JP5098306B2 - 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法 - Google Patents
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Description
D. Tichenor, et al., SPIE2437(1995)292
具体的な実施例において、図2に示すような温調装置91,93,96を相互に連結する連結部材46,47は、十分に熱伝導を抑制するよう工夫しているものの、熱の授受はゼロではなかった。このため、各温調装置91,93,96の設定温度を相互作用も考慮したものとした。ここで、第1ミラー71は、最上流であるので照射熱が多く、ペルチェ素子91bは、十分な放熱ができるよう輻射板91aを当初の設定温度から1℃だけ低温側に冷却制御した。また、中間の第3ミラー73用のペルチェ素子93bについては、輻射板93aを当初の設定温度どおりに冷却制御した。一方で、第6ミラー76は、最下流であり照射熱が少なく、単独の系で考えた場合、ペルチェ素子96bは、輻射板96aを当初の設定温度から0.1℃だけ低温側に冷却すればよかった。しかし、実際の試験的な運転では、連結部材46,47等の存在により、輻射板91aや輻射板93aが輻射板96aから熱を奪うためか、輻射板96aは、当初の設定温度から0.2℃も過剰に冷却されてしまった。そのため、ペルチェ素子96bを加熱側に制御して0.1℃分の加熱を行い、当初の設定温度から0.1℃だけ冷却した状態を維持できるような制御を制御装置37に行わせた。結果的に、全てのミラー71,73,76を目標通りの温度に維持することができた。
以上は、露光装置10やこれを用いた露光方法の説明であったが、このような露光装置10を用いることによって、半導体デバイスやその他のマイクロデバイスを高い集積度で製造するためのデバイス製造方法を提供することができる。具体的に説明すると、マイクロデバイスは、図3に示すように、マイクロデバイスの機能や性能設計等を行う工程(S101)、この設計工程に基づいてマスクMAを作製する工程(S102)、デバイスの基材である基板すなわちウェハWAを準備する工程(S103)、前述した実施形態の露光装置10によりマスクMAのパターンをウェハWAに露光する露光処理過程(S104)、一連の露光やエッチング等を繰り返しつつ素子を完成するデバイス組立工程(S105)、組立後のデバイスの検査工程(S106)等を経て製造される。なお、デバイス組立工程(S105)には、通常、ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程等が含まれる。
Claims (14)
- 露光光によって転写用のマスクを照明する照明光学系と、
前記マスクのパターン像を感応基板上に形成する投影光学系と、を有する露光装置において、
前記照明光学系と前記投影光学系との少なくとも一方に含まれる複数の反射光学素子のうち第1反射光学素子の温度を調整する第1温調装置と、
前記複数の反射光学素子のうち前記第1反射光学素子に隣接する第2反射光学素子の温度を調整する第2温調装置と、を備え、
前記第2温調装置は、前記第1反射光学素子の温度調整に伴って変化する前記第2反射光学素子の温度を調整することを特徴とする
露光装置。 - 前記第2温調装置は、前記第1反射光学素子の冷却に伴う付随的な冷却を相殺するように、前記第2反射光学素子の温度を調整することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記第2温調装置は、
前記第1温調装置が前記第1反射光学素子を冷却したときは、前記第2反射光学素子を加熱して温度を調整し、
前記第1温調装置が前記第1反射光学素子を加熱したときは、前記第2反射光学素子を冷却して温度を調整することを特徴とする請求項1または請求項2記載の露光装置。 - 極端紫外線を発生する光源装置をさらに備え、前記照明光学系は、前記光源装置からの極端紫外線を露光光として前記マスクに導く請求項1から請求項3のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第1反射光学素子は、前記第2反射光学素子に比較して動作時の発熱量が多い請求項1から請求項4のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第1及び第2反射光学素子は、裏面同士が互いに対向するように配置されており、前記第1温調装置は、前記第1反射光学素子の背面側に固定されている第1温調板を有し、前記第2温調装置は、前記第2反射光学素子の背面側に配置されている第2温調板を有する請求項1から請求項5のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第2温調装置は、前記第2温調板との間で熱の授受を行うペルチェ素子と、当該ペルチェ素子を所定温度に保つ流体循環型の温度調整部とを含む請求項6記載の露光装置。
- 前記第1及び第2温調装置は、前記第1及び第2反射光学素子を非接触でそれぞれの温度を調整する請求項1から請求項7のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第1及び第2温調装置は、互いに連結されている請求項1から請求項8のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第1温調装置の動作と前記第2温調装置の動作とを調和的に制御する制御装置をさらに備える請求項1から請求項9のいずれか一項記載の露光装置。
- 請求項1から請求項10の露光装置を用いるデバイス製造方法。
- 露光光によって転写用のマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターン像を感応基板上に形成する投影光学系とを用いた露光方法であって、
前記照明光学系と前記投影光学系との少なくとも一方に含まれる複数の反射光学素子のうち第1反射光学素子の温度を調整する工程と、
前記複数の反射光学素子のうち前記第1反射光学素子に隣接する第2反射光学素子の温度を調整する工程と、を有し、
前記第2反射光学素子の温度を調整する工程は、前記第1反射光学素子の温度調整に伴って変化する前記第2反射光学素子の温度を調整することを特徴とする露光方法。 - 前記第2反射光学素子の温度を調整する工程は、前記第1反射光学素子の冷却に伴う付随的な冷却を相殺するように、前記第2反射光学素子の温度を調整することを特徴とする請求項12記載の露光方法。
- 前記第2反射光学素子の温度を調整する工程は、
前記第1反射光学素子の温度を調整する工程で前記第1反射光学素子を冷却したときは、前記第2反射光学素子を加熱して温度を調整し、
前記第1反射光学素子の温度を調整する工程で前記第1反射光学素子を加熱したときは、前記第2反射光学素子を冷却して温度を調整することを特徴とする請求項12または請求項13記載の露光方法。
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