JP4528337B2 - 露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Claims (5)
- パルス光源からのパルス光で原版のパターンを基板に投影して該基板を露光する露光装置であって、
前記露光装置における前記パルス光の光路が複数の領域に分割されるように領域と領域との間に配置されて前記パルス光を遮断し又は前記パルス光が入る領域を切り替える領域間光学ユニットと、
前記複数の領域のそれぞれに配置された光学ユニットと、
前記パルス光源を起動して前記パルス光を発生させ、且つ、前記複数の領域のそれぞれに配置された光学ユニットの前記パルス光による劣化を監視する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記複数の領域のうち前記パルス光が入る領域を前記領域間光学ユニットの状態に基づいて特定することにより、前記複数の領域それぞれに入ったパルス光の数の積算値を得て、前記複数の領域のうち前記積算値が閾値を超えた領域に関して当該領域に属する光学ユニットの保守に関する情報を表示ユニットに表示させる、
ことを特徴とする露光装置。 - 前記制御部は、前記積算値が前記閾値を超えた領域および当該領域に属する光学ユニットの少なくとも一方を前記表示ユニットに表示させる、ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記積算値が前記閾値を超えた領域に属する光学ユニットに光が入射しないように、当該光学ユニットが使用される条件での前記パルス光源の起動を禁止する、ことを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記積算値が第1閾値を超えた領域および当該領域に属する光学ユニットの少なくとも一方を前記表示ユニットに表示させ、かつ、前記積算値が第2閾値を超えた領域および当該領域に属する光学ユニットの少なくとも一方を前記表示ユニットに表示させ、
前記第2閾値は、前記第1閾値よりも大きい、
ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - デバイス製造方法であって、
請求項1乃至4のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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