JP5090545B2 - 測定値の判定方法 - Google Patents
測定値の判定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5090545B2 JP5090545B2 JP2011041620A JP2011041620A JP5090545B2 JP 5090545 B2 JP5090545 B2 JP 5090545B2 JP 2011041620 A JP2011041620 A JP 2011041620A JP 2011041620 A JP2011041620 A JP 2011041620A JP 5090545 B2 JP5090545 B2 JP 5090545B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- value
- pattern
- measurement
- measured
- intensity distribution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 28
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 116
- 238000012417 linear regression Methods 0.000 claims description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000002547 anomalous effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000009897 systematic effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Description
否を判定する測定値の判定方法に関するものである。
置を決めるなどの種々の方法がある。
(b)期待される寸法を中心とした測定値のある範囲を設定し、この範囲外のものを測定の失敗とみなしていた(自動化可能)。
(1)測定点座標:(x,y)
(2)測定種別:
・ライン
・スペース
・ホール
・ドット
・その他
(3)測定ボックス:
(4)テンプレート:
(5)その他:
を設定するものである。
(1)測定点座標:(x,y)
(2)測定種別:
・ライン
・スペース
・ホール
・ドット
・その他
(3)測定ボックス:
(4)テンプレート:
を指定入力、および被測定サンプル2を画像取得装置1にロード(装着)する。ここで、(1)測定点座標は被測定サンプル2上の測定する対象となるパターンの位置の座標(X
,Y)(被測定サンプル2上の座標、あるいはCADデータ上の測定対象のパターンの位置(点))である。(2)測定種別は(1)で指定された測定点座標に対する、ライン(線幅)、スペース(線と線の間隔)、ホール(矩形の内側の相対する辺間の距離)、ドット(矩形の外側の相対する辺間の距離)である。(3)測定ボックスは、矩形内について所定本数のライン(線幅)を測定するための当該矩形(測定ボックス)である。(4)テンプレート(ビットマップ)は、CAD上の測定対象のパターンについて、画像上でパターンマッチングして一致したパターンについて測定するためのテンプレートである。
)を自動的に出力することが可能となる。以下順次詳細に説明する。
出・増幅して生成した画像5のうちの、図4の(a−1)のパターンに対応する部分の信号強度分布であって、パターンのエッジ部分の上方向の最大ピークPlと下方向の最小ピークP2とがなだらか、かつその位置がずれており(その結果、測定値が不正確となる場合であって)、焦点すれしている様子が判る信号強度分布である。この場合には、後述する図4の(c)のテーパ幅が所定範囲外となり、測定値がNGと判定される場合の信号強度分布の例を示す。
・エッジ位置xe=(xpl−xp2)/2
と定義する。同様に、図4の(a−2)の右側のエッジ部分についても、エッジ位置とテーパ幅を測定する。そして、パターンの幅(線幅)は2つのエッジ位置の間隔(差)であり、テーパ幅は左側および右側の2つのテーパ幅となる。
・種別:
・測定点:
・X
・Y
・測定値Wt:
・テーパ幅:
・左Wt(L)
・右Wt(R)
・判定(OKあるいはNG)
・その他:
ここで、サンプルNoは被測定サンプル2の一意の番号である。種別は測定種別であって、ライン、スペース、ホール、ドットなどである。測定点は測定指示する点(座標)である。測定値Wtは測定した線幅、線間隔などの測定値である。テーパ幅はエッジ部分のテーパ幅(図4の(b)参照)である。判定はテーパ幅が所定範囲内のときにOK、所定範囲外のときにNGとして設定したものである。
0.8をそれぞれ測定する。そして、
・テーパ幅=(W0.8−W0.2)/2
・測定値(線幅)=W0.5
とする。
データi(n)=i(xn)
として所定個数抽出する。そして、α(x−x0)となる係数α、x0を公知の最小自乗法で決める。そして、
Ipl=α(xpl−x0)
Ip2=α(xp2−x0)
It=thr(Ipl−Ip2)+Ip2=α(xt−x0)
と表されるので、このうちのxtを求め、当該xt(エッジ位置)をもとに線幅などの測定値を算出する。
スロープ値=((閾値0.9のときのパターン幅)−(閾値0.1のときのパターン
幅))/(0.9−0.1)
スロープ値は、マスクのパターン上に照射するビームスポットの焦点がずれてくると、スロープ値が大きくなる(図9の焦点があっている状態から焦点ズレの状態のようにスロープ値が大きくなる)。スロープ値は、焦点ズレの他に、測定対象のマスクのパターンの形成時の電子ビームの描画条件でも異なってくるので、当該影響をも併せて評価できる。
2:被測定サンプル
3:走査系
4:信号アンプ
5:画像
6:コンピュータ
7:測定パラメータ設定手段
8:画像取得手段
9:測定手段
10:測定結果ファイル
11:入力装置
12:表示装置
Claims (8)
- 被測定対象物上のパターンの線幅あるいは線間隔などを測定した測定値の良否を判定する判定方法において、
被測定対象物上のパターンの信号強度分布を取得するステップと、
前記取得した信号強度分布から当該パターンのエッジ位置を検出するステップと、
前記エッジ位置の検出に用いたと同一の信号強度分布から当該パターンの線幅のスロープ値を検出するステップと、
前記検出したスロープ値が予め設定した所定範囲内のときに前記検出したエッジ位置をもとに算出した測定値が正しいと判定し、一方、所定範囲外のときに前記検出したエッジ位置をもとに算出した測定値が不良と判定するステップと
を有する測定値の判定方法。 - 前記スロープ値は、前記パターンの線幅の両側のエッジ部分における最大ピーク値P1と最小ピーク値P2との間の線幅の差を、当該最大ピーク値P1のときの閾値と当該最小ピーク値P2のときの閾値との差で割った値としたことを特徴とする請求項1記載の測定値の判定方法。
- 前記スロープ値は、前記パターンの線幅の両側のエッジ部分に対応する最大ピーク値P1と最小ピーク値P2の間に予め2つの閾値を設定し、当該2つの閾値の間の線幅の差を、当該2つの閾値の差で割った値としたことを特徴とする請求項1記載の測定値の判定方法。
- 前記パターンのエッジ位置として、前記信号強度分布のエッジ部分に対応する最大ピーク値P1と最小ピーク値P2との間の位置としたことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の測定値の判定方法。
- 前記パターンのエッジ位置として、前記信号強度分布のエッジ部分に対応する最大ピーク値P1と最小ピーク値P2との間に予め2つの閾値を設定し、当該2つの閾値の間の位置としたことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の測定値の判定方法。
- 前記パターンのエッジ位置として、前記信号強度分布のエッジ部分に対応する最大ピーク値P1と最小ピーク値P2との間の所定個数の値をもとに直線回帰法によってエッジ位置を求めたことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の測定値の判定方法。
- 前記パターンの信号強度分布が、被測定対象物上のパターンから放射された2次電子を検出して生成した信号強度分布であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれかに記載の測定値の判定方法。
- 前記パターンの描画露光量に対応づけて、前記測定値が正しいと判定する所定範囲を予め設定したことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれかに記載の測定値の判定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011041620A JP5090545B2 (ja) | 2004-11-19 | 2011-02-28 | 測定値の判定方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004335740 | 2004-11-19 | ||
JP2004335740 | 2004-11-19 | ||
JP2011041620A JP5090545B2 (ja) | 2004-11-19 | 2011-02-28 | 測定値の判定方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005194819A Division JP5069814B2 (ja) | 2004-11-19 | 2005-07-04 | 測定値の判定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011145302A JP2011145302A (ja) | 2011-07-28 |
JP5090545B2 true JP5090545B2 (ja) | 2012-12-05 |
Family
ID=44460250
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011041620A Active JP5090545B2 (ja) | 2004-11-19 | 2011-02-28 | 測定値の判定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5090545B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6683583B2 (ja) * | 2016-09-30 | 2020-04-22 | 株式会社ホロン | 電子ビーム画像取得装置および電子ビーム画像取得方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5468149A (en) * | 1977-11-11 | 1979-06-01 | Erionikusu Kk | Electron ray application device |
JPS62103510A (ja) * | 1985-08-30 | 1987-05-14 | Jeol Ltd | パタ−ン測長方法 |
JPH04274711A (ja) * | 1991-03-01 | 1992-09-30 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 荷電ビームを用いたパターン寸法測定方法 |
JPH06347246A (ja) * | 1993-06-07 | 1994-12-20 | Hitachi Ltd | 測長機能を備えた走査電子顕微鏡 |
US5969273A (en) * | 1998-02-12 | 1999-10-19 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for critical dimension and tool resolution determination using edge width |
JP2001052981A (ja) * | 1999-08-06 | 2001-02-23 | Fujitsu Ltd | 半導体製造装置及び半導体製造方法 |
JP2002062123A (ja) * | 2000-08-22 | 2002-02-28 | Fujitsu Ltd | 荷電ビーム測長装置及び測長方法 |
JP3961438B2 (ja) * | 2003-03-25 | 2007-08-22 | 株式会社東芝 | パターン計測装置、パターン計測方法および半導体装置の製造方法 |
-
2011
- 2011-02-28 JP JP2011041620A patent/JP5090545B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011145302A (ja) | 2011-07-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5069814B2 (ja) | 測定値の判定方法 | |
JP5500871B2 (ja) | テンプレートマッチング用テンプレート作成方法、及びテンプレート作成装置 | |
JP5202071B2 (ja) | 荷電粒子顕微鏡装置及びそれを用いた画像処理方法 | |
US7164127B2 (en) | Scanning electron microscope and a method for evaluating accuracy of repeated measurement using the same | |
JP4365854B2 (ja) | Sem装置又はsemシステム及びその撮像レシピ及び計測レシピ生成方法 | |
US7590506B2 (en) | Pattern measurement apparatus and pattern measuring method | |
US8295584B2 (en) | Pattern measurement methods and pattern measurement equipment | |
JP5492383B2 (ja) | 走査型電子顕微鏡及びこれを用いたパターン寸法計測方法 | |
JP5543872B2 (ja) | パターン検査方法およびパターン検査装置 | |
US8330104B2 (en) | Pattern measurement apparatus and pattern measurement method | |
KR101524421B1 (ko) | 결함 관찰 방법 및 결함 관찰 장치 | |
US6872943B2 (en) | Method for determining depression/protrusion of sample and charged particle beam apparatus therefor | |
US7932493B2 (en) | Method and system for observing a specimen using a scanning electron microscope | |
US8263935B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
JP5174863B2 (ja) | 画像取得条件設定装置、及びコンピュータプログラム | |
JP6088337B2 (ja) | パターン検査方法及びパターン検査装置 | |
JP5090545B2 (ja) | 測定値の判定方法 | |
JP4959381B2 (ja) | パターン測定方法、及び電子顕微鏡 | |
JP2011179819A (ja) | パターン測定方法及びコンピュータプログラム | |
JP2007042513A (ja) | 検査装置および検査装置の照射ビームサイズ調整方法 | |
JP2012084287A (ja) | Sem式外観検査装置 | |
JP4231891B2 (ja) | 荷電粒子線の調整方法、及び荷電粒子線装置 | |
JPH11237230A (ja) | 電子顕微鏡における試料測定法及び装置 | |
JP2023019700A (ja) | 荷電粒子線装置の撮像画像に係る条件決定方法、装置およびプログラム | |
JP4627731B2 (ja) | 荷電粒子線装置に用いる高さ検出装置及び高さ検出方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110228 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110312 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110906 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111025 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120306 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120516 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20120525 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120814 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120912 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150921 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5090545 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |