JP5089521B2 - 粉体のプラズマ処理方法 - Google Patents
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ここで、高圧電源106により高周波の高電圧を印加させることによって反応筒105内にプラズマ放電を開始し、続いて粉体を収納したホッパー107を開くことにより一定量の粉体を反応筒105に吸引し、混合気体の気圧によって粉体を攪拌しながらプラズマ励起した中を通過することにより粉体の表面改質が行われる方法が開示されている。
図1は本発明を適用した粉体のプラズマ処理方法を実施するために用いるプラズマ処理装置における放電容器の一例を示す正面断面図、図2は本発明を適用した粉体のプラズマ処理方法を実施するために用いるプラズマ処理装置における放電容器の一例を示す側面断面図である。
実施例1
ノーメックス(芳香族ナイロンの共重合体からなる厚さ約0.7mmの絶縁紙、デュポン社製)より形成される羽根1枚を備える誘電体間の空隙部内に、ポリプロピレン重合粉末(日本ポリプロ(株)製、NOVATEC P−8000,平均粒径300マイクロメートル)12gとナイロンチップ(カネボウ製MC102)2gを投入し、卓上用ポットミル回転台(日陶科学(株)製 AZN−51S)に載せて5〜8rpmの回転速度範囲内にて回転させた。
次に、実施例1と試料充填は同じ条件で、ポリプロピレン重合粉末12gとナイロンチップ2gを投入し、卓上用ポットミル回転台に載せて5〜8rpmの回転速度範囲内にて回転させ、プラズマガスとして窒素を加えずに、ヘリウム4.5l/minのみを放電容器の空隙部内に導入し、1分間流した後、そのまま混合ガスを流しながら高周波電源にて、36kHzの正弦波電圧を印加し、プラズマ出力200Wで5分間プラズマ処理を行った後、放電容器からポリプロピレン重合粉末およびナイロンチップを取り出し、ふるいにてナイロンチップを除去した。
実施例1における放電容器の空隙部内に、ポリプロピレン重合粉末12gとテイジン(株)製の芳香族ポリアミドの共重合体繊維テクノラを長さ約2cmに切ったものを2g投入し、卓上用ポットミル回転台に載せて5〜8rpmの回転速度範囲内にて回転させ、ヘリウム4.5l/min、窒素0.45l/minの混合ガスを放電容器の空隙部内に導入し、1分間流した後、そのまま混合ガスを流しながら高周波電源にて、36kHzの正弦波電圧を印加し、プラズマ出力200Wで5分間プラズマ処理を行った後、放電容器からポリプロピレン重合粉末およびテクノラ繊維を取り出し、ふるいにてテクノラ繊維を除去した。
実施例1における放電容器の誘電体として、厚さ5mmのナイロンを使用し、ポリプロピレン重合粉末15gを空隙部内に投入し、卓上用ポットミル回転台に載せて5〜8rpmの回転速度範囲内にて回転させ、プラズマガスとして窒素を加えずに、ヘリウム4.5l/minのみを放電容器の空隙部内に導入し、1分間流した後、そのまま混合ガスを流しながら高周波電源にて、36kHzの正弦波電圧を印加し、プラズマ出力200Wで5分間プラズマ処理を行った
実施例1における放電容器の空隙部内に、ポリプロピレン重合粉末15gのみを投入し、卓上用ポットミル回転台に載せて5〜8rpmの回転速度範囲内にて回転させ、ヘリウム4.5l/min、窒素0.45l/minの混合ガスを放電容器の空隙部内に導入し、1分間流した後、そのまま混合ガスを流しながら高周波電源にて、36kHzの正弦波電圧を印加し、プラズマ出力200Wで5分間プラズマ処理を行った。
ここで示す他の例では、放電容器1の中心電極1と周辺電極3との間に形成される空隙部5を仕切るための仕切部16が誘電体4間に渡設されるものであり、この仕切部16は、ガラス、セラミックス、あるいはナイロンなどの耐熱性を有する絶縁性素材により形成され、例えば2個の仕切部16によって空隙部5を2部屋に分ける(図4(A)参照。)、あるいは3個の仕切部16によって空隙部5を3部屋に分ける(図4(B)参照。)と共に、それぞれの部屋に粉体および窒素官能基供給源となる物質並びに不活性ガスを導入できる構成とされている。
2 中心電極
3 周辺電極
4 誘電体
5 空隙部
6 凸部
7 ガス注入管
8 密閉膜部
9 ガス排出穴
10 フィルター
11 卓上用ポットミル回転台
12 ブラシ電極端子
13 ガスホース
14 駆動回転体
16 仕切部
Claims (4)
- 中心電極と、該中心電極と所定の空隙部を介して配置された筒状の周辺電極と、前記空隙部の概ね全長を複数の仕切部で仕切ることで形成された複数の部屋と、前記中心電極表面若しくは前記周辺電極表面の少なくとも一方に設けられた誘電体とを有する放電容器を用いた粉体のプラズマ処理方法であって、
前記中心電極、前記周辺電極及び前記仕切部で囲まれた複数の部屋内を不活性気体雰囲気とし、同部屋内に、粉体と、該粉体に窒素官能基を付加する窒素官能基供給部材を封入する工程と、
前記中心電極と前記周辺電極との間に交流またはパルス電圧を印加した状態で、前記中心電極を回転中心として前記放電容器を回転しながらグロー放電によるプラズマ処理を行う工程とを備える
粉体のプラズマ処理方法。 - 不活性気体を、前記放電容器の一端側から前記空隙部内に供給すると共に、前記放電容器の他端側から排出する
請求項1に記載のプラズマ処理方法。 - 前記窒素官能基供給部材は、窒素官能基を有し、常温で固体の化合物により形成された
請求項1または請求項2に記載のプラズマ処理方法。 - 前記不活性気体は、ヘリウム、アルゴン、ネオン、あるいは窒素ガスのいずれか、またはこれらの混合により形成された
請求項1、請求項2または請求項3に記載のプラズマ処理方法。
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