JP5076296B2 - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents

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Description

本発明は、電気光学装置及び電子機器に関する。
近年、有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、「有機EL素子」という)を備えた有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ(以下、「有機ELディスプレイ」という)が、軽量、高輝度、高視野角、高コントラスト比で他の電気光学装置より優れているとして注目されている。有機ELディスプレイは、一般的に、有機材料からなる発光層が、基板上にマトリクス状に配置した複数の画素電極と、各画素電極に対向した共通電極とで挟まれるようにして配置された構造となっている(たとえば、特許文献1及び特許文献2参照)。
ところで、近年のディスプレイの大型化、薄型及び軽量化の要求に伴って、駆動トランジスタ(TFT)や配線回路の面積を十分に確保するために、回路基板に対向する側から光を取り出すようにしたトップエミッション構造の有機ELディスプレイの開発が盛んに行われている。このトップエミッション構造では、発光層にて発せられた光を、共通電極を透過させるので、共通電極自体を、例えば、インジウム酸化物(IXO;X=Sn,Al等)といった光透過性のある導電材料で構成する必要がある。
特開平7−169567号公報 特開平10−12376号公報
しかしながら、インジウム酸化物(IXO;X=Sn,Al等)といった光透過性のある導電材料(透明導電膜)は、一般に金属に比べて電気抵抗が高い高抵抗材料である。また、共通電極は、複数の画素電極に対して共通となるように基板全面に形成されている。従って、共通電極上で電位の不均一が発生してしまう虞がある。例えば、基板の周囲にて共通電極が共通電極に接続されている場合では、共通電極の中央が周囲に比べて電位が高くなるので、共通電極の中央に配置される有機EL素子の発光輝度が、その周囲に配置される有機EL素子の発光輝度に比べて低下してしまうので、所謂表示ムラが生じ表示性能が低下するという問題があった。
また、上記有機EL素子は、水分や酸素によって発光層や電子注入層等の酸化分解による変性等が生じ発光輝度が低下してしまうという場合がある。そこで、上記発光輝度の低下を抑制するために、水分や酸素を通さない薄膜(SiOx、SiNx、AlOx膜)で有機EL素子を封止することでディスプレイの外部から侵入してくる水分や酸素による発光層や電子注入層等の変性を回避している。しかしながら、ディスプレイの外部からの水分や酸素の浸入を無くすことはできるが、元々、基板内に水分が内在している場合では、その基板内に内在した水分によって発光層や電子注入層等の変性してしまうという問題があった。
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、発光輝度にムラが生じず、かつ、長寿命な電気光学装置及び電子機器を提供することにある。
本発明の電気光学装置は、基板上に、複数の画素電極と、前記複数の画素電極上に設けられた発光層と、前記発光層上に設けられた導電層と、前記導電層と接するように前記導電層上に設けられ、前記導電層と電気的に接続された共通電極と、前記共通電極および前記導電層を覆うように設けられた封止層と、前記封止層上に、前記封止層と接するように設けられたカラーフィルタと、を備え、前記複数の画素電極は、第1の画素電極と、第2の画素電極と、を有し、前記カラーフィルタは、光遮光性を有するブラックマトリックスを有し、前記導電層は、光遮光性を有し、平面視において、前記導電層および前記ブラックマトリクスは、前記第1の画素電極と前記第2の画素電極との間に設けられており、前記ブラックマトリックスは、前記導電層よりも小さい面積を有し、かつ前記導電層と平面的に重なることを特徴とする。
本発明の電気光学装置は、基板上に、複数の画素電極と、前記複数の画素電極上に設けられた発光層と、前記発光層上に設けられた共通電極と、前記共通電極と接するように前記共通電極上に設けられ、前記共通電極と電気的に接続された導電層と、前記共通電極および前記導電層を覆うように設けられた封止層と、前記封止層上に、前記封止層と接するように設けられたカラーフィルタと、を備え、前記複数の画素電極は、第1の画素電極と、第2の画素電極と、を有し、前記カラーフィルタは、光遮光性を有するブラックマトリックスを有し、前記導電層は、光遮光性を有し、平面視において、前記導電層および前記ブラックマトリクスは、前記第1の画素電極と前記第2の画素電極との間に設けられており、前記ブラックマトリックスは、前記導電層よりも小さい面積を有し、かつ前記導電層と平面的に重なることを特徴とする。
本発明の電気光学装置は、基板上に、複数の画素電極と、前記複数の画素電極上に設けられた発光層と、前記発光層上に設けられた共通電極と、前記共通電極上に設けられ、前記共通電極と電気的に接続された導電層と、前記共通電極および前記導電層を覆うように設けられた封止層と、前記封止層上に、前記封止層と接するように設けられたカラーフィルタと、を備え、前記複数の画素電極は、第1の画素電極と、第2の画素電極と、を有し、前記カラーフィルタは、光遮光性を有するブラックマトリックスを有し、平面視において、前記導電層は、前記第1の画素電極と前記第2の画素電極との間に設けられており、かつ前記ブラックマトリクスと平面的に重なる部分を有することを特徴とする。
本発明の電気光学装置は、基板上に、複数の画素電極と、前記複数の画素電極上に設けられた発光層と、前記発光層上に設けられた導電層と、前記導電層上に設けられ、前記導電層と電気的に接続された共通電極と、前記共通電極および前記導電層を覆うように設けられた封止層と、前記封止層上に、前記封止層と接するように設けられたカラーフィルタと、を備え、前記複数の画素電極は、第1の画素電極と、第2の画素電極と、を有し、前記カラーフィルタは、光遮光性を有するブラックマトリックスを有し、平面視において、前記導電層は、前記第1の画素電極と前記第2の画素電極との間に設けられており、かつ前記ブラックマトリクスと平面的に重なる部分を有することを特徴とする。
本発明の電気光学装置は、基板上に、複数の画素電極と、前記複数の画素電極上に設けられた発光層と、前記発光層上に設けられた共通電極と、前記共通電極上に設けられ、前記共通電極と電気的に接続された導電層と、前記共通電極および前記導電層を覆うように設けられた封止層と、前記封止層上に設けられたカラーフィルタと、を備え、前記複数の画素電極は、第1の画素電極と、第2の画素電極と、を有し、前記カラーフィルタは、光遮光性を有するブラックマトリックスを有し、平面視において、前記導電層は、前記第1の画素電極と前記第2の画素電極との間に設けられており、かつ前記ブラックマトリクスと平面的に重なる部分を有することを特徴とする。
本発明の電気光学装置は、基板上に複数の画素電極と、前記複数の画素電極上に設けられた発光層と、前記発光層上に設けられた導電層と、前記導電層上に設けられ、前記導電層と電気的に接続された共通電極と、前記共通電極および前記導電層を覆うように設けられた封止層と、前記封止層上に設けられたカラーフィルタと、を備え、前記複数の画素電極は、第1の画素電極と、第2の画素電極と、を有し、前記カラーフィルタは、光遮光性を有するブラックマトリックスを有し、平面視において、前記導電層は、前記第1の画素電極と前記第2の画素電極との間に設けられており、かつ前記ブラックマトリクスと平面的に重なる部分を有することを特徴とする。
本発明の電気光学装置は、基板と前記基板の表示エリア上に区画形成された複数の画素電極と、前記複数の画素電極上に形成され、前記各画素電極に対して供給されるデータ信号に応じて発光する発光層を少なくとも含む機能層と、前記各機能層を被覆するように前記表示エリアに対して全面に渡って形成された共通電極と、前記基板上に、前記共通電極を覆って配置される封止層とを備えた電気光学装置において、前記共通電極上または、機能層上少なくともどちらか一方上であって、前記複数の画素電極が形成された領域を除いた領域に遷移金属材料からなる導電層を設けた。
これによれば、導電層は、いわば、共通電極の補助配線として作用するので、共通電極の電気抵抗が高い材料で構成されていた場合であっても、共通電極上の各位置での電位は等しくなる。つまり、共通電極が、基板の周囲にのみ共通電位を供給する配線等に接続されている場合、共通電極は、その周囲と中央で電位差が生じない。従って、共通電極上の各位置によってエレクトロルミネッセンス素子の発光輝度にムラが生じることはない。
しかも、導電層は、遷移金属材料で構成されているので、基板、機能層、画素電極、共通電極、封止層に内在する酸素及び水分は、この導電層にトラップされる。従って、機能層を構成する発光層を含む各層が酸素及び水分によって酸化分解されて変性してしまう材料で構成された場合であっても、基板、機能層、画素電極、共通電極、封止層に内在した酸素及び水分が機能層を構成する各層に到達することはない。この結果、長寿命の電気光学装置を実現することができる。
この電気光学装置において、前記導電層は、鉄であってもよい。
これによれば、鉄(Fe)は、スパッタ法や蒸着法で容易に形成することができる。従って、スパッタ法や蒸着法を使用することによって、導電層を簡単に形成することができる。
この電気光学装置において、前記発光層は、前記表示エリアに対して全面に渡って形成されてもよい。
これによれば、ある所定の発光層から発せられた光と隣接した他の発光層から発せられた光とが干渉した光は、導電層によって遮られるので外部に出射されない。つまり、導電層をブラックマトリクスとして作用することができる。この結果、高精細な画像を表示することができる。
この電気光学装置において、前記発光層は、有機材料で構成されていてもよい。
これによれば、機能層が低分子有機材料で構成した場合では、真空蒸着法によって機能層を形成することができる。そして、真空蒸着法によって、例えば、単色の光を発する発光層を構成する材料を基板に対して全面に形成し、また、還元層を蒸着し、さらに、公知のカラーフィルタを設けることで、発光輝度にムラが生じず、長寿命であって、かつカラー表示の可能な電気光学装置を実現することができる。
また、機能層が高分子有機材料で構成した場合では、発光層を構成する材料(有機材料)を所定の溶媒に溶解または分散させてなる液状体を、基板上に吐出させ、その後、その溶媒を除去することで発光層を形成する、所謂インクジェット法やスピンコート法といった方法を用いて形成することができる。また、インクジェット法を使用することで、赤、緑、青色等の発光層を個別に形成することができる。
この電気光学装置において、前記機能層は、前記発光層の他に、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層の少なくともいずれかを含んでいてもよい。
これによれば、発光層は発光効率が高いものとなる。従って、発光輝度にムラが生じず、長寿命であって、かつ高輝度な電気光学装置を実現することができる。
この電気光学装置において、前記封止層は、窒素化合物で構成されていてもよい。
これによれば、高密度プラズマ成膜法(例えば、イオンプレーティング、ECRプラズマスパッタ、ECRプラズマCVD、表面波プラズマCVD、ICP−CVD等)を用いて形成された窒素化合物は、ガスバリア性に優れた薄膜(SiOx、SiNx、AlOx膜)であるので、外部から封止層を介して水分や酸素が発光層に到達することはない。従って、さらに発光輝度の低下が小さい、長寿命のエレクトロルミネッセンス素子を備えた電気光学装置を実現することができる。
この電気光学装置において、前記発光層は、前記第1の画素電極および前記第2の画素電極上の全面を覆うように形成され、かつ前記基板上に設けられた絶縁層と接していてもよい。
この電気光学装置において、前記導電層は、前記共通電極と接していてもよい。
この電気光学装置において、前記カラーフィルタは、前記封止層と接していてもよい。
この電気光学装置において、前記ブラックマトリックスは、前記導電層よりも小さい面積を有していてもよい。
この電気光学装置において、前記第1の画素電極および前記第2の画素電極上の少なくとも一部には、絶縁性を有する層が設けられていなくてもよい。
この電気光学装置において、前記複数の画素電極は、前記基板上の第1の方向に沿って設けられており、前記導電層は、前記第1の方向に沿って延在するように設けられていてもよい。
この電気光学装置において、前記カラーフィルタは、前記封止層と接していてもよい。
この電気光学装置において、前記カラーフィルタは、着色層を有し、前記着色層は、前記第1の画素電極と平面的に重なっていてもよい。
この電気光学装置において、前記カラーフィルタは、前記封止層と接していてもよい。
この電気光学装置において、前記発光層は、前記第1の画素電極および前記第2の画素電極上の全面を覆うように形成されていてもよい。
本発明の電子機器は、上記記載の電気光学装置を備えている。
これによれば、発光輝度にムラが生じず、かつ長寿命な電気光学装置を備えた電子機器を実現することができる。

(第1実施形態)
以下、本発明の一実施形態を有機ELディスプレイに具体化した場合について説明する。
図1は、本発明の電気光学装置としての有機ELディスプレイの概略斜視図である。
図1に示すように、有機ELディスプレイ1は、発光パネル2と、カラーフィルタ3とを備えている。
発光パネル2は、透明の基板Sを有し、そのZ矢印方向側の一側面に素子形成層が形成されている。素子形成層の上面に光を出射する画素が形成され、発光パネル2のZ矢印方向側の面を光出射面Mとしている。そして、その光出射面M上にカラーフィルタ3が貼り合わされている。即ち、有機ELディスプレイ1は、基板Sと反対側の面を光出射面Mとした、所謂トップエミッション構造の有機ELディスプレイである。
発光パネル2は、中央に表示エリアHを備えている。表示エリアHには、行方向(図1中X矢印方向)に沿ってn本の走査線LY1〜LYnが形成されているとともに、各走査線LY1〜LYnと交差するように列方向(図1中Y矢印方向)に沿ってm本のデータ線LX1〜LXmが形成されている。
また、表示エリアHには、各走査線LY1〜LYnとデータ線LX1〜LXmとの交差部に対応した位置に単色光(白色の光)を出射する画素8を備えている。つまり、表示エリアHには、n×m個の画素8がマトリクス状に配置されている。
さらに、表示エリアHには、各画素8に電源を供給するための図示しない電源線が形成されている。
尚、説明の便宜上、画素8を区別する場合、表示エリアHの左端(図1中反X方向側)に列方向(図1中Y矢印方向)に沿って配置されたn個の画素8群から数えて1列目、4列目、…、m−2列目に配置された各画素8を第1画素8という。また、表示エリアHの左端に列方向(図1中Y矢印方向)に沿って配置されたn個の画素8群から数えて2列目、5列目、…、m−1列目に配置された各画素8を第2画素8という。さらに、表示エリアHの左端に列方向(図1中Y矢印方向)に沿って配置されたn個の画素8群から数えて3列目、6列目、…、m列目に配置された各画素8を第3画素8という。
表示エリアH以外のエリア(以降、「非表示エリア」という)Qには、表示エリアHを囲むように基板Sの周囲に沿って矩形状をした陰極用配線Loが形成されている。陰極用配線Loには、共通電位が供給されるようになっている。
また、非表示エリアQには、図示しない走査線駆動回路が形成されている。この走査線
駆動回路は、それぞれ走査線LY1〜LYnに接続され、各走査線LY1〜LYnに走査信号を出力する。さらに、非表示エリアQには、データ線LX1〜LXmの一部が延設されて、図示しない外付けのデータ線駆動回路に接続されている。そして、このデータ線駆動回路からデータ線LX1〜LXmにデータ信号が供給されるようになっている。
カラーフィルタ3は、発光パネル2の光出射面M上に、表示エリアHに対向するように配置されている。カラーフィルタ3は、升目状に形成された遮光用のブラックマトリックスBMで囲まれた空間に、赤色に着色された赤用透明着色層6Rと、緑色に着色された緑用透明着色層6Gと、青色に着色された青用透明着色層6Bとを備えている。赤用透明着色層6Rは画素8から出射した白色の光を赤色の光に色変換して透過させる色変換層であって、それぞれ対応する第1画素8に相対向するように配置されている。緑用透明着色層6Gは画素8から出射した白色の光を緑色の光に色変換して透過させる色変換層であって、それぞれ対応する第2画素8に相対向するように配置されている。青用透明着色層6Bは画素8から出射した白色の光を青色の光に色変換して透過させる色変換層であって、それぞれ対応する第2画素8に相対向するように配置されている。そして、行方向(図1中X矢印方向)に沿って隣接した赤用着色層6R、緑用着色層6G及び青用着色層6Bを一つの組とする3つの画素8によって1組のカラー画素を構成する。
図2(a)は、有機ELディスプレイ1の表示エリアHの断面図であり、図2(b)は、その上面図である。
図2(a)に示すように、有機ELディスプレイ1は、基板S上に、素子形成層10、画素電極16、機能層20、共通電極21、封止層23が積層されている。
基板Sは、例えばガラス板である。基板Sは、本実施形態では、純水加圧スプレーによって洗浄し、その後、乾燥することで、表面に吸着した水分を除去している。
素子形成層10は、酸化膜11、第1層間絶縁層12A及び第2層間絶縁層12Bを備え、基板S側から酸化膜11、第1層間絶縁層12A、第2層間絶縁層12Bの順に積層されている。そして、酸化膜11は基板S上に形成され、基板S上には、その酸化膜11をゲート酸化膜とした駆動素子としての駆動トランジスタ15が形成されている。駆動トランジスタ15は、後記するように、データ線LX1〜LXmを介して供給される前記データ信号に応じた電流(駆動電流)を生成するためのトランジスタである。本実施形態では、駆動トランジスタ15は、nチャネル型TFTである。
酸化膜11上には、ゲート電極15g及び第1層間絶縁層12Aが形成されている。ゲート電極15gは、駆動トランジスタ15と同様にして形成される図示しないスイッチングトランジスタを介してデータ線LX1〜LXm(図1参照)に接続されている。第1層間絶縁層12A上には、駆動トランジスタ15のソース電極15s及びドレイン電極15dが形成されている。尚、第1層間絶縁層12Aには、図示しないが、前記走査線LY1〜LYn及びデータ線LX1〜LXmが形成されている。
また、第1層間絶縁層12A上には、ソース電極15s及びドレイン電極15d上に渡って、第2層間絶縁層12Bが形成されている。第2層間絶縁層12B上(基板Sの表示エリアH上)には、複数の領域16aが区画形成され、その複数の領域16a上に複数の画素電極16が形成されている。図2(b)に示すように、画素電極16は、第2層間絶縁層12B上にマトリクス状に配置されている。画素電極16は、光透過性を有した導電材料で形成されている。本実施形態では、光透過性を有した導電材料として、錫−インジウム酸化物(ITO)で形成されている。尚、画素電極16は、UVオゾン処理を行うことにより、その仕事関数が所望の値となるように調整されている。
第2層間絶縁層12Bには、コンタクトホール13が形成されている。そして、このコ
ンタクトホール13によって、画素電極16と、第1層間絶縁層12A上に形成された駆動トランジスタ15のソース電極15sとが電気的に接続されている。そして、データ線LX1〜LXmを介して供給されたデータ信号がゲート電極15gに供給されると、そのデータ信号によってドレイン電極15dとソース電極15sとの間に流れる電流(駆動電流)が制御され、その結果、コンタクトホール13を介して画素電極16に駆動電流が供給される。
また、第2層間絶縁層12Bには、画素電極16に対応した位置に反射層18が形成されている。反射層18は、アルミニウムや銀といった光反射率の高い材料で形成されている。
第2層間絶縁層12B上には、各画素電極16上全面に渡って、機能層20が形成されている。機能層20は、その拡大部50に示すように、正孔注入層20a、正孔輸送層20b、発光層20c、電子輸送層20d、電子注入層20eが画素電極16側から順に積層された構成をしている。各層20a〜20eは、公知の有機材料で構成されたものであって、酸素や水分によって分解して変性されやすい。尚、機能層20を構成する各層20a〜20eは、それぞれ低分子の有機材料で構成されている。そして、本実施形態では、機能層20を構成する各層20a〜20eは、真空蒸着法を使用することで、各層20a〜20eを構成する低分子有機材料を所定の位置に選択的に蒸着することで形成している。
機能層20上には、該機能層20を被覆するように表示エリアH全面に渡って共通電極21が形成されている。共通電極21は、光透過性を有する導電材料で構成されている。本実施形態では、光透過性を有する導電材料として、マグネシウム−銀化合物(Mg−Ag)で形成されている。共通電極21は、陰極用配線Lo(図1参照)に接続され、共通電位が供給されるようになっている。
そして、所定の画素電極16に駆動電流が供給されると、その画素電極16から機能層20中の発光層20cに前記駆動電流を荷うキャリア(正孔)が供給され、共通電極21からのキャリア(電子)と再結合することで光が発せられる。このとき、機能層20の発光層20cと画素電極16との間には、正孔注入層20a及び正孔輸送層20bが形成されているので、前記駆動電流を荷うキャリア(正孔)は効率良く発光層20cに供給される。また、機能層20の発光層20cと共通電極21との間には、電子輸送層20d及び電子注入層20eが形成されているので、電子が効率良く発光層20cに供給される。従って、発光層20cには、各電極16,21から効率良くキャリアが供給されるので、発光効率が良好で、高輝度で白色の光を発する。
共通電極21上には、導電層22が形成されている。詳しくは、導電層22は、共通電極21上であって、画素電極16が形成された領域16aを除いた領域に、つまり、上面から見て、図2(b)中、画素電極16が形成されている領域以外に対応した位置に密着して形成されている。つまり、導電層22は、ある所定の画素電極16と、図2(b)中X矢印方向に沿って隣接した画素電極16との間に形成されている。
導電層22は、遷移金属であって、本実施形態では、鉄(Fe)で構成されている。従って、導電層22の導電率は、共通電極21の導電率に比べて高い。この結果、導電層22は、共通電極21の補助配線として機能する。即ち、共通電極21は、光透過性を有する導電材料であって、本実施形態では、マグネシウム−銀化合物(Mg−Ag)で形成されているので、通常の光透過性を有さない導電材料(金属)に比べてその抵抗率が高いが、導電層22が共通電極21上に密着して形成されているので、共通電極21は、その導電層22を介して全面に渡って等電位になる。
また、鉄(Fe)は還元性を有する。従って、導電層22は、その周囲に酸素が内在する場合、その酸素は導電層22によってトラップされる。この結果、機能層20に酸素が到達することはない。尚、導電層22は、共通電極21を形成後、その共通電極21上に所定の図示しないマスク等を形成し、公知の蒸着法を用いて形成されている。
共通電極21上には、導電層22を覆うように封止層23が形成されている。この封止層23は、機能層20、画素電極16、共通電極21、導電層22及び素子形成層10を収容可能にするように、基板Sに配置されている。また、封止層23は、共通電極21全面に渡って該共通電極21を覆うように共通電極21及び導電層22密着して形成されている。
封止層23は、光透過性を有し、かつ、水分や酸素を完全に遮断することの可能なガスバリア性に優れた材料で構成されている。本実施形態の封止層23は、窒化シリコン(SiNx)で構成されている。尚、この窒化シリコン(SiNx)は、高密度プラズマ成膜法(例えば、イオンプレーティング、ECRプラズマスパッタ、ECRプラズマCVD、表面波プラズマCVD、ICP−CVD)を用いて形成することで、水分や酸素を完全に遮断することの可能な薄膜に形成することができる。
そして、画素電極16と、機能層20と、共通電極21とが基板S側から順に積層されてエレクトロルミネッセンス素子としての有機EL素子25が形成される。また、有機EL素子25及び該有機EL素子25に駆動電流を供給するための駆動トランジスタ15を含む各種電子素子とで前記した一つ画素8が構成される。
カラーフィルタ3は、前記したように、赤、緑及び青用着色層6R,6G,6Bを備えている。各赤、緑及び青用着色層6R,6G,6Bは、画素電極16に対向する位置に配置されている。また、各赤、緑及び青用着色層6R,6G,6Bは、その各着色層6R,6G,6Bの境界が還元層17上に沿うように配置されている。
このように構成された有機ELディスプレイ1は、各画素8の発光層20cにて発せられた白色の光が、共通電極21及び封止層23を介してカラーフィルタ3を透過することで、赤色、緑色、青色の光LR,LG,LBに変換される。また、発光層20cから基板S側に向かって発せられた白色の光は、反射層18によって反射され、画素電極16を透過してカラーフィルタ3を透過することで、赤色、緑色、青色の光LR,LG,LBに変換される。そして、その変換された赤色、緑色、青色の光LR,LG,LBが合成されて、カラーフィルタ3上に所望の画像が表示される。
上記実施形態によれば、以下の作用効果を奏する。
(1)本実施形態によれば、導電層22は、共通電極21上であって、画素電極16が形成された領域16aを除いた領域に、共通電極21上に直接接するように該共通電極21の導電率に比べて高い導電率を有する導電層22を形成した。従って、導電層22は、共通電極21の補助配線として機能するので、共通電極21は全面に渡って等電位になる。この結果、有機EL素子25は、共通電極21の位置に関係なく所望の輝度で発光するので、共通電極21の位置によって有機EL素子25の発光輝度にムラが生じるのを抑制することができる。
(2)また、本実施形態によれば、導電層22を、還元性を有する鉄(Fe)で構成した。従って、導電層22は、その周囲にある素子形成層10、画素電極16、機能層20及び共通電極21中に内在する水分及び酸素をトラップするので、その水分及び酸素が機能層20に到達することはない。この結果、その各層20a〜20eに水分及び酸素が到
達することはないので、発光輝度の低下を抑制し、有機EL素子25の寿命を長くすることができる。
(3)さらに、本実施形態によれば、封止層23は、高密度プラズマ成膜法(例えば、イオンプレーティング、ECRプラズマスパッタ、ECRプラズマCVD、表面波プラズマCVD、ICP−CVD)を用いて形成した窒化シリコン(SiNx)で構成した。従って、発光パネル2の外部にある酸素及び水分が発光パネル2の内部に侵入することはない。この結果、さらに、有機EL素子25の寿命を長くすることができる。
(4)本実施形態によれば、導電層22を鉄(Fe)で構成した。鉄(Fe)から成る薄膜はスパッタ法や蒸着法を用いて容易に形成することができるので、導電層22を容易に形成することができる。
(5)本実施形態によれば、封止層23は、共通電極21全面に渡って密着して形成した。従って、従来のように、封止層と共通電極との間に酸化還元剤を充填するための空間を有した中空構造ではなく、ソリッド構造である。従って、ディスプレイ1を外部応力に対して耐えうる強固なパネル備えたディスプレイとすることができる。
(6)本実施形態によれば、導電層22は、ある所定の画素電極16と、隣接した画素電極16との間に形成した。従って、所定の画素電極16に対応した位置にある発光層20cから発せられた光と隣接する他の画素電極16に対応した位置にある発光層20cから発せられた光とが干渉した光は、導電層22によって遮られ封止層23を介してカラーフィルタ3に出射されない。つまり、導電層22をブラックマトリクスとして機能させるようにした。従って、高精細な画像を表示させることができる。
(7)本実施形態によれば、機能層20は、発光層20cの他に、正孔注入層20a、正孔輸送層20b、発光層20c、電子輸送層20d及び電子注入層20eを備えている。従って、画素電極16に供給された駆動電流を荷うキャリアが、効率良く機能層20中の発光層20cに供給されるので、高い発光効率を有した有機ELディスプレイ1を実現することができる。
(第2実施形態)
次に、上記第1実施形態で説明した有機ELディスプレイ1を備えた電子機器の適用について図3に従って説明する。有機ELディスプレイ1は、モバイル型のパーソナルコンピュータ、携帯電話、デジタルカメラ等種々の電子機器に適用できる。
図3は、携帯電話60の斜視図である。この携帯電話60は、有機ELディスプレイ1を用いた表示ユニット61と、複数の操作ボタン62とを備えている。この場合でも、表示ユニット61は、上記実施形態と同様な効果を発揮する。従って、酸素や水分によって発光輝度が低下しない長寿命の表示ユニット61を備えた携帯電話60を提供できる。
尚、この発明は以下のように変更して具体化することもできる。
・上記第1実施形態では、導電層22は、鉄(Fe)で構成したが、本発明は、これに限定されるものではなく、鉄(Fe)以外の遷移金属材料で構成してもよい。たとえば、チタン(Ti)であってもよい。
・上記第1実施形態では、導電層22は、共通電極21上に直接接するように形成したが、本発明は、これに限定されるものではなく、機能層20上に形成するようにしてもよい。要は、導電層22が共通電極21に直接接するように形成されていればよい。
・上記各実施形態では、発光層20cを白色単色の光を発する低分子有機材料で構成し
たが、本発明は、これに限定されるものではなく、白以外の他の色の光を発する低分子有機材料で構成してもよい。この場合においても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。
・上記各実施形態では、機能層20を構成する正孔注入層20a、正孔輸送層20b、発光層20c、電子輸送層20d、電子注入層20eをそれぞれ低分子の有機材料で構成するようにしたが、本発明はこれに限定されるものではない。たとえば、有機材料をそれぞれ所定の溶媒に溶解または分散して得られた液状の組成物を、公知の液滴吐出ヘッドを使用して吐出し前気溶媒を除去することで形成する、所謂インクジェット法によって形成されたものであってもよい。
・上記各実施形態では、発光素子として有機EL素子25を用いた有機ELディスプレイ1に適用したが、これを有機EL素子以外の発光素子(例えば、発光ダイオード(LED)素子)を用いたディスプレイであっても本発明は適用可能である。
・上記各実施形態では、機能層20は、正孔注入層20a、正孔輸送層20b、発光層20c、電子輸送層20d、電子注入層20eから構成されていたが、本発明はこれに限定されたものではなく、上記各層20a〜20eのうち、発光層20c以外の他の層のいずれかまたは全てが含まれていないものであってもよい。要は、機能層20は、発光層20cを含んでいればよい。
・上記実施形態では、電子機器として携帯電話60について説明したが、これに限定されるものではなく、モバイル型のパーソナルコンピュータ、デジタルカメラ等のディスプレイを備えた電子機器に広く適用可能である。
有機ELディスプレイの斜視図。 (a)は、第1実施形態に係る有機ELディスプレイの断面図、(b)は、その有機ELディスプレイの上面図。 電子機器としての携帯電話の斜視図。
符号の説明
S…基板、1…電気光学装置としての有機ELディスプレイ、16…画素電極、16a…領域、20…機能層、20a…正孔注入層、20b…正孔輸送層、20c…発光層、20d…電子輸送層、20e…電子注入層、21…共通電極、22…導電層、23…封止層、25…エレクトロルミネッセンス素子としての有機EL素子、60…電子機器としての携帯電話。

Claims (9)

  1. 基板上に、
    複数の画素電極と、
    前記複数の画素電極上に設けられた発光層と、
    前記発光層上に設けられた導電層と、
    前記導電層と接するように前記導電層上に設けられ、前記導電層と電気的に接続された共通電極と、
    前記共通電極および前記導電層を覆うように設けられた封止層と、
    前記封止層上に、前記封止層と接するように設けられたカラーフィルタと、を備え、
    前記複数の画素電極は、第1の画素電極と、第2の画素電極と、を有し、
    前記カラーフィルタは、光遮光性を有するブラックマトリックスを有し、
    前記導電層は、光遮光性を有し、
    平面視において、前記導電層および前記ブラックマトリクスは、前記第1の画素電極と前記第2の画素電極との間に設けられており、
    前記ブラックマトリックスは、前記導電層よりも小さい面積を有し、かつ前記導電層と平面的に重なることを特徴とする電気光学装置。
  2. 基板上に、
    複数の画素電極と、
    前記複数の画素電極上に設けられた発光層と、
    前記発光層上に設けられた共通電極と、
    前記共通電極と接するように前記共通電極上に設けられ、前記共通電極と電気的に接続された導電層と、
    前記共通電極および前記導電層を覆うように設けられた封止層と、
    前記封止層上に、前記封止層と接するように設けられたカラーフィルタと、を備え、
    前記複数の画素電極は、第1の画素電極と、第2の画素電極と、を有し、
    前記カラーフィルタは、光遮光性を有するブラックマトリックスを有し、
    前記導電層は、光遮光性を有し、
    平面視において、前記導電層および前記ブラックマトリクスは、前記第1の画素電極と前記第2の画素電極との間に設けられており、
    前記ブラックマトリックスは、前記導電層よりも小さい面積を有し、かつ前記導電層と平面的に重なることを特徴とする電気光学装置。
  3. 請求項1または2に記載の電気光学装置において、
    前記複数の画素電極は、前記基板上の第1の方向に沿って設けられており、
    前記導電層は、前記第1の方向に沿って延在するように設けられていることを特徴とする電気光学装置。
  4. 請求項1乃至3のいずれか一つに記載の電気光学装置において、
    前記カラーフィルタは、着色層を有し、
    前記着色層は、前記第1の画素電極と平面的に重なることを特徴とする電気光学装置。
  5. 請求項1乃至4のいずれか一つに記載の電気光学装置において、
    前記導電層は、遷移金属であることを特徴とする電気光学装置。
  6. 請求項1乃至5のいずれか一つに記載の電気光学装置において、
    前記発光層は、前記第1の画素電極および前記第2の画素電極上の全面を覆うように形成され、かつ前記基板上に設けられた絶縁層と接していることを特徴とする電気光学装置。
  7. 請求項1乃至6のいずれか一つに記載の電気光学装置において、
    前記発光層は、有機材料で構成されていることを特徴とする電気光学装置。
  8. 請求項1乃至7のいずれか一つに記載の電気光学装置において、
    前記封止層は、窒素化合物で構成されていることを特徴とする電気光学装置。
  9. 請求項1乃至8のいずれか一つに記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器
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