JP5098023B2

JP5098023B2 - 塗布装置

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Publication number: JP5098023B2
Application number: JP2007290434A
Authority: JP
Inventors: 喜弘北村; 洋松尾
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2007-11-08
Filing date: 2007-11-08
Publication date: 2012-12-12
Anticipated expiration: 2027-11-08
Also published as: JP2009112971A

Description

本発明は、プラスチックフィルム、紙、金属箔等の連続走行する長尺帯状ウェブに塗布液を塗布する塗布装置に関するものである。

液晶フィルム等の積層シートを製造する際には、例えばプラスチックフィルムの少なくとも片側の面に帯電防止剤や、剥離剤等の表面処理層を塗布する。そして、このような塗布液の塗布を行う塗布装置では、製品毎に塗布後の層の厚さを所定の厚みとする必要がある。そこで、従来このような塗布装置で塗布液の塗布を行う場合には、先ずアプリケーターロールで搬送されるフィルムに塗布液を塗布した後に、平滑なロッドおよびワイヤを巻き付けたバーにより一旦塗布された塗布液を掻き落し、所定の塗布量となるよう調整を行っていた。

また、近年、特に光学用フィルムは幅方向の厚み精度の要求が高まっており、塗布ムラ、スジといった欠陥に対する要求品質も高まってきている。そのような状況下において、前記塗布装置では、幅方向の塗布厚みの調整が困難であり、塗布液の揮発により固形物が異物になるなど要求品質に対応できなくなってきた。

そこで、例えば特開２００４−７４１４７号公報には、このような問題を解決する塗布装置として、回転するバーによって塗布液を塗布する所謂バーコータが記載されている。この従来のバーコータにおいては、バーを上部に支持するブロックと、そのブロックの両側に配置され塗布液をウェブの搬送方向の上流側と下流側とに分配するブロックで構成される塗布装置が使用されている。この塗布装置によれば、上流側と下流側とに分配された塗布液をバーの回転に伴ってウェブに塗布することにより、塗布液の固化による欠陥不良の軽減が実現可能である。
特開２００４−７４１４７号公報（第７−９頁、図１、図２）

ここで、上記特許文献１に記載されるバーコータにおいて、精密な塗膜厚み制御を行う為には、塗布液の分配を行う際に分配された塗布液を通過させる溝幅部において適正な圧力損失が必要となる。しかしながら、この圧力損失は塗布液の塗布を行う塗布条件、塗布液粘度（即ち、用いる塗布液の種類）によって大きく変化する。従って、塗布条件や塗布液の種類を変更する度に、新たな塗布装置の設計、製作が必要であることが課題であった。

本発明は前記従来における問題点を解消するためになされたものであり、塗布条件、塗布液の変更が生じた場合においても容易に幅方向で均一な塗布が可能となり、品質保持と導入コスト削減を図ることができる塗布装置を提供することを目的とする。

前記目的を達成するため本願の請求項１に係る塗布装置は、連続走行するウェブに塗布液を塗布する塗布装置において、フィードブロックと、前記フィードブロックの前記ウェブの搬送方向の上流側面と下流側面にそれぞれ対向して配置された上流キャビティーブロック及び下流キャビティーブロックと、前記フィードブロックと前記上流キャビティーブロックとの間隙によって形成され、前記ウェブの搬送方向の上流側から塗布液を供給する上流供給溝と、前記フィードブロックと前記下流キャビティーブロックとの間隙によって形成され、前記ウェブの搬送方向の下流側から塗布液を供給する下流供給溝と、前記フィードブロックと前記ウェブとの間に回転可能に支持され、前記上流供給溝及び前記下流供給溝から供給される塗布液を回転運動に伴ってウェブに塗布するバーと、前記バーを回転可能に支持する支持部材と、前記バーを回転駆動させる駆動装置と、前記フィードブロックと前記上流キャビティーブロックによって挟持され、前記上流供給溝の溝幅方向に対するブロック幅に基づいて前記上流供給溝の溝幅を決定する上流ハイトブロックと、前記フィードブロックと前記下流キャビティーブロックによって挟持され、前記下流供給溝の溝幅方向に対するブロック幅に基づいて前記下流供給溝の溝幅を決定する下流ハイトブロックと、前記上流キャビティーブロックの前記フィードブロックと対向する面に対して設けられ、前記上流ハイトブロックを収容する第１挿入凹部と、前記下流キャビティーブロックの前記フィードブロックと対向する面に対して設けられ、前記下流ハイトブロックを収容する第２挿入凹部と、を有し、前記上流ハイトブロックが前記第１挿入凹部に収容された状態で前記上流キャビティーブロックと前記上流ハイトブロックとが固定され、前記下流ハイトブロックが前記第２挿入凹部に収容された状態で前記下流キャビティーブロックと前記下流ハイトブロックとが固定されることを特徴とする。

また、請求項２に係る塗布装置は、請求項１に記載の塗布装置において、前記上流ハイトブロック及び前記下流ハイトブロックは前記供給溝の溝幅方向に対するブロック幅が異なる複数種類のブロックからなり、複数種類の前記上流ハイトブロックの内、いずれか一の前記上流ハイトブロックが前記第１挿入凹部に対して挿入された状態で前記上流キャビティーブロックに固定され、複数種類の前記下流ハイトブロックの内、いずれか一の前記下流ハイトブロックが前記第２挿入凹部に対して挿入された状態で前記下流キャビティーブロックに固定され、固定された前記上流ハイトブロック及び前記下流ハイトブロックの前記ブロック幅によって前記上流供給溝及び前記下流供給溝の溝幅がそれぞれ決定されることを特徴とする。

また、請求項３に係る塗布装置は、請求項１又は請求項２に記載の塗布装置において、前記上流供給溝及び前記下流供給溝の溝幅を５０μｍ単位で調整でき、且つ溝幅の寸法公差が±２．５μｍ以内であることを特徴とする。

また、請求項４に係る塗布装置は、請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の塗布装置において、前記上流ハイトブロック及び前記下流ハイトブロックは前記上流供給溝及び前記下流供給溝の溝幅方向に対する厚みが５〜２０ｍｍで、且つ平面度が２／１０００〜１／１００ｍｍであることを特徴とする。

また、請求項５に係る塗布装置は、請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の塗布装置において、前記塗布される塗布液は、粘着剤、帯電防止剤、剥離処理剤、又は防汚処理剤であることを特徴とする。

更に、請求項６に係る塗布装置は、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の塗布装置において、前記上流供給溝の溝幅と前記下流供給溝の溝幅とを異なる幅にすることを特徴とする。

前記構成を有する請求項１に係る塗布装置では、塗布液をウェブの搬送方向の上流側と下流側とから回転するバーに供給し、バーの回転運動に伴ってウェブに塗布液を塗布する塗布装置において、塗布液を供給する上流供給溝と下流供給溝の溝幅を機械加工されたハイトブロックのブロック幅によって決定することができるので、容易に上流供給溝と下流供給溝の溝幅を変更することが可能となる。従って、塗布条件、塗布液の変更が生じた場合においても新たな塗布装置を設計、製作する必要なく、容易に幅方向で均一な塗布が可能となり、品質保持と導入コスト削減を図ることができる。

また、請求項２に係る塗布装置では、塗布液を供給する上流供給溝と下流供給溝の溝幅について、現在組み付けられているハイトブロックを他の大きさのハイトブロックに組み替えることによって容易に変更することが可能となる。従って、塗布条件、塗布液の変更が生じた場合においても新たな塗布装置を設計、製作する必要なく、容易に幅方向で均一な塗布が可能となり、品質保持と導入コスト削減を図ることができる。

また、請求項３に係る塗布装置では、上流供給溝及び下流供給溝の溝幅を５０μｍ単位で調整でき、且つ溝幅の寸法公差が±２．５μｍ以内であるので、様々な塗布条件及び使用する塗布液の種類に対応させることができるとともに、幅方向で均一な塗布が可能となる。

また、請求項４に係る塗布装置では、上流ハイトブロック及び下流ハイトブロックは上流供給溝及び下流供給溝の溝幅方向に対する厚みが５〜２０ｍｍで、且つ平面度が２／１０００〜１／１００ｍｍであるので、従来技術と比較して、機械精度、かつ繰返し再現性に優れた溝幅の変更を可能とする。

また、請求項５に係る塗布装置では、塗布液として、粘着剤、帯電防止剤、剥離処理剤、又は防汚処理剤を用いることにより、様々な用途に用いる積層シートを製造することが可能となる。

更に、請求項６に係る塗布装置では、幅方向で均一な塗布が可能となる。

以下、本発明に係る塗布装置について具体化した実施形態に基づき図面を参照しつつ詳細に説明する。先ず、図１を用いて本実施形態に係る塗布装置１について説明する。図１は本実施形態に係る塗布装置１の概略構成を示す斜視図である。

図１に示すように本実施形態に係る塗布装置１は、ダイ２と、供給タンク３と、搬送ライン４〜６と、供給ポンプ７、８と、搬送ローラ９、１０とから基本的に構成される。

ダイ２は、連続走行するフィルム、紙、金属箔等のウェブ１１の表面に対して塗布液１２を塗布することにより所定厚さの塗布膜１３を形成する。ここで、本実施形態に係る塗布装置１は特にダイ２として、ウェブ１１の搬送方向に対して直交する回転軸を中心に回転するバーを用いてウェブ１１に塗布液を塗布する所謂バーコータを用いる。バーコータは、ウェブの搬送方向の上流側と下流側とにそれぞれ液溜まりから通じる塗布幅方向に延びた狭い間隙（供給溝）を備え、各供給溝より塗布液を上流側と下流側から回転するバーの外周へと供給し、バーの回転に伴ってバーに当接するウェブに塗布液を塗布する塗布方法である。このバーコータを用いた塗布方法によれば、通常のスロットダイコーティングと比べて、塗布膜を薄くすることができ、また、高速で塗布処理を行うことができる。

以下に、図２乃至図４を用いて本実施形態に係るダイ２の構成について詳細に説明する。図２は本実施形態に係るダイ２を示した正面図、図３は本実施形態に係るダイ２を示した側面図、図４は図３の線Ａ−Ａでダイ２を切断した矢視断面図である。

図２乃至図４に示すように本実施形態に係るダイ２は、基準ベース２１上に固定されたフィードブロック２２と、フィードブロック２２に組み合わされた上流キャビティーブロック２３及び下流キャビティーブロック２４と、フィードブロック２２と上流キャビティーブロック２３との間に挟持される上流ハイトブロック２５と、フィードブロック２２と下流キャビティーブロック２４との間に挟持される下流ハイトブロック２６と、ダイ２の長手方向の両側部に配置される側板２７、２８と、
フィードブロック２２の上部で回転可能に支持されたバー２９と、基準ベース２１上に固定されバー２９を回転可能に支持する一対の支持ブロック３０、３１と、バー２９を回転駆動させる駆動モータ３２と、バー２９を駆動モータ３２の回転軸へと継手するカップリング３３とから基本的に構成されている。

ここで、フィードブロック２２は、略直方体形状を有するブロックであり、基準ベース２１に対するダイ２の位置決めを行う。フィードブロック２２は、基準ベース２１に対してボルト等により固定される。また、フィードブロック２２の頂上部にはバー２９の径に合わせた湾曲面３５が形成されており、バー２９が配置された際にバー２９との間に一定幅の間隙３４を形成する。
尚、フィードブロック２２において、特にバー２９と対向する湾曲面３５の材料はバーの寿命を考慮し、ＰＴＦＥ、ＭＣナイロン、超高分子量ＰＥを用いることが好ましい。また、湾曲面３５の形状は本実施形態では半円形状に加工されているが、Ｖ字に加工されたものを使用しても良い。

一方、上流キャビティーブロック２３と下流キャビティーブロック２４は、フィードブロック２２のウェブ１１の搬送方向の上流側面と下流側面にそれぞれ対向して配置されたブロックである。そして、ボルト等によりフィードブロック２２に対して取り付けられる。

また、上流キャビティーブロック２３のフィードブロック２２と対向する対向面には所定形状の凹部が形成されており、フィードブロック２２と組合せることによって上流液溜め３６と上流供給溝３７を形成する。
同様に、下流キャビティーブロック２４のフィードブロック２２と対向する対向面にも所定形状の凹部が形成されており、フィードブロック２２と組合せることによって下流液溜め３９と下流供給溝４０を形成する。

ここで、上流液溜め３６及び下流液溜め３９は、ダイ２の長手方向に沿って半円筒形状に形成されており、供給タンク３から供給された塗布液１２を溜める領域である。また、上流液溜め３６は、上流キャビティーブロック２３に設けられた後述の塗布液供給口４５及び塗布液回収口４６と上流供給溝３７に連通される。更に、下流液溜め３９は、下流キャビティーブロック２４に設けられた塗布液供給口４７と下流供給溝４０に連通される。

一方、上流キャビティーブロック２３のフィードブロック２２と対向する対向面の底部には、図４に示すように後述の上流ハイトブロック２５が挿入される挿入凹部３８が形成されている。また、下流キャビティーブロック２４のフィードブロック２２と対向する対向面の底部にも、図４に示すように後述の下流ハイトブロック２６が挿入される挿入凹部４１が形成されている。

また、上流キャビティーブロック２３には供給タンク３から搬送ライン４を介して供給される塗布液１２を上流液溜め３６へと導く塗布液供給口４５が形成されている。更に、上流キャビティーブロック２３にはウェブ１１への塗布を行う際にオーバーフローした塗布液１２を搬送ライン６を介して再び供給タンク３へと回収する塗布液回収口４６が形成されている。
一方、下流キャビティーブロック２４には供給タンク３から搬送ライン５を介して供給される塗布液１２を下流液溜め３９へと導く塗布液供給口４７が形成されている。
そして、供給タンク３から上流液溜め３６には塗布液供給口４５を介して、計量された塗布液が供給ポンプ７により供給される。更に、上流液溜め３６に供給された塗布液１２は上流供給溝３７に送液されて単位時間一定量で幅方向に均一な圧力で吐出され、バー２９の外周面へと上流側（図４の右方向）から供給される。一方、供給タンク３から下流液溜め３９には塗布液供給口４７を介して、計量された塗布液が供給ポンプ８により供給される。更に、下流液溜め３９に供給された塗布液１２は下流供給溝４０に送液されて単位時間一定量で幅方向に均一な圧力で吐出され、バー２９の外周面へと下流側（図４の左方向）から供給される。尚、塗布液供給口４５、４７はダイ２の上流供給溝３７及び下流供給溝４０の長さ方向の中心位置（例えば、溝幅の長さが６００ｍｍである場合には左右端部から３００ｍｍ）に設けられている。

次に、上流ハイトブロック２５及び下流ハイトブロック２６について説明する。
上流ハイトブロック２５及び下流ハイトブロック２６は直方体形状を有するブロックである。そして、上流ハイトブロック２５は上流キャビティーブロック２３に形成された挿入凹部３８に挿入された状態で上流キャビティーブロック２３に対してボルト締結され、フィードブロック２２と上流キャビティーブロック２３とを組合せた際に各ブロックによって挟持される。一方、下流ハイトブロック２６は下流キャビティーブロック２４に形成された挿入凹部４１に挿入された状態で下流キャビティーブロック２４に対してボルト締結され、フィードブロック２２と下流キャビティーブロック２４とを組合せた際に各ブロックによって挟持される。また、挿入凹部３８、４１に挿入された上流ハイトブロック２５及び下流ハイトブロック２６は、バー２９、上流供給溝３７及び下流供給溝４０の長手方向に平行となるように配置される。
そして、後述のように上流ハイトブロック２５の上流供給溝３７の溝幅方向に対するブロック幅に基づいて、上流供給溝３７の溝幅ｔ１が決定される。同じく、下流ハイトブロック２６の下流供給溝４０の溝幅方向に対するブロック幅に基づいて、下流供給溝４０の溝幅ｔ２が決定される。

以下に、上流ハイトブロック２５と上流供給溝３７、及び下流ハイトブロック２６と下流供給溝４０の関係についてより詳細に説明する。尚、上流ハイトブロック２５と下流ハイトブロック２６、並びに上流供給溝３７と下流供給溝４０とはそれぞれ左右対称で同一構造を有しているので、以下では上流ハイトブロック２５と上流供給溝３７を例に挙げて説明する。

上流ハイトブロック２５は上流供給溝３７の溝幅方向に対するブロック幅Ｔ１が異なる複数種類のブロック（例えば、Ｔ１＝５ｍｍ〜２０ｍｍまで５０μｍ毎に異なる種類のブロック）があり、現在組み付けられている上流ハイトブロック２５を他の大きさの上流ハイトブロックに組み替えることによって、ダイ２全体を交換することなくダイ２の上流供給溝３７の溝幅ｔ１を任意の大きさに変更することが可能となる。
例えば、ブロック幅Ｔ１が５ｍｍの上流ハイトブロック２５を用いた場合には上流供給溝３７の溝幅ｔ１は１００μｍに決定される。また、ブロック幅Ｔ１が５．１ｍｍの上流ハイトブロック２５を用いた場合には上流供給溝３７の溝幅ｔ１は２００μｍに決定される。また、ブロック幅Ｔ１が５．２ｍｍの上流ハイトブロック２５を用いた場合には上流供給溝３７の溝幅ｔ１は３００μｍに決定される。
尚、説明は省略したが、下流ハイトブロック２６のブロック幅Ｔ２と下流供給溝４０の溝幅ｔ２についても同様の関係が成り立つ。

ここで、上流ハイトブロック２５と下流ハイトブロック２６の各ブロック幅Ｔ１、Ｔ２は、機械加工精度を維持するため、５ｍｍ〜２０ｍｍとする。また、上流ハイトブロック２５のブロック幅Ｔ１によって決定される上流供給溝３７の溝幅ｔ１及び下流ハイトブロック２６のブロック幅Ｔ２によって決定される下流供給溝４０の溝幅ｔ２は、塗布条件により変更する必要があるが、０．１ｍｍ〜１ｍｍ、好ましくは０．２ｍｍ〜０．５ｍｍの間とする。
また、上流供給溝３７と下流供給溝４０における幅方向の塗布液の均一な分配には、上流供給溝３７と下流供給溝４０の加工精度が重要となる。従って、上流ハイトブロック２５及び下流ハイトブロック２６は、平面度が２／１０００ｍｍ〜１０／１０００ｍｍ、好ましくは２／１０００ｍｍ〜５／１０００ｍｍとなるように研削加工が施される。また、フィードブロック２２、上流キャビティーブロック２３及び下流キャビティーブロック２４についても同様に平面度が２／１０００ｍｍ〜１０／１０００ｍｍとなるように研削加工が施される。そして、上流供給溝３７の溝幅ｔ１及び下流供給溝４０の溝幅ｔ２が、５０μｍ±２．５μｍ単位で所定の溝幅となるようハイトブロックと締結し組み付ける。

また、上流供給溝３７の溝幅ｔ１及び下流供給溝４０の溝幅ｔ２は必ずしも同じ幅である必要はなく、それぞれ条件に応じた設定が可能である。特に、液切れ、塗布スジの軽減には上流供給溝３７からの塗布液供給と下流供給溝４０からの塗布液供給のそれぞれの流速を調整することが重要である。
ここで、従来ではダイ２手前に設けたバルブの開度で調整を行われてきた。しかし、その場合、設定した溝幅に対して流量が低い場合は、塗布液を幅方向に分配できず、膜厚が不均一になる。それに対して、本実施形態による構造では、流量に合わせて上流、下流それぞれの溝幅を容易に調整することが可能となり、膜厚の均一性を保つことができる。

また、側板２７、２８は、ダイ２の長手方向の両側部に配置され、上流供給溝３７や下流供給溝４０の長さを規制するとともにダイ２を密閉する。そして、側板２７、２８はボルト等によってフィードブロック２２、上流キャビティーブロック２３及び下流キャビティーブロック２４と固定される。

尚、各ブロックの組立を再現性よく行うには、温度バラツキが1℃以下で管理された部屋（専用ブース）、精密な石定盤（JIS00級）上を基準面として、所定のトルクレンチを用いてボルト締結していくことが望ましい。

一方、バー２９は、支持ブロック３０、３１によって基準ベース２１に対して回転可能に支持された円柱部材である。バー２９は、フィードブロック２２の上部にフィードブロック２２と平行に配置され、搬送されるウェブ１１に対して当接される。更に、バー２９の回転軸はウェブ１１の搬送方向に交差する方向となる。そして、バー２９はカップリング３３を介して継手された駆動モータ３２の駆動に伴って所定回転方向に所定速度で回転駆動される。
尚、バー２９の直径は６ｍｍ〜２０ｍｍの範囲のものを用いることが望ましい。また、材質はステンレス鋼を用いることが多く、ＳＵＳ３０４又は耐食性を考慮したＳＵＳ３１６が用いられる。
更に、バー２９にワイヤを巻き付けたものを使用することも可能である。その場合に使用されるワイヤ径は、２０μｍ〜１５０μｍのワイヤを用いる。尚、本実施形態ではバー２９は駆動モータ３２の駆動に基づいてウェブに対して逆転方向に回転するが、バーの回転方向はウェブ１１に対して正転方向とすることもできる。また、回転数は１０ｒｐｍ〜５００ｒｐｍの間で使用される。

一方、図１に示す供給タンク３は、塗布液１２を貯留するタンクであり、貯留された塗布液１２は供給ポンプ７、８によって、単位時間当りの供給量を一定にしてダイ２へと供給される。尚、用いられる塗布液の種類は製造する積層シートによって異なるが、粘着剤、帯電防止剤、剥離処理剤、防汚処理剤等が用いられる。

また、搬送ライン４と搬送ライン６は供給タンク３とダイ２の上流液溜め３６とを接続する配管であり、搬送ライン５は供給タンク３とダイ２の下流液溜め３９とを接続する配管である。そして、供給タンク３から供給された塗布液１２は搬送ライン４と搬送ライン５によって分配され、搬送ライン４を通った塗布液１２は上流側にある上流供給溝３７へと到る。一方、搬送ライン５を通った塗布液１２は下流側にある下流供給溝４０へと到る。また、上流供給溝３７及び上流液溜め３６においてオーバーフローした塗布液１２は搬送ライン６を通ってタンクへ回収される。

更に、搬送ライン４には搬送ライン４に流れる塗布液１２の流量を検出する流量計５１と、圧力を検出する圧力計５２とが設けられている。同様に、搬送ライン５には搬送ライン５に流れる塗布液１２の流量を検出する流量計５３と、圧力を検出する圧力計５４とが設けられている。更に、搬送ライン６には搬送ライン６に流れる塗布液１２の流量を検出する流量計５５が設けられている。
そして、搬送ライン４と搬送ライン５とにそれぞれに供給される流量は流量計５１、５３で管理される。供給された塗布液は前記したようにバー２９によりウェブ１１に転写される。また、流量計５５の指示値と供給系の流量との差分により、転写された塗布液厚みを管理することができる。また、供給系に設けられた圧力計５２、５４で上流、下流それぞれのブロックの圧力損失を管理する。

また、供給ポンプ７、８は供給タンク３に貯留された塗布液１２を単位時間当り一定の所定量で搬送ライン４及び搬送ライン５へと供給する供給手段である。尚、供給ポンプ７、８は２台である必要はなく、１台のみ設置することも可能である。その場合には、バルブ操作により上流と下流側それぞれの流量を調整する。

また、搬送ローラ９、１０はウェブ１１を予め設定された所定速度で所定方向へと搬送する搬送手段である。

尚、図示は省略するが、塗布装置１には供給ポンプ７、８、搬送ローラ９、１０の駆動源、駆動モータ３２を制御する制御装置が設けられている。そして、制御装置は予め設定されたプログラムに従って、供給ポンプ回転数、搬送ローラ９、１０の搬送速度、バー２９の回転速度等を調整する。それによって、ウェブ１１に塗工される塗布膜１３の厚さを調整する。

次に、上記のように構成された本実施形態に係る塗布装置１におけるウェブ１１への塗布液１２の塗布工程について説明する。先ず、レベル管理された供給タンク３に接続された供給ポンプ７、８により、目標厚み設定に対する流量で計量された塗布液１２を上流側と下流側の２方向に分配して、それぞれ上流液溜め３６と下流液溜め３９に送液する。そして、各液溜め３６、３９に連通された上流供給溝３７と下流供給溝４０から回転するバー２９の外周面へと塗布液１２を供給する。そして、バー２９の回転に伴って、バーの外周面に塗布液の膜が形成され、その後にバー２９がウェブ１１と接触することによりウェブ１１へと所定厚みで塗布液１２が塗布される。

〔評価〕
次に、上流供給溝３７及び下流供給溝４０の溝幅と、塗布面状態との関係について、本発明に係る実施例１〜実施例４及び比較例１〜比較例３の塗布装置により製造した積層シートの評価結果を比較して説明する。尚、実施例１〜実施例４及び比較例１〜比較例３のいずれについても、上記説明した塗布装置１を用いる。

（実施例1）
以下の塗布条件にてポリエステルフィルムに粘度３０ｍｓＰａｓのアクリル系粘着剤を塗布した。塗布液送液流量は上流側３０００ｃｃ／ｍｉｎ、下流側２０００ｃｃ／ｍｉｎとした。上流供給溝３７及び下流供給溝４０のそれぞれの溝幅ｔ１、ｔ２は流量に合わせて、上流側０．５ｍｍ、下流側０．５ｍｍとなるように上流ハイトブロック２５及び下流ハイトブロック２６をセットした。
ライン速度・・・１００ｍ／ｍｉｎ
塗布厚み・・・５０ｃｃ／ｍ^２
バー直径・・・１０ｍｍ
回転数・・・−５０ｒｐｍ（逆回転）
塗布幅・・・６００ｍｍ

（比較例１）
実施例１の条件を基準に塗布厚みを２０ｃｃ／ｍ^２とするため流量を変更した。溝幅は実施例１と同じ上流側０．５ｍｍ、下流側０．５ｍｍで塗布を行った。

（比較例２）
溝幅を上流側０．４５ｍｍ、下流側０．４ｍｍに変更した以外は比較例1と同じ条件で塗布を行った。

（実施例２）
溝幅を上流側０．４ｍｍ、下流側０．３５ｍｍとした以外は比較例１と同じ条件で塗布を行った。

（実施例３）
ポリエステルフィルムに粘度１０ｍＰａｓの長鎖アルキル系剥離剤を塗布するため、実施例1と同じ塗布条件にて塗布を試みた。このときの上流供給溝３７及び下流供給溝４０のそれぞれの溝幅は上流側０．３ｍｍ、下流側０．３ｍｍとなるようにハイトブロックをセットした。

（比較例３）
塗布厚みを２０ｃｃ／ｍ^２とした以外は実施例３と同じ塗布条件で塗布を行った。

（実施例４）
溝幅を上流側０．２５ｍｍ、下流側０．２ｍｍとした以外は比較例３と同じ条件で塗布を行った。

〔結果〕
上記実施例１〜４および比較例１〜３にて塗布テストを実施した結果を図５に示す。
実施例1では，塗布量５０ｃｃ／ｍ^２に対して溝幅０．５ｍｍで液切れやスジなく塗布が可能であったが、比較例２では塗布厚みを２０ｃｃ／ｍ^２へと変更したために、部分的に液ガレによるスジが発生した。一方、比較例３でも同様の欠陥が発生したが、実施例２と同じサイズの溝幅とすることで塗布欠陥なく塗布することができた。
同様に、実施例３、４及び比較例３の場合も粘度の異なる塗布液を塗布した例で、溝幅を変えることで塗布厚みが変わった場合でも５０μｍ単位で溝幅を調整することで良好な塗布面を得ることができた。
このことは，ライン速度を変えるときも同様のことが言え、所定の塗布液流量に対して最適な溝幅を調整することで、良好な塗布が可能となることが言える。
従って、これらのことから塗布条件変更が必要になった場合にも、本発明の塗布装置１を用いることによって一の塗布装置により生産することが可能であり、大幅なイニシャルコストの削減と効率化が見込まれることは明確である。

以上、本実施形態に係る塗布装置１によれば、塗布液１２をウェブ１１の搬送方向の上流側と下流側とから回転するバー２９に供給し、バー２９の回転運動に伴ってウェブ１１に塗布液を塗布するバーコータを用いた塗布装置において、塗布液を供給する上流供給溝３７と下流供給溝４０の溝幅ｔ１、ｔ２を機械加工された上流ハイトブロック２５及び下流ハイトブロック２６のブロック幅Ｔ１、Ｔ２によって決定することができる。即ち、現在組み付けられている各ハイトブロック２５、２６を他の大きさのハイトブロックに組み替えることによって容易に上流供給溝３７と下流供給溝４０の溝幅ｔ１、ｔ２を変更することが可能となる。従って、塗布条件、塗布液の変更が生じた場合においても新たな塗布装置を設計、製作する必要なく、容易に幅方向で均一な塗布が可能となり、品質保持と導入コスト削減を図ることができる。
また、上流供給溝３７及び下流供給溝４０の溝幅を５０μｍ単位で調整でき、且つ溝幅の寸法公差が±２．５μｍ以内であるので、様々な塗布条件及び使用する塗布液の種類に対応させることができるとともに、幅方向で均一な塗布が可能となる。
また、上流ハイトブロック２５及び下流ハイトブロック２６は上流供給溝３７及び下流供給溝４０の溝幅方向に対する厚みが５〜２０ｍｍで、且つ平面度が２／１０００〜１／１００ｍｍであるので、従来技術と比較して、機械精度、かつ繰返し再現性に優れた溝幅の変更を可能とする。
また、塗布液１２として、粘着剤、帯電防止剤、剥離処理剤、又は防汚処理剤を用いることにより、様々な用途に用いる積層シートを製造することが可能となる。
また、塗布装置１で製造した積層シートでは、一の塗布装置のみを用いることによって、様々な種類の積層シートでも幅方向に均一に塗布した状態とすることが可能となり、品質保持と製造コストの削減を図ることができる。

本実施形態に係る塗布装置の概略構成を示す斜視図である。本実施形態に係るダイを示した正面図である。本実施形態に係るダイを示した側面図である。図３の線Ａ−Ａでダイを切断した矢視断面図である。実施例１〜実施例４及び比較例１〜比較例３で製造した積層シートの評価結果を示した表である。

１塗布装置
２ダイ
１１ウェブ
１２塗布液
２２フィードブロック
２３上流キャビティーブロック
２４下流キャビティーブロック
２５上流ハイトブロック
２６下流ハイトブロック
２９バー
３０、３１支持ブロック
３３駆動モータ
３７上流供給溝
４０下流供給溝

Claims

連続走行するウェブに塗布液を塗布する塗布装置において、
フィードブロックと、
前記フィードブロックの前記ウェブの搬送方向の上流側面と下流側面にそれぞれ対向して配置された上流キャビティーブロック及び下流キャビティーブロックと、
前記フィードブロックと前記上流キャビティーブロックとの間隙によって形成され、前記ウェブの搬送方向の上流側から塗布液を供給する上流供給溝と、
前記フィードブロックと前記下流キャビティーブロックとの間隙によって形成され、前記ウェブの搬送方向の下流側から塗布液を供給する下流供給溝と、
前記フィードブロックと前記ウェブとの間に回転可能に支持され、前記上流供給溝及び前記下流供給溝から供給される塗布液を回転運動に伴ってウェブに塗布するバーと、
前記バーを回転可能に支持する支持部材と、
前記バーを回転駆動させる駆動装置と、
前記フィードブロックと前記上流キャビティーブロックによって挟持され、前記上流供給溝の溝幅方向に対するブロック幅に基づいて前記上流供給溝の溝幅を決定する上流ハイトブロックと、
前記フィードブロックと前記下流キャビティーブロックによって挟持され、前記下流供給溝の溝幅方向に対するブロック幅に基づいて前記下流供給溝の溝幅を決定する下流ハイトブロックと、
前記上流キャビティーブロックの前記フィードブロックと対向する面に対して設けられ、前記上流ハイトブロックを収容する第１挿入凹部と、
前記下流キャビティーブロックの前記フィードブロックと対向する面に対して設けられ、前記下流ハイトブロックを収容する第２挿入凹部と、を有し、
前記上流ハイトブロックが前記第１挿入凹部に収容された状態で前記上流キャビティーブロックと前記上流ハイトブロックとが固定され、
前記下流ハイトブロックが前記第２挿入凹部に収容された状態で前記下流キャビティーブロックと前記下流ハイトブロックとが固定されることを特徴とする塗布装置。
前記上流ハイトブロック及び前記下流ハイトブロックは前記供給溝の溝幅方向に対するブロック幅が異なる複数種類のブロックからなり、
複数種類の前記上流ハイトブロックの内、いずれか一の前記上流ハイトブロックが前記第１挿入凹部に対して挿入された状態で前記上流キャビティーブロックに固定され、
複数種類の前記下流ハイトブロックの内、いずれか一の前記下流ハイトブロックが前記第２挿入凹部に対して挿入された状態で前記下流キャビティーブロックに固定され、
固定された前記上流ハイトブロック及び前記下流ハイトブロックの前記ブロック幅によって前記上流供給溝及び前記下流供給溝の溝幅がそれぞれ決定されることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
前記上流供給溝及び前記下流供給溝の溝幅を５０μｍ単位で調整でき、且つ溝幅の寸法公差が±２．５μｍ以内であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の塗布装置。
前記上流ハイトブロック及び前記下流ハイトブロックは前記上流供給溝及び前記下流供給溝の溝幅方向に対する厚みが５〜２０ｍｍで、且つ平面度が２／１０００〜１／１００ｍｍであることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の塗布装置。
前記塗布される塗布液は、粘着剤、帯電防止剤、剥離処理剤、又は防汚処理剤であることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の塗布装置。
前記上流供給溝の溝幅と前記下流供給溝の溝幅とを異なる幅にすることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の塗布装置。