JP5077796B2 - Ｏ、ｓ又はｎを含む鎖状アルキル化合物の製造方法 - Google Patents
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Description
この発明は、二級アルコールを脱水してＯ、Ｓ又はＮを含む鎖状アルキル化合物を合成する方法に関する。
二分子のアルコールを脱水縮合して対称及び非対称エーテルを得る方法として、従来は、有機溶媒中、亜鉛触媒やレニウム触媒などのルイス酸を用いて行う方法が一般的であり、水中においてドデシルベンゼンスルホン酸を触媒として脱水的エーテル化、チオエーテル化を行う方法も知られている（非特許文献１）。更に、窒素原子を求核剤とする脱水的反応としては希土類トリフレート触媒を用いる方法が知られている（非特許文献２）。
また、本発明で触媒として利用した鉄イオン−長鎖アルキル硫酸イオンからなる錯体については、合成方法、その構造、及び界面活性剤としての用途が知られていた（非特許文献３）。
また、本発明で触媒として利用した鉄イオン−長鎖アルキル硫酸イオンからなる錯体については、合成方法、その構造、及び界面活性剤としての用途が知られていた（非特許文献３）。
J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 11971
J. Org. Chem. 2003, 68, 9340
J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 8652
従来のこれらの反応においては、有機溶媒の使用、高温条件、強酸性条件、稀少金属の使用という問題点があった。そのため、本発明は、水中における温和な条件で、二級アルコールを脱水してＯ、Ｓ又はＮを含む鎖状アルキル化合物を合成するための方法と触媒を提供する。
鉄イオン−長鎖アルキル硫酸イオンからなる錯体（非特許文献３）の触媒反応への応用は全く知られていなかったが、本発明者らは、この錯体を脱水触媒として用いることにより、水のみを溶媒とし、低温にて二級アルコールを脱水してＯ、Ｓ又はＮを含む鎖状アルキル化合物を合成できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
即ち、本発明は、水中で、下記一般式
Ｆｅ２Ｏ（Ｏ３ＳＯＲ１）４
（式中、Ｒ１は、直鎖又は分岐の炭素数が８〜２０の炭化水素基を表す。）で表される酸素架橋二核鉄(III)触媒の存在下で、下記一般式
Ｒ２−ＣＨ（ＯＨ）−Ｒ３
（式中、Ｒ２及びＲ３は、同じであっても異なってもよく、少なくとも一方は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表し、残余は、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表し、Ｒ２及びＲ３は、共に、ヘテロ原子を含んでもよい５又は６員環を形成してもよい。）で表される二級アルコール化合物を下記一般式
Ｒ４−ＸＨ
（式中、Ｒ４は置換基を有していてもよい炭化水素基を表し、Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、又は−ＹＮＲ５−（式中、Ｙは、−ＳＯ２−、−ＣＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｒ５は、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。但し、ＹはＲ４と結合する。）を表す。）で表される活性水素含有化合物とを反応させることから成る、下記一般式
Ｒ２Ｒ３ＣＨ−Ｘ−Ｒ４
（式中、Ｒ２〜Ｒ４及びＸは上記と同様に定義される。）で表されるＯ、Ｓ又はＮを含む鎖状アルキル化合物の製造方法である。
即ち、本発明は、水中で、下記一般式
Ｆｅ２Ｏ（Ｏ３ＳＯＲ１）４
（式中、Ｒ１は、直鎖又は分岐の炭素数が８〜２０の炭化水素基を表す。）で表される酸素架橋二核鉄(III)触媒の存在下で、下記一般式
Ｒ２−ＣＨ（ＯＨ）−Ｒ３
（式中、Ｒ２及びＲ３は、同じであっても異なってもよく、少なくとも一方は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表し、残余は、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表し、Ｒ２及びＲ３は、共に、ヘテロ原子を含んでもよい５又は６員環を形成してもよい。）で表される二級アルコール化合物を下記一般式
Ｒ４−ＸＨ
（式中、Ｒ４は置換基を有していてもよい炭化水素基を表し、Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、又は−ＹＮＲ５−（式中、Ｙは、−ＳＯ２−、−ＣＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｒ５は、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。但し、ＹはＲ４と結合する。）を表す。）で表される活性水素含有化合物とを反応させることから成る、下記一般式
Ｒ２Ｒ３ＣＨ−Ｘ−Ｒ４
（式中、Ｒ２〜Ｒ４及びＸは上記と同様に定義される。）で表されるＯ、Ｓ又はＮを含む鎖状アルキル化合物の製造方法である。
本発明の製法の反応は、ほぼ中性の条件下、室温から５０℃付近の反応温度で進行するため、塩基性条件下でのいわゆるWilliamson エーテル合成法では合成困難なハロゲン置換基を有するエーテルや、強酸性条件下で異性化し易い多重結合を有するエーテルが簡便に合成可能である。また用いる溶媒、触媒はいずれも安価で毒性も少なく工業的利用価値は高い。
本発明で用いる酸素架橋二核鉄(III)触媒は、下記一般式で表される。
Ｆｅ２Ｏ（Ｏ３ＳＯＲ１）４
式中、Ｒ１は、直鎖又は分岐の炭素数が８〜２０の炭化水素基を表し、好ましくは直鎖の炭素数が１０〜１６のアルキル基である。
この化合物は、アルキル硫酸鉄(III)錯体の一種として知られていたものであり（非特許文献３）、その合成方法などは当該文献を参照されたい。
Ｆｅ２Ｏ（Ｏ３ＳＯＲ１）４
式中、Ｒ１は、直鎖又は分岐の炭素数が８〜２０の炭化水素基を表し、好ましくは直鎖の炭素数が１０〜１６のアルキル基である。
この化合物は、アルキル硫酸鉄(III)錯体の一種として知られていたものであり（非特許文献３）、その合成方法などは当該文献を参照されたい。
本発明の反応の基質であるアルコール化合物は、下記一般式で表される。
Ｒ２−ＣＨ（ＯＨ）−Ｒ３
式中、Ｒ２及びＲ３は、同じであっても異なってもよく、少なくとも一方は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。従って、Ｒ２及びＲ３が共に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基であってもよい。
本発明の合成方法に於ては、Ｒ２及びＲ３の少なくとも一方の結合基が、脱水酸基後のカチオンを安定化するために、芳香族基であることが必須の条件となる。
芳香族炭化水素基としては、アリール基が挙げられ、アリール基としては、フェニル基、α又はβ−ナフチル基が挙げられる。
芳香族複素環基としては、ピリジル、ピリミジニル、チアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、フリル、イミダゾリル等の単環の芳香族複素環基、ベンズイソチアゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズフリル、キノリル、イソキノリル、インドリル、インダゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリル、ナフチリジニル、プテリジニル、チエノフラニル、イミダゾチオフェン−イル、イミダゾフラニル等の二環性の芳香族複素環基 が挙げられる。
また、これらは置換基を有していてもよく、特に制限はないが、直鎖又は分岐のアルキル基、アルコキシル基、アリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、パーフルオロメチル基などが挙げられる。
Ｒ２−ＣＨ（ＯＨ）−Ｒ３
式中、Ｒ２及びＲ３は、同じであっても異なってもよく、少なくとも一方は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。従って、Ｒ２及びＲ３が共に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基であってもよい。
本発明の合成方法に於ては、Ｒ２及びＲ３の少なくとも一方の結合基が、脱水酸基後のカチオンを安定化するために、芳香族基であることが必須の条件となる。
芳香族炭化水素基としては、アリール基が挙げられ、アリール基としては、フェニル基、α又はβ−ナフチル基が挙げられる。
芳香族複素環基としては、ピリジル、ピリミジニル、チアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、フリル、イミダゾリル等の単環の芳香族複素環基、ベンズイソチアゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズフリル、キノリル、イソキノリル、インドリル、インダゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリル、ナフチリジニル、プテリジニル、チエノフラニル、イミダゾチオフェン−イル、イミダゾフラニル等の二環性の芳香族複素環基 が挙げられる。
また、これらは置換基を有していてもよく、特に制限はないが、直鎖又は分岐のアルキル基、アルコキシル基、アリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、パーフルオロメチル基などが挙げられる。
残余（即ち、Ｒ２又はＲ３で、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基でないものをいう。）は、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基であり、好ましくはアルキル基である。アルキル基は、直鎖又は分岐でもよく、特に制限はないが、通常炭素数が１〜２０である。シクロアルキル基として、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル基等を挙げることができる。アルケニル基としては、例えば、ビニル基、プロペニル基、１−メチルビニル基、アリル基等をあげることができる。
これらはまた、上記と同様の置換基を有していてもよい。
また、Ｒ２及びＲ３は、共に、ヘテロ原子を含んでもよい５又は６員環を形成してもよい。ヘテロ原子としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−が挙げられる。
これらはまた、上記と同様の置換基を有していてもよい。
また、Ｒ２及びＲ３は、共に、ヘテロ原子を含んでもよい５又は６員環を形成してもよい。ヘテロ原子としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−が挙げられる。
また、もう一方の反応物は下記一般式で表される。
Ｒ４−ＸＨ
式中、Ｒ４は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。この炭化水素は、上記の芳香族炭化水素基及び非芳香族炭化水素基であり、その炭素数は好ましくは１〜３０である。この炭化水素基は、上記の置換基を有していてもよい。
Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、又は−ＹＮＲ５−を表す。
ここで、Ｙは、−ＳＯ２−、−ＣＯ−又は−ＯＣＯ−を表す。
Ｒ５は、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基、好ましくは水素原子を表す。この炭化水素基としては、上記の芳香族炭化水素基及び非芳香族炭化水素基が挙げられ、置換基としては上記の置換基が挙げられる。Ｒ５は、好ましくは炭素数が１〜４のアルキル基である。但し、ＹはＲ４に結合する。
Ｒ４−ＸＨ
式中、Ｒ４は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。この炭化水素は、上記の芳香族炭化水素基及び非芳香族炭化水素基であり、その炭素数は好ましくは１〜３０である。この炭化水素基は、上記の置換基を有していてもよい。
Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、又は−ＹＮＲ５−を表す。
ここで、Ｙは、−ＳＯ２−、−ＣＯ−又は−ＯＣＯ−を表す。
Ｒ５は、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基、好ましくは水素原子を表す。この炭化水素基としては、上記の芳香族炭化水素基及び非芳香族炭化水素基が挙げられ、置換基としては上記の置換基が挙げられる。Ｒ５は、好ましくは炭素数が１〜４のアルキル基である。但し、ＹはＲ４に結合する。
本発明の合成方法の溶媒は水である。この溶媒は実質的に水であればよく、アセトン、テトラヒドロフラン、アセトニトリルなどの水に相溶性のある溶媒が、１０容積％程度含まれていてもよい。
基質の濃度は、通常０．１〜２Ｍである。
触媒の濃度は、１〜２０ｍｏｌ％，好ましくは２〜５ｍｏｌ％である。
反応温度は、通常０〜８０℃、好ましくは室温〜５０℃である。
反応時間は、通常１２〜２４時間である。
基質の濃度は、通常０．１〜２Ｍである。
触媒の濃度は、１〜２０ｍｏｌ％，好ましくは２〜５ｍｏｌ％である。
反応温度は、通常０〜８０℃、好ましくは室温〜５０℃である。
反応時間は、通常１２〜２４時間である。
この結果、下式に従って脱水カップリング反応が行われ、アルコールの脱水化物が得られる。
（式中、Ｒ１〜Ｒ４及びＸは、上記で定義したとおりである。）
以下、実施例にて本発明を例証するが本発明を限定することを意図するものではない。
本実施例では、1H NMRと13C NMRはJEOL JNM-ECX-400、JNM-ECX-500又はJNM-ECX-600を用いて、CDCl3 を溶媒とし、テトラメチルシラン(δ=0、1H NMR)又はCDCl3 (δ=77.0、13C NMR)を内部標準物質として測定した。カラムクロマトグラフィーには Silica gel 60 (Merck) を調製用薄層クロマトグラフィーにはWakogel B-5Fを使用した。
本実施例では、1H NMRと13C NMRはJEOL JNM-ECX-400、JNM-ECX-500又はJNM-ECX-600を用いて、CDCl3 を溶媒とし、テトラメチルシラン(δ=0、1H NMR)又はCDCl3 (δ=77.0、13C NMR)を内部標準物質として測定した。カラムクロマトグラフィーには Silica gel 60 (Merck) を調製用薄層クロマトグラフィーにはWakogel B-5Fを使用した。
製造例１
本製造例では、文献（J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 8652）に従って、Fe2O(DS)4 ・10H2Oを合成し、以下の実施例で触媒として使用した。
Fe(NO3)3 ・9H2O (3.0 g, 7.4 mmol) を室温で30 mL の水に溶かす。この溶液にドデシル硫酸ナトリウムの水溶液(6.4 g, 22.3 mmol/90mL)を加えるとただちに黄色の固体が析出する。一時間撹拌後、固体をろ過により集め、固体に付着した過剰のドデシル硫酸ナトリウムを除くため、泡立ちが見られなくなるまで水で数回洗浄し、減圧下(ca. 5 mmHg)、室温にて乾燥させると Fe2O(DS)4 ・10H2O が輝黄色固体粉末として2.4 g (1.8 mmol) 得られた。収量49％。元素分析：C48H120Fe2O27S4 として、計算値 C: 42.10, H: 8.83; 実験値 C: 41.97, H 8.45
本製造例では、文献（J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 8652）に従って、Fe2O(DS)4 ・10H2Oを合成し、以下の実施例で触媒として使用した。
Fe(NO3)3 ・9H2O (3.0 g, 7.4 mmol) を室温で30 mL の水に溶かす。この溶液にドデシル硫酸ナトリウムの水溶液(6.4 g, 22.3 mmol/90mL)を加えるとただちに黄色の固体が析出する。一時間撹拌後、固体をろ過により集め、固体に付着した過剰のドデシル硫酸ナトリウムを除くため、泡立ちが見られなくなるまで水で数回洗浄し、減圧下(ca. 5 mmHg)、室温にて乾燥させると Fe2O(DS)4 ・10H2O が輝黄色固体粉末として2.4 g (1.8 mmol) 得られた。収量49％。元素分析：C48H120Fe2O27S4 として、計算値 C: 42.10, H: 8.83; 実験値 C: 41.97, H 8.45
以下の実施例では製造例１で合成した触媒（Fe2O(DS)4）を用いて、脱水的カップリング反応を行った。
実施例１
4-メトキシ-α-メチルベンジルアルコール（アルドリッチ社）（77 mg, 0.5 mmol）とn-ヘキサノール (107 mg, 1.0 mmol)を水 (0.5 mL) 中で良くかき混ぜ、製造例１で得たFe2O(DS)4 ・10H2O (17 mg, 0.0125 mmol)を加える。反応液を50℃にて18時間撹拌後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液 (0.2 mL) を加えて反応を停止した。反応液をジクロロメタンで３回抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過、減圧濃縮し、粗生成物を得た。薄層クロマトグラフィー展開溶媒：n-ヘキサン／酢酸エチル＝5/1）により精製し、目的とする1-(1-ヘキシロキシ)-4-メトキシベンゼン 2a（107 mg, 0.54 mmol）を得た。収率９０％。1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ0.86 (t, J = 6.8Hz, 3H), 1.20-1.33 (m, 6H), 1.41 (d, J = 6.2 Hz, 3H), 1.51-1.58 (m, 2H), 3.25 (t, J = 6.8 Hz, 2H), 3.80 (s, 3H), 4.33 (q, J = 6.8 Hz, 1H), 6.88 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 7.23 (d, J = 8.6 Hz, 2H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3): δ14.0, 22.6, 24.1, 25.9, 29.9, 31.7, 55.2, 68.5, 77.3, 113.7, 127.3, 136.3, 158.8.
実施例１
4-メトキシ-α-メチルベンジルアルコール（アルドリッチ社）（77 mg, 0.5 mmol）とn-ヘキサノール (107 mg, 1.0 mmol)を水 (0.5 mL) 中で良くかき混ぜ、製造例１で得たFe2O(DS)4 ・10H2O (17 mg, 0.0125 mmol)を加える。反応液を50℃にて18時間撹拌後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液 (0.2 mL) を加えて反応を停止した。反応液をジクロロメタンで３回抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過、減圧濃縮し、粗生成物を得た。薄層クロマトグラフィー展開溶媒：n-ヘキサン／酢酸エチル＝5/1）により精製し、目的とする1-(1-ヘキシロキシ)-4-メトキシベンゼン 2a（107 mg, 0.54 mmol）を得た。収率９０％。1H NMR (500 MHz, CDCl3): δ0.86 (t, J = 6.8Hz, 3H), 1.20-1.33 (m, 6H), 1.41 (d, J = 6.2 Hz, 3H), 1.51-1.58 (m, 2H), 3.25 (t, J = 6.8 Hz, 2H), 3.80 (s, 3H), 4.33 (q, J = 6.8 Hz, 1H), 6.88 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 7.23 (d, J = 8.6 Hz, 2H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3): δ14.0, 22.6, 24.1, 25.9, 29.9, 31.7, 55.2, 68.5, 77.3, 113.7, 127.3, 136.3, 158.8.
実施例２
等モルのピペロニルアルコール（文献(Tetrahedron: asymmetry. 2005, 16, 2575)記載の方法に従って合成した。）とn-ヘキサノールを用いて、実施例１と同様の反応を行ない、5-(1-ヘキシロキシエチル)-1,3-ベンゾジオキソールを得た。生成物の分析データを下記に示し、収率を表１に示す。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ0.87 (t, J = 6.8 Hz, 3H), 1.19-1.30 (m, 6H), 1.39 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 1.51-1.59 (m, 2H), 3.26 (m, 2H), 4.29 (q, J = 6.4 Hz, 1H), 5.94 (s, 2H), 6.74 (d, J = 1.4 Hz, 1H), 6.75 (s, 1H), 6.84 (d, J = 1.4 Hz, 1H), 13C NMR (100MHz, CDCl3): δ14.0, 22.6, 24.2, 25.9, 29.9, 31.7, 68.6, 77.6, 100.9, 106.4, 107.9, 119.5, 138.5, 146.7, 147.8.
等モルのピペロニルアルコール（文献(Tetrahedron: asymmetry. 2005, 16, 2575)記載の方法に従って合成した。）とn-ヘキサノールを用いて、実施例１と同様の反応を行ない、5-(1-ヘキシロキシエチル)-1,3-ベンゾジオキソールを得た。生成物の分析データを下記に示し、収率を表１に示す。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ0.87 (t, J = 6.8 Hz, 3H), 1.19-1.30 (m, 6H), 1.39 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 1.51-1.59 (m, 2H), 3.26 (m, 2H), 4.29 (q, J = 6.4 Hz, 1H), 5.94 (s, 2H), 6.74 (d, J = 1.4 Hz, 1H), 6.75 (s, 1H), 6.84 (d, J = 1.4 Hz, 1H), 13C NMR (100MHz, CDCl3): δ14.0, 22.6, 24.2, 25.9, 29.9, 31.7, 68.6, 77.6, 100.9, 106.4, 107.9, 119.5, 138.5, 146.7, 147.8.
実施例３
等モルのα-メチル-4-(メチルチオ)-ベンゼンメタノール（4'-(メチルチオ)アセトフェノン（アルドリッチ社）を原料にして文献 (Tetrahedron 1989, 45, 1441)記載の方法に従って合成した。）とn-ヘキサノールを用いて、実施例１と同様の反応を行ない、1-(ヘキシロキシエチル)-4-メチルチオベンゼンを得た。生成物の分析データを下記に示し、収率を表１に示す。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ0.87 (t, J = 6.8 Hz, 3H), 1.19-1.33 (m, 6H), 1.41 (d, J = 6.6 Hz, 3H), 1.51-1.58 (m, 2H), 2.45 (s, 3H), 3.27 (t, J = 6.6 Hz, 2H), 4.38 (q, J = 6.8 Hz, 1H), 7.24 (m, 4H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3): δ14.0, 16.0, 22.6, 24.1, 25.8, 29.9, 31.7, 68.7, 77.4, 126.7, 126.7, 137.1, 141.3.
等モルのα-メチル-4-(メチルチオ)-ベンゼンメタノール（4'-(メチルチオ)アセトフェノン（アルドリッチ社）を原料にして文献 (Tetrahedron 1989, 45, 1441)記載の方法に従って合成した。）とn-ヘキサノールを用いて、実施例１と同様の反応を行ない、1-(ヘキシロキシエチル)-4-メチルチオベンゼンを得た。生成物の分析データを下記に示し、収率を表１に示す。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ0.87 (t, J = 6.8 Hz, 3H), 1.19-1.33 (m, 6H), 1.41 (d, J = 6.6 Hz, 3H), 1.51-1.58 (m, 2H), 2.45 (s, 3H), 3.27 (t, J = 6.6 Hz, 2H), 4.38 (q, J = 6.8 Hz, 1H), 7.24 (m, 4H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3): δ14.0, 16.0, 22.6, 24.1, 25.8, 29.9, 31.7, 68.7, 77.4, 126.7, 126.7, 137.1, 141.3.
実施例４
等モルの4-メトキシ-α-メチルベンジルアルコール（アルドリッチ社）と３−ブロモ−１−プロパノール（東京化成）を用いて、実施例１と同様の反応を行ない、1-[1-(3-ブロモプロポキシ)エチル]-4-メトキシベンゼンを得た。生成物の分析データを下記に示し、収率を表１に示す。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ1.41 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 2.03-2.10 (m, 2H), 3.35-3.56 (m, 4H) ,3.81 (s, 3H), 4.36 (q, J = 6.4 Hz, 1H), 6.89 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.23 (d, J = 8.4 Hz, 2H). 13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ23.9, 30.8, 33.1, 55.2, 65.7, 77.7, 113.8, 127.3, 135.8, 160.0.
等モルの4-メトキシ-α-メチルベンジルアルコール（アルドリッチ社）と３−ブロモ−１−プロパノール（東京化成）を用いて、実施例１と同様の反応を行ない、1-[1-(3-ブロモプロポキシ)エチル]-4-メトキシベンゼンを得た。生成物の分析データを下記に示し、収率を表１に示す。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ1.41 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 2.03-2.10 (m, 2H), 3.35-3.56 (m, 4H) ,3.81 (s, 3H), 4.36 (q, J = 6.4 Hz, 1H), 6.89 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.23 (d, J = 8.4 Hz, 2H). 13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ23.9, 30.8, 33.1, 55.2, 65.7, 77.7, 113.8, 127.3, 135.8, 160.0.
実施例５
等モルの4-メトキシ-α-メチルベンジルアルコール（アルドリッチ社）と５−ヘキセン−１−オール（東京化成）を用いて、実施例１と同様の反応を行ない、1-[1-(5-ヘキセノキシ)エチル]-4-メトキシベンゼンを得た。生成物の分析データを下記に示し、収率を表１に示す。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ1.37-1.47 (m, 5H), 1.52-1.60 (m, 3H), 2.02 (m, 2H), 3.26 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 3.81 (s, 3H), 4.33 (q, J = 6.4 Hz, 1H), 4.91-5.00 (m, 2H), 5.74-5.84 (m, 1H), 6.88 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.23 (d, J = 8.4 Hz, 2H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3): δ24.1, 25.5, 29.4, 33.5, 55.2, 68.2, 77.4, 113.7, 114.4, 127.3, 136.3, 138.8, 158.8.
等モルの4-メトキシ-α-メチルベンジルアルコール（アルドリッチ社）と５−ヘキセン−１−オール（東京化成）を用いて、実施例１と同様の反応を行ない、1-[1-(5-ヘキセノキシ)エチル]-4-メトキシベンゼンを得た。生成物の分析データを下記に示し、収率を表１に示す。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ1.37-1.47 (m, 5H), 1.52-1.60 (m, 3H), 2.02 (m, 2H), 3.26 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 3.81 (s, 3H), 4.33 (q, J = 6.4 Hz, 1H), 4.91-5.00 (m, 2H), 5.74-5.84 (m, 1H), 6.88 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.23 (d, J = 8.4 Hz, 2H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3): δ24.1, 25.5, 29.4, 33.5, 55.2, 68.2, 77.4, 113.7, 114.4, 127.3, 136.3, 138.8, 158.8.
実施例６
等モルの4-メトキシ-α-メチルベンジルアルコール（アルドリッチ社）と５-ヘキシン−１−オール（東京化成）を用いて、実施例１と同様の反応を行ない、1-[1-(5-ヘキシニロノキシ)エチル]-4-メトキシベンゼンを得た。生成物の分析データを下記に示し、収率を表１に示す。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ1.41 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 1.52-1.70 (m, 4H), 1.93 (t, J = 3.0 Hz, 1H), 2.17 (td, J = 7.0 Hz, 2.8 Hz, 2H), 3.28 (t, J = 6.0 Hz, 2H), 3.80 (s, 3H), 4.33 (q, J = 6.4 Hz, 3H), 6.88 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 7.23 (d, J = 8.8 Hz, 2H). 13C NMR (150 MHz, CDCl3): δ18.2, 24.1, 25.3, 28.9, 55.2, 67.7, 68.3, 77.4, 84.4, 113.7, 127.3, 136.1, 158.9.
等モルの4-メトキシ-α-メチルベンジルアルコール（アルドリッチ社）と５-ヘキシン−１−オール（東京化成）を用いて、実施例１と同様の反応を行ない、1-[1-(5-ヘキシニロノキシ)エチル]-4-メトキシベンゼンを得た。生成物の分析データを下記に示し、収率を表１に示す。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ1.41 (d, J = 6.4 Hz, 3H), 1.52-1.70 (m, 4H), 1.93 (t, J = 3.0 Hz, 1H), 2.17 (td, J = 7.0 Hz, 2.8 Hz, 2H), 3.28 (t, J = 6.0 Hz, 2H), 3.80 (s, 3H), 4.33 (q, J = 6.4 Hz, 3H), 6.88 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 7.23 (d, J = 8.8 Hz, 2H). 13C NMR (150 MHz, CDCl3): δ18.2, 24.1, 25.3, 28.9, 55.2, 67.7, 68.3, 77.4, 84.4, 113.7, 127.3, 136.1, 158.9.
実施例７
等モルの4-メトキシ-α-メチルベンジルアルコール（アルドリッチ社）とn-プロピルメルカプタン（和光純薬工業株式会社）を用いて、実施例１と同様の反応を行ない、1-[1-(プロピルチオ)エチル]-4-メトキシベンゼンを得た。生成物の分析データを下記に示し、収率を表１に示す。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ0.91 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 1.46-1.58 (m, 4H), 2.21-2.34 (m, 2H), 3.80 (s, 3H), 3.92 (q, J = 7.2 Hz, 1H), 6.85 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 7.26 (d, J = 8.6 Hz, 2H). 13C NMR (150 MHz,CDCl3) δ13.6, 22.7, 22.8, 33.3, 43.3, 55.2, 113.7, 128.2, 136.2, 158.4.
等モルの4-メトキシ-α-メチルベンジルアルコール（アルドリッチ社）とn-プロピルメルカプタン（和光純薬工業株式会社）を用いて、実施例１と同様の反応を行ない、1-[1-(プロピルチオ)エチル]-4-メトキシベンゼンを得た。生成物の分析データを下記に示し、収率を表１に示す。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ0.91 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 1.46-1.58 (m, 4H), 2.21-2.34 (m, 2H), 3.80 (s, 3H), 3.92 (q, J = 7.2 Hz, 1H), 6.85 (d, J = 8.6 Hz, 2H), 7.26 (d, J = 8.6 Hz, 2H). 13C NMR (150 MHz,CDCl3) δ13.6, 22.7, 22.8, 33.3, 43.3, 55.2, 113.7, 128.2, 136.2, 158.4.
実施例８
等モルの4-メトキシ-α-メチルベンジルアルコール（アルドリッチ社）とp-トルエンスルホンアミド（東京化成）を用いて、実施例１と同様の反応を行ない、N-[1-(4-メトキシフェニル)エチル]-4-メチルベンゼンスルホンアミドを得た。生成物の分析データを下記に示し、収率を表１に示す。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ1.41(d, J = 7.2 Hz, 3H), 2.39(s, 3H), 3.76(s, 3H), 4.41(m, 1H), 4.74(br, 1H), 6.72(d, J = 8.6 Hz, 2H), 7.01(d, J = 8.6 Hz, 2H), 7.20(d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.62(d, J = 8.0 Hz, 2H). 13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ21.5, 23.4, 53.1, 55.3, 113.8, 127.1, 127.3, 129.4, 134.1, 137.7, 143.0, 158.9.
等モルの4-メトキシ-α-メチルベンジルアルコール（アルドリッチ社）とp-トルエンスルホンアミド（東京化成）を用いて、実施例１と同様の反応を行ない、N-[1-(4-メトキシフェニル)エチル]-4-メチルベンゼンスルホンアミドを得た。生成物の分析データを下記に示し、収率を表１に示す。
1H NMR (400 MHz, CDCl3): δ1.41(d, J = 7.2 Hz, 3H), 2.39(s, 3H), 3.76(s, 3H), 4.41(m, 1H), 4.74(br, 1H), 6.72(d, J = 8.6 Hz, 2H), 7.01(d, J = 8.6 Hz, 2H), 7.20(d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.62(d, J = 8.0 Hz, 2H). 13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ21.5, 23.4, 53.1, 55.3, 113.8, 127.1, 127.3, 129.4, 134.1, 137.7, 143.0, 158.9.
結果を下表にまとめる。
注）a:room temperature; Ts: para-toluene-sulfonyl
Claims (3)
- 水中で、下記一般式
Ｆｅ２Ｏ（Ｏ３ＳＯＲ１）４
（式中、Ｒ１は、直鎖又は分岐の炭素数が８〜２０の炭化水素基を表す。）で表される酸素架橋二核鉄(III)触媒の存在下で、下記一般式
Ｒ２−ＣＨ（ＯＨ）−Ｒ３
（式中、Ｒ２及びＲ３は、同じであっても異なってもよく、少なくとも一方は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表し、残余は、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表し、Ｒ２及びＲ３は、共に、ヘテロ原子を含んでもよい５又は６員環を形成してもよい。）で表される二級アルコール化合物を下記一般式
Ｒ４−ＸＨ
（式中、Ｒ４は置換基を有していてもよい炭化水素基を表し、Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、又は−ＹＮＲ５−（式中、Ｙは、−ＳＯ２−、−ＣＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｒ５は、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。但し、ＹはＲ４と結合する。）を表す。）で表される活性水素含有化合物とを反応させることから成る、下記一般式
Ｒ２Ｒ３ＣＨ−Ｘ−Ｒ４
（式中、Ｒ２〜Ｒ４及びＸは上記と同様に定義される。）で表されるＯ、Ｓ又はＮを含む鎖状アルキル化合物の製造方法。 - Ｒ２及びＲ３の少なくとも一方が置換基を有していてもよいアリール基である請求項１に記載の製造方法。
- 下記一般式
Ｆｅ２Ｏ（Ｏ３ＳＯＲ１）４
（式中、Ｒ１は、直鎖又は分岐の炭素数が８〜２０の炭化水素基を表す。）で表される、二級アルコールを脱水してＯ、Ｓ又はＮを含む鎖状アルキル化合物を合成するための触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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|---|---|
| JP2009215205A JP2009215205A (ja) | 2009-09-24 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5077796B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5077795B2 (ja) * | 2008-03-10 | 2012-11-21 | 独立行政法人科学技術振興機構 | カルボニル化合物の製造方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61194041A (ja) * | 1985-02-19 | 1986-08-28 | アトランテイツク・リツチフイ−ルド・カンパニ− | ビス（アルフア−アルキルベンジル）エ−テルの製造方法 |
| JPH04279539A (ja) * | 1991-03-06 | 1992-10-05 | Mitsui Toatsu Chem Inc | エ−テルの製造方法 |
| JP4674995B2 (ja) * | 2001-05-31 | 2011-04-20 | 大阪瓦斯株式会社 | 担体−錯体複合体、アルカン酸化触媒およびアルカノール合成方法 |
| JP2005238060A (ja) * | 2004-02-25 | 2005-09-08 | Doshisha | 有機化合物酸化触媒および有機化合物の酸化方法 |
| US20090169484A1 (en) * | 2007-12-28 | 2009-07-02 | Ihi Corporation | Iron-salen complex |
| JP5077795B2 (ja) * | 2008-03-10 | 2012-11-21 | 独立行政法人科学技術振興機構 | カルボニル化合物の製造方法 |
-
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|---|---|
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