JP5081247B2 - リソグラフィ装置およびリソグラフィ方法 - Google Patents
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Description
[0031] -放射ビームB(例えばUV放射または他のタイプの放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
[0032] -パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持するように構成され、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置付けるように構成された第1のポジショナPMに連結されているサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
[0033] -基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置付けるように構成された第2のポジショナPWに連結されている基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTと、
[0034] -パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に投影するように構成されている投影システム(例えば、屈折投影レンズシステム)PLとを含む。
Claims (7)
- 基板のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影するリソグラフィ装置であって、
第1の放射ドーズディテクタおよび第2の放射ドーズディテクタであって、各ディテクタは、放射束及び汚染物質を受け取り、該放射束を受け取ることにより2次電子を放出する2次電子放出面を含み、第1の放射ドーズディテクタは、放射伝達の方向に見て、第2の放射ドーズディテクタに対して上流に位置する、第1の放射ドーズディテクタおよび第2の放射ドーズディテクタと、
各ディテクタに連結され、夫々の電子放出面からの2次電子放出により生じる電流または電圧を検出するメータと、
前記第1の放射ドーズディテクタと前記第2の放射ドーズディテクタとの間に位置する光コンポーネントと、
前記メータの複数の測定結果を比較して、前記放射ドーズディテクタにより受け取られる放射における変化を検出するデータプロセッサと、
を備え、
前記各ディテクタの電子放出面は、前記汚染物質、または、前記汚染物質の2次電子放出に類似する2次電子放出を有する材料で実質的に形成される、
リソグラフィ装置。 - 前記第1の放射ドーズディテクタ又は前記第2の放射ドーズディテクタの前記電子放出面は、光コンポーネントの面である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記汚染物質は、炭素、スズ、酸化スズ、亜鉛、酸化亜鉛、マンガン、酸化マンガン、タングステン、酸化タングステン、または、これらの任意の組合せである、請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板上に前記パターン付き放射ビームを投影する投影システムと、
前記基板と前記投影システムとの間にガスカーテンを与えるガスシャワーと、
を備え、
前記第1の放射ドーズディテクタ又は前記第2の放射ドーズディテクタは、前記基板と前記投影システムとの間に、前記ガスカーテンの中に、前記ガスカーテンと前記基板との間に、または、前記ガスカーテンと前記投影システムとの間に位置する、請求項1〜3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1の放射ドーズディテクタ又は前記第2の放射ドーズディテクタの前記電子放出面から汚染物質を除去する洗浄システムをさらに備える、請求項1〜4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の放射ドーズディテクタ又は前記第2の放射ドーズディテクタは、異なる材料で構成される複数の異なる層、徐々に変化する組成を有する少なくとも1つの(組成的に)傾斜した層、複数の異なる傾斜層、およそ1nm以下の厚さを有する少なくとも1つの層と、または、これらの任意の組合せを含む、請求項1〜5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 基板のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影すること、および
装置の動作中に放射ドーズディテクタを汚染する可能性のある汚染物質に実質的に不感応である放射ドーズディテクタを用いて放射ドーズを検出することであって、前記ディテクタが、前記汚染物質、または、前記汚染物質の2次電子放出に類似する2次電子放出を有する材料で実質的に形成される2次電子放出面を含む、該検出すること、
を含み、
前記電子放出面により受け取られる放射により前記電子放出面から2次電子が放出され、前記2次電子の放出により生じる電流または電圧が検出され、前記電流または電圧は、前記電子放出面上の前記汚染物質の存在と無関係である、リソグラフィ方法。
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