each other at a terminal to form a divalent group to form a ring.

これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基である。   These groups may further have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n -Butoxy group, tert-butoxy group etc.), acyl group (eg acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group etc.), acyloxy group (eg acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group etc.), alkoxycarbonyl Examples thereof include a group (for example, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group), aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, cyano group, nitro group and the like. As the substituent, a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, and an alkoxycarbonyl group are preferable.

これらのオキセタン化合物は、オキセタン環の3位には1つ以上の置換基を有するのが好ましい。好ましい置換基としては、炭素数1〜6個のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等)、炭素数3〜6個のシクロアルキル基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、炭素数1〜6個のアルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等)等が挙げられる。これらは更に置換されていてもよく、置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基である。   These oxetane compounds preferably have one or more substituents at the 3-position of the oxetane ring. Preferred substituents include alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, etc.), and cycloalkyl groups having 3 to 6 carbon atoms (for example, cyclopropyl group). Group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, tert-butoxy group) Etc.), acyl groups (eg acetyl group, propionyl group, trifluoroacetyl group etc.), acyloxy groups (eg acetoxy group, propionyloxy group, trifluoroacetoxy group etc.), alkoxycarbonyl groups (eg methoxycarbonyl group, Ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.) That. These may be further substituted, and preferred as a substituent are a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, and an alkoxycarbonyl group.

これらのオキセタン化合物は、3位に置換、無置換のアルキル基が置換されているのが好ましく、2つのアルキル基で置換されることでオキセタンの3位が3級の炭素になることがより好ましい。アルキル基の置換基として好ましいものは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基である。   In these oxetane compounds, a substituted or unsubstituted alkyl group is preferably substituted at the 3-position, and it is more preferable that the 3-position of the oxetane becomes a tertiary carbon by substitution with two alkyl groups. . Preferred as a substituent for the alkyl group are a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, and an alkoxycarbonyl group.

これらのオキセタン化合物は、4位に電子吸引性基を置換することで、より反応性を高くすることが可能である。電子吸引性基とはハメットの置換基定数σpが正の値を取る置換基のことであり、電子吸引性基の具体例としては、−NO2、−CN、−SO2−Alkyl、−SO2−Aryl、−CO−Alkyl、−CO−Aryl、−CO−O−Alkyl、−CO−O−Aryl、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子)が挙げられる。本発明のオキセタン化合物において4位の置換基として好ましい電子吸引性基は、α〜γ位の炭素原子上に前記の電子吸引性基の置換したアルキル基であり、特にフッ素原子で置換されたアルキル基が好ましい。 These oxetane compounds can be made more reactive by substituting an electron-withdrawing group at the 4-position. The electron withdrawing group is a substituent having a positive Hammett substituent constant σp. Specific examples of the electron withdrawing group include —NO 2 , —CN, —SO 2 —Alkyl, —SO 2 -Aryl, -CO-Alkyl, -CO-Aryl, -CO-O-Alkyl, -CO-O-Aryl, and halogen atoms (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom). In the oxetane compound of the present invention, a preferable electron-withdrawing group as a substituent at the 4-position is an alkyl group in which the above-mentioned electron-withdrawing group is substituted on the carbon atom at the α to γ positions, particularly an alkyl substituted with a fluorine atom. Groups are preferred.

本発明の活性エネルギー線硬化組成物はさらにビニルエーテル化合物を含有していていもよい。   The active energy ray-curable composition of the present invention may further contain a vinyl ether compound.

ビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジまたはトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル−O−プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。   Examples of the vinyl ether compound include ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, butanediol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, cyclohexanedimethanol divinyl ether, Di- or trivinyl ether compounds such as methylolpropane trivinyl ether, ethyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octadecyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexane dimethanol monovinyl ether, n- B pills vinyl ether, isopropyl vinyl ether, isopropenyl ether -O- propylene carbonate, dodecyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, and octadecyl vinyl ether.

これらのビニルエーテル化合物のうち、硬化性、密着性、表面硬度を考慮すると、ジまたはトリビニルエーテル化合物が好ましく、特にジビニルエーテル化合物が好ましい。本発明では、上記ビニルエーテル化合物の1種を単独で使用してもよいが、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。   Among these vinyl ether compounds, in consideration of curability, adhesion, and surface hardness, di- or trivinyl ether compounds are preferable, and divinyl ether compounds are particularly preferable. In the present invention, one of the above vinyl ether compounds may be used alone, or two or more thereof may be used in appropriate combination.

本発明の活性エネルギー線硬化組成物においては、さらに光酸発生剤を併用してもよい。例えば、化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物が用いられる(有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」、ぶんしん出版(1993年)、187〜192ページ参照)。本発明に好適な化合物の例を以下に挙げる。   In the active energy ray-curable composition of the present invention, a photoacid generator may be used in combination. For example, a chemical amplification type photoresist or a compound used for photocationic polymerization is used (see Organic Electronics Materials Research Group, “Organic Materials for Imaging”, Bunshin Publishing (1993), pages 187 to 192). Examples of compounds suitable for the present invention are listed below.

第1に、ジアゾニウム、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウム等の芳香族オニウム化合物のB(C654 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、p−CH364SO3 -塩、CF3SO3 -塩等のスルホン酸塩を挙げることができる。対アニオンとしてボレート化合物を持つもの及びPF6 -塩が酸発生能力が高く好ましい。 First, B (C 6 F 5 ) 4 , PF 6 , AsF 6 , SbF 6 , p-CH 3 C 6 H 4 of aromatic onium compounds such as diazonium, ammonium, iodonium, sulfonium, and phosphonium. SO 3 - salt, CF 3 SO 3 - and sulfonic acid salts such as salts. Those having a borate compound as a counter anion and PF 6 - salt acid generation capability higher preferred.

オニウム化合物の具体的な例を以下に示す。   Specific examples of the onium compound are shown below.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

第2に、スルホン酸を発生するスルホン化物を挙げることができる。具体的な化合物を以下に例示する。   Secondly, sulfonated products that generate sulfonic acid can be mentioned. Specific compounds are exemplified below.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

第3に、ハロゲン化水素を発生するハロゲン化物も用いることができる。以下に具体的な化合物を例示する。   Thirdly, a halide that generates hydrogen halide can also be used. Specific compounds are exemplified below.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

第4に、鉄アレン錯体を挙げることができる。   Fourthly, an iron allene complex can be mentioned.

Figure 2005239877
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光重合促進剤としては、アントラセン、アントラセン誘導体(例えば、旭電化工業社製のアデカオプトマーSP−100)、フェノチアジン(10H−フェノチアジン)、フェノチアジン誘導体(例えば、10−メチルフェノチアジン、10−エチルフェノチアジン、10−デシルフェノチアジン、10−アセチルフェノチアジン10−デシルフェノチアジン−5−オキシド、10−デシルフェノチアジン−5,5−ジオキシド、10−アセチルフェノチアジン−5,5−ジオキシド等)挙げられる。これらの光重合促進剤は1種または複数を組み合わせて使用することができる。   Examples of the photopolymerization accelerator include anthracene, anthracene derivatives (for example, Adekaoptomer SP-100 manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), phenothiazine (10H-phenothiazine), phenothiazine derivatives (for example, 10-methylphenothiazine, 10-ethylphenothiazine, 10-decylphenothiazine, 10-acetylphenothiazine, 10-decylphenothiazine-5-oxide, 10-decylphenothiazine-5,5-dioxide, 10-acetylphenothiazine-5,5-dioxide, etc.). These photopolymerization accelerators can be used alone or in combination.

本発明のインクジェット用インク組成物には、上記説明した構成要素の他に、各種の添加剤を用いることができる。   In addition to the components described above, various additives can be used in the inkjet ink composition of the present invention.

本発明のインクジェット用インク組成物で用いる色材としては、重合性化合物の主成分に溶解または分散できる色材が使用できるが、耐候性の点から顔料が好ましい。   As the coloring material used in the inkjet ink composition of the present invention, a coloring material that can be dissolved or dispersed in the main component of the polymerizable compound can be used, but a pigment is preferred from the viewpoint of weather resistance.

本発明で好ましく用いることのできる顔料を、以下に列挙する。   The pigments that can be preferably used in the present invention are listed below.

C.I.Pigment Yellow−1、3、12、13、14、17、81、83、87、95、109、42、
C.I.Pigment Orange−16、36、38、
C.I.Pigment Red−5、22、38、48:1、48:2、48:4、49:1、53:1、57:1、63:1、144、146、185、101、
C.I.Pigment Violet−19、23、
C.I.Pigment Blue−15:1、15:3、15:4、18、60、27、29、
C.I.Pigment Green−7、36、
C.I.Pigment White−6、18、21、
C.I.Pigment Black−7
上記顔料の分散には、例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、ヘンシェルミキサ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー等を用いることができる。また、顔料の分散を行う際に分散剤を添加することも可能である。分散剤としては、高分子分散剤を用いることが好ましく、高分子分散剤としてはAvecia社のSolsperseシリーズが挙げられる。また、分散助剤として、各種顔料に応じたシナージストを用いることも可能である。これらの分散剤及び分散助剤は、顔料100質量部に対し、1〜50質量部添加することが好ましい。分散媒体は、溶剤または重合性化合物を用いて行うが、本発明のインクジェット用インク組成物では、インク着弾直後に反応・硬化させるため、無溶剤であることが好ましい。溶剤が硬化画像に残ってしまうと、耐溶剤性の劣化、残留する溶剤のVOCの問題が生じる。よって、分散媒体は溶剤ではなく重合性化合物、その中でも最も粘度の低いモノマーを選択することが分散適性上好ましい。
C. I. Pigment Yellow-1, 3, 12, 13, 14, 17, 81, 83, 87, 95, 109, 42,
C. I. Pigment Orange-16, 36, 38,
C. I. Pigment Red-5, 22, 38, 48: 1, 48: 2, 48: 4, 49: 1, 53: 1, 57: 1, 63: 1, 144, 146, 185, 101,
C. I. Pigment Violet-19, 23,
C. I. Pigment Blue-15: 1, 15: 3, 15: 4, 18, 60, 27, 29,
C. I. Pigment Green-7, 36,
C. I. Pigment White-6, 18, 21,
C. I. Pigment Black-7
For the dispersion of the pigment, for example, a ball mill, sand mill, attritor, roll mill, agitator, Henschel mixer, colloid mill, ultrasonic homogenizer, pearl mill, wet jet mill, paint shaker, or the like can be used. It is also possible to add a dispersant when dispersing the pigment. As the dispersant, a polymer dispersant is preferably used, and examples of the polymer dispersant include Solsperse series manufactured by Avecia. Moreover, it is also possible to use a synergist according to various pigments as a dispersion aid. These dispersants and dispersion aids are preferably added in an amount of 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment. The dispersion medium is used using a solvent or a polymerizable compound. In the ink composition for inkjet according to the present invention, it is preferable that the ink is non-solvent because it is reacted and cured immediately after ink landing. If the solvent remains in the cured image, the solvent resistance deteriorates and the VOC of the remaining solvent arises. Therefore, it is preferable in view of dispersibility that the dispersion medium is not a solvent but a polymerizable compound, and among them, a monomer having the lowest viscosity is selected.

顔料の分散は、顔料粒子の平均粒径を0.08〜0.5μmとすることが好ましく、最大粒径は0.3〜10μm、好ましくは0.3〜3μmとなるよう、顔料、分散剤、分散媒体の選定、分散条件、ろ過条件を適宜設定する。この粒径管理によって、ヘッドノズルの詰まりを抑制し、インクの保存安定性、インク透明性及び硬化の感度を維持することができる。   The pigment is preferably dispersed so that the average particle diameter of the pigment particles is 0.08 to 0.5 μm, and the maximum particle diameter is 0.3 to 10 μm, preferably 0.3 to 3 μm. The selection of the dispersion medium, the dispersion conditions, and the filtration conditions are appropriately set. By controlling the particle size, clogging of the head nozzle can be suppressed, and ink storage stability, ink transparency, and curing sensitivity can be maintained.

本発明のインクジェット用インク組成物においては、色材濃度として、インク全体の1〜10質量%であることが好ましい。   In the inkjet ink composition of the present invention, the colorant concentration is preferably 1 to 10% by mass of the total ink.

本発明においては、吐出安定性、保存性を向上させる目的で、熱塩基発生剤も用いることができる。   In the present invention, a thermal base generator can also be used for the purpose of improving ejection stability and storage stability.

熱塩基発生剤としては、例えば、加熱により脱炭酸して分解する有機酸と塩基の塩、分子内求核置換反応、ロッセン転位、ベックマン転位等の反応により分解してアミン類を放出する化合物や、加熱により何らかの反応を起こして塩基を放出するものが好ましく用いられる。具体的には、英国特許第998,949号記載のトリクロロ酢酸の塩、米国特許第4,060,420号に記載のアルファースルホニル酢酸の塩、特開昭59−157637号に記載のプロピール酸類の塩、2−カルボキシカルボキサミド誘導体、特開昭59−168440号に記載の塩基成分に有機塩基の他にアルカリ金属、アルカリ土類金属を用いた熱分解性酸との塩、特開昭59−180537号に記載のロッセン転位を利用したヒドロキサムカルバメート類、加熱によりニトリルを生成する特開昭59−195237号に記載のアルドキシムカルバメート類等が挙げられる。その他、英国特許第998,945号、米国特許第3,220,846号、英国特許第279,480号、特開昭50−22625号、同61−32844号、同61−51139号、同61−52638号、同61−51140号、同61−53634号、同61−53640号、同61−55644号、同61−55645号等に記載の熱塩基発生剤が有用である。更に具体的に例を挙げると、トリクロロ酢酸グアニジン、トリクロロ酢酸メチルグアニジン、トリクロロ酢酸カリウム、フェニルスルホニル酢酸グアニジン、p−クロロフェニルスルホニル酢酸グアニジン、p−メタンスルホニルフェニルスルホニル酢酸グアニジン、フェニルプロピオール酸カリウム、フェニルプロピオール酸グアニジン、フェニルプロピオール酸セシウム、p−クロロフェニルプロピオール酸グアニジン、p−フェニレン−ビス−フェニルプロピオール酸グアニジン、フェニルスルホニル酢酸テトラメチルアンモニウム、フェニルプロピオール酸テトラメチルアンモニウムがある。上記の熱塩基発生剤は広い範囲で用いることができる。   Examples of the thermal base generator include compounds that release amines by decomposition by reactions such as organic acid and base salts that are decomposed by decarboxylation by heating, intramolecular nucleophilic substitution reaction, Rossen rearrangement, Beckmann rearrangement, etc. Those which cause some kind of reaction by heating and release a base are preferably used. Specifically, the salt of trichloroacetic acid described in British Patent No. 998,949, the salt of alpha-sulfonylacetic acid described in US Pat. No. 4,060,420, and the propionic acids described in JP-A-59-157737 Salts, 2-carboxycarboxamide derivatives, salts with a base component described in JP-A-59-168440 and a thermally decomposable acid using an alkali metal or an alkaline earth metal in addition to an organic base, JP-A-59-180537 Hydroxam carbamates utilizing the Lossen rearrangement described in No. 5, and aldoxime carbamates described in JP-A No. 59-195237 that generate nitriles by heating. In addition, British Patent No. 998,945, US Pat. No. 3,220,846, British Patent No. 279,480, Japanese Patent Laid-Open Nos. 50-22625, 61-32844, 61-51139, 61 The thermal base generators described in Nos. -52638, 61-51140, 61-53634, 61-53640, 61-55644, 61-55645 and the like are useful. More specifically, guanidine trichloroacetate, methylguanidine trichloroacetate, potassium trichloroacetate, guanidine phenylsulfonylacetate, guanidine p-chlorophenylsulfonylacetate, guanidine p-methanesulfonylphenylsulfonylacetate, potassium phenylpropiolate, phenylpropiool Examples include acid guanidine, cesium phenylpropiolate, guanidine p-chlorophenylpropiolate, guanidine p-phenylene-bis-phenylpropiolate, tetramethylammonium phenylsulfonylacetate, and tetramethylammonium phenylpropiolate. The thermal base generator can be used in a wide range.

本発明のインクジェット用インク組成物は、特開平8−248561号、同9−34106号をはじめとし、既に公知となっている活性光線の照射で発生した酸により新たに酸を発生する酸増殖剤を含有することも可能である。   The ink-jet ink composition of the present invention includes an acid proliferating agent that newly generates an acid by an acid generated by irradiation of actinic rays, which is already known, such as those disclosed in JP-A-8-248561 and 9-34106. It is also possible to contain.

本発明のインクジェット用インク組成物は、活性エネルギー線硬化組成物、顔料分散剤と共に、顔料をサンドミル等の通常の分散機を用いてよく分散することにより製造される。予め、顔料高濃度の濃縮液を調製しておき、活性エネルギー線硬化組成物で希釈することが好ましい。通常の分散機による分散でも充分な分散が可能であり、このため、過剰な分散エネルギーがかからず、多大な分散時間を必要としないため、インク成分の分散時の変質を招きにくく、安定性に優れたインクが調製される。インクは、孔径3μm以下、更には1μm以下のフィルターにて濾過することが好ましい。   The ink-jet ink composition of the present invention is produced by well dispersing the pigment together with an active energy ray-curable composition and a pigment dispersant using an ordinary dispersing machine such as a sand mill. It is preferable to prepare a concentrated solution having a high pigment concentration in advance and dilute with an active energy ray-curable composition. Sufficient dispersion is possible even with dispersion by a normal disperser, so it does not take excessive dispersion energy and does not require a great amount of dispersion time. Ink excellent in the quality is prepared. The ink is preferably filtered through a filter having a pore diameter of 3 μm or less, more preferably 1 μm or less.

本発明のインクジェット用インク組成物は、25℃での粘度が5〜50mPa・sと高めに調整することが好ましい。25℃での粘度が5〜50mPa・sのインクは、特に通常の4〜10KHzの周波数を有するヘッドから、10〜50KHzの高周波数のヘッドにおいても安定した吐出特性を示す。粘度が5mPa・s未満の場合は、高周波数のヘッドにおいて、吐出の追随性の低下が認められ、50mPa・sを越える場合は、加熱による粘度の低下機構をヘッドに組み込んだとしても吐出特性そのものの低下を生じ、吐出の安定性が不良となり、全く吐出できなくなる。   The ink composition for inkjet according to the present invention is preferably adjusted so that the viscosity at 25 ° C. is as high as 5 to 50 mPa · s. An ink having a viscosity of 5 to 50 mPa · s at 25 ° C. exhibits stable ejection characteristics even from a head having a normal frequency of 4 to 10 KHz to a head having a high frequency of 10 to 50 KHz. When the viscosity is less than 5 mPa · s, a decrease in the followability of the discharge is recognized in the high-frequency head, and when it exceeds 50 mPa · s, the discharge characteristic itself even if a mechanism for reducing the viscosity by heating is incorporated in the head. Drop, the stability of the discharge becomes poor, and it becomes impossible to discharge at all.

また、本発明のインクジェット用インク組成物は、ピエゾヘッドにおいては、10μS/cm以下の電導度とし、ヘッド内部での電気的な腐食のないインクとすることが好ましい。また、コンティニュアスタイプにおいては、電解質による電導度の調整が必要であり、この場合には、0.5mS/cm以上の電導度に調整する必要がある。   In addition, the ink-jet ink composition of the present invention preferably has an electrical conductivity of 10 μS / cm or less and no electrical corrosion inside the head in a piezo head. Further, in the continuous type, it is necessary to adjust the electric conductivity by the electrolyte. In this case, it is necessary to adjust the electric conductivity to 0.5 mS / cm or more.

本発明においては、インクジェット用インク組成物の25℃における表面張力が、25〜40mN/mの範囲にあることが好ましい。25℃におけるインクジェット用インク組成物の表面張力が25mN/m未満では、安定した出射が得られにくく、また40mN/mを越えると所望のドット径を得ることができない。25〜40mN/mの範囲外では、本発明のように、インクジェット用インク組成物の粘度や含水率を制御しながら出射、光照射しても、さまざまな支持体に対して均一等ット径を得ることが困難となる。   In the present invention, the surface tension of the inkjet ink composition at 25 ° C. is preferably in the range of 25 to 40 mN / m. If the surface tension of the inkjet ink composition at 25 ° C. is less than 25 mN / m, stable emission is difficult to obtain, and if it exceeds 40 mN / m, a desired dot diameter cannot be obtained. Outside the range of 25 to 40 mN / m, uniform isot diameter on various supports, even when emitted and irradiated with light while controlling the viscosity and water content of the ink-jet ink composition as in the present invention. It becomes difficult to obtain.

表面張力を調整するために、必要に応じて、界面活性剤を含有させてもよい。本発明に係るインクに好ましく使用される界面活性剤としては、例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第4級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤、重合性基を有する界面活性化合物等が挙げられる。これらの中で特に、シリコーン変性アクリレート、フッ素変性アクリレート、シリコーン変性エポキシ、フッ素変性エポキシ、シリコーン変性オキセタン、フッ素変性オキセタン等、不飽和結合やオキシラン、オキセタン環等重合性基を有する界面活性化合物が好ましい。   In order to adjust the surface tension, a surfactant may be contained as necessary. Examples of the surfactant preferably used in the ink according to the present invention include anionic surfactants such as dialkylsulfosuccinates, alkylnaphthalenesulfonates, and fatty acid salts, polyoxyethylene alkyl ethers, and polyoxyethylene alkyl. Nonionic surfactants such as allyl ethers, acetylene glycols, polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers, cationic surfactants such as alkylamine salts and quaternary ammonium salts, and surfactants having a polymerizable group Compounds and the like. Of these, particularly preferred are surface active compounds having a polymerizable group such as an unsaturated bond, oxirane, or oxetane ring, such as silicone-modified acrylate, fluorine-modified acrylate, silicone-modified epoxy, fluorine-modified epoxy, silicone-modified oxetane, and fluorine-modified oxetane. .

本発明のインクジェット用インク組成物には、上記説明した以外にさまざまな添加剤を用いることができる。例えば、レベリング添加剤、マット剤、膜物性を調整するためのポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類を添加することができる。記録媒体との密着性を改善するため、極微量の有機溶剤を添加することも有効である。この場合、耐溶剤性やVOCの問題が起こらない範囲での添加が有効であり、その使用量は0.1〜5%の範囲であり、好ましくは0.1〜3%である。また、ラジカル重合性モノマーと開始剤を組み合わせ、ラジカル・カチオンのハイブリッド型硬化インクとすることも可能である。   Various additives other than those described above can be used in the inkjet ink composition of the present invention. For example, leveling additives, matting agents, polyester resins for adjusting film properties, polyurethane resins, vinyl resins, acrylic resins, rubber resins, and waxes can be added. In order to improve the adhesion with the recording medium, it is also effective to add a trace amount of organic solvent. In this case, it is effective to add in the range where the solvent resistance and VOC problems do not occur, and the amount used is in the range of 0.1 to 5%, preferably 0.1 to 3%. It is also possible to combine a radically polymerizable monomer and an initiator into a radical / cation hybrid type curable ink.

本発明の画像形成方法においては、インクジェット用インク組成物を、選択的にインク滴の吐出制御可能な少なくとも1つのノズルを有する記録ヘッドで、記録材料上に該インク滴を吐出し、該インク滴が着弾した後、活性エネルギー線を照射することによりインクを硬化させる。   In the image forming method of the present invention, an ink jet ink composition is ejected onto a recording material by a recording head having at least one nozzle capable of selectively controlling the ejection of the ink droplets. After landing, the ink is cured by irradiating with active energy rays.

本発明の画像形成方法においては、インク出射時にはインクをインクジェットノズルごと加温し、インク液を低粘度させることが好ましい。加熱温度としては、30〜80℃、好ましくは35〜60℃である。   In the image forming method of the present invention, it is preferable that the ink is heated together with the ink jet nozzles during ink ejection so that the ink liquid has a low viscosity. As heating temperature, it is 30-80 degreeC, Preferably it is 35-60 degreeC.

本発明において、インクが着弾し、活性光線を照射して硬化した後の総インク膜厚が2〜20μmであることが好ましい。スクリーン印刷分野の画像形成では、総インク膜厚が20μmを越えているのが現状であるが、記録材料が薄いプラスチック材料であることが多い軟包装印刷分野では、記録材料のカール・しわの問題でだけでなく、印刷物全体のこし・質感が変わってしまうという問題があるため使えない。また、本発明では、各ノズルより吐出する液滴量が2〜15plであることが好ましい。   In the present invention, the total ink film thickness after the ink has landed and cured by irradiation with actinic rays is preferably 2 to 20 μm. In image formation in the screen printing field, the total ink film thickness currently exceeds 20 μm, but in the flexible packaging printing field, where the recording material is often a thin plastic material, the problem of curling and wrinkling of the recording material Not only that, but there is a problem that the texture and texture of the entire printed matter will change. Moreover, in this invention, it is preferable that the amount of droplets discharged from each nozzle is 2 to 15 pl.

本発明においては、高精細な画像を形成するためには、照射タイミングができるだけ早い方が好ましいが、インクの粘度または含水率が好ましい状態となるタイミングで光照射を開始することが好ましい。詳しくは、発生光線の照射条件として、インク着弾後0.001〜2.0秒の間に活性光線照射を開始することが好ましく、より好ましくは0.001〜0.4秒である。また、0.1〜3秒後、好ましくは0.2〜1秒以内に、インクの流動性が失われる程度まで光照射を行なった後、終了させることが好ましい。上記条件とすることにより、ドット径の拡大やドット間の滲みを防止することができる。   In the present invention, in order to form a high-definition image, the irradiation timing is preferably as early as possible, but it is preferable to start the light irradiation at a timing at which the viscosity or moisture content of the ink is favorable. Specifically, as the irradiation condition of the generated light, actinic light irradiation is preferably started within 0.001 to 2.0 seconds after ink landing, and more preferably 0.001 to 0.4 seconds. Also, it is preferable to terminate the light irradiation after 0.1 to 3 seconds, preferably within 0.2 to 1 second, until the ink fluidity is lost. By setting it as the above condition, enlargement of the dot diameter and bleeding between the dots can be prevented.

活性光線の照射方法として、その基本的な方法が特開昭60−132767号に開示されている。これによると、記録ヘッドユニットの両側に光源を設け、シャトル方式で記録ヘッドと光源を走査する。照射は、インク着弾後、一定時間を置いて行われることになる。更に、駆動を伴わない別光源によって硬化を完了させる。米国特許第6,145,979号では、照射方法として、光ファイバーを用いた方法や、コリメートされた光源を記録ヘッドユニット側面に設けた鏡面に当て、記録部へUV光を照射する方法が開示されている。本発明の画像形成方法においては、これらのいずれの照射方法も用いることができる。   As a method for irradiating actinic rays, the basic method is disclosed in JP-A-60-132767. According to this, the light source is provided on both sides of the recording head unit, and the recording head and the light source are scanned by the shuttle method. Irradiation is performed after a certain period of time after ink landing. Further, the curing is completed by another light source that is not driven. In US Pat. No. 6,145,979, as an irradiation method, a method using an optical fiber or a method of applying a collimated light source to a mirror surface provided on the side surface of a recording head unit and irradiating the recording unit with UV light is disclosed. ing. Any of these irradiation methods can be used in the image forming method of the present invention.

また、活性光線を照射を2段階に分け、まずインク着弾後0.001〜2.0秒の間に前述の方法で活性光線を照射し、かつ、全印字終了後、更に活性光線を照射する方法も好ましい態様の1つである。活性光線の照射を2段階に分けることで、よりインク硬化の際に起こる記録材料の収縮を抑えることが可能となる。   In addition, irradiation with actinic rays is divided into two stages. First, actinic rays are irradiated by the above-described method within 0.001 to 2.0 seconds after ink landing, and further, actinic rays are irradiated after all printing is completed. The method is also a preferred embodiment. By dividing the irradiation of actinic rays into two stages, it is possible to further suppress the shrinkage of the recording material that occurs during ink curing.

活性光線照射で用いる光源の例としては、水銀アークランプ、キセノンアークランプ、螢光ランプ、炭素アークランプ、タングステン−ハロゲン複写ランプ高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極UVランプ、低圧水銀ランプ、UVレーザー、キセノンフラッシュランプ、捕虫灯、ブラックライト、殺菌灯、冷陰極管、LEDを等があるが、これらに限定されないが、この中でも蛍光管が低エネルギー・低コストであり、好ましい。光源波長としては250〜370nm、好ましくには270〜320nmに発光波長のピークがある光源が感度の点で好ましい。照度は、1〜3000mW/cm2、好ましくは1〜200mW/cm2である。また、電子線により硬化させる場合には、通常300eVの以下のエネルギーの電子線で硬化させるが、1〜5Mradの照射量で瞬時に硬化させることも可能である。 Examples of light sources used in actinic ray irradiation include mercury arc lamps, xenon arc lamps, fluorescent lamps, carbon arc lamps, tungsten-halogen copying lamps, high pressure mercury lamps, metal halide lamps, electrodeless UV lamps, low pressure mercury lamps, and UV lasers. , Xenon flash lamps, insect traps, black lights, germicidal lamps, cold cathode tubes, LEDs, and the like, but are not limited to these. Among these, fluorescent tubes are preferred because of their low energy and low cost. A light source having a light emission wavelength peak at 250 to 370 nm, preferably 270 to 320 nm is preferable in terms of sensitivity. The illuminance is 1 to 3000 mW / cm 2 , preferably 1 to 200 mW / cm 2 . In addition, in the case of curing with an electron beam, the curing is usually performed with an electron beam having an energy of 300 eV or less, but it is also possible to cure instantaneously with an irradiation amount of 1 to 5 Mrad.

本発明のインクジェット用インク組成物を用いて、記録媒体への画像印字を行うが、記録媒体としては、従来各種の用途で使用されている広汎な合成樹脂を全て用いることができ、具体的には、例えば、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリウレタン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブタジエンテレフタレート等が挙げられ、これらの合成樹脂基材の厚みや形状は何ら限定されない。   The inkjet ink composition of the present invention is used to print an image on a recording medium. As the recording medium, all of a wide range of conventional synthetic resins used in various applications can be used. Examples include polyester, polyvinyl chloride, polyethylene, polyurethane, polypropylene, acrylic resin, polycarbonate, polystyrene, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, polyethylene terephthalate, polybutadiene terephthalate, and the like. The shape is not limited at all.

本発明で用いることのできる基材としては、通常の非コート紙、コート紙等の他に、非吸収性支持体を用いることができるが、その中でも、基材として非吸収性支持体を用いることが好ましい。   As a base material that can be used in the present invention, a non-absorbent support can be used in addition to normal uncoated paper, coated paper, etc. Among them, a non-absorbable support is used as the base material. It is preferable.

本発明においては、非吸収性支持体としては、各種非吸収性のプラスチック及びそのフィルムを用いることができ、各種プラスチックフィルムとしては、例えば、PETフィルム、OPSフィルム、OPPフィルム、ONyフィルム、PVCフィルム、PEフィルム、TACフィルムを挙げることができる。その他のプラスチックとしては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ABS、ポリアセタール、PVA、ゴム類等が使用できる。また、金属類や、ガラス類にも適用可能である。これらの記録材料の中でも、特に熱でシュリンク可能な、PETフィルム、OPSフィルム、OPPフィルム、ONyフィルム、PVCフィルムへ画像を形成する場合に本発明の構成は、有効となる。これらの基材は、インクの硬化収縮、硬化反応時の発熱等により、フィルムのカール、変形が生じやすいばかりでなく、インク膜が基材の収縮に追従し難い。   In the present invention, various non-absorbing plastics and films thereof can be used as the non-absorbing support. Examples of the various plastic films include PET film, OPS film, OPP film, ONy film, and PVC film. , PE film, and TAC film. As other plastics, polycarbonate, acrylic resin, ABS, polyacetal, PVA, rubbers and the like can be used. Moreover, it is applicable also to metals and glass. Among these recording materials, the structure of the present invention is effective particularly when an image is formed on a PET film, an OPS film, an OPP film, an ONy film, or a PVC film that can be shrunk by heat. These base materials are not only susceptible to curling and deformation of the film due to curing shrinkage of the ink and heat generated during the curing reaction, but also the ink film is difficult to follow the shrinkage of the base material.

これら、各種プラスチックフィルムの表面エネルギーは大きく異なり、記録材料によってインク着弾後のドット径が変わってしまうことが、従来から問題となっていた。本発明の構成では、表面エネルギーの低いOPPフィルム、OPSフィルムや表面エネルギーの比較的大きいPETまでを含むが、基材として、濡れ指数が40〜60mN/mであることが好ましい。   The surface energies of these various plastic films differ greatly, and it has been a problem in the past that the dot diameter after ink landing varies depending on the recording material. The constitution of the present invention includes an OPP film having a low surface energy, an OPS film, and a PET having a relatively large surface energy, but the substrate preferably has a wetting index of 40 to 60 mN / m.

本発明において、包装の費用や生産コスト等の記録材料のコスト、プリントの作成効率、各種のサイズのプリントに対応できる等の点で、長尺(ウェブ)な記録材料を使用する方が有利である。   In the present invention, it is more advantageous to use a long (web) recording material in terms of the cost of the recording material such as packaging cost and production cost, the efficiency of creating the print, and the ability to cope with printing of various sizes. is there.

以下、本発明を実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated concretely, the embodiment of this invention is not limited to these.

実施例1
《活性エネルギー線硬化組成物の調製》
下記組成からなる活性エネルギー線硬化組成物101を遮光下に調製した。
Example 1
<< Preparation of Active Energy Ray Curing Composition >>
An active energy ray-curable composition 101 having the following composition was prepared under light shielding.

スルホニウム塩化合物:TAS−1(固形分質量50%炭酸プロピレン溶液)
5質量部
エポキシ化合物:EP−17 30質量部
オキセタン化合物:アロンオキセタンOXT−221 70質量部
上記活性エネルギー線硬化組成物101の調製において、スルホニウム塩化合物、エポキシ化合物の種類を表1、2のように変更して、活性エネルギー線硬化組成物102〜108を調製した。
Sulfonium salt compound: TAS-1 (solid content mass 50% propylene carbonate solution)
5 parts by mass Epoxy compound: EP-17 30 parts by mass Oxetane compound: Aron oxetane OXT-221 70 parts by mass In the preparation of the active energy ray-curable composition 101, the types of sulfonium salt compounds and epoxy compounds are as shown in Tables 1 and 2 The active energy ray-curable compositions 102 to 108 were prepared by changing to

活性エネルギー線硬化組成物101の調製において、スルホニウム塩化合物、エポキシ化合物の種類と添加量を表1、2のように変更し、さらにイオン性化合物を表1、2のように添加して活性エネルギー線硬化組成物109〜159を調製した。   In the preparation of the active energy ray-curable composition 101, the types and addition amounts of sulfonium salt compounds and epoxy compounds are changed as shown in Tables 1 and 2, and ionic compounds are added as shown in Tables 1 and 2 to obtain active energy. Line curable compositions 109-159 were prepared.

表1、2に略記した記号の詳細を下記に示す。   Details of symbols abbreviated in Tables 1 and 2 are shown below.

UVI6990:トリフェニルスルホニウム塩(サイラキュアUVI6990、ユニオンカーバイド社製)
S−1:脂環式エポキシ化合物(セロキサイド3000、ダイセルUCB社製)
《活性エネルギー線硬化組成物の評価》
(粘性変化)
活性エネルギー線硬化組成物20mlをスクリューキャップ付きガラス容器に入れ、蓋を閉めた後、70℃の恒温槽内で遮光下1ヶ月間保存後の活性エネルギー線硬化組成物の粘性変化を調べた。粘性変化は、遮光下1ヶ月間常温保存した活性エネルギー線硬化組成物を基準として、70℃で保存した活性エネルギー線硬化組成物を金属スパチュラで触り、触感から下記基準で評価した。
UVI 6990: Triphenylsulfonium salt (Syracure UVI 6990, manufactured by Union Carbide)
S-1: Alicyclic epoxy compound (Celoxide 3000, manufactured by Daicel UCB)
<< Evaluation of Active Energy Ray Curing Composition >>
(Viscosity change)
20 ml of the active energy ray curable composition was put into a glass container with a screw cap, the lid was closed, and the viscosity change of the active energy ray curable composition after storage for 1 month in a thermostatic bath at 70 ° C. was then examined. The change in viscosity was evaluated based on the following criteria based on the tactile sensation by touching the active energy ray curable composition stored at 70 ° C. with a metal spatula, based on the active energy ray curable composition stored at room temperature for 1 month under light shielding.

5:活性エネルギー線硬化組成物の触感に有意な差が見られなかった
4:活性エネルギー線硬化組成物の粘性にわずかに差がある
3:活性エネルギー線硬化組成物の粘性が明らかに増加した
2:活性エネルギー線硬化組成物がゲル状になった
1:活性エネルギー線硬化組成物が固体になった
4以上が保存性に関し、使用上好適な組成物である。
5: No significant difference was found in the tactile sensation of the active energy ray curable composition 4: There was a slight difference in the viscosity of the active energy ray curable composition 3: The viscosity of the active energy ray curable composition was clearly increased 2: The active energy ray-curable composition became a gel. 1: The active energy ray-curable composition became a solid.

(UV硬化性)
70℃の恒温槽内で遮光下1ヶ月間保存した活性エネルギー線硬化組成物1mlを157cm2のPETフィルムに塗布し、30℃に加熱した状態で、高圧水銀灯を用いて照射エネルギー10mJ/cm2にて20秒間照射を行ない、塗膜の硬化性を金属スパチュラで触り、触感から下記基準で評価した。
(UV curable)
1 ml of active energy ray-curable composition stored in a thermostatic chamber at 70 ° C. for 1 month under light shielding is applied to a 157 cm 2 PET film and heated to 30 ° C., using a high-pressure mercury lamp, and an irradiation energy of 10 mJ / cm 2. Was irradiated for 20 seconds, and the curability of the coating film was touched with a metal spatula.

3:塗膜が固体化した
2:塗膜がゲル化した
1:塗膜が硬化せず
2以上が硬化性に関して実使用上好適な組成物である。
3: The coating film was solidified 2: The coating film was gelled 1: The coating film was not cured 2 or more is a composition suitable for practical use with respect to curability.

評価の結果を表1、2に示す。   The results of evaluation are shown in Tables 1 and 2.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

Figure 2005239877
Figure 2005239877

表1、2から明らかなように、本発明の活性エネルギー線光酸発生剤組成物、エポキシ化合物、オキセタン化合物からなる活性エネルギー線硬化組成物は高温下で保存しても硬化性能を損なうことなく安定に保存可能であることが分かる。   As is clear from Tables 1 and 2, the active energy ray photoacid generator composition of the present invention, the active energy ray curable composition comprising an epoxy compound and an oxetane compound does not impair the curing performance even when stored at a high temperature. It can be seen that it can be stored stably.

実施例2
《マゼンタインクの調製》
下記の組成からなるマゼンタインク1を調製した。マゼンタインク1は、活性エネルギー線光酸発生剤組成物を除く各組成物を、サンドグラインダーを用いて4時間分散した後、活性エネルギー線光酸発生剤組成物を添加し、0.8μmのメンブランフィルターで濾過を行った後、50℃に加熱しながら減圧脱水を行って調製した。
Example 2
<Preparation of magenta ink>
Magenta ink 1 having the following composition was prepared. The magenta ink 1 was prepared by dispersing each composition excluding the active energy ray photoacid generator composition for 4 hours using a sand grinder, adding the active energy ray photoacid generator composition, and adding a 0.8 μm membrane. After filtration through a filter, it was prepared by dehydration under reduced pressure while heating to 50 ° C.

顔料:C.I.ピグメントレッド184 3質量部
分散剤:ソルスパース24000(Avecia社製) 1質量部
オキセタン化合物:アロンオキセタンOXT−221 70質量部
エポキシ化合物:EP−17 30質量部
活性エネルギー線光酸発生剤組成物:スルホニウム塩化合物、TAS−1(固形分質量50%炭酸プロピレン溶液) 5質量部
マゼンタインク1の調製において、顔料、オキセタン化合物、エポキシ化合物、活性エネルギー線酸発生剤組成物の種類と添加量を表3、4のように変更して、マゼンタインク102〜159を調製した。
Pigment: C.I. I. Pigment Red 184 3 parts by weight Dispersant: Solsperse 24000 (manufactured by Avecia) 1 part by weight Oxetane compound: Aron oxetane OXT-221 70 parts by weight Epoxy compound: EP-17 30 parts by weight Active energy ray photoacid generator composition: sulfonium Salt compound, TAS-1 (solid content 50% propylene carbonate solution) 5 parts by weight In the preparation of magenta ink 1, the types and amounts of pigment, oxetane compound, epoxy compound and active energy ray acid generator composition are shown in Table 3. 4, magenta inks 102 to 159 were prepared.

表3、4に略記した記号の詳細を下記に示す。   Details of symbols abbreviated in Tables 3 and 4 are shown below.

〈顔料〉
P0:C.I.ピグメントレッド184
P1:粗製銅フタロシアニン(東洋インク製造社製「銅フタロシアニン」)250部、塩化ナトリウム2500部及びポリエチレングリコール(東京化成社製「ポリエチレングリコール300」)160部を、スチレン製4.55L(1ガロン)のニーダー(井上製作所社製)に仕込み、3時間混練した。次に、この混合物を2.5Lの温水に投入し、約80℃に加熱しながらハイスピードミキサーで約1時間攪拌しスラリー状とした後、濾過、水洗を5回繰り返して塩化ナトリウム及び溶剤を除き、次いでスプレードライをして乾燥して顔料P1を得た。
<Pigment>
P0: C.I. I. Pigment Red 184
P1: 250 parts of crude copper phthalocyanine (“Copper phthalocyanine” manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.), 2500 parts of sodium chloride and 160 parts of polyethylene glycol (“Polyethylene glycol 300” manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 4.55 L (1 gallon) made of styrene And kneaded for 3 hours. Next, this mixture is poured into 2.5 L of warm water, heated to about 80 ° C. and stirred for about 1 hour with a high speed mixer to form a slurry, followed by filtration and washing 5 times to remove sodium chloride and solvent. Then, the mixture was spray dried and dried to obtain Pigment P1.

P2:キナクリドン系赤顔料(チバスペシャリティケミカルズ社製「シンカシアマゼンタRT−355−D」)250部、塩化ナトリウム2500部及び「ポリエチレングリコール300」160部を、スチレン製4.55L(1ガロン)ニーダーに仕込み、P1と同様にして顔料P2を得た。   P2: 250 parts of quinacridone red pigment (“Cincacia Magenta RT-355-D” manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 2500 parts of sodium chloride, and 160 parts of “polyethylene glycol 300”, 4.55 L (1 gallon) kneader made of styrene In the same manner as in P1, pigment P2 was obtained.

〈エポキシ化合物〉
S−1:脂環式エポキシ化合物(セロキサイド3000、ダイセルUCB社製)
〈光酸発生剤〉
UVI6990:トリフェニルスルホニウム塩(サイラキュアUVI6990、ユニオンカーバイド社製)
〈オキセタン化合物〉
OXT−221:ジ〔1−エチル(3−オキセタニル)〕メチルエーテル(東亞合成社製)
<Epoxy compound>
S-1: Alicyclic epoxy compound (Celoxide 3000, manufactured by Daicel UCB)
<Photoacid generator>
UVI 6990: Triphenylsulfonium salt (Syracure UVI 6990, manufactured by Union Carbide)
<Oxetane compound>
OXT-221: Di [1-ethyl (3-oxetanyl)] methyl ether (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)

Figure 2005239877
Figure 2005239877

Figure 2005239877
Figure 2005239877

《インクジェット画像記録及び評価》
上記調製した各マゼンタインクを用いて、下記の方法に従って画像記録し得られた画像の評価を行った。また上記調製した各マゼンタインクを遮光下70℃1週間恒温槽内で保存した後、同様の評価を行った。
<< Inkjet image recording and evaluation >>
Using the magenta inks prepared as described above, images obtained by image recording were evaluated according to the following methods. Each of the prepared magenta inks was stored in a thermostatic chamber at 70 ° C. for 1 week under light shielding, and then the same evaluation was performed.

〔画像評価A〕
(画像記録)
得られた各マゼンタインクを、液滴サイズ7plが得られるピエゾタイプのインクジェットノズル(ノズルピッチ360dpi、本発明でいうdpiとは2.54cm当たりのドット数を表す)を、ノズル部分を50℃に加熱制御し、コロナ処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを基材に用いて出射し、マゼンタベタ画像と6ポイントMS明朝体文字を印字した。光源は、308nmに主ピークを持つ蛍光管を用い、光源直下、基材面の照度が10mW/cm2の条件で、着弾0.3秒後に露光を開始し、0.8秒後に露光を終了させた。なお、露光エネルギーは5mJ/cm2であった。この画像印字を低湿環境(35℃、20%RH)及び高湿環境(35℃、80%RH)にて行った。
[Image Evaluation A]
(Image recording)
Piezo-type inkjet nozzles (nozzle pitch 360 dpi, dpi as used in the present invention represents the number of dots per 2.54 cm) for each magenta ink obtained to obtain a droplet size of 7 pl, and the nozzle portion at 50 ° C. A polyethylene terephthalate film subjected to heating control and subjected to corona treatment was emitted as a base material, and a magenta solid image and a 6-point MS Mincho font were printed. As the light source, a fluorescent tube having a main peak at 308 nm is used. Under the condition that the illuminance of the substrate surface is 10 mW / cm 2 directly under the light source, the exposure starts 0.3 seconds after landing and the exposure ends after 0.8 seconds. I let you. The exposure energy was 5 mJ / cm 2 . This image printing was performed in a low humidity environment (35 ° C., 20% RH) and a high humidity environment (35 ° C., 80% RH).

(画像の評価)
以上のようにして得られた各画像について、下記の評価を行った。
(Image evaluation)
The following evaluation was performed on each image obtained as described above.

〈インク硬化性〉
各環境下で形成した印字画像について、下記の基準に則りインク硬化性の評価を行った。
<Ink curing>
For the printed images formed under each environment, the ink curability was evaluated according to the following criteria.

○:露光終了直後に触っても画像はタッキネスがない
△:露光終了直後に触ると画像はタッキネスが若干あるが、1分後にはタッキネスがなくなる
×:露光終了1分後でもタッキネスが残る
〈基材接着性〉
各環境下で形成したベタ画像上に、幅25mmのセロテープ(R)を貼り付けて強く圧着した後、90度の剥離角度で素早く剥離し、隔離後の画像の状態を目視観察し、下記の基準に則り基材接着性の評価を行った。
○: The image has no tackiness even when touched immediately after the exposure is finished. Δ: The image has a slight tackiness when touched immediately after the exposure is finished, but the tackiness disappears after one minute. X: The tackiness remains even after one minute after the exposure. Material adhesion>
A solid tape (R) with a width of 25 mm is applied on the solid image formed in each environment and strongly pressed, and then quickly peeled off at a peeling angle of 90 degrees. The state of the image after isolation is visually observed, and the following The substrate adhesion was evaluated according to the standard.

○:テープ剥離でも画像は剥がれない
△:テープ剥離で画像が一部剥がれる
×:テープ剥離で画像が全て剥がれる
〈画像滲み耐性〉
各環境下で形成した6ポイントMS明朝体文字をルーペで観察し、隣り合うドットの状態を観察し、下記の基準に則り画像滲み耐性の評価を行った。
○: The image is not peeled even when the tape is peeled △: The image is peeled off partly by the tape peeling ×: The whole image is peeled off by the tape peeling
The 6-point MS Mincho characters formed under each environment were observed with a loupe, the state of adjacent dots was observed, and image blur resistance was evaluated according to the following criteria.

○:2ドット間の滲みがほとんどない
△:2ドット間の滲みが僅かに見られる
×:ドットが大きく滲む
以上により得られた結果を表5〜8に示す。
◯: Almost no bleeding between 2 dots Δ: Slight bleeding between 2 dots is observed X: The dots are greatly blurred The results obtained as described above are shown in Tables 5-8.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

Figure 2005239877
Figure 2005239877

Figure 2005239877
Figure 2005239877

Figure 2005239877
Figure 2005239877

なお、表5中、インク201〜208は70℃1週間保存後、インク液の顕著な増粘により射出評価ができなかった。   In Table 5, the inks 201 to 208 could not be evaluated for ejection after being stored at 70 ° C. for 1 week due to the significant increase in viscosity of the ink liquid.

〔画像評価B〕
上記画像評価Aにおいて、インクを印字した後の露光照射開始時間を0.5秒に、また露光照射終了時間を1.0秒後に変更した以外は、同様にして、画像記録及び評価を行った。露光時間、露光エネルギーは画像評価Aと同じくそれぞれ0.5秒間、5mJ/cm2であった。得られた結果を表9〜12に示す。
[Image Evaluation B]
In the image evaluation A, image recording and evaluation were performed in the same manner except that the exposure irradiation start time after printing the ink was changed to 0.5 seconds and the exposure irradiation end time was changed after 1.0 seconds. . The exposure time and exposure energy were 5 mJ / cm 2 for 0.5 seconds, respectively, as in image evaluation A. The obtained results are shown in Tables 9-12.

Figure 2005239877
Figure 2005239877

Figure 2005239877
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Figure 2005239877
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なお、表9中、インク201〜208は70℃1週間保存後、インク液の顕著な増粘により射出評価ができなかった。   In Table 9, the inks 201 to 208 could not be evaluated for ejection after being stored at 70 ° C. for 1 week due to the significant increase in viscosity of the ink liquid.

表5〜12より明らかなように、本発明の活性エネルギー線酸発生剤組成物を含む本発明の活性エネルギー線硬化組成物を含有するインクは、比較例に対し、高湿環境下やさまざまな露光環境でも優れたインク硬化性、基材密着性に優れ、滲みのない高品位の画像を得られることが分かる。また、本発明のインクを高温下で保存した場合でもインク特性に劣化が見られず、保存性の高いインクが得られることが分かる。   As is clear from Tables 5 to 12, the ink containing the active energy ray curable composition of the present invention containing the active energy ray acid generator composition of the present invention is different from the comparative example in a high humidity environment and various inks. It can be seen that even in an exposure environment, excellent ink curability and substrate adhesion can be obtained, and a high-quality image without bleeding can be obtained. Further, it can be seen that even when the ink of the present invention is stored at a high temperature, the ink characteristics are not deteriorated and an ink having high storage stability can be obtained.

Claims (13)

下記一般式(a)で表される化合物及び下記一般式(b)で表される化合物を含有することを特徴とする活性エネルギー線酸発生剤組成物。
一般式(a) Qn+(Ym-n/m
(式中、Qn+はn価のカチオンを、Ym-はその共役酸のpKaの値が下記一般式(b)中のXB-の共役酸のpKaよりも大きい値を取るm価のアニオンを表し、n、mはそれぞれ1〜3の整数を表す。)
Figure 2005239877
(式中、RB1〜RB3は置換基を、XB-は対イオンを表す。)
An active energy ray acid generator composition comprising a compound represented by the following general formula (a) and a compound represented by the following general formula (b).
Formula (a) Q n + (Y m− ) n / m
(In the formula, Q n + is an n-valent cation, Y m− is an m- valent cation whose pKa value of the conjugate acid is larger than the pKa of the X B− conjugate acid in the following general formula (b)). Represents an anion, and n and m each represent an integer of 1 to 3.)
Figure 2005239877
(In the formula, R B1 to R B3 represent substituents, and X B- represents a counter ion.)
前記一般式(b)で表される化合物が、下記一般式(I−1)〜(I−3)から選ばれる少なくとも一つの化合物であることを特徴とする請求項1に記載の活性エネルギー線酸発生剤組成物。
Figure 2005239877
(式中、R11、R12、R13は置換基を、m、n、pはそれぞれ0〜5の整数を、X11 -は対イオンを表す。)
Figure 2005239877
(式中、R14は置換基を、qは0〜2の整数を表す。R15、R16は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。X12 -は対イオンを表す。)
Figure 2005239877
(式中、R17は置換基を、rは0〜3の整数を表す。R18は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、R19、R20は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。X13 -は対イオンを表す。)
The active energy ray according to claim 1, wherein the compound represented by the general formula (b) is at least one compound selected from the following general formulas (I-1) to (I-3). Acid generator composition.
Figure 2005239877
(In the formula, R 11 , R 12 and R 13 represent substituents, m, n and p each represents an integer of 0 to 5, and X 11 represents a counter ion.)
Figure 2005239877
(Wherein R 14 represents a substituent, and q represents an integer of 0 to 2. R 15 and R 16 represent a substituted, unsubstituted alkyl group, a substituted, unsubstituted alkenyl group, a substituted, unsubstituted alkynyl group. or substituted, .X 12 representing the unsubstituted aryl group - represents a counter ion).
Figure 2005239877
(Wherein R 17 represents a substituent, r represents an integer of 0 to 3. R 18 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 19 and R 20 represent a substituted or unsubstituted alkyl group. , substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group or a substituted, .X 13 representing the unsubstituted aryl group - represents a counter ion).
前記一般式(I−1)で表される化合物が、下記一般式(T−1)で表される化合物であることを特徴とする請求項2に記載の活性エネルギー線酸発生剤組成物。
Figure 2005239877
(式中、RT11、RT12はアルキル基または芳香族基を表し、ZT1は酸素原子または硫黄原子を表し、RT13、RT14はそれぞれアルキル基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、mt1は0〜4の整数を表し、nt1及びpt1はそれぞれ1〜5の整数を表し、XT1は対アニオンを表す。)
The active energy ray acid generator composition according to claim 2, wherein the compound represented by the general formula (I-1) is a compound represented by the following general formula (T-1).
Figure 2005239877
(Wherein R T11 and R T12 represent an alkyl group or an aromatic group, Z T1 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R T13 and R T14 represent an alkyl group, an aromatic group, an alkoxy group, and an aryloxy group, respectively. , An alkylthio group and an arylthio group, m t1 represents an integer of 0 to 4, n t1 and p t1 each represent an integer of 1 to 5, and X T1 represents a counter anion.)
前記一般式(a)中のQn+が、N+、S+、P+のいずれかを有するカチオンであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の活性エネルギー線酸発生剤組成物。 The active energy ray acid according to any one of claims 1 to 3, wherein Q n + in the general formula (a) is a cation having any one of N + , S + , and P +. Generator composition. 前記Qn+が第4級アンモニウムカチオンまたはピリジニウムカチオンであることを特徴とする請求項4に記載の活性エネルギー線酸発生剤組成物。 The active energy ray acid generator composition according to claim 4, wherein the Q n + is a quaternary ammonium cation or a pyridinium cation. 前記一般式(a)中のYm-が、Cl-、Br-、I-、R601−SO3 -、SO4 2-、NO3 -、R602−COO-、AlO2 -、ClO4 -、PO4 3-、B(C654 -、R603−O-から選ばれる少なくとも1種のアニオン、前記一般式(b)中のXB-が、PF6 -、BF4 -、SbF6 -、GaF6 -、AsF6 -、B(C654 -、CnF(2n+1)SO3 -から選ばれる少なくとも1種のアニオンであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の活性エネルギー線酸発生剤組成物。
ただし、nは1〜30の整数を、R601、R602はそれぞれ独立に炭素数1〜30の脂肪族基または炭素数6〜20の芳香族基を、R603は炭素数6〜20の芳香族基を表す。
Y m− in the general formula (a) is Cl , Br , I , R 601 —SO 3 , SO 4 2− , NO 3 , R 602 —COO , AlO 2 , ClO 4. -, PO 4 3-, B ( C 6 H 5) 4 -, R 603 -O - at least one anion selected from, X in the general formula (b) B- is, PF 6 -, BF 4 -, SbF 6 -, GaF 6 -, AsF 6 -, B (C 6 F 5) 4 - , wherein the at least one anion selected from -, C n F (2n + 1) SO 3 The active energy ray acid generator composition of any one of Claims 1-5.
However, n is an integer of 1 to 30, R 601 and R 602 are each independently an aliphatic group having 1 to 30 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and R 603 is an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms. Represents an aromatic group.
エポキシ化合物及び請求項1〜6のいずれか1項に記載の活性エネルギー線酸発生剤組成物を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化組成物。 An active energy ray curable composition comprising an epoxy compound and the active energy ray acid generator composition according to any one of claims 1 to 6. 前記エポキシ化合物が下記一般式(A)で表される脂環式エポキシ化合物であることを特徴とする請求項7に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
Figure 2005239877
(式中、R100は置換基を、m0は0〜2の整数を、r0は1〜3の整数を表す。L0は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数1〜15のr0+1価の連結基または単結合を表す。)
The active energy ray-curable composition according to claim 7, wherein the epoxy compound is an alicyclic epoxy compound represented by the following general formula (A).
Figure 2005239877
(In the formula, R 100 represents a substituent, m 0 represents an integer of 0 to 2, r 0 represents an integer of 1 to 3. L 0 has 1 to 15 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. Represents an r0 + 1-valent linking group or a single bond.)
前記エポキシ化合物が下記一般式(1)〜(6)で表される脂環式エポキシ化合物の少なくとも1種であることを特徴とする請求項7または8に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
Figure 2005239877
(式中、R101は置換基を、m1は0〜2の整数を表す。p1、q1はそれぞれ0または1を、r1は1〜3の整数を表す。L1は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数1〜15のr1+1価の連結基または単結合を表す。)
Figure 2005239877
(式中、R102は置換基を、m2は0〜2の整数を表す。p2、q2はそれぞれ0または1を、r2は1〜3の整数を表す。L2は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数1〜15のr2+1価の連結基または単結合を表す。)
Figure 2005239877
(式中、R103は置換基を、m3は0〜2の整数を表す。p3は0または1を表す。L3は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数1〜8の2価の連結基または単結合を表す。)
Figure 2005239877
(式中、R104は置換基を、m4は0〜2の整数を表す。p4は0または1を表す。L4は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数1〜8の2価の連結基または単結合を表す。)
Figure 2005239877
(式中、R105は置換基を表し、m5は1または2を表す。)
Figure 2005239877
(式中、R106は置換基を表し、m6は0〜2の整数を表す。)
The active energy ray-curable composition according to claim 7 or 8, wherein the epoxy compound is at least one of alicyclic epoxy compounds represented by the following general formulas (1) to (6).
Figure 2005239877
(Wherein the R 101 are substituents, .P1 which m1 is an integer of 0 to 2, q1 and each 0 or 1, r1 is .L 1 represents an integer of 1 to 3 oxygen atoms or in the main chain (It represents a C1-C15 r1 + 1 valent linking group or single bond which may contain a sulfur atom.)
Figure 2005239877
(Wherein the R 102 are substituents, .P2 which m2 represents an integer of 0 to 2, q2 and each 0 or 1, r2 is .L 2 represents an integer of 1 to 3 oxygen atoms or in the main chain (It represents a C1-15 r2 + 1 valent linking group or single bond which may contain a sulfur atom.)
Figure 2005239877
(In the formula, R 103 represents a substituent, m3 represents an integer of 0 to 2. p3 represents 0 or 1. L 3 has 1 to 8 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. Represents a divalent linking group or a single bond.)
Figure 2005239877
(In the formula, R 104 represents a substituent, m4 represents an integer of 0 to 2. p4 represents 0 or 1. L 4 has 1 to 8 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom in the main chain. Represents a divalent linking group or a single bond.)
Figure 2005239877
(In the formula, R 105 represents a substituent, and m5 represents 1 or 2.)
Figure 2005239877
(In the formula, R 106 represents a substituent, and m6 represents an integer of 0 to 2.)
オキセタン化合物を含有することを特徴とする請求項7〜9のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化組成物。 The active energy ray-curable composition according to claim 7, comprising an oxetane compound. 前記活性エネルギー線酸発生剤組成物の活性エネルギー線が紫外線であることを特徴とする請求項7〜10のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化組成物。 The active energy ray-curable composition according to any one of claims 7 to 10, wherein the active energy ray of the active energy ray acid generator composition is an ultraviolet ray. 請求項7〜11のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化組成物を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。 An ink composition for ink jet, comprising the active energy ray-curable composition according to any one of claims 7 to 11. 請求項12に記載のインクジェット用インク組成物を、選択的にインク滴の吐出制御可能な少なくとも1つのノズルを有する記録ヘッドで、記録材料上に該インク滴を吐出し、該インク滴が着弾した後、活性エネルギー線を照射することによりインクを硬化させることを特徴とする画像形成方法。 The inkjet ink composition according to claim 12 is ejected onto a recording material by a recording head having at least one nozzle capable of selectively controlling ejection of the ink droplet, and the ink droplet is landed. Thereafter, the ink is cured by irradiating with an active energy ray.
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