JP5072405B2 - Light-emitting element mounting substrate and method for manufacturing the same - Google Patents
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Description
本発明は、LEDチップ等の発光素子を樋状の配線基板に直線状に配置して実装した発光素子搭載基板、これに用いる発光素子搭載用基板、及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a light emitting element mounting substrate in which light emitting elements such as LED chips are linearly arranged and mounted on a bowl-shaped wiring substrate, a light emitting element mounting substrate used therefor, and a method for manufacturing the same.
近年、電球等の光源に代わる光源装置として、複数の発光ダイオードを基板上に配列した発光ダイオードアレイを光源装置本体内に収容したものが、様々な分野で数多く用いられている。 2. Description of the Related Art In recent years, as a light source device that replaces a light source such as a light bulb, a light source diode array in which a plurality of light emitting diodes are arranged on a substrate is housed in a light source device body.
例えば、車両用のハイマウントストップランプやテールランプ等の光源装置においては、発光ダイオードアレイを光源としたものが実用化されている。また、液晶表示装置のバックライトとして、発光ダイオード(LED)チップが平面状に配置されたものや、導光板の側面にLEDチップを直線状に配置した発光ダイオードアレイ(エッジライト)が知られている。このような発光ダイオードアレイ及び光源装置は、電球等を光源として用いたものに比べ、低消費電力、低発熱、長寿命等の長所を有する。 For example, light source devices such as high-mount stop lamps and tail lamps for vehicles that use a light-emitting diode array as a light source have been put into practical use. Also known as backlights for liquid crystal display devices are light emitting diode (LED) chips arranged in a planar shape, and light emitting diode arrays (edge lights) in which LED chips are arranged linearly on the side of a light guide plate. Yes. Such a light emitting diode array and a light source device have advantages such as low power consumption, low heat generation, and long life compared to those using a light bulb or the like as a light source.
そして、この種の発光ダイオードアレイとしては、ガラスエポキシ基板等の硬質な基板上に、LEDチップを複数配設して構成したものが一般的であった。しかし、硬質な基板では、例えば内部形状が湾曲形成された光源装置本体内に発光ダイオードアレイを配設する場合等には、光源装置本体の湾曲形状に沿って各発光ダイオードを効率よく配設することが困難となっていた。 In general, this type of light emitting diode array is configured by arranging a plurality of LED chips on a hard substrate such as a glass epoxy substrate. However, in the case of a hard substrate, for example, when the light emitting diode array is disposed in the light source device body whose inner shape is curved, each light emitting diode is efficiently disposed along the curved shape of the light source device body. It was difficult.
そこで、下記の特許文献1には、上記問題を解決する目的で、導電パターンの少なくとも一部が表面側に露出されたフレキシブル基板と、その表面側に配設され、上記導電パターンに対してリード部が面接続され且つ上記フレキシブル基板の表面側に底面が近接された複数の発光ダイオードと、を具備した発光ダイオードアレイが開示されている。また、この特許文献1には、発光ダイオードが直線状に複数配置されたものや、当該発光ダイオードアレイを湾曲させた状態で使用する点が記載されている。 Therefore, in Patent Document 1 below, for the purpose of solving the above problems, a flexible substrate in which at least a part of the conductive pattern is exposed on the surface side, and a surface disposed on the surface side of the flexible substrate, leads to the conductive pattern. There is disclosed a light-emitting diode array including a plurality of light-emitting diodes whose parts are surface-connected and whose bottom surfaces are close to the front surface side of the flexible substrate. Further, this Patent Document 1 describes that a plurality of light emitting diodes are arranged in a straight line and that the light emitting diode array is used in a curved state.
しかしながら、特許文献1に開示された発光ダイオードアレイは、単に表面実装型の基板をフレキシブル化したものであり、フレキシブル化した基板には発光素子の反射効率を高める効果は殆どなかった。また、LEDチップではなく、リード部を有する発光ダイオードの使用を前提するため、LEDチップに対して透明樹脂等をポッティングする際の樹脂ダムとしての機能を、フレキシブル基板が有していなかった。更に、フレキシブル性を考慮して、シリコン樹脂を用いて発光ダイオードからの放熱を行っているが、当該樹脂では熱伝導性が不十分であった。 However, the light emitting diode array disclosed in Patent Document 1 is simply a flexible surface mount type substrate, and the flexible substrate has little effect on increasing the reflection efficiency of the light emitting element. Further, since it is assumed that a light emitting diode having a lead portion is used instead of the LED chip, the flexible substrate does not have a function as a resin dam when potting a transparent resin or the like on the LED chip. Furthermore, in consideration of flexibility, heat radiation from the light emitting diode is performed using a silicon resin, but the resin has insufficient heat conductivity.
一方、下記の特許文献2には、LEDチップからの放熱性を向上させる目的で、金属基板と、その金属基板の発光素子の搭載位置にエッチングで形成された金属凸部と、その金属凸部の周囲に形成された絶縁層と、前記金属凸部の近傍に形成された電極部とを備える発光素子搭載用基板が開示されている。
On the other hand, in
しかし、特許文献2に記載された技術も、特許文献1の技術と同様に、発光素子の反射効率を高めたり、ポッティングする際の樹脂ダムとしての機能を付与するものではなかった。
However, the technique described in
そこで、本発明の目的は、発光素子の反射効率を高め、ポッティングを行う場合でもそれが容易に行え、しかも発光素子からの放熱性に優れる発光素子搭載基板、及びその製造方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a light-emitting element mounting substrate that can increase the reflection efficiency of the light-emitting element, easily perform potting, and has excellent heat dissipation from the light-emitting element, and a method for manufacturing the same. is there.
上記目的は、下記の如き本発明により達成できる。
本発明の発光素子搭載基板は、発光素子の実装位置に形成された金属貫通部と、その金属貫通部がエッチングにより形成された金属層と、その金属層上の前記金属貫通部の周囲に形成された絶縁層と、前記金属貫通部の近傍に形成された電極部とを有する配線基板と、その配線基板に実装された発光素子とを備える発光素子搭載基板であって、前記配線基板は、発光素子の実装側に湾曲して樋状に形成されたフレキシブル配線基板であると共に、前記金属貫通部の複数が前記配線基板の底部に直線状に配置されていることを特徴とする。
The above object can be achieved by the present invention as described below.
The light-emitting element mounting substrate of the present invention is formed around a metal penetration part formed at a mounting position of the light-emitting element, a metal layer formed by etching the metal penetration part, and the metal penetration part on the metal layer. A light-emitting element mounting board comprising: a wiring board having a formed insulating layer; and an electrode part formed in the vicinity of the metal penetrating part; and a light-emitting element mounted on the wiring board. The flexible wiring board is curved in the shape of a bowl and curved toward the mounting side of the light emitting element, and a plurality of the metal through portions are linearly arranged at the bottom of the wiring board.
本発明の発光素子搭載基板によると、配線基板が発光素子の実装側に湾曲して樋状に形成されているため、光が角部に逃げ込みにくくなり、発光素子の反射効率を高めることができる。また、ポッティングする場合でも配線基板が樋状のためポッティングが容易に行える。更に、発光素子の実装位置に形成された金属貫通部により、発光素子からの放熱性が良好になる。 According to the light emitting element mounting substrate of the present invention, since the wiring board is curved and formed in a bowl shape on the light emitting element mounting side, it is difficult for light to escape to the corners, and the reflection efficiency of the light emitting element can be improved. . Even when potting is performed, the wiring board is bowl-shaped so that potting can be easily performed. Furthermore, the heat dissipation from the light emitting element is improved by the metal penetrating portion formed at the mounting position of the light emitting element.
前記配線基板が、湾曲したフレキシブル配線基板である場合、湾曲の度合いを調整して反射の仕方を変えるのが容易になり、また、湾曲によって嵌め込み加工などが容易になり、製造性(アセンブリ性能)や組み込みの自由度を高めることができる。 The wiring substrate is curved flexible wiring board der Ru case, by adjusting the degree of curvature becomes easy to change the way of reflection, also facilitates and fitting process by a curved, manufacturability (Assembly Performance) and freedom of incorporation.
また、前記配線基板は、前記金属貫通部と接続された金属層を前記発光素子の裏面側に有する場合、このような金属層を設けることにより、金属貫通部を介する発光素子からの放熱性をより向上させることができる。 Also, the wiring substrate, when having a metal layer connected to the metal penetrating portion on the back side of the light emitting element, by providing a metal layer such as this, heat dissipation from the light emitting element through the metal penetrating portion Can be further improved.
一方、本発明の発光素子搭載用基板は、発光素子の実装位置に形成された金属貫通部と、その金属貫通部がエッチングにより形成された金属層と、その金属層上の前記金属貫通部の周囲に形成された絶縁層と、前記金属貫通部の近傍に形成された電極部とを有する配線基板を備える発光素子搭載用基板であって、前記配線基板は発光素子の実装側に湾曲して樋状に形成されたフレキシブル配線基板であると共に、前記金属貫通部の複数が前記配線基板の底部に直線状に配置されているものである。本発明の発光素子搭載用基板は、発光素子を搭載するための基板であり、このような基板により、発光素子の反射効率を高め、ポッティングを行う場合でもそれが容易に行え、しかも発光素子からの放熱性に優れるものとなる。 On the other hand, the substrate for mounting a light emitting element of the present invention includes a metal penetration part formed at a mounting position of the light emitting element, a metal layer formed by etching the metal penetration part, and the metal penetration part on the metal layer . A light emitting element mounting board comprising a wiring board having an insulating layer formed around and an electrode part formed in the vicinity of the metal penetration part, wherein the wiring board is curved toward the mounting side of the light emitting element. The flexible wiring board is formed in a bowl shape, and a plurality of the metal penetrating portions are linearly arranged at the bottom of the wiring board. The light-emitting element mounting substrate of the present invention is a substrate for mounting a light-emitting element. With such a substrate, the reflection efficiency of the light-emitting element can be increased, and even when potting is performed, it can be easily performed. The heat dissipation is excellent.
また、本発明の別の発光素子搭載用基板は、発光素子の実装位置に形成された金属貫通部と、その金属貫通部がエッチングにより形成された金属層と、その金属層上の前記金属貫通部の周囲に形成された絶縁層と、前記金属貫通部の近傍に形成された電極部とを有する配線基板を備える発光素子搭載用基板であって、前記配線基板は発光素子の実装側に湾曲して樋状に形成されたフレキシブル配線基板であると共に、樋状の配線基板の複数が並設された構造を有し、前記金属貫通部の複数が前記配線基板の底部に直線状に配置されているものである。このような発光素子搭載用基板は、そのままで又は分割した後に、発光素子を搭載するための基板として使用することができ、このような基板により、発光素子の反射効率を高め、ポッティングを行う場合でもそれが容易に行え、しかも発光素子からの放熱性に優れるものとなる。 Another substrate for mounting a light-emitting element according to the present invention includes a metal penetrating portion formed at a mounting position of the light-emitting element, a metal layer formed by etching the metal penetrating portion, and the metal penetrating portion on the metal layer. A light-emitting element mounting substrate comprising a wiring board having an insulating layer formed around the part and an electrode part formed in the vicinity of the metal penetration part, the wiring board being curved toward the mounting side of the light-emitting element In addition, the flexible wiring board is formed in a bowl shape, and has a structure in which a plurality of bowl-like wiring boards are arranged side by side, and a plurality of the metal through portions are linearly arranged at the bottom of the wiring board. It is what. Such a light-emitting element mounting substrate can be used as a substrate for mounting the light-emitting element as it is or after being divided. When such a substrate is used to increase the reflection efficiency of the light-emitting element and perform potting. However, this can be easily performed and the heat dissipation from the light emitting element is excellent.
一方、本発明の発光素子搭載基板の製造方法は、上記いずれかに記載の発光素子搭載基板が複数並設された前駆体から、各々の発光素子搭載基板を分割する工程を含む発光素子搭載基板の製造方法である。このため、上記のごとき作用効果によって、発光素子の反射効率を高め、ポッティングする場合でもそれが容易に行え、しかも発光素子からの放熱性に優れる発光素子搭載基板を、生産性を高めながら低コストに製造することができる。 On the other hand, the method for manufacturing a light emitting element mounting substrate of the present invention includes a step of dividing each light emitting element mounting substrate from a precursor in which a plurality of the light emitting element mounting substrates described above are arranged in parallel. It is a manufacturing method. For this reason, the light emitting element mounting substrate which improves the reflection efficiency of the light emitting element and can easily perform the potting and has excellent heat dissipation from the light emitting element by the above-described effects, while reducing productivity and low cost. Can be manufactured.
また、本発明の発光素子搭載基板の製造方法は、上記いずれかに記載の前記配線基板が複数並設されたものに発光素子を実装する工程と、その工程で得られた前駆体から各々の発光素子搭載基板を分割する工程とを含む発光素子搭載基板の製造方法である。 In addition, a method for manufacturing a light-emitting element mounting substrate according to the present invention includes a step of mounting a light-emitting element on a plurality of the wiring substrates according to any one of the above-described arrangements, and a precursor obtained in the step. And a step of dividing the light emitting element mounting substrate.
このように、配線基板の状態で実装してから各々の発光素子搭載基板を分割することにより、本発明の発光素子搭載基板を、生産性をより高めながらより低コストに製造することができる。 Thus, by dividing each light emitting element mounting substrate after mounting in the state of the wiring substrate, the light emitting element mounting substrate of the present invention can be manufactured at a lower cost while further improving the productivity.
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の発光素子搭載基板の一例を示す図面であり、(a)は長手方向に垂直な断面図を、(b)は分割前の斜視図を示している。図2の(a)〜(g)は、本発明の発光素子搭載基板の製造方法の一例を示す工程図である。なお、図1(a)では、ワイヤボンディングの形態が理解し易いように、複数の発光素子の配列方向に配置されるワイヤボンディングと電極部とを、長手方向に垂直な断面図に模式的に示している。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a drawing showing an example of a light-emitting element mounting substrate according to the present invention, where (a) shows a cross-sectional view perpendicular to the longitudinal direction, and (b) shows a perspective view before division. 2A to 2G are process diagrams showing an example of a method for manufacturing a light emitting element mounting substrate of the present invention. In FIG. 1 (a), wire bonding and electrode portions arranged in the arrangement direction of a plurality of light emitting elements are schematically shown in a cross-sectional view perpendicular to the longitudinal direction so that the form of wire bonding can be easily understood. Show.
本発明の発光素子搭載基板は、図1(a)に示すように、発光素子15の搭載位置に形成された金属貫通部MBと、その金属貫通部MBの周囲に形成された絶縁層40と、前記金属貫通部MBの近傍に形成された電極部23aを有する配線基板CBと、その配線基板CBに実装された発光素子15とを備える。
As shown in FIG. 1A, the light-emitting element mounting substrate of the present invention includes a metal penetration part MB formed at the mounting position of the light-emitting
本実施形態では、金属貫通部MBがエッチングで形成され、その上面に形成された搭載用パッド23bと、その搭載用パッド23bの近傍にこれと同じ高さで形成された電極部23aを有する給電用パターンとを備える例を示す。また、本実施形態では、金属貫通部MBと接続された金属層10を発光素子15の裏面側に有する場合の例を示す。金属層10は、配線基板CBの略全面に設けられていてもよいが、パターンとして部分的に形成されていてもよい。この配線基板CBにより、発光素子15に給電することができる。
In the present embodiment, the metal penetrating part MB is formed by etching, and has a
発光素子15としては、発光ダイオードチップ(ベアチップ)、パッケージされた表面実装タイプの発光ダイオード(チップLED)、半導体レーザチップ等が挙げられる。発光ダイオードチップを用いる場合、その裏面は、カソードタイプとアノードタイプの2種類がある。また、本発明では、ベアチップタイプの発光素子15の方が、放熱性、実装面積の点から優れている。
Examples of the
本実施形態では、発光素子15は、両側の電極部23aと導電接続されている。この導電接続は、発光素子15の上部電極と各々の電極部23aとを、金属細線17によるワイヤボンディング等で結線することで行うことができる。ワイヤボンディングとしては、超音波やこれと加熱を併用したものなどが可能である。
In the present embodiment, the
本発明の発光素子搭載基板では、図1(a)〜(b)に示すように、配線基板CBは発光素子15の実装側に湾曲して樋状に形成されると共に、金属貫通部MBの複数が配線基板CBの底部に直線状に配置されている。このため、反射体を別途設けなくても、実装側に湾曲した樋状の配線基板CBにより、反射効率を高かめることができる。
In the light emitting element mounting substrate of the present invention, as shown in FIGS. 1A to 1B, the wiring board CB is curved and formed in a bowl shape on the mounting side of the
本発明において、「湾曲して樋状に形成され」とは、光が逃げ込む角部(角度100°以下の曲折部)を有していない断面形状を指し、好ましくは湾曲部の断面が、曲面のみ又は底部の平面部と曲面とで形成されている。具体的には円弧状、U字状、放物線状などの断面形状が挙げられる。 In the present invention, “curved and formed into a bowl shape” refers to a cross-sectional shape that does not have a corner portion (a bent portion having an angle of 100 ° or less) through which light escapes, and preferably the cross section of the curved portion is a curved surface It is formed only by the flat part and curved surface of the bottom part. Specifically, cross-sectional shapes, such as circular arc shape, U shape, and a parabola shape, are mentioned.
本発明では、発光素子15としてベアチップを使用する場合など、透明樹脂等で発光素子15被覆するのが好ましく、その上方に、凸面の透明樹脂レンズを備えていてもよい。透明樹脂レンズが凸面を有することで、効率良く基板から上方に光を発射させることができる場合がある。凸面を有するレンズとしては、断面が凸レンズ状で長手方向に延びる柱状体や、平面視形状が円形、楕円形のものなどが挙げられる。なお、透明樹脂や透明樹脂レンズは、着色されたもの又は蛍光物質を含むものでもよい。特に、イエロー系蛍光物質を含む場合、青色発光ダイオードを用いて、白色光を発生させることができる。
In the present invention, for example, when a bare chip is used as the
この実施形態では、金属貫通部MBの上面の搭載用パッド23bと電極部23aとを同じ高さに形成でき、両者が発光素子15に対してほぼフラットな面を形成できる。なお、発光素子15の搭載方法は、導電性ペースト、両面テープ、半田による接合、放熱シート(好ましくはシリコーン系放熱シート)、シリコン系又はエポキシ系樹脂材料を用いる方法など何れのボンディング方法でもよいが、金属による接合が放熱性の点から好ましい。
In this embodiment, the mounting
本発明の発光素子搭載基板は、以下のような本発明の製造方法によって好適に製造することができる。本発明の発光素子搭載基板の製造方法は、図1(b)に示すように、本発明の発光素子搭載基板が複数並設された前駆体1から、各々の発光素子搭載基板を分割する工程を含むものである。発光素子搭載基板への分割は、例えば前駆体1の切断ライン1aに沿って、ダイサー、ルータ、ラインカッター、スリッター等の切断装置で切断する方法などによって行うことができる。
The light emitting element mounting substrate of the present invention can be preferably manufactured by the following manufacturing method of the present invention. As shown in FIG.1 (b), the manufacturing method of the light emitting element mounting substrate of this invention is the process of dividing | segmenting each light emitting element mounting substrate from the precursor 1 in which the light emitting element mounting substrate of this invention was arranged in multiple numbers. Is included. The division into the light emitting element mounting substrate can be performed by, for example, a method of cutting along a
また、本発明の発光素子搭載基板の製造方法は、配線基板CBが複数並設されたものに発光素子15を実装する工程と、その工程で得られ前駆体1から各々の発光素子搭載基板を分割する工程とを含むことが好ましい。その際、例えば、配線基板CBが複数並設された平板状の配線基板CBを、プレス型等を用いて図1(b)に示すように湾曲させることができる。
The method for manufacturing a light emitting element mounting substrate of the present invention includes a step of mounting the
前駆体1を構成する配線基板CBの製造方法としては、エッチングにより金属貫通部MBを形成する方法が好ましい。特に、図2(a)〜(c)に示すように、金属層10に積層された表面金属層22を選択的にエッチングして発光素子15の搭載位置に金属貫通部MBを形成する工程を含むことが好ましい。本実施形態では、表面金属層22は、そのエッチング時に耐性を示す別の保護金属層21を介して金属層10に積層されている例を示す。
As a manufacturing method of the wiring substrate CB constituting the precursor 1, a method of forming the metal through portion MB by etching is preferable. In particular, as shown in FIGS. 2A to 2C, a process of selectively etching the
本実施形態では、まず、図2(a)に示すような、放熱用金属層10と保護金属層21と金属貫通部MBとを形成するための第1金属層22とが積層された積層板SPを用意する。積層板SPは、何れの方法で製造したものでもよく、例えば電解メッキ、無電解メッキ、スパッタリング、蒸着、金属箔などを利用して製造したものや、クラッド材などが何れも使用可能である。
In this embodiment, first, as shown in FIG. 2A, a laminated plate in which a heat radiating
また、積層板SPの金属層10を鏡面板上に形成して、配線基板CBの製造後に剥離したり、あるいは積層板SPの金属層10を仮着用支持板2に仮着しておき、配線基板CBの製造後に剥離することも可能である。これらの方法では、仮着用支持板2等の両側に同時に配線基板CBを形成することができるため、コストや生産性の面で有利になる(図1では片面のみを示す)。
Further, the
積層板SPの各層の厚みについては、例えば、放熱用金属層10の厚みは、9〜500μm(例えば70μm)、保護金属層21の厚みは、1〜20μm、表面金属層22の厚みは10〜500μmである。
Regarding the thickness of each layer of the laminated plate SP, for example, the thickness of the
上記の電解メッキは、周知の方法で行うことができるが、一般的には、対象となる基板をメッキ浴内に浸漬しながら、それを陰極とし、メッキする金属の金属イオン補給源を陽極として、電気分解反応により陰極側に金属を析出させることにより行われる。 The above-described electrolytic plating can be performed by a known method. In general, while the target substrate is immersed in a plating bath, it is used as a cathode, and a metal ion replenishment source of a metal to be plated is used as an anode. This is carried out by depositing a metal on the cathode side by an electrolysis reaction.
一方、無電解メッキには、通常、銅、ニッケル、錫等のメッキ液が使用できる。無電解メッキのメッキ液は、各種金属に対応して周知であり、各種のものが市販されている。一般的には、液組成として、金属イオン源、アルカリ源、還元剤、キレート剤、安定剤などを含有する。なお、無電解メッキに先立って、パラジウム等のメッキ触媒を沈着させてもよい。 On the other hand, for electroless plating, a plating solution such as copper, nickel, or tin can be used. Electroless plating solutions are well known for various metals, and various types are commercially available. In general, the liquid composition contains a metal ion source, an alkali source, a reducing agent, a chelating agent, a stabilizer, and the like. A plating catalyst such as palladium may be deposited prior to electroless plating.
放熱用金属層10は、単層または積層体の何れでもよく、構成する金属としては、何れの金属でもよく、例えば銅、銅合金、アルミニウム、ステンレス、ニッケル、鉄、その他の合金等が使用できる。なかでも、熱伝導性や電気伝導性の点から、銅、アルミニウムが好ましい。上記のような、放熱が良好な放熱用金属層10を備える構造により、発光素子15の放熱を改善できるため、駆動電流をより多く流せ、発光量を増加させることができる。また、熱抵抗が小さくできるため、少ない電流で低消費電力にて輝度を確保することが出来る。
The
表面金属層22を構成する金属としては、通常、銅、銅合金、ニッケル、錫等が使用でき、特に熱伝導性や電気伝導性の点から、銅が好ましい。
As the metal constituting the
保護金属層21を構成する金属としては、放熱用金属層10及び表面金属層22とは別の金属が使用され、これらの金属のエッチング時に耐性を示す別の金属が使用できる。具体的には、これらの金属が銅である場合、保護金属層21を構成する別の金属としては、金、銀、亜鉛、パラジウム、ルテニウム、ニッケル、ロジウム、鉛−錫系はんだ合金、又はニッケル−金合金等が使用される。但し、本発明は、これらの金属の組合せに限らず、上記金属のエッチング時に耐性を示す別の金属との組合せが何れも使用可能である。
As the metal constituting the
次に、図2(b)に示すように、エッチングレジストMを用いて、表面金属層22の選択的なエッチングを行う。これにより、発光素子15の搭載位置に金属貫通部MBを形成する。本発明では、金属貫通部MBの複数が配線基板CBの底部に直線状に配置される。金属貫通部MBの平面形状は、何れでもよいが、面積を大きくすることが、放熱性の観点から好ましい。
Next, as shown in FIG. 2B, the
本実施形態では、略円形の平面視形状を有する金属貫通部MBが形成され、その上面に略円形の搭載用パッド23bが形成されている。その金属貫通部MBの近傍には、電極部23aが形成され、これが給電用パターンに電気的に接続されている。
In the present embodiment, a metal penetrating part MB having a substantially circular plan view shape is formed, and a substantially
エッチングレジストMは、感光性樹脂やドライフィルムレジスト(フォトレジスト)などが使用できる。なお、放熱用金属層10が表面金属層22と同時にエッチングされる場合、これを防止するためのマスク材を、放熱用金属層10の下面に設けるのが好ましい(片面形成の場合)。
As the etching resist M, a photosensitive resin, a dry film resist (photoresist), or the like can be used. In addition, when the
エッチングの方法としては、保護金属層21及び表面金属層22を構成する各金属の種類に応じた、各種エッチング液を用いたエッチング方法が挙げられる。例えば、表面金属層22が銅であり、保護金属層21が前述の金属(金属系レジストを含む)の場合、市販のアルカリエッチング液、過硫酸アンモニウム、過酸化水素/硫酸等が使用できる。エッチング後には、エッチングレジストが除去される。
Examples of the etching method include etching methods using various etching solutions according to the types of metals constituting the
次に、図2(d)に示すように、露出している保護金属層21を除去する。保護金属層21は、エッチングにより除去することができ、具体的には、表面金属層22が銅であり、保護金属層21が前記の金属である場合、はんだ剥離用として市販されている、硝酸系、硫酸系、シアン系などの酸系のエッチング液等を用いるのが好ましい。
Next, as shown in FIG. 2D, the exposed
本実施形態では、次いで図2(e)〜(f)に示すように、その金属貫通部MBの上面と略面一に絶縁層40を形成する。その際、金属貫通部MBの形成面に絶縁層40を形成した後、金属貫通部MBを絶縁層40から露出させることができる。これに先立って、マスクMの除去を行ってもよいが、これは薬剤除去、剥離除去など、マスクMの種類に応じて適宜選択すればよい。例えば、スクリーン印刷により形成された感光性のインクである場合、アルカリ等の薬品にて除去される。
In this embodiment, next, as shown in FIGS. 2E to 2F, the insulating
絶縁層40の形成には、まず、絶縁材40aの塗布を行うが、絶縁材40aとしては、例えば絶縁性が良好で安価な液状ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂等の反応硬化性樹脂を用いることができる。これを各種方法で、金属貫通部MBの高さよりやや厚くなるように塗布した後、加熱又は光照射等により硬化させればよい。塗布方法としては、カーテンコーターなどの各種コーターを使用できる。また、反応硬化性樹脂等を含有する接着性シート、プリプレグ等を用いて、ホットプレスや真空ラミネート等する方法でもよい。
For forming the insulating
本発明では、絶縁層40に関して、従来のフレキシブル配線基板に使用される絶縁層と同様の材料や厚みを採用するのが好ましい。つまり、配線基板CBは、湾曲したフレキシブル配線基板であることが好ましい。例えば、フレキシブル配線基板である配線基板CBを湾曲した状態で硬化させるには、まず、半硬化した平板状の配線基板CBを作製しておき、プレス型等を用いて、加熱により完全硬化させる際に、平板状の配線基板CBを湾曲させることができる(例えば、図1(b)に示す状態)。
In the present invention, regarding the insulating
なお、絶縁層40は、反射効率を高める上で、白色系の材料を用いるのが好ましく、例えば白色エポキシ樹脂、白色プリプレグ等を使用することができる。また、白色レジストを表面に塗布することにより、反射効率を高めることも可能である。
The insulating
次に、硬化した絶縁材40aを研削、研磨等することにより、金属貫通部MBの高さと略同じ厚さを有する絶縁層40を形成する。研削の方法としては、ダイヤモンド製等の硬質刃を回転板の半径方向に複数配置した硬質回転刃を有する研削装置を使用する方法が挙げられ、当該硬質回転刃を回転させながら、固定支持された配線基板の上面に沿って移動させることによって、上面を平坦化することができる。また、研磨の方法としては、ベルトサンダ、バフ研磨等により軽く研磨する方法が挙げられる。
Next, the insulating
本実施形態は、図2(g)に示すように、金属貫通部MBの近傍に電極部23aを形成する工程を含むものである。本実施形態では、金属貫通部MBの上面に搭載用パッド23bを形成しつつその搭載用パッド23bの近傍に電極部23aを有する給電用パターンを同時形成する例を示す。
As shown in FIG. 2G, the present embodiment includes a step of forming an
その際、パターン形成の方法はいずれでもよく、例えば、エッチングレジストを使用してパターン形成するパネルメッキ法や、パターンメッキ用レジストを使用してメッキで形成するパターンメッキ法等が挙げられる。 At this time, any pattern forming method may be used, and examples thereof include a panel plating method in which a pattern is formed using an etching resist, and a pattern plating method in which a pattern plating resist is used for plating.
搭載用パッド23bや電極部23aを有する給電用パターンには、反射効率を高めるために銀、金、ニッケルなどの貴金属によるメッキを行うのが好ましい。また、従来の配線基板と同様にソルダレジストを形成したり、部分的に半田メッキを行ってもよい。
The power feeding pattern having the mounting
給電用パターンの形成後、配線基板CBの前駆体1は、必要に応じて仮着用支持板2から剥離される。仮着状態からの剥離は、密着状態からの機械的な剥離や、部分的に接着により仮着を行っておき、剥離時に部分的に接着した箇所を切断して、剥離することも可能である。
After the formation of the power supply pattern, the precursor 1 of the wiring board CB is peeled off from the temporary wearing
また、配線基板CBの裏面には、レジストを設けてもよい。その場合、放熱性を高めるために、金属貫通部MBの下方の金属層10に沿って、直線状にレジストを形成しない部分を残すのが好ましい。また、放熱性レジストを使用することも可能であり、その場合、放熱性レジストを略全面に塗布することができ、防錆効果を得る上で有効になる。
Further, a resist may be provided on the back surface of the wiring board CB. In that case, in order to improve heat dissipation, it is preferable to leave a portion in which a resist is not formed linearly along the
以上のようにして、配線基板CBが複数並設された平板状の配線基板CBを、絶縁層40が半硬化した状態で作製した後、加熱により完全硬化させる際に、プレス型等を用いて平板状の配線基板CBを、図1(b)に示すように湾曲させることができる。配線基板CBの裏面に金属層10を設ける場合、金属層10が絶縁層40を補強・支持する効果を有する。その場合、絶縁層40としては、かなり柔軟なものも使用可能となる。
As described above, a flat wiring board CB in which a plurality of wiring boards CB are arranged side by side is manufactured in a state where the insulating
プレス型としては、樋状の配線基板CBの凹面に沿った複数の凸条を有する金型(上型)と、樋状の配線基板CBの凸面に沿った複数の凹溝を有する金型(下型)との組合せなどが挙げられる。 As the press mold, a mold (upper mold) having a plurality of ridges along the concave surface of the bowl-shaped wiring board CB and a mold (having a plurality of grooves along the convex surface of the bowl-shaped wiring board CB ( Combination with lower mold).
プレス加工等により、発光素子15の実装側に湾曲して樋状に形成された配線基板CBは、その各々が複数並設されたものとして得られる。樋状の配線基板CBは、図4(a)に示すように、その部分の厚みt1が1〜3mm程度であるため、配線基板CBが複数並設されたものに対しても、従来の実装装置(従来の半導体用実装装置等)を用いて、発光素子15を実装することができる。直線状に実装される発光素子15のピッチは、0.7〜10mm程度(例えば2.5mm)が好ましい。なお、発光素子15の実装は、配線基板CBの分割後に行うことも可能である。
The wiring board CB that is curved and formed in a bowl shape on the mounting side of the
発光素子15の実装後、図4(a)〜(b)に示すように、樹脂3のポッティングを行うのが好ましい。なお、図4(a)は、図1(b)におけるA矢視の断面図を示しており(但し配線基板の内部断面は省略)、図4(b)は、図1(b)におけるB矢視の断面図を示している。
After the
図4(a)〜(b)において、樋状の配線基板CBの湾曲部の幅W1は、2〜5mm程度であり、切断代1bを含めた樋状の配線基板CBの幅W2は、3〜15mm程度である。また、配線基板CBの湾曲部の曲率半径は、1.0〜5.0mm程度(例えば2.5mm)が好ましい。
4A and 4B, the width W1 of the curved portion of the bowl-shaped wiring board CB is about 2 to 5 mm, and the width W2 of the bowl-shaped wiring board CB including the cutting
このように、配線基板CBが樋状に形成されているため、樹脂3のポッティングを行う際に、湾曲面が樹脂を保持する機能の有するので、ポッティングを容易に行うことができる。ポッティングに用いる樹脂としては、シリコン系樹脂、エポキシ系樹脂等が好適に使用できる。樹脂3のポッティングは、凸レンズの機能を付与する観点から上面を凸状に形成するのが好ましいが、上面を平面状や凹状に形成してもよい。ポッティングした樹脂3の上面形状は、使用する材料の粘度、塗布方法、塗布表面との親和性などで制御することができる。
Thus, since the wiring board CB is formed in a bowl shape, the potting can be easily performed because the curved surface has a function of holding the resin when potting the
図4(b)では、絶縁層40の表面に白色系レジスト4が形成されている例を示す。この例では、電極23aと面一になるように、白色系レジスト4が形成されている。白色系レジスト4の形成は、発光素子15の実装前に行うことができるが、白色系レジスト4によっても、発光素子15の反射効率を高めることができる。
FIG. 4B shows an example in which the white resist 4 is formed on the surface of the insulating
以上で得られた前駆体1は、図1(b)に示すように、発光素子15の搭載位置に形成された金属貫通部MBと、その金属貫通部MBの周囲に形成された絶縁層40と、前記金属貫通部MBの近傍に形成された電極部23aを有する配線基板CBと、その配線基板CBに実装された発光素子15とを備える発光素子搭載基板が複数並設されたものとなる。このような前駆体1から、各々の発光素子搭載基板が分割される。
As shown in FIG. 1B, the precursor 1 obtained as described above includes a metal penetration part MB formed at the mounting position of the
本発明の発光素子搭載基板は、例えば、図5〜図6に示す形態で使用することができる。図5には、液晶表示装置の直下型バックライトとして、本発明の発光素子搭載基板Tが使用された状態を示している。発光素子搭載基板Tの樋状の配線基板CBは、支持基板5の上に並列に複数設けられている。
The light emitting element mounting substrate of this invention can be used with the form shown in FIGS. 5-6, for example. FIG. 5 shows a state where the light emitting element mounting substrate T of the present invention is used as a direct type backlight of a liquid crystal display device. A plurality of bowl-shaped wiring substrates CB of the light emitting element mounting substrate T are provided in parallel on the
このような用途において、発光素子搭載基板Tの長さL1としては、50〜350mm程度(例えば70mm)が好ましく、ピッチP1としては、3〜50mm(例えば10mm)程度が好ましい。各々の発光素子搭載基板Tは、支持基板5の回路パターンなどを利用して、給電を行うことができる。また、複数の発光素子搭載基板Tどうしを、配線等により電気的に接続することも可能である。
In such an application, the length L1 of the light emitting element mounting substrate T is preferably about 50 to 350 mm (for example, 70 mm), and the pitch P1 is preferably about 3 to 50 mm (for example, 10 mm). Each light emitting element mounting substrate T can be fed using the circuit pattern of the
また、液晶表示装置の直下型バックライトとしては、白色LEDを用いるよりも、光の3原色に対応したLED(RGB)を使用するのが、色彩の再現性の上で好ましい。このようなRGB型のバックライトとしても、本発明の発光素子搭載基板を使用することが可能である。 Further, as a direct backlight of the liquid crystal display device, it is preferable in terms of color reproducibility to use LEDs (RGB) corresponding to the three primary colors of light rather than using white LEDs. The light emitting element mounting substrate of the present invention can also be used as such an RGB type backlight.
図7には、RGB型のバックライトとして、本発明の発光素子搭載基板を使用する場合のLEDチップの給電パターンを示してある(表層パターン)。この例では、RGB各々のLEDチップが、直列に電気的に接続されており、RGB各々のLEDチップが、2つおきに配置されている。 FIG. 7 shows a power supply pattern of an LED chip when the light emitting element mounting substrate of the present invention is used as an RGB backlight (surface layer pattern). In this example, RGB LED chips are electrically connected in series, and every RGB LED chip is arranged every two.
この給電パターンの例では、発光素子15をボンディングする搭載用パッド23bと、ワイヤボンディング等を行うための電極部23aと、電極部23aに給電するための配線部23cと、配線部23cで引き出された端子部23dとを有している。なお、給電パターンの幅W3は、3〜20mm程度が好ましい。
In this example of the power supply pattern, a mounting
搭載用パッド23bの下方には、金属貫通部MBが形成されており、必要により保護金属層21を介して、金属貫通部MBが裏面(好ましくは裏面全面)の金属層10と接続されている。
A metal penetrating portion MB is formed below the mounting
次に、図6(a)〜(b)には、液晶表示装置のエッジタイプのバックライトとして、本発明の発光素子搭載基板Tを使用する場合を示す。図6(a)は発光素子搭載基板Tの使用状態を示す斜視図であり、(b)は、そのC矢視の断面図を示す。 Next, FIGS. 6A to 6B show a case where the light emitting element mounting substrate T of the present invention is used as an edge type backlight of a liquid crystal display device. 6A is a perspective view showing a usage state of the light emitting element mounting substrate T, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the arrow C thereof.
このタイプの液晶表示装置では、導光板6の側面(エッジ)に光源が設けられるが、従来の陰極線管に代えて、本発明の発光素子搭載基板Tを使用することができる。本発明の発光素子搭載基板Tは、樋状に形成されており、発光素子の反射効率を高め、ポッティングを行う場合でもそれが容易に行え、しかも発光素子からの放熱性に優れるため、従来の陰極線管に代えて、好適に使用することができる。
この用途で発光素子搭載基板Tを設ける場合、切断代1bを利用して導光板6の側面に接着することも可能であるが、発光素子搭載基板Tの可撓性を利用して、図6(b)に示すように、側面のガイド部7に嵌め込むことも可能である。
In this type of liquid crystal display device, a light source is provided on the side surface (edge) of the
When the light emitting element mounting substrate T is provided for this purpose, it is possible to adhere to the side surface of the
ガイド部7に嵌め込む場合、ガイド部7の内面に係止溝を設けるのが有効である。また、切断代1bを殆ど無くして、断面がU字状又は半円状となるように発光素子搭載基板Tを形成してもよい。
When fitting in the
[製造方法の他の実施形態]
(1)前述の実施形態では、絶縁層を形成する際に、金属貫通部が露出した絶縁層を形成した後に電極部等を形成する例を示したが、本発明では、図3に示すように、電極部等を形成するための金属層を絶縁層と一体に形成することも可能である。
[Other Embodiments of Manufacturing Method]
(1) In the above-described embodiment, when the insulating layer is formed, the example in which the electrode portion and the like are formed after the insulating layer with the metal penetrating portion exposed is shown. However, in the present invention, as shown in FIG. In addition, a metal layer for forming the electrode portion or the like can be formed integrally with the insulating layer.
例えば、図3(a)に示すように、前述と同様にして金属貫通部MBを形成する。次いで図3(b)に示すように、樹脂付き銅箔を使用して絶縁層と金属層とを同時に形成する。樹脂付き銅箔をプレス面により加熱プレスして、金属貫通部MBに対応する位置に凸部を有し表面に金属層23が形成された積層体を得る。このとき、プレス面と被積層体との間に、少なくとも、凹状変形を許容するシート材を配置しておくのが好ましい。また、金属貫通部MBに対応する位置に凹部を有するプレス面を使用してもよい。
For example, as shown in FIG. 3A, the metal penetration part MB is formed in the same manner as described above. Next, as shown in FIG. 3B, an insulating layer and a metal layer are formed simultaneously using a copper foil with resin. The copper foil with resin is heated and pressed by a pressing surface to obtain a laminated body having a convex portion at a position corresponding to the metal penetrating portion MB and having the
上記の樹脂付き銅箔は、各種のものが市販されており、それらをいずれも使用できる。また、金属層形成材と絶縁層形成材とは各々を別々に配置してもよい。この工程では、シート材が、金属貫通部MBの存在によって加熱プレス時に凹状変形するため、それに対応する凸部が積層体に形成される。 Various types of copper foil with resin are commercially available, and any of them can be used. Further, the metal layer forming material and the insulating layer forming material may be arranged separately. In this step, since the sheet material is deformed in a concave shape during the heat press due to the presence of the metal penetration part MB, a corresponding convex part is formed in the laminate.
加熱プレスの方法としては、加熱加圧装置(熱ラミネータ、加熱プレス)などを用いて行えばよく、その際、空気の混入を避けるために、雰囲気を真空(真空ラミネータ等)にしてもよい。加熱温度、圧力など条件等は、絶縁層形成材と金属層形成材の材質や厚みに応じて適宜設定すればよいが、圧力としては、0.5〜30MPaが好ましい。 As a heating press method, a heating / pressurizing apparatus (thermal laminator, heating press) or the like may be used. In this case, the atmosphere may be set to a vacuum (vacuum laminator or the like) in order to avoid air contamination. Conditions such as heating temperature and pressure may be appropriately set according to the material and thickness of the insulating layer forming material and the metal layer forming material, but the pressure is preferably 0.5 to 30 MPa.
絶縁層形成材としては、積層時に変形して加熱等により成形すると共に、配線基板に要求される耐熱性を有するものであれば何れの材料でもよい。具体的には、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等の各種反応硬化性樹脂や、それとガラス繊維、セラミック繊維、アラミド繊維等との複合体(プリプレグ)などが挙げられる。 As the insulating layer forming material, any material may be used as long as it is deformed at the time of lamination and molded by heating or the like and has the heat resistance required for the wiring board. Specific examples include various reaction curable resins such as polyimide resins, phenol resins, and epoxy resins, and composites (prepregs) of the same with glass fibers, ceramic fibers, aramid fibers, and the like.
シート材は、加熱プレス時に凹状変形を許容する材料であればよく、クッション紙、ゴムシート、エラストマーシート、不織布、織布、多孔質シート、発泡体シート、金属箔、これらの複合体、などが挙げられる。特に、クッション紙、ゴムシート、エラストマーシート、発泡体シート、これらの複合体などの、弾性変形可能なものが好ましい。 The sheet material may be any material that allows concave deformation at the time of heating press, such as cushion paper, rubber sheet, elastomer sheet, nonwoven fabric, woven fabric, porous sheet, foam sheet, metal foil, and composites thereof. Can be mentioned. In particular, those that can be elastically deformed, such as cushion paper, rubber sheets, elastomer sheets, foam sheets, and composites thereof, are preferable.
なお、シート材と共に離型シートを追加配置してもよい。離型シートとしては、フッ素樹脂フィルム、シリコーン樹脂フィルム、各種の離型紙、繊維補強フッ素樹脂フィルム、繊維補強シリコーン樹脂フィルムなどが挙げられる。 A release sheet may be additionally arranged together with the sheet material. Examples of the release sheet include a fluororesin film, a silicone resin film, various release papers, a fiber reinforced fluororesin film, and a fiber reinforced silicone resin film.
シート材の厚みは、金属貫通部MBの高さの半分より厚いのが好ましく、金属貫通部MBの高さより厚いのが好ましい。シート材の厚みや硬さを調整することによって、加熱プレスによって形成される積層体の凸部の高さや形状を制御することができる。一般に、シート材の厚みを小さく、また硬さを硬くすると、形成される積層体の凸部の高さや体積は小さくなる。 The thickness of the sheet material is preferably thicker than half the height of the metal penetrating part MB, and preferably thicker than the height of the metal penetrating part MB. By adjusting the thickness and hardness of the sheet material, it is possible to control the height and shape of the convex portions of the laminate formed by the hot press. Generally, when the thickness of the sheet material is reduced and the hardness is increased, the height and volume of the convex portions of the formed laminate are reduced.
次いで、図3(c)に示すように、この積層体の凸部を除去して、金属貫通部MBを露出させる。その際、積層体の金属層23の上面より金属貫通部MBの上面が高くなる分を、同時に除去して平坦化してもよい。
Next, as shown in FIG. 3C, the convex portions of the laminated body are removed to expose the metal through portions MB. At that time, the portion where the upper surface of the metal penetration MB is higher than the upper surface of the
凸部の除去方法としては、研削や研磨による方法が好ましく、ダイヤモンド製等の硬質刃を回転板の半径方向に複数配置した硬質回転刃を有する研削装置を使用する方法や、サンダ、ベルトサンダ、グラインダ、平面研削盤、硬質砥粒成形品などを用いる方法などが挙げられる。研削装置を使用すると、当該硬質回転刃を回転させながら、固定支持された配線基板の上面に沿って移動させることによって、上面を平坦化することができる。また、研磨の方法としては、ベルトサンダ、バフ研磨等により軽く研磨する方法が挙げられる。本発明のように積層体に凸部が形成されていると、その部分のみを研削するのが容易になり、全体の平坦化がより確実に行える。 As a method for removing the convex portion, a method by grinding or polishing is preferable, a method using a grinding device having a hard rotary blade in which a plurality of hard blades made of diamond or the like are arranged in the radial direction of the rotary plate, a sander, a belt sander, Examples thereof include a method using a grinder, a surface grinder, a hard abrasive molded product, and the like. When the grinding apparatus is used, the upper surface can be flattened by moving the hard rotary blade along the upper surface of the fixedly supported wiring board while rotating the hard rotary blade. Moreover, as a grinding | polishing method, the method of lightly grind | polishing by a belt sander, buff grinding | polishing, etc. is mentioned. When the convex portion is formed on the laminate as in the present invention, it becomes easy to grind only that portion, and the entire flattening can be performed more reliably.
次いで、エッチングレジストを使用して金属層23をエッチングすることで電極部23aを有する給電用パターンを形成する。その後、給電用パターン等の厚みを増加させるためにメッキ等を行ってもよい。
Next, the
(2)前述の実施形態では、樹脂付き銅箔を加熱プレスした後にそのまま研削等を行う例を示したが、本発明では、樹脂付き銅箔を加熱プレスした後に、エッチングで金属貫通部MBの上方の金属層23を除去し、その後同様にして、研削等を行ってもよい。
(2) In the above-described embodiment, an example in which grinding or the like is performed as it is after directly pressing the resin-coated copper foil is performed. However, in the present invention, after the resin-coated copper foil is heated and pressed, etching of the metal through-hole portion MB is performed. The
(3)前述の実施形態では、プレス面と被積層体との間に、凹状変形を許容するシート材を配置することで、金属層を凸状に変形させる例を示したが、本発明では、金属層の上面にドライフィルムレジストを積層しておき、パターン露光と現像を行うことによって、金属貫通部の上方が開口したドライフィルムレジストを形成しておくことで、加熱プレスした際に、金属層を凸状に変形させることも可能である。 (3) In the above-described embodiment, an example in which the metal layer is deformed into a convex shape by arranging a sheet material that allows concave deformation between the press surface and the stacked body has been described. A dry film resist is laminated on the upper surface of the metal layer, and pattern exposure and development are performed to form a dry film resist having an opening above the metal penetration portion. It is also possible to deform the layer into a convex shape.
[発光素子搭載基板の他の実施形態]
(1)前述の実施形態では、フェイスアップ型の発光素子を搭載する例を示したが、本発明では、一対の電極を底面に備えるフェイスダウン型の発光素子を搭載してもよい。その場合、ソルダ接合を行うこと等によって、ワイヤボンディング等を不要にできる場合がある。
[Other Embodiments of Light Emitting Element Mounting Board]
(1) In the above-described embodiment, an example in which the face-up type light emitting element is mounted has been described. However, in the present invention, a face-down type light emitting element having a pair of electrodes on the bottom surface may be mounted. In that case, wire bonding or the like may be unnecessary by performing solder bonding or the like.
(2)前述の実施形態では、発光素子の搭載位置に形成する金属貫通部が、そのエッチング時に耐性を示す別の保護金属層を介して前記金属層に接合されており、その金属貫通部の上面に搭載用パッドが形成されている例を示したが、本発明の発光素子搭載基板は、エッチングで形成された金属貫通部と、その金属貫通部の周囲に形成された絶縁層と、前記金属貫通部の近傍に形成された電極部とを備えるものであれば、何れの構造でもよい。 (2) In the above-described embodiment, the metal penetrating portion formed at the mounting position of the light emitting element is joined to the metal layer via another protective metal layer exhibiting resistance at the time of etching. Although the example in which the mounting pad is formed on the upper surface is shown, the light-emitting element mounting substrate of the present invention includes a metal through portion formed by etching, an insulating layer formed around the metal through portion, Any structure may be used as long as it has an electrode part formed in the vicinity of the metal penetration part.
例えば、金属貫通部MBと金属層10とを別の金属で構成することで、保護金属層を省略することも可能である。その際、前述した保護金属層と同じ金属で金属貫通部MBを形成するのが好ましい。このような金属貫通部MBは、前述の実施形態と同様に、エッチングを行う際に金属層10でエッチングをストップさせることで形成することができる。
For example, the protective metal layer can be omitted by configuring the metal penetration part MB and the
また、図1(c)に示すように、金属貫通部MBと金属層10とを同じ金属で構成することで、保護金属層を省略することも可能である。その場合、金属貫通部MBと金属層10とを併せた厚みの金属板を途中までエッチング(ハーフエッチング)することで、金属貫通部MB(エッチング後の金属貫通部22b)を形成することができる。
Moreover, as shown in FIG.1 (c), it is also possible to abbreviate | omit a protective metal layer by comprising the metal penetration part MB and the
なお、図1(c)に示す例では、発光素子15を実装(マウント)し易いように、配線基板CBの底部のみを平面にしておき、残りの湾曲部を、断面が曲線になるように湾曲させている例を示す。このように、配線基板CBの底部が平面部を有する場合、発光素子15の光軸方向を配線基板CBに垂直な方向に向け易くなる(指向性)という利点もある。当該平面部の断面における幅としては0.3〜0.5mm程度が好ましい。
In the example shown in FIG. 1C, only the bottom portion of the wiring board CB is made flat so that the
更に、搭載用パッドを形成せずに、金属貫通部MBに発光素子15を搭載するようにしてもよい。この場合、電極部23aの厚みの分だけ発光素子15が低い位置にボンディングされることになる。また、金属貫通部MBを有する配線基板CBと金属層10との間に、両者を接着するための接着層、粘着剤層、放熱性シートなどが介在していてもよい。
Furthermore, the
(3)前述の実施形態では、配線層が単層である配線基板に対して発光素子を搭載する例を示したが、本発明では、配線層が2層以上の多層配線基板に対して発光素子を搭載してもよい。その場合、配線層間の導電接続構造を金属貫通部の形成工程と同様の工程で形成することも可能である。このような導電接続構造の形成方法の詳細は、国際公開公報WO00/52977号に記載されており、これらをいずれも適用することができる。 (3) In the above-described embodiment, the example in which the light emitting element is mounted on the wiring substrate having a single wiring layer is shown. However, in the present invention, light emission is performed on a multilayer wiring substrate having two or more wiring layers. An element may be mounted. In that case, the conductive connection structure between the wiring layers can be formed in the same process as the process of forming the metal penetration portion. Details of the method of forming such a conductive connection structure are described in International Publication No. WO 00/52977, and any of these can be applied.
10 金属層
15 発光素子
21 保護金属層
22 表面金属層
23a 電極部
23b 搭載用パッド
40 絶縁層
CB 配線基板
MB 金属貫通部
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記配線基板は、発光素子の実装側に湾曲して樋状に形成されたフレキシブル配線基板であると共に、前記金属貫通部の複数が前記配線基板の底部に直線状に配置されている発光素子搭載基板。 A metal penetrating portion formed at a mounting position of the light emitting element ; a metal layer formed by etching the metal penetrating portion; an insulating layer formed around the metal penetrating portion on the metal layer; and the metal penetrating portion. A light emitting element mounting substrate comprising: a wiring board having an electrode portion formed in the vicinity of the part; and a light emitting element mounted on the wiring board,
The wiring board is a flexible wiring board that is bent in a bowl shape on the light emitting element mounting side, and a plurality of the metal through portions are linearly arranged at the bottom of the wiring board. substrate.
前記配線基板は発光素子の実装側に湾曲して樋状に形成されたフレキシブル配線基板であると共に、前記金属貫通部の複数が前記配線基板の底部に直線状に配置されている発光素子搭載用基板。 A metal penetrating portion formed at a mounting position of the light emitting element ; a metal layer formed by etching the metal penetrating portion; an insulating layer formed around the metal penetrating portion on the metal layer; and the metal penetrating portion. A light-emitting element mounting substrate comprising a wiring substrate having an electrode portion formed in the vicinity of the portion,
The wiring board is a flexible wiring board formed in a bowl shape curved toward the mounting side of the light emitting element, and a plurality of the metal through portions are linearly arranged at the bottom of the wiring board. substrate.
前記配線基板は発光素子の実装側に湾曲して樋状に形成されたフレキシブル配線基板であると共に、樋状の配線基板の複数が並設された構造を有し、前記金属貫通部の複数が前記配線基板の底部に直線状に配置されている発光素子搭載用基板。 A metal penetrating portion formed at a mounting position of the light emitting element ; a metal layer formed by etching the metal penetrating portion; an insulating layer formed around the metal penetrating portion on the metal layer; and the metal penetrating portion. A light-emitting element mounting substrate comprising a wiring substrate having an electrode portion formed in the vicinity of the portion,
The wiring board is a flexible wiring board formed in a bowl shape curved toward the mounting side of the light emitting element, and has a structure in which a plurality of bowl-like wiring boards are arranged side by side, and a plurality of the metal penetrating portions are provided. A light-emitting element mounting substrate arranged in a straight line at the bottom of the wiring substrate.
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