JP5086359B2 - クロスバーメモリシステム及びクロスバーメモリシステムのクロスバーメモリ接合部に対して書込み及び読出しを行なう方法 - Google Patents
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Description
本発明の種々の実施形態は、クロスバーメモリシステム、並びにクロスバーメモリシステムに対して情報の書込み及び読出しを行なう方法に関する。クロスバーメモリシステムは、クロスバーメモリアレイのクロスバーメモリ接合部に電子工学的に再構成可能な非線形トンネル抵抗器が配置される、クロスバーメモリアレイと、スイッチマルチプレクサと、選択されたマイクロスケール信号線及びナノワイヤ接合部に配置される非線形トンネル抵抗器を含む2つのマイクロスケール/ナノスケール結合デマルチプレクサとを備える。2つのマイクロスケール/ナノスケール結合デマルチプレクサは、誤り訂正符号に基づく冗長なアドレス指定方式を使用するように設計される。本発明の様々な実施形態の説明を理解するのを助けるために、第1のサブセクションにおいて、クロスバーアレイ及びクロスバー接合部の概説が提供される。第2のサブセクションでは、クロスバー接合部に配置される非線形トンネル抵抗器の特性の概説が提供される。第3のサブセクションでは、ナノスケールクロスバーメモリアレイの概説が提供される。第4のサブセクションでは、誤り訂正符号の数学的な説明が提供される。最後に、第5のサブセクションおいて、種々のデバイスの実施形態、並びに種々の書込み及び読出し方法の実施形態が説明される。
図1はナノワイヤクロスバーアレイを示す。図1では、概ね平行なナノワイヤ102の第1の層の上に、概ね平行なナノワイヤ104の第2の層が重ねられている。第2の層104は、第1の層102のナノワイヤに対して、向きが概ね垂直であるが、層間の向きの角度は変更してもよい。ナノワイヤの2つの層は格子又はクロスバーを形成し、第2の層104の各ナノワイヤは第1の層102の全てのナノワイヤの上に重なり、2つのナノワイヤ間の最も近い接点を表すナノワイヤ交差部において、第1の層102の各ナノワイヤと接触する。図1の個々のナノワイヤは長方形の断面を有するように示されているが、ナノワイヤは、正方形、円形、楕円形、又はさらに複雑な断面を有することもできる。ナノワイヤは、多数の異なる幅又は直径及びアスペクト比又は偏心率を有することもできる。用語「ナノワイヤクロスバー」は、ナノワイヤに加えて、サブマイクロスケールワイヤ、マイクロスケールワイヤ、又はさらに大きな寸法のワイヤから成る1つ又は複数の層を有するクロスバーを指すことがある。
非線形トンネル抵抗器として動作するクロスバー接合部分子によって相互接続される2つの重なり合うナノワイヤ間に流れる電流は、電流−電圧式によってモデル化され得る。即ち、
I=(1/2)(keaV−ke−aV)=ksinh(aV)
ただし、Iはクロスバー接合部を流れる電流であり、
Vはクロスバー接合部の両端の電圧であり、
kはクロスバー接合部の擬似コンダクタンス(quasi-conductance)であり、
aは電圧スケールファクタである。
擬似コンダクタンスk及びスケールファクタaは、クロスバー接合部分子の物理的特性によって決定されるパラメータである。スケールファクタaは、クロスバー接合部の抵抗特性を表し、重なり合うナノワイヤ間の電圧の変化に基づく、クロスバー接合部を流れる電流の変化を特徴付けるために使用され得る。パラメータkは、線形抵抗器のコンダクタンスg=1/Rに類似する。ただし、Rは抵抗を表す。上記で与えられた電流−電圧式に従って動作する非線形トンネル抵抗器は、「トンネル抵抗器」とも呼ばれる。
ITotal=ηI=(ηk0)sinh(a0V)
それは、並列のトンネル抵抗器の数が、スケールファクタa0及び擬似コンダクタンスηk0を有する単一の等価なトンネル抵抗器によって表され得ることを示す。
VT=V1+V2
ただし、V1は上側抵抗器610の両端の電圧であり、V2は下側抵抗器612の両端の電圧である。上側トンネル抵抗器610に流れる電流は下側トンネル抵抗器612に流れる電流に等しく、以下の式によって表される。即ち、
k1sinh(aV1)=k2sinh(aV2)
上側トンネル抵抗器610及び下側トンネル抵抗器612を接続するワイヤに接続されるワイヤ614は、全電圧からトンネル抵抗器610の両端での電圧を引いた値、VT−V1、即ち、トンネル抵抗器612の両端での電圧降下に等しい電圧を有する。ワイヤ614によって伝えられる電圧は以下の式によって与えられる。
このサブセクションでは、マイクロスケール/ナノスケール結合電子メモリデバイスが説明される。図7は、ナノスケール/マイクロスケール結合電子メモリデバイスの図を示す。マイクロスケール/ナノスケール結合電子メモリデバイス700は、基準電圧信号線702を通して、且つ2組のアドレス信号線704及び706を通して、外部の電子的環境と接続して機能する。マイクロスケール/ナノスケール結合電子メモリデバイス700内のメモリ素子は、論理的には、2次元アレイを構成するものと見なされることができ、各メモリ素子は一対の座標(x,y)によって指定される。ただし、x座標は、メモリ素子が存在する2次元アレイの列を指定し、y座標は、メモリ素子が存在する2次元アレイの行を指定する。1組のアドレス信号線706を用いて、2p(ただし、pは1組のアドレス信号線706内のアドレス信号線の数である)の2次元メモリ素子アレイ行のうちの1つを指定することができ、1組のアドレス信号線704は、メモリ素子の論理的な2次元アレイ内の2q(ただし、qは1組のアドレス信号線704内のアドレス信号線の数である)列のうちの1つを指定する。メモリ素子の2次元アレイの寸法p及びqは等しい必要はないが、以下の説明では、表記を簡略化するために、両方の寸法はpに等しいものと仮定される。
本発明の実施形態は、誤り制御符号化において良く知られている技術から導出される概念を利用する。このサブセクションは、誤り訂正符号に関する背景情報を提供し、これらの題目に精通している人は読み飛ばしてもよい。当該技術分野のための優れた参考文献は、教科書「Error Control Coding: The Fundamentals and Applications」(Lin and Costello著, Prentice-Hall, Incorporated, New Jersey, 1983年)である。このサブセクションでは、誤り制御符号化において用いられる誤り検出技術及び誤り訂正技術の簡単な説明が記載される。さらなる詳細は、上記で引用された教科書から、又は当該技術分野における多数の他の教科書、論文及び雑誌記事から入手され得る。このサブセクションは、或る特定のタイプの誤り制御符号化技術に関する、数学的に正確であるが簡潔な説明を提供する。本発明は、異なる目的のために、これらの誤り制御符号化技術に固有の概念を利用する。
μ=(μ0,μ1,...μk−1)
フィールドFは乗法及び加法に関して閉じており、乗法に関する逆元及び加法に関する逆元を含む集合である。誤り検出及び訂正を計算する際に、或る素数に等しいサイズを有する整数の部分集合を含むフィールドを利用するのが一般的であり、この場合、加法演算子及び乗法演算子はモジュロ加法及びモジュロ乗法として定義される。実際には、{0,1}のような2値フィールドが利用される場合が多い。元のメッセージは、メッセージcに符号化され、また以下のように表されるフィールドFのn個の要素の規則的な配列からなる。即ち、
c=(c0,c1,...cn−1)。
a=(10011)、及び
b=(10001)
コードワードaは3のハミング重みを有し、コードワードbは2のハミング重みを有し、コードワードa及びbは4番目の要素でしか異ならないため、コードワードaとbとの間のハミング距離は1である。代案として、2値フィールドからの2つのコードワードaとbとの間の距離は、以下のように、ハミング重みを用いて定義され得る。即ち、
d(a,b)=w(aXORb)
ただし、wはコードワードa及びbの排他的OR(XOR)のハミング重みを指しており、代案として、ハミング重みは、そのコードワードと、同じコードワード長の全て0ビットのコードワードとの間のハミング距離として計算され得る。線形ブロック符号は多くの場合に、3要素組[n,k,dmin]によって示される。ただし、nはコードワード長であり、kはメッセージ長であり、即ちコードワードMの数の底2の対数と同等であり、dminは異なるコードワード間の最小ハミング距離であり、その符号内の最小ハミング重みで、0でないコードワードに等しい。
μ→c(s)→c(r)→μ
ただし、c(s)は伝送前の符号化されたメッセージであり、c(r)は最初に検索又は受信されたメッセージである。従って、初期メッセージμを符号化して、符号化されたメッセージc(s)が生成され、その後、そのメッセージは伝送されるか、格納されるか、又は伝送及び格納され、その後、最初に受信されたメッセージc(r)として検索又は受信される。損なわれていない場合、その後、最初に受信されたメッセージc(r)を復号化して元のメッセージμが生成される。上記で示されたように、誤りが生じない場合、初めに符号化されたメッセージc(s)は最初に受信されたメッセージc(r)に等しく、最初に受信されたメッセージc(r)は、誤り訂正を用いることなく、元のメッセージμに簡単に復号化される。
μ(s)→c(s)→c(r)→μ(r)
従って、上述されたように、元のメッセージμ(s)を符号化し、最初に受信されたメッセージc(r)を復号化又は再構成して、最後の受信メッセージμ(r)を生成するために用いられる誤り検出技術及び誤り訂正技術の忠実度に依存して、最後のメッセージμ(r)は、最初のメッセージμ(s)に等しいことも、等しくないこともある。誤り検出は、
c(r)≠c(s)
であることを求める過程であるが、誤り訂正は、損なわれた最初に受信されたメッセージから、最初の符号化されたメッセージを再構成する過程である。即ち、
c(r)→c(s)。
{c:μ→c}。
c=μ・G
上記の式内のシンボルを表記的に拡張すると、以下の代替的な式のいずれかが生成される。
c=(c0,c1,...,cr−1,μ0,μ1,...,μk−1)
ただし、ci=(μ0P0,i+μ1P1,i,...,μk−1Pk−1,i)である。
ここでの説明において、検査シンボルがメッセージシンボルに先行するという規則が用いられることに留意されたい。検査シンボルがメッセージシンボルに後続するという代替の規則を用いることもでき、生成行列内のパリティ検査及び恒等部分行列が代替の規則に従うコードワードを生成するように挿入される。従って、組織的線形ブロック符号では、コードワードは、r個のパリティ検査シンボルciと、それに続く、元のワードμを含むシンボルとを含む。誤りが生じない場合、元のワード、即ちメッセージμは、対応するコードワード内でクリアテキスト形式で生じ、対応するコードワードから容易に抽出される。パリティ検査シンボルは結局、元のメッセージ、即ちワードμのシンボルの一次結合になる。
Hr,n=[Ir,r|−PT]
又は、同等に以下のように表される。
S=(S0,S1,...,Sr−1)=c(r)・HT
ただし、HTは、以下のように表されるパリティ検査行列Hr,nの転置行列を表す。
n=2m−1
k=2m−m−1
r=n−k=m
dmin=3
ハミング符号のためのパリティ検査行列は、以下のように表され得る。即ち、
H=[Im|Q]
ただし、Imはm×m恒等行列であり、部分行列Qは全ての2m−m−1個の別個の列を含み、それは、それぞれが2個以上の0でない要素を有するm組である。例えば、m=3の場合、[7,4,3]線形ブロックハミング符号のためのパリティ検査行列は、以下のようになる。
は、(2m−m−1)×(2m−m−1)恒等行列である。パリティ検査行列Hからl個の列を組織的に削除することによって、
n=2m−l−1
k=2m−m−l−1
r=n−k=m
dmin≧3
を有する、短縮ハミング符号のパリティ検査行列H’を一般に求めることができる。
(4,6,2,2)={1100,1010,1001,0110,0101,0011}
図12Aは、コードワードの全ての対間の距離の表1200を示す。定重み符号(4,6,2,2)を含むコードワードが、最も上の行1202及び最も左の列1204に沿って配置される。最も上の行1202に沿った各コードワードは列を表し、最も左の列1204に沿った各コードワードは行を表す。表の各項目は、1つの列と1つの行との間の交差部に対応し、表の各項目内の整数値は、列を表すコードワードと、行を表すコードワードとの間のハミング距離である。例えば、コードワード「1010」1206とコードワード「0011」1208との間のハミング距離は、表の項目1210において「2」である。表の対角線の項目は各コードワードからそれ自体の距離に対応するので、左上から右下の対角線1212に沿った表の項目は全て「0」であることに留意されたい。任意の2つのコードワード間で考えられる最大距離は「4」であり、それは、左下から右上への対角線1214に沿って配置された表の項目に対応する。
本発明の種々のクロスバーメモリシステムの実施形態が、以下のセクションIにおいて説明される。クロスバーメモリシステムに情報を書き込むための種々の方法の実施形態が以下のセクションIIにおいて説明され、クロスバーメモリシステムから情報を読み出すための種々の方法の実施形態が、以下のセクションIIIにおいて説明される。
図13は、本発明の第1の実施形態を表す、情報を格納して検索するように構成されるクロスバーメモリシステム1300の例を示す。クロスバーメモリシステム1300は、9×9ナノワイヤクロスバーアレイ1302と、第1のマイクロスケール/ナノスケール結合エンコーダ−デマルチプレクサ1304と、第2のマイクロスケール/ナノスケール結合エンコーダ−デマルチプレクサ1306とを備える。クロスバーアレイ1302の各クロスバー接合部に、非線形トンネルヒステリシス抵抗器(図示せず)が配置される。クロスバーアレイ1302は、8×8クロスバーメモリアレイ1308を含む。クロスバーアレイ1302の列ナノワイヤ1310及び行ナノワイヤ1312が、いずれもクロスバーメモリアレイ1308の選択されたクロスバーメモリ接合部を分離するために使用され得る、それぞれ切替式行マルチプレクサ(「mux」)1314及び列mux1316内のワイヤとしての役割を果たすことに割り当てられる。例えば、行mux1314及び列mux1316を用いて、選択されたクロスバーメモリ接合部1318を分離することができ、その結果、選択されたクロスバーメモリ接合部1318の未知のメモリ状態を読み出すことができる。第1のエンコーダ−デマルチプレクサ1304はエンコーダ1320及びデマルチプレクサ1322を含み、第2のエンコーダ−デマルチプレクサ1306はエンコーダ1324及びデマルチプレクサ1326を含む。いずれのデマルチプレクサ1322及び1326とも、クロスバーアレイ1302を構成するナノワイヤに重なる、エンコーダ1320及び1324に接続される1組の概ね平行なマイクロスケール信号線を有する。デマルチプレクサ1322及び1326の選択されたクロスバー接合部に、非線形トンネル抵抗器(図示せず)が配置される。また、クロスバーメモリシステム1300は、第1のマイクロスケールワイヤ1328及び第2のマイクロスケールワイヤ1330も含む。第1のマイクロスケールワイヤ1328は、一端において電圧源1332に、クロスバー接合部1334において行ナノワイヤ1312に接続され、第2のマイクロスケールワイヤ1330は、クロスバー接合部1336において列ナノワイヤ1310に、並びにメータ1338及びグランド1340に接続される。クロスバー接合部1334及び1336はいずれも、高コンダクタンス状態にある非線形トンネル抵抗器接合部である。メータ1338は、ワイヤ1330によって伝えられる電流を測定し、記録する電流測定回路を表す。クロスバー接合部1342は低コンダクタンス状態にある。
w−d/2、及びd/2
である。ただし、wはコードワードu及びコードワードhの重みであり、dはhとuとの間の距離である。h及びuが定重み符号のコードワードである場合、距離は偶数であることに留意されたい。図6Aに関連して上述されたように、上側の1組の並列抵抗器1804に流れる全電流は(w−d/2)I1である。ただし、I1は、上側の1組の並列抵抗器1804における各抵抗器に流れる電流である。また、下側の1組の並列抵抗器1806に流れる全電流は(d/2)I2である。ただし、I2は、下側の1組の並列抵抗器1806において各抵抗器に流れる電流である。電圧源1808とグランド1810との間の全電圧vTは、両方の組の並列抵抗器1804及び1806にかかる電圧の和に等しく、
vT=v1+v2
によって与えられる。ただし、v1は1組の上側並列抵抗器1804にかかる電圧であり、v2は1組の下側並列抵抗器1806にかかる電圧である。
(w−d/2)I1=(d/2)I2
上側抗器束1812及び下側抵抗器束1814からなる抵抗器は、同じトンネル抵抗器であるので、トンネル抵抗器の電流対電圧の関係、即ち、
I1=ksinh(av1)、及び
I2=ksinh(av2)
を上記の電流式に代入することによって、以下の式を得ることができる。即ち、
(w−d/2)ksinh(a(vT−v2))=(d/2)ksinh(av2)
ただし、v1=vT−v2である。電圧v2について解くと、ナノワイヤ1802から出力される電圧が与えられる。
本発明の種々の実施形態は、クロスバーメモリアレイのクロスバーメモリ接合部に書き込むための方法に関する。非線形トンネルヒステリシス抵抗器は、1ビットメモリ素子としての役割を果たすように構成されることができ、電圧制御可変抵抗器と見なされ得る2端子デバイスである。図5に関連して上述されたように、非線形トンネルヒステリシス抵抗器に大きな電圧降下を印加することは、抵抗器を破壊するが、小さな電圧降下を印加することは、非線形トンネルヒステリシス抵抗器のコンダクタンス状態を変更しないままにする。一方、クロスバーメモリ接合部に、適度な大きさの電圧降下、即ち「書込み電圧」が印加されることにより、コンダクタンス状態が、低コンダクタンス状態又は高コンダクタンス状態のいずれかに変更される。ただし、低コンダクタンス状態は、2値「0」を表し、高コンダクタンス状態は2値「1」を表す。結果として、クロスバーメモリアレイのクロスバーメモリ接合部への書込みは、選択されたクロスバーメモリ接合部に、制御された書込み電圧を供給すると同時に、クロスバーメモリアレイの残りの全てのクロスバーメモリ接合部に書込み電圧しきい値|Vw1|及び|Vw0|未満の大きさを有する電圧を供給することによって達成される。クロスバーメモリアレイの各クロスバーメモリ接合部は、行ナノワイヤ及び列ナノワイヤの重なり合う場所において生じ、その結果、2つのデマルチプレクサそれぞれの2k個の出力ナノワイヤ上に生じる電圧が、クロスバーメモリアレイ内の2k×2k個の各非線形トンネルヒステリシス抵抗器の両端での電圧降下を規定する。
本発明の種々の実施形態は、クロスバーメモリアレイの選択されたクロスバーメモリ接合部の未知のメモリ状態を読み出すことに関する。データは、クロスバーメモリアレイにおいて、クロスバーメモリ接合部にある非線形トンネルヒステリシス抵抗器の高コンダクタンス状態又は低コンダクタンス状態として格納されるので、クロスバーメモリアレイに格納されるメモリ状態は、選択されたクロスバーメモリ接合部のメモリ状態を読み出すために用いられる電圧及び電流に影響を及ぼす可能性がある。本発明の読出し方法は、クロスバーメモリアレイ内の他のクロスバーメモリ接合部のばらつき及び未知のメモリ状態にもかかわらず、選択されたクロスバーメモリ接合部のメモリ状態を求めることができる。ばらつき及び未知のビット状態の問題に対処するために、その読出し方法は、選択されたクロスバーメモリ接合部の異なる高コンダクタンス及び低コンダクタンス状態に関して、選択されたクロスバーメモリ接合部に流れる電流の測定を実行することを含む。その読出し方法は、以下のステップを含む。最初に、その未知のメモリ状態が望まれる選択されたクロスバーメモリ接合部に電流を流し、その電流ISCを測定して格納する。その電流は他の経路にも流れる可能性があり、それにより測定が損なわれることもあることに留意されたい。次に、選択されたクロスバーメモリ接合部に低コンダクタンス状態を書き込むために、書込み「0」動作が実行される。選択されたクロスバーメモリ接合部に電流を流し、その電流I0を測定して格納する。次に、選択されたクロスバーメモリ接合部に高コンダクタンス状態を書き込むために、書込み「1」動作が実行される。選択されたクロスバーメモリ接合部に再び電流を流し、その電流I1を測定して格納する。2つの電流I0及びI1を基準電流として用いて、電流ISCが、選択されたクロスバーメモリ接合部がビット「1」状態にあったことを示すか、又はビット「0」状態にあったことを示すかを判定する。
IT=w0I0+w1I1
ただし、w0及びw1はいずれも区間[0,1]内にあり、
w0+w1=1
である。ISCがITのI1側にある場合、選択されたクロスバーメモリ接合部の元のメモリ状態は「1」であり、ISCがITのI0側にある場合、選択されたクロスバーメモリ接合部の元のメモリ状態は「0」である。
Claims (9)
- クロスバーメモリシステム(1300)であって、
第1の層のマイクロスケール信号線(808)及び第2の層のマイクロスケール信号線(810)と、
それぞれが前記第1の層の各マイクロスケール信号線に重なるように構成される、第1の層の複数のナノワイヤ(804)と、
それぞれが前記第2の層の各マイクロスケール信号線に重なり、且つ前記第1の層の各ナノワイヤ(804)に重なるように構成される、第2の層の複数のナノワイヤ(806)と、
前記第1の層の各ナノワイヤに重なる第3のワイヤ(1310、1406)と、
前記第2の層の各ナノワイヤに重なる第4のワイヤ(1312、1408)と、
第1のマルチプレクサ(1322)を構成するように前記第1の層のナノワイヤ(804)を前記第1の層のマイクロスケール信号線(808)に選択的に接続し、且つ第2のマルチプレクサ(1326)を構成するように前記第2の層のナノワイヤ(806)を前記第2の層のマイクロスケール信号線(810)に選択的に接続するように構成される非線形トンネル抵抗器(1526、1528)と、
ナノワイヤクロスバーメモリアレイ(1308)を形成するように前記第1の層のナノワイヤ(804)と前記第2の層のナノワイヤ(806)の各クロスバーメモリ接合部において、前記第1の層の各ナノワイヤ(2008)を前記第2の層の各ナノワイヤ(2012)に接続し、且つ第1の切替式マルチプレクサ(1314、1402)を構成するように前記第3のワイヤ(1310、1406)を前記第1の層の各ナノワイヤに接続し、且つ第2の切替式マルチプレクサ(1316、1404)を構成するように前記第4のワイヤ(1312、1408)を前記第2の層の各ナノワイヤに接続するように構成される非線形トンネルヒステリシス抵抗器(1318)とを備え、
前記第1及び第2の切替式マルチプレクサが、選択されたクロスバーメモリ接合部を選択されていないクロスバーメモリ接合部から分離するために使用される、クロスバーメモリシステム。 - 前記第1の組のマイクロスケール信号線に接続される第1のエンコーダ(1320)と、
前記第2の組のマイクロスケール信号線に接続される第2のエンコーダ(1324)とをさらに備える、請求項1に記載のクロスバーメモリシステム。 - 前記第1のマルチプレクサ(1322)は、前記第1の層の各ナノワイヤ(804)に重なる第1のワイヤ(1328)をさらに含み、非線形トンネルヒステリシス抵抗器が、重なり合う各場所において、前記第1の層の各ナノワイヤを前記第1のワイヤに接続し、
前記第2のマルチプレクサ(1326)は、前記第2の層の各ナノワイヤ(806)に重なる第2のワイヤ(1330)をさらに含み、非線形トンネルヒステリシス抵抗器が、重なり合う各場所において、前記第1の層の各ナノワイヤを前記第2のワイヤに接続する、請求項1又は2に記載のクロスバーメモリシステム。 - 前記エンコーダ(1320、1324)は、入力信号線上で受信される異なる入力アドレス毎に、nビット符号のコードワード内部アドレスを生成する、請求項2又は3に記載のクロスバーメモリシステム。
- 前記マイクロスケール信号線(808、810)はそれぞれ、接続されるエンコーダから出力されるnビット符号コードワードのうちの1ビットに対応する電圧を伝え、前記第1の層内の各ナノワイヤ(804)は、区別可能な関連付けられるnビット符号コードワードの内部アドレスを有し、前記第2の層内の各ナノワイヤ(806)は、区別可能な関連付けられるnビット符号コードワードの内部アドレスを有する、請求項1に記載のクロスバーメモリシステム。
- 各非線形トンネルヒステリシス抵抗器は再構成可能であり、2つ以上の区別可能なコンダクタンス状態(506、508)を有し、該状態が前記ナノワイヤメモリクロスバーアレイにおいて1つ又は複数の情報ビットを格納することに対応する、請求項1〜5の何れかに記載のクロスバーメモリシステム。
- 請求項1〜6の何れかに記載されたクロスバーメモリシステムのナノワイヤクロスバーメモリアレイにおける前記第1の層のナノワイヤの第1のナノワイヤ(2008)と前記第2の層のナノワイヤの第2のナノワイヤ(2012)のクロスバーメモリ接合部(1318)を動作させる方法であって、前記クロスバーメモリ接合部にメモリ状態を書き込むこと、又は該クロスバーメモリ接合部に格納されているメモリ状態を読み出すことのいずれかを含み、前記第1のナノワイヤと前記第2のナノワイヤの前記クロスバーメモリ接合部における非線形トンネルヒステリシス抵抗器が第1のコンダクタンス状態にあるものにおいて、
前記クロスバーメモリ接合部にメモリ状態を書き込むことは、
前記第1のナノワイヤ(2008)に第1の電圧を印加し、
前記第2のナノワイヤ(2012)に第2の電圧を印加し、前記第1の電圧と前記第2の電圧との間の電圧差によって、前記非線形トンネルヒステリシス抵抗器の両端に電圧降下が引き起こされ、前記第1のコンダクタンス状態を第2のコンダクタンス状態に変更するようにすることを含み、
前記クロスバーメモリ接合部のメモリ状態を読み出すことは、
前記クロスバーメモリ接合部(1318)に流れる第1の電流を測定し、
前記非線形トンネルヒステリシス抵抗器に第1のコンダクタンス状態を書き込み、
前記クロスバーメモリ接合部(1318)に流れる第1の基準電流を測定し、
前記非線形トンネルヒステリシス抵抗器に第2のコンダクタンス状態を書き込み、
前記クロスバーメモリ接合部(1318)に流れる第2の基準電流を測定し、及び
前記第1の電流を前記第1の基準電流及び前記第2の基準電流と比較することに基づいて、前記クロスバーメモリ接合部(1318)の2値を出力することを含む、方法。 - 前記第1のコンダクタンス状態及び前記第2のコンダクタンス状態がそれぞれ、
2値「0」、及び
2値「1」のうちの一方に対応する、請求項7に記載の方法。 - 前記第1の電流を前記第1の基準電流及び前記第2の基準電流と比較することに基づいて、前記クロスバーメモリ接合部(1318)の2値を出力することは、
IT=w0I0+w1I1
を計算することをさらに含み、
ただし、w0及びw1は区間[0,1]内にあり、
I0が前記第1の基準電流に対応し、
I1が前記第2の基準電流に対応し、
w0+w1=1
であり、前記第1の電流がITよりも大きいとき、前記クロスバーメモリ接合部の元のメモリ状態は「1」であり、前記第1の電流がITよりも小さいとき、前記クロスバーメモリ接合部の元のメモリ状態は「0」である、請求項7に記載の方法。
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